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Fターム[5F044LL00]の内容

ボンディング (23,044) | フェイスダウンボンディング (4,630)

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【課題】基板上に隣接させて接着する電子部品間の接着材の形状を所望の形状にして、信頼性を向上させる。
【解決手段】基板30と、当該基板30に電気的に接続された隣接する電子部品31・32との接続信頼性を向上させる電子部品の接着方法であって、隣接する電子部品31・32の周囲に接着材35を塗布する接着材塗布ステップと、当該接着材塗布ステップによって隣接する電子部品31・32間に塗布された接着材35の上から接着材35の形状を所望のフィレット部36形状に規定するための逆フィレット部形状の形成型41を載置する型載置ステップと、当該型載置ステップによって逆フィレット部形状の形成型41が載置された状態で接着材35を硬化させる硬化ステップと、を含む。 (もっと読む)


【課題】 3次元集積回路構造の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の方法に従うと、第1の能動回路層ウエハが準備される。第1の能動回路層ウエハは、能動回路を含むP−層により覆われているP+部分を有する。第1の能動回路層ウエハは第1配線層を含むインターフェース・ウエハにフェイス・ダウン・ボンディングされ、次いで、第1の能動回路層ウエハのP−層を残すように第1の能動回路層ウエハのP+部分が選択的に除去される。次に、P−層の背面に配線層が形成される。更に本発明に従うと、3次元集積回路構造及びこの3次元集積回路構造を製造するための手順を実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。 (もっと読む)


【課題】基板接合時の信頼性を向上させた半導体装置及び半導体チップのボンディング方法を提供する。
【解決手段】半導体チップ10の電極11の上に形成され、電極11から離れるに従って幅が狭くなる楔形突起13と、半導体チップ10の電極11に対応して基板20に配置された電極21の上に形成され、電極21から離れるに従って溝27の幅が広くなる溝形突起28とを備え、半導体チップ10の楔形突起13を基板20の溝形突起28の溝27に押しつけて半導体チップ10を基板20に接合した半導体装置100であって、楔形突起先端15の幅W1は溝形突起先端25の溝27の幅W4よりも狭く、楔形突起根元14の幅W2は溝形突起先端25の溝27の幅W4よりも広く、楔形突起側面16の半導体チップ10の電極11の表面12に対する傾斜角αは溝形突起28の傾斜面26の基板20の電極21の表面22に対する傾斜角β以下とする。 (もっと読む)


【課題】ボンディング用の金属ナノインクにおいて、加圧焼結の際のボイドの発生を抑制する。
【解決手段】分散剤102によって表面コーティングされた金属ナノ粒子101を有機溶剤105中に混合させた後、有機溶剤105中に酸素を酸素ナノバブル125として注入して、加圧焼結によって半導体ダイの電極と基板の電極および/または半導体ダイの電極と他の半導体ダイの電極とを接合するための金属ナノインク100を製造する。この金属ナノインク100の微液滴を電極上に射出して半導体ダイの電極と基板の電極上にバンプを形成し、半導体ダイを反転して基板の上に位置合わせして重ね合わせた後、各電極間のバンプを加圧するとともに加熱し、バンプの金属ナノ粒子を加圧焼結させる。 (もっと読む)


【課題】半導体チップを超音波振動を利用して回路基板にフリップチップ接続する際に、半導体チップの位置ずれを防止して正確に回路基板に搭載可能とする。
【解決手段】バンプ12と該バンプ12よりも大径でかつ突出高さの高い位置決め用のバンプ13が形成された半導体チップ10を、バンプ12が接合される電極端子22と位置決め用のバンプ13が接合されるパッド23が設けられた回路基板20に、フリップチップ接続により搭載する電子部品の実装方法であって、半導体チップ10に超音波振動を印加しつつ、位置決め用のバンプ13と前記パッド23とを接合し、次いで、半導体チップ10に超音波振動を印加しつつ、バンプ12と電極端子22とを接合する。 (もっと読む)


