【課題】フォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好なレジストパターンを製造することのできる化合物、および該化合物およびその他モノマーから調整される樹脂を含有するレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


［式中、Ｒ¹は、メチル基等を表す。Ｘ^１は、カルボニルオキシ、フェニレンオキシまたはフェニレンカルボニルオキシ結合基であり、Ａ^１は、単結合又は結合置換基を表し、Ｘ^２は、単結合または酸素等を表す。Ｒ^２は、炭素数１〜３６の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】パターンプロファイル及び焦点深度マージンに優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、特に反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いてパターン形成される場合にもこれら性能に優れ、インプランテーション用として好適な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（ＰＧ１）、（ＰＧ２）、（ＰＧ３）と、ラクトン構造を含む少なくとも一種の繰り返し単位を含有する樹脂（Ａ）光酸発生剤（Ｂ）と、溶剤（Ｃ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】多層セラミック電子部品を製造する際に、シートアタック現象による層間剥離現象（デラミネーション）と呼ばれる現象が生じない、電気的特性の劣化の発生しないセラミック積層体を製造するための導電性ペースト用の溶剤の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で示されるアルキルシクロヘキシル脂肪酸エステルである導電性ペースト用溶剤。
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【課題】水難溶解性有機化合物を無機多孔質の細孔内に含有し、種々の分野で利用することができるナノレベルサイズの無機有機複合粒子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】無機多孔粒子と、該無機多孔粒子の細孔内に含まれる水難溶解性有機化合物とを有し、レーザー回折・散乱法によって求めた粒度分布における積算値５０％での粒径が１μｍ以下である無機有機複合粒子。好ましくは、水難溶解性有機化合物結晶を有機溶媒に溶解した後に無機多孔体に吸収させ、有機溶媒を蒸発させることにより水難溶解性有機化合物を無機多孔体の細孔内に残留させる。次いで、水を含む媒体を用いた湿式粉砕法により細孔内に水難溶解性有機化合物を含む無機多孔体を粉砕して無機有機複合粒子を製造する。 （もっと読む）

【課題】温和な反応条件において容易にアセタール構造を有する多官能（メタ）アクリル酸エステルを製造する方法を提供する。
【解決手段】化合物（１）と化合物（２）とを反応させ化合物（３）を製造する。






（Ａはオキシアルキレン基、Ｒ1及びＲ2は水素原子又はメチル基を表す。） （もっと読む）

【課題】被塗装物を劣化させることなく除去が可能な塗膜を形成できる化合物、塗料組成物、及び該塗料組成物により形成される塗膜を除去する塗膜除去方法の提供。
【解決手段】一般式（１）で表される化合物、及び一般式（２）で表される化合物の少なくともいずれかと、反応可能な基を有する化合物とを反応させて樹脂を含有する塗料組成物が得られる。前記塗料組成物を被塗装物上に塗布して得られる塗膜は酸化剤溶液で分解し、その塗膜の分解物を前記被塗装物から除去することができる。




<ただし、Ｒ^１、Ｒ^２は、特定の２価の基を表す。 （もっと読む）

【課題】低粘度で且つ高温安定性に優れたイオン液体を提供する。
【解決手段】下記一般式で表されるホルムアミジニウム系カチオンと、塩素以外のアニオンＸとから構成されていることを特徴とするイオン液体。


（式中、Ｒ_１はＣ_ｎＨ_ｎ＋１又は(ＣＨ_２)_ｎＯＭｅ、Ｒ_２はＭｅ又はＥｔを表す。Ｒ_１のｎは０〜２０の整数である。） （もっと読む）

【課題】酸発生剤として有用な塩、該塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれ独立にフッ素原子等を表す。Ｌ^１は炭素数１〜１７の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Ｗはヒドロキシル基で置換されたシクロペンタヒドロフェナンスレン環部を有す基を表す。Ｚ^＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好で、レジストパターンを形成した場合に欠陥の発生数を低減することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、−（ＣＨ_２）_ｍ１−、−（ＣＨ_２）_ｍ２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ３−等ｍ１〜ｍ３はそれぞれ１〜６の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】新規化合物、高分子化合物、レジスト組成物、酸発生剤及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式（１−１）で表される化合物［式中、Ｒ^１、Ｒ^３はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基であり、Ａは２価の連結基であり、Ｒ^２、Ｒ^４はそれぞれ独立に、水酸基、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は式（１−ａｎ１）、（１−ａｎ２）又は（１−ａｎ３）で表される基である。n０は０又は１である。Ｙ¹は単結合又は−ＳＯ_２−であり、Ｒ^５はフッ素原子で置換されていてもよい、炭素数１〜１０の１価の炭化水素基、炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基、又は炭素数３〜２０の環状の部分構造を有する１価の炭化水素基である。Ｍ^＋は有機カチオン又は金属カチオンである］。
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【課題】変換効率等の光電変換特性と、長期間にわたり使用後も光電変換特性の低下が少なく耐久性、特に高温での耐久性に優れた光電変換素子及び色素増感太陽電池を提供する。
【解決手段】導電性支持体及び該導電性支持体の導電性表面を被覆するように設けられた半導体層を有し、該半導体層の半導体の表面に、特定の配位子を有する金属錯体色素と、酸性基を有する共吸着剤とが担持され、該共吸着剤がもつ酸性基はスルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、又はカルボン酸基であ光電変換素子（ただし、前記共吸着剤の酸性基がカルボン酸基のみである場合、該共吸着剤はカルボン酸基を２つ以上有する）。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、簡便な方法により、高純度ビス（メチルシクロペンタジエニル）マグネシウム及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の課題は、マンガン元素の含有量が０．９質量ｐｐｍ以下、クロム元素の含有量が０．９質量ｐｐｍ以下、且つシクロペンタジエニル基を有するマグネシウム化合物の含有量が５質量％以下であることを特徴とする、高純度ビス（メチルシクロペンタジエニル）マグネシウムによって解決される。 （もっと読む）

