乾燥方法、乾燥装置、および成膜方法、電気光学装置の製造方法、並びに電気光学装置、電子機器
【課題】 基板面内領域間の乾燥ムラを好適に低減することができる乾燥方法、乾燥装置、および、当該乾燥方法を用いた成膜方法、電気光学装置の製造方法、並びに、当該乾燥方法を用いて製造された電気光学装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】 基板２０上に配置された液状体の個体パターン２１…の上方空間を、その配置領域に合わせて仕切り部材３１…により区画した状態で基板２０全体の乾燥を行う。かくして、個体パターン２１の近傍における蒸気流が、基板面内方向で均一化されるため、個体パターン２１内の各領域においてムラなく乾燥、膜化がなされる。
【解決手段】 基板２０上に配置された液状体の個体パターン２１…の上方空間を、その配置領域に合わせて仕切り部材３１…により区画した状態で基板２０全体の乾燥を行う。かくして、個体パターン２１の近傍における蒸気流が、基板面内方向で均一化されるため、個体パターン２１内の各領域においてムラなく乾燥、膜化がなされる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液状体が塗布された基板を乾燥させて成膜を行う成膜方法、および、そのための乾燥方法、乾燥装置、並びに、当該成膜方法を用いた電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体装置や電気光学装置の製造プロセスに用いられる成膜方法として、基板の一面に塗布された液状体を乾燥等により膜化させるいわゆる液相法がある。この液相法においては、液状体近傍の蒸気圧分布を制御することは重要な技術である。例えば、基板の中央領域は、周囲の隣接領域からの蒸気拡散の影響で蒸気の滞留が起こりやすいため、外縁領域に比べて蒸気圧が高くなる傾向があり、このような蒸気圧のムラを低減することは良好なプロファイルの機能性膜（膜）を得る上で重要である。
【０００３】
特許文献１には、多孔質の整流板を基板と対向して配置し、基板上方の蒸気を整流板の全面から一様に排気させるようにして、蒸気流の均一化を図った乾燥方法が提案されている。また、この文献に係る乾燥方法では、基板の外縁に臨んで溶剤噴霧手段を設けて、外縁領域における蒸気圧を補正することにより、蒸気圧分布の一層の均一化を図っている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−１８６４１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述のような溶剤噴霧手段を利用した乾燥方法の場合、複雑な装置構成の乾燥装置が必要であり、また、多様なサイズや形状の基板に対応させることも困難である。
【０００６】
また近年、微小ノズルから液滴を吐出させて描画を行ういわゆる液滴吐出法により、基板上に液状体をパターニングし、パターン化された機能性膜を形成する手法が広く用いられるようになってきている（例えば、特開平１１−２７４６７１号公報など）。このようにあらかじめパターニングされている液状体を乾燥させるにあたっては、基板の全面に塗布された液状体の場合とは異なった特有の問題がある。すなわち、個体単位でパターニングされた液状体（以下、個体パターンとする）は、それぞれが独立した集合体をなしているので、各個体パターン内の中央領域と外縁領域との間で、上述したような蒸気圧分布のムラが生じてしまうのである。
【０００７】
本発明は、上述の課題を解決するためになされたもので、基板面内領域間の乾燥ムラを好適に低減することができる乾燥方法、乾燥装置、および、当該乾燥方法を用いた成膜方法、電気光学装置の製造方法、並びに、当該乾燥方法を用いて製造された電気光学装置、電子機器を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、一面に液状体の個体パターンが配置された基板についての乾燥方法であって、前記基板の一面側における空間を、前記基板の外形に合わせて物理的に区画する区画工程と、前記基板を乾燥させる乾燥工程と、を有することを特徴とする。
【０００９】
この発明の乾燥方法によれば、基板の一面側の空間を基板の外形に合わせて区画した状態で、基板（個体パターン）の乾燥を行うことにより、区画空間内における液状体の蒸気流を基板面に垂直にするように規制することができる。これにより、比較的簡単な方法でありながら、個体パターン近傍における蒸気圧分布が基板面内の領域間で均一化され、当該領域間の乾燥ムラが低減される。
【００１０】
本発明は、一面に液状体の個体パターンが配置された基板についての乾燥方法であって、前記基板の一面側における空間を、前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画する区画工程と、前記基板を乾燥させる乾燥工程と、を有することを特徴とする。
【００１１】
この発明の乾燥方法によれば、基板の一面側の空間を個体パターンの配置領域に合わせて区画した状態で、基板（個体パターン）の乾燥を行うことにより、区画空間内における液状体の蒸気流を基板面に垂直にするように規制することができる。これにより、個体パターン近傍における蒸気圧分布が個体パターン内の領域間で均一化され、当該領域間の乾燥ムラが低減される。
【００１２】
また好ましくは、前記乾燥方法において、前記個体パターンの配置領域と前記区画された空間領域の境界との基板面内距離が、前記区画された空間内における前記液状体の蒸気の平均自由行程ないしその１００倍の距離の範囲内で設定されていることを特徴とする。
この発明の乾燥方法によれば、区画空間を形成することによる蒸気流の規制の効果を十分なものとすることができる。
【００１３】
また好ましくは、前記乾燥方法において、前記区画工程は、前記基板の一面側に仕切り部材を設置して行うことを特徴とする。
この発明の乾燥方法によれば、仕切り部材を用いて簡単に上記区画工程を行うことができる。
【００１４】
また好ましくは、仕切り部材を用いる前記乾燥方法において、前記仕切り部材と前記基板の一面とを密着させることを特徴とする。
この発明の乾燥方法によれば、区画空間を形成することによる蒸気流の規制をより確実に行うことができる。
【００１５】
また好ましくは、前記乾燥方法において、前記区画された空間を介して前記基板と対向するように整流板が配置された状態で、前記乾燥工程を行うことを特徴とする。
この発明の乾燥方法によれば、整流板によって区画空間内における蒸気圧分布をより均一化させることができる。
【００１６】
本発明は、一面に液状体の個体パターンが配置された基板の乾燥を行うための乾燥装置であって、前記基板を収容するための気密室と、前記気密室内において、前記基板の一面側における空間を前記基板の外形に合わせて物理的に区画可能な区画手段と、を備えることを特徴とする。
【００１７】
この発明の乾燥装置によれば、基板の一面側の空間を基板の外形に合わせて区画した状態で、基板（個体パターン）の乾燥を行い、区画空間内における液状体の蒸気流を基板面に垂直にするように規制することができる。これにより、比較的簡単な方法でありながら、個体パターン近傍における蒸気圧分布が基板面内の領域間で均一化され、当該領域間の乾燥ムラが低減される。
【００１８】
本発明は、一面に液状体の個体パターンが配置された基板の乾燥を行うための乾燥装置であって、前記基板を収容するための気密室と、前記気密室内において、前記基板の一面側における空間を前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画可能な区画手段と、を備えることを特徴とする。
【００１９】
