光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法
光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法は、接着剤が塗布されている異形フィルムの第１面に光学／電子構造物を形成する第１段階と、異形フィルムの第１面を基板またはフィルムに附着させる第２段階と、光学／電子構造物が基板等に附着した状態で異形フィルムだけを基板等から分離してとり除く第３段階とを含む。光学／電子構造物は１次的に異形フィルムに附着した後、ディスプレー装置の基板等に移されるので、マイクロレンズ等の光学構造物や、薄膜トランジスタをはじめとする電子構造物等の所望の光学／電子構造物を、ディスプレー装置の基板等に容易に形成することができる。また、均一な形状と大きさの光学／電子構造物を形成することができる。ディスプレー装置に直接紫外線等を照射せずにディスプレー装置に光学／電子構造物を附着させることができ、ディスプレー装置の素子の劣化を防止することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学／電子構造物を持つ表示装置の製造方法に関し、さらに詳細には異形フィルムを利用して基板表面またはフィルム表面に光経路を変更させる所定形状のマイクロレンズ、カラーフィルター、偏光層、ＩＴＯ層などの特定の光学的特性を付与するための光学構造物を形成するとか、基板またはフィルム表面にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）、イン―セル位相差フィルムのような電極パターンや回路などの電子構造物を形成することで製作工程を容易くして、均一な構造物パターンを得ることができるディスプレー装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報化社会でディスプレー装置（Display Device）は視覚情報伝達媒体としてその大切さがいっそう強調されているし、今後の重要な位置を先行獲得するためには低消費電力化、薄型化、軽量化、高画質化などの要件を満たすことが要求されている。
【０００３】
このようなディスプレー装置として液晶ディスプレー装置（ＬＣＤ）、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ： Organic Light Emitting Diodes）、プラズマディスプレー装置（ＰＤＰ）などが開発されて使われている。
【０００４】
液晶ディスプレー装置（ＬＣＤ）は液体と固体の中間特性を持った液晶（liquid crystal）の状態変化と偏光版の偏光性質を利用してパスする光の量を調節することで情報を表示するディスプレー装置として、カラーフィルターとＴＦＴが形成された２枚のガラス基板とその間に注入された液晶、そして光源であるバックライトユニット（ＢＬＵ）で構成される。
【０００５】
前記カラーフィルターは光の三原色である赤（ｒｅｄ）、緑（ｇｒｅｅｎ）、青（ｂｌｕｅ）画素（ｐｉｘｅｌ）がガラス基板上にコーティングされてカラー映像を具現する。そして、ＴＦＴは液晶を制御するために超薄型ガラス基板上に半導体膜を形成した回路として、この回路は映像の基本単位である画素を一つ一つ制御する役目をする。
【０００６】
そして、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ： Organic Light Emitting Diode）は有機物薄膜に両極と陰極を通じて注入された電子と正孔が再結合して励起子（exciton）を形成して、形成された励起子からのエネルギーによって特定の波長の光が発生する現像を利用した自体発光型ディスプレー素子である。
【０００７】
このような有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）は、ガラス基板にＩＴＯ金属を蒸着した後フォトレジスト工程を通じて所望の形状で電極をパターニングして画面が表示される部分である画面表示領域にはプラス全員が認可されるアノード（Anode）電極を形成して、所定の発色段を持つ有機物質を蒸着させて電流の流れによって光を発散させる有機電界発光部を形成して、有機電界発光部の上部面にカソード（Cathode）形成金属、すなわちアルミニウム（Ａｌ）及びマグネシウム（Ｍｇ）などのような電極物質を蒸着させてカソード電極を形成する過程を通じて作られる。
【０００８】
ところが、前記のような液晶ディスプレー装置と有機発光ダイオードなどのディスプレー装置はガラス基板にカラーフィルターやＩＴＯ電極層などの光学／電子構造物を数回の蒸着（deposition）と洗浄（cleanung）、フォトレジストコーティング（PR coating）、露光、現像、蝕刻（etch）などを繰り返して形成するので製作過程が複雑で、構造物の高さや大きさも均一に形成しにくいという問題がある。
【０００９】
また、液晶ディスプレー装置や有機発光ダイオードなどのディスプレー装置は光源で放出された光がガラス基板と偏光版などをパスする過程で多くの光損失が発生し、最終的に外部の使用者に提供される光は光源で放出された光のごく一部分だけが提供される。
【００１０】
従来からディスプレー装置の基板の表面または光学フィルムの表面に半球形状など特定の形状のマイクロレンズを形成して基板または光学フィルムをパスする光の進行角度を変更させることで光損失を減らそうとする試みがなされている。
【００１１】
ディスプレー装置の基板表面に直接マイクロレンズを形成する方法としてスタンパー（stamper）を基板の表面外側に置いてスタンパーを通じてマイクロレンズ形成用樹脂を供給して基板の表面にレンズを形成した後、紫外線（ＵＶ）を照射してレンズを硬化させる方式がある。
【００１２】
しかし、前記のようにステムポを利用して基板の表面にマイクロレンズを形成した後紫外線を照射すると、ディスプレー装置の基板に形成された有機物などが劣化されて寿命が減るようになるという問題がある。
【００１３】
また、従来の光学フィルムの表面にマイクロレンズを形成して基板に附着する方式でディスプレー装置の基板表面にマイクロレンズを形成することはできるが、この光学フィルムの面と基板面との間に空隙（air gap）が存在し、基板の出射面で全反射が発生して光損失が発生するようになる。
【００１４】
このような問題を解決するための代案として基板またはフィルムを射出成形する時基板またはフィルムの表面にマイクロレンズを一緒に成形する方式などが提案されているが、このような従来の方式は皆製作過程が非常に複雑で難しい問題がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明は前記のような問題を解決しようとし、本発明の目的はディスプレー装置の基板またはフィルムの表面に所定形状のマイクロレンズ、カラーフィルター、偏光層、ＩＴＯ層などの特定の光学的特性を付与するための光学構造物、またはＴＦＴ（薄膜トランジスタ）、イン―セル位相差フィルムのような電極パターンや回路などの電子構造物を容易く形成することと一緒に均一な構造物パターンを得ることができる光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
前記のような目的を果たすために提供される本発明による光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法は接着剤が塗布されている異形フィルムの第１面に光学／電子構造物を形成する第１段階と、前記異形フィルムの第１面を基板またはフィルムに附着させる第２段階と、前記光学／電子構造物が基板またはフィルムに附着した状態で前記異形フィルムだけ基板またはフィルムで分離してとり除く第３段階を含む。
【００１７】
ここで、前記第１段階は、前記異形フィルムの第１面が外周面に前記光学／電子構造物に対応する形状の成形溝が形成されている成形ローラーの外周面と密着されながらパスするようにした状態で、前記成形ローラーに光学／電子構造物形成用樹脂を供給して前記成形溝を通じて異形フィルムの第１面に樹脂が塗布されるようにすれば良い。
【００１８】
また、前記第１段階は、異形フィルムの第１面に光学／電子構造物形成用樹脂を噴霧して硬化させることで光学／電子構造物を附着した方が良い。
【００１９】
前記第１段階は、複数個の微細なホールが一定間隔に形成された円筒状のスクリーン内側に所定の圧力で光学／電子構造物形成用樹脂を入れ込んで、前記スクリーンのホールを通じて光学／電子構造物形成用樹脂が異形フィルムの第１面で落ちた後硬化されて異形フィルムの第１面に光学／電子構造物が形成されることが望ましい。
【００２０】
そして、前記第２段階で前記異形フィルムをフィルムに附着させる時前記フィルムの一面には光学／電子構造物より高い屈折率を持つ接着剤があらかじめ塗布されているし、前記接着剤の屈折率は１．５〜１．６５であった方が良い。
【００２１】
同時に、前記光学／電子構造物は半球型のドーム（ｄｏｍｅ）形状または多角形凹凸形状で成り立って光の進行経路を変更させる複数個のマイクロレンズであり、前記第２段階で追加に塗布される別途の接着剤は前記マイクロレンズより高い１．５〜１．６５の屈折率を持つことが望ましい。
【００２２】
前記光学／電子構造物はブラックマットリックスとカラーフィルターであった方が良い。
【００２３】
前記製造方法は第１段階後異形フィルムのカラーフィルター及びブラックマットリックスが形成された面の上部に保護膜を塗布する段階と、前記保護膜上に接着剤を塗布する段階と、前記接着剤上に偏光膜を塗布する段階とをさらに含んでいた方が良い。
【００２４】
また、前記製造方法は第３段階後前記他の異形フィルムに塗布された保護膜と接着剤と偏光膜を前記基板上のブラックマットリックスとカラーフィルター上に転写する段階をさらに含むことが望ましい。
【００２５】
前記第１段階は樹脂供給ローラーにブラックマトリックス用樹脂またはカラーフィルター形成用樹脂を供給する段階と、前記樹脂供給ローラーが回転しながら樹脂供給ローラーと連接して回転するパターン形成ローラーのパターン溝で樹脂を伝達する段階と、前記パターン形成ローラーが回転しながらパターン形成ローラーと連接して回転するブランケットローラー（blanket roller）の外周面にパターン溝内に収容されていた樹脂を伝達する段階と、前記ブランケットローラーが回転しながらブランケットローラーとこのブランケットローラーに連接して回転する加圧ローラーの間をパスする異形フィルムの一面にパターニングされた樹脂を伝達してブラックマットリックスとカラーフィルターを形成する段階とを含んで、前記ブランケットローラーの外周面にパターン溝内に収容されていた樹脂を伝達する段階以後前記ブランケットローラーに紫外線（ＵＶ）を照射して樹脂パターンを硬化させた方が良い。
【００２６】
前記第１段階では、ブラックマットリックスまたはカラーフィルターと対応するパターンの成形溝が形成された成形ローラーにブラックマトリックス用樹脂またはカラーフィルター用樹脂を供給して、前記成形ローラーの両側に連接した一番の加圧ローラーと成形ローラーの外周面の間で異形フィルムを通過させて異形フィルムが成形ローラーの外周面に密着されながら進行する過程で成形ローラーの成形溝内の樹脂が異形フィルムに伝達するようにする工程を連続的に遂行して、異形フィルムにブラックマットリックスとカラーフィルターを連続的に形成した方が良い。
【００２７】
前記第２段階は、一方向に水平するように移動する基板の一面に加圧ローラーを連接するように設置して、前記加圧ローラーと基板の間を異形フィルムがパスしながら進行するようにして異形フィルムに塗布されたブラックマットリックス及びカラーフィルターが加圧ローラーによって加圧されながら基板に接合された方が良い。
【００２８】
また、基板の後方面にＩＴＯ層を形成する段階、及び前記ＩＴＯ層に有機発光素子を形成する段階をさらに含むことができる。
【００２９】
前記ＩＴＯ層に有機発光素子を形成する段階は前記有機発光素子をカラーフィルター個別画素当り赤色、緑及び青色波長の光をそれぞれ放出する３個のサーブピクセルで構成するとか、前記有機発光素子をカラーフィルター個別画素に対して少なくとも一つの白色光を放出するピクセルで構成するのが望ましい。
【００３０】
ここで、前記第１段階は第１異形フィルムの一面に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を附着させる段階と、第２異形フィルムを前記第１異形フィルムの前記薄膜トランジスタが附着した面に合着させる段階と、前記第１異形フィルムを分離して前記薄膜トランジスタを前記第２異形フィルムに転写させる段階で構成されて、前記第２段階は前記薄膜トランジスタが附着した前記第２異形フィルムの面を基板に附着させる段階であり、前記第３段階は前記薄膜トランジスタが前記基板に転写された状態で前記第２異形フィルムだけ前記基板で分離する段階であることが望ましい。
【００３１】
前記第１異形フィルムの一面に薄膜トランジスタを附着させる段階は、前記第１異形フィルムを外周面にそれぞれ相異なっている薄膜トランジスタ形成用樹脂が供給される複数個の印刷ローラーを通過させながら順次に薄膜トランジスタ構造を設定されたパターンに積層するようにしたことが良い。
【００３２】
前記薄膜トランジスタが附着した第２異形フィルムの面を基板に附着させる段階は、前記基板の一側で加圧ローラーで前記第２異形フィルムを前記基板に対して加圧して前記薄膜トランジスタを基板に転写させるようにしたことが望ましい。
【００３３】
前記光学／電子構造物は薄膜層として、前記第１段階で前記異形フィルムの一面にプリンティング方式で薄膜層を形成して、前記第１段階の遂行以後に前記基板またはフィルム面にＩＴＯ層を蒸着する段階を遂行して、前記第３段階を経りながら前記ＩＴＯ層上に前記異形フィルムの薄膜層を転写するようにして、前記薄膜層は有機発光ダイオードまたは高分子発光ダイオードを形成する有機薄膜層であった方が良い。
【００３４】
前記第２段階または第３段階の過程を遂行した後、熱処理紫外線または紫外線硬化処理を遂行して前記各薄膜層の間の界面接着力を増大させることができるし、前記フィルムと異形フィルムとを相互一定距離に離隔されて回転する複数個の加圧ローラーを順次に通過させながらフィルムに薄膜層を連続して転写及び積層した方が良い。
【００３５】
前記光学／電子構造物はイン―セル位相差フィルムとして、前記第１段階は前記異形フィルムの一面にイン―セル位相差フィルムを附着する段階で、前記第２段階は前記イン―セル位相差フィルムが附着した前記異形フィルムの面を基板または前記基板に形成されたカラーフィルター上に附着させる段階であり、前記第３段階は前記イン―セル位相差フィルムが基板または前記基板に形成されたカラーフィルター上に転写された状態で前記異形フィルムだけ前記基板で分離する段階であることが望ましい。
【００３６】
前記第１段階後に前記異形フィルムのイン―セル位相差フィルム上にＩＴＯ層を形成する段階をさらに含み、前記第１段階は相互接した複数個のローラーの間を前記異形フィルムと前記イン―セル位相差フィルムを同時に通過させながら加圧して前記異形フィルムに前記イン―セル位相差フィルムを合着させた方が良い。
【００３７】
前記光学／電子構造物は光経路変化手段として、前記第１段階は異形フィルムに光経路変化手段を附着させる段階で、前記第２段階は前記異形フィルムの光経路変化手段が附着した面に偏光フィルムを附着させる段階であり、前記第３段階は前記偏光フィルムと異形フィルムの接合体で前記異形フィルムを分離させながら前記偏光フィルムと前記光経路変化手段を基板に接合させる段階で、前記第１段階は前記異形フィルムに少なくとも一つのレンズパターンを附着させる段階及び前記レンズパターンが附着した前記異形フィルムの面に接着剤を塗布する段階で構成された方が良い。
【００３８】
前記第１段階の中で異形フィルムに少なくとも一つのレンズパターンを附着させる段階は、樹脂供給ローラーにレンズパターン用樹脂を供給する段階と、前記樹脂供給ローラーが回転しながら樹脂供給ローラーと連接して回転する前記パターン形成ローラーの成形溝でレンズパターン用樹脂を伝達する段階と、前記パターン形成ローラーが回転しながらパターン形成ローラーと連接して回転するブランケットローラー（blanket roller）の外周面に成形溝内に収容されていた前記レンズパターン用樹脂を伝達する段階と、前記ブランケットローラーが回転しながらブランケットローラーと前記ブランケットローラーに連接して回転する加圧ローラーの間をパスする前記異形フィルムの一面にパターニングされたレンズパターン用樹脂を伝達してレンズパターンを形成する段階とを含むのが望ましい。
【００３９】
前記第１段階の中で異形フィルムに少なくとも一つのレンズパターンを附着させる段階は、レンズパターンと対応するパターンを持つ複数個の成形溝が形成された成形ローラーにレンズパターン用樹脂を供給する段階と、前記異形フィルムが前記成形ローラーの外周面に密着されながら進行するようにする段階と、前記異形フィルムが前記成形ローラーの外周面に密着されながら進行する途中紫外線を照射して前記成形ローラーの成形溝内側に収容されたレンズパターン用樹脂を硬化させる段階とを含みと、前記異形フィルムが前記成形ローラーと分離する時前記成形ローラーの成形溝内側に収容されたレンズパターン用樹脂が成形溝で分離しながら前記異形フィルムに附着した方が良い。
【００４０】
前記第１段階は前記異形フィルムに少なくとも一つのレンズパターンが凹凸形態に形成されるように第１接着剤層を塗布する段階と、前記第１接着剤層のレンズパターンの間に前記第１接着剤層より低い屈折率を持つ第２接着剤層を塗布する段階とで構成されて、前記第２段階は前記異形フィルムと偏光フィルムを相互一定距離で離隔されて回転する少なくとも一つの加圧ローラーの間で通過させて前記異形フィルムと偏光フィルムを相互接合させる工程で成り立って、光学的視覚不良を解消するための前記レンズパターンの高く補正を行う段階をさらに含むことが望ましい。
【００４１】
接着剤が塗布されている異形フィルムの第１面に光学／電子構造物を附着させる第１段階と、前記光学／電子構造物が附着した異形フィルムの第１面に別途の接着剤を追加的に塗布する第２段階と、前記異形フィルムの第１面に光学的特性または電子的特性を付与するための樹脂を塗布して硬化させてベースフィルムを形成する第３段階と、前記ベースフィルムで異形フィルムだけ分離する第４段階と、前記ベースフィルムをディスプレー装置の基板または他のフィルムに附着させる第５段階を含んだ方が良い。
【００４２】
また、前記光学／電子構造物は半球型のドーム（ｄｏｍｅ）形状または多角形凹凸形状で、光の進行経路を変更させる複数個のマイクロレンズであり、前記第２段階で追加に塗布される別途の接着剤は前記マイクロレンズより高い１．５〜１．６５の屈折率を持つことが望ましい。
【発明の効果】
【００４３】
このような本発明によれば、光学／電子構造物が１次的に異形フィルムに附着した後ディスプレー装置の基板またはフィルムに移されて附着するので所定形状のマイクロレンズ、カラーフィルター、偏光層、ＩＴＯ層などの特定の光学的特性を付与するための光学構造物や基板またはフィルム表面にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）、イン―セル位相差フィルムのような電極パターンや回路などの電子構造物など、所望の形態の光学／電子構造物をディスプレー装置の基板またはフィルムに非常に容易く形成することができるし、均一な形状と大きさの光学／電子構造物を形成することができる。
【００４４】
また、ディスプレー装置に直接紫外線（ＵＶ）のような光線を照射しなくてもディスプレー装置に光学／電子構造物を附着させることができるのでディスプレー装置の素子の劣化を防止することができる利点もある。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明に係る光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法を説明する順序図。
【図２】図１の製造方法を図式化して示す図面。
【図３】本発明に係るディスプレー装置の製造方法の一つの実施例として導光板の両面に光学構造物を形成する方法を概略的に示す図面。
【図４】図３の変形例として導光板の両面に光学構造物を等しい方向で形成したことを示す図面。
【図５】本発明によるディスプレー装置の製造方法の他の実施例として有機発光ダイオードの基板の出射面に光学構造物を直接形成する方法を示す図面。
【図６】図５の変形例を示す図面。
【図７】本発明に係るディスプレー装置製造方法によって具現される液晶表示装置の構成の一例を概略的に示す斜視図。
【図８】図７の液晶表示装置の製造方法の一つの実施例を説明する順序図。
【図９】本発明に係る液晶表示装置の製造方法の中で異形フィルムにブラックマットリックス及びカラーフィルターを形成する方法の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図１０】本発明に係る液晶表示装置の製造方法の中で異形フィルムにブラックマットリックス及びカラーフィルターを形成する方法の他の実施例を概略的に示す構成図。
【図１１】本発明に係る液晶表示装置の製造方法の中で異形フィルムにブラックマットリックス及びカラーフィルターを形成する方法のまた他の実施例を概略的に示す構成図。
【図１２】本発明に係る液晶表示装置の製造方法の中で異形フィルムに形成されたブラックマットリックス及びカラーフィルターを基板に転写する方法の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図１３】本発明に係るディスプレー装置製造方法によって具現される有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）の構成の一つの実施例を概略的に示す要部断面図。
【図１４】本発明に係るディスプレー装置製造方法によって具現される有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）の構成の他の実施例を概略的に示す要部断面図。
【図１５】一般的な液晶ディスプレー装置の構成を概略的に示す図面。
【図１６】図１５の液晶ディスプレー装置の薄膜トランジスタの構造の一つの実施例を示す要部断面図。
【図１７】本発明に係る液晶ディスプレー装置の薄膜トランジスタ製造方法を示す順序図。
【図１８】本発明の液晶ディスプレー装置の薄膜トランジスタ製造方法の中で異形フィルムに薄膜トランジスタを形成する装置の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図１９】図１８の装置の一部構成をさらに詳しく示す要部断面図。
【図２０】液晶ディスプレー装置の薄膜トランジスタの構造の他の実施例を示す要部断面図。
【図２１】図２０の薄膜トランジスタを異形フィルムに形成するための装置の構成の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図２２】薄膜トランジスタが形成された異形フィルムに他の異形フィルムを合着する状態を示す要部断面図。
【図２３】異形フィルムの薄膜トランジスタを基板に転写する工程の一つの実施例を示す要部断面図。
【図２４】本発明に係るディスプレー装置の製造方法の一つの実施例を示す順序図。
【図２５】高分子発光ダイオード（ＰＬＥＤ）の構成を示す断面図。
【図２６】本発明に係る高分子発光ダイオード（ＰＬＥＤ）の製造方法の一つの実施例として異形フィルムに有機薄膜層を製造するための装置の一つの実施例を示す構成図。
【図２７】本発明に係る高分子発光ダイオード（ＰＬＥＤ）の製造方法の一つの実施例として異形フィルムに塗布された有機薄膜層を電極フィルムに転写するための装置の一つの実施例を示す構成図。
【図２８】一般的なイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の構成の一例を概略的に示す断面図。
【図２９】本発明に係るイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の製造方法の一つの実施例を説明する順序図。
【図３０】本発明に係るイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の製造方法の中で異形フィルムにイン―セル位相差フィルムを合着させる段階の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図３１】本発明に係るイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の製造方法の中で異形フィルムのイン―セル位相差フィルム上にＩＴＯ層をコーティングさせる段階の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図３２】イン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の製造方法の中で異形フィルムのイン―セル位相差フィルム及びＩＴＯ層上に他の異形フィルムを合着させる段階の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図３３】本発明に係るイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の製造方法の中で異形フィルムのイン―セル位相差フィルム及びＩＴＯ層を基板のカラーフィルターに転写させる段階の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図３４】本発明に係るディスプレー装置の主要構成の一つの実施例を概略的に示す要部断面図。
【図３５】図３４に図示されたディスプレー装置の製造方法の一つの実施例を説明する順序図。
【図３６】図３５のディスプレー装置製造方法の中で異形フィルムにレンズパターンを附着する方法の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図３７】図３５のディスプレー装置製造方法の中で異形フィルムにレンズパターンを附着する方法の他の実施例を概略的に示す構成図。
【図３８】図３５のディスプレー装置製造方法の中で異形フィルムと偏光フィルムを合着して、偏光フィルムをガラス基板に接着する方法の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図３９】本発明に係るディスプレー装置の他の実施例を概略的に示す要部断面図。
【図４０】図３４に図示されたディスプレー装置の製造方法の一つの実施例を説明する順序図。
【図４１】光学構造物が形成されたディスプレー装置の構造を示す要部断面図。
【図４２】図４１のディスプレー装置を製造する方法の実施例を示す図面。
【発明を実施するための形態】
【００４６】
本発明の前記のような目的、特徴及び他の長所は添付図面を参照して本発明の望ましい実施例を詳しく説明することでさらに明らかになる。以下、添付された図面を参照して本発明による光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法の実施例を詳しく説明する。
【００４７】
まず、図１と図２は本発明によるディスプレー装置の製造方法の一番目実施例を説明する図面で、この実施例によるディスプレー装置の製造方法は、接着剤が塗布されている異形フィルムＲの第１面の接着剤層Ａに光学／電子構造物Ｌを形成する第１段階Ｓ１１と、前記異形フィルムＲの第１面の接着剤層Ａを基板Ｓまたはフィルムに附着させる第２段階Ｓ１２と、前記光学／電子構造物Ｌが基板Ｓまたはフィルムに附着した状態で前記異形フィルムＲだけ基板Ｓまたはフィルムで分離して異形する第３段階Ｓ１３で構成される。
【００４８】
図２の図面（Ａ）と（Ｂ）は前記段階Ｓ１１を示し、図２の（Ｃ）は前記段階Ｓ１２を示し、図２の（Ｄ）と（Ｅ）は前記段階Ｓ１３を概略的に示す。
【００４９】
図３はくだんの一番目実施例の製造方法によって導光板１０の両面に光学構造物であるマイクロレンズＬを形成する過程をもうちょっと具体的に図示している。
【００５０】
図３を参照すれば、コンベヤーシステムのような返送装置（図示せず）によって水平移動するように設置された導光板１０の上側に異形フィルムＲの接着剤塗布面にマイクロレンズＬを形成するための上部成形ローラー１０１が回転可能に設置されて、導光板１０の上側に異形フィルムＲの接着剤塗布面を導光板１０の上部面に対して加圧するための複数個の上部プレスローラー１０５が回転可能に設置されている。前記上部成形ローラー１０１の一側には上部成形ローラー１０１外周面の成形溝の内側にマイクロレンズ形成用樹脂（ｒｅｓｉｎ）を供給する樹脂供給機１０２が配置されて、上部成形ローラー１０１の他の一側には上部成形ローラー１０１の成形溝に収容されたマイクロレンズ形成用樹脂を硬化させるＵＶ硬化装置１０３が配置される。
【００５１】
