【課題】 板状体の正面を塞がずに、かつ光源と受光素子とを備えている投受光センサを用いて、板状体を確実に検出する。
【構成】 検出装置は板状体が所定位置に存在するか否かを検出する。検出装置は、板状体の一側面へ向けて斜めにスポット状の検出光を投光する光源と反射光を受光する受光素子とを備えている投受光センサと、投受光センサから見て板状体よりも遠方にあり、かつ板状体が存在しない場合、検出光を拡散反射する拡散反射部と、投受光センサへ入射する反射光の所定の強度以下であることから、板状体を検出する検出部、とを備えている。板状体の側面が透明の場合、板状体の側面へ入射した検出光は板状体の内部で複数回反射し投受光センサとは異なる方向へ出射し、板状体の側面が鏡面状の反射面の場合、板状体の側面へ検出光は斜めに入射して投受光センサとは異なる方向へ正反射する。 （もっと読む）

【課題】透明性基板上に形成された不透明なデバイスパターンを観察像において明確に識別することができる観察方法、および観察装置を提供する。
【解決手段】デバイスパターン３が形成されている側に粘着シート４を貼り付けたうえで透明なステージ７に固定し、ステージ７の上方から同軸透過照明光Ｌ１と斜光透過照明光Ｌ２とを重畳的に照射するとともに、ステージ７の下方側からステージ７を介して裏面観察手段６で観察することで、観察像においては、デバイスパターン３に対応して、暗い（黒色の）デバイスパターン像が観察され、デバイスパターン像ＩＰ１以外の部分は明るく観察される。また、気泡５に対応する部分ＩＢ１についても十分に明るく観察される。これにより、観察像においてデバイスパターン３の形状を明確に特定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 遮光位置のずれを低減する技術の提供。
【解決手段】 原版を光で照明する照明系、前記原版のパターンの像を基板に投影する投影系を有する光学系を備える露光装置で、前記光学系の光路上の前記投影系の物体面と共役な面かその近傍に配置され、前記像が前記基板上に投影される領域の外縁の一部を円弧状に規定する円弧状部を有する遮光板と、前記光学系の光路に沿った回転軸まわりに前記遮光板を回転駆動する回転駆動部と、前記回転軸と交わる方向に前記遮光板をシフトするシフト駆動部と、前記回転駆動部により前記遮光板を回転駆動させ、前記光学系により前記像を前記基板に投影する際の基準となる基準軸と前記回転軸との相対位置の情報を取得する取得部と、前記基板の周辺部に対して前記像を投影する場合、取得した前記相対位置に関する情報に基づき、前記遮光板が所定の位置になるように前記回転駆動部と前記シフト駆動部を制御する制御部を有する。 （もっと読む）

【課題】基板検査装置及び検査方法を提供すること。
【解決手段】検査方法は、測定対象物を撮影して測定対象物のピクセル別にイメージデータを取得し、測定対象物のピクセル別に高さデータを取得し、測定対象物のピクセル別にビジビリティデータを取得し、取得されたイメージデータと、ピクセル別の高さデータ、及びビジビリティデータのうちの少なくとも１つとを乗算して結果値を算出し、算出された結果値を利用してターミナル領域を設定すること、を含む。よって、より正確にターミナル領域を判別することができる。 （もっと読む）

【課題】複数の視野に分割された対象を高精度に測定することができるマシンビジョン検査システムおよびその位置測定結果の決定方法を提供する。
【解決手段】マシンビジョン検査システムは、第１動作状態においてスケールベースの測定により第１対象ＦＥ１の位置を測定する。第２動作状態では、第１対象から第２対象に至る途中で重複画像ＣＩＡ〜ＣＩＣを撮影し、画像相関を利用して重複画像ＣＩＡ〜ＣＩＣの相互の画像変位を測定し、第１対象の位置と画像変位のセットとを合わせて第２対象ＦＥ２の位置を測定する。 （もっと読む）