この発明の乾燥装置によれば、基板の一面側の空間を個体パターンの配置領域に合わせて区画した状態で、基板（個体パターン）の乾燥を行い、区画空間内における蒸気流を基板面に垂直にするように規制することができる。これにより、個体パターン近傍における蒸気圧分布が個体パターン内の領域間で均一化され、当該領域間の乾燥ムラが低減される。
【００２０】
また好ましくは、前記乾燥装置において、前記区画手段を介して前記基板と対向して配置される整流板をさらに備えることを特徴とする。
この発明の乾燥方法によれば、整流板によって区画空間内の蒸気圧分布をより均一化させることができる。
【００２１】
本発明の成膜方法は、基板の一面に液状体の個体パターンを配置し、前記乾燥方法で前記基板の乾燥を行って、前記個体パターンを膜化させることを特徴とする。
【００２２】
本発明は、パターン化された機能性膜を備える電気光学装置の製造方法であって、前記機能性膜は、前記成膜方法を用いて形成されることを特徴とする。
【００２３】
本発明は、パターン化された機能性膜を備える電気光学装置であって、前記機能性膜は、基板の一面に液状体の個体パターンが配置され、前記基板の一面側における空間が前記基板の外形に合わせて物理的に区画された状態で乾燥されて形成されることを特徴とする。
【００２４】
本発明は、パターン化された機能性膜を備える電気光学装置であって、前記機能性膜は、基板の一面に液状体の個体パターンが配置され、前記基板の一面側における空間が前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画された状態で乾燥されて形成されることを特徴とする。
【００２５】
本発明の電子機器は、前記電気光学装置を備えることを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。また、以下の説明で参照する図では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、これらの縮尺を実際のものとは異なるように表している。
【００２７】
（第１実施形態）
（乾燥装置）
まずは、図１、図２を参照して本発明に係る乾燥装置について説明する。
図１は、本発明に係る乾燥装置の構成を一部模式化して示す概略図である。図２は、乾燥装置内における整流ユニットと基板との関係を示す斜視図である。
【００２８】
図１に示す乾燥装置１は、一面（基板表面２０ａ）に個体パターン２１…が配置された基板２０を乾燥させて、機能性膜（膜）を形成（成膜）するのに用いられるものである。ここで、個体パターン２１…は、図２に示すように、所定の形状でパターニングされた個体単位の液状体のパターン（集合体）であり、本実施形態では、一つの基板２０で９つの個体の機能性膜を形成するようになっている。尚、基板２０上に形成される機能性膜の個体数については特別な限定があるわけではなく、例えば、基板２０上に単一の個体パターンを配置して機能性膜の形成を行ってもよい。
【００２９】
図１において、乾燥装置１は、気密室としてのチャンバ９を形成する容器体２および蓋体３と、チャンバ９内において基板２０を載置するための載置台４と、チャンバ９内を減圧するための減圧ポンプ５および送気管６と、チャンバ９内において基板２０と対向して設けられた整流ユニット３０と、を備えている。送気管６は、容器体２の底部に複数設けられた排気口７を介してチャンバ９と連通されている。整流ユニット３０は、蓋体３の内壁側で可動連結部８と連結されており、図示しない駆動機構により図の上下方向に移動可能となっている。
【００３０】
整流ユニット３０は、図２に示すように、枠体３２と弾性体３３とからなる複数の区画手段としての仕切り部材３１…と、整流板３４と、を備えている。枠体３２は、板状部材を加工して形成されており、例えば本実施形態では、厚みが１ｍｍ、高さ（図の上下方向の寸法）が５ｍｍのＳＵＳプレートが用いられている。弾性体３３には、例えば、ゴム等が用いられている。整流板３４には、特許文献１に係るような多孔質のセラミック基板を用いることもできるが、本実施形態では、ＳＵＳプレートに１．２ｍｍ間隔で直径１ｍｍの貫通孔３５を穿設したものが用いられている。
【００３１】
仕切り部材３１…は、整流板３４の下面にそれぞれ接着固定されて所定の配列をなしており、弾性体３３が基板表面２０ａと密着した状態において、基板表面２０ａに配置された個体パターン２１…の上方空間を、それぞれの配置領域に合わせて物理的に区画するようになっている。
【００３２】
上述のように、整流ユニット３０における仕切り部材３１…の区画形状や配列は、個体パターン２１…の形状や位置と関連して決められるものである。そこで、整流ユニット３０は、形成される機能性膜の種類に応じて対応したものが用意されており、必要に応じて交換が可能となっている。
【００３３】
（液滴吐出装置）
次に、図３を参照して、個体パターンの描画に用いる液滴吐出装置について説明する。図３は、液滴吐出装置の構成の一例を示す模式図である。
【００３４】
図３において、液滴吐出装置２００は、一面に複数のノズル２１２を配した吐出ヘッド２０１と、吐出ヘッド２０１と対向する位置に吐出対象媒体２０２を載置するための載置台２０３とを備えている。また、吐出ヘッド２０１を、吐出対象媒体２０２との距離を保ったまま縦横に移動（走査）させる走査手段２０４と、吐出ヘッド２０１に液状体を供給する液状体供給手段２０５と、吐出ヘッド２０１の吐出制御を行う吐出制御手段２０６と、を備えている。
【００３５】
吐出ヘッド２０１には、複数に枝分かれした微細な流路が形成されており、当該流路の端部は、圧力室（キャビティ）２１１、ノズル２１２となっている。圧力室２１１の外郭の一面は、圧電素子２１０によって変形可能となっており、吐出制御手段２０６からの駆動信号によって圧力室２１１内に圧力を発生させることで、ノズル２１２から液滴２１３が吐出される。尚、吐出技術としては、この例のような電気機械方式の他に、電気信号を熱に変換して圧力を発生させるいわゆるサーマル方式などもある。
【００３６】
上述の構成において、吐出ヘッド２０１の走査と同期したノズル２１２毎の吐出制御を行うことにより、吐出対象媒体２０２上に所望のパターン（形状、大きさ）で液状体を配置することが可能となっている。尚、液滴吐出装置２００は、一走査中において複数種の液状体を吐出可能なように構成することもできる。
【００３７】
（成膜方法）
次に、図４のフローチャートに沿って、図１、図２、図５を参照して、本発明に係る成膜方法（乾燥方法含む）について説明する。
図４は、成膜工程のフローを示すフローチャートである。図５は、区画空間内における蒸気流を示す概略断面図である。
【００３８】
最初の工程Ｓ１では、液滴吐出装置２００（図３参照）を用いて、基板表面２０ａ上に図２に示すように液状体の個体パターン２１…を配置する。尚、図２では、矩形状のパターンが個々の個体パターン２１とされているが、その態様は機能性膜の種類によって様々である。例えば、所定領域に複数の独立パターン（集合体）が互いに分断されて配置されているような態様であっても、当該個々の独立パターンが互いに関連して個体としての性格を有するのならば、全体を一つの個体パターンとみなすことができる。
【００３９】
液状体には、得ようとする機能性膜を構成する機能性材料を水や有機溶媒に溶解ないし分散させたものが用いられる。また、液状体には、レオロジー特性や保存安定性を調整するための添加剤や、バインダー樹脂等を添加することもできる。
【００４０】
基板表面２０ａとは、狭義に基材表面のみのことを表しているのではなく、基材表面上に電気配線等の機能層が形成されている場合も含めた最表層のことを表している。また、個体パターン２１…の配置に先立って、基板表面２０ａの親液性／撥液性の改質のために、プラズマ処理を施したり、官能基を有する鎖状分子からなる自己組織化膜を形成しておくこともできる。また、個体パターン２１…の形状を高精度に規定するために、基板表面２０ａにあらかじめ樹脂等で区画構造物（バンク）を形成しておくこともできる。