そして、前記導光板１０の下部にも上部と同じく下部成形ローラー１１１と下部プレスローラー１１５、樹脂供給機１１２、ＵＶ硬化装置１１３が構成されている。
【００５２】
図面に図示しなかったが、前記導光板１０の移動経路の上部と下部それぞれには上部成形ローラー１０１及び下部成形ローラー１１１にそれぞれ供給される異形フィルムＲが巻取れれる供給ローラーと、導光板１０を経ちながら分離する異形フィルムＲが回収される回収ローラーが設置されている。
【００５３】
また、前記上、下部プレスローラー１０５、１１５の後方部には導光板１０の方で熱を加える上、下部予熱装置１２１、１２２と、導光板１０で紫外線（ＵＶ）を照射するＵＶ硬化装置１２５が順に配置される。
【００５４】
前記のように構成された装置を利用して導光板１０の両面にマイクロレンズＬを形成する工程を詳しく説明すれば次のようになる。
【００５５】
供給ローラー（図示せず）で解け出た異形フィルムＲは上部成形ローラー１０１の外周面の下部に密着されながらパスする。この時、上部成形ローラー１０１の上側で樹脂供給機１０２を通じてマイクロレンズ形成用樹脂が供給される。供給された樹脂は上部成形ローラー１０１の外周面に形成された半球型ドーム形状の成形溝内側に収容された後、ＵＶ硬化装置１０３で照射される紫外線によって硬化された後、下側で異形フィルムＲの接着剤塗布面に接着されながら異形フィルムＲの接着剤塗布面で移される。
【００５６】
前記上部成形ローラー１０１を経ちながら一面にマイクロレンズＬが附着した異形フィルムＲは上部プレスローラー１０５と導光板１０の上部なら間をパスするようになる。この時、異形フィルムＲが上部プレスローラー１０５によって加圧されて異形フィルムＲの接着剤塗布層が導光板１０の上部面に接着される。
【００５７】
そして、前記上部プレスローラー１０５をパスした異形フィルムＲは回収ローラー（図示せず）に巻取られるので、この時マイクロレンズＬが形成されている異形フィルムＲの接着剤塗布層が導光板１０の上部面に接着されているので異形フィルムＲだけ分離してマイクロレンズＬが附着した接着剤塗布層は導光板１０にそのまま残っているようになる。
【００５８】
これと等しい過程で前記下部成形ローラー１１１と下部プレスローラー１１５などによって前記導光板１０の下部面にもマイクロレンズＬが形成された接着剤塗布層が接着される。
【００５９】
前記のように上、下部面にマイクロレンズＬが形成された導光板１０は後方に配置された上、下部予熱装置１２１、１２２とＵＶ硬化装置１２５を順にパスしながら導光板１０の面に堅固に固着する。
【００６０】
このような過程を通じて上、下部面にマイクロレンズＬが形成された導光板１０が作られる。勿論、この実施例では導光板１０の上、下部面の皆に光学構造物として半球型のドーム形状を持つマイクロレンズＬが形成されるが、導光板１０の一面にだけ光学構造物が形成されるとか、導光板１０の上部面と下部面にそれぞれマイクロレンズとプリズムパターンなど相異なっている大きさと形態の光学構造物が形成されることもできる。
【００６１】
そして、くだんの実施例では導光板１０の上、下部面にマイクロレンズＬらがお互いに反対方向に形成されるが、図４に図示されたように、成形ローラーの構成と配置を適切に変更して導光板１０の下部面に供給される異形フィルムＲを以前とは反対に覆して供給することで導光板１０の上、下部面にマイクロレンズが等しい方向に配置されるようにすることもできる。勿論、この反対でも可能だろう。
【００６２】
また、くだんの実施例で提示された導光板１０に光学構造物を形成する方式と等しい方式で他のディスプレー装置の基板またはフィルムにも光学構造物を形成することができる。
【００６３】
例えば、図５に図示されたように、異形フィルムＲの接着剤塗布層にマイクロレンズＬのような光学構造物を形成した後、前記異形フィルムＲの接着剤塗布層を有機発光ダイオード３０の基板３１の出射面に接着させた後異形フィルムＲを分離することで出射面にマイクロレンズＬが形成された有機発光ダイオード３０を具現することができる。
【００６４】
そして、図６に図示されたように、異形フィルムＲの接着剤塗布層にマイクロレンズＬのような光学構造物を形成して、前記マイクロレンズＬを偏光フィルムＰに移して附着させた後、前記マイクロレンズＬが附着した偏光フィルムＰを有機発光ダイオード３０の基板３１面に附着させることもできる。
【００６５】
すなわち、レンズ成形ローラー１３１を通じて異形フィルムＲの一面にマイクロレンズＬを形成した後、一面に接着剤が塗布されている偏光フィルムＰと前記異形フィルムＲを合着ローラー１３３の間を通じて進行させて偏光フィルムＰと異形フィルムＲを合着させる。引き継いで、前記異形フィルムＲを前記偏光フィルムＰから分離させれば、異形フィルムＲに附着していたマイクロレンズＬが偏光フィルムＰの接着剤塗布面に移されて附着して、偏光フィルムＰは一面にマイクロレンズＬが附着した状態で有機発光ダイオード３０の基板３１出射面に供給されて、この後プレスローラー１３５によって有機発光ダイオード３０の基板３１出射面に堅固に附着する。
【００６６】
この時、前記偏光フィルムＰの一面に塗布されている接着剤ＡとマイクロレンズＬは光抽出効率を進めるように前記マイクロレンズＬは前記基板３１の屈折率より高い屈折率を持つ樹脂で成り立って、前記接着剤Ａは前記マイクロレンズＬの屈折率より高い１．５〜１．６５の屈折率を持つ樹脂物で成り立ったのが望ましい。
【００６７】
勿論、この実施例では偏光フィルムＰにマイクロレンズＬを形成して有機発光ダイオード３０に附着させているが、偏光フィルムＰ代わりに保護フィルムやその他光学フィルムを使うこともできる。
【００６８】
次に、図７ないし図１４を参照して本発明によるディスプレー装置の一例として液晶表示装置（ＬＣＤ）を製造する方法の一つの実施例を説明する。
【００６９】
図７を参照して液晶表示装置の構成の一例に対して説明する。
【００７０】
液晶表示装置は上部基板１００１と下部基板１００２を具備する。前記上部基板１００１の下面にはブラックマットリックス１００４及びカラーフィルター１００５が本発明のディスプレー装置製造方法によって形成されて、前記カラーフィルター１００５の下側にはＳｉＯ２保護膜層１００６及びＩＴＯ層１００７が順に積層される。前記下部基板１００２の上面にはＩＴＯ層１００９とＴＦＴ階１００３が順に形成される。そして、前記上部基板１００１と下部基板１００２の間には液晶（図示せず）が注入される構造で成り立つ。
【００７１】
次に、図８ないし図１２を参照して上述した構造の液晶表示装置を製造する方法の一つの実施例を詳しく説明する。
【００７２】
図８に図示されたように本発明によるディスプレー装置製造方法は大きく異形フィルムの一面にブラックマットリックスとカラーフィルターを順次に形成する第１段階Ｓ１００１と、前記異形フィルムのブラックマットリックスとカラーフィルターが形成された面を基板に附着させる第２段階Ｓ１００２と、前記ブラックマットリックスとカラーフィルターが基板に転写された状態で異形フィルムだけ基板で分離する第３段階Ｓ１００３で成り立つ。
【００７３】
前記第１段階Ｓ１００１は図９に図示されたことのようなオフセット（off-set）技術とローラースクライビング（roller scribing）技術を混合した方式のブラックマットリックス成形装置１０１０とカラーフィルター成形装置１０２０を利用して成り立つことができる。
【００７４】
もうちょっと具体的に説明すれば、異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４を形成するためのブラックマットリックス成形装置１０１０は、ブラックマトリックス用樹脂１００４ａが盛られた樹脂供給部１０１１と、前記樹脂供給部１０１１の上側に回転可能に設置されて下端部外周面が前記樹脂供給部１０１１に盛られたブラックマトリックス用樹脂１００４ａに掛かられる樹脂供給ローラー１０１２と、前記樹脂供給ローラー１０１２の上側に連接するように設置されて外周面にブラックマットリックス１００４と対応するパターンのパターン溝１０１４が形成されて前記樹脂供給ローラー１０１２の外周面からパターン溝１０１４内側で樹脂を伝達受けるパターン形成ローラー１０１３と、前記パターン形成ローラー１０１３の上側に連接するように設置されてパターン形成ローラー１０１３のパターン溝１０１４から樹脂を伝達受けるブランケットローラー１０１５（blanket roller）と、前記ブランケットローラー１０１５の上側に連接するように設置されてブランケットローラー１０１５の外周面をパスする異形フィルムＦをブランケットローラー１０１５に対して加圧してブラックマットリックス樹脂を異形フィルムＦに接合させる加圧ローラー１０１６を含んで構成される。
【００７５】
前記パターン形成ローラー１０１３の一側にはパターン形成ローラー１０１３の外面に塗布された樹脂がパターン溝１０１４以外の部分に居残らないように掻き出すスクライバー１０１７が設置される。そして、前記ブランケットローラー１０１５の一側にはブランケットローラー１０１５の外周面で紫外線（ＵＶ）を照射してブラックマットリックス樹脂１００４ａを硬化させるＵＶ硬化装置１０１８が設置される。
【００７６】
異形フィルムＦにカラーフィルター１００５を形成するためのカラーフィルター成形装置１０２０はブラックマットリックス成形装置１０１０と等しくＲ、Ｇ、Ｂカラーフィルターの中である一カラーフィルター用樹脂１００５ａが盛られた樹脂供給部１０２１、樹脂供給ローラー１０２２、パターン形成ローラー１０２３、ブランケットローラー１０２５、加圧ローラー１０２６、スクライバー１０２７、ＵＶ硬化装置１０２８などで構成される。勿論、図面には一つのカラーフィルター成形装置１０２０だけ図示されているが、このカラーフィルター成形装置１０２０の一側に他の二つのカラーフィルター成形装置が等しく構成されて異形フィルムＦの一面にカラーフィルターを連続的に形成されるであろう。
【００７７】
前記のように構成されたブラックマットリックス成形装置１０１０によって異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４が形成される過程を説明すれば次のようになる。
【００７８】
樹脂供給ローラー１０１２が回転すれば樹脂供給ローラー１０１２の外周面に樹脂供給部１０１１のブラックマトリックス用樹脂１００４ａが塗布される。この時、前記パターン形成ローラー１０１３は樹脂供給ローラー１０１２と反対方向で回転しながら樹脂供給ローラー１０１２に塗布されたブラックマットリックス樹脂１００４ａの伝達を受ける。
【００７９】
前記パターン形成ローラー１０１３で伝達したブラックマットリックス樹脂１００４ａはスクライバー１０１７を経ちながらパターン溝１０１４外側に塗布されたものなどは除去されてパターン溝１０１４内側に収容されたことだけ居残るようになる。
【００８０】
前記パターン形成ローラー１０１３のパターン溝１０１４内側に収容されていたブラックマットリックス樹脂１００４ａはブランケットローラー１０１５と連接する部分で表面エネルギーがパターン形成ローラー１０１３に比べて相対的に高いブランケットローラー１０１５の外周面に移されるようになる。
【００８１】
前記ブランケットローラー１０１５に移されたブラックマットリックス樹脂１００４ａはＵＶ硬化装置１０１８によって硬化されてどの位の粘性を持つようになって、以後加圧ローラー１０１６とブランケットローラー１０１５の間をパスする異形フィルムＦの一面に接合される。
【００８２】
これと等しい過程で異形フィルムＦがカラーフィルター成形装置１０２０のブランケットローラー１０２５と加圧ローラー１０２６の間をパスしながら指定された位置にカラーフィルター１００５が形成される。
【００８３】
くだんのようにオフセット技術とローラースクライビング技術を混合した方式で異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を塗布する場合、正確なパターンで印刷が成り立つことができる利点がある。
【００８４】
勿論、これと違うに図１０に図示したように、ロールプリンティング方式を適用したブラックマットリックス成形装置１１１０及びカラーフィルター成形装置１１２０を利用して異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を連続して形成することができる。
【００８５】
図１０に図示されたブラックマットリックス成形装置１１１０はブラックマットリックス１００４と対応するパターンの成形溝１１１２が形成された成形ローラー１１１１と、この成形ローラー１１１１の上側でブラックマトリックス用樹脂１００４ａを供給する樹脂供給部１１１６と、前記成形ローラー１１１１の両側に連接するように設置された一番の加圧ローラー１１１３、１１１４と、前記成形ローラー１１１１の外周面に塗布された樹脂を掻いて成形ローラー１１１１の成形溝１１１２にだけ樹脂が居残るようにするスクライバー１１１７と、前記成形ローラー１１１１の一側で樹脂を硬化させるための紫外線（ＵＶ）を照射するＵＶ硬化装置１１１５を含んで構成される。
【００８６】
前記ブラックマットリックス成形装置１１１０の一側には異形フィルムＦにカラーフィルター１００５を形成するためのカラーフィルター成形装置１１２０が構成されて、このカラーフィルター成形装置１１２０はブラックマットリックス成形装置１１１０と等しくカラーフィルターパターンと対応する成形溝１１２２が形成された成形ローラー１１２１と、加圧ローラー１１２３、１１２４、ＵＶ硬化装置１１２５、樹脂供給部１１２６、スクライバー１１２７などで構成される。図１０には一つのカラーフィルター成形装置１１２０だけ図示されているが、このカラーフィルター成形装置１１２０の一側にｎ個のカラーフィルター成形装置が構成されることができる。ここでｎは定数でその制限がないが、３ないし５で構成するのが望ましい。例えば、前記ｎ個のカラーフィルター成形装置は３個である場合、ＲｅｄＲ、Ｇｒｅｅｎ（Ｇ）及びＢｌｕｅ（Ｂ）、４個である場合、Ｒ、Ｇ、Ｂ及びＹｅｌｌｏｗ（Ｙ）、５個である場合、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｙ及びＷｈｉｔｅ（Ｗ）などで構成されることができる。よって、カラーフィルター成形装置１１２０は他の色相のｎ個のカラーフィルター成形装置が等しく構成されて異形フィルムＦの一面にカラーフィルターを連続的に形成することができる。
【００８７】
このように構成されたブラックマットリックス成形装置１１１０とカラーフィルター成形装置１１２０を利用して異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４及びカラーフィルター１００５を形成する工程は次のように成り立つ。
【００８８】
図１０に図示したように異形フィルムＦが成形ローラー１１１１及び加圧ローラー１１１３、１１１４の間をパスしながら成形ローラー１１１１に密着されて進行するようにした状態でブラックマットリックス成形装置１１１０の成形ローラー１１１１上側で一方向に回転する成形ローラー１１１１の外面にブラックマトリックス用樹脂１００４ａを供給する。
【００８９】
前記成形ローラー１１１１の外面に供給されたブラックマットリックス樹脂１００４ａはスクライバー１１１７によって掻かれながら成形溝１１１２内側にだけ居残るようになる。前記成形ローラー１１１１の成形溝１１１２内側に収容されたブラックマットリックス樹脂１００４ａは成形ローラー１１１１と異形フィルムＦが剥離される地点で異形フィルムＦに移されて接着されて、こういうわけで異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４が決まったパターンに形成される。
【００９０】
前記のようにブラックマットリックス１００４パターンが塗布された異形フィルムＦは一側のカラーフィルター成形装置１１２０に移動して、ブラックマットリックス成形装置１１１０と等しい過程で異形フィルムＦにＲ、Ｇ、Ｂ、Ｙ、Ｗの中の一つのカラーフィルター１００５が所望のパターンに塗布される。
【００９１】
以後、異形フィルムＦは図面に図示されなかった他のカラーフィルター成形装置を通りながら他の色相のカラーフィルター１００５が所望のパターンに塗布される。
【００９２】
図１１は異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４及びカラーフィルター１００５を形成するまた他の方法を示し、この実施例のブラックマットリックス及びカラーフィルター成形装置は異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４を形成するための制１成形ローラー１２１０と、青色系列Ｂカラーフィルター１００５を形成するための制２成形ローラー１２２０、緑系列Ｇカラーフィルター１００５を形成するための制３成形ローラー１２３０、赤色系列Ｒカラーフィルター１００５を形成するための制４成形ローラー１２４０を連続的にパスするようにして、異形フィルムＦの接着剤塗布層にブラックマットリックス１００４と青色Ｂカラーフィルター、緑Ｇカラーフィルター、赤色Ｒカラーフィルターを順次に形成する。
【００９３】
前記第１〜４成形ローラー１２１０〜１２４０の外周面にはそれぞれ形成しようとするブラックマットリックスとカラーフィルターパターンと対応する形態の成形溝（図示せず）が形成されて、この成形溝を通じてブラックマトリックス用樹脂及びカラーフィルター形成用樹脂が供給されて異形フィルムＦの一面に接着される。
【００９４】
図９ないし図１１を参照して説明した方式の中でどの一つの方式を選択して異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５が形成されれば、異形フィルムＦのブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を基板に転写する工程を遂行する。
【００９５】
例えば、図１２に図示したように、基板１００１を一方向で水平移動するように構成して、基板１００１の上側に複数個の加圧ローラー１３１０を構成して、異形フィルムＦが基板１００１と加圧ローラー１３１０の間を経ちながら加圧ローラー１３１０によって加圧されるように構成して、異形フィルムＦが加圧ローラー１３１０によって加圧されながら異形フィルムＦのブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５が基板１００１の面にそのまま転写されるようにした後、異形フィルムＦを分離して基板１００１面にブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を積層させる。
【００９６】
前記のように基板１００１面にブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を積層させた後、ＵＶ硬化装置１３１１及び／またはヒーティング装置１３１２を利用して基板１００１に紫外線を照射するとか熱を加えてブラックマットリックス１００４及びカラーフィルター１００５と基板１００１面の間の界面接着力を増大させる作業を遂行するのが望ましい。
【００９７】
このように本発明によれば、異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を正確なパターンで形成した後、異形フィルムＦに形成されたブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を液晶表示装置の基板１００１面にそのまま転写して接着させることで基板１００１面にブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５が形成される。よって、基板１００１面にブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を形成する工程が非常に単純化されて、基板１００１面に正確なパターンでブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を形成することができるようになってハイクオリティーの液晶表示装置を具現することができるようになる。
【００９８】
次に、図１３を参照してディスプレー装置としてカラーフィルターを適用した有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）の構造及びその製造方法の一つの実施例を説明する。
【００９９】
図１３はカラーフィルターを適用した有機発光ダイオードの構造を示し、この実施例の有機発光ダイオードは、基板１０５１と、この基板１０５１の前方面に形成されるカラーフィルター１０５２及びブラックマットリックス１０５３と、前記カラーフィルター１０５２及びブラックマットリックス１０５３を覆って保護する保護膜１０５６と、前記保護膜１０５６の後面に接着剤１０５７によって附着する偏光膜１０５８と、前記基板１０５１の後方面に形成されるＩＴＯ電極層１０５４と、前記ＩＴＯ電極層１０５４に形成される有機発光素子１０５５を含む。
【０１００】
前記有機発光素子１０５５は電子注入層（electron injection layer）と電子運送層（electron transfer layer）、有機発光層（emitting layer）、正孔運送層（hole transfer layer）、正孔注入層（hole injection layer）などで成り立って、カラーフィルター個別画素（ｐｉｘｅｌ）当り赤色Ｒ、緑Ｇ、青色Ｂ波長の光をそれぞれ放出する３個ずつのサーブピクセルで構成されて白色光を具現するようになっている。前記有機発光素子１０５５によって発散された白色光は前記カラーフィルター１０５２によってピルトリングドエオ各画素に当たった波長だけが外部に放出されて、有機発光ダイオードのフルカラーを具現する。
【０１０１】
前記カラーフィルター１０５２はカラーフィルター１０５２及び偏光膜１０５８を通じて透過される光の量を増大させることができるように通常のカラーフィルター１０５２の屈折率（約１．５より高い１．５５以上のその屈折率を持つ材料で成り立つのが望ましい。前記カラーフィルター１０５２が１．５５以上の高屈折率素材で成り立つ場合、基板１０５１を通じて出射されてカラーフィルター１０５２に入射された光の屈折角がズルオドムと同時にカラーフィルター１０５２と偏光膜１０５８の間の臨界角が増加されて、図面に図示したように基板１０５１をパスした光がカラーフィルター１０５２と偏光膜１０５８の界面をパスする確率が増加するようになる。
【０１０２】
前記カラーフィルター１０５２とブラックマットリックス１０５３はくだんの液晶表示装置の製造方法と等しい方式で異形フィルムＦ（図９参照）に印刷した後、その上に保護膜１０５６と接着剤１０５７と偏光膜１０５８が順に塗布された後、異形フィルムＦ上のカラーフィルター１０５２とブラックマットリックス１０５３、保護膜１０５６、接着剤１０５７、偏光膜１０５８が基板１０５１に一緒に転写される方式で基板１０５１の前方面に接着されることができる。
【０１０３】
勿論、これと違うように異形フィルムＦにカラーフィルター１０５２とブラックマットリックス１０５３形成して、他の異形フィルムＦに保護膜１０５６と接着剤１０５７と偏光膜１０５８を形成した後、基板１０５１の前方面にカラーフィルター１０５２とブラックマットリックス１０５３を先に転写して、保護膜１０５６と接着剤１０５７と偏光膜１０５８をその後に転写する方式でディスプレー装置を製造することもできる。
【０１０４】
異形フィルムＦに前記カラーフィルター１０５２とブラックマットリックス１０５３、保護膜１０５６、接着剤１０５７、偏光膜１０５８を形成する方法はくだんの液晶表示装置の製造方法に対する実施例と同一または似たり寄ったりに成り立つことができるところ、これに対する詳細な説明は略する。
【０１０５】
また、図１４は本発明のディスプレー装置の製造方法によって具現されることができる有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）の構造の他の実施例を示し、この実施例の有機発光ダイオードは図１３を参照して説明した有機発光ダイオードの基本的な構造と等しいが、ただそれぞれの個別画素のサーブピクセルを構成する有機発光素子１０５５が皆白色光（Ｗ）を発散する点で差がある。
【０１０６】
前記のように有機発光素子１０５５が皆白色光Ｗを発散するように構成される場合、くだんの実施例の有機発光ダイオードに比べて寿命を増大させることができるし、色再現性の向上する利点がある。すなわち、くだんの実施例の有機発光ダイオードと一緒に有機発光素子１０５５が赤色Ｒ、緑Ｇ、青色Ｂで成り立った場合青色（Ｂ）の有機発光素子１０５５は他の色の有機発光層に比べて寿命が短いから有機発光ダイオード全体の寿命を縮めさせて色再現性を低下させるが、この実施例とように有機発光素子１０５５を皆白色Ｗで構成する場合寿命が均一で長くなる利点を得ることができるようになる。
【０１０７】
勿論、この実施例の有機発光ダイオードのカラーフィルター１０５２とブラックマットリックス１０５３、保護膜１０５６、接着剤１０５７、偏光膜１０５８はくだんの実施例と等しく異形フィルムＦに先に塗布された後基板１０５１に転写されて接着される方式で基板１０５１面に均一で正確に形成される。
【０１０８】
次に、添付された図面を参照して本発明による液晶ディスプレー装置の薄膜トランジスタ製造方法の望ましい実施例を詳しく説明する。
【０１０９】
まず、図１５と図１６を参照して液晶ディスプレー装置の構造を手短に説明すれば次のようになる。
【０１１０】
図１５に図示されたように、液晶ディスプレー装置はアレイ基板２０１０とカラーフィルター基板２０２０が対向して構成されて、アレイ基板２０１０とカラーフィルター基板２０２０の間には液晶層２０３０が介在されている。
【０１１１】
前記アレイ基板２０１０は透明なガラス基板２０１１に正義された複数の画素Ｐごとに薄膜トランジスタＴと共通電極（図示せず）と画素電極２０１２が構成されている。
【０１１２】
前記共通電極（図示せず）と画素電極２０１２はアレイ基板２０１０上にお互いに一直線に離隔して構成されている。そして、前記画素Ｐの一側に付いて延長されたゲートライン２０１３と、これとは垂直した方向で延長されたデータライン２０１４が構成されて、前記共通電極（図示せず）に電圧を認可する共通配線（図示せず）が構成される。
【０１１３】
前記カラーフィルター基板２０２０には透明なガラス基板上に前記ゲートライン２０１３とデータライン２０１４と薄膜トランジスタＴに対応する部分にブラックマットリックス２０２１が構成されて、前記画素Ｐに対応してカラーフィルター２０２２が構成されている。
【０１１４】
前記薄膜トランジスタＴは図１６に図示されたようにゲート電極２００１と、ゲート電極２００１上部に絶縁膜２００２を間に置いて構成されたアクティブ層２００３、２００４（active layer）と、アクティブ層２００３、２００４の上部にお互いに離隔して構成されたソース電極２００５及びドレーン電極２００６と、ソース電極２００５及びドレーン電極２００６の上部を取り囲む酸化防止膜２００７を含む。前記アクティブ層２００３、２００４は非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ）階２００３とｎ＋非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ）階２００４で成り立つことができる。
【０１１５】
前記ゲート電極２００１はクロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、銅（Ｃｕ）、ＩＴＯなどの金属で成り立つことができるし、絶縁膜２００２はＳｉＮｘに成り立つことができる。そして、ソース電極２００５及びドレーン電極２００６はクロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、銅（Ｃｕ）などの金属で成り立って、酸化防止膜２００７はＳｉＮｘに成り立つことができる。前記酸化防止膜２００７はおおよそ２５００Åの厚さに形成されることが望ましい。
【０１１６】
前記液晶層２０３０は前記共通電極（図示せず）と画素電極２０１２の水平電界によって動作される。
【０１１７】
次に、図１７ないし図２３を参照して図１６に図示された薄膜トランジスタＴを製造する方法の一つの実施例を詳しく説明する。
【０１１８】
図１７に図示されたように、本発明の薄膜トランジスタ製造方法は大きく第１異形フィルムの一面に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を附着させる段階Ｓ２００１と、第２異形フィルムを第１異形フィルムの薄膜トランジスタが附着した面に合着させる段階Ｓ２００２と、第１異形フィルムを分離して薄膜トランジスタを第２異形フィルムに転写させる段階Ｓ２００３と、前記薄膜トランジスタが附着した第２異形フィルムの面を基板に附着させる段階Ｓ２００４と、前記薄膜トランジスタが基板に転写された状態で第２異形フィルムだけ基板で分離する段階Ｓ２００５で成り立つ。
