【課題】露光装置で、複数のヘッドを含むエンコーダシステムを用いてウエハステージの位置を管理することが出来る移動体駆動方法を提供する。
【解決手段】制御装置により、エンコーダシステムのＸエンコーダとＹエンコーダとを少なくとも各１つ含む３つのエンコーダＥｎｃ１，Ｅｎｃ２及びＥｎｃ３を用いてステージＷＳＴの移動面内の位置情報が計測され、該位置情報の計測結果と該位置情報の計測に用いられたヘッド（エンコーダ）Ｅｎｃ１，Ｅｎｃ２及びＥｎｃ３の移動面内での位置情報（ｐ₁，ｑ₁）、（ｐ₂，ｑ₂）及び（ｐ₃，ｑ₃）とに基づいて、ＸＹ面内でステージＷＳＴが駆動される。これにより、複数のヘッドを含むエンコーダシステムを用いてステージＷＳＴの移動中に制御に用いるヘッド（エンコーダ）を切り換えながら、ステージの移動を精度良く制御することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイ測定、非対称性測定、およびインダイオーバーレイターゲットの再構築を可能にする。
【解決手段】四分くさび光デバイス（ＱＷ）は、基板から散乱した放射の回折次数を別々に再誘導し、第１方向および第２方向の各々に沿って照明から回折次数を分離する。例えば、０次（０、０’）および１次（−１、＋１’）を、各入射方向について分離する。マルチモードファイバ（ＭＦ）での捕捉の後、スペクトロメータ（Ｓ１−Ｓ４）を使用して波長（Ｉ_０’（λ）、Ｉ_０（λ）、Ｉ_＋１’（λ）、およびＩ_−１（λ））の関数としての空間的に再誘導された回折次数の強度を測定する。そして、これをオーバーレイエラーの計算、または単一格子の非対称パラメータの再構築に用いる。 （もっと読む）

【課題】適切な測定照度で測定対象物を３次元測定することができる３次元測定装置等の技術を提供する。
【解決手段】制御部は、投影部により縞が投影された測定対象物を撮像し、縞の位相が異なる合計４枚の画像を取得する（ステップ１０７〜１０９）。次に、制御部は、４枚の画像から各画素の輝度値を抽出して、位相シフト法により輝度値を各画素の高さへ変換する（ステップ１１０）。次に、制御部は、基板選択領域及び半田選択領域のそれぞれについて、高さの変換が不可とされた画素の割合（エラー率）を算出する（ステップ１１１）。制御部は、照明の照度を変化させて、ステップ１０７〜ステップ１１１の処理を繰り返す。制御部は、各照度での選択領域のエラー率に基づいて、投影部の最適な照度を決定する（ステップ１１４）。 （もっと読む）

【課題】基板表面に薄膜を形成する基板処理で、処理の進行具合をリアルタイムで把握して処理の終了時点を精度よく検出できる方法を提供すること。
【解決手段】基板１上に絶縁膜２を形成する基板処理装置１０であって、絶縁膜２を波長可変単色光ｓで照射し、絶縁膜２および基板１からの各反射光を干渉させる干渉光発生手段１２と、所望膜厚での干渉光強度Ｉが極小になるように単色光ｓの基準波長λ_０を設定する基準波長設定部２８と、基準波長を挟む２波長（λ_１、λ_２）間で単色光ｓを波長変調する変調部２６と、これに応じた干渉光強度Ｉを検出する干渉光検出器１８と、絶縁膜２が所望膜厚に達する直前から所望膜厚に達するまでの干渉光強度Ｉの変化に基づいて、最大波長（λ_２）時と最小波長（λ_１）時の干渉光強度の差分ΔＩが零または所定値になる時点を基板処理の終了時点として検出する終了時点検出手段２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】
従来技術によれば，試料に熱ダメージを与えることなく，短時間で高感度に欠陥検出・寸法算出することが困難であった。
【解決手段】
被検査対象物である試料の表面の領域を所定の照明条件にて照明する照明工程と、該試料を並進および回転させる試料走査工程と、該試料の照明領域から複数の方向に散乱する複数の散乱光のそれぞれを、前記試料走査工程における走査方向および該走査方向と概略直交する方向の各々について複数画素に分割して検出する散乱光検出工程と、前記散乱光検出工程において検出された複数の散乱光のそれぞれについて、該試料の概略同一領域から概略同一方向に散乱した散乱光を加算処理し、該加算処理した散乱光に基づき欠陥の有無を判定し、該判定された欠陥に対応する複数の散乱光のうち少なくとも一の散乱光を用いて該判定された欠陥の寸法を算出する処理工程と、を備える欠陥検査方法である。 （もっと読む）