【００４１】
次の工程Ｓ２では、乾燥装置１の蓋体３を開けて、載置台４上に基板２０を移送する。基板２０は、図示しない位置決め手段によって載置台４上の所定の位置に載置され、整流ユニット３０との位置関係が規定されるようになっている。
【００４２】
次の工程Ｓ３では、図示しない駆動手段によって整流ユニット３０が基板２０に向かって降下され、基板２０上に設置される。これにより、個体パターン２１…の上方の空間が各仕切り部材３１…によって区画される。すなわち、この工程Ｓ３は、本発明における区画工程となっている。
【００４３】
次の工程Ｓ４では、減圧ポンプ５の稼動によりチャンバ９内を減圧させ、１００Ｐａ程度の真空度で基板２０（個体パターン２１…）の乾燥を行う。すなわち、この工程Ｓ４は、本発明における乾燥工程となっている。
【００４４】
図５に示すように、仕切り部材３１で区画された区画空間３６内における液状体の蒸気流（矢印で図示）は、基板２０の基板面にほぼ垂直となる。これは、仕切り部材３１によって蒸気拡散の基板面内方向の成分が打ち消されるためであり、仕切り部材３１による区画領域を個体パターン２１配置領域に近接させることで、その効果は大きくなる。好ましくは、仕切り部材３１と個体パターン２１との基板面内距離ｄを、区画空間３６内における蒸気の平均自由行程（数百μｍオーダー）ないしその１００倍の範囲内とすることが理想的である。また、本実施形態では、弾性体３３により仕切り部材３１と基板表面２０ａとを密着させることで、このような蒸気流の規制をより確実に行うようにしている。
【００４５】
かくして、個体パターン２１の近傍における蒸気流が、基板面内方向で均一化されるため、個体パターン２１内の各領域においてムラなく乾燥、膜化がなされ、プロファイルの良好な機能性膜を得ることができる。
【００４６】
また、本実施形態では、特に基板２０と対向して多孔性の整流板３４を配置することで、区画空間３６内における蒸気流の一層の均一化を図ると共に、個々の区画空間３６間の蒸気圧ムラの低減を図っている。これは、整流板３４の配置によって、一の区画空間３６から排気された蒸気が、隣接する他の区画空間３６内に最流入しにくくなるためであり、言い換えるならば、個々の区画空間３６が、隣接領域の影響を受けない擬似気密空間としての性格を有することになるためである。
【００４７】
（液晶表示装置およびその製造方法）
次に、図６を参照して、本発明に係る電気光学装置の一例としての液晶表示装置について説明する。
図６は、液晶表示装置の要部構造を示す概略断面図である。
【００４８】
図６に示すように、電気光学装置としての液晶表示装置５０は、パッシブマトリクス型液晶表示装置であって、複数の着色膜６４を有するカラーフィルタ基板（ＣＦ基板）６１と、複数の電極６８を有する対向基板７１と、ＣＦ基板６１と対向基板７１との間に狭持された液晶７０とを備えた液晶表示パネル６０を有している。このような液晶表示装置５０は、受光型の表示装置であるため、例えば対向基板７１の背面側にＬＥＤ素子、ＥＬ、冷陰極管などの光源を有する照明装置（図示を省略）を備えている。尚、本実施形態の液晶表示装置５０は、これに限定されず、例えば対向基板７１にＴＦＴやＴＦＤなどのスイッチング素子を備えたアクティブマトリクス型液晶表示装置であってもよい。
【００４９】
対向基板７１は、例えば透明な樹脂またはガラス基板を用いており、その液晶７０側の表面にＩＴＯからなる透明な複数の電極６８を有している。電極６８は、対向するＣＦ基板６１に設けられたＩＴＯからなる透明な電極６６と直交してＹ方向に延在している。すなわち、液晶表示パネル６０は、互いに対向すると共に直交して格子状に配置された電極６６と電極６８とを有している。そして電極６６と電極６８とが直交して重なった部分が表示用の画素領域となっている。
【００５０】
ＣＦ基板６１は、例えば透明な樹脂またはガラス基板を用いており、表面に色要素領域に対応して開口している下層バンクとしての遮光膜６２と、遮光膜６２の上に設けられた上層バンク６３とを備えている。また上層バンク６３によって区画された色要素領域にＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）に対応する色要素としての着色膜６４と、着色膜６４と上層バンク６３とを覆う平坦化層としてのＯＣ（オーバーコート）膜６５とを備えている。電極６６はＯＣ膜６５上に形成されている。尚、電極６６との密着性を確保するために、ＯＣ膜６５の上にさらにＳｉＯ2などの薄膜を形成するようにしてもよい。
【００５１】
液晶表示パネル６０は、このようなＣＦ基板６１と対向基板７１とをギャップ材７２を介して所定の間隔で対向配置させ、図示しないシール材を用いて接合させたものである。また、シール材により液晶７０を２つの基板６１，７１の間に封止したものである。２つの基板６１，７１の液晶７０に面する側には、液晶７０を所定の方向に配向させる配向膜６７，６９が設けられている。
【００５２】
尚、液晶表示パネル６０の前面側と背面側の表面には、通常、入射あるいは出射する光を偏向させる偏光板や、視角等を改善するための光学機能性フィルムとしての位相差フィルム等が配設されるが、これらは省略している。
【００５３】
遮光膜６２は、ＣＦ基板６１上に、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｌ等の不透明な金属、あるいはこれらの金属の酸化物等の化合物を材料として、気相法とフォトリソグラフィー法を用いて製造することができる。
【００５４】
上層バンク６３は、遮光膜６２が形成されたＣＦ基板６１上に、ロールコート法やスピンコート法により厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成した後、フォトリソグラフィー法によりパターニングを施して得ることができる。
【００５５】
機能性膜としての着色膜６４Ｂ，６４Ｇ，６４Ｒは、それぞれＢ，Ｇ，Ｒに対応する三色の色材（有機顔料）を含む液状体を用い、上述した成膜方法により形成することができる。すなわち、上層バンク６３によって区画された色要素領域に液状体を付与して個体パターンの配置を行い、区画工程Ｓ３および乾燥工程Ｓ４（図４参照）を経て着色膜６４Ｂ，６４Ｇ，６４Ｒを形成する。この場合において、複数の色要素領域にそれぞれ配置された液状体パターンの、液晶表示パネル６０の個体毎における集合が、それぞれの個体パターンを構成することになる。
【００５６】
機能性膜としてのＯＣ膜６５は、透明なアクリル系樹脂を含む液状体を用いて、スピンコート法、オフセット印刷により形成することができるほか、上述した成膜方法により形成することもできる。
【００５７】
機能性膜としての電極６６，６８は、気相法およびフォトリソグラフィー法を用いて形成することができるほか、液状体としてＡｕ，Ａｇ，Ｐｔ等の金属微粒子の分散液を用い、上述した成膜方法により形成することもできる。
【００５８】
機能性膜としての配向膜６７，６９は、ポリイミド樹脂などを含む液状体を用いて、上述した成膜方法により成膜を行った後、ラビング処理により配向性を付与して形成される。
【００５９】
このように、上述の成膜方法を用いて製造された液晶表示装置５０は、プロファイルの良好な各種機能性膜を備えているので、高品質である。
【００６０】
（電子機器）
次に、図７を参照して、本発明に係る電子機器の一例としての携帯型情報処理装置について説明する。
図７は、携帯型情報処理装置を示す概略斜視図である。
【００６１】
図７に示すように、電子機器としての携帯型情報処理装置３００は、入力用のキーボード３０１を有する情報処理装置本体３０３と、表示部３０２とを備えている。表示部３０２には、液晶表示装置５０が用いられている。この携帯型情報処理装置３００は、上記液晶表示装置５０を備えているので、高品質である。
