【課題】成膜工程において微細な粉末が発生し得る成膜装置において、成膜室内の粉末の付着を抑制する成膜装置を提供する。
【解決手段】基板保持具２２上に載置された基板２１の表面に対して成膜材料を吹き出すノズルを備えた成膜室１を有し、成膜室内の粉末が付着する部分を選択的に加熱する加熱手段を設け、また基板２１の表面に存在する段差について、基板２１から段差が立ち上がる点を中心とし、段差の高さまでの段差端部と、段差が立ち上がる点から段差の高さとほぼ同じ距離離れるまでの基板２１の表面の範囲を選択的に加熱する加熱手段３０を設けた。 （もっと読む）

【課題】 金属の微細な複合組織で形成された皮膜を形成できるようにするとともに、金属の粒度が従来と同等あるいはそれ以下であっても、ノズルからの噴射に支障を与えることなく各金属材料の分散性を向上させ、品質の向上を図る。
【解決手段】 スプレーノズルから融点温度未満の作動ガスと共に基材に向けて噴射され該基材に皮膜として形成される２種以上の金属の粉末材料を含むコールドスプレー用皮膜材料Ｈにおいて、１０〜６０質量％のアルミニウムと、残部にニッケル，チタン，鉄，シリコン，マグネシウムの１以上から選択される金属とを用い、この２種以上の金属の粉末材料同士を非化合物化及び非合金化の状態で密着させてなる粉末状の複合体Ｆを６０質量％以上含んで構成し、この複合体Ｆの粒径を、５〜１００μｍにした。 （もっと読む）

【課題】成膜工程において微細な粉末が発生し得る成膜装置において、成膜室内の粉末の付着を抑制する成膜装置を提供する。
【解決手段】基板保持具２２上に載置された基板２１の表面に対して成膜材料を吹き出すノズルを備えた成膜室を有し、成膜終了後かつ成膜室ベント前に基板２１の少なくとも表面２１ａを覆うカバー手段３０を設けた。 （もっと読む）

【課題】短時間で減圧室を大気圧に昇圧することを可能としながらも、設備コストを大きく低減することができる表面処理装置を提供する。
【解決手段】減圧下で処理ガスを被処理物に接触させ、被処理物を表面処理する表面処理装置１であって、開閉自在な扉体３を備えた減圧室２と、前記減圧室２に接続された排気管１０と、排気管１０に備えた真空バルブ機構６１を介して接続され、減圧室２を所定圧力に減圧する減圧機構６０と、減圧室２に圧縮エアを供給して減圧室２を昇圧する昇圧機構１１とを備えている。昇圧機構１１は、エアコンプレッサから供給される圧縮エアを調圧する調圧機構１２と、調圧されたエアを蓄積するエアタンク１３と、エアタンク１３と排気管１０とを接続する圧縮エア供給管１４と、圧縮エア供給管１４を開閉するバルブ機構１５とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 エアロゾルデポジション装置及びエアロゾルデポジション方法に関し、成膜ノズル内での材料粒子の凝集を起こすことなく、内部結晶構造に歪みを持たない粒径がナノサイズの材料粒子を堆積する。
【解決手段】 成膜基板を保持する基板保持部材と、成膜ノズルとを備えた成膜室と、前記成膜室にエアロゾル用配管を介してエアロゾル状態の材料粒子を供給するエアロゾル発生器と前記エアロゾル発生器にキャリアガスを供給するキャリアガス供給手段とを設けたエアロゾルデポジション装置の成膜ノズルに、内部断面形状が前記エアロゾル用配管の流入側の断面円形状から楕円形状を介して長方形状へと変化する移行部と、内部断面形状が一定の長方形状の直方体部とを設ける。 （もっと読む）