【課題】簡便に基板の導電部と電子部品との接合部を補強することができ、環境の変化によって、前記の接合部から電子部品が剥離することを防止することができる部品実装基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の部品実装基板の製造方法は、基板1の一方の面1aに、ポリマー型導電インクを塗布して、導電部をなす塗膜2を形成する工程Aと、導電部の一対の電極をなす塗膜2に電子部品11の端子12、12が当接するように、基板1の一方の面1aに電子部品11を配置する工程Bと、基板1の他方の面1bと電子部品11との間に電界を掛けて、塗膜2に含まれる導電微粒子を、電子部品11の端子12、12の周囲に移動させる工程Cと、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】半導体基板同士の接合工程の歩留まりを向上させることが可能な接合方法を提供することにある。
【解決手段】各半導体基板1,2それぞれに対して、半導体基板1,2において接合相手の半導体基板2,1に対向させる面側に絶縁層12,22を形成する絶縁層形成工程と、絶縁層12,22の表面をCMPにより平坦化する第1の平坦化工程と、絶縁層12,22に貫通孔12c,22cを形成する貫通孔形成工程と、貫通孔12c,22cの内側に貫通配線15,25を形成する貫通配線形成工程と、貫通配線形成工程の後に絶縁層12,22の表面側をCMPにより平坦化する第2の平坦化工程を行った後に、絶縁層12,22の表面上に接合用パッド14,24を形成する接合用パッド形成工程を行い、その後、接合用パッド14,24同士を常温接合する接合工程を行う。 (もっと読む)


【課題】 回路基板及びその製造方法に関し、接合界面におけるBi濃度を低減して接合信頼性を高める。
【解決手段】 電極を表面に備えた配線基板と、前記電極に対向するバンプを表面に備えた電子部品とを有し、前記電極と前記バンプとの間の領域に形成されたSn及びBiを含む接合層における第1の領域のBi含有率を、前記接合層における第2の領域のBi含有率よりも低くする。 (もっと読む)


【課題】この発明は基板の金属端子とTCPの金属端子を確実に、しかも効率よく接合することができるようにした接合装置を提供することにある。
【解決手段】基板3とTCP5の互いの金属端子3a,5aを対向させて重ね合わされた部分を支持するバックアップツールと、バックアップツールの上方に上下方向に駆動可能に設けられ超音振動器によって超音波振動が付与されるとともに、下降方向に駆動されることで重ね合わされた基板とTCPを加圧してこれらの互いの金属端子を超音波振動によって接合する加圧ツール7と、加圧ツールと重ね合わされた基板とTCPの間に介装され加圧ツールが基板とTCPの金属端子を接合するときに加圧ツールに付与された超音波振動を基板とTCPに伝播する材料によって形成されたシート状部材25を具備する。 (もっと読む)


【課題】接合後の形状を安定させ、接合界面の密着性を高め、それにより強度が増し、さらにメッキの成長界面の密着性も向上させることを安価で短時間に行う。
【解決手段】上方から加圧・加熱用ジグ11を押し当て突起物12の頭頂部12aを1つの凸形状に整形する。加圧・加熱工程により頭頂部12aが形成された接合用突起物12によって第1基板と第2基板の接合を行う。これにより、接合の際に、突起物12の凸形状が複数あると凸形状間で空隙ができてしまうことを回避し、また、頭頂部12aを形成する角度を浅くして、接合時の変形量を減少、接合時の加重を低く、デバイスの他の薄膜層へのダメージを低減する。さらに、接合する第1基板と第2基板に傾きがあっても接合界面に生じる空隙を減らし、メッキ成長界面からの剥離を抑制して、所望の接合形状で十分な接合強度を確保できる。 (もっと読む)


マイクロエレクトロニクスパッケージは、基板(110)と、基板に埋め込まれたシリコンパッチ(120)と、シリコンパッチの第1位置の第1インターコネクト構造(131)およびシリコンパッチの第2位置の第2インターコネクト構造(132)と、第1インターコネクト構造と第2インターコネクト構造とを互いに接続するシリコンパッチ中の電気的導電線(150)とを備える。 (もっと読む)


【課題】 基板の接合時に、バンプに加えられる荷重に起因して、その下の半導体チップの表層部に応力が加わり、クラック等が発生する場合がある。
【解決手段】 第1の基板上に導電パターン(23)が形成されている。この導電パターンの上に、導電材料からなるベース膜(31)が配置されている。ベース膜の上にバンプ(36)が配置されている。バンプの最下面の外周線が、ベース膜の外周線よりも内側に配置される。ベース膜の厚さがバンプの厚さよりも薄い。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の封止用に用いた場合に作業性に十分優れており、300℃以上に加熱した場合であってもボイドの発生を十分に抑制し、接続信頼性と絶縁信頼性とに十分優れた半導体装置を製造可能な半導体封止用フィルム状接着剤を提供すること。
【解決手段】本発明の半導体封止用フィルム状接着剤は、(a)エポキシ樹脂と(b)硬化促進剤とを含有する。そして、(b)硬化促進剤が120℃以上の融点を有し、(b)硬化促進剤の活性領域が120℃以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】バンプ電極を有する半導体装置およびそれを搭載した半導体装置の信頼性を向上させる。
【解決手段】半導体基板SW1の上部に形成された絶縁膜6上にパッドPD1が形成され、絶縁膜6上にパッドPD1に平面的に重ならないように絶縁膜11が形成されている。パッドPD1の上面と絶縁膜11の上面とが平坦な面を形成し、この平坦な面上にバンプ電極BP1が形成されている。バンプ電極BP1の下面は、パッドPD1の上面を平面的に内包しており、バンプ電極BP1の下面は、パッドPD1の上面全面と絶縁膜11の上面の一部とに接し、パッドBP1の上面は平坦である。 (もっと読む)


