【課題】高融点の金属材料または非昇華性材料からなる蒸着性材料からなる薄膜を被成膜体に対して安定して形成することが可能な真空成膜装置を提供する。
【解決手段】真空成膜装置１０は、被成膜体１３が配置された真空チャンバー１２と、蒸着性材料２０を収納するるつぼ１９と、プラズマビーム２２をるつぼ１９内の蒸着性材料２０に向けて照射する圧力勾配型プラズマガン１１とを備えている。るつぼ１９に、蒸着性材料２０を１０００℃乃至２５００℃の範囲内で加熱できる加熱機構４０が設けられている。プラズマビーム２２を蒸着性材料２０の表面に導き、真空チャンバー１２内の被成膜体１３上に薄膜２０ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】金属加工金型の寿命向上のため、高い塑性変形硬さ、高い剥離臨界荷重、被加工材との焼付き性を向上させる金型表面用保護膜を形成すること。気相薄膜形成法を用いて保護膜を形成する場合は、蒸発源の費用を抑えられること。
【解決手段】金属表面に形成される、遷移金属元素の窒化物とモリブデン窒化物との化合物からなる金型表面用保護膜。チタン含有窒化物とモリブデン窒化物との化合物。TiN、(Ti,Al)N、CrNのうち何れか一つのチタン含有窒化物と、MoNのモリブデン窒化物との化合物。（Ti_a,Mo_b）N_1-a-bであって、aおよびbは原子比を示し、Mo含有比率；Mo/（Mo+Ti）が20〜60％である。（（TiAl）_a,Mo_b）N_1-a-bであって、aおよびbは原子比を示し、Mo含有比率；Mo/（Mo+Ti+Al）が40〜80％である。５００℃以下で加工する金型に適用する。 （もっと読む）

【課題】噴霧法を用いて膜原料を溶解した溶液を噴霧させる薄膜作製炉である。溶媒を使用するので噴霧直後に溶媒は気化し膜原料の微細な粒子は基材に接近させるとき過熱された基材に気体状態で基材表面への常温常圧の表面蒸着および浸透蒸着方法を提供する。
【解決手段】薄膜の製法については多種の製法、イオン、スパッタリング、真空等の製法が用いられている。原点に返り室温下での製法を用いる。このことは炉３の構造、加熱温度、空圧、溶媒の質量、基材の軟化点、蒸着に用いる先端ノズル５の改良および過熱温度、空圧、溶液量、噴霧距離等を勘案して炉３の開閉と噴霧時の温度と溶液量のおよび温度、空圧、軟化点の確認との一致、噴霧時の距離。以上の技術的一致点にて蒸着することにより既存の表面蒸着ではなく、浸透蒸着を可能にする。 （もっと読む）