【課題】複合構造物に含まれる膜状の構造物の厚さが不均一になるおそれを低減すること。
【解決手段】成膜装置は、エアロゾル生成装置と、ノズルと、エアロゾル搬送管と、微粒子分散器２０とを備える。エアロゾル生成装置は、微粒子をガス中で分散させてエアロゾルを発生させる。ノズルは、エアロゾル生成装置から導かれたエアロゾルを噴出可能な開口を有する。前記開口は、エアロゾルの進行方向であるＸ方向と直交する断面内で、Ｙ方向の寸法がＺ方向の寸法よりも長い形状である。エアロゾル搬送管は、エアロゾル生成装置からノズルへエアロゾルを導く。微粒子分散器２０は、エアロゾル搬送管に設けられる。微粒子分散器２０は、エアロゾルを通過させることが可能な第１スリット２２と、第２スリット２３と、第３スリット２４とを含む。各スリットは、前記断面内においてＹ方向と交差する方向の寸法が、その方向と直交する方向の寸法よりも長い形状である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、生産性の低下を抑制するとともに表面処理効果の向上を図ることができる表面処理装置および表面処理方法を提供する。
【解決手段】被処理物を所定の方向に向けて搬送する搬送部と、前記被処理物に対して、プラズマ処理、紫外線照射処理、およびコロナ放電処理からなる群より選ばれた少なくとも１種の処理を施す処理部と、前記処理部を移動させる移動部と、前記移動部の制御を行う制御部と、を備え、前記制御部は、前記移動部の制御を行うことで、前記所定の方向に向けて搬送される被処理物に対して前記処理を施す際に前記処理部を前記搬送部の搬送面に沿って搬送方向に移動させるとともに、前記被処理物と前記処理部との間の相対速度を制御することを特徴とする表面処理装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】成膜工程において微細な粉末が発生し得る成膜装置において、成膜室内に漂ったり、成膜室壁に付着したりして成膜室内に残留する粉末の量を軽減する成膜室外への粉末の漏れを抑制する成膜装置及び成膜室を提供する。
【解決手段】成膜室内に残留する粉末を減少させるために、成膜室内での粉末の主要な流れ方を考慮して、成膜室内を減圧する減圧ポンプが取り付けられる排気口の設置位置を設定し、粉末の排気系への吸い込み量を増やす。 （もっと読む）

基材上の蒸着アルミニウム層を不動態化するための方法であって、その表面上に蒸着アルミニウムを含む基材を提供する工程；上記基材の上記表面を、ヘキサフルオロジルコネートを含む水性の実質的にクロムフリーの組成物で処理する工程；および上記処理された表面を水でリンスする工程を含む。基材上の蒸着アルミニウム層を不動態化するための方法であって、基材上にアルミニウムの層を蒸着する工程；上記蒸着アルミニウムを有する上記基材を、ヘキサフルオロジルコネートを含む水性の実質的にクロムフリーの組成物で処理する工程；および上記処理された基材を水でリンスする工程を含む。 （もっと読む）

【課題】成膜工程において微細な粉末が発生し得る成膜装置において、成膜室外への粉末の漏れを抑制する成膜装置及び成膜室を提供する。
【解決手段】制御手段９によってベント後に成膜室２内を成膜室外と同じ大気圧に保ちながら弱く排気する。この状態で成膜された基板を取り出すために成膜室扉２ａを開けたときに成膜室内向きの気流が発生するので、前記扉を開ける際に、成膜室の内部に残留した微細な粉末が外に漂い出すことを抑止できる。 （もっと読む）

【課題】焼入れ鋼等の高硬度鋼の切削加工で、すぐれた耐欠損性、耐摩耗性を発揮する複相混合層からなる硬質被覆層を形成した表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 工具基体の表面に、ｃＢＮ相とＴｉＮ相との複相混合層からなる硬質被覆層を形成した表面被覆切削工具において、該硬質被覆層中のｃＢＮ相の体積割合は４０〜８０％であり、残りは、非晶質ＴｉＮ相と結晶質ＴｉＮ相の混相からなり、混相に占める上記非晶質ＴｉＮ相の面積割合は３０〜８０％であって、非晶質ＴｉＮ相は、ｃＢＮ粒子の表面を被覆している。 （もっと読む）

【課題】 基材に影響を与えることなくレーザ光を皮膜材料に照射して、皮膜材料の粉末堆積層の密度を向上させる等皮膜の性状向上を図る。
【解決手段】 スプレーノズル７から皮膜材料の粉末を当該皮膜材料の融点温度未満の作動ガスと共に基材Ｋに向けて噴射して、基材Ｋに皮膜材料の皮膜を形成するコールドスプレーによる皮膜形成方法において、レーザ照射機１０によりスプレーノズルＫから基材に至る皮膜材料の粉末の経路に該粉末を加熱するレーザ光を照射する。 （もっと読む）