【課題】非球面を含む被検面の計測に有利な技術を提供する。
【解決手段】非球面を含む被検面を照明する第１の光学系と前記被検面からの光を検出面を有する検出部に導く第２の光学系と、既知の非球面形状を有する基準面を前記検出面と共役な面に配置し、前記基準面からの光が前記検出面に入射する角度を前記検出面上の複数の座標のそれぞれについて前記検出部で検出する第１のステップと、前記被検面を前記共役な面に配置し、前記被検面からの光が前記検出面に入射する角度を前記検出面上の複数の座標のそれぞれについて前記検出部で検出する第２のステップと、前記第１のステップで検出された角度と前記第２のステップで検出された角度との角度差により、前記被検面の面形状と前記既知の非球面形状との差分形状を求め、前記既知の非球面形状に前記差分形状を加えることで前記被検面の面形状を算出する計測方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】光路長差が小さくなっても被加工物の厚みまたは上面高さ位置を正確に計測することができる計測装置を提供する。
【解決手段】被加工物保持手段に保持された被加工物の基準面から上面までの距離を計測する計測装置であって、被加工物の上面で反射した反射光と基準面で反射した基準反射光を受光したイメージセンサーからの検出信号に基づいて分光干渉波形を求め、この分光干渉波形における各波長毎の隣接する１またはｎ個隣の光強度との差を演算して分光干渉差分波形を求め、分光干渉差分波形と理論上の波形関数に基づいて波形解析を実行し、被加工物の上面で反射した反射光の光路長と基準面で反射した基準反射光の光路長との光路長差に基づいて被加工物の基準面から上面までの距離を求める。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置を高精度に制御しつつ、物体上の複数のマークの検出時間を短縮する。
【解決手段】 露光装置は、ウエハＷを保持してＸＹ平面内で移動するとともに、上面にＹ軸方向を周期方向とする格子を有する一対のＹスケール３９Ｙ_１、３９Ｙ_２が設けられたウエハステージＷＳＴと、Ｘ軸方向に関して検出領域の位置が異なる複数のアライメント系ＡＬ１、ＡＬ２_１〜ＡＬ２_４と、Ｘ軸方向に関して前記複数の検出領域の両外側に１つずつ配置される一対のＹヘッド６４ｙ_１、６４ｙ_２を含む複数のＹヘッド６４を有し、一対のＹスケールの少なくとも一方と対向するＹヘッドによって、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の位置情報を計測するＹエンコーダと、を備えている。このため、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の移動の際に、ウエハ上の複数のマークを複数のアライメント系で同時に計測可能になる。 （もっと読む）

【課題】管状部材の内周面にひずみ検出部を簡単に接着してこの管状部材のひずみを容易に測定することができるひずみ測定装置とその製造方法及び載荷試験装置を提供する。
【解決手段】ひずみ検出部５Ａ〜５Ｌは、模型鏡ボルトＢの各検出位置Ｐ_A〜Ｐ_Lに発生するひずみを検出する光ファイバ式のひずみゲージである。挿入部材１０は、模型鏡ボルトＢの内周面にひずみ検出部５Ａ〜５Ｌを接着するために、このひずみ検出部５Ａ〜５Ｌを接着剤層１１によって外周面に保持した状態で、この模型鏡ボルトＢに挿入される。挿入部材１０は、ひずみ検出部５Ａ〜５Ｌを模型鏡ボルトＢ内に案内し検出位置Ｐ_G〜Ｐ_Lに位置決めするための治具として機能する。接着剤層１１は、挿入部材１０の外周面に装着された多孔質材に流動性接着剤を含浸させて形成されている。 （もっと読む）