【課題】回路基板の個体識別を簡便かつ容易に実現する回路基板の個体識別装置および個体識別方法を提供すること。
【解決手段】回路基板１００上の複数の計測対象１１０の位置を計測し、計測対象１１０の計測値と計測対象１１０の設計値との差を計測対象１１０ごとの位置情報として取得する位置情報取得手段１０と、位置情報取得手段１０によって取得された位置情報の組み合わせを基板識別符号として登録する登録手段２０とを備える回路基板の個体識別装置。 （もっと読む）

【課題】 エンコーダで位置を計測しつつ、移動体を所望の方向へ精度良く駆動する。
【解決手段】 駆動装置により、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の位置情報を計測するエンコーダ６２Ａの計測値とそのエンコーダによって計測されるスケール３９Ｙ₁の平面度に関する情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴがＹ軸方向に駆動される。この場合、駆動装置は、そのエンコーダの計測値に含まれるスケールの平面度に起因する計測誤差をスケールの平面度に関する情報に基づいて補正した補正後の計測値に基づいて、ウエハステージを所定方向に駆動することが可能である。従って、スケールの凹凸に影響を受けることなく、エンコーダを用いてウエハステージを精度良く所定方向に駆動することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】パターンのムラ欠陥の生じない描画条件を導出し、製品の歩留まりを向上する。
【解決手段】基板上に描画するパターンのムラ欠陥が発生しない描画条件を導出する方法であって、基板上に形成するパターンを生成するパターン情報生成工程Ｓ１と、パターンに対して、複数の描画項目の組み合わせによる、２通り以上の描画条件を設定する描画条件設定工程Ｓ２と、前記生成されたパターンを抜き取り、補助基板上に、前記各描画条件のもとに、矩形領域をなす補助パターンを形成する補助パターン描画工程Ｓ３と、補助基板に対して照明光を入射し、補助パターンから生じる回折光を光電変換素子にて画像として取得し、ムラ欠陥に関するムラ評価値とムラ発生周期とを求めことにより、複数の描画条件の中からムラ欠陥が生じない描画条件を導出する描画条件判定工程Ｓ４とを含むパターンの描画条件導出方法である。 （もっと読む）

【課題】低コスト化を図れる導膜製造装置、製造した電気機械変換素子、液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】第１のアライメント調整工程では着弾位置２５１をカメラ２０５で捕捉し着弾位置２５１がカメラ２０５の撮影撮影基準位置２５２に一致するように基板又は液滴吐出ヘッド２０１を相対的に移動する。第２のアライメント調整工程ではレーザレッドによってレーザ光を照射して照射跡を形成し照射跡をカメラ２０５で捕捉し照射跡がカメラ２０５の撮影撮影基準位置２５２に一致するように基板又はレーザヘッドを相対的に移動する。第３のアライメント調整工程では基板上に予め形成されているアライメントマークを撮像手段２０５で撮影したアライメントマークの形状に基づいて基板の向きを検知して基板の向きの調整を行いアライメントマークを撮像手段２０５の撮影基準位置に一致するように基板を移動することで基板の組付け位置の調整を行う。 （もっと読む）

【課題】安価な構成で、チャックのθ方向の傾きを精度良く検出して、基板のθ方向の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】第１のステージに搭載されＹ方向（又はＸ方向）へ移動する第２のステージに第２の反射手段（３５）を取り付け、第２の反射手段（３５）のθ方向の位置ずれを検出する。チャック（１０ａ，１０ｂ）に複数の光学式変位計（４１）を設け、複数の光学式変位計（４１）により、第２のステージに取り付けた第２の反射手段（３５）までの距離を複数箇所で測定する。第２の反射手段のθ方向の位置ずれの検出結果に基づき、複数の光学式変位計（４１）の測定結果から、チャック（１０ａ，１０ｂ）のθ方向の傾きを検出し、検出結果に基づき、第３のステージによりチャック（１０ａ，１０ｂ）をθ方向へ回転して、基板（１）のθ方向の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】経年変化に伴ってレーザー測長系のレーザー光源の出力特性が変化しても、移動ステージの位置を精度良く検出して、基板の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】移動ステージに複数の反射手段３４ａ，３４ｂ，３５を取り付け、複数のレーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３により、レーザー光源３１ａ，３１ｂからのレーザー光と各反射手段３４ａ，３４ｂ，３５により反射されたレーザー光との干渉を複数箇所で測定する。各レーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３の測定結果から、移動ステージの位置を検出し、検出結果に基づき、移動ステージによりチャック１０ａ，１０ｂを移動して、基板１の位置決めを行う。各レーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３が受光したレーザー光の強度の変化を検出し、検出したレーザー光の強度の変化を補う様に、レーザー光源３１ａ，３１ｂへ供給する駆動電流を制御する。 （もっと読む）

