ウェーハ洗浄装置
【課題】
洗浄液を効率的に処理してミストを発生させず、部品交換の必要のない低コストのウェーハ洗浄装置を提供すること。
【解決手段】
洗浄槽２１と、回転テーブル２２と、洗浄ノズル１４と、回転テーブル２２外周部近傍に設けられたリング２３と、回転テーブル２２の底部外周縁に設けられた複数の板状部材２５とにより、洗浄液を飛散させず、ミストを吸引しながらウェーハの洗浄を行なう。
洗浄液を効率的に処理してミストを発生させず、部品交換の必要のない低コストのウェーハ洗浄装置を提供すること。
【解決手段】
洗浄槽２１と、回転テーブル２２と、洗浄ノズル１４と、回転テーブル２２外周部近傍に設けられたリング２３と、回転テーブル２２の底部外周縁に設けられた複数の板状部材２５とにより、洗浄液を飛散させず、ミストを吸引しながらウェーハの洗浄を行なう。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置や電子部品が形成されたウェーハ等のワークを個々のチップに分割するダイシング装置に搭載されたダイシング後のワークを洗浄するウェーハ洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
表面に半導体装置や電子部品が多数形成されたウェーハは、ダイシング装置によって個々のチップに切断されて分割される。図１にダイシング装置の例を示す。ダイシング装置１は、互いに対向配置され、先端にブレード２とホイールカバー（不図示）が取付けられた高周波モータ内蔵型のスピンドル３、３と、ワークＷ表面を撮像する撮像手段４と、ワークＷを吸着保持するワークテーブル５とを有する加工部６が設けられている。
【０００３】
ダイシング装置１は、加工部６の他に加工済みのワークＷをスピン洗浄するウェーハ洗浄装置７と、フレームＦにマウントされたワークＷを多数枚収納したカセットを載置するロードポート８と、ワークＷを搬送する搬送手段９と、撮像手段４により撮像された画像を表示し各部への動作を入力する表示手段１０と、各部の動作を制御する不図示のコントローラ等とから構成されている。
【０００４】
このように構成されたダイシング装置１ではブレード２を高速回転させてブレード２とウェーハＷとが接触する加工部分に研削水及び冷却水を供給しながら加工し、冷却効果と研削粉等の加工残留物（以下、コンタミと称する）を洗い流す効果とを持たせている。
【０００５】
しかし、研削水及び冷却水による洗い流し作用だけではコンタミ除去機能は不十分であって、ダイシング装置１ではスピンナと称されるウェーハ洗浄装置７により、ダイシング後のウェーハＷを洗浄してコンタミを除去するようにしている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００６】
以下に従来使用されるウェーハ洗浄装置７の構成を説明する。ウェーハ洗浄装置７には図２に示すようにウェーハ洗浄装置７全体を覆う洗浄槽１１が設けられている。洗浄槽１１内には、洗浄するワークＷを保持してモータ１２により回転する回転テーブル１３、回転テーブル１３へ向けて純水等の洗浄液を噴射しながら揺動する洗浄ノズル１４が設けられている。
【０００７】
このように構成されたウェーハ洗浄装置７では、不図示の吸引手段またはクランプ装置等により回転テーブル１３でワークＷをフレームＦごとまたはワークＷのみを保持するともに、図３に示すようにモータ１２により矢印θ方向へ回転テーブル１３を高速回転させ
る。回転テーブル１３の回転に合わせ洗浄ノズル１４より洗浄液を噴射させ、回転テーブル１３の外周部と中心部との間を保持されたワークＷの表面に沿って矢印Ａ方向に揺動移動することでワークＷ全体の洗浄が行われる。
【０００８】
このとき、回転テーブル１３上に叩き付けられて遠心力によって回転テーブル１３より飛散した洗浄液は洗浄槽１１の内壁に当りミスト状になってウェーハ洗浄装置７からダイシング装置１内に流れ出る。これを防止する為に洗浄槽１１の内壁にはミスト防止布１５が四方に取り付けられ、洗浄槽１１下部に排出口１６が設けられている。ミスト防止布１５は不織布等の柔らかい厚みのある布等により形成これにより、飛散した洗浄液が洗浄槽１１の内壁に直接強く当たることがなくなり、ミストとなってダイシング装置１内に流れることが防止される。
【特許文献１】特開２００３−２７３０５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、従来のようにミストを防止するため洗浄槽１１の内壁にミスト防止布１５を取り付けると、ダイシングの際に生じたワークＷ表面に形成された膜やチップの破片がミスト防止布１５に刺さり、ワークＷより洗い流されたコンタミが付着してミスト防止布１５上で固まるため定期的に清掃、交換等のメンテナンス作業が必要となる。このようなメンテナンス作業は部品の交換費及び人件費等の製造コストを引き上げる原因となり、量産、低価格化が望まれる半導体装置や電子部品の製造においては大きな問題となっていた。