【課題】費用のかかる真空及び機器要件なしで、ＥＢＰＶＤによって生じるコーティングと構造的に類似したコーティングを作製することができるシステムを提供する。
【解決手段】超合金基板にサーマルバリアコーティングを施すシステムは、サーマルバリアコーティングを作製するための材料を供給する少なくとも１つのターゲットと、ターゲットから原子粒子を遊離させるためにターゲットに向けて操作可能に指向される少なくとも１つのレーザと、プラズマを発生させ、原子粒子を加速させて超合金基板上にサーマルバリアコーティングとして堆積させるためのプラズマトーチとを備え、超合金基板は、ニッケル基超合金又はコバルト基超合金である。
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本発明のプロセスは、超疎水性の表面の耐久性を著しく増加させると共に、元の表面の光学的性質と同様の光学的性質を保持する。前記プロセスは、形成されたばかりのナノ粒子および超微粒子を、速度および熱によって基板に部分的に埋め込んで化学結合させることで、強く結合されたナノ〜サブミクロンの表面組織を生じる。このナノ表面構造は、所望の表面特性（例えば疎水性、疎油性、親水性など）を有するように改良できる。このプロセスによって製造されるコーティングのうち高い位置にあるものは、残りの表面を摩滅から保護するので、多くの用途で製品寿命を非常に増加させる。好ましい実施形態において、前記プロセスは、車両のフロントガラスをコーティングするために用いられる。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜上に中間層を介して金属膜を形成する場合に、その密着性を改善することができる成膜方法及び成膜装置並びに積層膜を提供すること。
【解決手段】基板３の表面の絶縁膜１上に、金属と酸化物とを含む複合層である中間層５を介して金属膜７を積層して、積層膜９を形成する際には、基板３に対して、超臨界流体と複合層５中の金属となる原料と複合層５中の酸化物となる原料とを供給して、複合層５の超臨界成膜を行うとともに、超臨界成膜を行う際には、複合層５中の酸化物となる原料に対する複合層５中の金属となる原料の供給比率を、連続的又はステップ状に、膜厚の増加に伴って増加させる。 （もっと読む）

本発明は、微粒子化の低減を示すプラズマエッチング耐性層で基板をコーティングする方法であって、基板にコーティング層を適用するステップを含む方法を含み、コーティング層は、約２０ミクロン以下の厚さを有し、ある時間にわたってフッ素ベースのプラズマに曝露された後のコーティング層は、コーティング層の断面に広がるいかなるクラックまたは亀裂も実質的に含まない。［００６２］記載される方法によって調製されるコーティングされた基板。また、本発明には、フッ素ベースの半導体ウエハー処理プロトコルで構造要素として使用するためのコーティングされた基板も含まれ、コーティングは、約２０ミクロン以下の厚さを有するコーティング層であり、ある時間にわたってフッ素ベースのプラズマに曝露された後のコーティング層は、コーティング層の断面に広がるいかなるクラックまたは亀裂も実質的に含まず、微粒子化の低減を示す。
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【課題】エアロゾル化ガスデポジション法によって良好な膜質を得ることが可能なジルコニア膜の成膜方法を提供すること。
【解決手段】エアロゾル化ガスデポジション法によってジルコニア膜を成膜する成膜方法であって、平均粒子径が２μｍ以上４μｍ以下であり、かつ比表面積が４ｍ^２／ｇ以上７ｍ^２／ｇ以下であるジルコニア微粒子Ｐを密閉容器２に収容し、密閉容器２にガスを導入することによって、ジルコニア微粒子ＰのエアロゾルＡを生成させ、密閉容器２に接続された搬送管６を介して、密閉容器２よりも低圧に維持された成膜室３にエアロゾルＡを搬送し、成膜室３に収容された基材Ｓ上にジルコニア微粒子Ｐを堆積させる。
上記条件を満たすジルコニア微粒子を用いることで、緻密かつ、基材への密着力が高いジルコニア薄膜を成膜することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は，対象物の洗浄を行う際に用いる水の洗浄力を効率的に高めることができるとともに，コーティング（対象物への被膜形成）を行う際の作業効率を高めることができる洗浄及び被膜形成装置等を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の洗浄及び被膜形成装置１００は，対象物の洗浄や対象物への被膜形成を行うためのものであり，コート液を収容するコート槽１と，コート槽１と接続された混合加電槽２と，混合加電槽２に接続する水供給装置３と，混合加電槽２の送出口と接続された放出装置４とを有する。また，コート槽１と混合加電槽２との間には，弁５が設けられている。混合加電槽２は，槽内の液体を混合し，混合した液体に電気を通すものである。そして，洗浄時には，混合加電槽２へのコート液の供給がなされず，被膜形成時には，混合加電槽２へとコート液が供給される。 （もっと読む）

【課題】被処理物の表面の一部を占める被処理領域を選択的に窒化するプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置は、被処理物の表面の一部を占める被処理領域を選択的に窒化する。接地電極には接地電位が与えられ、接地電極と対向電極との間には接地電極の電位より対向電極の電位が高くなる直流パルス電圧が繰り返し印加される。被処理領域には、面積が１０ｃｍ²以下であって導電体が露出する対向電極の対向面が対向させられる。チャンバの内部の空間には、窒素ガスを含有する処理ガスが供給され、当該空間の雰囲気は、圧力が５０Ｔｏｒｒ以上常圧以下となり窒素ガスの分圧が全圧の５０％以下となる状態に調整される。 （もっと読む）