【課題】ウェットエッチングを行っても、製造工程の信頼性が確保でき、基板とチップの接合強度を高めた半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ウェットエッチング法によって、基板100’の表面に複数のボンディングパッド110を形成し、作用表面に複数の接続バンプ210を形成した半導体チップ200を裏返して複数の接続バンプ210と基板100’上の複数のボンディングパッド110の位置を合わせて、ボンディングパッド110と接続バンプ210の溶点より低い温度で圧接し、接続バンプ210とボンディングパッド110を互いに嵌合させて半導体チップ200と基板100’を電気的に接続する。 (もっと読む)


本発明は、基板(2)の表面上に、構成部品またはチップ(3)の自己組立のための少なくとも1つの親水性貼付けゾーン(12)を形成し、その中に前記親水性貼付けゾーンの境界を定める疎水性ゾーン(20)を生成する方法に関する。
(もっと読む)


【課題】部品と基板との接合品質を向上した部品実装方法を提供する。
【解決手段】部品20と基板10との接合品質を向上した部品実装方法は、基板10におけるバンプbの位置を検出する位置検出工程(ステップS100)と、位置検出工程により検出された位置に部品20の電極23が対向するように、部品20と基板10を配置する配置工程(ステップS110)と、配置工程で配置された状態を保って、部品20と基板10との何れか一方を他方に押圧する押圧工程(ステップS112)とを含む。 (もっと読む)


【課題】第1の部材と第2の部材とを金属バンプを介して超音波接合する場合に、第1の部材または第2の部材に設けた金属バンプの下地にダメージが発生することを防止する。
【解決手段】本発明の超音波接合方法は、第1の部材11と、嵩高部材3上に固着された第2の部材4とを金属バンプ8を介して超音波接合する方法において、超音波振動ヘッド10に第1の部材11を取り付け、超音波接合装置1のステージ2の上面に嵩高部材3を取り付けた場合に、前記嵩高部材3を前記ステージ2の上面で発振開始直後からスライド可能なように構成したものである。 (もっと読む)


【課題】本発明は、マイグレーションの発生を防止することを目的とする。
【解決手段】半導体モジュールは、絶縁膜16上に配置された長尺状の弾性突起18と、弾性突起18が延びる方向に沿った軸AXに交差して延び弾性突起18上に至る配線20と、配線20の弾性突起18上の部分にそれぞれ接触するリード26と、リード26が形成されたベース基板24と、半導体チップ10の弾性突起18が形成された面とベース基板24のリード26が形成された面との間で間隔を保持する硬化した接着剤22と、を有する。弾性突起18は、弾性変形によって形成された窪み28を有する。配線20及びリード26の接触部は、それぞれ、窪み28内に位置する。弾性突起18は、隣同士の窪み28の間に、弾性力を以ってベース基板24に密着する部分を有する。窪み28の内面とリード26との間に、接着剤22の一部が充填されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電気的接続について信頼性を向上させることを目的とする。
【解決手段】本発明に係る半導体モジュールは、集積回路12が形成された半導体チップ10と、集積回路12に電気的に接続された複数の電極14と、複数の電極14にそれぞれ電気的に接続された複数のバンプ18と、複数のバンプ18にそれぞれ接触する複数のリード26と、複数のリード26が形成されたベース基板24と、を有する。接着剤28は、硬化して、半導体チップ10のバンプ18が形成された面と、ベース基板24の複数のリード26が形成された面と、の間で間隔を保持する。半導体チップ10には、収縮する方向の応力が残存している。複数のリード26には、少なくとも半導体チップ10から複数のバンプ18を介して、半導体チップ10の中央方向に押圧力が加えられている。 (もっと読む)


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