【００６２】
（第２実施形態）
次に、図８を参照して、本発明の第２実施形態ついて、第１実施形態との相違点を中心に説明する。図８は、第２実施形態に係る仕切り部材と基板との関係を示す断面図である。
【００６３】
この第２実施形態では、乾燥装置内において、基板２０の外形に合わせて個体パターン２１…の上方空間を区画するように仕切り部材４１が配置され、さらに仕切り部材４１を挟んで基板２０と対向するように整流板４２が配置されるようになっている。仕切り部材４１と整流板４２とは独立した構成となっており、仕切り部材４１は、図示しない位置決め手段によって載置台４上の規定された位置に載置される。また、整流板４２は、仕切り部材４１の上縁４１ａからわずかに離間して配置される。
【００６４】
この実施形態のように、仕切り部材と整流板とは独立した構成となっていてもよいし、仕切り部材と整流板とは、離間して配置されるようになっていてもよい。
【００６５】
また、この第２実施形態のように、基板２０の外形に合わせて区画を行うようにした態様にあっては、仕切り部材４１による蒸気流の整流作用によって、基板面内の領域間における蒸気圧分布の均一化が図られる。これにより、個体パターン２１…個々の乾燥（膜化）が一様になされ、膜プロファイルの個体ばらつきが好適に抑えられる。
【００６６】
本発明は上述の実施形態に限定されない。
例えば、上述の実施形態は、単一の基板上に複数の個体パターンが配置される態様であったが、複数の個片基板を単一パレット上に配列した状態において、個体パターンの配置、区画、乾燥の各工程を行うようにしてもよい。
また、区画工程は、印刷法等を用いて、基板表面上に区画構造物を形成することで行うようにしてもよい。
また、乾燥工程は、整流板を用いず、仕切り部材のみで行うようにしてもよい。
また、乾燥方式は、上述の実施形態のような減圧乾燥に限定されるものではなく、温風送風による乾燥や、自然乾燥等であってもよい。
また、本発明に係る電気光学装置ないし機能性膜の別の例として、有機エレクトロルミネッセンス表示装置における発光膜や正孔輸送膜、プラズマディスプレイ装置における蛍光膜、電界放出型表示装置（表面電界型を含む）などを挙げることができる。また、これらの電気光学装置において、画素駆動用配線やＴＦＴ素子などを上述の成膜方法を用いて形成することもできる。
また、各実施形態の各構成はこれらを適宜組み合わせたり、省略したり、図示しない他の構成と組み合わせたりすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明に係る乾燥装置の構成を一部模式化して示す概略図。
【図２】乾燥装置内における整流ユニットと基板との関係を示す斜視図。
【図３】液滴吐出装置の構成の一例を示す模式図。
【図４】成膜工程のフローを示すフローチャート。
【図５】区画空間内における蒸気流を示す概略断面図。
【図６】液晶表示装置の要部構造を示す概略断面図。
【図７】携帯型情報処理装置を示す概略斜視図。
【図８】第２実施形態に係る仕切り部材と基板との関係を示す断面図。
【符号の説明】
【００６８】
１…乾燥装置、２…容器体、３…蓋体、４…載置台、５…減圧ポンプ、６…送気管、７…排気口、８…可動連結部、９…気密室としてのチャンバ、２０…基板、２０ａ…基板の一面としての基板表面、２１…個体パターン、３０…整流ユニット、３１…区画手段としての仕切り部材、３２…枠体、３３…弾性体、３４…整流板、３５…貫通孔、３６…区画空間、４１…区画手段としての仕切り部材、４２…整流板、５０…電気光学装置としての液晶表示装置、６０…液晶表示パネル、６１…ＣＦ基板、６２…遮光膜、６３…上層バンク、６４…機能性膜としての着色膜、６５…機能性膜としてのＯＣ膜、６６，６８…機能性膜としての電極、６７，６９…機能性膜としての配向膜、７０…液晶、７１…対向基板、７２…ギャップ材、３００…電子機器としての携帯型情報処理装置、３０１…キーボード、３０２…表示部、３０３…情報処理装置本体。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液状体が塗布された基板を乾燥させて成膜を行う成膜方法、および、そのための乾燥方法、乾燥装置、並びに、当該成膜方法を用いた電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体装置や電気光学装置の製造プロセスに用いられる成膜方法として、基板の一面に塗布された液状体を乾燥等により膜化させるいわゆる液相法がある。この液相法においては、液状体近傍の蒸気圧分布を制御することは重要な技術である。例えば、基板の中央領域は、周囲の隣接領域からの蒸気拡散の影響で蒸気の滞留が起こりやすいため、外縁領域に比べて蒸気圧が高くなる傾向があり、このような蒸気圧のムラを低減することは良好なプロファイルの機能性膜（膜）を得る上で重要である。
【０００３】
特許文献１には、多孔質の整流板を基板と対向して配置し、基板上方の蒸気を整流板の全面から一様に排気させるようにして、蒸気流の均一化を図った乾燥方法が提案されている。また、この文献に係る乾燥方法では、基板の外縁に臨んで溶剤噴霧手段を設けて、外縁領域における蒸気圧を補正することにより、蒸気圧分布の一層の均一化を図っている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−１８６４１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述のような溶剤噴霧手段を利用した乾燥方法の場合、複雑な装置構成の乾燥装置が必要であり、また、多様なサイズや形状の基板に対応させることも困難である。
【０００６】
また近年、微小ノズルから液滴を吐出させて描画を行ういわゆる液滴吐出法により、基板上に液状体をパターニングし、パターン化された機能性膜を形成する手法が広く用いられるようになってきている（例えば、特開平１１−２７４６７１号公報など）。このようにあらかじめパターニングされている液状体を乾燥させるにあたっては、基板の全面に塗布された液状体の場合とは異なった特有の問題がある。すなわち、個体単位でパターニングされた液状体（以下、個体パターンとする）は、それぞれが独立した集合体をなしているので、各個体パターン内の中央領域と外縁領域との間で、上述したような蒸気圧分布のムラが生じてしまうのである。
【０００７】
本発明は、上述の課題を解決するためになされたもので、基板面内領域間の乾燥ムラを好適に低減することができる乾燥方法、乾燥装置、および、当該乾燥方法を用いた成膜方法、電気光学装置の製造方法、並びに、当該乾燥方法を用いて製造された電気光学装置、電子機器を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、一面に液状体の個体パターンが配置された基板についての乾燥方法であって、前記基板の一面側における空間を、前記基板の外形に合わせて物理的に区画する区画工程と、前記基板を乾燥させる乾燥工程と、を有することを特徴とする。
【０００９】
この発明の乾燥方法によれば、基板の一面側の空間を基板の外形に合わせて区画した状態で、基板（個体パターン）の乾燥を行うことにより、区画空間内における液状体の蒸気流を基板面に垂直にするように規制することができる。これにより、比較的簡単な方法でありながら、個体パターン近傍における蒸気圧分布が基板面内の領域間で均一化され、当該領域間の乾燥ムラが低減される。
【００１０】
本発明は、一面に液状体の個体パターンが配置された基板についての乾燥方法であって、前記基板の一面側における空間を、前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画する区画工程と、前記基板を乾燥させる乾燥工程と、を有することを特徴とする。