【課題】ブランクマスクの欠陥等に起因する測定値の誤り発生を招くこと無しに、ブランクマスクの所望領域の表面粗さを迅速に測定する。
【解決手段】露光用マスクを作製するためのブランクマスクの表面粗さを測定するマスク表面粗さ測定方法であって、ブランクマスクに測定光を入射させ、該マスクによる暗視野像を取得する光学系を用い、該マスク上の任意領域の暗視野像を取得する第１のステップと、任意領域内の注目位置における暗視野像の像強度が予め定めておいたしきい値未満の場合に、該注目位置の周辺領域の像強度と予め定めておいた関係式とを用いて表面粗さを求める第２のステップと、任意領域の全ての点において第２のステップを繰り返し、得られた表面粗さを平均化する第３のステップと、第３のステップで得られた平均値を、任意領域の表面粗さとして出力する第４のステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】シリコンなどのウエハー上にレーザー光を用いて露光することで描画を行う描画装置において、ナノミクロンオーダーの高精度な位置決めを行うこと。
【解決手段】レーザー光を一定方向に往復させて所定の間隔でドットパターンの描画を行う光学素子用の描画装置であって、レーザー光を照射する照明光学系と、
基盤を載置するＸＹステージと前記照明光学系と前記ＸＹステージとの相対位置を測定する前記ＸＹステージ上に設置されたナノスケールと、前記基盤上の描画信号の基準位置とその描画信号波形データ出力と、前記ナノスケールによって測定された往路のドットパターンの描画終了位置から、復路のドットパターンの描画開始位置を抽出する軸制御ユニットと、前記軸制御ユニットによって抽出された描画開始位置から描画を開始するように前記照明光学系の位置を補正する位置補正手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】被検物の表面形状を短時間で測定可能な形状測定方法を提供する。
【解決手段】形状測定方法は、ｎ＝１〜Ｎ（Ｎは３以上の整数）とし、参照光の光軸上において異なるＮ個の位置を第１位置〜第Ｎ位置と称するとき、参照面を第ｎ位置に固定し、物体光を被検物の光軸と所定の角度をなす方向から照射して、被検物をその光軸を中心に回転させながら、干渉縞を、被検物上で重複領域を有して隣接し合う複数の領域ごとに取得される複数の第ｎ干渉縞として取得する第ｎ工程を備え、第１工程から第Ｎ工程を行う干渉縞画像取得工程Ｓ１１の後に、複数の領域のそれぞれに対応する干渉縞を用いて位相解析を行い、部分表面形状データを取得する位相解析工程Ｓ１２と、部分表面形状データを重複領域でつなぎ合わせて被検物の輪帯状領域又は全体の表面形状データを取得する統合工程Ｓ１３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ステージを正確に２次元駆動する。
【解決手段】 ＸエンコーダとＹエンコーダとを少なくとも各１つ含む３つのエンコーダを用いて、ステージＷＳＴの移動面内の位置情報を計測する。ステージＷＳＴの位置計測値に基づいて、位置計測に用いるエンコーダを、エンコーダＥｎｃ１，Ｅｎｃ２及びＥｎｃ３から、エンコーダＥｎｃ４，Ｅｎｃ２及びＥｎｃ３に切り換える。切り換えの際、座標つなぎ法又は位相つなぎ法を適宜切り換えて適用して、新たに使用するエンコーダＥｎｃ４の初期値を設定する。それにより、ステージＷＳＴの位置計測に用いるエンコーダが逐次切り換えられるにもかかわらず、切り換えの前後でステージの位置計測値が保存され、ステージを正確に２次元駆動することができる。 （もっと読む）