【００１０】
本発明はこのような問題に対して成されたものであり、ウェーハ洗浄装置の回転テーブルから飛散する洗浄液を効率的に処理してミストを発生させず、部品交換の必要のない低コストのウェーハ洗浄装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は前記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、洗浄槽と、上面側にワークを保持して回転する前記洗浄槽の内部に設けられた回転テーブルと、 前記回転テーブルに向けて洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、前記回転テーブル外周部近傍に設けられたリングと、前記回転テーブルの上面側から下面側に向う気流を該回転テーブルの外周部と前記リングとの間に発生させる該回転テーブルの底部外周縁に設けられた気流発生手段と、を備えたことを特徴としている。
【００１２】
請求項１の発明によれば、ウェーハ洗浄装置には洗浄槽と、回転テーブルと、洗浄ノズルとを備えている。回転テーブルの外周部近傍には回転テーブル外周部を覆うようにリングが設けられている。また、回転テーブルの底部外周縁には、回転テーブルの上面側から下面側に向う気流を回転テーブルの外周部とリングとの間に発生させる気流発生手段が設けられている。
【００１３】
これにより、回転テーブルに噴射され遠心力により回転テーブルから飛散する洗浄液は、リングにより回転テーブルの下面側へ導かれる。また、気流発生手段と回転テーブルの回転により発生した気流によって、回転テーブル外周部とリングとの間には回転テーブル上面側から下面側へ流れる気流が生じる。これにより回転テーブルより飛散した洗浄液は回転テーブルの下面側へ導かれ、洗浄槽の底部へ集められる。洗浄槽の底部へ集められた洗浄液は排出口より排出され、ミストが発生した場合も気流発生手段と回転テーブルの回転により発生した気流により洗浄槽の底部へ向って流れるため洗浄槽から漏れ出すことがない。
【００１４】
請求項２の発明は、請求項１の発明において、前記リングは、前記回転テーブル上面側の開口部よりも前記回転テーブル下面側の開口部が広く開口していることを特徴としている。
【００１５】
請求項２の発明によれば、回転テーブルの外周部近傍に設けられたリングは回転テーブル上面側の開口部よりも回転テーブル下面側の開口部が広く開口した形状に形成されている。これにより、遠心力により回転テーブルから飛散しリングに当った洗浄液は回転テーブルの下面側へ導かれ、洗浄槽の底部へ集められる。
【００１６】
請求項３の発明は、請求項１または請求項２の発明において、前記リングは、前記回転テーブルに固定され該回転テーブルと共に回転することを特徴としている。
【００１７】
請求項３の発明によれば、リングは回転テーブルに固定され、回転テーブルと共に回転する。これにより、回転テーブルより飛散した洗浄液を回転テーブルの下面側へ導くリングが容易に回転テーブル外周部近傍に配置され、回転テーブルから飛散する洗浄液を効率的に処理することが可能となる。
【００１８】
請求項４の発明は、請求項１、２、または３のいずれか１項の発明において、前記リングの外周縁近傍には前記洗浄槽に固定されている整流板が設けられていることを特徴としている。
【００１９】
請求項４の発明によれば、リングの外周縁近傍には洗浄槽に固定されている整流板が設けられ、リングにより回転テーブル下面側へ導かれた洗浄液の一部が整流板により洗浄槽の底へ向って流れる。これにより、回転テーブルから飛散する洗浄液を効率的に処理することが可能となる。
【発明の効果】
【００２０】
以上説明したように、本発明のウェーハ洗浄装置によれば、回転テーブル近傍に設けられたリングと気流発生手段により、ウェーハ洗浄装置の回転テーブルから飛散する洗浄液を効率的に処理してミストを発生させず、部品交換の必要のない低コストのウェーハ洗浄装置とすることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、添付図面に従って本発明に係るウェーハ洗浄装置の好ましい実施の形態について詳説する。まず初めに、本発明に係わるウェーハ洗浄装置の構成について説明する。図４は本発明に係わるウェーハ洗浄装置の斜視図である。
【００２２】
