マイクロ波放射を用いた流体処理装置であって、実質的に円柱状のチャンバーを画する側壁と、対向する第１および第２の端壁と、を有する容器であって、前記第１の端壁は、前記第２の端壁から予め決められた間隔ｄ_１を持って配置された容器と、流体を流すためのパイプラインであって、前記容器の前記第２の端壁に向かって前記第１の端壁を貫通し、前記チャンバーと実質的に同軸であり、マクロ波放射に対して実質的に透明であるパイプラインと、前記チャンバー内に波長λのマイクロ波を放射させるための前記容器の側壁に設けられたマイクロ波放射の導入口と、を備え、前記チャンバーがマイクロ波共振器となるように、前記間隔ｄ_１がλ／２の整数倍に実質的に等しい。 （もっと読む）

【課題】人体に安全でかつ低コストで紫外線硬化樹脂を硬化させることができるフラッシュランプ、及び同フラッシュランプを用いた紫外線照射装置を提供することを目的とする。
【解決手段】キセノンを主成分とする放電ガス５が封入された発光管２を備えるフラッシュランプ１において、発光管２は２７０ｎｍ近傍の紫外線を遮蔽する耐熱ガラスより形成され、発光管２の電位傾度が単位発光長あたり７０Ｖ／ｃｍ以上１５０Ｖ／ｃｍ以下の範囲となる電圧で紫外線を含むパルス光が発生し、このパルス光が３２０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の範囲内でピーク波長を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】質量差がわずかである複数種の分子中においても、特定種の分子に対して選択的励起を行う。
【解決手段】励起エネルギーを横軸にして各エネルギー準位（回転準位）を表示することができる。図２中の斜線部で示されるような、分子Ｘの回転準位に対する励起エネルギーに同調し、Ｐ１〜Ｐ１４で示された狭い複数の帯域をもつ櫛形スペクトルの電磁波をこの分子Ｘに照射した場合を考える。この櫛形スペクトルをもつ電磁波を用いることによって、分子Ｘを順次高いエネルギーの準位へ遷移させることが可能である。一方、分子Ｙのエネルギー準位は、この櫛形スペクトルとは同期しない。ゲートはＹ４〜Ｙ７、Ｙ１２〜Ｙ１５の２つの領域であり、分子Ｙにおいては、このゲートを挟んだ回転準位間の遷移は不可能である。従って、例えばＹ１→Ｙ１５への遷移も不可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、全反応系中の１または２以上の成分を少なくとも１つのスペクトラムエネルギーパターンに暴露していろいろな反応および／または反応経路または系に影響を与え、制御し、および／または方向付けをする新規な方法に関する。
【解決手段】本発明の第１の側面では、少なくとも１つのスペクトラムエネルギーパターンをコンディショニングする反応系に適用することができる。本発明の第２の側面では、少なくとも１つのスペクトラムエネルギーコンディショニングパターンをコンディショニングする反応系に適用することができる。スペクトラムエネルギー制御パターンは、例えば、反応容器（例えば、コンディショニング用反応容器）から別の位置に適用することができ、あるいは反応容器あるいはその中に適用するが、他の反応系関与物が反応容器に導入される前であることができる。 （もっと読む）

【課題】核酸、タンパク質、糖鎖、または高分子などの鎖状分子と、固体とを所望の数、所望の形態、または所望の位置で固定し、また前記固定された分子を前記固体から切断できる操作方法を提供する。
【解決手段】溶媒中で少なくとも一つの固定端部および自由端部を有する鎖状分子の近傍にレーザーを照射すると、レーザー照射点に向かって前記鎖状分子が延伸し、かつ赤外光吸収材料が被覆された基板の被覆面に照射したレーザーのレーザー集束領域に生じた気泡と、前記自由端部との接触により前記自由端部が固定される段階（１）、および溶媒中で固定された前記自由端部に前記気泡を接触させると、少なくとも一端が自由端の鎖状分子常態になる段階（２）を含み、前記レーザー照射により前記段階（１）と前記段階（２）とが可逆的に行われる、鎖状分子の操作方法である。 （もっと読む）

