【課題】より小型または簡単な構成で、より精度よく、半導体ウェハの表面に存在するソーマークの検出又は大きさの測定を行うことが可能な技術を提供する。
【解決手段】半導体ウェハＷの表面に対して斜め方向から、入射面において平行光である光を照射し、ラインセンサカメラ３、４で半導体ウェハＷの表面におけるライン状の領域３ａを撮影する。このことで、半導体ウェハＷの表面からの照射光の反射光または散乱光を検出し、この強度に基づいて、半導体ウェハＷの表面における線状の凹凸を検出し、またはその大きさを測定する。光源装置１、２によって、ラインセンサカメラ３、４によって撮影されるライン状の領域３ａのラインに平行な方向から光を照射し、線状の凹凸の方向がラインの方向に直交するように配置された状態で、半導体ウェハＷの線状の凹凸を検出し、またはその大きさを測定する。 （もっと読む）

【課題】被測定対象物のレーザスペックル画像を得る装置において、被測定対象物の材質などに起因するスペックル画像の画質低下を可及的に抑制する。
【解決手段】被測定対象物(20)表面の観察領域(21)に向けてコヒーレント光を投光する投光部(10)と、被測定対象物表面の観察領域で拡散反射した上記コヒーレント光を受光する受光部(30)と、被測定対象物表面から受光部以外の方向に伝播するコヒーレント光を被測定対象物表面の観察領域に戻す反射部(41)と、受光部における受光状態に基づいて被測定対象物の状態を検出する検知部(50)と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 半導体チップの尖端バンプの高さを測定する。
【解決手段】 尖端バンプを含む複数の半導体チップが形成された半導体ウェハ２１の上方に面照射装置３３が配置されて、面照射装置３３が半導体ウェハ２１の上面に光を照射する。一対の撮像装置３４，３５が、半導体ウェハの斜め上方に配置されて、半導体ウェハ２１上の尖端バンプを含む半導体チップを斜め上方から撮像する。コンピュータ３６は、一対の撮像装置３４，３５によって撮像された一対の画像に基づいて尖端バンプの底から先端までの長さをそれぞれ検出して、前記検出した一対の長さと、一対の撮像装置３４，３５の光軸が半導体ウェハ２１の上面となす角度を用いて尖端バンプの高さを計算する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に対して光ビームを照射して描画する描画装置およびその焦点調整方法において、収束光学系の経時変化に対応することができ、しかも描画時の基板表面に収束光学系の焦点位置を適正に調整することのできる技術を提供する。
【解決手段】観察光学系８０のダミー基板８０１と観察用カメラ８０３とを一体的に昇降可能とする。ダミー基板８０１の上面８０１ａをステージ１０上の基板Ｗの表面Ｓと略同一の高さに設定し、観察用カメラ８０３により観察されるダミー基板上面８０１ａでの描画光学像が最も小さくなるように、光学ヘッド４０ａのフォーカシングレンズ４３１の位置を調整する。このときの光学ヘッド４３１とダミー基板上面８０１ａとの距離を基準距離として、オートフォーカス部４４１，４４２によるオートフォーカス動作を実行する。 （もっと読む）

【課題】原稿の厚みに影響されず安定して原稿の画像を読み取ることができる画像読取システム、原稿サイズ検出装置、及び原稿サイズ検出方法、並びに画像読取方法を提供する。
【解決手段】原稿の画像を読み取る画像読取装置と、画像読取装置を制御する制御装置とを備えた画像読取システムであって、原稿を搬送路に沿って搬送する搬送手段と、搬送路の途中に設けられ且つ原稿の厚みに応じて搬送路から離れる方向に移動可能に設けられ、搬送路に沿って搬送される原稿の画像を読み取る画像読取手段と、画像読取手段で読み取った原稿の画像データに所定の処理を施す画像処理手段と、原稿の厚みを判別する原稿の厚さ判別手段と、原稿の厚さ判別手段による判別結果に基づいて、画像読取手段による原稿の読取条件、又は画像処理手段による原稿の画像処理条件を変更する変更手段とを備え、原稿の厚みに影響されず安定して原稿の画像を読み取るようにした。 （もっと読む）

