【課題】 本発明の目的は、Ｍｏの分散性が良い、均一微細な組織をもったＭｏＴｉターゲット材の製造方法およびＭｏＴｉターゲット材を提供することである。
【解決手段】 本発明は、（１）Ｍｏ一次粒子が凝集したＭｏ凝集体を平均粒径１０μｍ以下に解砕してＭｏ粉末を作製する工程と、（２）前記Ｍｏ粉末と平均粒径５０μｍ以下のＴｉ粉末とを混合して混合粉末を作製する工程と、（３）前記混合粉末を加圧焼結してＭｏＴｉ焼結体を作製する工程とを有するＭｏＴｉターゲット材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 飽和磁束密度、非晶質性および耐候性に優れた垂直磁気記録媒体用軟磁性合金において、マグネトロンスパッタ時に効率良く使用できるターゲット材を提供する。
【解決手段】 Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、ＴａおよびＢの２種以上を含有し、残部ＣｏおよびＦｅ、ならびに不可避的不純物よりなり、下記式１および式２を満足し、相対密度９９％以上であることを特徴とする垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材。
０．６０≦Ｆｅ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）≦０．６５（ａｔ．％比） … （１）
５ａｔ％≦（Ｚｒ＋Ｈｆ＋Ｎｂ＋Ｔａ）＋Ｂ／２≦１０ａｔ％ … （２）
ただし、Ｂ：７％以下とする。 （もっと読む）

【課題】Ｍｇ_２Ｓｉ_１−ｘＳｎ_ｘ系多結晶体であって、性能指数が高い、熱電変換素子および、熱電変換モジュールの提供。
【解決手段】Ｓｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｂｉ、Ａｌから選択される少なくとも１種のドーパントＡでドーピングされたＭｇ_２Ｓｉ_１−ｘＳｎ_ｘ中に、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗから選択される少なくとも１種の遷移金属Ｂの元素および/または遷移金属Ｂのシリサイドが分散していることを特徴とする下記式（１）で表されるＭｇ_２Ｓｉ_１−ｘＳｎ_ｘ・Ａａ・Ｂｂ多結晶体。Ｍｇ_２Ｓｉ_１−ｘＳｎ_ｘ・Ａａ・Ｂｂ、式（１）［ただし、式（１）中のｘは０〜1、ａはＭｇ_２Ｓｉ_１−ｘＳｎ_ｘに対するドーパントＡの含有量であって０．０１〜５ｍｏｌ％であり、ｂはＭｇ_２Ｓｉ_１−ｘＳｎ_ｘに対する遷移金属Ｂの含有量であって０．０１〜５ｍｏｌ％である。］ （もっと読む）

【課題】金属微粒子が溶媒中で凝集することなく安定に分散し、かつ、金属微粒子が孤立状態で分散した分散液を基材に塗布して焼成するときに、低温で金属微粒子表面から界面活性剤及びアミンを脱離させることができる金属微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】槽内に金属原料と界面活性剤及びイミンを含む溶媒とを収容し、減圧下でこの金属原料を加熱して蒸発させ、この蒸発したものを捕集して溶媒に導入することで、界面活性剤とイミンが加水分解して得られたアミンとで表面全体が被覆された金属微粒子が溶媒中に分散してなる金属微粒子含有液を得る。次いで、この金属微粒子含有液に極性溶媒を加えることで、金属微粒子を沈降させる。溶媒を取り除き、沈降した金属微粒子を回収する。 （もっと読む）

【課題】冷却管を有する金属粉末製造用のプラズマ装置において、冷却管の内壁に付着・堆積した付着物を容易に除去することができ、より生産効率の良いプラズマ装置を提供する。
【解決手段】金属原料が供給される反応容器２と、反応容器２内の金属原料との間でプラズマを生成し、金属原料を蒸発させて金属蒸気を生成するプラズマトーチ４と、金属蒸気を搬送するためのキャリアガスを反応容器２内に供給するキャリアガス供給部１０と、反応容器２からキャリアガスによって移送される金属蒸気を冷却して金属粉末を生成する冷却管３を備える金属粉末製造用プラズマ装置１であって、冷却管３をその長手方向下流側が上方にあるように水平方向に対し１０〜８０°傾けて反応容器２に設置すると共に、冷却管３の内壁に付着した付着物を除去するスクレーパー２０を、冷却管３の長手方向下流端から冷却管３内に嵌挿した。 （もっと読む）