【０１１９】
前記段階Ｓ２００１は図１８と図１９に図示されたように、複数個の印刷ローラー２１１０、２１２０、２１３０、２１４０、２１５０、２１６０、２１７０を具備した薄膜トランジスタ積層装置を利用して第１異形フィルムＲＦ２００１の一面に順次に薄膜トランジスタ構造を設定されたパターンに積層する工程で成り立つ。
【０１２０】
これをもうちょっと具体的に説明すれば、前記薄膜トランジスタ積層装置はゲート電極印刷ローラー２１１０と、絶縁膜印刷ローラー２１２０、非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ）階２００３（図１６参照）を形成する第１アクティブ層印刷ローラー２１３０、ＩＴＯ層２００８（図１６参照）を印刷するＩＴＯ層印刷ローラー２１４０、ｎ＋非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ）階２００４（図１６参照）を形成する第２アクティブ層印刷ローラー２１５０、ソース／ドレーン印刷ローラー２１６０、酸化防止膜印刷ローラー２１７０を具備して、第１異形フィルムＲＦ２００１は前記印刷ローラーらの外周面に順に密着されながら進行する。
【０１２１】
前記各印刷ローラー２１１０〜２１７０の間には第１異形フィルムＲＦ２００１の張力を維持するための張力認可用ローラー２１８０が配置される。
【０１２２】
前記各印刷ローラー２１１０〜２１７０には形成しようとする薄膜トランジスタＴの構造物に対応するパターンの成形溝が形成されている。例えば、ゲート電極印刷ローラー２１１０にはゲート電極２００１（図１６参照）のパターンと対応するパターンの成形溝２１１２が形成されているし、絶縁膜印刷ローラー２１２０には絶縁膜２００２（図１６参照）と対応するパターンの成形溝２１２２が形成されている。
【０１２３】
そして、図１９に図示されたように、各印刷ローラー２１１０〜２１７０の一側には該当の薄膜トランジスタ構造物を形成するための材料が供給される材料供給機２１１６、２１２６と、一端部が印刷ローラー２１１０〜２１７０の外周面に連接するように設置されて供給された材料が成形溝２１１２、２１２２にだけ収容されて成形溝２１１２、２１２２以外部分には材料が付かないようにするスクライバー２１１７、２１２７と、紫外線を照射して材料を硬化させるＵＶ硬化装置２１１５、２１２５などが構成される。
【０１２４】
前記のように構成された薄膜トランジスタ積層装置を利用して第１異形フィルムＲＦ２００１に薄膜トランジスタＴを形成する工程を説明すれば次のようになる。
【０１２５】
ゲート電極印刷ローラー２１１０の上側に設置された材料供給機２１１６を通じてゲート電極形成用材料が供給される。
【０１２６】
前記ゲート電極印刷ローラー２１１０の上側に供給された金属材料は成形溝２１１２内側に収容された後、第１異形フィルムＲＦ２００１と接する部分で第１異形フィルムＲＦ２００１の面に附着して、ＵＶ硬化装置２１１５によって硬化された後、第１異形フィルムＲＦ２００１がゲート電極印刷ローラー２１１０で分離する地点で第１異形フィルムＲＦ２００１の面に附着して一緒に移動する。
【０１２７】
前記のように一面にゲート電極２００１（図１６参照）が設定されたパターンに形成された第１異形フィルムＲＦ２００１は絶縁膜印刷ローラー２１２０をパスするようになって、くだんのことと等しい過程で絶縁膜印刷ローラー２１２０に絶縁膜形成用材料が供給されてゲート電極２００１上に設定されたパターンで絶縁膜２００２が積層される。
【０１２８】
以後、第１異形フィルムＲＦ２００１は製１アクティブ層印刷ローラー２１３０、ＩＴＯ層印刷ローラー２１４０、第２アクティブ層印刷ローラー２１５０、ソース／ドレーン印刷ローラー２１６０、酸化防止膜印刷ローラー２１７０を順にパスしながらくだんのことと等しい過程でアクティブ層２００３、２００４（図１６参照）と、ＩＴＯ層２００８、ソース電極２００５、ドレーン電極２００６、酸化防止膜２００７が順に積層形成される。
【０１２９】
一方、第１異形フィルムＲＦ２００１に薄膜トランジスタＴを形成するための薄膜トランジスタ積層装置は製造しようとする薄膜トランジスタの構造によって変更が可能だ。例えば、図２０に図示されたようにゲート電極２００１、絶縁膜２００２、アクティブ層２００３ａ、ソース電極２００５及びドレーン電極２００６、ＭＯＳキャパシター２００９（MOS Capacitor）で構成された薄膜トランジスタを製造しようとする場合、薄膜トランジスタ積層装置は図２１に図示されたようにゲート電極印刷ローラー２２１０、絶縁膜印刷ローラー２２２０、アクティブ層印刷ローラー２２３０、ソース／ドレーン電極印刷ローラー２２４０、ＭＯＳキャパシター印刷ローラー２２５０で構成されることができる。
【０１３０】
前記のように第１異形フィルムＲＦ２００１に所望の構造の薄膜トランジスタＴが形成されれば、図２２に図示されたように第１異形フィルムＲＦ２００１を第２異形フィルムＲＦ２００２と合着する。
【０１３１】
引き継いで、図２３に図示されたように第１、２異形フィルムハブチァックチェを基板との接合工程位置に移送して、第１異形フィルムＲＦ２００１を分離して第２異形フィルムＲＦ２００２に薄膜トランジスタＴが移されて附着するようにして、第２異形フィルムＲＦ２００２を加圧ローラー２３００と基板２０１１の間を通過させながら加圧ローラー２３００ローゼ２異形フィルムＲＦ２００２を基板２０１１に対して加圧して薄膜トランジスタＴを基板２０１１面に転写させる。
【０１３２】
この状態で前記第２異形フィルムＲＦ２００２を分離させれば基板２００１の外面に薄膜トランジスタＴが所望のパターンで附着した状態で残っているようになる。
【０１３３】
このように本発明によれば、異形フィルムＲＦ２００１、ＲＦ２００２に所望の構造とパターンの薄膜トランジスタＴを印刷した後、これを基板２０１１に転写させて基板２０１１に薄膜トランジスタＴを形成するので薄膜トランジスタ製造工程が非常に単純になって容易くなる利点を得ることができる。
【０１３４】
次に図２４を参照すれば、本発明によるディスプレー装置の製造方法は大きく複数個の異形フィルムそれぞれに所定の薄膜層を形成する段階Ｓ３００１と、前記それぞれの異形フィルムの薄膜層を基板の面または基材フィルムの面に接着した後異形フィルムを剥離させる工程を連続的に遂行して基板面または基材フィルムの面に複数個の薄膜層を積層させる段階Ｓ３００２と、前記基板または基材フィルムに薄膜層を積層する過程または前記基板に薄膜層が積層された後基板または基材フィルムを熱処理するとかＵＶ硬化処理する段階Ｓ３００３で構成される。
【０１３５】
図２５ないし図２７を参照して本発明によるディスプレー装置の製造方法の一実施例として高分子発光ダイオード（ＰＬＥＤ）を製造する方法を説明すれば次のようになる。
【０１３６】
まず、図２５に図示されたように高分子発光ダイオード（ＰＬＥＤ）はガラスになった基板３００１に順に積層されるアノード（Ａｎｏｄｅ）ＩＴＯ電極層３００２、有機薄膜層３００３、カソード（ｃａｔｈｏｄｅ）電極層３００８で成り立つ。
【０１３７】
ここで、前記有機薄膜層３００３は、正孔注入層（ＨＩＬ： Hole Injection Layer）３００４、正孔輸送層（ＨＴＬ： Hole Transport Layer）３００５、有機発光層（ＥＭＬ： Emitting Layer）３００６、電子輸送層（ＥＴＬ： Electron Transport Layer）３００７などで成り立つことができる。
【０１３８】
図２６と図２７は本発明のディスプレー装置製造方法を適用して前記のような構成を持つ高分子発光ダイオード（ＰＬＥＤ）を製造するための装置の一つの実施例を示す。
【０１３９】
先に、ＰＡＴなどで作られた基材フィルムにアノードＩＴＯ電極層を蒸着して電極フィルム３００２ａを製作する一方、図２６に図示したことのようなオフセット（ｏｆｆ−ｓｅｔ）技術とローラースクライビング（roller scribing）技術を混合した方式の有機薄膜層製造装置を利用して複数個の異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａに正孔注入層（ＨＩＬ）３００４、正孔輸送層（ＨＴＬ）３００５、有機発光層（ＥＭＬ）３００６、電子輸送層（ＥＴＬ）３００７をそれぞれ所定のパターンに塗布する。
【０１４０】
図２６に図示された有機薄膜層製造装置は有機薄膜層（例えば、正孔注入層）形成用高分子樹脂Ｒが盛られた樹脂供給部３１１１と、前記樹脂供給部３１１１の上側に回転可能に設置されて下端部外周面が前記樹脂供給部３１１１に盛られた有機薄膜層樹脂Ｒに掛かられる樹脂供給ローラー３１１２と、前記樹脂供給ローラー３１１２の上側に連接するように設置されて外周面に有機薄膜層と対応するパターンのパターン溝３１１４が形成されて前記樹脂供給ローラー３１１２の外周面からパターン溝３１１４内側で樹脂を伝達受けるパターン形成ローラー３１１３と、前記パターン形成ローラー３１１３の上側に連接するように設置されてパターン形成ローラー３１１３のパターン溝３１１４から樹脂を伝達受けるブランケットローラー３１１５（blanket roller）と、前記ブランケットローラー３１１５の上側に連接するように設置されてブランケットローラー３１１５の外周面をパスする異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａをブランケットローラー３１１５に対して加圧して有機薄膜層樹脂を異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａに接合させる加圧ローラー３１１６を含んで構成される。
【０１４１】
前記パターン形成ローラー３１１３の一側にはパターン形成ローラー３１１３の外面に陸は樹脂がパターン溝３１１４以外の部分には付かないように掻き出すスクライバー３１１７が設置される。そして、前記ブランケットローラー３１１５の一側にはブランケットローラー３１１５の外周面で紫外線（ＵＶ）を照射して有機薄膜層樹脂Ｒを硬化させるＵＶ硬化装置３１１８が設置される。
【０１４２】
前記のように構成された有機薄膜層製造装置３０１０によって異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａに有機薄膜層３００４、３００５、３００６、３００７が形成される工程を説明すれば次のようになる。
【０１４３】
樹脂供給ローラー３１１２が回転すれば樹脂供給ローラー３１１２の外周面に樹脂供給部３１１１の有機薄膜層樹脂Ｒがついてしまう。この時、前記パターン形成ローラー３１１３は樹脂供給ローラー３１１２と反対方向で回転しながら樹脂供給ローラー３１１２に有機薄膜層樹脂Ｒを伝達する。
【０１４４】
前記パターン形成ローラー３１１３で伝達した有機薄膜層樹脂Ｒはスクライバー３１１７を経ちながらパターン溝３１１４外側についてあるものなどは除去されてパターン溝３１１４内側に収容されたことだけ居残るようになる。
【０１４５】
前記パターン形成ローラー３１１３のパターン溝３１１４内側に収容されていた有機薄膜層樹脂Ｒはブランケットローラー３１１５と連接する部分で表面エネルギーがパターン形成ローラー３１１３に比べて相対的に高いブランケットローラー３１１５の外周面に移されるようになる。
【０１４６】
前記ブランケットローラー３１１５に移された有機薄膜層樹脂ＲはＵＶ硬化装置３１１８によって硬化されてどの位の粘性を持つようになって、以後加圧ローラー３１１６とブランケットローラー３１１５の間をパスする異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａの一面に接合される。
【０１４７】
勿論、この実施例とは違うプリンティング方式またはインクジェット方式などで異形フィルムに有機薄膜層を形成することもできる。
【０１４８】
一方、上述したこととように異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａそれぞれに正孔注入層３００４または正孔輸送層３００５、有機発光層３００６、電子輸送層３００７が塗布されれば、図２７に図示されたことのような装置を利用して各異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａの有機薄膜層を電極フィルム３００２ａに順次に積層させる。
【０１４９】
もうちょっと具体的に説明すれば、ＩＴＯ電極層が蒸着された電極フィルム３００２ａをピディングスプル３０１０に装着して、電極フィルム３００２ａの一端部を第１〜５加圧ローラー３０４１〜３０４５を通過させてワインディングスプール３０２０に絡められられるように設置する。そして、前記有機薄膜層が塗布された異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａらと電極フィルム３００２ａの一面を保護する作用などをする機能性フィルム３００９をスプール（ｓｐｏｏｌ）３０３１〜３０３５に装着する。理解を助けるために前記正孔注入層（ＨＩＬ）３００４が塗布された異形フィルム３００４ａが装着されたスプールを第１スプール３０３１と言って、機能性フィルム３００９が装着されたスプールを第２スプール３０３２、正孔輸送層（ＨＴＬ）３００５が塗布された異形フィルム３００５ａが装着されたスプールを第３スプール３０３３、有機発光層（ＥＭＬ）３００６が塗布された異形フィルム３００６ａが装着されたスプールを第４スプール３０３４、電子輸送層（ＥＴＬ）３００７が塗布された異形フィルム３００７ａが装着されたスプールを第５スプール３０３５と命じて説明する。
【０１５０】
前記第１〜５スプール３０３１〜３０３５に装着された異形フィルム３００４ａ、３００９、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａは前記電極フィルム３００２ａと一緒にそれぞれ第１〜５加圧ローラー３０４１〜３０４５をパスして電極フィルム３００２ａの面に密着された後、図面に図示されない回収用スプールに絡められられる。
【０１５１】
前記のように構成された電極フィルム３００２ａと異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａらが装着された状態でワインディングスプール３０２０と回収用スプール（図示せず）を回転させて電極フィルム３００２ａと異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａを巻けば、電極フィルム３００２ａと異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａらが第１〜５加圧ローラー３０４１〜３０４５の間をパスしながら異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａの薄膜層３００４、３００５、３００６、３００７が電極フィルム３００２ａ上に順に転写される。
【０１５２】
すなわち、正孔注入層（ＨＩＬ）３００４が塗布された異形フィルム３００４ａが電極フィルム３００２ａと一緒に第１加圧ローラー３０４１をパスしながら電極フィルム３００２ａのＩＴＯ電極層の外面に転写されて接合される。前記正孔注入層３００４は高分子物質で成り立っているので別途の接着剤なしに電極フィルム３００２ａ上に接着される。
【０１５３】
引き継いで、電極フィルム３００２ａと機能性フィルム３００９が第２加圧ローラー３０４２の間をパスしながら電極フィルム３００２ａの他の一面、すなわちＩＴＯ電極層が形成されている面の反対面に機能性フィルム３００９が接合される。
【０１５４】
そんな後、前記電極フィルム３００２ａが第３加圧ローラー３０４３と第４加圧ローラー３０４４、第５加圧ローラー３０４５を順にパスしながら電極フィルム３００２ａに積層された正孔注入層３００４上に正孔輸送層３００５と有機発光層３００６、電子輸送層３００７が順に転写されて積層される。前記第１〜５加圧ローラー３０４１〜３０４５をパスした異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａらと機能性フィルム３００９は回収用スプール（図示せず）に絡められられる。
【０１５５】
上述したこととように前記第１〜５加圧ローラー３０４１〜３０４５をパスしながら一面に正孔注入層３００４と正孔輸送層３００５、有機発光層３００６、電子輸送層３００７が順に積層されて、他の一面に機能性フィルム３００９が接合された電極フィルム３００２ａはワインディングロール３０２０に絡められられる。
【０１５６】
一方、前記のように電極フィルム３００２ａと異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａらを加圧ローラー３０４１〜３０４５の間を通過させて電極フィルム３００２ａ上に薄膜層を転写させて積層した後熱処理または紫外線（ＵＶ）硬化処理を遂行して各薄膜層の界面接着力を増大させることが望ましい。勿論、このような熱処理または紫外線（ＵＶ）硬化処理は多数の薄膜層の積層を遂行する過程で遂行されることもできる。
【０１５７】
前記ワインディングロール３０２０に絡められられた電極フィルム３００２ａは以後他の工程位置で返送されて、機能性フィルム３００９が電極フィルム３００２ａで分離した後ガラス基板３００１（図２４参照）上に接合されて、積層された有機薄膜層３００３上にカソード電極３００８（図２４参照）が蒸着されてディスプレー素子を構成するようになる。
【０１５８】
くだんの実施例のディスプレー装置製造方法は高分子発光ダイオード（ＰＬＥＤ）を製造する方法に関することや、本発明は有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）などのディスプレー装置にも同一または似たり寄ったりに適用されることができる。
【０１５９】
次に、図２８を参照してイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の構造の一例に対して手短に説明する。図２８に図示されたようにイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置は上部基板４００１及び下部基板４００２と、前記上部基板４００１の下面に形成されるブラックマットリックス４００３及びカラーフィルター４００４と、前記カラーフィルター４００４の下側に形成されるイン―セル位相差フィルム４００５と、前記イン―セル位相差フィルム４００５の下面に積層されるＩＴＯ層４００６と、前記下部基板４００２の対面に順に形成されるＩＴＯ層４００７とＴＦＴ４００８と、前記上部基板４００１と下部基板４００２の間に注入される液晶層４００９で成り立つ。
【０１６０】
前記イン―セル位相差フィルム４００５はＰＶＡ／ＴＡＣ／ＰＶＡなどで成り立つ偏光フィルムとして位相のためを償う役目をする。
【０１６１】
次に図２９ないし図３３を参照して本発明によるイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の製造方法の一実施例を詳しく説明する。
【０１６２】
図２９を参照すれば、本発明のイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の製造方法は異形フィルムの一面にイン―セル位相差フィルムを附着する段階Ｓ４００１と、前記異形フィルムのイン―セル位相差フィルム上にＩＴＯ層を形成する段階Ｓ４００２と、前記イン―セル位相差フィルム及びＩＴＯ電極層が塗布された異形フィルムの面を基板または基板に形成されたカラーフィルター上に附着させる段階Ｓ４００３、そして前記イン―セル位相差フィルムが基板または基板に形成されたカラーフィルター上に転写された状態で異形フィルムだけ基板で分離する段階Ｓ４００４を含む。
【０１６３】
段階Ｓ４００１では図３０に図示されたようにイン―セル位相差フィルム４００５と異形フィルム４０１０を相互接する複数個のプレスローラー４０２０の間を同時に通過させながら加圧して異形フィルム４０１０の一面（接着剤が塗布されている面）にイン―セル位相差フィルム４００５を合着させる。ここで、前記イン―セル位相差フィルム４００５はくだんのようにＰＶＡ／ＴＡＣ／ＰＶＡなどで成り立つ偏光フィルムだ。
【０１６４】
前記のように異形フィルム４０１０の接着剤塗布面にイン―セル位相差フィルム４００５を接着させた後、異形フィルム４０１０にＩＴＯ層４００６を形成する段階Ｓ４００２を遂行する。この段階Ｓ４００２は例えば図３１に図示されたようにイン―セル位相差フィルム４００５が接着された異形フィルム４０１０をＩＴＯ樹脂塗布用ローラー４０３０の外周面に密着されるように移送させながらイン―セル位相差フィルム４００５の面にＩＴＯ樹脂をコーティングする湿式コーティング方式で成り立つことができる。
【０１６５】
この実施例ではＩＴＯ層４００６を形成する段階Ｓ４００２が段階Ｓ４００１以後に直ちに連続的に実施されるが、これと違うようにイン―セル位相差フィルム４００５を上部基板４００１のカラーフィルター４００４に附着させた以後にスパッタリング方式などでイン―セル位相差フィルム４００５の外面にＩＴＯ層４００６を形成することもできる。
【０１６６】
引き継いで、図３２に図示したように前記異形フィルム４０１０（一番目異形フィルム）のイン―セル位相差フィルム４００５及びＩＴＯ層４００６の外面に他の異形フィルム４０１０（二番目異形フィルム）を接着させて、一番目異形フィルム４０１０を分離させれば二番目異形フィルム４０１０上にＩＴＯ層４００６及びイン―セル位相差フィルム４００５が接着された状態で残るようになる。
【０１６７】
そんな後、図３３に図示したように、前記二番目異形フィルム４０１０をカラーフィルター４００４が形成されている上部基板４００１とプレスローラー４０４０の間を通過させながら上部基板４００１の面に対して加圧させれば、上部基板４００１のカラーフィルター４００４の外面にイン―セル位相差フィルム４００５が接着される。この状態で前記二番目異形フィルム４０１０を分離させれば上部基板４００１のカラーフィルター４００４の外面にイン―セル位相差フィルム４００５及びＩＴＯ層４００６が順に積層された状態で残っているようになる。
【０１６８】
この実施例では前記上部基板４００１にあらかじめカラーフィルター４００４が塗布されていてイン―セル位相差フィルム４００５を前記カラーフィルター４００４上に接着させる方式で上部基板４００１−カラーフィルター４００４−イン―セル位相差フィルム４００５−ＩＴＯ層４００６をお互いに一体化させているが、これと違うように異形フィルム４０１０にカラーフィルター４００４及びブラックマットリックス４００３を塗布した後その上にイン―セル位相差フィルム４００５とＩＴＯ層４００６を順に積層させた後、異形フィルム４０１０を基板４００１に附着させて基板４００１にカラーフィルター４００４−イン―セル位相差フィルム４００５−ＩＴＯ層４００６を一図に転写させることもできる。
【０１６９】
また、くだんの実施例では上部基板４００１にカラーフィルター４００４が形成されて、カラーフィルター４００４上にイン―セル位相差フィルム４００５とＩＴＯ層４００６を形成したが、下部基板４００２にイン―セル位相差フィルム４００５を形成しようとする場合には下部基板４００２面にすぐイン―セル位相差フィルム４００５とＩＴＯ層４００６を形成することもできる。
【０１７０】
次に、図３４は本発明の一実施例によるディスプレー装置として有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）の構成の主要簿を示す断面図で、この実施例のディスプレー装置は偏光フィルム５０１０が複数個のレンズパターン５０３１が形成された接着剤層５０３２によって有機発光ダイオードのガラス基板５０２０の光出射面に一体に接着された構造を持つ。
【０１７１】
ここで、前記接着剤層５０３２及びレンズパターン５０３１は偏光フィルム５０１０を基板５０２０に接着させることと一緒に基板５０２０の出射面を通じて出射される光線の進行方向を変更させる光経路変化手段を構成する。
【０１７２】
前記偏光フィルム５０１０はガラス基板５０２０面に単純に接着剤を塗布してその上に附着する方式ではなく、偏光フィルム５０１０が接着剤層５０３２及びレンズパターン５０３１と一緒に異形フィルム５０５０に附着した後異形フィルム５０５０−偏光フィルム５０１０接合体をガラス基板５０２０に当て異形フィルム５０５０を剥離する方式でガラス基板５０２０に附着する。この方法に対しては以後に図３８を参照してさらに詳しく説明する。
【０１７３】
一方、くだんのように前記レンズパターン５０３１は半球型ドーム形態または多角面体、円錐、多角錐形態で成り立って光線を反射または屈折させて進行方向を変化させる機能をする。前記レンズパターン５０３１は基板の上部面にドット（ｄｏｔ）形状またはストライプ（ｓｔｒｉｐｅ）形状で配置することができるし（図示せず）、均一な面の高さを持つように構成するのが望ましい。しかし、ディスプレー装置の光学的視覚不良が発生する場合にはレンズパターンの高さの補正を行って多様な面の高さを持つように構成して光学的視覚不良を解消することができる。レンズパターンの形状、配置形状及び面の高さに対して説明したが、これは一例示であるだけこれと等しいことで見られるレンズパターンの形状、配置形状及び面の高さの単純な変更または変形は均等範囲で皆本発明の権利範囲に属する。
【０１７４】
前記レンズパターン５０３１は光抽出効率を進めるように前記ガラス基板５０２０の屈折率より高い屈折率を持つ樹脂で成り立って、前記接着剤層５０３２は前記レンズパターン５０３１の屈折率より高い屈折率を持つ樹脂で成り立つのが望ましい。
【０１７５】
前記のように偏光フィルム５０１０とガラス基板５０２０の間にレンズパターン５０３１が介在されれば、光源（図示せず）で放出されてガラス基板５０２０をパスした光線がレンズパターン５０３１で反射または屈折されながら進行方向が変わるようになって、反射または屈折された非偏光された光線の一部が偏光フィルム５０１０をパスして進行するようになるので光損失を減らすことができるようになる。
【０１７６】
次に、図３５ないし図３８を参照してくだんの実施例のディスプレー装置製造方法に対して説明すれば次のようになる。
【０１７７】
前記のような光経路変化手段を有するディスプレー装置製造方法は大きく異形フィルムに複数個のレンズパターンを附着させる段階Ｓ５００１と、前記レンズパターンが附着した異形フィルムの面に接着剤層を塗布する段階Ｓ５００２と、前記異形フィルムのレンズパターンが附着した面に偏光フィルムを附着させる段階Ｓ５００３と、前記偏光フィルム−異形フィルム接合体で異形フィルムを分離させながら偏光フィルム及びレンズパターンが形成された接着剤層をディスプレー装置のガラス基板に接着させる段階Ｓ５００４で構成される。
【０１７８】
図３６は前記各段階の中で異形フィルムに複数個のレンズパターンを附着させる段階Ｓ５００１を遂行する装置の一実施例を示し、図３６に図示された装置はレンズパターン用樹脂Ｒが盛られた樹脂供給部５１１１と、前記樹脂供給部５１１１の上側に回転可能に設置されて下端部外周面が前記樹脂供給部５１１１に盛られたレンズパターン用樹脂Ｒに掛かられる樹脂供給ローラー５１１２と、前記樹脂供給ローラー５１１２の上側に連接するように設置されて外周面に有機薄膜層と対応するパターンの成形溝５１１４が形成されて前記樹脂供給ローラー５１１２の外周面から成形溝５１１４内側で樹脂を伝達受けるパターン形成ローラー５１１３と、前記パターン形成ローラー５１１３の上側に連接するように設置されてパターン形成ローラー５１１３の成形溝５１１４から樹脂を伝達受けるブランケットローラー５１１５（blanket roller）と、前記ブランケットローラー５１１５の上側に連接するように設置されてブランケットローラー５１１５の外周面をパスする異形フィルム５０５０をブランケットローラー５１１５に対して加圧してレンズパターン用樹脂を異形フィルム５０５０に接合させる加圧ローラー５１１６を含んで構成される。
【０１７９】
前記パターン形成ローラー５１１３の一側にはパターン形成ローラー５１１３の外面に陸は樹脂が成形溝５１１４以外の部分にはついてないように掻き出すスクライバー５１１７が設置される。そして、前記ブランケットローラー５１１５の一側にはブランケットローラー５１１５の外周面で紫外線（ＵＶ）を照射してレンズパターン用樹脂Ｒを硬化させるＵＶ硬化装置５１１８が設置される。
【０１８０】
前記のように構成された装置によって異形フィルム５０５０にレンズパターン５０３１が形成される工程を説明すれば次のようになる。
【０１８１】
樹脂供給ローラー５１１２が回転すれば樹脂供給ローラー５１１２の外周面に樹脂供給部５１１１のレンズパターン用樹脂Ｒが塗布される。この時、前記パターン形成ローラー５１１３は樹脂供給ローラー５１１２と反対方向で回転しながら樹脂供給ローラー５１１２に塗布されたレンズパターン用樹脂Ｒが伝達される。
【０１８２】
前記パターン形成ローラー５１１３で伝達したレンズパターン用樹脂Ｒ中成形溝５１１４外側に塗布された樹脂はスクライバー５１１７によって除去されて、成形溝５１１４内側に収容される樹脂が居残るようになる。