【００１１】
この発明の乾燥方法によれば、基板の一面側の空間を個体パターンの配置領域に合わせて区画した状態で、基板（個体パターン）の乾燥を行うことにより、区画空間内における液状体の蒸気流を基板面に垂直にするように規制することができる。これにより、個体パターン近傍における蒸気圧分布が個体パターン内の領域間で均一化され、当該領域間の乾燥ムラが低減される。
【００１２】
また好ましくは、前記乾燥方法において、前記個体パターンの配置領域と前記区画された空間領域の境界との基板面内距離が、前記区画された空間内における前記液状体の蒸気の平均自由行程ないしその１００倍の距離の範囲内で設定されていることを特徴とする。
この発明の乾燥方法によれば、区画空間を形成することによる蒸気流の規制の効果を十分なものとすることができる。
【００１３】
また好ましくは、前記乾燥方法において、前記区画工程は、前記基板の一面側に仕切り部材を設置して行うことを特徴とする。
この発明の乾燥方法によれば、仕切り部材を用いて簡単に上記区画工程を行うことができる。
【００１４】
また好ましくは、仕切り部材を用いる前記乾燥方法において、前記仕切り部材と前記基板の一面とを密着させることを特徴とする。
この発明の乾燥方法によれば、区画空間を形成することによる蒸気流の規制をより確実に行うことができる。
【００１５】
また好ましくは、前記乾燥方法において、前記区画された空間を介して前記基板と対向するように整流板が配置された状態で、前記乾燥工程を行うことを特徴とする。
この発明の乾燥方法によれば、整流板によって区画空間内における蒸気圧分布をより均一化させることができる。
【００１６】
本発明は、一面に液状体の個体パターンが配置された基板の乾燥を行うための乾燥装置であって、前記基板を収容するための気密室と、前記気密室内において、前記基板の一面側における空間を前記基板の外形に合わせて物理的に区画可能な区画手段と、を備えることを特徴とする。
【００１７】
この発明の乾燥装置によれば、基板の一面側の空間を基板の外形に合わせて区画した状態で、基板（個体パターン）の乾燥を行い、区画空間内における液状体の蒸気流を基板面に垂直にするように規制することができる。これにより、比較的簡単な方法でありながら、個体パターン近傍における蒸気圧分布が基板面内の領域間で均一化され、当該領域間の乾燥ムラが低減される。
【００１８】
本発明は、一面に液状体の個体パターンが配置された基板の乾燥を行うための乾燥装置であって、前記基板を収容するための気密室と、前記気密室内において、前記基板の一面側における空間を前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画可能な区画手段と、を備えることを特徴とする。
【００１９】
この発明の乾燥装置によれば、基板の一面側の空間を個体パターンの配置領域に合わせて区画した状態で、基板（個体パターン）の乾燥を行い、区画空間内における蒸気流を基板面に垂直にするように規制することができる。これにより、個体パターン近傍における蒸気圧分布が個体パターン内の領域間で均一化され、当該領域間の乾燥ムラが低減される。
【００２０】
また好ましくは、前記乾燥装置において、前記区画手段を介して前記基板と対向して配置される整流板をさらに備えることを特徴とする。
この発明の乾燥方法によれば、整流板によって区画空間内の蒸気圧分布をより均一化させることができる。
【００２１】
本発明の成膜方法は、基板の一面に液状体の個体パターンを配置し、前記乾燥方法で前記基板の乾燥を行って、前記個体パターンを膜化させることを特徴とする。
【００２２】
本発明は、パターン化された機能性膜を備える電気光学装置の製造方法であって、前記機能性膜は、前記成膜方法を用いて形成されることを特徴とする。
【００２３】
本発明は、パターン化された機能性膜を備える電気光学装置であって、前記機能性膜は、基板の一面に液状体の個体パターンが配置され、前記基板の一面側における空間が前記基板の外形に合わせて物理的に区画された状態で乾燥されて形成されることを特徴とする。
【００２４】
本発明は、パターン化された機能性膜を備える電気光学装置であって、前記機能性膜は、基板の一面に液状体の個体パターンが配置され、前記基板の一面側における空間が前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画された状態で乾燥されて形成されることを特徴とする。
【００２５】
本発明の電子機器は、前記電気光学装置を備えることを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。また、以下の説明で参照する図では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、これらの縮尺を実際のものとは異なるように表している。
【００２７】
（第１実施形態）
（乾燥装置）
まずは、図１、図２を参照して本発明に係る乾燥装置について説明する。
図１は、本発明に係る乾燥装置の構成を一部模式化して示す概略図である。図２は、乾燥装置内における整流ユニットと基板との関係を示す斜視図である。
【００２８】
図１に示す乾燥装置１は、一面（基板表面２０ａ）に個体パターン２１…が配置された基板２０を乾燥させて、機能性膜（膜）を形成（成膜）するのに用いられるものである。ここで、個体パターン２１…は、図２に示すように、所定の形状でパターニングされた個体単位の液状体のパターン（集合体）であり、本実施形態では、一つの基板２０で９つの個体の機能性膜を形成するようになっている。尚、基板２０上に形成される機能性膜の個体数については特別な限定があるわけではなく、例えば、基板２０上に単一の個体パターンを配置して機能性膜の形成を行ってもよい。
【００２９】
図１において、乾燥装置１は、気密室としてのチャンバ９を形成する容器体２および蓋体３と、チャンバ９内において基板２０を載置するための載置台４と、チャンバ９内を減圧するための減圧ポンプ５および送気管６と、チャンバ９内において基板２０と対向して設けられた整流ユニット３０と、を備えている。送気管６は、容器体２の底部に複数設けられた排気口７を介してチャンバ９と連通されている。整流ユニット３０は、蓋体３の内壁側で可動連結部８と連結されており、図示しない駆動機構により図の上下方向に移動可能となっている。
【００３０】
整流ユニット３０は、図２に示すように、枠体３２と弾性体３３とからなる複数の区画手段としての仕切り部材３１…と、整流板３４と、を備えている。枠体３２は、板状部材を加工して形成されており、例えば本実施形態では、厚みが１ｍｍ、高さ（図の上下方向の寸法）が５ｍｍのＳＵＳプレートが用いられている。弾性体３３には、例えば、ゴム等が用いられている。整流板３４には、特許文献１に係るような多孔質のセラミック基板を用いることもできるが、本実施形態では、ＳＵＳプレートに１．２ｍｍ間隔で直径１ｍｍの貫通孔３５を穿設したものが用いられている。
【００３１】
仕切り部材３１…は、整流板３４の下面にそれぞれ接着固定されて所定の配列をなしており、弾性体３３が基板表面２０ａと密着した状態において、基板表面２０ａに配置された個体パターン２１…の上方空間を、それぞれの配置領域に合わせて物理的に区画するようになっている。
【００３２】
上述のように、整流ユニット３０における仕切り部材３１…の区画形状や配列は、個体パターン２１…の形状や位置と関連して決められるものである。そこで、整流ユニット３０は、形成される機能性膜の種類に応じて対応したものが用意されており、必要に応じて交換が可能となっている。
【００３３】
（液滴吐出装置）