【課題】平均粒径が小さく、電池反応の効率と充放電サイクル特性を向上させることができる二次電池用電極材およびその二次電池用電極を低コストで且つ高い生産性で製造することができる方法を提供する。
【解決手段】Ｓｎおよび（Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｉｎ、ＡｇおよびＴｉからなる群から選択される１種以上の）遷移金属の水酸化物とＡｌ、Ｓｉ、Ｚｒおよび（Ｙを含む）希土類元素からなる群から選択される１種以上の添加元素とを含む粒子を生成させ、得られた粒子を乾燥した後、還元性ガス雰囲気下で加熱する。 （もっと読む）

【課題】磁化容易軸制御に必要な印加磁場を低減しつつ透磁率を向上させ、磁性粒子の酸化の影響を軽減して高性能化した磁気部品を提供する。
【解決手段】乾式法を用いてパラジウムを含む非磁性材料で磁性粒子を被覆する工程と、非磁性材料で被覆された磁性粒子を、回転磁場、加熱、および振動下でプレスする工程とを含む磁気部品の製造方法である。パラジウムを含む非磁性材料で被覆された磁性粒子を含み、周波数１００ｋＨｚ時の透磁率が１５０を超えて２００以下であり、印加磁場８００ｋＡ／ｍ時の飽和磁束密度が２．２０Ｔを超えて２．４５Ｔ以下である、磁気部品である。 （もっと読む）

【課題】還元拡散法により得られる希土類−遷移金属系合金粉末の減磁曲線の角形性を改善し、永久磁石性能を高めることができる希土類−遷移金属系合金粉末とその製造方法を提供。
【解決手段】希土類酸化物粉末と、遷移金属粉末および／またはその酸化物粉末と、粒状または粉末状の、アルカリ金属、アルカリ土類金属およびこれらの水素化物から選ばれる少なくとも１種の還元剤とを混合し、不活性雰囲気中で該混合物を８５０〜１２００°Ｃで１〜１０時間保持して希土類−遷移金属系合金を含む反応生成混合物を得る第１の工程、この反応生成混合物を３００℃以下に冷却した後、水素ガスを導入し、水素ガス分圧２０〜４０ｋＰａの雰囲気中において７００〜９００°Ｃの温度で１〜２０時間保持する第２の工程、得られた反応生成混合物を真空もしくは水素ガス分圧１０ｋＰａ未満の雰囲気下５００〜９００°Ｃで１０分〜２０時間熱処理する第３の工程、得られた熱処理物を水で洗浄し、還元剤を含む副生物を除去して希土類−遷移金属系合金を回収する第４の工程、洗浄後の希土類−遷移金属系合金を１５０〜４００°Ｃの非酸化性雰囲気下で乾燥する第５の工程とを含む希土類−遷移金属系合金粉末の製造方法などにより提供。 （もっと読む）

【課題】α−β型チタン合金の部材において、表面のみならず部材内部全体に亘って高強度かつ高耐力を得るとともに表面近傍に大きく深い圧縮残留応力を付与した、耐疲労性に優れた高強度チタン合金部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】チタン合金からなる原材料の準備工程と、窒化処理により原材料の表層に窒素化合物層および／または窒素固溶層を形成して窒素含有原材料を作製する窒化工程と、原材料と窒素含有原材料とを混合して窒素含有混合材料を得る混合工程と、窒素含有混合材料の材料同士を接合するとともに窒素含有原材料に含まれる窒素を内部全体に亘って固溶した状態で均一に分散させて焼結チタン合金部材を得る焼結工程と、焼結チタン合金部材に熱間塑性加工を施して処理部材を得る熱間塑性加工工程および／または焼結チタン合金部材に熱処理を施して処理部材を得る熱処理工程と、処理部材に圧縮残留応力を付与する表面処理工程を備える。 （もっと読む）