ウェーハ洗浄装置２０は図４に示すように洗浄槽２１が設けられ、洗浄槽２１内には、洗浄するワークＷを保持してモータ１２により回転する回転テーブル２２、回転テーブル２２へ向けて純水等の洗浄液を噴射しながら揺動する洗浄ノズル１４が設けられている。
【００２３】
回転テーブル２２の外周部近傍にはリング２３が固定され、回転テーブル２２とともに回転する。リング２３の外周縁には洗浄槽２１に固定されている整流板２４が設けられている。
【００２４】
回転テーブル２２は不図示の吸引手段またはクランプ装置等によりワークＷをフレームＦごとまたはワークＷのみを保持してモータ１２により回転する。図５に示すように回転テーブル２２の底部外周縁には気流発生手段としての板状部材２５、２５・・が設けられている。各板状部材２５は図６に示すように回転テーブル２２の内周側から外周縁方向へ向って設けられ、回転テーブル２２が図４に示すモータ１２によって矢印θ方向へ回転することにより、矢印Ｂで示される回転中心である回転軸２２Ａ方向かつ下方である洗浄槽２１底部に向かって流れる気流を発生させる。板状部材２５は一般的なターボファンまたはシロッコファンの羽根形状と同じであり、詳細説明は省略する。
【００２５】
リング２３は図５に示すように不図示の固定具（後述する図７に示す固定具２３Ｃ）により回転テーブル２２外周部近傍に取り付けられる。リング２３は回転テーブル２２に取り付けられた際における回転テーブル２２上面側の開口部２３Ａよりも回転テーブル２２下面側の開口部２３Ｂが広く開口した形状に形成されている。これにより、リング２３は回転テーブル２２外周部近傍に容易に配置され、回転テーブル２２より飛散する洗浄液は回転テーブル２２の下面側に向けて傾斜したリング２３の内面に当り、斜面に沿って洗浄槽２１底部へ流れていく。
【００２６】
整流板２４は中央部にリング２３と同等の傾斜角を備えた開口部２４Ａが形成され、図７に示すように洗浄槽２１に取り付けられるとともに開口部２４Ａがリング２３の外周縁近傍に配置される。これにより、洗浄槽２１底部は回転テーブル２２の上部側と下部側で隔離され、リング２３の内面に当り洗浄槽２１底部へ流れた洗浄液は跳ね返ることなく洗浄槽２１底部に貯留されて排出口１６より外部へ排出される。
【００２７】
次に本発明に係わるウェーハ洗浄装置の作用について説明する。図７に示すウェーハ洗浄装置２０は、洗浄槽２１が設けられ、洗浄槽２１内には、モータ１２により回転する回転テーブル２２、回転テーブル２２へ向けて純水等の洗浄液を噴射しながら揺動する洗浄ノズル１４が設けられている。
【００２８】
ウェーハ洗浄装置２０では、回転テーブル２２でワークＷをフレームＦごとまたはワークＷのみを保持するともに、モータ１２により図５に示す矢印θ方向へ回転テーブル２２を高速回転させる。更に、回転テーブル２２の回転に合わせ洗浄ノズル１４より洗浄液を噴射させ、回転テーブル２２の外周部と中心部との間を保持されたワークＷの表面に沿って洗浄ノズル１４を揺動移動することでワークＷ全体の洗浄を行なう。
【００２９】
このとき、図８に示すように回転テーブル２２上に叩き付けられた洗浄液は、遠心力によって回転テーブル２２上より外周縁方向である矢印Ｓ１方向へ飛散し、回転テーブル２２の外周部近傍に固定されて回転テーブル２２と共に回転するリング２３内面の傾斜面に当たる。
【００３０】
リング２３内面の傾斜面に当った洗浄液は一部が傾斜面に沿って矢印Ｓ２方向へ流れ、整流板２４を伝い洗浄槽２１底部へ流れていき、一部はミスト状となりリング２３の内側に飛散する。
【００３１】
リング２３内面に当たりミスト状となった洗浄液は、回転テーブル２２と板状部材２５によって発生した図６に示す矢印Ｂ方向の気流により、図８に示す矢印Ｓ３方向へ吸引されて回転テーブル２２の下部側へ送られ、洗浄槽２１底部に滞留するとともに、排出口１６から不図示の吸引手段によって外部へ排出される。
【００３２】
これらにより洗浄槽２１の底部へ集められた洗浄液は、跳ね返りなどにより装置外部へ飛散することがない。更に、板状部材２５によって生じる気流によりリング２３内面と回転テーブル２２の外周縁との間に生じる回転テーブル２２上面側から下面側に向かう気流がミストを洗浄槽２１底部に向って吸引し、ミストの外部への浮遊を防ぎ効率的に排出口１６より外部へ排出させる。
【００３３】
以上、説明したように、本発明に係わるウェーハ洗浄装置によれば、回転テーブルの外周部近傍に固定されて回転テーブルと共に回転するリングと回転テーブル底部外周縁に設けられた板状部材により、ウェーハ洗浄装置の回転テーブルから飛散する洗浄液を効率的に処理してミストを発生させず、部品交換の必要のない低コストのウェーハ洗浄装置とすることが可能となる。