【０１８３】
前記パターン形成ローラー５１１３の成形溝５１１４内側に収容されていたレンズパターン用樹脂Ｒはブランケットローラー５１１５と連接する部分で表面エネルギーがパターン形成ローラー５１１３に比べて相対的に高いブランケットローラー５１１５の外周面に移されるようになる。
【０１８４】
前記ブランケットローラー５１１５に移されたレンズパターン用樹脂ＲはＵＶ硬化装置５１１８によって硬化されてどの位の粘性を持つようになって、以後加圧ローラー５１１６とブランケットローラー５１１５の間をパスする異形フィルム５０５０の一面に接合される。
【０１８５】
図３７は異形フィルムに複数個のレンズパターンを附着させる段階Ｓ５００１を遂行する装置の他の実施例を示し、図３７に図示された装置はレンズパターン５０３１と対応するパターンの成形溝５２１２が形成された成形ローラー５２１１と、この成形ローラー５２１１の上側でレンズパターン用樹脂Ｒを供給する樹脂供給部５２１６と、前記成形ローラー５２１１の両側に連接するように設置された一番の加圧ローラー５２１４と、前記成形ローラー５２１１の外周面に塗布された樹脂を掻いて成形ローラー５２１１の成形溝５２１２内側にだけ樹脂が居残るようにするスクライバー５２１７と、前記成形ローラー５２１１の一側で樹脂を硬化させるための紫外線（ＵＶ）を照射するＵＶ硬化装置５２１５を含んで構成される。
【０１８６】
このように構成された装置を利用して異形フィルム５０５０にレンズパターン５０３１を附着させる工程は次のように成り立つ。
【０１８７】
図３７に図示したように異形フィルム５０５０が成形ローラー５２１１及び加圧ローラー５２１４の間をパスしながら成形ローラー５２１１に密着されて進行するようにした状態で成形ローラー５２１１上側で一方向に回転する成形ローラー５２１１の外面にレンズパターン用樹脂Ｒを供給する。
【０１８８】
前記成形ローラー５２１１の外面に供給されたレンズパターン用樹脂Ｒはスクライバー５２１７によって掻かれながら成形溝５２１２内側にだけ居残るようになる。前記成形ローラー５２１１の成形溝５２１２内側に収容されたレンズパターン用樹脂Ｒは成形ローラー５２１１と異形フィルム５０５０が分離する地点で異形フィルム５０５０に移されて接着されて、こういうわけで異形フィルム５０５０にレンズパターン５０３１が決まったパターンに形成される。
【０１８９】
図面に図示しなかったが、異形フィルム５０５０の一面にレンズパターン５０３１を形成した後、レンズパターン５０３１が形成された異形フィルム５０５０の面に他の異形フィルム５０５０を附着してこの二番目異形フィルム５０５０にレンズパターン５０３０が移されて附着するようにする作業が遂行される。
【０１９０】
前記のようにレンズパターン５０３１が塗布された異形フィルム５０５０は図３８に図示されたように偏光フィルム５０１０と異形フィルム５０５０を合着する装置で移送されて、接着制塗布機５３００を通じてレンズパターン５０３１が形成された面に接着剤が塗布されて接着剤層５０３２が形成された後、偏光フィルム５０１０と一緒に一番の加圧ローラー５４００の間を同時にパスしながらお互いに合着される。
【０１９１】
以後、前記偏光フィルム５０１０−異形フィルム５０５０接合体で異形フィルム５０５０が分離して、偏光フィルム５０１０の一面にレンズパターン５０３１及び接着剤５０１２だけ残るようになって、偏光フィルム５０１０のレンズパターン形成面が接着剤５０１２によってガラス基板５０２０の面に附着して図３４に図示されたことのような構造のディスプレー装置を成すようになる。
【０１９２】
前記偏光フィルム５０１０をディスプレー装置のガラス基板５０２０に附着させる工程は偏光フィルム５０１０と異形フィルム５０５０を相互接合させる工程以後にすぐ連続して実施されることもできるが、異形フィルム５０５０−偏光フィルム５０１０接合体を別途の工程位置に移動させて異形フィルム５０５０を剥離させることと同時に偏光フィルム５０１０をガラス基板５０２０に接合させる工程を遂行することもできる。
【０１９３】
また、偏光フィルム５０１０の面の中でレンズパターン５０３１が形成されない面に他の異形フィルム５０５０（二番目異形フィルム）を接着させて２個の異形フィルム５０５０の間に偏光フィルム５０１０とレンズパターン５０３１をサンドイッチさせた後、一番目異形フィルム５０５０を分離させて偏光フィルム５０１０をガラス基板５０２０に附着させた後二番目異形フィルム５０５０を分離する方式で偏光フィルム５０１０をガラス基板５０２０に附着させることもできる。
【０１９４】
くだんの実施例では光経路変化手段を構成するレンズパターン５０３１が接着剤層５０３２と違う別途の樹脂で成り立って接着剤層５０３２内で決まったパターンを成しているが、図３９に図示されたように第１接着剤層５１３１自体に多角形（この実施例で六面体）凹凸形態のレンズパターン５１３２が一体に形成されて、前記それぞれのレンズパターン５１３２の間に第２接着剤層５１３３が塗布された構造で光経路変化手段を形成することができる。
【０１９５】
ここで、前記第１接着剤層５１３１はディスプレー装置の基板５０２０の出射面に沿って形成されて基板５０２０の出射面に接着されて、第２接着剤層５１３３は偏光フィルム５０１０の入射面に対して接着される。
【０１９６】
また、前記第１接着剤層５１３１は基板５０２０及び偏光フィルム５０１０より高い屈折率の樹脂で成り立って、第２接着剤層５１３３は製１接着剤層５１３１に比べて相対的に低い屈折率の樹脂で成り立つ。よって、前記基板５０２０で出射されてレンズパターン５１３２で進行する光線の中で臨界角より大きい入射角を持つ光線がレンズパターン５１３２の面で全反射されて進行方向が変更されて、進行方向が変更された光線の中で一部がレンズパターン５１３２または第１接着剤層５１３１で再反射されながら臨界角以下の角度でまたレンズパターン５１３２の出射面で進行して偏光フィルム５０１０のピョングァンツック５０１０ａ）の間を通じて外部に透過される。すなわち、レンズパターン５１３２によって偏光フィルム５０１０に吸収される光線の一部がリサイクルされて偏光フィルム５０１０を透過するようになる。
【０１９７】
したがって、偏光フィルム５０１０がすぐ基板５０２０の出射面に連接する既存のディスプレー装置に比べて偏光フィルム５０１０での光吸収量を減少させることができるようになる。ただ、図３９でレンズパターン５１３２は製１接着剤層５１３１によって基板５０２０と離隔されて表現したが、レンズパターン５１３２が基板５０２０と離隔されるのなく接着されるように構成することもできる。レンズパターン５１３２及び基板５０２０の離隔位と係わって当業者が容易く変形することができる微細な設計変更は皆本発明の権利範囲に属する。
【０１９８】
前記第１接着剤層５１３１と第２接着剤層５１３３はくだんの一番目実施例と類似の方式でディスプレー装置基板５０２０の出射面に接着される。すなわち、図４０に図示されたように、異形フィルム５０５０の一面にレンズパターン５１３２が形成されるように第１接着剤層５１３１を印刷方式に塗布して（段階Ｓ５０１１）、前記第１接着剤層５１３１上のレンズパターン５１３２の間に第２接着剤層５１３３を印刷方式に塗布した後（段階Ｓ５０１２）、異形フィルム５０５０を偏光フィルム５０１０と接着させて（段階Ｓ５０１３）、異形フィルム５０５０−偏光フィルム５０１０接合体で異形フィルム５０５０を分離しながら偏光フィルム５０１０及び第１、２接着剤層５１３１、５１３３を基板５０２０の出射面に附着させる方式で基板５０２０の出射面に第１、２接着剤層５１３１、５１３３を接合させる（段階Ｓ５０１４）。
【０１９９】
くだんのように本発明のディスプレー装置は基板５０２０の出射面と偏光フィルム５０１０の間にレンズパターン５０３１（図３４参照）と接着剤層５０３２（図３４参照）、またはレンズパターン５１３２（図３９参照）を持つ第１接着剤層５１３１と第２接着剤層５１３３で成り立った光経路変化手段が介在されて基板５０２０で出射された光線の一部を反射または屈折させて臨界角以下の角度に変化させて、こういうわけで偏光フィルム５０１０に吸収される光線の量を低減させて光透過度を進めることができる。
【０２００】
また、本発明のディスプレー装置は異形フィルム５０５０に光経路変化手段を形成して、偏光フィルム５０１０を前記異形フィルム５０５０の光経路変化手段が形成された面に附着させた後、異形フィルム５０５０−偏光フィルム５０１０接合体で異形フィルム５０５０を分離しながら偏光フィルム５０１０と光経路変化手段を基板５０２０面に接合させる方式に製造される。よって、製造が非常に容易く簡単に成り立つことができる利点がある。
【０２０１】
図４１と図４２はそれぞれ基板３面に多数のマイクロレンズＬとＩＴＯ層７１が形成されたディスプレー装置７０とこのディスプレー装置７０を製造するための装置の構成を示し、この実施例のディスプレー装置は、異形フィルムＲの接着剤塗布層にマイクロレンズＬを成形する段階と、前記マイクロレンズＬが形成された異形フィルムＲの接着剤塗布層にＩＴＯ附着のための別途の接着剤７２を追加的に塗布する段階と、前記接着剤７２が塗布された異形フィルムＲの面にＩＴＯ層７１を形成する段階と、前記異形フィルムＲ−マイクロレンズＬ及び接着剤層−ＩＴＯ層７１で成り立った接合体で異形フィルムＲを分離させてマイクロレンズＬ及び接着剤層７２とＩＴＯ層７１で成り立ったフィルムを基板３に接合させる段階を経って製造される。
【０２０２】
前記マイクロレンズＬとＩＴＯ層７１が形成されたディスプレー装置を製造する過程を図４１及び図４２を参照してさらに具体的に説明すれば次のようになる。
【０２０３】
先に、外周面にマイクロレンズＬと対応する形状の成形溝が形成されたレンズ成形ローラー３０１の下部外周面に異形フィルムＲが密着されながら経つようにした状態で、前記レンズ成形ローラー３０１にマイクロレンズ形成用樹脂を供給する。この時、前記レンズ成形ローラー３０１に供給された樹脂はスクライビングローラー３０３をパスしながらそれぞれの成形溝内側に挿入された後、ＵＶ硬化装置３０４によって硬化されて、引き継いでレンズ成形ローラー３０１の下側で異形フィルムＲの接着剤塗布層に接着される。この時、前記レンズ成形ローラー３０１の下側で複数個のプレスローラー３０２がレンズ成形ローラー３０１に対して異形フィルムＲを加圧してマイクロレンズＬらが異形フィルムＲに十分な圧力に接着されるようにすることが望ましい。
【０２０４】
引き継いで、前記マイクロレンズＬが附着した異形フィルムＲは接着剤塗布ローラー３０５の下部面を通るようになる。この時、前記接着剤塗布ローラー３０５の上部で接着剤７２が供給されて、供給された接着剤７２は接着剤塗布ローラー３０５の外周面に塗布された後異形フィルムＲで移されて附着する。この時、前記接着剤塗布ローラー３０５の下側で複数個のプレスローラー３０６が接着剤塗布ローラー３０５に対して異形フィルムＲを加圧することと一緒に加熱装置（図示せず）で熱を加えて接着剤７２が異形フィルムＲの面に堅固に附着するようにすることが望ましい。
【０２０５】
その次、前記のように接着剤が塗布された異形フィルムＲはＩＴＯ塗布ローラー３０７の下部面に密着されながら経つようになるのに、この時ＩＴＯ塗布ローラー３０７の上側でＩＴＯ樹脂が供給されて前記接着剤７２が塗布されている異形フィルムＲの面にＩＴＯ層７１が塗布される。勿論、この時にもＩＴＯ塗布ローラー３０７の下側で複数個のプレスローラー３０８がＩＴＯ塗布ローラー３０７に対して異形フィルムＲを加圧することと同時にＵＶ硬化装置で紫外線を照射してＩＴＯ樹脂を硬化させる。
【０２０６】
このように異形フィルムＲにマイクロレンズＬと接着剤７２、ＩＴＯ層７１が順に形成されれば、異形フィルムＲを分離させてマイクロレンズＬ−接着剤７２−ＩＴＯ層７１で成り立ったフィルム（以下ＩＴＯフィルム）を異形させて、このＩＴＯフィルムをディスプレー装置の基板３面に加圧するようになれば、前記接着剤７２によってＩＴＯフィルムが基板３面に対して堅固に附着する。
【０２０７】
この実施例でも前記接着剤７２は光抽出効率を高めるためにマイクロレンズＬの屈折率より高い１．５〜１．６５の屈折率を持つ樹脂物で成り立ったのが望ましい。
【０２０８】
一方、くだんの実施例では異形フィルムＲが成形ローラーをパスしながら異形フィルムＲの面に特定形態の光学／電子構造物が形成されるが、以外にも異形フィルムの一面に液状になった樹脂（ｒｅｓｉｎ）を噴霧した後硬化させる方式でマイクロレンズのような光学／電子構造物を形成するとか、複数個の微細なホールが一定間隔に形成された円筒状のスクリーン内側に所定の圧力で光学／電子構造物形成用樹脂を入れ込んで、前記ホールを通じて排出される樹脂を利用して異形フィルムに光学／電子構造物を形成するシルクプリンティング方式などを利用することもできる。
【０２０９】
くだんの実施例以外にも本発明は表面に所定の光学パターンまたは電気的パターンを持つ任意のディスプレー装置用基板またはフィルムを製造するのに適用されることができるだけでなく、電子構造物として回路及び／または接続パッドなどが形成された軟性回路基板（ＦＰＣＢ）などを製造することにも適用することができる。
【０２１０】
以上で本発明の望ましい実施例を説明したが、本発明は上述した特定の実施例に限定されない。すなわち、本発明が属する技術分野で通常の知識を持つ者なら添付された特許請求範囲の思想及び範疇を逸脱することがなしに本発明に対する多数の変更及び修正が可能であり、そういうすべての適切な変更及び修正の均等物も本発明の範囲に属すると見なされなければならない。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学／電子構造物を持つ表示装置の製造方法に関し、さらに詳細には異形フィルムを利用して基板表面またはフィルム表面に光経路を変更させる所定形状のマイクロレンズ、カラーフィルター、偏光層、ＩＴＯ層などの特定の光学的特性を付与するための光学構造物を形成するとか、基板またはフィルム表面にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）、イン―セル位相差フィルムのような電極パターンや回路などの電子構造物を形成することで製作工程を容易くして、均一な構造物パターンを得ることができるディスプレー装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報化社会でディスプレー装置（Display Device）は視覚情報伝達媒体としてその大切さがいっそう強調されているし、今後の重要な位置を先行獲得するためには低消費電力化、薄型化、軽量化、高画質化などの要件を満たすことが要求されている。
【０００３】
このようなディスプレー装置として液晶ディスプレー装置（ＬＣＤ）、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ： Organic Light Emitting Diodes）、プラズマディスプレー装置（ＰＤＰ）などが開発されて使われている。
【０００４】
液晶ディスプレー装置（ＬＣＤ）は液体と固体の中間特性を持った液晶（liquid crystal）の状態変化と偏光版の偏光性質を利用してパスする光の量を調節することで情報を表示するディスプレー装置として、カラーフィルターとＴＦＴが形成された２枚のガラス基板とその間に注入された液晶、そして光源であるバックライトユニット（ＢＬＵ）で構成される。
【０００５】
前記カラーフィルターは光の三原色である赤（ｒｅｄ）、緑（ｇｒｅｅｎ）、青（ｂｌｕｅ）画素（ｐｉｘｅｌ）がガラス基板上にコーティングされてカラー映像を具現する。そして、ＴＦＴは液晶を制御するために超薄型ガラス基板上に半導体膜を形成した回路として、この回路は映像の基本単位である画素を一つ一つ制御する役目をする。
【０００６】
そして、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ： Organic Light Emitting Diode）は有機物薄膜に両極と陰極を通じて注入された電子と正孔が再結合して励起子（exciton）を形成して、形成された励起子からのエネルギーによって特定の波長の光が発生する現像を利用した自体発光型ディスプレー素子である。
【０００７】
このような有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）は、ガラス基板にＩＴＯ金属を蒸着した後フォトレジスト工程を通じて所望の形状で電極をパターニングして画面が表示される部分である画面表示領域にはプラス全員が認可されるアノード（Anode）電極を形成して、所定の発色段を持つ有機物質を蒸着させて電流の流れによって光を発散させる有機電界発光部を形成して、有機電界発光部の上部面にカソード（Cathode）形成金属、すなわちアルミニウム（Ａｌ）及びマグネシウム（Ｍｇ）などのような電極物質を蒸着させてカソード電極を形成する過程を通じて作られる。
【０００８】
ところが、前記のような液晶ディスプレー装置と有機発光ダイオードなどのディスプレー装置はガラス基板にカラーフィルターやＩＴＯ電極層などの光学／電子構造物を数回の蒸着（deposition）と洗浄（cleanung）、フォトレジストコーティング（PR coating）、露光、現像、蝕刻（etch）などを繰り返して形成するので製作過程が複雑で、構造物の高さや大きさも均一に形成しにくいという問題がある。
【０００９】
また、液晶ディスプレー装置や有機発光ダイオードなどのディスプレー装置は光源で放出された光がガラス基板と偏光版などをパスする過程で多くの光損失が発生し、最終的に外部の使用者に提供される光は光源で放出された光のごく一部分だけが提供される。
【００１０】
従来からディスプレー装置の基板の表面または光学フィルムの表面に半球形状など特定の形状のマイクロレンズを形成して基板または光学フィルムをパスする光の進行角度を変更させることで光損失を減らそうとする試みがなされている。
【００１１】
ディスプレー装置の基板表面に直接マイクロレンズを形成する方法としてスタンパー（stamper）を基板の表面外側に置いてスタンパーを通じてマイクロレンズ形成用樹脂を供給して基板の表面にレンズを形成した後、紫外線（ＵＶ）を照射してレンズを硬化させる方式がある。
【００１２】
しかし、前記のようにステムポを利用して基板の表面にマイクロレンズを形成した後紫外線を照射すると、ディスプレー装置の基板に形成された有機物などが劣化されて寿命が減るようになるという問題がある。
【００１３】
また、従来の光学フィルムの表面にマイクロレンズを形成して基板に附着する方式でディスプレー装置の基板表面にマイクロレンズを形成することはできるが、この光学フィルムの面と基板面との間に空隙（air gap）が存在し、基板の出射面で全反射が発生して光損失が発生するようになる。
【００１４】
このような問題を解決するための代案として基板またはフィルムを射出成形する時基板またはフィルムの表面にマイクロレンズを一緒に成形する方式などが提案されているが、このような従来の方式は皆製作過程が非常に複雑で難しい問題がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明は前記のような問題を解決しようとし、本発明の目的はディスプレー装置の基板またはフィルムの表面に所定形状のマイクロレンズ、カラーフィルター、偏光層、ＩＴＯ層などの特定の光学的特性を付与するための光学構造物、またはＴＦＴ（薄膜トランジスタ）、イン―セル位相差フィルムのような電極パターンや回路などの電子構造物を容易く形成することと一緒に均一な構造物パターンを得ることができる光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
前記のような目的を果たすために提供される本発明による光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法は接着剤が塗布されている異形フィルムの第１面に光学／電子構造物を形成する第１段階と、前記異形フィルムの第１面を基板またはフィルムに附着させる第２段階と、前記光学／電子構造物が基板またはフィルムに附着した状態で前記異形フィルムだけ基板またはフィルムで分離してとり除く第３段階を含む。
【００１７】
ここで、前記第１段階は、前記異形フィルムの第１面が外周面に前記光学／電子構造物に対応する形状の成形溝が形成されている成形ローラーの外周面と密着されながらパスするようにした状態で、前記成形ローラーに光学／電子構造物形成用樹脂を供給して前記成形溝を通じて異形フィルムの第１面に樹脂が塗布されるようにすれば良い。
【００１８】
また、前記第１段階は、異形フィルムの第１面に光学／電子構造物形成用樹脂を噴霧して硬化させることで光学／電子構造物を附着した方が良い。
【００１９】
前記第１段階は、複数個の微細なホールが一定間隔に形成された円筒状のスクリーン内側に所定の圧力で光学／電子構造物形成用樹脂を入れ込んで、前記スクリーンのホールを通じて光学／電子構造物形成用樹脂が異形フィルムの第１面で落ちた後硬化されて異形フィルムの第１面に光学／電子構造物が形成されることが望ましい。
【００２０】
そして、前記第２段階で前記異形フィルムをフィルムに附着させる時前記フィルムの一面には光学／電子構造物より高い屈折率を持つ接着剤があらかじめ塗布されているし、前記接着剤の屈折率は１．５〜１．６５であった方が良い。
【００２１】
同時に、前記光学／電子構造物は半球型のドーム（ｄｏｍｅ）形状または多角形凹凸形状で成り立って光の進行経路を変更させる複数個のマイクロレンズであり、前記第２段階で追加に塗布される別途の接着剤は前記マイクロレンズより高い１．５〜１．６５の屈折率を持つことが望ましい。
【００２２】
前記光学／電子構造物はブラックマットリックスとカラーフィルターであった方が良い。
【００２３】
前記製造方法は第１段階後異形フィルムのカラーフィルター及びブラックマットリックスが形成された面の上部に保護膜を塗布する段階と、前記保護膜上に接着剤を塗布する段階と、前記接着剤上に偏光膜を塗布する段階とをさらに含んでいた方が良い。
【００２４】
また、前記製造方法は第３段階後前記他の異形フィルムに塗布された保護膜と接着剤と偏光膜を前記基板上のブラックマットリックスとカラーフィルター上に転写する段階をさらに含むことが望ましい。
【００２５】
前記第１段階は樹脂供給ローラーにブラックマトリックス用樹脂またはカラーフィルター形成用樹脂を供給する段階と、前記樹脂供給ローラーが回転しながら樹脂供給ローラーと連接して回転するパターン形成ローラーのパターン溝で樹脂を伝達する段階と、前記パターン形成ローラーが回転しながらパターン形成ローラーと連接して回転するブランケットローラー（blanket roller）の外周面にパターン溝内に収容されていた樹脂を伝達する段階と、前記ブランケットローラーが回転しながらブランケットローラーとこのブランケットローラーに連接して回転する加圧ローラーの間をパスする異形フィルムの一面にパターニングされた樹脂を伝達してブラックマットリックスとカラーフィルターを形成する段階とを含んで、前記ブランケットローラーの外周面にパターン溝内に収容されていた樹脂を伝達する段階以後前記ブランケットローラーに紫外線（ＵＶ）を照射して樹脂パターンを硬化させた方が良い。
【００２６】
前記第１段階では、ブラックマットリックスまたはカラーフィルターと対応するパターンの成形溝が形成された成形ローラーにブラックマトリックス用樹脂またはカラーフィルター用樹脂を供給して、前記成形ローラーの両側に連接した一番の加圧ローラーと成形ローラーの外周面の間で異形フィルムを通過させて異形フィルムが成形ローラーの外周面に密着されながら進行する過程で成形ローラーの成形溝内の樹脂が異形フィルムに伝達するようにする工程を連続的に遂行して、異形フィルムにブラックマットリックスとカラーフィルターを連続的に形成した方が良い。
【００２７】
前記第２段階は、一方向に水平するように移動する基板の一面に加圧ローラーを連接するように設置して、前記加圧ローラーと基板の間を異形フィルムがパスしながら進行するようにして異形フィルムに塗布されたブラックマットリックス及びカラーフィルターが加圧ローラーによって加圧されながら基板に接合された方が良い。
【００２８】
また、基板の後方面にＩＴＯ層を形成する段階、及び前記ＩＴＯ層に有機発光素子を形成する段階をさらに含むことができる。
【００２９】
前記ＩＴＯ層に有機発光素子を形成する段階は前記有機発光素子をカラーフィルター個別画素当り赤色、緑及び青色波長の光をそれぞれ放出する３個のサーブピクセルで構成するとか、前記有機発光素子をカラーフィルター個別画素に対して少なくとも一つの白色光を放出するピクセルで構成するのが望ましい。
【００３０】
ここで、前記第１段階は第１異形フィルムの一面に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を附着させる段階と、第２異形フィルムを前記第１異形フィルムの前記薄膜トランジスタが附着した面に合着させる段階と、前記第１異形フィルムを分離して前記薄膜トランジスタを前記第２異形フィルムに転写させる段階で構成されて、前記第２段階は前記薄膜トランジスタが附着した前記第２異形フィルムの面を基板に附着させる段階であり、前記第３段階は前記薄膜トランジスタが前記基板に転写された状態で前記第２異形フィルムだけ前記基板で分離する段階であることが望ましい。
【００３１】
前記第１異形フィルムの一面に薄膜トランジスタを附着させる段階は、前記第１異形フィルムを外周面にそれぞれ相異なっている薄膜トランジスタ形成用樹脂が供給される複数個の印刷ローラーを通過させながら順次に薄膜トランジスタ構造を設定されたパターンに積層するようにしたことが良い。
【００３２】
前記薄膜トランジスタが附着した第２異形フィルムの面を基板に附着させる段階は、前記基板の一側で加圧ローラーで前記第２異形フィルムを前記基板に対して加圧して前記薄膜トランジスタを基板に転写させるようにしたことが望ましい。
【００３３】
前記光学／電子構造物は薄膜層として、前記第１段階で前記異形フィルムの一面にプリンティング方式で薄膜層を形成して、前記第１段階の遂行以後に前記基板またはフィルム面にＩＴＯ層を蒸着する段階を遂行して、前記第３段階を経りながら前記ＩＴＯ層上に前記異形フィルムの薄膜層を転写するようにして、前記薄膜層は有機発光ダイオードまたは高分子発光ダイオードを形成する有機薄膜層であった方が良い。
【００３４】
前記第２段階または第３段階の過程を遂行した後、熱処理紫外線または紫外線硬化処理を遂行して前記各薄膜層の間の界面接着力を増大させることができるし、前記フィルムと異形フィルムとを相互一定距離に離隔されて回転する複数個の加圧ローラーを順次に通過させながらフィルムに薄膜層を連続して転写及び積層した方が良い。
【００３５】
前記光学／電子構造物はイン―セル位相差フィルムとして、前記第１段階は前記異形フィルムの一面にイン―セル位相差フィルムを附着する段階で、前記第２段階は前記イン―セル位相差フィルムが附着した前記異形フィルムの面を基板または前記基板に形成されたカラーフィルター上に附着させる段階であり、前記第３段階は前記イン―セル位相差フィルムが基板または前記基板に形成されたカラーフィルター上に転写された状態で前記異形フィルムだけ前記基板で分離する段階であることが望ましい。
【００３６】
前記第１段階後に前記異形フィルムのイン―セル位相差フィルム上にＩＴＯ層を形成する段階をさらに含み、前記第１段階は相互接した複数個のローラーの間を前記異形フィルムと前記イン―セル位相差フィルムを同時に通過させながら加圧して前記異形フィルムに前記イン―セル位相差フィルムを合着させた方が良い。
【００３７】
前記光学／電子構造物は光経路変化手段として、前記第１段階は異形フィルムに光経路変化手段を附着させる段階で、前記第２段階は前記異形フィルムの光経路変化手段が附着した面に偏光フィルムを附着させる段階であり、前記第３段階は前記偏光フィルムと異形フィルムの接合体で前記異形フィルムを分離させながら前記偏光フィルムと前記光経路変化手段を基板に接合させる段階で、前記第１段階は前記異形フィルムに少なくとも一つのレンズパターンを附着させる段階及び前記レンズパターンが附着した前記異形フィルムの面に接着剤を塗布する段階で構成された方が良い。
【００３８】
前記第１段階の中で異形フィルムに少なくとも一つのレンズパターンを附着させる段階は、樹脂供給ローラーにレンズパターン用樹脂を供給する段階と、前記樹脂供給ローラーが回転しながら樹脂供給ローラーと連接して回転する前記パターン形成ローラーの成形溝でレンズパターン用樹脂を伝達する段階と、前記パターン形成ローラーが回転しながらパターン形成ローラーと連接して回転するブランケットローラー（blanket roller）の外周面に成形溝内に収容されていた前記レンズパターン用樹脂を伝達する段階と、前記ブランケットローラーが回転しながらブランケットローラーと前記ブランケットローラーに連接して回転する加圧ローラーの間をパスする前記異形フィルムの一面にパターニングされたレンズパターン用樹脂を伝達してレンズパターンを形成する段階とを含むのが望ましい。