【課題】タガント粒子として用いられる、耐久性が高く、意匠性に優れた金属粒子が得られる製造方法を提供する。
【解決手段】このような金属粒子の製造方法の一例は、表面に凹凸形状９を有する基材７上に、アルカリ可溶性金属を含む金属製犠牲層１１を形成する犠牲層形成工程と、前記金属製犠牲層上に、所定のパターンを有するアルカリ可溶性樹脂を含むレジスト層１３を形成するレジスト層形成工程と、電気メッキにより、前記金属製犠牲層上であって、前記レジスト層以外の個所に、アルカリ不溶性金属層１５を形成するアルカリ不溶性金属層形成工程と、アルカリ性の現像液により、前記金属製犠牲層及び前記レジスト層を除去し、前記アルカリ不溶性金属層を前記基材から剥離する剥離工程と、を具備することを特徴とする金属粒子１ａ，１ｂの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】従来になく高い充填密度を有する混合導電粉を用いた導電ペーストを提供する。
【解決手段】相対充填密度が６８％以上である混合導電粉と樹脂バインダとを含む導電ペーストであって、前記混合導電粉が、実質的に球状で表面が平滑化された銀被覆銅粉６０〜９６重量％と銀粉４〜４０重量％とを含み、前記銀被覆銅粉が、銀および銀と銅との合金により銅粉の表面が部分的に被覆され、銀の合計量が銅に対して３〜３０重量％である銀被覆銅粉の表面に、銀被覆銅粉に対して０．０２〜１．０重量％の量の脂肪酸が付着してなる実質的に球状の脂肪酸付着銀被覆銅粉である導電ペースト。 （もっと読む）

【課題】低コストで簡便なナノ粒子の合成方法を提供する。
【解決手段】 本発明による水素化処理方法は、溶媒（Ｓｖ）に金属塩（ＭＳ）および還元剤（Ｒ）を混合した溶液（Ｓ）を用意する工程と、密閉容器（Ｘ）内で、溶液（Ｓ）を、溶媒（Ｓｖ）の大気圧下の沸点以上１８０℃以下の温度に加熱する工程とを包含する。例えば、溶媒（Ｓｖ）として水およびアルコールからなる群から選択された少なくとも１つが用いられる。金属塩（ＭＳ）として、金、銀、銅、白金、パラジウム、ルテニウム、コバルト、ニッケル、モリブデン、インジウム、イリジウムおよびチタンからなる群から選択された少なくとも１つの金属の塩が用いられる。還元剤（Ｒ）としてポリビニルピロリドンが用いられる。 （もっと読む）

【課題】より容易に低コストで希少金属が回収できるようにする。
【解決手段】作製した混合粉末を粉砕処理する。例えば、ボールミルを用いて粉砕処理を行えばよい。この粉砕処理により、混合粉末中の金属酸化物と還元剤とが、メカノケミカル反応により固相で反応し、金属酸化物が還元される。ボールミルによる粉砕用ボールを用いての回転運動による粉砕処理では、物理的な粉砕処理のみでなく、機械的エネルギーによる化学反応を起こすメカノケミカル反応を起こすことが知られている。この還元により、金属酸化物より金属などの還元体が生成される。 （もっと読む）