【００３４】
なお、本実施の形態では整流板は洗浄槽２１の内壁面にのみ取り付けられているが、本発明はそれに限らず、図９に示すウェーハ洗浄装置２０Ａのように、回転テーブル２２の底部に回転テーブル２２とともに回転する湾曲したリング状の整流板２６を設け、洗浄槽２１底部に整流板２６により上部を覆われる湾曲したリング状の整流板２７を設けてもよい。これにより、回転テーブル２２の回転と板状部材２５により生じた回転軸２２Ａ方向に向かって流れる気流が洗浄槽２１底部に向って効率よく流れ、吸引したミストが排出口１６より効率よく排出される。
【００３５】
また、本実施の形態では板状部材２５は図６に示すように設けられ、回転テーブル２２が矢印θ方向へ回転することにより回転テーブル２２の中心方向下方に向かって流れる気流を発生させているが本発明はこれに限らず、図１０に示す板状部材２５Ａにより矢印Ｃで示される回転テーブル２２外周方向かつ下方である洗浄槽２１底部に向かって流れる気流を発生させるようにしても好適に実施可能である。板状部材２５Ａは、一般的な軸流ファンの羽根形状であり、詳細説明は省略する。
【００３６】
これにより、図１１に示すように遠心力によって回転テーブル２２上より外周縁方向である矢印Ｓ１方向へ飛散しリング２３内面の傾斜面に当った洗浄液は、一部が傾斜面に沿って矢印Ｓ２方向へ流れ、整流板２４を伝い洗浄槽２１底部へ流れていき、ミスト状となった洗浄液は、回転テーブル２２と板状部材２５Ａによって発生した図１０に示す矢印Ｃ方向の気流により、矢印Ｓ４方向へ吸引されて回転テーブル２２の下部側へ送られ、排出口１６から不図示の吸引手段によって外部へ排出される。
【００３７】
更に、本実施の形態では回転テーブル２２にリング２３が固定され、リング２３の外周縁近傍に整流板２４が配置されているが、本発明はそれに限らず、リング２３を回転テーブルには固定せず、洗浄槽２１に固定する等により回転テーブル２２の外周部近傍にリング２３を配置しても好適に実施可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】ダイシング装置の外観を示す斜視図。
【図２】従来のウェーハ洗浄装置の外観を示した斜視図。
【図３】従来のウェーハ洗浄装置の上面図。
【図４】本発明に係わるウェーハ洗浄装置の外観を示した斜視図。
【図５】本発明に係わるウェーハ洗浄装置のリングと回転テーブルを示した斜視図。
【図６】回転テーブルの底面正面図。
【図７】本発明に係わるウェーハ洗浄装置の側面断面図。
【図８】本発明に係わるウェーハ洗浄装置の側面断面の一部を拡大した図。
【図９】本発明に係わるウェーハ洗浄装置の別の実施形態を示した側面断面図。
【図１０】別の実施の形態による回転テーブルの底面正面図。
【図１１】別の実施の形態によるウェーハ洗浄装置の側面断面の一部を拡大した図。
【符号の説明】
【００３９】
１…ダイシング装置，２…ブレード，３…スピンドル，４…撮像手段，５…ワークテーブル，６…加工部，７、２０、２０Ａ…ウェーハ洗浄装置，８…ロードポート，９…搬送手段，１０…表示手段，１１、２１…洗浄槽，１２…モータ，１３、２２…回転テーブル，１４…洗浄ノズル，１５…ミスト防止布，１６…排出口，２３…リング，２４、２６、２７…整流板，２５、２５Ａ…板状部材（気流発生手段），Ｗ…ワーク
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置や電子部品が形成されたウェーハ等のワークを個々のチップに分割するダイシング装置に搭載されたダイシング後のワークを洗浄するウェーハ洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
表面に半導体装置や電子部品が多数形成されたウェーハは、ダイシング装置によって個々のチップに切断されて分割される。図１にダイシング装置の例を示す。ダイシング装置１は、互いに対向配置され、先端にブレード２とホイールカバー（不図示）が取付けられた高周波モータ内蔵型のスピンドル３、３と、ワークＷ表面を撮像する撮像手段４と、ワークＷを吸着保持するワークテーブル５とを有する加工部６が設けられている。
【０００３】
ダイシング装置１は、加工部６の他に加工済みのワークＷをスピン洗浄するウェーハ洗浄装置７と、フレームＦにマウントされたワークＷを多数枚収納したカセットを載置するロードポート８と、ワークＷを搬送する搬送手段９と、撮像手段４により撮像された画像を表示し各部への動作を入力する表示手段１０と、各部の動作を制御する不図示のコントローラ等とから構成されている。
【０００４】