【課題】機械的強度が高いパターン化酸化チタン膜を形成できる感光性金属アルコキシド、塗布液、パターン化膜の形成方法を提供する。
【解決手段】金属アルコキシドと、前記金属アルコキシドに配位した、化学式１で表される配位子等から成る感光性金属アルコキシド。


化学式１におけるＲ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄は、炭化水素又は水素である。前記感光性金属アルコキシドを含むことを特徴とする塗布液。その塗布液は、表面を有機物で修飾された金属化合物から成る粒子を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】発色剤の溶解性に優れ、臭気が少なく、毒性を有さず、かつ感圧複写材料の発色剤の溶剤として優れた特性を有する感圧複写紙用発色剤を提供する。
【解決手段】１−フェニル−１−エチルフェニルエタン（ＰＥＰＥ）、１−フェニル−１−キシリルエタン（ＰＸＥ）および１，１−ジフェニルエタン（１，１−ＤＰＥ）の混合物を含有してなる発色剤溶剤であって、１，１−ＤＰＥの含有量が０．１質量％以上２５質量％以下であることを特徴とする感圧複写紙用発色剤用溶剤。 （もっと読む）

【課題】透明性、均質性、及び導電性を有する高品質な酸化亜鉛系膜を３００℃以下の低温で成膜することが可能な酸化亜鉛系膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】必須成分として、下記一般式（１）（一般式（１）中、Ｒ¹及びＲ²は、相互に独立に炭素数１〜４のアルキル基を表す）で表される亜鉛化合物を含有する酸化亜鉛系膜形成用組成物。
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【課題】ガス吸着性能、ガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体の提供。
【解決手段】式（Ｉ）


で表されるジカルボン酸化合物（Ｉ）と、周期表の２族、７〜１０族及び１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な特定な有機配位子（例えば、１，２−ビス（４−ピリジル）エタン）とからなる金属錯体。 （もっと読む）

【課題】
半導体工業で求められている、フッ素以外のハロゲンを実質上含まないモノフルオロメタンを実用的かつ効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】
本発明は、１−メトキシ−１，１，２，２−テトラフルオロエタンを触媒と接触させて熱分解する熱分解工程と、熱分解生成物からモノフルオロメタンを回収する工程とを少なくとも有するモノフルオロメタンの製造方法であり、回収する工程において行われる分離は、蒸留、吸収、反応などによることができる。 （もっと読む）

【課題】新規な構造および特性を有するピレン誘導体の提供。
【解決手段】下式で合成した（Ｉ）で表されるピレン誘導体、その互変異性体、幾何異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。


[式中、Ａｒのうち少なくとも一方は、置換または無置換のアリール基等であり、各Ａｒは同一でも異なっていても良く、Ｒ^１は、炭化水素基であり、直鎖状でも分枝状でも良く、Ｒ^２は、水素原子または任意の置換基であり、Ｒ^３は、任意の置換基である。] （もっと読む）

【課題】新規の多環芳香族炭化水素化合物（ＰＡＨ）誘導体の開発に有用な新規なビスビナフチルアセチレン化合物とその製造方法を提供する。
【解決の手段】化（１）（化（１）中、Ｒ_１〜Ｒ_２６は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子または、炭素数１〜１２のアルキル基、アルケニル基、アリール基のいずれかの置換基を示し、Ｒ_１〜Ｒ_２６は互いに炭素原子を介して結合していても良い。）で示されるビスビナフチルアセチレン化合物、その製造方法及び、それを含んでなるエレクトロルミネッセンス素子用発光材料または蛍光顔料を用いる。 （もっと読む）

【課題】操作が簡便で多くの物質に適用可能な、高い分割能力を持つ新たな光学分割法および当該光学分割方法に利用可能なゲルを提供する。
【解決手段】親水基中に不斉炭素原子を有する両親媒性分子の集合体と、光学異性体混合物とを接触させ、前記光学異性体混合物中の一方の光学異性体を前記両親媒性分子集合体に吸着させることを特徴とする光学分割方法、ならびに、両親媒性分子の集合体が均一に分散されており、かつ、当該集合体の体積分率が２０％以上であることを特徴とするゲル。 （もっと読む）