【課題】廃プラスチック類に付着した有機物を、分解し脱臭処理すること。
【解決手段】スラリー槽１０に破砕された廃プラスチック類を入れ、過酸化水素１２と硫酸第１鉄１３と循環水１４を加え、かつ酸性に調整して攪拌する。フェントン洗浄タンク２０は、上下方向に多数の層２０ａ、２０ｂ、２０ｃに分割され、各層を貫いた回転軸２２が攪拌羽根２３ａ、２３ｂ、２３ｃを回転させる。層を隔てる仕切り板２４ａ、２４ｂには連通孔４８が設けられている。フェントン洗浄タンク３０も同様な構成であり、夫々の最下層同士が配管４０で接続されている。配管１８からフェントン洗浄タンク２０の最上層に攪拌された廃プラスチック類が投入され、フェントン洗浄タンク３０の最上層から廃プラスチック類をオーバーフローさせる。 （もっと読む）

【課題】金属帯の表面を電解洗浄するにあたって、板幅方向に均一に電解洗浄することを可能とする。
【解決手段】連続的に搬送される金属帯１の表面を電解洗浄する金属帯１の連続電解洗浄方法において、金属帯１の電解洗浄すべき洗浄面１ａと相対向してその金属帯１の搬送方向Ｐに順に第１電極３１及び第２電極３３を配設する。第１電極３１及び第２電極３３から金属帯１の洗浄面１ａに金属帯１の板幅以上の幅をもつ層状のラミナー流Ｗｒとしての電解液を噴射する。第１電極３１及び第２電極３３の何れか一方を陽極、他方を陰極としてこれらの間で電圧を印加して、噴射している電解液Ｗｒ及び金属帯１を通して通電させる。これにより、金属帯１の板幅方向端部での電流集中を抑えて、金属帯１の板幅方向に均一に電解洗浄することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】より安定してラジカルを生成することのできるプラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器を得る。
【解決手段】プラズマ発生装置１は、水を含む液体を収容する液体収容部４と、気体を収容する気体収容部５と、気体収容部５中の気体を液体収容部４へ導く気体通路３ａが形成され、液体収容部４と気体収容部５とを隔てる隔壁部３と、気体収容部５に配設された第１電極１２と、少なくとも第１電極１２と対になる側の部分が液体収容部４中の液体１７と接触するように配設した第２電極１３と、を備えている。そして、気体通路３ａに微細化手段を設け、気泡を微細化するようにした。 （もっと読む）

【課題】 ガラス・シリコン薄膜・フイルム等の大面積基板の薬液反応において、薬液との接液を面状態とし、さらに節液状態で行える超音波薬液反応装置を提供することにある。
【解決手段】 薬液供給口２１，３２より薬液６０を上下薬液槽２０，３０に送り、上部薬液槽２０の液吸引パイプ２３からの流量バランスで、基板出入り口になる上下槽間の空隙部１２に薬液６０を保持する。薬液６０には下部槽３０より超音波定在波１３が付加され、振動波の最大振幅位置と一致させた空隙レベルに基板５０をローラー４０で搬送し、キャビテーション効果で基板表裏の薬液反応を促進化させる。液吸引パイプ２３の位置を振動波の最小振幅位置と一致させ液面レベルを反射面として機能させる。 （もっと読む）

【課題】往復揺動による表面処理において、処理効率が高く、かつ処理時間の短い、耐久性に優れた表面処理方法を提供する。
【解決手段】揺動槽１内に処理材１２及び被処理物１３を収容し、揺動槽１を略等速で往復揺動させて被処理物１３の表面を処理する表面処理方法であって、往復揺動において、少なくとの２以上の速度の異なる揺動区間を有し、揺動区間のうち、揺動端を含む揺動区間における速度が最も小さい。 （もっと読む）