このように構成されたダイシング装置１ではブレード２を高速回転させてブレード２とウェーハＷとが接触する加工部分に研削水及び冷却水を供給しながら加工し、冷却効果と研削粉等の加工残留物（以下、コンタミと称する）を洗い流す効果とを持たせている。
【０００５】
しかし、研削水及び冷却水による洗い流し作用だけではコンタミ除去機能は不十分であって、ダイシング装置１ではスピンナと称されるウェーハ洗浄装置７により、ダイシング後のウェーハＷを洗浄してコンタミを除去するようにしている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００６】
以下に従来使用されるウェーハ洗浄装置７の構成を説明する。ウェーハ洗浄装置７には図２に示すようにウェーハ洗浄装置７全体を覆う洗浄槽１１が設けられている。洗浄槽１１内には、洗浄するワークＷを保持してモータ１２により回転する回転テーブル１３、回転テーブル１３へ向けて純水等の洗浄液を噴射しながら揺動する洗浄ノズル１４が設けられている。
【０００７】
このように構成されたウェーハ洗浄装置７では、不図示の吸引手段またはクランプ装置等により回転テーブル１３でワークＷをフレームＦごとまたはワークＷのみを保持するともに、図３に示すようにモータ１２により矢印θ方向へ回転テーブル１３を高速回転させ
る。回転テーブル１３の回転に合わせ洗浄ノズル１４より洗浄液を噴射させ、回転テーブル１３の外周部と中心部との間を保持されたワークＷの表面に沿って矢印Ａ方向に揺動移動することでワークＷ全体の洗浄が行われる。
【０００８】
このとき、回転テーブル１３上に叩き付けられて遠心力によって回転テーブル１３より飛散した洗浄液は洗浄槽１１の内壁に当りミスト状になってウェーハ洗浄装置７からダイシング装置１内に流れ出る。これを防止する為に洗浄槽１１の内壁にはミスト防止布１５が四方に取り付けられ、洗浄槽１１下部に排出口１６が設けられている。ミスト防止布１５は不織布等の柔らかい厚みのある布等により形成これにより、飛散した洗浄液が洗浄槽１１の内壁に直接強く当たることがなくなり、ミストとなってダイシング装置１内に流れることが防止される。
【特許文献１】特開２００３−２７３０５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、従来のようにミストを防止するため洗浄槽１１の内壁にミスト防止布１５を取り付けると、ダイシングの際に生じたワークＷ表面に形成された膜やチップの破片がミスト防止布１５に刺さり、ワークＷより洗い流されたコンタミが付着してミスト防止布１５上で固まるため定期的に清掃、交換等のメンテナンス作業が必要となる。このようなメンテナンス作業は部品の交換費及び人件費等の製造コストを引き上げる原因となり、量産、低価格化が望まれる半導体装置や電子部品の製造においては大きな問題となっていた。
【００１０】
本発明はこのような問題に対して成されたものであり、ウェーハ洗浄装置の回転テーブルから飛散する洗浄液を効率的に処理してミストを発生させず、部品交換の必要のない低コストのウェーハ洗浄装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は前記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、洗浄槽と、上面側にワークを保持して回転する前記洗浄槽の内部に設けられた回転テーブルと、 前記回転テーブルに向けて洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、前記回転テーブル外周部近傍に設けられたリングと、前記回転テーブルの上面側から下面側に向う気流を該回転テーブルの外周部と前記リングとの間に発生させる該回転テーブルの底部外周縁に設けられた気流発生手段と、を備えたことを特徴としている。
【００１２】
請求項１の発明によれば、ウェーハ洗浄装置には洗浄槽と、回転テーブルと、洗浄ノズルとを備えている。回転テーブルの外周部近傍には回転テーブル外周部を覆うようにリングが設けられている。また、回転テーブルの底部外周縁には、回転テーブルの上面側から下面側に向う気流を回転テーブルの外周部とリングとの間に発生させる気流発生手段が設けられている。
【００１３】
これにより、回転テーブルに噴射され遠心力により回転テーブルから飛散する洗浄液は、リングにより回転テーブルの下面側へ導かれる。また、気流発生手段と回転テーブルの回転により発生した気流によって、回転テーブル外周部とリングとの間には回転テーブル上面側から下面側へ流れる気流が生じる。これにより回転テーブルより飛散した洗浄液は回転テーブルの下面側へ導かれ、洗浄槽の底部へ集められる。洗浄槽の底部へ集められた洗浄液は排出口より排出され、ミストが発生した場合も気流発生手段と回転テーブルの回転により発生した気流により洗浄槽の底部へ向って流れるため洗浄槽から漏れ出すことがない。
