【課題】高温の基板加熱と熱処理工程を必要とせず、室温で高密度、高緻密性や高密着性をもつ脆性材料微粒子成膜体が形成できる脆性材料微粒子を提供する。
【解決手段】平均粒子径が５０ｎｍ以上１μｍ以下で、形状が非球形の不定形形状であり、少なくとも一カ所以上、電子顕微鏡観察により２次元的な像として求めた角を持つ形状をした微粒子を少なくとも体積率３０％以上含み、前記角の尖り角度（θ）は、１４０度以下であることを特徴とする、脆性材料微粒子。当該微粒子を用いて、微細成膜装置１を用いてエアロゾル７式ガスデポジション法により被膜形成を行う。 （もっと読む）

【課題】簡便な工程のみによってセラミックス基材とアルミニウム合金等とを充分な強度で接合しつつ、優れた熱サイクル疲労特性が得られるセラミックスとアルミニウムとの接合方法を提供する。
【解決手段】２００〜４００℃に加熱した作動ガスとアルミニウム粉末とを、スプレーガンのノズルから噴出させ、セラミックス基材に衝突させてセラミックス基材上にアルミニウム皮膜を形成する工程と、アルミニウム皮膜とアルミニウム又はアルミニウム合金とをろう付けする工程と、を備えることを特徴とするセラミックスとアルミニウムとの接合方法を選択する。 （もっと読む）

【課題】生産性を低下させることなく、基体の温度低下を抑制することを可能とする、薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】被処理基体を加熱する工程と、被処理基体の表面に向けて液体材料を噴霧する工程と、を含み、噴霧する工程において、被処理基体を被処理基体の表面方向に相対的に往復移動させて、被処理基体の表面における液体材料の噴霧される位置を変動させながら薄膜を成膜する、薄膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】被加工材の表面を改質するための硬質粒子を、この被加工材の加工が行われている領域に円滑かつ確実に供給でき、しかも粒子が周囲に飛散するのを確実に防止できるようにする。
【解決手段】丸棒状の被加工材１の表面に微小隙間を介して回転工具２を対向配設し、被加工材１を軸回りに回転させると共に、前後に移動させ、その間に回転工具２を回転させながら、この回転工具２を挿通させた分散液供給パイプ１２から循環用パイプ１９を介して硬質粒子６ａを分散させた分散液６を供給することによって、分散液６を被加工材１の外周面と回転工具２の作用面２ａとの間に供給して、硬質粒子６ａの加圧力により被加工材１の表面を改質させる。 （もっと読む）

【課題】アクセスし難い表面上に粒子をコールドスプレーするための角度付きノズルを提供すること。
【解決手段】基材にコーティング材料を施工するためスプレーコーティングガンと共に使用するノズル。ノズルは、コーティング材料を放出するよう動作可能な吐出部分を含む。ノズルはまた、原材料を受け取るように動作可能な材料受入部分を含む。吐出部分が前記材料受入部分から角度がつけられ、コーティング材料が吐出部分から吐出されて基材の領域と衝突し結合するようになる。吐出部分は、コーティング材料を任意の位置で施工するように吐出部分を位置付けることができる。 （もっと読む）

【課題】ショットピーニングにおける最適な処理条件によって金属材からなる基材の耐腐食性を向上させることができる金属拡散層製造方法及び金属材を提供する。
【解決手段】チャンバ１１０内をアルゴンガスに置換する置換工程と、基材Ｗを９００℃まで加熱する加熱工程と、クロム粒子とＳＫＨ５９鋼粒子とを混合した投射材Ｐを基材Ｗ表面に噴射してクロムを含む金属拡散層を形成する噴射工程と、基材Ｗを冷却する冷却工程とを備えている。 （もっと読む）

【課題】コールドスプレーによる噴射体の物理量の測定を実現する。
【解決手段】コールドスプレーによる噴射体の物理量を測定するコールドスプレー測定装置１０であって、噴射体の温度を検出する熱電対１１と、熱電対１１を支持するノーズコーン１５と、を具備し、ノーズコーン１５の頂部１５Ａの半頂角θ１は、コールドスプレーによる噴射体の超音速流をマッハ数Ｍによって表したとき、マッハ数Ｍに対応するマッハ角θ_Ｍ以下の角度となるように形成され、熱電対１１は、ノーズコーン１５に内設され、ノーズコーン１５の頂部１５Ａに熱電対１１が配置される。 （もっと読む）