次に、図３を参照して、個体パターンの描画に用いる液滴吐出装置について説明する。図３は、液滴吐出装置の構成の一例を示す模式図である。
【００３４】
図３において、液滴吐出装置２００は、一面に複数のノズル２１２を配した吐出ヘッド２０１と、吐出ヘッド２０１と対向する位置に吐出対象媒体２０２を載置するための載置台２０３とを備えている。また、吐出ヘッド２０１を、吐出対象媒体２０２との距離を保ったまま縦横に移動（走査）させる走査手段２０４と、吐出ヘッド２０１に液状体を供給する液状体供給手段２０５と、吐出ヘッド２０１の吐出制御を行う吐出制御手段２０６と、を備えている。
【００３５】
吐出ヘッド２０１には、複数に枝分かれした微細な流路が形成されており、当該流路の端部は、圧力室（キャビティ）２１１、ノズル２１２となっている。圧力室２１１の外郭の一面は、圧電素子２１０によって変形可能となっており、吐出制御手段２０６からの駆動信号によって圧力室２１１内に圧力を発生させることで、ノズル２１２から液滴２１３が吐出される。尚、吐出技術としては、この例のような電気機械方式の他に、電気信号を熱に変換して圧力を発生させるいわゆるサーマル方式などもある。
【００３６】
上述の構成において、吐出ヘッド２０１の走査と同期したノズル２１２毎の吐出制御を行うことにより、吐出対象媒体２０２上に所望のパターン（形状、大きさ）で液状体を配置することが可能となっている。尚、液滴吐出装置２００は、一走査中において複数種の液状体を吐出可能なように構成することもできる。
【００３７】
（成膜方法）
次に、図４のフローチャートに沿って、図１、図２、図５を参照して、本発明に係る成膜方法（乾燥方法含む）について説明する。
図４は、成膜工程のフローを示すフローチャートである。図５は、区画空間内における蒸気流を示す概略断面図である。
【００３８】
最初の工程Ｓ１では、液滴吐出装置２００（図３参照）を用いて、基板表面２０ａ上に図２に示すように液状体の個体パターン２１…を配置する。尚、図２では、矩形状のパターンが個々の個体パターン２１とされているが、その態様は機能性膜の種類によって様々である。例えば、所定領域に複数の独立パターン（集合体）が互いに分断されて配置されているような態様であっても、当該個々の独立パターンが互いに関連して個体としての性格を有するのならば、全体を一つの個体パターンとみなすことができる。
【００３９】
液状体には、得ようとする機能性膜を構成する機能性材料を水や有機溶媒に溶解ないし分散させたものが用いられる。また、液状体には、レオロジー特性や保存安定性を調整するための添加剤や、バインダー樹脂等を添加することもできる。
【００４０】
基板表面２０ａとは、狭義に基材表面のみのことを表しているのではなく、基材表面上に電気配線等の機能層が形成されている場合も含めた最表層のことを表している。また、個体パターン２１…の配置に先立って、基板表面２０ａの親液性／撥液性の改質のために、プラズマ処理を施したり、官能基を有する鎖状分子からなる自己組織化膜を形成しておくこともできる。また、個体パターン２１…の形状を高精度に規定するために、基板表面２０ａにあらかじめ樹脂等で区画構造物（バンク）を形成しておくこともできる。
【００４１】
次の工程Ｓ２では、乾燥装置１の蓋体３を開けて、載置台４上に基板２０を移送する。基板２０は、図示しない位置決め手段によって載置台４上の所定の位置に載置され、整流ユニット３０との位置関係が規定されるようになっている。
【００４２】
次の工程Ｓ３では、図示しない駆動手段によって整流ユニット３０が基板２０に向かって降下され、基板２０上に設置される。これにより、個体パターン２１…の上方の空間が各仕切り部材３１…によって区画される。すなわち、この工程Ｓ３は、本発明における区画工程となっている。
【００４３】
次の工程Ｓ４では、減圧ポンプ５の稼動によりチャンバ９内を減圧させ、１００Ｐａ程度の真空度で基板２０（個体パターン２１…）の乾燥を行う。すなわち、この工程Ｓ４は、本発明における乾燥工程となっている。
【００４４】
図５に示すように、仕切り部材３１で区画された区画空間３６内における液状体の蒸気流（矢印で図示）は、基板２０の基板面にほぼ垂直となる。これは、仕切り部材３１によって蒸気拡散の基板面内方向の成分が打ち消されるためであり、仕切り部材３１による区画領域を個体パターン２１配置領域に近接させることで、その効果は大きくなる。好ましくは、仕切り部材３１と個体パターン２１との基板面内距離ｄを、区画空間３６内における蒸気の平均自由行程（数百μｍオーダー）ないしその１００倍の範囲内とすることが理想的である。また、本実施形態では、弾性体３３により仕切り部材３１と基板表面２０ａとを密着させることで、このような蒸気流の規制をより確実に行うようにしている。
【００４５】
かくして、個体パターン２１の近傍における蒸気流が、基板面内方向で均一化されるため、個体パターン２１内の各領域においてムラなく乾燥、膜化がなされ、プロファイルの良好な機能性膜を得ることができる。
【００４６】
また、本実施形態では、特に基板２０と対向して多孔性の整流板３４を配置することで、区画空間３６内における蒸気流の一層の均一化を図ると共に、個々の区画空間３６間の蒸気圧ムラの低減を図っている。これは、整流板３４の配置によって、一の区画空間３６から排気された蒸気が、隣接する他の区画空間３６内に最流入しにくくなるためであり、言い換えるならば、個々の区画空間３６が、隣接領域の影響を受けない擬似気密空間としての性格を有することになるためである。
【００４７】
（液晶表示装置およびその製造方法）
次に、図６を参照して、本発明に係る電気光学装置の一例としての液晶表示装置について説明する。
図６は、液晶表示装置の要部構造を示す概略断面図である。
【００４８】
図６に示すように、電気光学装置としての液晶表示装置５０は、パッシブマトリクス型液晶表示装置であって、複数の着色膜６４を有するカラーフィルタ基板（ＣＦ基板）６１と、複数の電極６８を有する対向基板７１と、ＣＦ基板６１と対向基板７１との間に狭持された液晶７０とを備えた液晶表示パネル６０を有している。このような液晶表示装置５０は、受光型の表示装置であるため、例えば対向基板７１の背面側にＬＥＤ素子、ＥＬ、冷陰極管などの光源を有する照明装置（図示を省略）を備えている。尚、本実施形態の液晶表示装置５０は、これに限定されず、例えば対向基板７１にＴＦＴやＴＦＤなどのスイッチング素子を備えたアクティブマトリクス型液晶表示装置であってもよい。
【００４９】
対向基板７１は、例えば透明な樹脂またはガラス基板を用いており、その液晶７０側の表面にＩＴＯからなる透明な複数の電極６８を有している。電極６８は、対向するＣＦ基板６１に設けられたＩＴＯからなる透明な電極６６と直交してＹ方向に延在している。すなわち、液晶表示パネル６０は、互いに対向すると共に直交して格子状に配置された電極６６と電極６８とを有している。そして電極６６と電極６８とが直交して重なった部分が表示用の画素領域となっている。
【００５０】
ＣＦ基板６１は、例えば透明な樹脂またはガラス基板を用いており、表面に色要素領域に対応して開口している下層バンクとしての遮光膜６２と、遮光膜６２の上に設けられた上層バンク６３とを備えている。また上層バンク６３によって区画された色要素領域にＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）に対応する色要素としての着色膜６４と、着色膜６４と上層バンク６３とを覆う平坦化層としてのＯＣ（オーバーコート）膜６５とを備えている。電極６６はＯＣ膜６５上に形成されている。尚、電極６６との密着性を確保するために、ＯＣ膜６５の上にさらにＳｉＯ2などの薄膜を形成するようにしてもよい。
【００５１】