【課題】共有結合やイオン結合によって構成されている硬質被膜に、生産性や被膜性能を大きく損なうことなく所定の導電性を持たせて、通電センサ等によって通電の有無を検出する場合にも使用できるようにする。
【解決手段】共有結合またはイオン結合によって構成されている機能層３４の上に、機能層３４と同じ組成であるが非金属元素の割合が機能層３４よりも低い導電層３６を設け、所定の導電性が得られるようにする。すなわち、非金属元素の割合が減ることで共有結合或いはイオン結合の割合が減少し、その分だけ金属結合の割合が増加して導電性が高くなる。これにより、通電センサ等によって検出される通電の有無などで位置を検出したり異常を検知したりする場合にも用いることができる。しかも、導電層３６は、機能層３４と同じ組成で非金属元素の割合を低くしただけであるため、被膜性能や生産性の低下を最小限に抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】膜欠陥の発生が抑制され、安定な成膜が可能となり、窒化ケイ素の有する高いガスバリア性を十分に享受できるガスバリア膜が成膜可能なイオンプレーティング用蒸発源材料の原料粉末を提供する。また、イオンプレーティング法に適した蒸発源材料及びその製造方法、並びにガスバリア性シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】平均粒径が５μｍ以下の窒化ケイ素と、平均粒径が５μｍ以下である溶融型材料と、を含有し、溶融型材料の含有量が、窒化ケイ素１００重量部に対して、５重量部以上５０重量部以下である、ことを特徴とするイオンプレーティング用蒸発源材料の原料粉末を用いることにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】プラズマＣＶＤ法で形成したＤＬＣ膜よりも緻密であり、かつパーティクルを必要十分なレベルまで低減したテトラヘドラル・アモルファス・カーボン（ｔａ−Ｃ）膜を主体とする磁気記録媒体用保護膜、および該保護膜を有する磁気記録媒体の提供。
【解決手段】陰極ターゲットとしてガラス状炭素を用いたフィルタード・カソーディック・アーク法によって形成されるｔａ−Ｃ膜を主体とする磁気記録媒体用保護膜。基体と、磁気記録層と、ｔａ−Ｃ膜を主体とする保護膜とを有する磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】ＰＤＰにおいて、厚膜化してもクラックが生じにくい低誘電率の誘電体層および保護膜を、簡易迅速に一貫して形成する。
【解決手段】ハース２０５の内部が、ＳｉＯ₂粒子を収納するための凹部２０５ｂと、ＭｇＯ粒子を収納するための凹部２０５ｃとに分割され、複数種類の材料が充填できる構造になっている。ＳｉＯ₂粒子が収納された凹部２０５ｂにプラズマビーム２１３が照射されるよう位置決めされた初期位置と、ＭｇＯ粒子が収納された凹部２０５ｃにプラズマビーム２１３が照射されるよう位置決めされた初期位置とに切り替え可能な回転機構２０５ｄを備えている。回転機構２０５ｄは、成膜材料を切り替えるだけではなく、プラズマビーム２１３が照射される間、所定の角度ｄだけ往復運動をする回転機構を備えている。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の周囲に設置されるコイルの冷却を必要とせず、かつメンテナンスが容易な成膜装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバー１と、真空チャンバー１に設置されたガン２と、真空チャンバー１とガン２との間に設置された第１のコイル４と、から構成されており、真空チャンバー１内に成膜を行う基板Ｋを保持する基板保持手段７と、犠牲陽極（ダミーアノード）６と、蒸着材料Ｊを溶解（蒸発）させるハース３とを具備する成膜装置において、ハース３の内部にリング型永久磁石を配置して、かつ真空チャンバー１外の底部には第２のコイル５を配置する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、非常に高い曲げ強度を有し、従って、成膜時の熱応力によりターゲットのつば部が破損することのないTi-Al系合金ターゲット材を得ることができるばかりではなく、加圧成形時に原料組成物を均一に変形し得、従って、後加工による寸法修正が不要であり、原料組成物の歩留まりを著しく高くし得るところのTi-Al系合金ターゲット材の製造法を提供する。
【解決手段】本発明は、Ti粉末とAl粉末とを含む原料組成物を加圧成形し、次いで、得られた成形体を焼結又は焼結鍛造してTi-Al系合金ターゲット材を製造する方法において、上記加圧成形が、80〜250℃の温度において金型内で原料組成物を圧縮することにより実行されることを特徴とする方法である。 （もっと読む）

【課題】陽極において酸素発生を伴う電解銅箔製造、アルミニウム液中給電、連続電気亜鉛メッキ鋼板製造等の工業電解において優れた耐久性を有する電解用電極の製造方法を提供する。
【解決手段】バルブメタル又はバルブメタル基合金よりなる電極基体１の表面に、ＡＩＰ法により結晶質のタンタル及び結晶質のチタン成分を含有するバルブメタル又はバルブメタル基合金よりなるＡＩＰ下地層２を形成する工程と、電極基体を加熱焼成処理し、結晶質のタンタル及び結晶質のチタン成分を含有するバルブメタル又はバルブメタル基合金よりなるＡＩＰ下地層のタンタル成分を非晶質に変換する加熱焼成工程と、非晶質に変換されたタンタル成分及び結晶質のチタン成分を含有するＡＩＰ下地層の表面に電極触媒層３を形成する工程とよりなる電解用電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】表面被覆切削工具の寿命を長期化させることができる表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】基材の表面上に第１被覆層と第２被覆層とが交互に積層されてなる表面被覆層を含んでいる。第１被覆層には、Ａ層とＢ層とが交互に１層以上積層されており、Ａ層はＡｌとＣｒとを含む窒化物からなりＣｒの原子数の比は０．１よりも大きく０．４以下であり、Ｂ層はＡｌとＴｉとを含む窒化物からなりＴｉの原子数の比は０．２以上０．６以下である。第２被覆層には、Ｃ層とＤ層とが交互にそれぞれ１層以上積層されており、Ｃ層はＴｉとＳｉとを含む窒化物からなりＳｉの原子数の比は０．０５よりも大きく０．３以下であり、Ｄ層はＴｉとＣｒとを含む窒化物からなりＣｒの原子数の比は０．０５以上０．３以下である表面被覆切削工具である。 （もっと読む）