【解決手段】ボンディング装置を構成する物品認識装置は、基板のバンプに照明光を照射する第１照明と、該第１照明とは異なる角度から上記バンプに照明光を照射する第２照明と、上記バンプで反射した上記照明光の反射光を撮影する第１撮影手段とを備えている。上記第２照明の輝度を固定したまま、第１照明の輝度を変化させて（Ｓ３）、上記第１撮影手段が撮影した画像のうち、バンプが最も多く認識された画像を撮影した際における第１照明の輝度を記憶する（Ｓ７）。続いて第１照明の輝度を上記記憶した輝度で固定したまま、第２照明の輝度を変化させて（Ｓ９）、上記第１撮影手段が撮影した画像のうち、バンプが最も多く認識された画像を撮影した際における上記一方の照明の輝度を記憶する（Ｓ１３）。
【効果】照明の設定値の設定を容易にかつ安定して行うことができる。 （もっと読む）

【課題】基板の一面を複数のショットに分けて露光する際、ショット毎に、マスクと基板とがより平行な状態でギャップ合わせを行って、露光精度を向上させる。
【解決手段】マスクホルダ２０とチャック１０とを相対的にＺ方向へ移動及びチルトする複数のＺ−チルト機構３０と、マスク２と基板１とのギャップを複数箇所で測定する複数のギャップセンサー３０とを設ける。予め露光した基板のパターンを測定して、各ギャップセンサー４０の測定点におけるショット毎のオフセット値を決める。ショット毎に、各ギャップセンサー４０の測定値を、各測定点におけるショット毎のオフセット値で補正し、補正後の補正値に基づいて、複数のＺ−チルト機構３０によりマスク２と基板１とのギャップ合わせを行う。 （もっと読む）

【課題】貼合わせウェハ全体について厚さを測定できる装置の提供。
【解決手段】貼合わせウェハ１の厚さ測定光学系及び観察光学系と、測定光学系から出力される信号を用いて貼合わせウェハ１の厚さを算出する信号処理装置とを具え、測定光学系は、第１の波長域の測定用光源３０と、この測定光を投射して光スポットを形成する対物レンズ１７と、その反射光の光検出手段４０とを有し、観察光学系は、前記第１の波長域とは異なる第２の波長域の観察用照明光を放出する照明光源４１と、照明光を投射する対物レンズ１７と、その反射光を受光して２次元画像を撮像する撮像装置４８とを有する。これらで共通の対物レンズ１７と測定光源及び観察光源との間の光路中には、前記測定光学系と観察光学系とを光学的に結合する波長選択性を有するカップリング素子３４を配置する。撮像装置４８は、前記測定光により形成された光スポットの像が重畳された像を撮像する。 （もっと読む）

【課題】誤差の影響を受けにくいが大きな空間を占有しない、改善された精密測定システムを提供する。
【解決手段】本体の動きを検出するシステムであって、本体と、基準フレームに対して実質的に静止して取り付けられた第１回折格子４０，４２と、本体に取り付けられた第２回折格子５０，５２と、第１および第２回折格子で回折された一つ以上の放射ビームを受け取り、基準フレームに対する本体の動きを検出するように構成された検出器６０，６１，６２，６３と、を備え、検出器６０，６１，６２，６３が本体に結合され、本体に対して移動可能である。 （もっと読む）

【課題】原板が有する凹凸パターンを容易にかつ高い位置精度で基板上の転写液層にインプリントすることのできる技術を提供する。
【解決手段】原板Ｍの凹凸パターンＰ面が基板Ｓ上に塗布された転写液層ＵＶＲに接触した状態で、原板Ｍおよび基板Ｓのそれぞれに形成されたアライメントマークＡＬを、１つの認識手段により、両アライメントマークＡＬが重なる方向から同時に撮像して得られた１つの画像から両アライメントマークＡＬの位置を別々に認識処理することで原板Ｍと基板Ｓとのアライメントを行う。そのため、撮像された原板Ｍおよび基板Ｓのアライメントマーク画像に相対的な位置誤差が生じるおそれがなく、振動や異なる走査タイミングに起因する位置誤差が生じることを防止できる。 （もっと読む）