【課題】成形加工機の洗浄状態の目視による確認が容易である、成形加工機洗浄用の熱可塑性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂と亜リン酸エステルを含む酸化防止剤を含有する成形加工機洗浄用の熱可塑性樹脂組成物であって、前記亜リン酸エステルが、6-[3-(3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロポキシ]-2,4,8,10-テトラ-t-ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキソフォスフェピンである成形加工機洗浄用の熱可塑性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高い洗浄力と良好な使用感とを併せ持った洗浄用化粧料を提供する。
【解決手段】ウレタンフォーム粉末をスクラブ剤として含有する洗浄用化粧料。ウレタンフォームは硬質ウレタンフォームであることが好ましい。皮膚または毛髪用の洗浄用化粧料として好適であり、シャンプー、ハンドクリーナー、ボディソープ、洗顔料またはメイクアップクレンザーの形態で使用することができる。 （もっと読む）

【課題】洗浄力に優れ、かつアルマイト等の金属防食性に優れた医療器具用洗浄剤組成物及び内視鏡の洗浄方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカノールアミン３〜３０質量％、（Ｂ）非イオン界面活性剤０．５〜２０質量％、（Ｃ）４価以上の多価アルコール３〜５０質量％を含有する医療器具用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】引火性がなく、エマルジョンとして安定であり、ゴム等の腐食を抑制できるエマルジョン組成物を提供する。
【解決手段】下記の成分（Ａ１）〜（Ｄ１）を含有するエマルジョン組成物。
（Ａ１）イソパラフィン：５０〜９０重量％
（Ｂ１）水：８〜２８重量％
（Ｃ１）ＨＬＢ値が３〜８．５未満である非イオン型界面活性剤：１〜１０重量％
（Ｄ１）ＨＬＢ値が８．５〜１４である非イオン型界面活性剤：１〜２０重量％ （もっと読む）

【課題】本発明は、高温熱水や界面活性剤を用いることなく、中温の６０℃において、化粧品添加物と食品添加物および天然酵素の混成溶液を応用することにより、金属の錆やＦＲＰ、プラスチック等の表面に付着した金属錆のキレート化速度と錆び取り速度を速くする錆び取り剤組成物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、リンゴ酸、クエン酸ソーダ、柿タンニン、カリミョウバン、キレスト、ラビゾールおよびミネラルイオン含有天然酵素液からなる混成溶液を特徴とする錆び取り剤組成物を得ることができた。 （もっと読む）

【課題】酸性洗浄剤でありながら、油性汚れに対する洗浄効果に優れ、希釈使用された場合にも抗菌効果が高く、しかもプラスチック樹脂製品に対するケミカルクラックの問題が少ない酸性抗菌洗浄剤組成物の提供。
【課題の解決手段】（Ａ）有機酸及び／又はその塩、（Ｂ）ベタイン型両性界面活性剤、（Ｃ）カチオン性抗菌剤を必須成分として含有し、且つｐＨが４．０〜５．５であることを特徴とする酸性抗菌洗浄剤組成物。
（Ｂ）ベタイン型両性界面活性剤が、アルキルカルボベタイン、アルキルアミドカルボベタイン、アルキルスルホベタイン、アルキルヒドロキシスルホベタイン、アルキルアミドスルホベタイン、アルキルアミドヒドロキシスルホベタインから選ばれる１種以上を含有することが特に好ましい。 （もっと読む）

【課題】飲料等の液体製品の製造過程において、液体製品中から不溶性物質等を分離するための分離膜に蓄積された濾過物の洗浄性に優れ、分離膜を短時間で効率良く洗浄することができる分離膜用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の分離膜用洗浄剤組成物は、（Ａ）成分として、アルカリ剤、（Ｂ）成分として、次亜塩素酸塩、（Ｃ）成分として、重合リン酸塩、（Ｄ）成分として、ホスホン酸塩を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を酸性研磨液で研磨した後にアルカリ洗浄する工程を有するガラスハードディスク基板の製造方法であって、研磨工程において研磨速度を維持したまま、アルカリ洗浄工程におけるガラス基板の表面粗さの悪化を抑制し、さらに清浄性を向上できるガラスハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】以下の工程（１）及び（２）を含むガラスハードディスク基板の製造方法。
（１）分子内に窒素原子を２〜１０個有する多価アミン化合物を含有するｐＨ１．０〜４．２の研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程。
（２）工程（１）で得られた基板を、ｐＨ８．０〜１３．０の洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程。 （もっと読む）