【課題】化石燃料の使用量の削減を図ることができ、ランニングコストおよびＣＯ_２排出量を抑制することができ、且つ作業者の作業環境の改善を図ることが可能な洗浄システムを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる洗浄システムの構成は、湯を用いて被処理体（番重１０２）を洗浄する洗浄システム１００であって、被処理体を移動させる被処理体移動経路１０４と、被処理体移動経路の下方に配置され、湯を貯留する貯湯槽１１０ａおよび１１０ｂと、貯湯槽に接続され、貯留された湯を被処理体に散水する散水手段１２０ａおよび１２０ｂと、空気を熱源として貯湯槽に供給する湯を生成するヒートポンプ１３０と、ヒートポンプで冷却された空気を被処理体移動経路が設置される室内の所定位置に噴出する冷気噴出器１０８ａ〜１０８ｃと、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】装置全体での熱消費量を抑えた洗浄装置を実現することを目的とする。
【解決手段】
外部の給水箇所から水を供給する水供給ラインと、水供給ラインから供給された水を加熱して温水を生成する加熱手段と、加熱手段により生成された温水を第二洗浄手段に供給する第二供給ラインと、第一洗浄手段及び第二洗浄手段から噴射された温水を回収する回収タンクと、回収タンクに回収された温水を第一洗浄手段に供給する第一供給ラインと、回収タンクに溜まった温水を排出する排水ラインと排水ラインを流れる温水と加熱手段より上流において水供給ラインを流れる水との間で熱交換させる熱交換器とを備えた洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】
オゾンガス発生器の洗浄または乾燥を可能にし、長期間にわたり、高濃度なオゾン発生効率の維持または回復を行うことが可能なオゾン水生成器を提供するものである。
【解決手段】
オゾンガスを発生するオゾンガス発生器１０１と、前記オゾンガスと液体を混合する混合部１０２と、液体を貯液する貯液槽１０３とを備えたオゾン液生成器において、前記オゾン液生成器１００に液体を循環させる循環経路Ａとを備えていることで、オゾンガス発生器の洗浄を可能にする。 （もっと読む）

【課題】洗浄音を低減させ、水の消費量を抑え、耐久性を向上させると共に、洗浄能力の高い調理鍋の洗浄装置を提供する。
【解決手段】調理鍋１２の内側面を洗浄してから仕上げ濯ぎを行う調理鍋の洗浄装置１１であって、調理鍋１２を垂直に位置させて保持する保持部１３と、洗浄水を貯留する洗浄タンク１４と、該洗浄タンク１４と配管３１を介して連通する洗浄ポンプ１５と、該洗浄ポンプ１５から洗浄水が所定圧力で送出される洗浄ノズルパイプ１６と、該洗浄ノズルパイプ１６に設けられ、洗浄水を調理鍋１２に向けて噴射する洗浄ノズル１７と、電磁弁と、該電磁弁を介して仕上げ濯ぎ水が送出される仕上げ濯ぎノズルパイプと、該仕上げ濯ぎノズルパイプに設けられ、仕上げ濯ぎ水を調理鍋１２に向けて噴射する仕上げ濯ぎノズルとを備え、当該洗浄タンク１４内の洗浄水が繰り返し循環使用される構成の調理鍋の洗浄装置１１である。 （もっと読む）

【課題】不良デバイスの発生を抑制できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、第１供給部からの帯状の基板を第１回収部へ送る第１送り機構と、第１供給部から送られた基板の裏面の少なくとも一部にカバー部材を着ける第１装置と、裏面にカバー部材が着けられた状態で第１装置から送られた基板の表面の処理を行う表面処理装置と、表面処理装置と第１回収部との間に配置され、表面処理装置から送られた基板からカバー部材を離す第２装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物から剥離して洗浄水の液面に浮遊した油分を効果的に除去することができる洗浄装置及び洗浄方法を得る。
【解決手段】ガラスリング１８の内周面１８Ａと接触する洗浄水Ｗの液面の縁部Ｅが、液面の一般部Ｇに比べて鉛直方向で高くなっている。このため、洗浄槽１２に供給された洗浄水Ｗによって溢れ出た洗浄水Ｗ及び洗浄水Ｗの液面に浮遊した油分Ａは、回収筒３４に流れ込む。このように、液面に浮遊する油分Ａが効果的に、回収筒３４に流れ込んで回収される。 （もっと読む）

【課題】より簡易な構造で安全性を確保することができる処理装置を提供することである。
【解決手段】発火及び爆発に対する所定の安全対策の施された設備が配置され、引火性のある処理液を用いて所定の処理が行われる処理室と、該処理室とは隔離されつつ一体となり、電気設備及び前記処理室にて用いられる前記処理液の通路が配置された遮蔽室とを備えた処理装置であって、前記遮蔽室内から気体を導出する気体導出手段と、該気体導出手段にて導出された気体のガス濃度を検出するガス濃度検出手段とを有する構成となる。 （もっと読む）

【課題】高価なＨＦＥ溶剤液を用いて蒸気洗浄を行いながら、廉価な蒸気洗浄作業を可能にする。即ち、高価なＨＦＥ溶剤液を用いて蒸気洗浄を行いながら、ＨＦＥ溶剤液の消耗を小さなものとし、ＨＦＥ溶剤液を繰り返し使用し、結果的にはＨＦＥ溶剤液を用いた廉価な蒸気洗浄作業を可能とするものである。本発明は環境性能とともに洗浄性能に優れた高価なＨＦＥ溶剤液を用いながら廉価な蒸気洗浄を可能にする事が出来るものである。
【解決手段】ＨＦＥ溶剤液２の上面を、ＨＦＥ溶剤液２よりも比重が小さいとともに沸点が高い液体にて形成した表面被覆液４により被覆し、この表面被覆液４の上面にＨＦＥ溶剤液２を加熱して発生した洗浄蒸気を供給し、この洗浄蒸気を被洗浄物５に凝縮液化して被洗浄物５の蒸気洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】 基板面内や基板間の処理のバラツキを低減することができるとともに、製品性能や製造歩留を向上させる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 処理基板１が収容される槽ＴＫと、処理槽ＴＫ内に液体、気体、又は液体と気体との両方を送り出す送出機構ＴＢ、Ａと、処理基板１に対して、液体、気体、又は気体と液体との両方が槽ＴＫ内へ送り出される位置と対向する位置から槽ＴＫ内の液体、気体、又は気体と液体との両方を排出する排出手段１０、２０、３０、４０と、を備えた基板処理装置。 （もっと読む）