【課題】 透光性管状物体の厚さを全域にわたって短時間で精度よく測定する。
【解決手段】 測定用レーザ光をガルバノミラー３５で反射させてガラス管Ｇに照射し、ガラス管Ｇの外周面で反射する反射光及び内周面で反射する反射光をラインセンサ３９で受光し、反射光の受光位置からガラス管Ｇの厚さを検出する。サーボ用レーザ光源４０からのサーボ用レーザ光をガルバノミラー３５で反射させて、ガラス管Ｇにおける測定用レーザ光の照射位置又はその近傍位置にＺ軸方向から照射する。フォトディテクタ４８でガラス管Ｇからのサーボ用レーザ光の反射光を受光し、Ｙ軸方向エラー信号生成回路１１９、Ｙ軸方向サーボ回路１２０及びＹ軸方向ドライブ回路１２１が、モータ３６を駆動制御することにより、測定用レーザ光の光軸がガラス管Ｇの中心軸と交差するようにガルバノミラー３５のＸ軸線周りの回転をサーボ制御する。 （もっと読む）

【課題】均一で安定性の高い光スポットを発生させる回折光学素子を提供する。
【解決手段】複数の基本ユニットが２次元的に配列されている第１の回折素子と、複数の基本ユニットが２次元的に配列されている第２の回折素子と、を有し、入射する光に対して２次元的な回折光を発生させる回折光学素子であって、前記第１の回折素子において前記基本ユニットの配列方向を第１の方向とし、前記第２の回折素子において前記基本ユニットの配列方向を第２の方向とし、前記光が前記第1の回折素子、前記第２の回折素子の順に入射するとき、前記第１の回折素子で発生する回折光がさらに、前記第２の回折素子に入射して発生する０次光の最近接距離をΔｘとし、前記第２の回折素子により発生する回折光及び迷光における最近接距離をαとした場合、前記第１の方向と前記第２の方向のなす角φが、−｜φ_１｜＜φ＜｜φ_１｜、かつ、φ≠０、ｓｉｎφ_１＝−α／Δｘであることを特徴とする回折光学素子を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 位置決めの正確さおよび／または強健性が改善されたリソグラフィ投影装置のアライメント・システムを提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置の位置決めシステムは、位置決め放射線源１、第１検出器チャネルおよび第２検出器チャネルを有する検出システム、および検出システムと連絡する位置決定ユニットを有する。位置決定ユニットは、第１および第２検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、組み合わせた情報に基づいて、第２オブジェクト上の基準位置に対する第１オブジェクト上の位置決めマークの位置を決定する。 （もっと読む）

【課題】測定対象物上に薄膜が形成されている場合でも、測定対象物の温度を従来に比べて正確に測定できる温度測定方法を提供する。
【解決手段】光源からの光を、基板上に薄膜が形成された測定対象物の測定ポイントまで伝送する工程と、基板の表面での反射光による第１の干渉波と、基板と薄膜との界面及び薄膜の裏面での反射光による第２の干渉波を測定する工程と、第１の干渉波から第２の干渉波までの光路長を算出する工程と、第２の干渉波の強度に基づいて、薄膜の膜厚を算出する工程と、算出した薄膜の膜厚に基づいて、基板の光路長と算出した光路長との光路差を算出する工程と、算出した光路差に基づいて算出した第１の干渉波から第２の干渉波までの光路長を補正する工程と、補正された光路長から測定ポイントにおける測定対象物の温度を算出する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】簡便な構成でターゲット面と垂直な成分を含む方向の変位量を測定することができる画像相関変位センサを提供すること。
【解決手段】本発明の一態様にかかる画像相関変位センサは、照射光を出射する照射部１３０'と、ターゲット面３００で生成したスペックルフィールドを複数回に亘って撮像するために用いられ、ターゲット面近傍においてターゲット面の法線方向から傾斜した光線路Ａと、光線路Ｂ'と、光線路Ａ，Ｂ'の少なくとも一方を偏向する素子１１０'と、を有する撮像部２４０と、光線路Ａにおいて撮像することにより得られた複数画像と光線路Ｂ'において撮像することにより得られた複数画像とに基づいて、ターゲット面３００の法線成分を含む方向の変位を計算する処理部２００と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】回折格子が配置された面の垂直方向の変位のみを容易に検出することができる変位検出装置を提供する。
【解決手段】変位検出装置１は、照射光学系２と、干渉光学系３と、受光部４と、変位検出部５とを備えている。照射光学系３は、回折格子１００の格子構造が周期的に並んでいるＸ方向に垂直な面に対して異なる角度でそれぞれ光束を回折格子に入射させる。干渉光学系３は、回折格子１００に入射された入射光Ａ１，Ｂ１のＭ次回折光Ａ３，Ｂ３どうしを干渉させて干渉光を生じさせる。受光部４は、干渉光を受光して干渉信号を検出する。変位検出部は、干渉信号の変化から回折格子が設けられた面の垂直方向の変位を検出する。 （もっと読む）