本発明は、基板(6)上へのポリマーフィルムの化学気相蒸着法に係り、該方法は、以下の2つの別々の、連続する段階を含む：ガス相のフォトン活性化段階、ここではフォトン活性化エネルギー(42、43)が、主としてガス状組成物中に存在する少なくとも一つのガス状ポリマープリカーサに供給され；および化学気相蒸着段階、ここでは前記フォトン活性化段階から得られる、該活性化されたガス状ポリマープリカーサが、基板(6)上にポリマーフィルムを生成するように、該基板上に堆積され、またここで該ガス相の全圧力は、10²〜10⁵Paなる範囲内にある。本発明は、またこのような方法を使用するためのデバイス(1)にも係る。
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【課題】複数台の紫外線照射装置を配置して大面積に紫外線を照射させる場合における配光の調整を行い照射面の均斉度の向上を図る。
【解決手段】調光機能を有さない紫外線照射器１００ａ〜１００ｄの列と、調光機能を有する紫外線照射器２００ａ〜２００ｃの列が交互にかつ重なり合わないように設置したことで、複数の紫外線照射器を組み合わせて使用する場合に、死角となる照射エリアに調整可能な紫外線照射装置を配置し、配光の調整を行ったことで、照射面の均斉度の向上を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】無電極ランプが点灯される両端部に配置のランプハウスと内側配置のランプハウスとのＲＦスクリーンの開口率を変え、配光分布の高均斉度化を図る。
【解決手段】マグネトロン１３からマイクロ波を発生させ、バルブ内に紫外線を放射させる放電媒体が封入された無電極ランプ２６が配置されたランプハウス２５からなる複数の紫外線照射部１０Ａ〜１０Ｄ内に放射する。無電極ランプ２６は、マイクロ波が放電媒体を励起させて紫外線を放射し、反射板２８１，２８２によりはランプハウス２５の照射窓３０から、被照射体に照射させるようにした。紫外線照射部１０Ａ，１０Ｄの照射窓３０に配置されるＲＦスクリーン３１の網目は、紫外線照射部１０Ｂ，１０Ｃの照射窓３０に配置されるＲＦスクリーン２９の網目に比べて、赤外線がカットでき、マイクロ波が漏洩しない範囲内で粗いものを使用した。これにより、配光分布の均斉度の向上を図ることが可能となる。 （もっと読む）

流路システムにおいて実施される連続反応の副生成物に起因する連続反応流路システムの閉塞防止方法は、複数のプロセス流体のうちの少なくとも１つのプロセス流体の流れ方向に少なくとも１つの超音波を少なくとも１つのプロセス流体に接続することによって、前記流路システムを通過する少なくとも１つの超音波を発生するステップを含む。 （もっと読む）

【課題】処理効率が高く、簡単且つ低コストな改質方法および改質装置を提供する。
【解決手段】改質装置は、冷電子放出素子からなる面放射型電子源１を備え、この面放射型電子源１から放射される電子線を物体に照射することにより、その物体の特性や表面の改質を行う。冷電子放出素子からなる面放射型電子源１を用いているため、熱電子放出素子に比べて消費電力の低減、並びに電子放出までの立ち上がり時間が短縮でき、点又は線状の熱電子放出素子からなる電子源を用いる従来方法および従来装置に比較して、処理効率が高く、簡単且つ低コストな改質方法および改質装置が実現できる。 （もっと読む）

【課題】ランプハウス内に断面扁平４角形状のエキシマランプと、その上方に不活性ガス供給管が配置され、前記エキシマランプの上方壁には高圧側電極が、化法壁には低圧側（接地）電極が設けられたエキシマ光照射装置において、ランプとガス供給管の間に不所望の異常放電が発生することのない構造を提供することにある。
【解決手段】不活性ガス供給管の前記高圧側電極に対向する角部に電解集中回避手段を施したことを特徴とし、具体的には、角部を切り落とした平坦面とし、弧状面とし、あるいは、絶縁性被膜を被覆したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来の脱臭原理では実用的な効果的な脱臭は不可能であり従来の脱臭原理とは全く異なった原理による安全で安価な実用性の高い脱臭方法を提案する事が課題である。
【解決手段】臭気や刺激臭を含む空気をゼロ磁場による磁石列により壁面が構成されたトンネル内を移動させる事により臭気や刺激臭を含む空気の分子が切断する磁束の変化率を無限大に近い極限の変化率とし更に極限の高いレベルの磁気による超誘導現象を発生させる事により原子が高エネルギー化された臭気や刺激臭を含む空気とする事により脱臭する。 （もっと読む）

デバイス１は、紫外線を放射するための供給源２０と、当該デバイス１に流体を入れるための入口３０と、当該デバイス１から流体を出すための出口４０と、当該デバイス１を通る流体フローに対して矯正動作を実行するための手段５１，５２とを有する。前記フロー矯正手段は、一方側に流体を入れるための入口開口部をもち、他方側に流体を出すための出口開口部をもつ少なくとも１つのフロー矯正要素５１，５２を有し、各入口開口部は、複数の出口開口部と連通しており、前記要素５１，５２は、ランダムに設けられ相互接続された穴の迷路を有する。斯様な構造において、前記要素５１，５２の一方側から他方側に移動する水要素は、種々の経路のうち１つをとり、その結果として、入口条件の変化が抑制され得る。
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【課題】 エネルギーが制御された電子を大量に照射することが可能な電子線照射装置を提供する。
【解決手段】 電子線照射装置１は、１次電子を取り出す電子線出射窓１５を備えた電子線源３と、２次電子生成空間Ｓを挟んで電子線源３と対向するように配置された載置台２３と、２次電子生成空間Ｓ中に電子線出射窓１５及び載置台２３に離間して配置されたグリッド電極２９と、を備え、２次電子生成空間Ｓが、ガス雰囲気の下で電子線出射窓１５から取り出された１次電子により２次電子が生成される空間であり、載置台２３は電気的に接地されており、グリッド電極２９が載置台２３及び電子線出射窓１５に対して負電位となっている。 （もっと読む）