【課題】従来よりコンパクト化することが可能な浸漬装置の提供を目的とする。
【解決手段】本発明の電着処理装置１０は、ワークＷに電着被膜を形成するための表面の電着塗料を貯留した円形の電着処理槽１１と、電着処理槽１１内の電着塗料を一方向に旋回させる起流ポンプ１５と、ワークＷを吊り下げて、電着塗料に浸した状態に保持するワーク治具２０と、電着塗料中の異物を取り除くためのフィルタ１６とを備えている。電着処理槽１１を円形にしたことで電着処理装置１０が従来よりもコンパクト化され、設置の自由度が向上する。 （もっと読む）

【課題】 部品洗浄加熱器ポンプモジュールの提供。
【解決手段】 部品洗浄機は、洗浄液中に懸濁する金属粒子を回収するためにポンプ入口近くに配置された磁石と、取扱時に衝撃からポンプ機構を保護するケーシングと、一連の垂直層内での洗浄液の分離をうまく行う水平配向されたポンプと、貯留槽内の洗浄液の液位を計測する二つの液位センサーと、洗浄液の蒸発分を制限するために貯留槽と容器との境界部に位置する蒸発制限板と、衝撃から装置を保護するために制御部の操作部の隣りに設置された保護ハンドルバーと、可変調整器なしのポンプを使用して洗浄液の流量を低流量にできるポンプモーター制御装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】
人体と接触することによって皮脂等の汚れが付着した物品を、安全に、簡便にかつ効果的に洗浄する方法を提供する。
【解決手段】
蛋白分解酵素及び脂肪分解酵素を含有し、界面活性剤を含有しないマイクロバブル洗浄用組成物、並びにマイクロバブルを含有する洗浄液を用いることを特徴とする、物品の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】除染に要する時間を短縮することができる化学除染方法を提供する。
【解決手段】構成部材の表面にフェライト皮膜を形成した後、原子力プラントの運転を開始する。１つの運転サイクルにおける運転が終了したとき、原子力プラントの運転を停止し、原子力プラントの定期検査を実施する。この定期検査の期間中で、表面にフェライト皮膜を形成したその構成部材を対象に化学除染を実施する。この化学除染において、還元除染液（シュウ酸溶液）を使用する還元除染工程において、構成部材の表面に形成されて放射性核種が付着しているフェライト皮膜を除去する。この構成部材に対しては、酸化除染液を使用する酸化除染工程を実施しない。酸化除染工程を実施しないので、化学除染に要する時間を短縮できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、洗浄液を節水してコストを低減すると共に、洗浄工程の省スペース化を図ることが可能な洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】外部から搬入された基板Ｗを略垂直姿勢で収容する洗浄槽５１Ａと、該洗浄槽５１Ａ内の基板Ｗに両面から洗浄液を噴射する洗浄液噴射部と、洗浄槽５１Ａから洗浄液を回収する洗浄液回収部とを備え、洗浄槽５１Ａは、基板Ｗに直交する断面における下部Ｋが上部Ｊよりも狭い幅で、かつ、中間部Ｔの幅が上から下に向かって狭くなっている。 （もっと読む）

【課題】処理液を効率的に利用しつつ処理性能を向上させることのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供することである。
【解決手段】
処理液を基板Ｐの表面に向けて吐出して基板Ｐの全幅にわたって処理液を吹付ける第１ノズルユニット１０と、第１ノズルユニット１０より基板Ｐの搬送方向の下流側に当該第１ノズルユニット１０と向き合うように配置され、処理液を基板Ｐの表面に向けて吐出して当該基板の全幅にわたって処理液を吹付ける第２ノズルユニット２０とを有し、相互に向き合う第１ノズルユニット１０及び第２ノズルユニット２０から吐出される処理液が基板Ｐの表面上でぶつかりあって基板Ｐの幅方向に延びる処理液の盛り上がり部分Ｍが形成されるように第１ノズルユニット１０及び第２ノズルユニット２０からの処理液の吐出方向が設定された構成となる。 （もっと読む）