【００１４】
請求項２の発明は、請求項１の発明において、前記リングは、前記回転テーブル上面側の開口部よりも前記回転テーブル下面側の開口部が広く開口していることを特徴としている。
【００１５】
請求項２の発明によれば、回転テーブルの外周部近傍に設けられたリングは回転テーブル上面側の開口部よりも回転テーブル下面側の開口部が広く開口した形状に形成されている。これにより、遠心力により回転テーブルから飛散しリングに当った洗浄液は回転テーブルの下面側へ導かれ、洗浄槽の底部へ集められる。
【００１６】
請求項３の発明は、請求項１または請求項２の発明において、前記リングは、前記回転テーブルに固定され該回転テーブルと共に回転することを特徴としている。
【００１７】
請求項３の発明によれば、リングは回転テーブルに固定され、回転テーブルと共に回転する。これにより、回転テーブルより飛散した洗浄液を回転テーブルの下面側へ導くリングが容易に回転テーブル外周部近傍に配置され、回転テーブルから飛散する洗浄液を効率的に処理することが可能となる。
【００１８】
請求項４の発明は、請求項１、２、または３のいずれか１項の発明において、前記リングの外周縁近傍には前記洗浄槽に固定されている整流板が設けられていることを特徴としている。
【００１９】
請求項４の発明によれば、リングの外周縁近傍には洗浄槽に固定されている整流板が設けられ、リングにより回転テーブル下面側へ導かれた洗浄液の一部が整流板により洗浄槽の底へ向って流れる。これにより、回転テーブルから飛散する洗浄液を効率的に処理することが可能となる。
【発明の効果】
【００２０】
以上説明したように、本発明のウェーハ洗浄装置によれば、回転テーブル近傍に設けられたリングと気流発生手段により、ウェーハ洗浄装置の回転テーブルから飛散する洗浄液を効率的に処理してミストを発生させず、部品交換の必要のない低コストのウェーハ洗浄装置とすることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、添付図面に従って本発明に係るウェーハ洗浄装置の好ましい実施の形態について詳説する。まず初めに、本発明に係わるウェーハ洗浄装置の構成について説明する。図４は本発明に係わるウェーハ洗浄装置の斜視図である。
【００２２】
ウェーハ洗浄装置２０は図４に示すように洗浄槽２１が設けられ、洗浄槽２１内には、洗浄するワークＷを保持してモータ１２により回転する回転テーブル２２、回転テーブル２２へ向けて純水等の洗浄液を噴射しながら揺動する洗浄ノズル１４が設けられている。
【００２３】
回転テーブル２２の外周部近傍にはリング２３が固定され、回転テーブル２２とともに回転する。リング２３の外周縁には洗浄槽２１に固定されている整流板２４が設けられている。
【００２４】
回転テーブル２２は不図示の吸引手段またはクランプ装置等によりワークＷをフレームＦごとまたはワークＷのみを保持してモータ１２により回転する。図５に示すように回転テーブル２２の底部外周縁には気流発生手段としての板状部材２５、２５・・が設けられている。各板状部材２５は図６に示すように回転テーブル２２の内周側から外周縁方向へ向って設けられ、回転テーブル２２が図４に示すモータ１２によって矢印θ方向へ回転することにより、矢印Ｂで示される回転中心である回転軸２２Ａ方向かつ下方である洗浄槽２１底部に向かって流れる気流を発生させる。板状部材２５は一般的なターボファンまたはシロッコファンの羽根形状と同じであり、詳細説明は省略する。
【００２５】
リング２３は図５に示すように不図示の固定具（後述する図７に示す固定具２３Ｃ）により回転テーブル２２外周部近傍に取り付けられる。リング２３は回転テーブル２２に取り付けられた際における回転テーブル２２上面側の開口部２３Ａよりも回転テーブル２２下面側の開口部２３Ｂが広く開口した形状に形成されている。これにより、リング２３は回転テーブル２２外周部近傍に容易に配置され、回転テーブル２２より飛散する洗浄液は回転テーブル２２の下面側に向けて傾斜したリング２３の内面に当り、斜面に沿って洗浄槽２１底部へ流れていく。
【００２６】
整流板２４は中央部にリング２３と同等の傾斜角を備えた開口部２４Ａが形成され、図７に示すように洗浄槽２１に取り付けられるとともに開口部２４Ａがリング２３の外周縁近傍に配置される。これにより、洗浄槽２１底部は回転テーブル２２の上部側と下部側で隔離され、リング２３の内面に当り洗浄槽２１底部へ流れた洗浄液は跳ね返ることなく洗浄槽２１底部に貯留されて排出口１６より外部へ排出される。