【課題】耐酸性に優れ、かつ接触抵抗が低い燃料電池用金属セパレータおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る燃料電池用金属セパレータ１は、表面が平面の金属基材２、または、表面の少なくとも一部に凹形状のガス流路が形成される金属基材２を用いて製造された燃料電池用金属セパレータであって、金属基材２の表面に、Ｎｂ、Ｔａから選択される１種以上の非貴金属を含んでなる耐酸性金属皮膜３と、この耐酸性金属皮膜３の上にＡｕ、Ｐｔから選択される１種以上の貴金属、および、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａから選択される１種以上の非貴金属を含んでなる導電性合金皮膜４と、を有する構成とした。また、本発明に係る燃料電池用金属セパレータの製造方法は、耐酸性金属皮膜を成膜する工程Ｓ１と、導電性合金皮膜を成膜する工程Ｓ２と、を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、被成膜物における未成膜部分を低減させることができる成膜装置の支持機構を提供する。
【解決手段】成膜面Ｗａが下方に向けられた状態にガラス基板Ｗを支持して成膜面Ｗａに成膜物質を付着堆積させる成膜装置１におけるガラス基板Ｗの搬送トレイ４０であって、成膜面Ｗａと同等以上の広さの開口部４２を内部に有する枠体４３と、枠体４３の内方に備えられ、開口部４２の周方向における縦断面を上方から下方に向けて狭めるテーパー状支持部４４とを備え、このテーパー状支持部４４のテーパー側面４４ｂは、成膜面Ｗａを囲むガラス基板Ｗの稜線Ｗｂに線接触するようになっている。このようなテーパー側面４４ｂを有するテーパー状支持部４４によってガラス基板Ｗを支持することにより、ガラス基板Ｗの未成膜部分が低減できる。 （もっと読む）

【課題】微細な開口部、かつ高アスペクト比を持つトレンチ又はホール内を金属材料で埋め込む方法の提供。
【解決手段】円筒状トリガ電極１３と蒸発材料部材１２ａを有する円柱状カソード電極１２とが、円筒状絶縁碍子１５を介して同軸状に隣接して固定されて配置され、カソード電極の周りに同軸状にアノード電極１１が離間して配置されている同軸型真空アーク蒸着源１を用い、トリガ電極とカソード電極との間にトリガ放電を発生させ、カソード電極とアノード電極との間に間欠的にアーク放電を誘起させ、蒸発材料部材から生成される荷電粒子を真空チャンバー内に放出させ、トレンチ又はホール内へ金属材料を埋め込む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、膜質の向上を図りつつ、長時間にわたり連続して成膜作業を行うことを可能とする成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る成膜装置１は、真空容器１０内でプラズマビームＰにより成膜材料Ｍａを蒸発させ、被処理物としての基板１１に付着させて膜を生成する成膜装置であって、成膜材料Ｍａを保持すると共に、プラズマビームＰを誘導する主陽極３と、主陽極３を囲むように配置されると共に、主陽極３によるプラズマビームＰの誘導を補助する環状の補助陽極４と、補助陽極４の位置を調整する位置調整装置６と、を備え、真空容器１０は、真空容器１０の内外を連通させる貫通孔１０ｆ〜１０ｊを有しており、位置調整装置６は、貫通孔１０ｆ〜１０ｊを通じて、真空容器１０の外側から補助陽極４の位置を調整するための調整部７０と、貫通孔のシール性を維持するベローズ８０とを有する。 （もっと読む）