液晶表示パネル６０は、このようなＣＦ基板６１と対向基板７１とをギャップ材７２を介して所定の間隔で対向配置させ、図示しないシール材を用いて接合させたものである。また、シール材により液晶７０を２つの基板６１，７１の間に封止したものである。２つの基板６１，７１の液晶７０に面する側には、液晶７０を所定の方向に配向させる配向膜６７，６９が設けられている。
【００５２】
尚、液晶表示パネル６０の前面側と背面側の表面には、通常、入射あるいは出射する光を偏向させる偏光板や、視角等を改善するための光学機能性フィルムとしての位相差フィルム等が配設されるが、これらは省略している。
【００５３】
遮光膜６２は、ＣＦ基板６１上に、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｌ等の不透明な金属、あるいはこれらの金属の酸化物等の化合物を材料として、気相法とフォトリソグラフィー法を用いて製造することができる。
【００５４】
上層バンク６３は、遮光膜６２が形成されたＣＦ基板６１上に、ロールコート法やスピンコート法により厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成した後、フォトリソグラフィー法によりパターニングを施して得ることができる。
【００５５】
機能性膜としての着色膜６４Ｂ，６４Ｇ，６４Ｒは、それぞれＢ，Ｇ，Ｒに対応する三色の色材（有機顔料）を含む液状体を用い、上述した成膜方法により形成することができる。すなわち、上層バンク６３によって区画された色要素領域に液状体を付与して個体パターンの配置を行い、区画工程Ｓ３および乾燥工程Ｓ４（図４参照）を経て着色膜６４Ｂ，６４Ｇ，６４Ｒを形成する。この場合において、複数の色要素領域にそれぞれ配置された液状体パターンの、液晶表示パネル６０の個体毎における集合が、それぞれの個体パターンを構成することになる。
【００５６】
機能性膜としてのＯＣ膜６５は、透明なアクリル系樹脂を含む液状体を用いて、スピンコート法、オフセット印刷により形成することができるほか、上述した成膜方法により形成することもできる。
【００５７】
機能性膜としての電極６６，６８は、気相法およびフォトリソグラフィー法を用いて形成することができるほか、液状体としてＡｕ，Ａｇ，Ｐｔ等の金属微粒子の分散液を用い、上述した成膜方法により形成することもできる。
【００５８】
機能性膜としての配向膜６７，６９は、ポリイミド樹脂などを含む液状体を用いて、上述した成膜方法により成膜を行った後、ラビング処理により配向性を付与して形成される。
【００５９】
このように、上述の成膜方法を用いて製造された液晶表示装置５０は、プロファイルの良好な各種機能性膜を備えているので、高品質である。
【００６０】
（電子機器）
次に、図７を参照して、本発明に係る電子機器の一例としての携帯型情報処理装置について説明する。
図７は、携帯型情報処理装置を示す概略斜視図である。
【００６１】
図７に示すように、電子機器としての携帯型情報処理装置３００は、入力用のキーボード３０１を有する情報処理装置本体３０３と、表示部３０２とを備えている。表示部３０２には、液晶表示装置５０が用いられている。この携帯型情報処理装置３００は、上記液晶表示装置５０を備えているので、高品質である。
【００６２】
（第２実施形態）
次に、図８を参照して、本発明の第２実施形態ついて、第１実施形態との相違点を中心に説明する。図８は、第２実施形態に係る仕切り部材と基板との関係を示す断面図である。
【００６３】
この第２実施形態では、乾燥装置内において、基板２０の外形に合わせて個体パターン２１…の上方空間を区画するように仕切り部材４１が配置され、さらに仕切り部材４１を挟んで基板２０と対向するように整流板４２が配置されるようになっている。仕切り部材４１と整流板４２とは独立した構成となっており、仕切り部材４１は、図示しない位置決め手段によって載置台４上の規定された位置に載置される。また、整流板４２は、仕切り部材４１の上縁４１ａからわずかに離間して配置される。
【００６４】
この実施形態のように、仕切り部材と整流板とは独立した構成となっていてもよいし、仕切り部材と整流板とは、離間して配置されるようになっていてもよい。
【００６５】
また、この第２実施形態のように、基板２０の外形に合わせて区画を行うようにした態様にあっては、仕切り部材４１による蒸気流の整流作用によって、基板面内の領域間における蒸気圧分布の均一化が図られる。これにより、個体パターン２１…個々の乾燥（膜化）が一様になされ、膜プロファイルの個体ばらつきが好適に抑えられる。
【００６６】
本発明は上述の実施形態に限定されない。
例えば、上述の実施形態は、単一の基板上に複数の個体パターンが配置される態様であったが、複数の個片基板を単一パレット上に配列した状態において、個体パターンの配置、区画、乾燥の各工程を行うようにしてもよい。
また、区画工程は、印刷法等を用いて、基板表面上に区画構造物を形成することで行うようにしてもよい。
また、乾燥工程は、整流板を用いず、仕切り部材のみで行うようにしてもよい。
また、乾燥方式は、上述の実施形態のような減圧乾燥に限定されるものではなく、温風送風による乾燥や、自然乾燥等であってもよい。
また、本発明に係る電気光学装置ないし機能性膜の別の例として、有機エレクトロルミネッセンス表示装置における発光膜や正孔輸送膜、プラズマディスプレイ装置における蛍光膜、電界放出型表示装置（表面電界型を含む）などを挙げることができる。また、これらの電気光学装置において、画素駆動用配線やＴＦＴ素子などを上述の成膜方法を用いて形成することもできる。
また、各実施形態の各構成はこれらを適宜組み合わせたり、省略したり、図示しない他の構成と組み合わせたりすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明に係る乾燥装置の構成を一部模式化して示す概略図。
【図２】乾燥装置内における整流ユニットと基板との関係を示す斜視図。
【図３】液滴吐出装置の構成の一例を示す模式図。
【図４】成膜工程のフローを示すフローチャート。
【図５】区画空間内における蒸気流を示す概略断面図。
【図６】液晶表示装置の要部構造を示す概略断面図。
【図７】携帯型情報処理装置を示す概略斜視図。
【図８】第２実施形態に係る仕切り部材と基板との関係を示す断面図。
【符号の説明】
【００６８】
１…乾燥装置、２…容器体、３…蓋体、４…載置台、５…減圧ポンプ、６…送気管、７…排気口、８…可動連結部、９…気密室としてのチャンバ、２０…基板、２０ａ…基板の一面としての基板表面、２１…個体パターン、３０…整流ユニット、３１…区画手段としての仕切り部材、３２…枠体、３３…弾性体、３４…整流板、３５…貫通孔、３６…区画空間、４１…区画手段としての仕切り部材、４２…整流板、５０…電気光学装置としての液晶表示装置、６０…液晶表示パネル、６１…ＣＦ基板、６２…遮光膜、６３…上層バンク、６４…機能性膜としての着色膜、６５…機能性膜としてのＯＣ膜、６６，６８…機能性膜としての電極、６７，６９…機能性膜としての配向膜、７０…液晶、７１…対向基板、７２…ギャップ材、３００…電子機器としての携帯型情報処理装置、３０１…キーボード、３０２…表示部、３０３…情報処理装置本体。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一面に液状体の個体パターンが配置された基板についての乾燥方法であって、
前記基板の一面側における空間を、前記基板の外形に合わせて物理的に区画する区画工程と、
前記基板を乾燥させる乾燥工程と、を有することを特徴とする乾燥方法。
【請求項２】
一面に液状体の個体パターンが配置された基板についての乾燥方法であって、
前記基板の一面側における空間を、前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画する区画工程と、