【００２７】
次に本発明に係わるウェーハ洗浄装置の作用について説明する。図７に示すウェーハ洗浄装置２０は、洗浄槽２１が設けられ、洗浄槽２１内には、モータ１２により回転する回転テーブル２２、回転テーブル２２へ向けて純水等の洗浄液を噴射しながら揺動する洗浄ノズル１４が設けられている。
【００２８】
ウェーハ洗浄装置２０では、回転テーブル２２でワークＷをフレームＦごとまたはワークＷのみを保持するともに、モータ１２により図５に示す矢印θ方向へ回転テーブル２２を高速回転させる。更に、回転テーブル２２の回転に合わせ洗浄ノズル１４より洗浄液を噴射させ、回転テーブル２２の外周部と中心部との間を保持されたワークＷの表面に沿って洗浄ノズル１４を揺動移動することでワークＷ全体の洗浄を行なう。
【００２９】
このとき、図８に示すように回転テーブル２２上に叩き付けられた洗浄液は、遠心力によって回転テーブル２２上より外周縁方向である矢印Ｓ１方向へ飛散し、回転テーブル２２の外周部近傍に固定されて回転テーブル２２と共に回転するリング２３内面の傾斜面に当たる。
【００３０】
リング２３内面の傾斜面に当った洗浄液は一部が傾斜面に沿って矢印Ｓ２方向へ流れ、整流板２４を伝い洗浄槽２１底部へ流れていき、一部はミスト状となりリング２３の内側に飛散する。
【００３１】
リング２３内面に当たりミスト状となった洗浄液は、回転テーブル２２と板状部材２５によって発生した図６に示す矢印Ｂ方向の気流により、図８に示す矢印Ｓ３方向へ吸引されて回転テーブル２２の下部側へ送られ、洗浄槽２１底部に滞留するとともに、排出口１６から不図示の吸引手段によって外部へ排出される。
【００３２】
これらにより洗浄槽２１の底部へ集められた洗浄液は、跳ね返りなどにより装置外部へ飛散することがない。更に、板状部材２５によって生じる気流によりリング２３内面と回転テーブル２２の外周縁との間に生じる回転テーブル２２上面側から下面側に向かう気流がミストを洗浄槽２１底部に向って吸引し、ミストの外部への浮遊を防ぎ効率的に排出口１６より外部へ排出させる。
【００３３】
以上、説明したように、本発明に係わるウェーハ洗浄装置によれば、回転テーブルの外周部近傍に固定されて回転テーブルと共に回転するリングと回転テーブル底部外周縁に設けられた板状部材により、ウェーハ洗浄装置の回転テーブルから飛散する洗浄液を効率的に処理してミストを発生させず、部品交換の必要のない低コストのウェーハ洗浄装置とすることが可能となる。
【００３４】
なお、本実施の形態では整流板は洗浄槽２１の内壁面にのみ取り付けられているが、本発明はそれに限らず、図９に示すウェーハ洗浄装置２０Ａのように、回転テーブル２２の底部に回転テーブル２２とともに回転する湾曲したリング状の整流板２６を設け、洗浄槽２１底部に整流板２６により上部を覆われる湾曲したリング状の整流板２７を設けてもよい。これにより、回転テーブル２２の回転と板状部材２５により生じた回転軸２２Ａ方向に向かって流れる気流が洗浄槽２１底部に向って効率よく流れ、吸引したミストが排出口１６より効率よく排出される。
【００３５】
また、本実施の形態では板状部材２５は図６に示すように設けられ、回転テーブル２２が矢印θ方向へ回転することにより回転テーブル２２の中心方向下方に向かって流れる気流を発生させているが本発明はこれに限らず、図１０に示す板状部材２５Ａにより矢印Ｃで示される回転テーブル２２外周方向かつ下方である洗浄槽２１底部に向かって流れる気流を発生させるようにしても好適に実施可能である。板状部材２５Ａは、一般的な軸流ファンの羽根形状であり、詳細説明は省略する。
【００３６】
これにより、図１１に示すように遠心力によって回転テーブル２２上より外周縁方向である矢印Ｓ１方向へ飛散しリング２３内面の傾斜面に当った洗浄液は、一部が傾斜面に沿って矢印Ｓ２方向へ流れ、整流板２４を伝い洗浄槽２１底部へ流れていき、ミスト状となった洗浄液は、回転テーブル２２と板状部材２５Ａによって発生した図１０に示す矢印Ｃ方向の気流により、矢印Ｓ４方向へ吸引されて回転テーブル２２の下部側へ送られ、排出口１６から不図示の吸引手段によって外部へ排出される。
【００３７】
更に、本実施の形態では回転テーブル２２にリング２３が固定され、リング２３の外周縁近傍に整流板２４が配置されているが、本発明はそれに限らず、リング２３を回転テーブルには固定せず、洗浄槽２１に固定する等により回転テーブル２２の外周部近傍にリング２３を配置しても好適に実施可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】ダイシング装置の外観を示す斜視図。