【課題】ランダム柄を正確に計測しやすい柄計測装置を提供する。
【解決手段】凹凸型を用いてプレス成型された基材３０の凹凸柄を計測する柄計測装置に関する。前記凹凸型の三次元の加工データを記憶する加工データ記憶手段１１。前記加工データから選択された任意の特徴部ｓのデータを記憶する特徴部データ記憶手段１２。前記基材に形成された前記凹凸柄を全面計測して得られる三次元データを記憶する凹凸柄データ記憶手段１３。前記特徴部データと前記凹凸柄データとを比較することによって、前記特徴部により前記基材に形成される特徴柄が基材３０の一端からどの位置に現れるかを検出すると共に、検出された前記特徴柄の位置を基準にして前記加工データと前記凹凸柄データとを比較することによって、前記加工データと前記凹凸柄データとのズレを算出する算出手段１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の寸法を電子的に測定可能な電子測定器を提供する。
【解決手段】等ピッチで１列に並べられた受光素子アレイ２０と、受光素子アレイ２０に結像するレンズ系１６と、測定対象物２５へ光を照射する光源２６と、測定対象物２５から反射した光を受光素子アレイ２０により受光して出力されるアナログ信号をディジタル処理する信号処理部２８と、信号処理部２８によって得られたディジタル計数値ＤＳを表示する表示部１２とを備え、ディジタル計数値ＤＳにより、測定対象物２５の大きさを表示することを特徴とする電子測定器１０。 （もっと読む）

【課題】受光部のフォーカス調整を容易に行う。
【解決手段】画像取得装置は、ガラス基板９上における線状の撮像領域を撮像する撮像ユニット２と、ガラス基板９を撮像領域と交差する方向に移動する移動機構とを備える。撮像ユニット２は、光照射部２１および受光部２３を有し、光照射部２１により撮像領域に光が照射され、撮像領域からの光が受光部２３のラインセンサへと導かれる。画像取得装置では、受光部回動機構が受光部２３を回転することにより受光部２３の光軸Ｊ２とガラス基板９の法線Ｎとのなす検出角θ２が変更される。撮像ユニット２は、光軸Ｊ２に沿って受光部２３を移動する受光部移動機構をさらに備え、検出角θ２の変位量に基づいて受光部移動機構を制御することにより、光軸Ｊ２上においてラインセンサの受光面と共役な位置Ｐがガラス基板９の表面に配置される。これにより、受光部２３のフォーカス調整が容易に行われる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ヘッド部を大型化することなく、コントローラ部に対してヘッド部を交換することが可能なように互換性を持たせることができる光学計測装置を提供する。
【解決手段】本発明に従った光学計測装置では、計測対象物２００に対して光を用いて計測を行ない、ヘッド部１０と、コントローラ部２０と、光ファイバ１１と、記憶部４０とを備えている。本発明に従った光学計測装置では、ヘッド部１０とコントローラ部２０とを光ファイバ１１で接続する。記憶部４０は、製造されるヘッド部１０のそれぞれの個体に対して関係付けられ、コントローラ部２０で行なう演算に必要な情報をヘッド部１０の個体情報として記憶する。コントローラ部２０は、コントローラ部２０に対して物理的に独立して存在する記憶部４０から個体情報を読出し、読出した個体情報を用いて演算を行なう。 （もっと読む）

【課題】コントラストの高いパターン画像の表示を低コストにて実現する。
【解決手段】パターン画像表示装置の画像取得部１３は、光照射部１３１、ラインセンサ１３２、角度変更機構、および、表示対象であるガラス基板９を移動する移動機構を備える。光照射部１３１からは、ガラス基板９の薄膜パターンに対して透過性を有する波長の光が出射される。光照射部１３１からの光の照射角θ１およびラインセンサ１３２により撮像が行われる検出角θ２は、常に同じであり、これらの角度は角度変更機構により変更される。パターン画像表示装置では、予め画像のコントラストが高くなる照射角および検出角の設定角度が求められ、照射角および検出角が設定角度とされる。これにより、単一波長の光源を用いてコントラストの高い画像をラインセンサ１３２により取得し、ディスプレイに表示することができ、パターン画像表示装置の製造コストも削減することができる。 （もっと読む）