前記基板を乾燥させる乾燥工程と、を有することを特徴とする乾燥方法。
【請求項３】
前記個体パターンの配置領域と前記区画された空間領域の境界との基板面内距離が、前記区画された空間内における前記液状体の蒸気の平均自由行程ないしその１００倍の距離の範囲内で設定されていることを特徴とする請求項２に記載の乾燥方法。
【請求項４】
前記区画工程は、前記基板の一面側に仕切り部材を設置して行うことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の乾燥方法。
【請求項５】
前記仕切り部材と前記基板の一面とを密着させることを特徴とする請求項４に記載の乾燥方法。
【請求項６】
前記区画された空間を介して前記基板と対向するように整流板が配置された状態で、前記乾燥工程を行うことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一項に記載の乾燥方法。
【請求項７】
一面に液状体の個体パターンが配置された基板の乾燥を行うための乾燥装置であって、
前記基板を収容するための気密室と、
前記気密室内において、前記基板の一面側における空間を前記基板の外形に合わせて物理的に区画可能な区画手段と、を備えることを特徴とする乾燥装置。
【請求項８】
一面に液状体の個体パターンが配置された基板の乾燥を行うための乾燥装置であって、
前記基板を収容するための気密室と、
前記気密室内において、前記基板の一面側における空間を前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画可能な区画手段と、を備えることを特徴とする乾燥装置。
【請求項９】
前記区画手段を介して前記基板と対向して配置される整流板をさらに備えることを特徴とする請求項７または８に記載の乾燥装置。
【請求項１０】
基板の一面に液状体の個体パターンを配置し、請求項１ないし６のいずれか一項に記載の乾燥方法で前記基板の乾燥を行って、前記個体パターンを膜化させる成膜方法。
【請求項１１】
パターン化された機能性膜を備える電気光学装置の製造方法であって、
前記機能性膜は、請求項１０に記載の成膜方法を用いて形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
パターン化された機能性膜を備える電気光学装置であって、
前記機能性膜は、基板の一面に液状体の個体パターンが配置され、前記基板の一面側における空間が前記基板の外形に合わせて物理的に区画された状態で乾燥されて形成されることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１３】
パターン化された機能性膜を備える電気光学装置であって、
前記機能性膜は、基板の一面に液状体の個体パターンが配置され、前記基板の一面側における空間が前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画された状態で乾燥されて形成されることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載の電気光学装置を備える電子機器。
【請求項１】
一面に液状体の個体パターンが配置された基板についての乾燥方法であって、
前記基板の一面側における空間を、前記基板の外形に合わせて物理的に区画する区画工程と、
前記基板を乾燥させる乾燥工程と、を有することを特徴とする乾燥方法。
【請求項２】
一面に液状体の個体パターンが配置された基板についての乾燥方法であって、
前記基板の一面側における空間を、前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画する区画工程と、
前記基板を乾燥させる乾燥工程と、を有することを特徴とする乾燥方法。
【請求項３】
前記個体パターンの配置領域と前記区画された空間領域の境界との基板面内距離が、前記区画された空間内における前記液状体の蒸気の平均自由行程ないしその１００倍の距離の範囲内で設定されていることを特徴とする請求項２に記載の乾燥方法。
【請求項４】
前記区画工程は、前記基板の一面側に仕切り部材を設置して行うことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の乾燥方法。
【請求項５】
前記仕切り部材と前記基板の一面とを密着させることを特徴とする請求項４に記載の乾燥方法。
【請求項６】
前記区画された空間を介して前記基板と対向するように整流板が配置された状態で、前記乾燥工程を行うことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一項に記載の乾燥方法。
【請求項７】
一面に液状体の個体パターンが配置された基板の乾燥を行うための乾燥装置であって、
前記基板を収容するための気密室と、
前記気密室内において、前記基板の一面側における空間を前記基板の外形に合わせて物理的に区画可能な区画手段と、を備えることを特徴とする乾燥装置。
【請求項８】
一面に液状体の個体パターンが配置された基板の乾燥を行うための乾燥装置であって、
前記基板を収容するための気密室と、
前記気密室内において、前記基板の一面側における空間を前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画可能な区画手段と、を備えることを特徴とする乾燥装置。
【請求項９】
前記区画手段を介して前記基板と対向して配置される整流板をさらに備えることを特徴とする請求項７または８に記載の乾燥装置。
【請求項１０】
基板の一面に液状体の個体パターンを配置し、請求項１ないし６のいずれか一項に記載の乾燥方法で前記基板の乾燥を行って、前記個体パターンを膜化させる成膜方法。
【請求項１１】
パターン化された機能性膜を備える電気光学装置の製造方法であって、
前記機能性膜は、請求項１０に記載の成膜方法を用いて形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
パターン化された機能性膜を備える電気光学装置であって、
前記機能性膜は、基板の一面に液状体の個体パターンが配置され、前記基板の一面側における空間が前記基板の外形に合わせて物理的に区画された状態で乾燥されて形成されることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１３】
パターン化された機能性膜を備える電気光学装置であって、
前記機能性膜は、基板の一面に液状体の個体パターンが配置され、前記基板の一面側における空間が前記個体パターンの配置領域に合わせて物理的に区画された状態で乾燥されて形成されることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載の電気光学装置を備える電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２００７−９０２００（Ｐ２００７−９０２００Ａ）
【公開日】平成１９年４月１２日（２００７．４．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２８１５１２（Ｐ２００５−２８１５１２）
【出願日】平成１７年９月２８日（２００５．９．２８）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年４月１２日（２００７．４．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年９月２８日（２００５．９．２８）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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