【００３９】
前記第１段階の中で異形フィルムに少なくとも一つのレンズパターンを附着させる段階は、レンズパターンと対応するパターンを持つ複数個の成形溝が形成された成形ローラーにレンズパターン用樹脂を供給する段階と、前記異形フィルムが前記成形ローラーの外周面に密着されながら進行するようにする段階と、前記異形フィルムが前記成形ローラーの外周面に密着されながら進行する途中紫外線を照射して前記成形ローラーの成形溝内側に収容されたレンズパターン用樹脂を硬化させる段階とを含みと、前記異形フィルムが前記成形ローラーと分離する時前記成形ローラーの成形溝内側に収容されたレンズパターン用樹脂が成形溝で分離しながら前記異形フィルムに附着した方が良い。
【００４０】
前記第１段階は前記異形フィルムに少なくとも一つのレンズパターンが凹凸形態に形成されるように第１接着剤層を塗布する段階と、前記第１接着剤層のレンズパターンの間に前記第１接着剤層より低い屈折率を持つ第２接着剤層を塗布する段階とで構成されて、前記第２段階は前記異形フィルムと偏光フィルムを相互一定距離で離隔されて回転する少なくとも一つの加圧ローラーの間で通過させて前記異形フィルムと偏光フィルムを相互接合させる工程で成り立って、光学的視覚不良を解消するための前記レンズパターンの高く補正を行う段階をさらに含むことが望ましい。
【００４１】
接着剤が塗布されている異形フィルムの第１面に光学／電子構造物を附着させる第１段階と、前記光学／電子構造物が附着した異形フィルムの第１面に別途の接着剤を追加的に塗布する第２段階と、前記異形フィルムの第１面に光学的特性または電子的特性を付与するための樹脂を塗布して硬化させてベースフィルムを形成する第３段階と、前記ベースフィルムで異形フィルムだけ分離する第４段階と、前記ベースフィルムをディスプレー装置の基板または他のフィルムに附着させる第５段階を含んだ方が良い。
【００４２】
また、前記光学／電子構造物は半球型のドーム（ｄｏｍｅ）形状または多角形凹凸形状で、光の進行経路を変更させる複数個のマイクロレンズであり、前記第２段階で追加に塗布される別途の接着剤は前記マイクロレンズより高い１．５〜１．６５の屈折率を持つことが望ましい。
【発明の効果】
【００４３】
このような本発明によれば、光学／電子構造物が１次的に異形フィルムに附着した後ディスプレー装置の基板またはフィルムに移されて附着するので所定形状のマイクロレンズ、カラーフィルター、偏光層、ＩＴＯ層などの特定の光学的特性を付与するための光学構造物や基板またはフィルム表面にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）、イン―セル位相差フィルムのような電極パターンや回路などの電子構造物など、所望の形態の光学／電子構造物をディスプレー装置の基板またはフィルムに非常に容易く形成することができるし、均一な形状と大きさの光学／電子構造物を形成することができる。
【００４４】
また、ディスプレー装置に直接紫外線（ＵＶ）のような光線を照射しなくてもディスプレー装置に光学／電子構造物を附着させることができるのでディスプレー装置の素子の劣化を防止することができる利点もある。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明に係る光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法を説明する順序図。
【図２】図１の製造方法を図式化して示す図面。
【図３】本発明に係るディスプレー装置の製造方法の一つの実施例として導光板の両面に光学構造物を形成する方法を概略的に示す図面。
【図４】図３の変形例として導光板の両面に光学構造物を等しい方向で形成したことを示す図面。
【図５】本発明によるディスプレー装置の製造方法の他の実施例として有機発光ダイオードの基板の出射面に光学構造物を直接形成する方法を示す図面。
【図６】図５の変形例を示す図面。
【図７】本発明に係るディスプレー装置製造方法によって具現される液晶表示装置の構成の一例を概略的に示す斜視図。
【図８】図７の液晶表示装置の製造方法の一つの実施例を説明する順序図。
【図９】本発明に係る液晶表示装置の製造方法の中で異形フィルムにブラックマットリックス及びカラーフィルターを形成する方法の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図１０】本発明に係る液晶表示装置の製造方法の中で異形フィルムにブラックマットリックス及びカラーフィルターを形成する方法の他の実施例を概略的に示す構成図。
【図１１】本発明に係る液晶表示装置の製造方法の中で異形フィルムにブラックマットリックス及びカラーフィルターを形成する方法のまた他の実施例を概略的に示す構成図。
【図１２】本発明に係る液晶表示装置の製造方法の中で異形フィルムに形成されたブラックマットリックス及びカラーフィルターを基板に転写する方法の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図１３】本発明に係るディスプレー装置製造方法によって具現される有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）の構成の一つの実施例を概略的に示す要部断面図。
【図１４】本発明に係るディスプレー装置製造方法によって具現される有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）の構成の他の実施例を概略的に示す要部断面図。
【図１５】一般的な液晶ディスプレー装置の構成を概略的に示す図面。
【図１６】図１５の液晶ディスプレー装置の薄膜トランジスタの構造の一つの実施例を示す要部断面図。
【図１７】本発明に係る液晶ディスプレー装置の薄膜トランジスタ製造方法を示す順序図。
【図１８】本発明の液晶ディスプレー装置の薄膜トランジスタ製造方法の中で異形フィルムに薄膜トランジスタを形成する装置の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図１９】図１８の装置の一部構成をさらに詳しく示す要部断面図。
【図２０】液晶ディスプレー装置の薄膜トランジスタの構造の他の実施例を示す要部断面図。
【図２１】図２０の薄膜トランジスタを異形フィルムに形成するための装置の構成の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図２２】薄膜トランジスタが形成された異形フィルムに他の異形フィルムを合着する状態を示す要部断面図。
【図２３】異形フィルムの薄膜トランジスタを基板に転写する工程の一つの実施例を示す要部断面図。
【図２４】本発明に係るディスプレー装置の製造方法の一つの実施例を示す順序図。
【図２５】高分子発光ダイオード（ＰＬＥＤ）の構成を示す断面図。
【図２６】本発明に係る高分子発光ダイオード（ＰＬＥＤ）の製造方法の一つの実施例として異形フィルムに有機薄膜層を製造するための装置の一つの実施例を示す構成図。
【図２７】本発明に係る高分子発光ダイオード（ＰＬＥＤ）の製造方法の一つの実施例として異形フィルムに塗布された有機薄膜層を電極フィルムに転写するための装置の一つの実施例を示す構成図。
【図２８】一般的なイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の構成の一例を概略的に示す断面図。
【図２９】本発明に係るイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の製造方法の一つの実施例を説明する順序図。
【図３０】本発明に係るイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の製造方法の中で異形フィルムにイン―セル位相差フィルムを合着させる段階の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図３１】本発明に係るイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の製造方法の中で異形フィルムのイン―セル位相差フィルム上にＩＴＯ層をコーティングさせる段階の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図３２】イン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の製造方法の中で異形フィルムのイン―セル位相差フィルム及びＩＴＯ層上に他の異形フィルムを合着させる段階の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図３３】本発明に係るイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の製造方法の中で異形フィルムのイン―セル位相差フィルム及びＩＴＯ層を基板のカラーフィルターに転写させる段階の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図３４】本発明に係るディスプレー装置の主要構成の一つの実施例を概略的に示す要部断面図。
【図３５】図３４に図示されたディスプレー装置の製造方法の一つの実施例を説明する順序図。
【図３６】図３５のディスプレー装置製造方法の中で異形フィルムにレンズパターンを附着する方法の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図３７】図３５のディスプレー装置製造方法の中で異形フィルムにレンズパターンを附着する方法の他の実施例を概略的に示す構成図。
【図３８】図３５のディスプレー装置製造方法の中で異形フィルムと偏光フィルムを合着して、偏光フィルムをガラス基板に接着する方法の一つの実施例を概略的に示す構成図。
【図３９】本発明に係るディスプレー装置の他の実施例を概略的に示す要部断面図。
【図４０】図３４に図示されたディスプレー装置の製造方法の一つの実施例を説明する順序図。
【図４１】光学構造物が形成されたディスプレー装置の構造を示す要部断面図。
【図４２】図４１のディスプレー装置を製造する方法の実施例を示す図面。
【発明を実施するための形態】
【００４６】
本発明の前記のような目的、特徴及び他の長所は添付図面を参照して本発明の望ましい実施例を詳しく説明することでさらに明らかになる。以下、添付された図面を参照して本発明による光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法の実施例を詳しく説明する。
【００４７】
まず、図１と図２は本発明によるディスプレー装置の製造方法の一番目実施例を説明する図面で、この実施例によるディスプレー装置の製造方法は、接着剤が塗布されている異形フィルムＲの第１面の接着剤層Ａに光学／電子構造物Ｌを形成する第１段階Ｓ１１と、前記異形フィルムＲの第１面の接着剤層Ａを基板Ｓまたはフィルムに附着させる第２段階Ｓ１２と、前記光学／電子構造物Ｌが基板Ｓまたはフィルムに附着した状態で前記異形フィルムＲだけ基板Ｓまたはフィルムで分離して異形する第３段階Ｓ１３で構成される。
【００４８】
図２の図面（Ａ）と（Ｂ）は前記段階Ｓ１１を示し、図２の（Ｃ）は前記段階Ｓ１２を示し、図２の（Ｄ）と（Ｅ）は前記段階Ｓ１３を概略的に示す。
【００４９】
図３はくだんの一番目実施例の製造方法によって導光板１０の両面に光学構造物であるマイクロレンズＬを形成する過程をもうちょっと具体的に図示している。
【００５０】
図３を参照すれば、コンベヤーシステムのような返送装置（図示せず）によって水平移動するように設置された導光板１０の上側に異形フィルムＲの接着剤塗布面にマイクロレンズＬを形成するための上部成形ローラー１０１が回転可能に設置されて、導光板１０の上側に異形フィルムＲの接着剤塗布面を導光板１０の上部面に対して加圧するための複数個の上部プレスローラー１０５が回転可能に設置されている。前記上部成形ローラー１０１の一側には上部成形ローラー１０１外周面の成形溝の内側にマイクロレンズ形成用樹脂（ｒｅｓｉｎ）を供給する樹脂供給機１０２が配置されて、上部成形ローラー１０１の他の一側には上部成形ローラー１０１の成形溝に収容されたマイクロレンズ形成用樹脂を硬化させるＵＶ硬化装置１０３が配置される。
【００５１】
そして、前記導光板１０の下部にも上部と同じく下部成形ローラー１１１と下部プレスローラー１１５、樹脂供給機１１２、ＵＶ硬化装置１１３が構成されている。
【００５２】
図面に図示しなかったが、前記導光板１０の移動経路の上部と下部それぞれには上部成形ローラー１０１及び下部成形ローラー１１１にそれぞれ供給される異形フィルムＲが巻取れれる供給ローラーと、導光板１０を経ちながら分離する異形フィルムＲが回収される回収ローラーが設置されている。
【００５３】
また、前記上、下部プレスローラー１０５、１１５の後方部には導光板１０の方で熱を加える上、下部予熱装置１２１、１２２と、導光板１０で紫外線（ＵＶ）を照射するＵＶ硬化装置１２５が順に配置される。
【００５４】
前記のように構成された装置を利用して導光板１０の両面にマイクロレンズＬを形成する工程を詳しく説明すれば次のようになる。
【００５５】
供給ローラー（図示せず）で解け出た異形フィルムＲは上部成形ローラー１０１の外周面の下部に密着されながらパスする。この時、上部成形ローラー１０１の上側で樹脂供給機１０２を通じてマイクロレンズ形成用樹脂が供給される。供給された樹脂は上部成形ローラー１０１の外周面に形成された半球型ドーム形状の成形溝内側に収容された後、ＵＶ硬化装置１０３で照射される紫外線によって硬化された後、下側で異形フィルムＲの接着剤塗布面に接着されながら異形フィルムＲの接着剤塗布面で移される。
【００５６】
前記上部成形ローラー１０１を経ちながら一面にマイクロレンズＬが附着した異形フィルムＲは上部プレスローラー１０５と導光板１０の上部なら間をパスするようになる。この時、異形フィルムＲが上部プレスローラー１０５によって加圧されて異形フィルムＲの接着剤塗布層が導光板１０の上部面に接着される。
【００５７】
そして、前記上部プレスローラー１０５をパスした異形フィルムＲは回収ローラー（図示せず）に巻取られるので、この時マイクロレンズＬが形成されている異形フィルムＲの接着剤塗布層が導光板１０の上部面に接着されているので異形フィルムＲだけ分離してマイクロレンズＬが附着した接着剤塗布層は導光板１０にそのまま残っているようになる。
【００５８】
これと等しい過程で前記下部成形ローラー１１１と下部プレスローラー１１５などによって前記導光板１０の下部面にもマイクロレンズＬが形成された接着剤塗布層が接着される。
【００５９】
前記のように上、下部面にマイクロレンズＬが形成された導光板１０は後方に配置された上、下部予熱装置１２１、１２２とＵＶ硬化装置１２５を順にパスしながら導光板１０の面に堅固に固着する。
【００６０】
このような過程を通じて上、下部面にマイクロレンズＬが形成された導光板１０が作られる。勿論、この実施例では導光板１０の上、下部面の皆に光学構造物として半球型のドーム形状を持つマイクロレンズＬが形成されるが、導光板１０の一面にだけ光学構造物が形成されるとか、導光板１０の上部面と下部面にそれぞれマイクロレンズとプリズムパターンなど相異なっている大きさと形態の光学構造物が形成されることもできる。
【００６１】
そして、くだんの実施例では導光板１０の上、下部面にマイクロレンズＬらがお互いに反対方向に形成されるが、図４に図示されたように、成形ローラーの構成と配置を適切に変更して導光板１０の下部面に供給される異形フィルムＲを以前とは反対に覆して供給することで導光板１０の上、下部面にマイクロレンズが等しい方向に配置されるようにすることもできる。勿論、この反対でも可能だろう。
【００６２】
また、くだんの実施例で提示された導光板１０に光学構造物を形成する方式と等しい方式で他のディスプレー装置の基板またはフィルムにも光学構造物を形成することができる。
【００６３】
例えば、図５に図示されたように、異形フィルムＲの接着剤塗布層にマイクロレンズＬのような光学構造物を形成した後、前記異形フィルムＲの接着剤塗布層を有機発光ダイオード３０の基板３１の出射面に接着させた後異形フィルムＲを分離することで出射面にマイクロレンズＬが形成された有機発光ダイオード３０を具現することができる。
【００６４】
そして、図６に図示されたように、異形フィルムＲの接着剤塗布層にマイクロレンズＬのような光学構造物を形成して、前記マイクロレンズＬを偏光フィルムＰに移して附着させた後、前記マイクロレンズＬが附着した偏光フィルムＰを有機発光ダイオード３０の基板３１面に附着させることもできる。
【００６５】
すなわち、レンズ成形ローラー１３１を通じて異形フィルムＲの一面にマイクロレンズＬを形成した後、一面に接着剤が塗布されている偏光フィルムＰと前記異形フィルムＲを合着ローラー１３３の間を通じて進行させて偏光フィルムＰと異形フィルムＲを合着させる。引き継いで、前記異形フィルムＲを前記偏光フィルムＰから分離させれば、異形フィルムＲに附着していたマイクロレンズＬが偏光フィルムＰの接着剤塗布面に移されて附着して、偏光フィルムＰは一面にマイクロレンズＬが附着した状態で有機発光ダイオード３０の基板３１出射面に供給されて、この後プレスローラー１３５によって有機発光ダイオード３０の基板３１出射面に堅固に附着する。
【００６６】
この時、前記偏光フィルムＰの一面に塗布されている接着剤ＡとマイクロレンズＬは光抽出効率を進めるように前記マイクロレンズＬは前記基板３１の屈折率より高い屈折率を持つ樹脂で成り立って、前記接着剤Ａは前記マイクロレンズＬの屈折率より高い１．５〜１．６５の屈折率を持つ樹脂物で成り立ったのが望ましい。
【００６７】
勿論、この実施例では偏光フィルムＰにマイクロレンズＬを形成して有機発光ダイオード３０に附着させているが、偏光フィルムＰ代わりに保護フィルムやその他光学フィルムを使うこともできる。
【００６８】
次に、図７ないし図１４を参照して本発明によるディスプレー装置の一例として液晶表示装置（ＬＣＤ）を製造する方法の一つの実施例を説明する。
【００６９】
図７を参照して液晶表示装置の構成の一例に対して説明する。
【００７０】
液晶表示装置は上部基板１００１と下部基板１００２を具備する。前記上部基板１００１の下面にはブラックマットリックス１００４及びカラーフィルター１００５が本発明のディスプレー装置製造方法によって形成されて、前記カラーフィルター１００５の下側にはＳｉＯ２保護膜層１００６及びＩＴＯ層１００７が順に積層される。前記下部基板１００２の上面にはＩＴＯ層１００９とＴＦＴ階１００３が順に形成される。そして、前記上部基板１００１と下部基板１００２の間には液晶（図示せず）が注入される構造で成り立つ。
【００７１】
次に、図８ないし図１２を参照して上述した構造の液晶表示装置を製造する方法の一つの実施例を詳しく説明する。
【００７２】
図８に図示されたように本発明によるディスプレー装置製造方法は大きく異形フィルムの一面にブラックマットリックスとカラーフィルターを順次に形成する第１段階Ｓ１００１と、前記異形フィルムのブラックマットリックスとカラーフィルターが形成された面を基板に附着させる第２段階Ｓ１００２と、前記ブラックマットリックスとカラーフィルターが基板に転写された状態で異形フィルムだけ基板で分離する第３段階Ｓ１００３で成り立つ。
【００７３】
前記第１段階Ｓ１００１は図９に図示されたことのようなオフセット（off-set）技術とローラースクライビング（roller scribing）技術を混合した方式のブラックマットリックス成形装置１０１０とカラーフィルター成形装置１０２０を利用して成り立つことができる。
【００７４】
もうちょっと具体的に説明すれば、異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４を形成するためのブラックマットリックス成形装置１０１０は、ブラックマトリックス用樹脂１００４ａが盛られた樹脂供給部１０１１と、前記樹脂供給部１０１１の上側に回転可能に設置されて下端部外周面が前記樹脂供給部１０１１に盛られたブラックマトリックス用樹脂１００４ａに掛かられる樹脂供給ローラー１０１２と、前記樹脂供給ローラー１０１２の上側に連接するように設置されて外周面にブラックマットリックス１００４と対応するパターンのパターン溝１０１４が形成されて前記樹脂供給ローラー１０１２の外周面からパターン溝１０１４内側で樹脂を伝達受けるパターン形成ローラー１０１３と、前記パターン形成ローラー１０１３の上側に連接するように設置されてパターン形成ローラー１０１３のパターン溝１０１４から樹脂を伝達受けるブランケットローラー１０１５（blanket roller）と、前記ブランケットローラー１０１５の上側に連接するように設置されてブランケットローラー１０１５の外周面をパスする異形フィルムＦをブランケットローラー１０１５に対して加圧してブラックマットリックス樹脂を異形フィルムＦに接合させる加圧ローラー１０１６を含んで構成される。
【００７５】
前記パターン形成ローラー１０１３の一側にはパターン形成ローラー１０１３の外面に塗布された樹脂がパターン溝１０１４以外の部分に居残らないように掻き出すスクライバー１０１７が設置される。そして、前記ブランケットローラー１０１５の一側にはブランケットローラー１０１５の外周面で紫外線（ＵＶ）を照射してブラックマットリックス樹脂１００４ａを硬化させるＵＶ硬化装置１０１８が設置される。
【００７６】
異形フィルムＦにカラーフィルター１００５を形成するためのカラーフィルター成形装置１０２０はブラックマットリックス成形装置１０１０と等しくＲ、Ｇ、Ｂカラーフィルターの中である一カラーフィルター用樹脂１００５ａが盛られた樹脂供給部１０２１、樹脂供給ローラー１０２２、パターン形成ローラー１０２３、ブランケットローラー１０２５、加圧ローラー１０２６、スクライバー１０２７、ＵＶ硬化装置１０２８などで構成される。勿論、図面には一つのカラーフィルター成形装置１０２０だけ図示されているが、このカラーフィルター成形装置１０２０の一側に他の二つのカラーフィルター成形装置が等しく構成されて異形フィルムＦの一面にカラーフィルターを連続的に形成されるであろう。
【００７７】
前記のように構成されたブラックマットリックス成形装置１０１０によって異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４が形成される過程を説明すれば次のようになる。
【００７８】
樹脂供給ローラー１０１２が回転すれば樹脂供給ローラー１０１２の外周面に樹脂供給部１０１１のブラックマトリックス用樹脂１００４ａが塗布される。この時、前記パターン形成ローラー１０１３は樹脂供給ローラー１０１２と反対方向で回転しながら樹脂供給ローラー１０１２に塗布されたブラックマットリックス樹脂１００４ａの伝達を受ける。
【００７９】
前記パターン形成ローラー１０１３で伝達したブラックマットリックス樹脂１００４ａはスクライバー１０１７を経ちながらパターン溝１０１４外側に塗布されたものなどは除去されてパターン溝１０１４内側に収容されたことだけ居残るようになる。
【００８０】
前記パターン形成ローラー１０１３のパターン溝１０１４内側に収容されていたブラックマットリックス樹脂１００４ａはブランケットローラー１０１５と連接する部分で表面エネルギーがパターン形成ローラー１０１３に比べて相対的に高いブランケットローラー１０１５の外周面に移されるようになる。
【００８１】
前記ブランケットローラー１０１５に移されたブラックマットリックス樹脂１００４ａはＵＶ硬化装置１０１８によって硬化されてどの位の粘性を持つようになって、以後加圧ローラー１０１６とブランケットローラー１０１５の間をパスする異形フィルムＦの一面に接合される。
【００８２】
これと等しい過程で異形フィルムＦがカラーフィルター成形装置１０２０のブランケットローラー１０２５と加圧ローラー１０２６の間をパスしながら指定された位置にカラーフィルター１００５が形成される。
【００８３】
くだんのようにオフセット技術とローラースクライビング技術を混合した方式で異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を塗布する場合、正確なパターンで印刷が成り立つことができる利点がある。
【００８４】
勿論、これと違うに図１０に図示したように、ロールプリンティング方式を適用したブラックマットリックス成形装置１１１０及びカラーフィルター成形装置１１２０を利用して異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を連続して形成することができる。
【００８５】
図１０に図示されたブラックマットリックス成形装置１１１０はブラックマットリックス１００４と対応するパターンの成形溝１１１２が形成された成形ローラー１１１１と、この成形ローラー１１１１の上側でブラックマトリックス用樹脂１００４ａを供給する樹脂供給部１１１６と、前記成形ローラー１１１１の両側に連接するように設置された一番の加圧ローラー１１１３、１１１４と、前記成形ローラー１１１１の外周面に塗布された樹脂を掻いて成形ローラー１１１１の成形溝１１１２にだけ樹脂が居残るようにするスクライバー１１１７と、前記成形ローラー１１１１の一側で樹脂を硬化させるための紫外線（ＵＶ）を照射するＵＶ硬化装置１１１５を含んで構成される。
【００８６】
前記ブラックマットリックス成形装置１１１０の一側には異形フィルムＦにカラーフィルター１００５を形成するためのカラーフィルター成形装置１１２０が構成されて、このカラーフィルター成形装置１１２０はブラックマットリックス成形装置１１１０と等しくカラーフィルターパターンと対応する成形溝１１２２が形成された成形ローラー１１２１と、加圧ローラー１１２３、１１２４、ＵＶ硬化装置１１２５、樹脂供給部１１２６、スクライバー１１２７などで構成される。図１０には一つのカラーフィルター成形装置１１２０だけ図示されているが、このカラーフィルター成形装置１１２０の一側にｎ個のカラーフィルター成形装置が構成されることができる。ここでｎは定数でその制限がないが、３ないし５で構成するのが望ましい。例えば、前記ｎ個のカラーフィルター成形装置は３個である場合、ＲｅｄＲ、Ｇｒｅｅｎ（Ｇ）及びＢｌｕｅ（Ｂ）、４個である場合、Ｒ、Ｇ、Ｂ及びＹｅｌｌｏｗ（Ｙ）、５個である場合、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｙ及びＷｈｉｔｅ（Ｗ）などで構成されることができる。よって、カラーフィルター成形装置１１２０は他の色相のｎ個のカラーフィルター成形装置が等しく構成されて異形フィルムＦの一面にカラーフィルターを連続的に形成することができる。
【００８７】
このように構成されたブラックマットリックス成形装置１１１０とカラーフィルター成形装置１１２０を利用して異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４及びカラーフィルター１００５を形成する工程は次のように成り立つ。
【００８８】
図１０に図示したように異形フィルムＦが成形ローラー１１１１及び加圧ローラー１１１３、１１１４の間をパスしながら成形ローラー１１１１に密着されて進行するようにした状態でブラックマットリックス成形装置１１１０の成形ローラー１１１１上側で一方向に回転する成形ローラー１１１１の外面にブラックマトリックス用樹脂１００４ａを供給する。
【００８９】
前記成形ローラー１１１１の外面に供給されたブラックマットリックス樹脂１００４ａはスクライバー１１１７によって掻かれながら成形溝１１１２内側にだけ居残るようになる。前記成形ローラー１１１１の成形溝１１１２内側に収容されたブラックマットリックス樹脂１００４ａは成形ローラー１１１１と異形フィルムＦが剥離される地点で異形フィルムＦに移されて接着されて、こういうわけで異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４が決まったパターンに形成される。
【００９０】
前記のようにブラックマットリックス１００４パターンが塗布された異形フィルムＦは一側のカラーフィルター成形装置１１２０に移動して、ブラックマットリックス成形装置１１１０と等しい過程で異形フィルムＦにＲ、Ｇ、Ｂ、Ｙ、Ｗの中の一つのカラーフィルター１００５が所望のパターンに塗布される。
【００９１】
以後、異形フィルムＦは図面に図示されなかった他のカラーフィルター成形装置を通りながら他の色相のカラーフィルター１００５が所望のパターンに塗布される。
【００９２】
図１１は異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４及びカラーフィルター１００５を形成するまた他の方法を示し、この実施例のブラックマットリックス及びカラーフィルター成形装置は異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４を形成するための制１成形ローラー１２１０と、青色系列Ｂカラーフィルター１００５を形成するための制２成形ローラー１２２０、緑系列Ｇカラーフィルター１００５を形成するための制３成形ローラー１２３０、赤色系列Ｒカラーフィルター１００５を形成するための制４成形ローラー１２４０を連続的にパスするようにして、異形フィルムＦの接着剤塗布層にブラックマットリックス１００４と青色Ｂカラーフィルター、緑Ｇカラーフィルター、赤色Ｒカラーフィルターを順次に形成する。