【課題】反射面を通過した光束に発生する偏光成分による相対的な位置ずれなどの影響を実質的に受けることなく、被検面の面位置を高精度に検出することのできる面位置検出装置。
【解決手段】投射系は、第１反射面７ｂ，７ｃを有する投射側プリズム部材７を備えている。受光系は、投射側プリズム部材に対応するように配置された第２反射面８ｂ，８ｃを有する受光側プリズム部材８を備えている。第１反射面および第２反射面を通過した光束の偏光成分による相対的な位置ずれを補償するための位置ずれ補償部材をさらに備えている。 （もっと読む）

【課題】耐久性が高く、且つ、使用環境に関わらず入力操作の検出が可能な操作装置を提供する。
【解決手段】操作装置１に、入力操作の種別を示す操作パネル３０と、操作パネル３０の操作面３１側に操作面３１に沿って光を照射可能な発光部と、一次元配列された受光素子を有するラインセンサと、を備え、操作パネル３０への入力操作が行われた場合には、入力操作を行う指で反射した発光部からの光の反射光をラインセンサで受光し、ラインセンサ上での受光位置と受光した光の強度とに基づいて指の位置を２次元的に推定する。 （もっと読む）

【課題】パターンのムラ欠陥の生じない描画条件を導出し、製品の歩留まりを向上する。
【解決手段】基板上に描画するパターンのムラ欠陥が発生しない描画条件を導出する方法であって、基板上に形成するパターンを生成するパターン情報生成工程Ｓ１と、パターンに対して、複数の描画項目の組み合わせによる、２通り以上の描画条件を設定する描画条件設定工程Ｓ２と、前記生成されたパターンを抜き取り、補助基板上に、前記各描画条件のもとに、矩形領域をなす補助パターンを形成する補助パターン描画工程Ｓ３と、補助基板に対して照明光を入射し、補助パターンから生じる回折光を光電変換素子にて画像として取得し、ムラ欠陥に関するムラ評価値とムラ発生周期とを求めことにより、複数の描画条件の中からムラ欠陥が生じない描画条件を導出する描画条件判定工程Ｓ４とを含むパターンの描画条件導出方法である。 （もっと読む）

【課題】基板の一面を複数のショットに分けて露光する際、ショット毎に、マスクと基板とがより平行な状態でギャップ合わせを行って、露光精度を向上させる。
【解決手段】マスクホルダ２０とチャック１０とを相対的にＺ方向へ移動及びチルトする複数のＺ−チルト機構３０と、マスク２と基板１とのギャップを複数箇所で測定する複数のギャップセンサー３０とを設ける。予め露光した基板のパターンを測定して、各ギャップセンサー４０の測定点におけるショット毎のオフセット値を決める。ショット毎に、各ギャップセンサー４０の測定値を、各測定点におけるショット毎のオフセット値で補正し、補正後の補正値に基づいて、複数のＺ−チルト機構３０によりマスク２と基板１とのギャップ合わせを行う。 （もっと読む）

【課題】貼合わせウェハ全体について厚さを測定できる装置の提供。
【解決手段】貼合わせウェハ１の厚さ測定光学系及び観察光学系と、測定光学系から出力される信号を用いて貼合わせウェハ１の厚さを算出する信号処理装置とを具え、測定光学系は、第１の波長域の測定用光源３０と、この測定光を投射して光スポットを形成する対物レンズ１７と、その反射光の光検出手段４０とを有し、観察光学系は、前記第１の波長域とは異なる第２の波長域の観察用照明光を放出する照明光源４１と、照明光を投射する対物レンズ１７と、その反射光を受光して２次元画像を撮像する撮像装置４８とを有する。これらで共通の対物レンズ１７と測定光源及び観察光源との間の光路中には、前記測定光学系と観察光学系とを光学的に結合する波長選択性を有するカップリング素子３４を配置する。撮像装置４８は、前記測定光により形成された光スポットの像が重畳された像を撮像する。 （もっと読む）