【課題】比較的大きなサイズの欠陥を高感度で検出できると共に、高さ又は深さの変化量が１ｎｍ又はそれ以下の微細な欠陥も検出できる検査装置を実現する。
【解決手段】照明光源１からの照明ビームを被検査基板２１に向けて投射する対物レンズ２０と、入射した照明ビームを、互いに干渉性を有する第１及び第２のサブビームに変換すると共に、基板の表面で反射したサブビーム同士を合成し、基板表面の高さ又は深さと関連する位相差情報を含む干渉ビームを出射させる微分干渉光学系１６と、出射した干渉ビームを受光する光検出手段２８と有する。微分干渉光学系のリターデーション量は、ｍを零又は正の整数とした場合に、第１と第２のサブビームとの間に（２ｍ＋１）π又はその近傍の位相差が形成されるように設定し、前記光検出手段から出力される出力信号のバックグランドの輝度レベルがほぼ零となる検査状態において基板表面を照明ビームにより走査する。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の波長毎の反射率を精度良く測定することができる反射率測定装置及び反射率測定方法、並びに本発明による反射率測定装置を備えた膜厚測定装置及び本発明による反射率測定方法を含む膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】
反射率測定装置１は、照射光Ｌ１を測定対象物へ供給する測定光源３０と、照射光Ｌ１の強度及び測定対象物からの反射光Ｌ２の強度を波長毎に検出する分光検出部８０と、照射光Ｌ１の波長毎の強度の検出値を、基準測定対象物からの反射光Ｌ２の波長毎の強度の検出値に相当する値に変換する変換係数Ｋ（λ）を記録する係数記録部９２と、照射光Ｌ１の波長毎の強度の検出値及び変換係数Ｋ（λ）より求まる、基準測定対象物からの反射光Ｌ２の波長毎の強度に相当する値に基づいて、波長毎の反射率を算出する反射率算出部９３とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
光干渉を用いた変位計測装置において、プローブ光路と参照光路とが空間的に分離して
いるため、空気の揺らぎ等による温度分布や屈折率分布、あるいは機械振動が生じた場合
、両光路間で光路差が変動し、測定誤差となってしまう。
【解決手段】
プローブ光の光軸と参照光の光軸を外乱の影響を受けない距離まで近接させて、プロー
ブ光を対象物に、参照光を参照面に各々照射し、その反射光同士を干渉させ、生じた干渉
光から対象物の変位量を求める （もっと読む）

【課題】低価格な距離画像センサ及び距離画像生成装置並びに距離画像データ取得方法及び距離画像生成方法を提供する。
【解決手段】距離画像センサ１００は、ｘ軸、ｙ軸、及びｚ軸からなる座標空間において、入射された平行光が複数の分割光に分割され、ｚ軸に交差する所定の投光平面上に、複数の分割光が形成する複数の投光スポットによって画定される複数の線分とｘ軸とが成す複数の角度が所定の角度となるように、入射される平行光の進行方向を変更する回折格子が形成された回折光学素子１３１及び１３２を備える。さらに、距離画像センサ１００は、複数の分割光によって対象物上に形成される複数の投光スポットで画定される複数の線分のｘ軸に対する傾きに基づいて、複数の投光スポットとの複数の距離を測定する（決定する）距離測定部（距離決定部）１１７とを備える。 （もっと読む）

【課題】２つの表面領域を同期測定できるクロマティックポイントセンサ装置（ＣＰＳ装置）の動作方法を提供すること。
【解決手段】２光束アッセンブリが取り付けられた１光束ＣＰＳ光学ペンを用いたセンサ装置の第１測定光束および第２測定光束を、それぞれ第１表面領域および第２表面領域に位置合わせする。２つの反射光が２光束ＣＰＳの共焦点開口部を通過する。第１測定光束および第２測定光束にそれぞれ起因する第１測定および第２測定を含んだ少なくとも１の測定セットを実行する。様々な位置での測定セットの実行のため、少なくとも第１表面領域を移動させる。各測定結果は、極めて良好な分解能（例えば、少なくとも１０ｎｍの分解能）で決定される。本センサ装置と動作方法は、干渉計または他の高額で複雑な構成要素を使わないで、高い分解能と精度を必要とする測定に適用できる。 （もっと読む）