パターン形成材料の製造方法及びパターン形成材料

【課題】パターン形成材料の製造工程において、塗布液が一時的に滞留した状態に置かれ、溶存酸素濃度が低下した状態であっても、ゲル化発生が起きない安定性の高い塗布液が得られ、感度及び解像度も良好で、高精細なパターンが得られるパターン形成材料の製造方法の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含む感光性組成物の塗布液を調製する塗布液調製工程と、前記塗布液中に、重合性化合物に対し、４００ｐｐｍ以上の重合禁止剤を添加させて、前記塗布液を配管により送液する塗布液送液工程と、該塗布液を支持体上に塗布して感光層を積層する感光層積層工程とを含むことを特徴とするパターン形成材料の製造方法である。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含む感光性組成物の塗布液を調製する塗布液調製工程と、
前記塗布液中に、重合性化合物に対し、４００ｐｐｍ以上の重合禁止剤を添加させて、前記塗布液を配管により送液する塗布液送液工程と、
該塗布液を支持体上に塗布して感光層を積層する感光層積層工程と
を含むことを特徴とするパターン形成材料の製造方法。
【請求項２】
塗布液の溶存酸素濃度が、３５ｍｇ／Ｌ以下である請求項１に記載のパターン形成材料の製造方法。
【請求項３】
塗布液中に、重合性化合物に対し、１０００ｐｐｍ以下の重合禁止剤を添加させた請求項１から２のいずれかに記載のパターン形成材料の製造方法。
【請求項４】
前記重合禁止剤が、芳香環、複素環、イミノ基及びフェノール性水酸基から選択される少なくともいずれか１種を含む請求項１から３のいずれかに記載のパターン形成材料の製造方法。
【請求項５】
重合禁止剤が、フェノール性水酸基を少なくとも２個有する化合物、イミノ基で置換された芳香環を有する化合物、イミノ基で置換された複素環を有する化合物及びヒンダードアミン化合物から選択される少なくともいずれか１種を含む請求項１から４のいずれかに記載のパターン形成材料の製造方法。
【請求項６】
重合禁止剤が、ハイドロキノンモノメチルエーテル、カテコール、フェノチアジン、フェノキサジン、ヒンダードアミン及びこれらの誘導体から選択される少なくともいずれか１種を含む請求項１から５のいずれかに記載のパターン形成材料の製造方法。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載のパターン形成材料の製造方法により製造されたことを特徴とするパターン形成材料。

【図１】