【課題】エッチング実行中にレジスト膜厚の影響を除去し、高い精度で孔深さや段差を算出する。
【解決手段】所定波長幅の光を試料５０に照射して、孔５２の底面や基板５１上面等で反射する光の干渉を含む光を分光ユニット２５により分光検出する。データ処理部３０では分光スペクトルから光源２１の発光スペクトルの影響等を除去した干渉スペクトルを求め、これをフーリエ変換して得られるピークの間隔から孔深さや膜厚等を算出する。チョッパ１０３は外部参照面１０４で反射した外部参照光を周期的に遮断・通過させるため、データ処理部３０では外部参照光ありのデータとなしのデータとが得られる。例えば、レジスト層５３が厚い間は、より高分解能である外部参照光なしのデータに基づいて孔深さ等を算出し、エッチングが進行してレジスト層５３が薄くなると、外乱の影響を受けにくい外部参照光ありのデータに基づいて孔深さ等を算出する。 （もっと読む）

【課題】過去のトロリ線データと現在のトロリ線データとで走行位置を正確に一致させることを可能としたトロリ線データ比較装置を提供する。
【解決手段】車両の屋根上に配置されて鉛直上方のトロリ線を撮影するラインセンサカメラ２と、ラインセンサカメラ２から入力される映像信号を収録する画像録画部と、画像録画部から現在のトロリ線画像を入力するラインセンサ画像入力部５ａ、現在のトロリ線画像からトロリ線の摩耗及び偏位を抽出する摩耗・偏位抽出部５ｂ、過去のトロリ線画像と現在のトロリ線画像とから車両の偏位の位置ずれ量を検出する偏位位置ずれ検出部５ｃ、及び位置ずれ量を現在のトロリ線画像に反映し、過去のトロリ線画像と比較する摩耗量比較部５ｄを備える画像処理部とから構成した。 （もっと読む）

【課題】本発明は、取得したスペクトルから基板上に形成した膜の複数の測定点に対する光学定数を唯一の値として求めることができる光学特性測定装置および光学特性測定方法を提供する。
【解決手段】本発明は、光源１０と、検出器４０と、データ処理部５０とを備えている。データ処理部５０は、モデル化部と、解析部と、フィッティング部とを備えている。複数の膜モデル式を連立させ、複数の膜モデル式に含まれる光学定数が同一であるとして所定の演算を行ない、算出した膜の膜厚および光学定数を膜モデル式に代入して得られる波形と、検出器４０で取得した波長分布特性の波形とのフィッティングを行なうことにより、複数の膜モデル式に含まれる光学定数が同一で、解析部で算出した膜の膜厚および光学定数が正しい値であることを判定する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面不良の判定時間を減らし、ＮＧの可能性の高い表面不良のみを検査員に提供して検査の集中度を極大化させる。
【解決手段】表面不良検査装置は、ガラス基板１の上方にそれぞれ配置され、ガラス基板表面不良に対する第１イメージおよび第２イメージをそれぞれ撮影する撮像装置１０および２０と、ガラス基板１の下方に配置され、撮像装置１０、２０側にガラス基板１を透過する暗視野照明装置３０と、第１イメージ上の不良の位置座標と、第２イメージ上の不良の位置座標とを演算する検出信号処理部４０とを備えている。ガラス基板上面に対する撮像装置１０、２０の撮影領域Ｐ１は互いに重ね合わされ、ガラス基板下面に対する撮像装置１０、２０の撮影領域Ｐ２、Ｐ３は、互いに異なるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】搬送中の長尺材の長さを精度よく測定することができる長さ測定装置を提供する。
【解決手段】長さ検出装置１は、搬送ライン２の搬送方向上流側に設けられた通過検出部３と、搬送方向下流側に設けられた位置検出部４と、長尺材の長さを算出する算出部５と、演算部５等を制御する制御部６を備えている。通過検出部３は、搬送ライン２に向けて投光する複数の通過投光部３１と、搬送ライン２を挟んで通過投光部３１と対向して設けられた複数の通過受光部３２とをセットで具備している。位置検出部４は、搬送方向にほぼ直交する光を搬送ライン２に向けて投光し、該光を該搬送方向に平行走査する投光部４１と、該投光部４１と搬送ライン２を挟んで対向し、該投光部４１からの光を受光する受光部４２とを具備している。 （もっと読む）