【課題】同一施設内の放射線照射装置設置室に複数台の放射線照射装置が設置されている場合であっても、操作者が誤って別の放射線照射装置にトレイを再セットし、二重照射してしまうことを防止することが可能な放射線照射装置を提供することである。
【解決手段】
被照射物に放射線を照射する放射線照射部と、該放射線照射部の放射線照射方向に設置され前記被照射物を搭載するトレイ載置部とを有する放射線照射装置であって、前記被照射物の厚みに対応する大きさを有する少なくとも２以上のトレイと、各トレイを識別するためにトレイ毎に付与された識別標識と、該識別標識を読み取る読み取り手段とを備え、少なくとも使用可能な放射線照射装置情報、前記被照射物の厚み情報、及び施設情報が前記識別標識に対応している放射線照射装置である。 （もっと読む）

【課題】 高い洗浄処理能力を得ることができ、しかも、結合エネルギーが高い化学結合を有する有機化合物についても確実に除去することができる照射装置を提供する。
【解決手段】 放電容器および一対の電極を有するエキシマランプと、エキシマランプにおける一方の電極に誘電体を介して対向するよう配置されたプラズマ放電用電極とを備え、エキシマランプにおける一方の電極およびプラズマ放電用電極を介してプラズマ発生回路が形成されてなり、エキシマランプにおける一対の電極間に印加される高周波電界によって放電容器内にエキシマ放電が発生されると共に、エキシマランプとプラズマ放電用電極との間にプラズマ発生用反応性ガスが流過された状態で、エキシマランプにおける一方の電極とプラズマ放電用電極との間に印加された高周波電界によってプラズマ放電が発生されることを特徴とする。 （もっと読む）

ナノ構造体を生成するために、所定の条件下でナノ粒子材料の１つまたは複数の層に光エネルギーを印加することによって製品が作製される。ナノ構造体は、所定の細孔密度、所定の細孔径、またはこれらの両方を含む、光融合したナノ粒子の層を有する。光エネルギーを印加するための所定の条件は、所定の電圧、所定の時間、所定の出力密度、またはこれらの組合せを含み得る。
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【課題】プロセスガスの供給しつつワークに対して紫外線を照射する際に、ワークを回転させる回転機構等の複雑な構成を備える必要をなくし、かつ、ワークの全面に対して均質な処理を行うことが可能な紫外線照射装置用フランジ部材および紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】フランジ部材２０は、窓部材支持部５２４およびプロセスガス案内部を備える。プロセスガス案内部は、下側フランジ板５２における各窓部材支持部５２４の周囲に形成された溝５２０と、溝５２０と処理チャンバ１４内部とを連通するように鉛直方向に形成された複数のプロセスガス噴出孔５２２と、上側フランジ板５４に設けられガス供給装置２２から導入されたプロセスガスを溝５２０に導入するための導入孔５４２によって構成される。 （もっと読む）

本発明の対象は、マイクロ波発生器、内部にマイクロ波透過性管があるマイクロ波アプリケータ、及び等温反応区域を含む、化学反応を連続的に行うための装置であって、前記マイクロ波透過性管内の反応物が、加熱ゾーンとして機能するマイクロ波アプリケータ中を通って誘導され、前記マイクロ波アプリケータ中では、マイクロ波発生器から前記マイクロ波アプリケータへ誘導されるマイクロ波を使って、該反応物が反応温度まで加熱され、そして加熱され、そして場合によっては圧力下にある該反応物が、前記加熱ゾーンから出た直後に前記加熱ゾーンに直接つながる等温反応区域中に移され、そしてその等温反応区域から出た後に冷却されるように、前記マイクロ波発生器、前記マイクロ波アプリケータ、及び前記等温反応区域が配置されている装置である。
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【課題】簡易かつ低コストで、少量の導電微粒子を均一に存在させることができ、安定かつ良好な電子放出できる電子放出素子を製造する方法を提供する。
【解決手段】電子放出素子１の電子加速層４の形成工程は、絶縁体微粒子５が分散された分散液を塗布して絶縁体微粒子５を含む微粒子層を形成する微粒子層形成工程と、この微粒子層に、導電微粒子６の分散液を静電噴霧法にて塗布する導電微粒子塗布工程とを含む。 （もっと読む）