【課題】成膜室内に保持された基板を三次元方向に移動させる機能を有すると共に、その機能に伴って設けられたベローズの内部に侵入する成膜関与物質の量を低減する成膜装置を提供する。
【解決手段】基板２の表面に対して真空状態下で成膜処理する成膜室１０と、成膜室１０に形成された開口部１０ａを貫通して基板２を保持する基板保持手段２０と、基板保持手段２０を介して基板２を三次元方向に移動させる基板駆動手段３０と、基板保持手段２０の少なくとも一部を収容し、開口部１０ａに一方の端部６０ａを連通させるように設けられたベローズ６０と、基板保持手段２０が摺動可能となるように開口部１０ａを塞ぐ遮蔽手段８０と、遮蔽手段８０を成膜室１０の上部内壁面１０ｄに押し付ける付勢手段９０とを有する成膜装置である。 （もっと読む）

【課題】基材と被膜との密着性を高めることにより、耐摩耗性に優れた被覆体を提供する。
【解決手段】本発明の被覆体は、基材上に第１被膜が形成されたものであって、該第１被膜は、立方晶窒化硼素微粒子からなり、立方晶窒化硼素微粒子は、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の平均粒子径を有し、基材は、第１被膜が形成される側の表面において、立方晶窒化硼素微粒子が基材に浸入するアンカー部を有することを特徴とする。第１被膜は、立方晶窒化硼素粉末を原料とし、該原料を高速気流中で基板に衝突させることにより形成されることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】製膜対象物にノズルから噴射されたエアロゾルを吹き付けつつ、その吹き付け位置を連続的に変化させることで、上面と外側面と湾曲面とを連続的に覆う膜を生成する製膜方法であって、簡易な方法で連続的且つ良質な膜の形成を可能とする製膜方法を提供すること。
【解決手段】この製膜方法は、上面Ｗ０１及び上面Ｗ０１に繋がる湾曲面Ｗ０３にエアロゾルを連続的に吹き付け、上面Ｗ０１を覆う膜と湾曲面Ｗ０３の少なくとも一部を覆う膜とを連続的に形成する第一製膜工程と、外側面Ｗ０２を覆う膜と、第一製膜工程において湾曲面Ｗ０３に形成された膜を更に覆う膜とを連続的に形成する第二製膜工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】粉末の供給量を安定させた粉末供給装置を提供する。
【解決手段】粉末供給円盤４５の一部を覆うカバー部材５０に形成された粉末排出通路５
１および第一の気体供給通路５２はそれぞれ、カバー部材５０と粉末供給円盤４５との間
隙部ＧＰを介して互いに対向するとともに、当該間隙部ＧＰに位置する受容部４７の底面
に沿って延びるように形成されている。 （もっと読む）

【課題】厚みが大きく且つ略均等であり、しかも、表面粗さが小さい皮膜を、プラズマ成膜によって得る。
【解決手段】プラズマ発生装置１６と、基材１０の成膜部位との間に、整流用治具１２を配置する。この整流用治具１２に形成された成膜用通路２２に、プラズマ発生装置１６からプラズマ励起種を供給する。その一方で、液体供給装置１８から液相原材料Ｌを基材１０に供給し、付着させる。この液相原材料Ｌは、成膜用通路２２に到達したプラズマ励起種によってブローされることで展延し、厚みが低減した液膜となる。また、液膜は、プラズマ励起種によって活性化され、重合・固化して皮膜に変化する。 （もっと読む）

【課題】噴射する皮膜材料（原料粉末）の速度分布の適正化を可能にし、これによって所望品質の皮膜が得られるようにしたコールドスプレー装置用エジェクタノズルと、このエジェクタノズルを備えたコールドスプレー装置を提供する。
【解決手段】皮膜材料を作動ガスとともに固相状態のまま対象物に衝突させ、皮膜を形成するコールドスプレー装置１におけるエジェクタノズル３である。皮膜材料及び作動ガスを供給する側となるコンバージェント部１１と、コンバージェント部１１の先端側に設けられたダイバージェント部１２とを有する。コンバージェント部１１は内管１３と外管１４とからなる二重配管構造とされ、ダイバージェント部１２は外管１４に連続して形成されている。内管１３内には皮膜材料及び作動ガスが供給されるように構成され、内管１３と外管１４との間には作動ガスが供給されるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】従来のエアロゾルデポジション膜形成用成膜装置で形成された膜は、表面にはランド発生や膜厚の偏りなど、電気的、物理的特性を劣化させる膜質を有しており、それを抑制した優良な膜を成膜可能な成膜装置、成膜方法、形成された成膜を有する成膜基板を提供する。
【解決手段】基板の表面に、膜を形成する、ほぼ均一な厚さの粉末層を形成し、その粉末層に向けてキャリアガスを噴射して、基板表面近傍に、ガスと粉末のエアロゾルを生成し、更にガス噴射で粉末を加速して基板面に衝突させ膜を形成可能とする成膜装置の構成とする。基板上に均一膜を形成するために、例えばメッシュマスク上に静置した粉末を基板面上で走査可能な機構を用いる。良好な膜を得ることが可能になるとともに製造工程面での工数削減にも寄与できる。また本発明の成膜装置、成膜方法によって、小型・薄型のキャパシタ内蔵ＭＣＭ用回路基板などの成膜基板が製造可能となる。 （もっと読む）