【課題】安定性に優れ、２００℃以下の低温焼成によって優れた導電性が発現する銀ナノ粒子、その製造方法、及び前記銀ナノ粒子を含む銀塗料組成物を提供する。
【解決手段】銀含有ナノ粒子の製造方法であって、銀化合物と安定剤としての分枝脂肪族アミン化合物とを混合し混合物を得て、前記混合物に、還元剤を添加し、無溶媒の反応系において、前記銀化合物を前記還元剤と反応させて、銀含有ナノ粒子を形成する、ことを含む銀含有ナノ粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】均一な形状、粒径及び磁気特性を有するＦｅＰｔ又はＣｏＰｔナノ粒子を、その磁化容易軸の向きを垂直に揃えて非磁性基板の表面に均一に配列することが可能な磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板２の表面２ａにテクスチャリング処理を施すことにより、円周方向成分を有する複数の溝３を形成する工程と、テクスチャリング処理が施された非磁性基板２の表面２ａに、ＦｅＰｔ又はＣｏＰｔナノ粒子５の分散溶液を接触させることにより、この非磁性基板２の上に垂直磁性層４となるＦｅＰｔ又はＣｏＰｔナノ粒子配列体５Ａを形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】ナノ粒子を内部に分散させたナノ粒子分散イオンゲルを提供する。
【解決手段】ナノ粒子の製造方法は、イオンゲルの内部に複数のナノ粒子が分散されたナノ粒子分散イオンゲルを製造する工程（ステップＳ１０）と、ナノ粒子分散イオンゲルを溶解し、複数のナノ粒子が分散された液体を製造する工程（ステップＳ２０）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】Ａｌ系のターゲットにおいて、より優れた耐食性を示す高いＣｒの含有量とした場合であっても、ターゲットの成形時に割れが発生することなく、また、スパッタ時においても割れが発生することがないスパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】原子％で、Ｓｉ：５〜２０％、Ｃｒ：５．５〜２５％を含有し、残部：Ａｌおよび不可避不純物からなる組成の素地中に絶対最大長：０．１〜５０μｍの範囲内にあるＡｌリッチの粒子が分散していることにより、前記課題を解決したものである。 （もっと読む）

【課題】インダクタ、チョークコイル、トランス等電磁気部品の小型化及び高周波域で使用可能な磁気特性の優れた複合磁性材料を提供する。
【解決手段】Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ系の金属磁性粉末と結着材とを添加混合し、加圧成形して成形体とした後、前記成形体に熱処理を施した複合磁性材料において、前記金属磁性粉末は異なる酸素濃度を有した金属磁性粉末Ａ、金属磁性粉末Ｂからなり、前記金属磁性粉末Ａの酸素濃度が１５００〜６５００ｐｐｍ、前記金属磁性粉末Ｂの酸素濃度が４００ｐｐｍ以下であり、前記金属磁性粉末中における前記金属磁性粉末Ｂの含有量を５〜２５ｗｔ％の範囲とし、前記金属磁性粉末Ａの平均粒径をＤＡ、前記金属磁性粉末Ｂの平均粒径をＤＢとしたとき、ＤＢとＤＡが、ＤＢ／ＤＡ≦０．１６となる関係を満たすこととする。 （もっと読む）

【課題】複数のターゲットを用いることなく、炭素含有量の多いＦｅＰｔＣ系薄膜を単独で形成できるＦｅＰｔ−Ｃ系スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｆｅ、ＰｔおよびＣを含有するＦｅＰｔ−Ｃ系スパッタリングターゲットであって、Ｐｔを４０〜６０ａｔ％含有して残部がＦｅおよび不可避的不純物からなるＦｅＰｔ系合金相と、Ｃ相とが互いに分散した構造を有するようにし、ターゲット全体に対するＣの含有量を２１〜７０ａｔ％にする。
また、Ｐｔを４０〜６０ａｔ％含有して残部がＦｅおよび不可避的不純物からなるＦｅＰｔ系合金粉末にＣ粉末を添加し、酸素の存在する雰囲気下で混合して混合粉末を作製した後、作製した該混合粉末を加圧下で加熱して成形する。 （もっと読む）

【課題】 太陽電池の光吸収薄膜層を製造するための低酸素Ｃｕ−Ｇａ系合金粉末、およびスパッタリングターゲット材の製造方法を提供する。
【解決手段】 原子％で、Ｇａを２５％以上、４０％未満含み、残部Ｃｕおよび不可避的不純物からなり、酸素含有量が２００ｐｐｍ以下としたＣｕ−Ｇａ系合金粉末。また、原子％で、Ｇａを２５％以上、４０％未満含み、残部Ｃｕおよび不可避的不純物からなり、酸素含有量が２５０ｐｐｍ未満、かつ結晶粒径が１０μｍを超え、１００μｍ以下としたＣｕ−Ｇａ系合金スパッタリングターゲット材。さらには、上記Ｃｕ−Ｇａ系合金粉末を原料とし、これを４００〜８５０℃の温度で固化成形するＣｕ−Ｇａ系スパッタリングターゲット材の製造方法。 （もっと読む）