【００９３】
前記第１〜４成形ローラー１２１０〜１２４０の外周面にはそれぞれ形成しようとするブラックマットリックスとカラーフィルターパターンと対応する形態の成形溝（図示せず）が形成されて、この成形溝を通じてブラックマトリックス用樹脂及びカラーフィルター形成用樹脂が供給されて異形フィルムＦの一面に接着される。
【００９４】
図９ないし図１１を参照して説明した方式の中でどの一つの方式を選択して異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５が形成されれば、異形フィルムＦのブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を基板に転写する工程を遂行する。
【００９５】
例えば、図１２に図示したように、基板１００１を一方向で水平移動するように構成して、基板１００１の上側に複数個の加圧ローラー１３１０を構成して、異形フィルムＦが基板１００１と加圧ローラー１３１０の間を経ちながら加圧ローラー１３１０によって加圧されるように構成して、異形フィルムＦが加圧ローラー１３１０によって加圧されながら異形フィルムＦのブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５が基板１００１の面にそのまま転写されるようにした後、異形フィルムＦを分離して基板１００１面にブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を積層させる。
【００９６】
前記のように基板１００１面にブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を積層させた後、ＵＶ硬化装置１３１１及び／またはヒーティング装置１３１２を利用して基板１００１に紫外線を照射するとか熱を加えてブラックマットリックス１００４及びカラーフィルター１００５と基板１００１面の間の界面接着力を増大させる作業を遂行するのが望ましい。
【００９７】
このように本発明によれば、異形フィルムＦにブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を正確なパターンで形成した後、異形フィルムＦに形成されたブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を液晶表示装置の基板１００１面にそのまま転写して接着させることで基板１００１面にブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５が形成される。よって、基板１００１面にブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を形成する工程が非常に単純化されて、基板１００１面に正確なパターンでブラックマットリックス１００４とカラーフィルター１００５を形成することができるようになってハイクオリティーの液晶表示装置を具現することができるようになる。
【００９８】
次に、図１３を参照してディスプレー装置としてカラーフィルターを適用した有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）の構造及びその製造方法の一つの実施例を説明する。
【００９９】
図１３はカラーフィルターを適用した有機発光ダイオードの構造を示し、この実施例の有機発光ダイオードは、基板１０５１と、この基板１０５１の前方面に形成されるカラーフィルター１０５２及びブラックマットリックス１０５３と、前記カラーフィルター１０５２及びブラックマットリックス１０５３を覆って保護する保護膜１０５６と、前記保護膜１０５６の後面に接着剤１０５７によって附着する偏光膜１０５８と、前記基板１０５１の後方面に形成されるＩＴＯ電極層１０５４と、前記ＩＴＯ電極層１０５４に形成される有機発光素子１０５５を含む。
【０１００】
前記有機発光素子１０５５は電子注入層（electron injection layer）と電子運送層（electron transfer layer）、有機発光層（emitting layer）、正孔運送層（hole transfer layer）、正孔注入層（hole injection layer）などで成り立って、カラーフィルター個別画素（ｐｉｘｅｌ）当り赤色Ｒ、緑Ｇ、青色Ｂ波長の光をそれぞれ放出する３個ずつのサーブピクセルで構成されて白色光を具現するようになっている。前記有機発光素子１０５５によって発散された白色光は前記カラーフィルター１０５２によってピルトリングドエオ各画素に当たった波長だけが外部に放出されて、有機発光ダイオードのフルカラーを具現する。
【０１０１】
前記カラーフィルター１０５２はカラーフィルター１０５２及び偏光膜１０５８を通じて透過される光の量を増大させることができるように通常のカラーフィルター１０５２の屈折率（約１．５より高い１．５５以上のその屈折率を持つ材料で成り立つのが望ましい。前記カラーフィルター１０５２が１．５５以上の高屈折率素材で成り立つ場合、基板１０５１を通じて出射されてカラーフィルター１０５２に入射された光の屈折角がズルオドムと同時にカラーフィルター１０５２と偏光膜１０５８の間の臨界角が増加されて、図面に図示したように基板１０５１をパスした光がカラーフィルター１０５２と偏光膜１０５８の界面をパスする確率が増加するようになる。
【０１０２】
前記カラーフィルター１０５２とブラックマットリックス１０５３はくだんの液晶表示装置の製造方法と等しい方式で異形フィルムＦ（図９参照）に印刷した後、その上に保護膜１０５６と接着剤１０５７と偏光膜１０５８が順に塗布された後、異形フィルムＦ上のカラーフィルター１０５２とブラックマットリックス１０５３、保護膜１０５６、接着剤１０５７、偏光膜１０５８が基板１０５１に一緒に転写される方式で基板１０５１の前方面に接着されることができる。
【０１０３】
勿論、これと違うように異形フィルムＦにカラーフィルター１０５２とブラックマットリックス１０５３形成して、他の異形フィルムＦに保護膜１０５６と接着剤１０５７と偏光膜１０５８を形成した後、基板１０５１の前方面にカラーフィルター１０５２とブラックマットリックス１０５３を先に転写して、保護膜１０５６と接着剤１０５７と偏光膜１０５８をその後に転写する方式でディスプレー装置を製造することもできる。
【０１０４】
異形フィルムＦに前記カラーフィルター１０５２とブラックマットリックス１０５３、保護膜１０５６、接着剤１０５７、偏光膜１０５８を形成する方法はくだんの液晶表示装置の製造方法に対する実施例と同一または似たり寄ったりに成り立つことができるところ、これに対する詳細な説明は略する。
【０１０５】
また、図１４は本発明のディスプレー装置の製造方法によって具現されることができる有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）の構造の他の実施例を示し、この実施例の有機発光ダイオードは図１３を参照して説明した有機発光ダイオードの基本的な構造と等しいが、ただそれぞれの個別画素のサーブピクセルを構成する有機発光素子１０５５が皆白色光（Ｗ）を発散する点で差がある。
【０１０６】
前記のように有機発光素子１０５５が皆白色光Ｗを発散するように構成される場合、くだんの実施例の有機発光ダイオードに比べて寿命を増大させることができるし、色再現性の向上する利点がある。すなわち、くだんの実施例の有機発光ダイオードと一緒に有機発光素子１０５５が赤色Ｒ、緑Ｇ、青色Ｂで成り立った場合青色（Ｂ）の有機発光素子１０５５は他の色の有機発光層に比べて寿命が短いから有機発光ダイオード全体の寿命を縮めさせて色再現性を低下させるが、この実施例とように有機発光素子１０５５を皆白色Ｗで構成する場合寿命が均一で長くなる利点を得ることができるようになる。
【０１０７】
勿論、この実施例の有機発光ダイオードのカラーフィルター１０５２とブラックマットリックス１０５３、保護膜１０５６、接着剤１０５７、偏光膜１０５８はくだんの実施例と等しく異形フィルムＦに先に塗布された後基板１０５１に転写されて接着される方式で基板１０５１面に均一で正確に形成される。
【０１０８】
次に、添付された図面を参照して本発明による液晶ディスプレー装置の薄膜トランジスタ製造方法の望ましい実施例を詳しく説明する。
【０１０９】
まず、図１５と図１６を参照して液晶ディスプレー装置の構造を手短に説明すれば次のようになる。
【０１１０】
図１５に図示されたように、液晶ディスプレー装置はアレイ基板２０１０とカラーフィルター基板２０２０が対向して構成されて、アレイ基板２０１０とカラーフィルター基板２０２０の間には液晶層２０３０が介在されている。
【０１１１】
前記アレイ基板２０１０は透明なガラス基板２０１１に正義された複数の画素Ｐごとに薄膜トランジスタＴと共通電極（図示せず）と画素電極２０１２が構成されている。
【０１１２】
前記共通電極（図示せず）と画素電極２０１２はアレイ基板２０１０上にお互いに一直線に離隔して構成されている。そして、前記画素Ｐの一側に付いて延長されたゲートライン２０１３と、これとは垂直した方向で延長されたデータライン２０１４が構成されて、前記共通電極（図示せず）に電圧を認可する共通配線（図示せず）が構成される。
【０１１３】
前記カラーフィルター基板２０２０には透明なガラス基板上に前記ゲートライン２０１３とデータライン２０１４と薄膜トランジスタＴに対応する部分にブラックマットリックス２０２１が構成されて、前記画素Ｐに対応してカラーフィルター２０２２が構成されている。
【０１１４】
前記薄膜トランジスタＴは図１６に図示されたようにゲート電極２００１と、ゲート電極２００１上部に絶縁膜２００２を間に置いて構成されたアクティブ層２００３、２００４（active layer）と、アクティブ層２００３、２００４の上部にお互いに離隔して構成されたソース電極２００５及びドレーン電極２００６と、ソース電極２００５及びドレーン電極２００６の上部を取り囲む酸化防止膜２００７を含む。前記アクティブ層２００３、２００４は非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ）階２００３とｎ＋非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ）階２００４で成り立つことができる。
【０１１５】
前記ゲート電極２００１はクロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、銅（Ｃｕ）、ＩＴＯなどの金属で成り立つことができるし、絶縁膜２００２はＳｉＮｘに成り立つことができる。そして、ソース電極２００５及びドレーン電極２００６はクロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、銅（Ｃｕ）などの金属で成り立って、酸化防止膜２００７はＳｉＮｘに成り立つことができる。前記酸化防止膜２００７はおおよそ２５００Åの厚さに形成されることが望ましい。
【０１１６】
前記液晶層２０３０は前記共通電極（図示せず）と画素電極２０１２の水平電界によって動作される。
【０１１７】
次に、図１７ないし図２３を参照して図１６に図示された薄膜トランジスタＴを製造する方法の一つの実施例を詳しく説明する。
【０１１８】
図１７に図示されたように、本発明の薄膜トランジスタ製造方法は大きく第１異形フィルムの一面に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を附着させる段階Ｓ２００１と、第２異形フィルムを第１異形フィルムの薄膜トランジスタが附着した面に合着させる段階Ｓ２００２と、第１異形フィルムを分離して薄膜トランジスタを第２異形フィルムに転写させる段階Ｓ２００３と、前記薄膜トランジスタが附着した第２異形フィルムの面を基板に附着させる段階Ｓ２００４と、前記薄膜トランジスタが基板に転写された状態で第２異形フィルムだけ基板で分離する段階Ｓ２００５で成り立つ。
【０１１９】
前記段階Ｓ２００１は図１８と図１９に図示されたように、複数個の印刷ローラー２１１０、２１２０、２１３０、２１４０、２１５０、２１６０、２１７０を具備した薄膜トランジスタ積層装置を利用して第１異形フィルムＲＦ２００１の一面に順次に薄膜トランジスタ構造を設定されたパターンに積層する工程で成り立つ。
【０１２０】
これをもうちょっと具体的に説明すれば、前記薄膜トランジスタ積層装置はゲート電極印刷ローラー２１１０と、絶縁膜印刷ローラー２１２０、非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ）階２００３（図１６参照）を形成する第１アクティブ層印刷ローラー２１３０、ＩＴＯ層２００８（図１６参照）を印刷するＩＴＯ層印刷ローラー２１４０、ｎ＋非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ）階２００４（図１６参照）を形成する第２アクティブ層印刷ローラー２１５０、ソース／ドレーン印刷ローラー２１６０、酸化防止膜印刷ローラー２１７０を具備して、第１異形フィルムＲＦ２００１は前記印刷ローラーらの外周面に順に密着されながら進行する。
【０１２１】
前記各印刷ローラー２１１０〜２１７０の間には第１異形フィルムＲＦ２００１の張力を維持するための張力認可用ローラー２１８０が配置される。
【０１２２】
前記各印刷ローラー２１１０〜２１７０には形成しようとする薄膜トランジスタＴの構造物に対応するパターンの成形溝が形成されている。例えば、ゲート電極印刷ローラー２１１０にはゲート電極２００１（図１６参照）のパターンと対応するパターンの成形溝２１１２が形成されているし、絶縁膜印刷ローラー２１２０には絶縁膜２００２（図１６参照）と対応するパターンの成形溝２１２２が形成されている。
【０１２３】
そして、図１９に図示されたように、各印刷ローラー２１１０〜２１７０の一側には該当の薄膜トランジスタ構造物を形成するための材料が供給される材料供給機２１１６、２１２６と、一端部が印刷ローラー２１１０〜２１７０の外周面に連接するように設置されて供給された材料が成形溝２１１２、２１２２にだけ収容されて成形溝２１１２、２１２２以外部分には材料が付かないようにするスクライバー２１１７、２１２７と、紫外線を照射して材料を硬化させるＵＶ硬化装置２１１５、２１２５などが構成される。
【０１２４】
前記のように構成された薄膜トランジスタ積層装置を利用して第１異形フィルムＲＦ２００１に薄膜トランジスタＴを形成する工程を説明すれば次のようになる。
【０１２５】
ゲート電極印刷ローラー２１１０の上側に設置された材料供給機２１１６を通じてゲート電極形成用材料が供給される。
【０１２６】
前記ゲート電極印刷ローラー２１１０の上側に供給された金属材料は成形溝２１１２内側に収容された後、第１異形フィルムＲＦ２００１と接する部分で第１異形フィルムＲＦ２００１の面に附着して、ＵＶ硬化装置２１１５によって硬化された後、第１異形フィルムＲＦ２００１がゲート電極印刷ローラー２１１０で分離する地点で第１異形フィルムＲＦ２００１の面に附着して一緒に移動する。
【０１２７】
前記のように一面にゲート電極２００１（図１６参照）が設定されたパターンに形成された第１異形フィルムＲＦ２００１は絶縁膜印刷ローラー２１２０をパスするようになって、くだんのことと等しい過程で絶縁膜印刷ローラー２１２０に絶縁膜形成用材料が供給されてゲート電極２００１上に設定されたパターンで絶縁膜２００２が積層される。
【０１２８】
以後、第１異形フィルムＲＦ２００１は製１アクティブ層印刷ローラー２１３０、ＩＴＯ層印刷ローラー２１４０、第２アクティブ層印刷ローラー２１５０、ソース／ドレーン印刷ローラー２１６０、酸化防止膜印刷ローラー２１７０を順にパスしながらくだんのことと等しい過程でアクティブ層２００３、２００４（図１６参照）と、ＩＴＯ層２００８、ソース電極２００５、ドレーン電極２００６、酸化防止膜２００７が順に積層形成される。
【０１２９】
一方、第１異形フィルムＲＦ２００１に薄膜トランジスタＴを形成するための薄膜トランジスタ積層装置は製造しようとする薄膜トランジスタの構造によって変更が可能だ。例えば、図２０に図示されたようにゲート電極２００１、絶縁膜２００２、アクティブ層２００３ａ、ソース電極２００５及びドレーン電極２００６、ＭＯＳキャパシター２００９（MOS Capacitor）で構成された薄膜トランジスタを製造しようとする場合、薄膜トランジスタ積層装置は図２１に図示されたようにゲート電極印刷ローラー２２１０、絶縁膜印刷ローラー２２２０、アクティブ層印刷ローラー２２３０、ソース／ドレーン電極印刷ローラー２２４０、ＭＯＳキャパシター印刷ローラー２２５０で構成されることができる。
【０１３０】
前記のように第１異形フィルムＲＦ２００１に所望の構造の薄膜トランジスタＴが形成されれば、図２２に図示されたように第１異形フィルムＲＦ２００１を第２異形フィルムＲＦ２００２と合着する。
【０１３１】
引き継いで、図２３に図示されたように第１、２異形フィルムハブチァックチェを基板との接合工程位置に移送して、第１異形フィルムＲＦ２００１を分離して第２異形フィルムＲＦ２００２に薄膜トランジスタＴが移されて附着するようにして、第２異形フィルムＲＦ２００２を加圧ローラー２３００と基板２０１１の間を通過させながら加圧ローラー２３００ローゼ２異形フィルムＲＦ２００２を基板２０１１に対して加圧して薄膜トランジスタＴを基板２０１１面に転写させる。
【０１３２】
この状態で前記第２異形フィルムＲＦ２００２を分離させれば基板２００１の外面に薄膜トランジスタＴが所望のパターンで附着した状態で残っているようになる。
【０１３３】
このように本発明によれば、異形フィルムＲＦ２００１、ＲＦ２００２に所望の構造とパターンの薄膜トランジスタＴを印刷した後、これを基板２０１１に転写させて基板２０１１に薄膜トランジスタＴを形成するので薄膜トランジスタ製造工程が非常に単純になって容易くなる利点を得ることができる。
【０１３４】
次に図２４を参照すれば、本発明によるディスプレー装置の製造方法は大きく複数個の異形フィルムそれぞれに所定の薄膜層を形成する段階Ｓ３００１と、前記それぞれの異形フィルムの薄膜層を基板の面または基材フィルムの面に接着した後異形フィルムを剥離させる工程を連続的に遂行して基板面または基材フィルムの面に複数個の薄膜層を積層させる段階Ｓ３００２と、前記基板または基材フィルムに薄膜層を積層する過程または前記基板に薄膜層が積層された後基板または基材フィルムを熱処理するとかＵＶ硬化処理する段階Ｓ３００３で構成される。
【０１３５】
図２５ないし図２７を参照して本発明によるディスプレー装置の製造方法の一実施例として高分子発光ダイオード（ＰＬＥＤ）を製造する方法を説明すれば次のようになる。
【０１３６】
まず、図２５に図示されたように高分子発光ダイオード（ＰＬＥＤ）はガラスになった基板３００１に順に積層されるアノード（Ａｎｏｄｅ）ＩＴＯ電極層３００２、有機薄膜層３００３、カソード（ｃａｔｈｏｄｅ）電極層３００８で成り立つ。
【０１３７】
ここで、前記有機薄膜層３００３は、正孔注入層（ＨＩＬ： Hole Injection Layer）３００４、正孔輸送層（ＨＴＬ： Hole Transport Layer）３００５、有機発光層（ＥＭＬ： Emitting Layer）３００６、電子輸送層（ＥＴＬ： Electron Transport Layer）３００７などで成り立つことができる。
【０１３８】
図２６と図２７は本発明のディスプレー装置製造方法を適用して前記のような構成を持つ高分子発光ダイオード（ＰＬＥＤ）を製造するための装置の一つの実施例を示す。
【０１３９】
先に、ＰＡＴなどで作られた基材フィルムにアノードＩＴＯ電極層を蒸着して電極フィルム３００２ａを製作する一方、図２６に図示したことのようなオフセット（ｏｆｆ−ｓｅｔ）技術とローラースクライビング（roller scribing）技術を混合した方式の有機薄膜層製造装置を利用して複数個の異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａに正孔注入層（ＨＩＬ）３００４、正孔輸送層（ＨＴＬ）３００５、有機発光層（ＥＭＬ）３００６、電子輸送層（ＥＴＬ）３００７をそれぞれ所定のパターンに塗布する。
【０１４０】
図２６に図示された有機薄膜層製造装置は有機薄膜層（例えば、正孔注入層）形成用高分子樹脂Ｒが盛られた樹脂供給部３１１１と、前記樹脂供給部３１１１の上側に回転可能に設置されて下端部外周面が前記樹脂供給部３１１１に盛られた有機薄膜層樹脂Ｒに掛かられる樹脂供給ローラー３１１２と、前記樹脂供給ローラー３１１２の上側に連接するように設置されて外周面に有機薄膜層と対応するパターンのパターン溝３１１４が形成されて前記樹脂供給ローラー３１１２の外周面からパターン溝３１１４内側で樹脂を伝達受けるパターン形成ローラー３１１３と、前記パターン形成ローラー３１１３の上側に連接するように設置されてパターン形成ローラー３１１３のパターン溝３１１４から樹脂を伝達受けるブランケットローラー３１１５（blanket roller）と、前記ブランケットローラー３１１５の上側に連接するように設置されてブランケットローラー３１１５の外周面をパスする異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａをブランケットローラー３１１５に対して加圧して有機薄膜層樹脂を異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａに接合させる加圧ローラー３１１６を含んで構成される。
【０１４１】
前記パターン形成ローラー３１１３の一側にはパターン形成ローラー３１１３の外面に陸は樹脂がパターン溝３１１４以外の部分には付かないように掻き出すスクライバー３１１７が設置される。そして、前記ブランケットローラー３１１５の一側にはブランケットローラー３１１５の外周面で紫外線（ＵＶ）を照射して有機薄膜層樹脂Ｒを硬化させるＵＶ硬化装置３１１８が設置される。
【０１４２】
前記のように構成された有機薄膜層製造装置３０１０によって異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａに有機薄膜層３００４、３００５、３００６、３００７が形成される工程を説明すれば次のようになる。
【０１４３】
樹脂供給ローラー３１１２が回転すれば樹脂供給ローラー３１１２の外周面に樹脂供給部３１１１の有機薄膜層樹脂Ｒがついてしまう。この時、前記パターン形成ローラー３１１３は樹脂供給ローラー３１１２と反対方向で回転しながら樹脂供給ローラー３１１２に有機薄膜層樹脂Ｒを伝達する。
【０１４４】
前記パターン形成ローラー３１１３で伝達した有機薄膜層樹脂Ｒはスクライバー３１１７を経ちながらパターン溝３１１４外側についてあるものなどは除去されてパターン溝３１１４内側に収容されたことだけ居残るようになる。
【０１４５】
前記パターン形成ローラー３１１３のパターン溝３１１４内側に収容されていた有機薄膜層樹脂Ｒはブランケットローラー３１１５と連接する部分で表面エネルギーがパターン形成ローラー３１１３に比べて相対的に高いブランケットローラー３１１５の外周面に移されるようになる。
【０１４６】
前記ブランケットローラー３１１５に移された有機薄膜層樹脂ＲはＵＶ硬化装置３１１８によって硬化されてどの位の粘性を持つようになって、以後加圧ローラー３１１６とブランケットローラー３１１５の間をパスする異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａの一面に接合される。
【０１４７】
勿論、この実施例とは違うプリンティング方式またはインクジェット方式などで異形フィルムに有機薄膜層を形成することもできる。
【０１４８】
一方、上述したこととように異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａそれぞれに正孔注入層３００４または正孔輸送層３００５、有機発光層３００６、電子輸送層３００７が塗布されれば、図２７に図示されたことのような装置を利用して各異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａの有機薄膜層を電極フィルム３００２ａに順次に積層させる。
【０１４９】
もうちょっと具体的に説明すれば、ＩＴＯ電極層が蒸着された電極フィルム３００２ａをピディングスプル３０１０に装着して、電極フィルム３００２ａの一端部を第１〜５加圧ローラー３０４１〜３０４５を通過させてワインディングスプール３０２０に絡められられるように設置する。そして、前記有機薄膜層が塗布された異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａらと電極フィルム３００２ａの一面を保護する作用などをする機能性フィルム３００９をスプール（ｓｐｏｏｌ）３０３１〜３０３５に装着する。理解を助けるために前記正孔注入層（ＨＩＬ）３００４が塗布された異形フィルム３００４ａが装着されたスプールを第１スプール３０３１と言って、機能性フィルム３００９が装着されたスプールを第２スプール３０３２、正孔輸送層（ＨＴＬ）３００５が塗布された異形フィルム３００５ａが装着されたスプールを第３スプール３０３３、有機発光層（ＥＭＬ）３００６が塗布された異形フィルム３００６ａが装着されたスプールを第４スプール３０３４、電子輸送層（ＥＴＬ）３００７が塗布された異形フィルム３００７ａが装着されたスプールを第５スプール３０３５と命じて説明する。
【０１５０】
前記第１〜５スプール３０３１〜３０３５に装着された異形フィルム３００４ａ、３００９、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａは前記電極フィルム３００２ａと一緒にそれぞれ第１〜５加圧ローラー３０４１〜３０４５をパスして電極フィルム３００２ａの面に密着された後、図面に図示されない回収用スプールに絡められられる。
【０１５１】
前記のように構成された電極フィルム３００２ａと異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａらが装着された状態でワインディングスプール３０２０と回収用スプール（図示せず）を回転させて電極フィルム３００２ａと異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａを巻けば、電極フィルム３００２ａと異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａらが第１〜５加圧ローラー３０４１〜３０４５の間をパスしながら異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａの薄膜層３００４、３００５、３００６、３００７が電極フィルム３００２ａ上に順に転写される。
【０１５２】
すなわち、正孔注入層（ＨＩＬ）３００４が塗布された異形フィルム３００４ａが電極フィルム３００２ａと一緒に第１加圧ローラー３０４１をパスしながら電極フィルム３００２ａのＩＴＯ電極層の外面に転写されて接合される。前記正孔注入層３００４は高分子物質で成り立っているので別途の接着剤なしに電極フィルム３００２ａ上に接着される。
【０１５３】
引き継いで、電極フィルム３００２ａと機能性フィルム３００９が第２加圧ローラー３０４２の間をパスしながら電極フィルム３００２ａの他の一面、すなわちＩＴＯ電極層が形成されている面の反対面に機能性フィルム３００９が接合される。
【０１５４】
そんな後、前記電極フィルム３００２ａが第３加圧ローラー３０４３と第４加圧ローラー３０４４、第５加圧ローラー３０４５を順にパスしながら電極フィルム３００２ａに積層された正孔注入層３００４上に正孔輸送層３００５と有機発光層３００６、電子輸送層３００７が順に転写されて積層される。前記第１〜５加圧ローラー３０４１〜３０４５をパスした異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａらと機能性フィルム３００９は回収用スプール（図示せず）に絡められられる。
【０１５５】
上述したこととように前記第１〜５加圧ローラー３０４１〜３０４５をパスしながら一面に正孔注入層３００４と正孔輸送層３００５、有機発光層３００６、電子輸送層３００７が順に積層されて、他の一面に機能性フィルム３００９が接合された電極フィルム３００２ａはワインディングロール３０２０に絡められられる。
【０１５６】