【課題】摩擦攪拌の手法を用いて材料表面の結晶粒を微細化することにより、金属材料の耐食性を改善する高耐食表面処理方法を提供する。
【解決手段】高耐食表面処理方法において、金属材料の被処理体Ｓに対し、この金属材料よりも硬質のツール１２を押し付けて回転させながら移動させる工程を含み、ツール１２の押付荷重Ｌが１〜３ｔｏｎ、ツール１２の回転速度Ｒが１５０〜５００ｒｐｍの範囲で設定され、被処理体Ｓの表面を摩擦熱により塑性流動させてさらに攪拌して結晶粒を微細化することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 下層との密着性の優れた防汚層を形成するための成膜方法を提供することにある。
【解決手段】 被処理基板上にフッ素含有樹脂からなる有機層を形成する成膜方法であって、酸素原子（Ｏ）を含有するプラズマ生成ガス雰囲気中で生成したプラズマに被処理基板を曝し、次いで前記有機層を形成する。 （もっと読む）

【課題】従来コールドスプレー法による被膜形成が困難であった、基材と被膜形成用の粒体の組合せであっても、良好な密着強度を有する被膜の形成を可能にするコールドスプレー法による被膜形成方法及びその方法により得られる複合材の提供。
【解決手段】基材Ｘ表面にコールドスプレー法により被膜を形成する被膜形成方法であって、基材表面を加熱する加熱工程と、加熱工程後又は同時に基材の表面に作動ガスと共に粗化処理用粒体を超音速で噴き付け、基材表面の粗化処理を行う前処理工程と、前処理工程後、基材表面にコールドスプレー法により２００℃以上９００℃以下の作動ガスと共に被膜形成用粒体を噴き付け、基材表面に被膜を形成する被膜形成工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】塑性変形した脆性材料の微粒子の観察方法を提供する。
【解決手段】基板上に堆積した脆性材料の微粒子をダイアモンド圧子で周囲の温度と熱平行な常温状態で圧縮して得られる塑性変形した脆性材料の微粒子を、電子線回折像のスポットのリング状のつながりから微粒子の結晶構造並びに塑性変形量を観察するものであって、前記微粒子の結晶構造並びに塑性変形量は、単結晶からなる多結晶体であり、基板と平行方向にリップ状に変形し、基板表面で左右に塑性変形し、かつ基板に固着したアンカー部を形成する塑性変形された微粒子は、微粒子のアンカー部以外の領域に比べて塑性変形量が少なく、結晶サイズが大きいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】金属球などの金属物の表面に二酸化チタン等のチタン酸化物を、膜圧が均一になるように被覆する。
【解決手段】搬送回転ねじ４２が回転すると、上記らせん溝４６に掛った金属球７は、凹溝４４、４４に沿って搬送される。この搬送される金属球７は、搬送回転ねじ４２及び搬送回転ローラー４３、４３の回転によって、金属球７の進行方向とほぼ直交する方向に回転される。上記搬送回転ローラー４３、４３の外周面の長手方向に沿って延びる直線状の一本または複数本の長手溝４７が形成され、長手溝４７が金属球７を通過するたびに、金属球７の向きが変えられる。これにより、上記金属球７の回転の向きが変えられ、金属球７の向きが種々ランダムに変更され、スプレーガン４８から金属球７の表面に噴霧あれ被覆される二酸化チタンの膜厚が、金属球７表面全体にわたってほぼ均一となる。 （もっと読む）

【課題】材料粉末供給装置やガス加熱器を低圧で運転することができ、ガス消費コストを低減することができ、しかもコールドスプレーノズルを閉塞させずに安定した運転を行うことができるコールドスプレー装置を提供する。
【解決手段】材料粉末を作動ガスとともにコールドスプレーノズルから高速で噴射し、固相状態のまま基材に衝突させて被膜を形成するコールドスプレー装置において、
コールドスプレーノズル１内に設けられ、作動ガスのガス通路幅を絞ることにより高速ガス流を形成する高速ガス流形成部Ａと、材料粉末Ｍを低圧ガスに搬送させてコールドスプレーノズルに供給する材料粉末供給路６と、コールドスプレーノズルに高圧の作動ガスを供給する高圧ガス供給路８と、材料粉末を伴う低圧ガスを、コールドスプレーノズルの中心軸方向から高速ガス流形成部Ａの近傍且つその下流側に導入する材料粉末供給ノズル４とを備えてなることを特徴とする。 （もっと読む）