【課題】 複数の磁石を必要とせず、磁石の表面の磁束密度を容易に均一化する磁石ホルダを備えるスパッタリング装置を安価に提供する。
【解決手段】 スパッタリング装置が、プラズマガンと、プラズマ形成室と、一対の磁石１１Ａ，１１Ｂと、一対の磁石ホルダ２５Ａ，２５Ｂと、真空成膜室と、電磁コイルと、電源と、を備え、前記一対の磁石ホルダは、それぞれ、その有効主面に対向する第１の構成部材２８Ａ，２８Ｂと、前記有効主面以外の部分に対向する第２の構成部材２６Ａ，２６Ｂ，２７Ａ，２７Ｂと、を有し、第１の構成部材２８Ａ，２８Ｂが磁性材料からなる。 （もっと読む）

【目的】プラズマに混入するドロップレットをより効率的に除去でき、高純度プラズマによる成膜等の表面処理精度の向上を図ることのできるプラズマ生成装置及びそれを用いたプラズマ処理装置を提供することである。
【構成】プラズマ進行路に設けたドロップレット除去部は、プラズマ発生部Ａに連接されたプラズマ直進管Ｐ０と、プラズマ直進管Ｐ０に屈曲状に連接された第1プラズマ進行管Ｐ１と、第1プラズマ進行管Ｐ１の終端に、その管軸に対して所定屈曲角で傾斜配置させて連接された第２プラズマ進行管Ｐ２と、第２プラズマ進行管Ｐ２の終端に屈曲状に連接され、プラズマ出口よりプラズマを排出する第３プラズマ進行管Ｐ３とから構成されている。 （もっと読む）

【課題】
シートプラズマのシート形状を維持しつつ、シートプラズマの形状を調整できるシートプラズマ成膜装置を提供する。
【解決手段】
本発明に係るシートプラズマ成膜装置１は、カソード１１を有するとともに円柱状のプラズマＰを出射するプラズマガン２と、円柱状のプラズマＰを挟んでシートプラズマＰを形成する永久磁石対７と、シートプラズマＰが導入されシートプラズマＰをその厚み方向に挟むようにターゲット１３と基板１４とが対向して配置される成膜室８と、シートプラズマＰが収束するアノード１２と、成膜室８に電流磁界を形成してシートプラズマＰをカソード１１側からアノード１２側へ輸送する電磁コイル５、６と、電流磁界が形成されると磁化されて成膜室８内に磁場を形成する磁性部材９と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、被成膜物における未成膜部分を低減させることができる成膜装置の支持機構を提供する。
【解決手段】成膜面Ｗ１ａが下方に向けられた状態にガラス基板Ｗ１を支持して成膜面Ｗ１ａに成膜物質を付着堆積させる成膜装置１におけるガラス基板Ｗ１の搬送トレイ４０であって、成膜面Ｗ１ａと同等以上の広さを有する開口部４２を内部に備えると共に開口部４２を囲む外枠４３から構成される枠体４４と、外枠４３から内に突出してガラス基板Ｗ１を複数の箇所で支持すると共に、複数の箇所を結んで形成される領域Ｒ１内にガラス基板Ｗ１の重心Ｇが位置するように配置された複数のワイヤー状の線状支持部材４５，・・・とを備える。このようなワイヤー状の線状支持部材４５でガラス基板Ｗ１を支持することにより、ガラス基板Ｗ１の未成膜部分が低減される。 （もっと読む）

【課題】非晶質炭素膜と基材との密着性に優れるとともに耐摩耗性に優れた非晶質炭素被覆工具を提供することを目的とする。
【解決手段】基材と非晶質炭素膜とを備え、非晶質炭素膜は基材側の内層部と表面側の外層部とからなり、非晶質炭素膜の内層部に含まれる水素量は０．５原子％以上３原子％以下であり、非晶質炭素膜の外層部に含まれる水素量は０．５原子％未満であり、非晶質炭素膜の内層部の水素量は、基材側から表面側に向かって水素量が徐々に減少するという濃度勾配を持つ非晶質炭素被覆工具。 （もっと読む）