一方、前記のように電極フィルム３００２ａと異形フィルム３００４ａ、３００５ａ、３００６ａ、３００７ａらを加圧ローラー３０４１〜３０４５の間を通過させて電極フィルム３００２ａ上に薄膜層を転写させて積層した後熱処理または紫外線（ＵＶ）硬化処理を遂行して各薄膜層の界面接着力を増大させることが望ましい。勿論、このような熱処理または紫外線（ＵＶ）硬化処理は多数の薄膜層の積層を遂行する過程で遂行されることもできる。
【０１５７】
前記ワインディングロール３０２０に絡められられた電極フィルム３００２ａは以後他の工程位置で返送されて、機能性フィルム３００９が電極フィルム３００２ａで分離した後ガラス基板３００１（図２４参照）上に接合されて、積層された有機薄膜層３００３上にカソード電極３００８（図２４参照）が蒸着されてディスプレー素子を構成するようになる。
【０１５８】
くだんの実施例のディスプレー装置製造方法は高分子発光ダイオード（ＰＬＥＤ）を製造する方法に関することや、本発明は有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）などのディスプレー装置にも同一または似たり寄ったりに適用されることができる。
【０１５９】
次に、図２８を参照してイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の構造の一例に対して手短に説明する。図２８に図示されたようにイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置は上部基板４００１及び下部基板４００２と、前記上部基板４００１の下面に形成されるブラックマットリックス４００３及びカラーフィルター４００４と、前記カラーフィルター４００４の下側に形成されるイン―セル位相差フィルム４００５と、前記イン―セル位相差フィルム４００５の下面に積層されるＩＴＯ層４００６と、前記下部基板４００２の対面に順に形成されるＩＴＯ層４００７とＴＦＴ４００８と、前記上部基板４００１と下部基板４００２の間に注入される液晶層４００９で成り立つ。
【０１６０】
前記イン―セル位相差フィルム４００５はＰＶＡ／ＴＡＣ／ＰＶＡなどで成り立つ偏光フィルムとして位相のためを償う役目をする。
【０１６１】
次に図２９ないし図３３を参照して本発明によるイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の製造方法の一実施例を詳しく説明する。
【０１６２】
図２９を参照すれば、本発明のイン―セルタイプ液晶ディスプレー装置の製造方法は異形フィルムの一面にイン―セル位相差フィルムを附着する段階Ｓ４００１と、前記異形フィルムのイン―セル位相差フィルム上にＩＴＯ層を形成する段階Ｓ４００２と、前記イン―セル位相差フィルム及びＩＴＯ電極層が塗布された異形フィルムの面を基板または基板に形成されたカラーフィルター上に附着させる段階Ｓ４００３、そして前記イン―セル位相差フィルムが基板または基板に形成されたカラーフィルター上に転写された状態で異形フィルムだけ基板で分離する段階Ｓ４００４を含む。
【０１６３】
段階Ｓ４００１では図３０に図示されたようにイン―セル位相差フィルム４００５と異形フィルム４０１０を相互接する複数個のプレスローラー４０２０の間を同時に通過させながら加圧して異形フィルム４０１０の一面（接着剤が塗布されている面）にイン―セル位相差フィルム４００５を合着させる。ここで、前記イン―セル位相差フィルム４００５はくだんのようにＰＶＡ／ＴＡＣ／ＰＶＡなどで成り立つ偏光フィルムだ。
【０１６４】
前記のように異形フィルム４０１０の接着剤塗布面にイン―セル位相差フィルム４００５を接着させた後、異形フィルム４０１０にＩＴＯ層４００６を形成する段階Ｓ４００２を遂行する。この段階Ｓ４００２は例えば図３１に図示されたようにイン―セル位相差フィルム４００５が接着された異形フィルム４０１０をＩＴＯ樹脂塗布用ローラー４０３０の外周面に密着されるように移送させながらイン―セル位相差フィルム４００５の面にＩＴＯ樹脂をコーティングする湿式コーティング方式で成り立つことができる。
【０１６５】
この実施例ではＩＴＯ層４００６を形成する段階Ｓ４００２が段階Ｓ４００１以後に直ちに連続的に実施されるが、これと違うようにイン―セル位相差フィルム４００５を上部基板４００１のカラーフィルター４００４に附着させた以後にスパッタリング方式などでイン―セル位相差フィルム４００５の外面にＩＴＯ層４００６を形成することもできる。
【０１６６】
引き継いで、図３２に図示したように前記異形フィルム４０１０（一番目異形フィルム）のイン―セル位相差フィルム４００５及びＩＴＯ層４００６の外面に他の異形フィルム４０１０（二番目異形フィルム）を接着させて、一番目異形フィルム４０１０を分離させれば二番目異形フィルム４０１０上にＩＴＯ層４００６及びイン―セル位相差フィルム４００５が接着された状態で残るようになる。
【０１６７】
そんな後、図３３に図示したように、前記二番目異形フィルム４０１０をカラーフィルター４００４が形成されている上部基板４００１とプレスローラー４０４０の間を通過させながら上部基板４００１の面に対して加圧させれば、上部基板４００１のカラーフィルター４００４の外面にイン―セル位相差フィルム４００５が接着される。この状態で前記二番目異形フィルム４０１０を分離させれば上部基板４００１のカラーフィルター４００４の外面にイン―セル位相差フィルム４００５及びＩＴＯ層４００６が順に積層された状態で残っているようになる。
【０１６８】
この実施例では前記上部基板４００１にあらかじめカラーフィルター４００４が塗布されていてイン―セル位相差フィルム４００５を前記カラーフィルター４００４上に接着させる方式で上部基板４００１−カラーフィルター４００４−イン―セル位相差フィルム４００５−ＩＴＯ層４００６をお互いに一体化させているが、これと違うように異形フィルム４０１０にカラーフィルター４００４及びブラックマットリックス４００３を塗布した後その上にイン―セル位相差フィルム４００５とＩＴＯ層４００６を順に積層させた後、異形フィルム４０１０を基板４００１に附着させて基板４００１にカラーフィルター４００４−イン―セル位相差フィルム４００５−ＩＴＯ層４００６を一図に転写させることもできる。
【０１６９】
また、くだんの実施例では上部基板４００１にカラーフィルター４００４が形成されて、カラーフィルター４００４上にイン―セル位相差フィルム４００５とＩＴＯ層４００６を形成したが、下部基板４００２にイン―セル位相差フィルム４００５を形成しようとする場合には下部基板４００２面にすぐイン―セル位相差フィルム４００５とＩＴＯ層４００６を形成することもできる。
【０１７０】
次に、図３４は本発明の一実施例によるディスプレー装置として有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）の構成の主要簿を示す断面図で、この実施例のディスプレー装置は偏光フィルム５０１０が複数個のレンズパターン５０３１が形成された接着剤層５０３２によって有機発光ダイオードのガラス基板５０２０の光出射面に一体に接着された構造を持つ。
【０１７１】
ここで、前記接着剤層５０３２及びレンズパターン５０３１は偏光フィルム５０１０を基板５０２０に接着させることと一緒に基板５０２０の出射面を通じて出射される光線の進行方向を変更させる光経路変化手段を構成する。
【０１７２】
前記偏光フィルム５０１０はガラス基板５０２０面に単純に接着剤を塗布してその上に附着する方式ではなく、偏光フィルム５０１０が接着剤層５０３２及びレンズパターン５０３１と一緒に異形フィルム５０５０に附着した後異形フィルム５０５０−偏光フィルム５０１０接合体をガラス基板５０２０に当て異形フィルム５０５０を剥離する方式でガラス基板５０２０に附着する。この方法に対しては以後に図３８を参照してさらに詳しく説明する。
【０１７３】
一方、くだんのように前記レンズパターン５０３１は半球型ドーム形態または多角面体、円錐、多角錐形態で成り立って光線を反射または屈折させて進行方向を変化させる機能をする。前記レンズパターン５０３１は基板の上部面にドット（ｄｏｔ）形状またはストライプ（ｓｔｒｉｐｅ）形状で配置することができるし（図示せず）、均一な面の高さを持つように構成するのが望ましい。しかし、ディスプレー装置の光学的視覚不良が発生する場合にはレンズパターンの高さの補正を行って多様な面の高さを持つように構成して光学的視覚不良を解消することができる。レンズパターンの形状、配置形状及び面の高さに対して説明したが、これは一例示であるだけこれと等しいことで見られるレンズパターンの形状、配置形状及び面の高さの単純な変更または変形は均等範囲で皆本発明の権利範囲に属する。
【０１７４】
前記レンズパターン５０３１は光抽出効率を進めるように前記ガラス基板５０２０の屈折率より高い屈折率を持つ樹脂で成り立って、前記接着剤層５０３２は前記レンズパターン５０３１の屈折率より高い屈折率を持つ樹脂で成り立つのが望ましい。
【０１７５】
前記のように偏光フィルム５０１０とガラス基板５０２０の間にレンズパターン５０３１が介在されれば、光源（図示せず）で放出されてガラス基板５０２０をパスした光線がレンズパターン５０３１で反射または屈折されながら進行方向が変わるようになって、反射または屈折された非偏光された光線の一部が偏光フィルム５０１０をパスして進行するようになるので光損失を減らすことができるようになる。
【０１７６】
次に、図３５ないし図３８を参照してくだんの実施例のディスプレー装置製造方法に対して説明すれば次のようになる。
【０１７７】
前記のような光経路変化手段を有するディスプレー装置製造方法は大きく異形フィルムに複数個のレンズパターンを附着させる段階Ｓ５００１と、前記レンズパターンが附着した異形フィルムの面に接着剤層を塗布する段階Ｓ５００２と、前記異形フィルムのレンズパターンが附着した面に偏光フィルムを附着させる段階Ｓ５００３と、前記偏光フィルム−異形フィルム接合体で異形フィルムを分離させながら偏光フィルム及びレンズパターンが形成された接着剤層をディスプレー装置のガラス基板に接着させる段階Ｓ５００４で構成される。
【０１７８】
図３６は前記各段階の中で異形フィルムに複数個のレンズパターンを附着させる段階Ｓ５００１を遂行する装置の一実施例を示し、図３６に図示された装置はレンズパターン用樹脂Ｒが盛られた樹脂供給部５１１１と、前記樹脂供給部５１１１の上側に回転可能に設置されて下端部外周面が前記樹脂供給部５１１１に盛られたレンズパターン用樹脂Ｒに掛かられる樹脂供給ローラー５１１２と、前記樹脂供給ローラー５１１２の上側に連接するように設置されて外周面に有機薄膜層と対応するパターンの成形溝５１１４が形成されて前記樹脂供給ローラー５１１２の外周面から成形溝５１１４内側で樹脂を伝達受けるパターン形成ローラー５１１３と、前記パターン形成ローラー５１１３の上側に連接するように設置されてパターン形成ローラー５１１３の成形溝５１１４から樹脂を伝達受けるブランケットローラー５１１５（blanket roller）と、前記ブランケットローラー５１１５の上側に連接するように設置されてブランケットローラー５１１５の外周面をパスする異形フィルム５０５０をブランケットローラー５１１５に対して加圧してレンズパターン用樹脂を異形フィルム５０５０に接合させる加圧ローラー５１１６を含んで構成される。
【０１７９】
前記パターン形成ローラー５１１３の一側にはパターン形成ローラー５１１３の外面に陸は樹脂が成形溝５１１４以外の部分にはついてないように掻き出すスクライバー５１１７が設置される。そして、前記ブランケットローラー５１１５の一側にはブランケットローラー５１１５の外周面で紫外線（ＵＶ）を照射してレンズパターン用樹脂Ｒを硬化させるＵＶ硬化装置５１１８が設置される。
【０１８０】
前記のように構成された装置によって異形フィルム５０５０にレンズパターン５０３１が形成される工程を説明すれば次のようになる。
【０１８１】
樹脂供給ローラー５１１２が回転すれば樹脂供給ローラー５１１２の外周面に樹脂供給部５１１１のレンズパターン用樹脂Ｒが塗布される。この時、前記パターン形成ローラー５１１３は樹脂供給ローラー５１１２と反対方向で回転しながら樹脂供給ローラー５１１２に塗布されたレンズパターン用樹脂Ｒが伝達される。
【０１８２】
前記パターン形成ローラー５１１３で伝達したレンズパターン用樹脂Ｒ中成形溝５１１４外側に塗布された樹脂はスクライバー５１１７によって除去されて、成形溝５１１４内側に収容される樹脂が居残るようになる。
【０１８３】
前記パターン形成ローラー５１１３の成形溝５１１４内側に収容されていたレンズパターン用樹脂Ｒはブランケットローラー５１１５と連接する部分で表面エネルギーがパターン形成ローラー５１１３に比べて相対的に高いブランケットローラー５１１５の外周面に移されるようになる。
【０１８４】
前記ブランケットローラー５１１５に移されたレンズパターン用樹脂ＲはＵＶ硬化装置５１１８によって硬化されてどの位の粘性を持つようになって、以後加圧ローラー５１１６とブランケットローラー５１１５の間をパスする異形フィルム５０５０の一面に接合される。
【０１８５】
図３７は異形フィルムに複数個のレンズパターンを附着させる段階Ｓ５００１を遂行する装置の他の実施例を示し、図３７に図示された装置はレンズパターン５０３１と対応するパターンの成形溝５２１２が形成された成形ローラー５２１１と、この成形ローラー５２１１の上側でレンズパターン用樹脂Ｒを供給する樹脂供給部５２１６と、前記成形ローラー５２１１の両側に連接するように設置された一番の加圧ローラー５２１４と、前記成形ローラー５２１１の外周面に塗布された樹脂を掻いて成形ローラー５２１１の成形溝５２１２内側にだけ樹脂が居残るようにするスクライバー５２１７と、前記成形ローラー５２１１の一側で樹脂を硬化させるための紫外線（ＵＶ）を照射するＵＶ硬化装置５２１５を含んで構成される。
【０１８６】
このように構成された装置を利用して異形フィルム５０５０にレンズパターン５０３１を附着させる工程は次のように成り立つ。
【０１８７】
図３７に図示したように異形フィルム５０５０が成形ローラー５２１１及び加圧ローラー５２１４の間をパスしながら成形ローラー５２１１に密着されて進行するようにした状態で成形ローラー５２１１上側で一方向に回転する成形ローラー５２１１の外面にレンズパターン用樹脂Ｒを供給する。
【０１８８】
前記成形ローラー５２１１の外面に供給されたレンズパターン用樹脂Ｒはスクライバー５２１７によって掻かれながら成形溝５２１２内側にだけ居残るようになる。前記成形ローラー５２１１の成形溝５２１２内側に収容されたレンズパターン用樹脂Ｒは成形ローラー５２１１と異形フィルム５０５０が分離する地点で異形フィルム５０５０に移されて接着されて、こういうわけで異形フィルム５０５０にレンズパターン５０３１が決まったパターンに形成される。
【０１８９】
図面に図示しなかったが、異形フィルム５０５０の一面にレンズパターン５０３１を形成した後、レンズパターン５０３１が形成された異形フィルム５０５０の面に他の異形フィルム５０５０を附着してこの二番目異形フィルム５０５０にレンズパターン５０３０が移されて附着するようにする作業が遂行される。
【０１９０】
前記のようにレンズパターン５０３１が塗布された異形フィルム５０５０は図３８に図示されたように偏光フィルム５０１０と異形フィルム５０５０を合着する装置で移送されて、接着制塗布機５３００を通じてレンズパターン５０３１が形成された面に接着剤が塗布されて接着剤層５０３２が形成された後、偏光フィルム５０１０と一緒に一番の加圧ローラー５４００の間を同時にパスしながらお互いに合着される。
【０１９１】
以後、前記偏光フィルム５０１０−異形フィルム５０５０接合体で異形フィルム５０５０が分離して、偏光フィルム５０１０の一面にレンズパターン５０３１及び接着剤５０１２だけ残るようになって、偏光フィルム５０１０のレンズパターン形成面が接着剤５０１２によってガラス基板５０２０の面に附着して図３４に図示されたことのような構造のディスプレー装置を成すようになる。
【０１９２】
前記偏光フィルム５０１０をディスプレー装置のガラス基板５０２０に附着させる工程は偏光フィルム５０１０と異形フィルム５０５０を相互接合させる工程以後にすぐ連続して実施されることもできるが、異形フィルム５０５０−偏光フィルム５０１０接合体を別途の工程位置に移動させて異形フィルム５０５０を剥離させることと同時に偏光フィルム５０１０をガラス基板５０２０に接合させる工程を遂行することもできる。
【０１９３】
また、偏光フィルム５０１０の面の中でレンズパターン５０３１が形成されない面に他の異形フィルム５０５０（二番目異形フィルム）を接着させて２個の異形フィルム５０５０の間に偏光フィルム５０１０とレンズパターン５０３１をサンドイッチさせた後、一番目異形フィルム５０５０を分離させて偏光フィルム５０１０をガラス基板５０２０に附着させた後二番目異形フィルム５０５０を分離する方式で偏光フィルム５０１０をガラス基板５０２０に附着させることもできる。
【０１９４】
くだんの実施例では光経路変化手段を構成するレンズパターン５０３１が接着剤層５０３２と違う別途の樹脂で成り立って接着剤層５０３２内で決まったパターンを成しているが、図３９に図示されたように第１接着剤層５１３１自体に多角形（この実施例で六面体）凹凸形態のレンズパターン５１３２が一体に形成されて、前記それぞれのレンズパターン５１３２の間に第２接着剤層５１３３が塗布された構造で光経路変化手段を形成することができる。
【０１９５】
ここで、前記第１接着剤層５１３１はディスプレー装置の基板５０２０の出射面に沿って形成されて基板５０２０の出射面に接着されて、第２接着剤層５１３３は偏光フィルム５０１０の入射面に対して接着される。
【０１９６】
また、前記第１接着剤層５１３１は基板５０２０及び偏光フィルム５０１０より高い屈折率の樹脂で成り立って、第２接着剤層５１３３は製１接着剤層５１３１に比べて相対的に低い屈折率の樹脂で成り立つ。よって、前記基板５０２０で出射されてレンズパターン５１３２で進行する光線の中で臨界角より大きい入射角を持つ光線がレンズパターン５１３２の面で全反射されて進行方向が変更されて、進行方向が変更された光線の中で一部がレンズパターン５１３２または第１接着剤層５１３１で再反射されながら臨界角以下の角度でまたレンズパターン５１３２の出射面で進行して偏光フィルム５０１０のピョングァンツック５０１０ａ）の間を通じて外部に透過される。すなわち、レンズパターン５１３２によって偏光フィルム５０１０に吸収される光線の一部がリサイクルされて偏光フィルム５０１０を透過するようになる。
【０１９７】
したがって、偏光フィルム５０１０がすぐ基板５０２０の出射面に連接する既存のディスプレー装置に比べて偏光フィルム５０１０での光吸収量を減少させることができるようになる。ただ、図３９でレンズパターン５１３２は製１接着剤層５１３１によって基板５０２０と離隔されて表現したが、レンズパターン５１３２が基板５０２０と離隔されるのなく接着されるように構成することもできる。レンズパターン５１３２及び基板５０２０の離隔位と係わって当業者が容易く変形することができる微細な設計変更は皆本発明の権利範囲に属する。
【０１９８】
前記第１接着剤層５１３１と第２接着剤層５１３３はくだんの一番目実施例と類似の方式でディスプレー装置基板５０２０の出射面に接着される。すなわち、図４０に図示されたように、異形フィルム５０５０の一面にレンズパターン５１３２が形成されるように第１接着剤層５１３１を印刷方式に塗布して（段階Ｓ５０１１）、前記第１接着剤層５１３１上のレンズパターン５１３２の間に第２接着剤層５１３３を印刷方式に塗布した後（段階Ｓ５０１２）、異形フィルム５０５０を偏光フィルム５０１０と接着させて（段階Ｓ５０１３）、異形フィルム５０５０−偏光フィルム５０１０接合体で異形フィルム５０５０を分離しながら偏光フィルム５０１０及び第１、２接着剤層５１３１、５１３３を基板５０２０の出射面に附着させる方式で基板５０２０の出射面に第１、２接着剤層５１３１、５１３３を接合させる（段階Ｓ５０１４）。
【０１９９】
くだんのように本発明のディスプレー装置は基板５０２０の出射面と偏光フィルム５０１０の間にレンズパターン５０３１（図３４参照）と接着剤層５０３２（図３４参照）、またはレンズパターン５１３２（図３９参照）を持つ第１接着剤層５１３１と第２接着剤層５１３３で成り立った光経路変化手段が介在されて基板５０２０で出射された光線の一部を反射または屈折させて臨界角以下の角度に変化させて、こういうわけで偏光フィルム５０１０に吸収される光線の量を低減させて光透過度を進めることができる。
【０２００】
また、本発明のディスプレー装置は異形フィルム５０５０に光経路変化手段を形成して、偏光フィルム５０１０を前記異形フィルム５０５０の光経路変化手段が形成された面に附着させた後、異形フィルム５０５０−偏光フィルム５０１０接合体で異形フィルム５０５０を分離しながら偏光フィルム５０１０と光経路変化手段を基板５０２０面に接合させる方式に製造される。よって、製造が非常に容易く簡単に成り立つことができる利点がある。
【０２０１】
図４１と図４２はそれぞれ基板３面に多数のマイクロレンズＬとＩＴＯ層７１が形成されたディスプレー装置７０とこのディスプレー装置７０を製造するための装置の構成を示し、この実施例のディスプレー装置は、異形フィルムＲの接着剤塗布層にマイクロレンズＬを成形する段階と、前記マイクロレンズＬが形成された異形フィルムＲの接着剤塗布層にＩＴＯ附着のための別途の接着剤７２を追加的に塗布する段階と、前記接着剤７２が塗布された異形フィルムＲの面にＩＴＯ層７１を形成する段階と、前記異形フィルムＲ−マイクロレンズＬ及び接着剤層−ＩＴＯ層７１で成り立った接合体で異形フィルムＲを分離させてマイクロレンズＬ及び接着剤層７２とＩＴＯ層７１で成り立ったフィルムを基板３に接合させる段階を経って製造される。
【０２０２】
前記マイクロレンズＬとＩＴＯ層７１が形成されたディスプレー装置を製造する過程を図４１及び図４２を参照してさらに具体的に説明すれば次のようになる。
【０２０３】
先に、外周面にマイクロレンズＬと対応する形状の成形溝が形成されたレンズ成形ローラー３０１の下部外周面に異形フィルムＲが密着されながら経つようにした状態で、前記レンズ成形ローラー３０１にマイクロレンズ形成用樹脂を供給する。この時、前記レンズ成形ローラー３０１に供給された樹脂はスクライビングローラー３０３をパスしながらそれぞれの成形溝内側に挿入された後、ＵＶ硬化装置３０４によって硬化されて、引き継いでレンズ成形ローラー３０１の下側で異形フィルムＲの接着剤塗布層に接着される。この時、前記レンズ成形ローラー３０１の下側で複数個のプレスローラー３０２がレンズ成形ローラー３０１に対して異形フィルムＲを加圧してマイクロレンズＬらが異形フィルムＲに十分な圧力に接着されるようにすることが望ましい。
【０２０４】
引き継いで、前記マイクロレンズＬが附着した異形フィルムＲは接着剤塗布ローラー３０５の下部面を通るようになる。この時、前記接着剤塗布ローラー３０５の上部で接着剤７２が供給されて、供給された接着剤７２は接着剤塗布ローラー３０５の外周面に塗布された後異形フィルムＲで移されて附着する。この時、前記接着剤塗布ローラー３０５の下側で複数個のプレスローラー３０６が接着剤塗布ローラー３０５に対して異形フィルムＲを加圧することと一緒に加熱装置（図示せず）で熱を加えて接着剤７２が異形フィルムＲの面に堅固に附着するようにすることが望ましい。
【０２０５】
その次、前記のように接着剤が塗布された異形フィルムＲはＩＴＯ塗布ローラー３０７の下部面に密着されながら経つようになるのに、この時ＩＴＯ塗布ローラー３０７の上側でＩＴＯ樹脂が供給されて前記接着剤７２が塗布されている異形フィルムＲの面にＩＴＯ層７１が塗布される。勿論、この時にもＩＴＯ塗布ローラー３０７の下側で複数個のプレスローラー３０８がＩＴＯ塗布ローラー３０７に対して異形フィルムＲを加圧することと同時にＵＶ硬化装置で紫外線を照射してＩＴＯ樹脂を硬化させる。
【０２０６】
このように異形フィルムＲにマイクロレンズＬと接着剤７２、ＩＴＯ層７１が順に形成されれば、異形フィルムＲを分離させてマイクロレンズＬ−接着剤７２−ＩＴＯ層７１で成り立ったフィルム（以下ＩＴＯフィルム）を異形させて、このＩＴＯフィルムをディスプレー装置の基板３面に加圧するようになれば、前記接着剤７２によってＩＴＯフィルムが基板３面に対して堅固に附着する。
【０２０７】
この実施例でも前記接着剤７２は光抽出効率を高めるためにマイクロレンズＬの屈折率より高い１．５〜１．６５の屈折率を持つ樹脂物で成り立ったのが望ましい。
【０２０８】
一方、くだんの実施例では異形フィルムＲが成形ローラーをパスしながら異形フィルムＲの面に特定形態の光学／電子構造物が形成されるが、以外にも異形フィルムの一面に液状になった樹脂（ｒｅｓｉｎ）を噴霧した後硬化させる方式でマイクロレンズのような光学／電子構造物を形成するとか、複数個の微細なホールが一定間隔に形成された円筒状のスクリーン内側に所定の圧力で光学／電子構造物形成用樹脂を入れ込んで、前記ホールを通じて排出される樹脂を利用して異形フィルムに光学／電子構造物を形成するシルクプリンティング方式などを利用することもできる。
【０２０９】
くだんの実施例以外にも本発明は表面に所定の光学パターンまたは電気的パターンを持つ任意のディスプレー装置用基板またはフィルムを製造するのに適用されることができるだけでなく、電子構造物として回路及び／または接続パッドなどが形成された軟性回路基板（ＦＰＣＢ）などを製造することにも適用することができる。
【０２１０】
以上で本発明の望ましい実施例を説明したが、本発明は上述した特定の実施例に限定されない。すなわち、本発明が属する技術分野で通常の知識を持つ者なら添付された特許請求範囲の思想及び範疇を逸脱することがなしに本発明に対する多数の変更及び修正が可能であり、そういうすべての適切な変更及び修正の均等物も本発明の範囲に属すると見なされなければならない。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接着剤が塗布されている異形フィルムの第１面に光学／電子構造物を形成する第１段階と、
前記異形フィルムの第１面を基板またはフィルムに附着させる第２段階と、
前記光学／電子構造物が基板またはフィルムに附着した状態で前記異形フィルムだけ基板またはフィルムから分離してとり除く第３段階とを含む光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２】
前記第１段階は、前記異形フィルムの第１面が外周面に前記光学／電子構造物に対応する形状の成形溝が形成されている成形ローラーの外周面と密着されながらパスするようにした状態で、前記成形ローラーに光学／電子構造物形成用樹脂を供給して前記成形溝を通じて異形フィルムの第１面に樹脂が塗布されるようにしたことを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１段階は、異形フィルムの第１面に光学／電子構造物形成用樹脂を噴霧して硬化させることで光学／電子構造物を附着することを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項４】
前記第１段階は、複数個の微細なホールが一定間隔に形成された円筒状のスクリーン内側に所定の圧力で光学／電子構造物形成用樹脂を注入し、前記スクリーンのホールを通じて光学／電子構造物形成用樹脂が異形フィルムの第１面に落ちた後硬化されて異形フィルムの第１面に光学／電子構造物が形成されることを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項５】
前記第２段階で前記異形フィルムをフィルムに附着させる時、前記フィルムの一面には光学／電子構造物より高い屈折率を持つ接着剤があらかじめ塗布されており、前記接着剤の屈折率は１．５〜１．６５であることを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項６】
前記光学／電子構造物は、半球型のドーム（ｄｏｍｅ）形状または多角形凹凸形状であり、光の進行経路を変更させる複数個のマイクロレンズであり、前記第２段階で追加に塗布される別途の接着剤は前記マイクロレンズより高い１．５〜１．６５の屈折率を持つことを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項７】
前記光学／電子構造物はブラックマットリックスとカラーフィルターであることを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項８】
前記製造方法は、
第１段階後異形フィルムのカラーフィルター及びブラックマットリックスが形成された面の上部に保護膜を塗布する段階と、
前記保護膜上に接着剤を塗布する段階と、
前記接着剤上に偏光膜を塗布する段階とをさらに含むことを特徴とする、請求項７に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項９】