【課題】シリコーンに対する洗浄力に優れ、起泡性と泡のクリーミー性に優れ、洗髪時、すすぎ時の指通りが良く、また、べたつかずサラサラで自然なまとまりに仕上がり、さらには防腐剤等を配合せずとも防腐性に優れる毛髪洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】下記の（ａ）成分〜（ｆ）成分を含有し、（ａ）成分が組成物中２〜１０質量％、（ｂ）成分が組成物中５〜１５質量％、（ｃ）成分が組成物中１〜５質量％、（ｄ）成分が組成物中０．５〜５質量％、（ｅ）成分が組成物中１〜５質量％、（ｆ）成分が組成物中０．１〜１質量％であることを特徴とする毛髪洗浄剤組成物。
（ａ）アシルβ−アラニン型界面活性剤
（ｂ）アシルタウリン型界面活性剤
（ｃ）アミドベタイン型界面活性剤及び／又はアルキルベタイン型界面活性剤
（ｄ）ポリオキシエチレングリコール
（ｅ）１，２−ペンタンジオール及び／又は１，２−ヘキサンジオール
（ｆ）カチオン性ポリマー （もっと読む）

【課題】防錆性と硬水安定性の双方を満足する水性洗浄剤を提供する。
【解決手段】水性洗浄剤は、実質的にポリアルキレングリコールを含有せず、下記Ａ、ＢおよびＣのうち少なくともいずれか１種のカルボン酸の塩を配合してなることを特徴とする。
Ａ：総炭素数９または１０の、分岐アルキル基を有する脂肪族一塩基カルボン酸
Ｂ：セバシン酸
Ｃ：総炭素数１１から１３までの芳香族一塩基カルボン酸 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整されたヒドロキシルアミン化合物を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水と、洗浄剤と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、特定の含窒素非芳香族環状化合物とを含有し、実質的に中性に調整された半導体基板用洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】内容物を注ぐ時に、容器を反転する必要がない、底部から分与する容器に入った濃縮洗剤組成物を提供する。
【解決手段】液体組成物を貯蔵し分与する商品であって、（ａ）可視スペクトルで少なくとも２５％の透過性を有し、紫外線吸収材料を含む壁を有し、前記紫外線吸収材料が、紫外線吸収剤、蛍光染料、及びその混合物から選択される、透明若しくは半透明の底部から分与するための弁４３０を設けた容器、及び、（ｂ）透明若しくは半透明の濃縮洗剤組成物４５０を備えた商品。 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整された特定の洗浄剤を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水と、洗浄剤と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、特定の含窒素芳香族環状化合物とを含有させ、実質的に中性に調整された、半導体用基板用の洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整された特定の洗浄剤を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層のみならず、シリコンの洗浄により腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水に、洗浄剤と、塩基性化合物と、酸性有機化合物とを含有させ、実質的に中性に調整された洗浄組成物であって、さらに高分子化合物を含有させた洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】尿石等による汚れに対して有効に作用する酸性の洗浄剤を所望の位置に向けて噴射可能なエアゾール洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】エアゾール洗浄剤１０は、ヒドロキシカルボン酸及びその塩を含有しており酸性の洗浄剤３０と、金属製のエアゾール容器２０と、噴射剤４０とを備えており、エアゾール容器２０の内面が、洗浄剤３０に対する耐食性を備えた保護膜２６により被覆されている。洗浄剤３０及び噴射剤４０は、エアゾール容器２０内に充填されており、噴射ボタン２４ａを押圧することにより噴射口２４ｂ及び噴射管２４ｃを介して噴射される。 （もっと読む）