【図２】従来のウェーハ洗浄装置の外観を示した斜視図。
【図３】従来のウェーハ洗浄装置の上面図。
【図４】本発明に係わるウェーハ洗浄装置の外観を示した斜視図。
【図５】本発明に係わるウェーハ洗浄装置のリングと回転テーブルを示した斜視図。
【図６】回転テーブルの底面正面図。
【図７】本発明に係わるウェーハ洗浄装置の側面断面図。
【図８】本発明に係わるウェーハ洗浄装置の側面断面の一部を拡大した図。
【図９】本発明に係わるウェーハ洗浄装置の別の実施形態を示した側面断面図。
【図１０】別の実施の形態による回転テーブルの底面正面図。
【図１１】別の実施の形態によるウェーハ洗浄装置の側面断面の一部を拡大した図。
【符号の説明】
【００３９】
１…ダイシング装置，２…ブレード，３…スピンドル，４…撮像手段，５…ワークテーブル，６…加工部，７、２０、２０Ａ…ウェーハ洗浄装置，８…ロードポート，９…搬送手段，１０…表示手段，１１、２１…洗浄槽，１２…モータ，１３、２２…回転テーブル，１４…洗浄ノズル，１５…ミスト防止布，１６…排出口，２３…リング，２４、２６、２７…整流板，２５、２５Ａ…板状部材（気流発生手段），Ｗ…ワーク
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄槽と、
上面側にワークを保持して回転する前記洗浄槽の内部に設けられた回転テーブルと、
前記回転テーブルに向けて洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、
前記回転テーブル外周部近傍に設けられたリングと、
前記回転テーブルの上面側から下面側に向う気流を該回転テーブルの外周部と前記リングとの間に発生させる該回転テーブルの底部外周縁に設けられた気流発生手段と、を備えたことを特徴とするウェーハ洗浄装置。
【請求項２】
前記リングは、前記回転テーブル上面側の開口部よりも前記回転テーブル下面側の開口部が広く開口していることを特徴とする請求項１に記載のウェーハ洗浄装置。
【請求項３】
前記リングは、前記回転テーブルに固定され該回転テーブルと共に回転することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のウェーハ洗浄装置。
【請求項４】
前記リングの外周縁近傍には前記洗浄槽に固定されている整流板が設けられていることを特徴とする請求項１、２、または３のいずれか１項に記載のウェーハ洗浄装置。
【請求項１】
洗浄槽と、
上面側にワークを保持して回転する前記洗浄槽の内部に設けられた回転テーブルと、
前記回転テーブルに向けて洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、
前記回転テーブル外周部近傍に設けられたリングと、
前記回転テーブルの上面側から下面側に向う気流を該回転テーブルの外周部と前記リングとの間に発生させる該回転テーブルの底部外周縁に設けられた気流発生手段と、を備えたことを特徴とするウェーハ洗浄装置。
【請求項２】
前記リングは、前記回転テーブル上面側の開口部よりも前記回転テーブル下面側の開口部が広く開口していることを特徴とする請求項１に記載のウェーハ洗浄装置。
【請求項３】
前記リングは、前記回転テーブルに固定され該回転テーブルと共に回転することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のウェーハ洗浄装置。
【請求項４】
前記リングの外周縁近傍には前記洗浄槽に固定されている整流板が設けられていることを特徴とする請求項１、２、または３のいずれか１項に記載のウェーハ洗浄装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１０−３８１６（Ｐ２０１０−３８１６Ａ）
【公開日】平成２２年１月７日（２０１０．１．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１６０６３１（Ｐ２００８−１６０６３１）
【出願日】平成２０年６月１９日（２００８．６．１９）
【出願人】（０００１５１４９４）株式会社東京精密 (592)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１月７日（２０１０．１．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年６月１９日（２００８．６．１９）
【出願人】（０００１５１４９４）株式会社東京精密 (592)
【Ｆターム（参考）】
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