前記製造方法は、第３段階後前記他の異形フィルムに塗布された保護膜と接着剤と偏光膜を前記基板上のブラックマットリックスとカラーフィルター上に転写する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項８に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第１段階は、
樹脂供給ローラーにブラックマトリックス用樹脂またはカラーフィルター形成用樹脂を供給する段階と、
前記樹脂供給ローラーが回転しながら樹脂供給ローラーと連接して回転するパターン形成ローラーのパターン溝で樹脂を伝達する段階と、
前記パターン形成ローラーが回転しながらパターン形成ローラーと連接して回転するブランケットローラー（blanket roller）の外周面にパターン溝内に収容されていた樹脂を伝達する段階と、
前記ブランケットローラーが回転しながらブランケットローラーとこのブランケットローラーに連接して回転する加圧ローラーの間をパスする異形フィルムの一面にパターニングされた樹脂を伝達してブラックマットリックスとカラーフィルターを形成する段階とを含み、
前記ブランケットローラーの外周面にパターン溝内に収容されていた樹脂を伝達する段階以後前記ブランケットローラーに紫外線（ＵＶ）を照射して樹脂パターンを硬化させることを特徴とする、請求項７に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１１】
前記第１段階では、ブラックマットリックスまたはカラーフィルターと対応するパターンの成形溝が形成された成形ローラーにブラックマトリックス用樹脂またはカラーフィルター用樹脂を供給して、前記成形ローラーの両側に連接した一番の加圧ローラーと成形ローラーの外周面の間で異形フィルムを通過させて異形フィルムが成形ローラーの外周面に密着されながら進行する過程で成形ローラーの成形溝内の樹脂が異形フィルムに伝達するようにする工程を連続的に遂行して、異形フィルムにブラックマットリックスとカラーフィルターを連続的に形成することを特徴とする、請求項７に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第２段階は、一方向に水平するように移動する基板の一面に加圧ローラーを連接するように設置して、前記加圧ローラーと基板の間を異形フィルムがパスしながら進行するようにして異形フィルムに塗布されたブラックマットリックス及びカラーフィルターが加圧ローラーによって加圧されながら基板に接合されることを特徴とする、請求項７に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１３】
基板後方面にＩＴＯ層を形成する段階と、前記ＩＴＯ層に有機発光素子を形成する段階とをさらに含むことを特徴とする、請求項７〜１２のいずれか１項に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１４】
前記ＩＴＯ層に有機発光素子を形成する段階は前記有機発光素子をカラーフィルター個別画素当り赤色、緑及び青色波長の光をそれぞれ放出する３個のサーブピクセルで構成するか、または、前記有機発光素子をカラーフィルター個別画素に対して少なくとも一つの白色光を放出するピクセルで構成することを特徴とする、請求項１３に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１５】
前記第１段階は、
第１異形フィルムの一面に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を附着させる段階と、
第２異形フィルムを前記第１異形フィルムの前記薄膜トランジスタが附着した面に合着させる段階と、
前記第１異形フィルムを分離して前記薄膜トランジスタを前記第２異形フィルムに転写させる段階とで構成され、
前記第２段階は、前記薄膜トランジスタが附着した前記第２異形フィルムの面を基板に附着させる段階であり、
前記第３段階は、前記薄膜トランジスタが前記基板に転写された状態で前記第２異形フィルムだけ前記基板で分離する段階であることを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１６】
前記第１異形フィルムの一面に薄膜トランジスタを附着させる段階は、前記第１異形フィルムを外周面にそれぞれ相異なっている薄膜トランジスタ形成用樹脂が供給される複数個の印刷ローラーを通過させながら順次に薄膜トランジスタ構造を設定されたパターンに積層するようにしたことを特徴とする、請求項１５に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１７】
前記薄膜トランジスタが附着した第２異形フィルムの面を基板に附着させる段階は、前記基板の一側で加圧ローラーで前記第２異形フィルムを前記基板に対して加圧して前記薄膜トランジスタを基板に転写させるようにしたことを特徴とする、請求項１５に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１８】
前記光学／電子構造物は薄膜層として、前記第１段階で前記異形フィルムの一面にプリンティング方式で薄膜層を形成して、前記第１段階の遂行以後に前記基板またはフィルム面にＩＴＯ層を蒸着する段階を遂行して、前記第３段階を経りながら前記ＩＴＯ層上に前記異形フィルムの薄膜層を転写するようにして、前記薄膜層は有機発光ダイオードまたは高分子発光ダイオードを形成する有機薄膜層であることを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１９】
前記第２段階または前記第３段階の過程を遂行した後、熱処理紫外線または紫外線硬化処理を遂行して前記各薄膜層の間の界面接着力を増大させることができ、前記フィルムと異形フィルムとを相互一定距離離隔されて回転する複数個の加圧ローラーを順次に通過させながらフィルムに薄膜層を連続して転写及び積層することを特徴とする、請求項１８に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２０】
前記光学／電子構造物はイン―セル位相差フィルムとして、
前記第１段階は、前記異形フィルムの一面にイン―セル位相差フィルムを附着する段階で、
前記第２段階は、前記イン―セル位相差フィルムが附着した前記異形フィルムの面を基板または前記基板に形成されたカラーフィルター上に附着させる段階であり、
前記第３段階は、前記イン―セル位相差フィルムが基板または前記基板に形成されたカラーフィルター上に転写された状態で前記異形フィルムだけ前記基板で分離する段階であることを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２１】
前記第１段階後に前記異形フィルムのイン―セル位相差フィルム上にＩＴＯ層を形成する段階をさらに含み、
前記第１段階は、相互接した複数個のローラーの間を前記異形フィルムと前記イン―セル位相差フィルムを同時に通過させながら加圧して前記異形フィルムに前記イン―セル位相差フィルムを合着させることを特徴とする、請求項２０に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２２】
前記光学／電子構造物は光経路変化手段として、
前記第１段階は、異形フィルムに光経路変化手段を附着させる段階で、
前記第２段階は前記異形フィルムの光経路変化手段が附着した面に偏光フィルムを附着させる段階で、
前記第３段階は前記偏光フィルムと異形フィルムの接合体で前記異形フィルムを分離させながら前記偏光フィルムと前記光経路変化手段を基板に接合させる段階で、
前記第１段階は前記異形フィルムに少なくとも一つのレンズパターンを附着させる段階及び前記レンズパターンが附着した前記異形フィルムの面に接着剤を塗布する段階で構成されることを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２３】
前記第１段階の中で異形フィルムに少なくとも一つのレンズパターンを附着させる段階は、
樹脂供給ローラーにレンズパターン用樹脂を供給する段階と、
前記樹脂供給ローラーが回転しながら樹脂供給ローラーと連接して回転する前記パターン形成ローラーの成形溝でレンズパターン用樹脂を伝達する段階と、
前記パターン形成ローラーが回転しながらパターン形成ローラーと連接して回転するブランケットローラー（blanket roller）の外周面に成形溝内に収容されていた前記レンズパターン用樹脂を伝達する段階と、
前記ブランケットローラーが回転しながらブランケットローラーと前記ブランケットローラーに連接して回転する加圧ローラーとの間をパスする前記異形フィルムの一面にパターニングされたレンズパターン用樹脂を伝達してレンズパターンを形成する段階とを含むことを特徴とする、請求項２２に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２４】
前記第１段階の中で異形フィルムに少なくとも一つのレンズパターンを附着させる段階は、
レンズパターンと対応するパターンを持つ複数個の成形溝が形成された成形ローラーにレンズパターン用樹脂を供給する段階と、
前記異形フィルムが前記成形ローラーの外周面に密着されながら進行するようにする段階と、
前記異形フィルムが前記成形ローラーの外周面に密着されながら進行する途中紫外線を照射して前記成形ローラーの成形溝内側に収容されたレンズパターン用樹脂を硬化させる段階とを含み、
前記異形フィルムが前記成形ローラーと分離する時前記成形ローラーの成形溝内側に収容されたレンズパターン用樹脂が成形溝で分離しながら前記異形フィルムに附着することを特徴とする、請求項２２に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２５】
前記第１段階は、前記異形フィルムに少なくとも一つのレンズパターンが凹凸形態に形成されるように第１接着剤層を塗布する段階と、前記第１接着剤層のレンズパターンの間に前記第１接着剤層より低い屈折率を持つ第２接着剤層を塗布する段階とで構成されて、
前記第２段階は、前記異形フィルムと偏光フィルムを相互一定距離離隔されて回転する少なくとも一つの加圧ローラーの間で通過させて前記異形フィルムと偏光フィルムを相互接合させる工程で成り立ち、
光学的視覚不良を解消するための前記レンズパターンの高く補正を行う段階をさらに含むことを特徴とする、請求項２２に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２６】
接着剤が塗布されている異形フィルムの第１面に光学／電子構造物を附着させる第１段階と、
前記光学／電子構造物が附着した異形フィルムの第１面に別途の接着剤を追加的に塗布する第２段階と、
前記異形フィルムの第１面に光学的特性または電子的特性を付与するための樹脂を塗布して硬化させてベースフィルムを形成する第３段階と、
前記ベースフィルムで異形フィルムだけ分離する第４段階と、
前記ベースフィルムをディスプレー装置の基板または他のフィルムに附着させる第５段階とを含む光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２７】
前記光学／電子構造物は半球型のドーム（ｄｏｍｅ）形状または多角形凹凸形状であり、光の進行経路を変更させる複数個のマイクロレンズであり、
前記第２段階で追加に塗布される別途の接着剤は前記マイクロレンズより高い１．５〜１．６５の屈折率を持つことを特徴とする、請求項２６に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１】
接着剤が塗布されている異形フィルムの第１面に光学／電子構造物を形成する第１段階と、
前記異形フィルムの第１面を基板またはフィルムに附着させる第２段階と、
前記光学／電子構造物が基板またはフィルムに附着した状態で前記異形フィルムだけ基板またはフィルムから分離してとり除く第３段階とを含む光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２】
前記第１段階は、前記異形フィルムの第１面が外周面に前記光学／電子構造物に対応する形状の成形溝が形成されている成形ローラーの外周面と密着されながらパスするようにした状態で、前記成形ローラーに光学／電子構造物形成用樹脂を供給して前記成形溝を通じて異形フィルムの第１面に樹脂が塗布されるようにしたことを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１段階は、異形フィルムの第１面に光学／電子構造物形成用樹脂を噴霧して硬化させることで光学／電子構造物を附着することを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項４】
前記第１段階は、複数個の微細なホールが一定間隔に形成された円筒状のスクリーン内側に所定の圧力で光学／電子構造物形成用樹脂を注入し、前記スクリーンのホールを通じて光学／電子構造物形成用樹脂が異形フィルムの第１面に落ちた後硬化されて異形フィルムの第１面に光学／電子構造物が形成されることを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項５】
前記第２段階で前記異形フィルムをフィルムに附着させる時、前記フィルムの一面には光学／電子構造物より高い屈折率を持つ接着剤があらかじめ塗布されており、前記接着剤の屈折率は１．５〜１．６５であることを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項６】
前記光学／電子構造物は、半球型のドーム（ｄｏｍｅ）形状または多角形凹凸形状であり、光の進行経路を変更させる複数個のマイクロレンズであり、前記第２段階で追加に塗布される別途の接着剤は前記マイクロレンズより高い１．５〜１．６５の屈折率を持つことを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項７】
前記光学／電子構造物はブラックマットリックスとカラーフィルターであることを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項８】
前記製造方法は、
第１段階後異形フィルムのカラーフィルター及びブラックマットリックスが形成された面の上部に保護膜を塗布する段階と、
前記保護膜上に接着剤を塗布する段階と、
前記接着剤上に偏光膜を塗布する段階とをさらに含むことを特徴とする、請求項７に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項９】
前記製造方法は、第３段階後前記他の異形フィルムに塗布された保護膜と接着剤と偏光膜を前記基板上のブラックマットリックスとカラーフィルター上に転写する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項８に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第１段階は、
樹脂供給ローラーにブラックマトリックス用樹脂またはカラーフィルター形成用樹脂を供給する段階と、
前記樹脂供給ローラーが回転しながら樹脂供給ローラーと連接して回転するパターン形成ローラーのパターン溝で樹脂を伝達する段階と、
前記パターン形成ローラーが回転しながらパターン形成ローラーと連接して回転するブランケットローラー（blanket roller）の外周面にパターン溝内に収容されていた樹脂を伝達する段階と、
前記ブランケットローラーが回転しながらブランケットローラーとこのブランケットローラーに連接して回転する加圧ローラーの間をパスする異形フィルムの一面にパターニングされた樹脂を伝達してブラックマットリックスとカラーフィルターを形成する段階とを含み、
前記ブランケットローラーの外周面にパターン溝内に収容されていた樹脂を伝達する段階以後前記ブランケットローラーに紫外線（ＵＶ）を照射して樹脂パターンを硬化させることを特徴とする、請求項７に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１１】
前記第１段階では、ブラックマットリックスまたはカラーフィルターと対応するパターンの成形溝が形成された成形ローラーにブラックマトリックス用樹脂またはカラーフィルター用樹脂を供給して、前記成形ローラーの両側に連接した一番の加圧ローラーと成形ローラーの外周面の間で異形フィルムを通過させて異形フィルムが成形ローラーの外周面に密着されながら進行する過程で成形ローラーの成形溝内の樹脂が異形フィルムに伝達するようにする工程を連続的に遂行して、異形フィルムにブラックマットリックスとカラーフィルターを連続的に形成することを特徴とする、請求項７に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第２段階は、一方向に水平するように移動する基板の一面に加圧ローラーを連接するように設置して、前記加圧ローラーと基板の間を異形フィルムがパスしながら進行するようにして異形フィルムに塗布されたブラックマットリックス及びカラーフィルターが加圧ローラーによって加圧されながら基板に接合されることを特徴とする、請求項７に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１３】
基板後方面にＩＴＯ層を形成する段階と、前記ＩＴＯ層に有機発光素子を形成する段階とをさらに含むことを特徴とする、請求項７〜１２のいずれか１項に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１４】
前記ＩＴＯ層に有機発光素子を形成する段階は前記有機発光素子をカラーフィルター個別画素当り赤色、緑及び青色波長の光をそれぞれ放出する３個のサーブピクセルで構成するか、または、前記有機発光素子をカラーフィルター個別画素に対して少なくとも一つの白色光を放出するピクセルで構成することを特徴とする、請求項１３に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１５】
前記第１段階は、
第１異形フィルムの一面に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を附着させる段階と、
第２異形フィルムを前記第１異形フィルムの前記薄膜トランジスタが附着した面に合着させる段階と、
前記第１異形フィルムを分離して前記薄膜トランジスタを前記第２異形フィルムに転写させる段階とで構成され、
前記第２段階は、前記薄膜トランジスタが附着した前記第２異形フィルムの面を基板に附着させる段階であり、
前記第３段階は、前記薄膜トランジスタが前記基板に転写された状態で前記第２異形フィルムだけ前記基板で分離する段階であることを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１６】
前記第１異形フィルムの一面に薄膜トランジスタを附着させる段階は、前記第１異形フィルムを外周面にそれぞれ相異なっている薄膜トランジスタ形成用樹脂が供給される複数個の印刷ローラーを通過させながら順次に薄膜トランジスタ構造を設定されたパターンに積層するようにしたことを特徴とする、請求項１５に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１７】
前記薄膜トランジスタが附着した第２異形フィルムの面を基板に附着させる段階は、前記基板の一側で加圧ローラーで前記第２異形フィルムを前記基板に対して加圧して前記薄膜トランジスタを基板に転写させるようにしたことを特徴とする、請求項１５に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１８】
前記光学／電子構造物は薄膜層として、前記第１段階で前記異形フィルムの一面にプリンティング方式で薄膜層を形成して、前記第１段階の遂行以後に前記基板またはフィルム面にＩＴＯ層を蒸着する段階を遂行して、前記第３段階を経りながら前記ＩＴＯ層上に前記異形フィルムの薄膜層を転写するようにして、前記薄膜層は有機発光ダイオードまたは高分子発光ダイオードを形成する有機薄膜層であることを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項１９】
前記第２段階または前記第３段階の過程を遂行した後、熱処理紫外線または紫外線硬化処理を遂行して前記各薄膜層の間の界面接着力を増大させることができ、前記フィルムと異形フィルムとを相互一定距離離隔されて回転する複数個の加圧ローラーを順次に通過させながらフィルムに薄膜層を連続して転写及び積層することを特徴とする、請求項１８に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２０】
前記光学／電子構造物はイン―セル位相差フィルムとして、
前記第１段階は、前記異形フィルムの一面にイン―セル位相差フィルムを附着する段階で、
前記第２段階は、前記イン―セル位相差フィルムが附着した前記異形フィルムの面を基板または前記基板に形成されたカラーフィルター上に附着させる段階であり、
前記第３段階は、前記イン―セル位相差フィルムが基板または前記基板に形成されたカラーフィルター上に転写された状態で前記異形フィルムだけ前記基板で分離する段階であることを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２１】
前記第１段階後に前記異形フィルムのイン―セル位相差フィルム上にＩＴＯ層を形成する段階をさらに含み、
前記第１段階は、相互接した複数個のローラーの間を前記異形フィルムと前記イン―セル位相差フィルムを同時に通過させながら加圧して前記異形フィルムに前記イン―セル位相差フィルムを合着させることを特徴とする、請求項２０に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２２】
前記光学／電子構造物は光経路変化手段として、
前記第１段階は、異形フィルムに光経路変化手段を附着させる段階で、
前記第２段階は前記異形フィルムの光経路変化手段が附着した面に偏光フィルムを附着させる段階で、
前記第３段階は前記偏光フィルムと異形フィルムの接合体で前記異形フィルムを分離させながら前記偏光フィルムと前記光経路変化手段を基板に接合させる段階で、
前記第１段階は前記異形フィルムに少なくとも一つのレンズパターンを附着させる段階及び前記レンズパターンが附着した前記異形フィルムの面に接着剤を塗布する段階で構成されることを特徴とする、請求項１に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２３】
前記第１段階の中で異形フィルムに少なくとも一つのレンズパターンを附着させる段階は、
樹脂供給ローラーにレンズパターン用樹脂を供給する段階と、
前記樹脂供給ローラーが回転しながら樹脂供給ローラーと連接して回転する前記パターン形成ローラーの成形溝でレンズパターン用樹脂を伝達する段階と、
前記パターン形成ローラーが回転しながらパターン形成ローラーと連接して回転するブランケットローラー（blanket roller）の外周面に成形溝内に収容されていた前記レンズパターン用樹脂を伝達する段階と、
前記ブランケットローラーが回転しながらブランケットローラーと前記ブランケットローラーに連接して回転する加圧ローラーとの間をパスする前記異形フィルムの一面にパターニングされたレンズパターン用樹脂を伝達してレンズパターンを形成する段階とを含むことを特徴とする、請求項２２に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２４】
前記第１段階の中で異形フィルムに少なくとも一つのレンズパターンを附着させる段階は、
レンズパターンと対応するパターンを持つ複数個の成形溝が形成された成形ローラーにレンズパターン用樹脂を供給する段階と、
前記異形フィルムが前記成形ローラーの外周面に密着されながら進行するようにする段階と、
前記異形フィルムが前記成形ローラーの外周面に密着されながら進行する途中紫外線を照射して前記成形ローラーの成形溝内側に収容されたレンズパターン用樹脂を硬化させる段階とを含み、
前記異形フィルムが前記成形ローラーと分離する時前記成形ローラーの成形溝内側に収容されたレンズパターン用樹脂が成形溝で分離しながら前記異形フィルムに附着することを特徴とする、請求項２２に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２５】
前記第１段階は、前記異形フィルムに少なくとも一つのレンズパターンが凹凸形態に形成されるように第１接着剤層を塗布する段階と、前記第１接着剤層のレンズパターンの間に前記第１接着剤層より低い屈折率を持つ第２接着剤層を塗布する段階とで構成されて、
前記第２段階は、前記異形フィルムと偏光フィルムを相互一定距離離隔されて回転する少なくとも一つの加圧ローラーの間で通過させて前記異形フィルムと偏光フィルムを相互接合させる工程で成り立ち、
光学的視覚不良を解消するための前記レンズパターンの高く補正を行う段階をさらに含むことを特徴とする、請求項２２に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２６】
接着剤が塗布されている異形フィルムの第１面に光学／電子構造物を附着させる第１段階と、
前記光学／電子構造物が附着した異形フィルムの第１面に別途の接着剤を追加的に塗布する第２段階と、
前記異形フィルムの第１面に光学的特性または電子的特性を付与するための樹脂を塗布して硬化させてベースフィルムを形成する第３段階と、
前記ベースフィルムで異形フィルムだけ分離する第４段階と、
前記ベースフィルムをディスプレー装置の基板または他のフィルムに附着させる第５段階とを含む光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【請求項２７】
前記光学／電子構造物は半球型のドーム（ｄｏｍｅ）形状または多角形凹凸形状であり、光の進行経路を変更させる複数個のマイクロレンズであり、
前記第２段階で追加に塗布される別途の接着剤は前記マイクロレンズより高い１．５〜１．６５の屈折率を持つことを特徴とする、請求項２６に記載の光学／電子構造物を有するディスプレー装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１７】
【図２４】
【図２９】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【図４０】
【図４１】
【図４２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図１５】
【図１６】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図２】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１７】
【図２４】
【図２９】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【図４０】
【図４１】
【図４２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図１５】
【図１６】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【公表番号】特表２０１２−５０４７８２（Ｐ２０１２−５０４７８２Ａ）
【公表日】平成２４年２月２３日（２０１２．２．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５２９９９６（Ｐ２０１１−５２９９９６）
【出願日】平成２１年９月３０日（２００９．９．３０）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＫＲ２００９／００５６１４
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／０３８９８８
【国際公開日】平成２２年４月８日（２０１０．４．８）
【出願人】（５１１０８０１２２）
【出願人】（５１１０８０１３３）パインテック インコーポレイテッド (1)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２４年２月２３日（２０１２．２．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年９月３０日（２００９．９．３０）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＫＲ２００９／００５６１４
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／０３８９８８
【国際公開日】平成２２年４月８日（２０１０．４．８）
【出願人】（５１１０８０１２２）
【出願人】（５１１０８０１３３）パインテック インコーポレイテッド (1)
【Ｆターム（参考）】
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