【課題】 研磨剤由来の砥粒の除去性、絶縁膜上の金属残渣と有機残渣の除去性に優れ、かつ銅配線の耐腐食性に優れる銅配線半導体用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 銅または銅合金配線を形成する半導体製造工程中の化学的機械的研磨の後に続く工程において使用される洗浄剤であって、アミン（Ａ）、グアニジンの塩またはグアニジン誘導体の塩（Ｂ）、および水を必須成分とし、使用時のｐＨが８．０〜１３．０であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】湿潤および浸透効果に優れるため、配向膜基板上に存在する汚染物質に対する洗浄効果に優れた洗浄液組成物を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄液組成物は、アルカリ化合物を含まない洗浄液組成物であって、組成物の総重量に対して、Ｃ１〜Ｃ５の低級アルコール０．１重量％〜１５重量％、水溶性グリコールエーテル化合物０．１重量％〜１５重量％、有機リン酸０．０１重量％〜１０重量％、アゾール系化合物０．００１重量％〜１０重量％、および残量の水を含む。 （もっと読む）

【課題】製造設備への損傷が少なく、低泡性の、優れた脱臭性能を有するＣＩＰ（現場洗浄）用脱臭剤組成物を用いたＣＩＰ洗浄方法を提供する。
【解決手段】上記課題を解決するため、本発明は、（ｉ）アルカリ洗浄剤による洗浄工程の後、（ｉｉ）ＣＩＰ洗浄用脱臭剤組成物による脱臭洗浄工程を行い、更に、（ｉｉｉ）酸洗浄剤による洗浄工程を行うことを含む、ＣＩＰ洗浄方法であって、該ＣＩＰ洗浄用脱臭剤組成物が、（Ａ）成分として、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビット脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンーポリオキシプロピレンブロックポリマー、リバースタイプのポリオキシエチレンーポリオキシプロピレンブロックポリマー、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ショ糖脂肪酸エステル、エチレンジアミン型ポリオキシエチレンーポリオキシプロピレンブロックポリマー、リバースタイプのエチレンジアミン型ポリオキシエチレンーポリオキシプロピレンブロックポリマーからなる群から選ばれる一種以上の非イオン界面活性剤を０．０１〜３０．０重量％、（Ｂ）成分として水、及び（Ｃ）成分として、消泡剤を０．０９〜１０．０重量％含有を含有する、ＣＩＰ洗浄方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】金属素地の腐食を抑制するとともに、酸洗後の金属材表面の品質を低下させることなく、金属材表面に付着している酸化物皮膜およびスケールの除去速度を速い状態で維持する金属材用酸洗浄液、およびこれを用いる金属材の酸洗浄方法を提供する。
【解決手段】金属材用酸洗浄液は、塩酸（ＨＣｌ）水溶液に、（Ａ）平均分子量が１５０〜１５００の低分子ポリアミンと、（Ｂ）低分子カルボン酸（またはその塩）を含み、更に（Ｃ）アセチレンアルコール、（Ｄ）ヘキサメチレンテトラミン、（Ｅ）ポリエチレングリコールを含むことが出来る。 （もっと読む）

【課題】本発明は、重曹等の無機発泡剤を洗浄剤に有効利用するため、重曹等の無機発泡剤の熱分解を抑制できる温度（１２０℃以下）で高濃度の無機発泡剤を含有する粒を作成することにより、重曹等の無機発泡剤の供給安定性、洗浄剤の高洗浄力、および熱劣化抑止効果を達成することを課題とする。
【解決手段】本発明の洗浄剤は、無機発泡剤および融点が１２０℃以下のバインダーを含有する無機発泡剤粒と、熱可塑性樹脂粒とを含む。また、前記無機発泡剤粒は、滑剤、ミネラルオイル、無機化合物、界面活性剤およびフッ素化合物からなる群より選択された少なくとも一種をさらに含有することが好ましい。 （もっと読む）