回転式基板処理装置
【課題】 回転式基板処理装置において、使用した薬液の回収率を高める。装置価格を引き下げる。振動を抑える。薬液と廃液の雰囲気分離を行う。
【解決手段】 基板１を水平に支持して回転させる回転機構１０の周囲に、筒状で昇降式の上段液体ガイド３０及び下段液体ガイド４０を設ける。上段液体ガイド３０は、下方の待機位置で下段液体ガイド４０に重なって、両ガイド間に形成される液体導入口を閉じ、待機位置から上方の回収位置へ移動して、基板１から飛散する第１の液体を下方に導いて回収する。下段液体ガイド４０は、待機位置から上方の回収位置へ移動して、基板１から飛散する第２の液体を下方に導いて回収する。
【解決手段】 基板１を水平に支持して回転させる回転機構１０の周囲に、筒状で昇降式の上段液体ガイド３０及び下段液体ガイド４０を設ける。上段液体ガイド３０は、下方の待機位置で下段液体ガイド４０に重なって、両ガイド間に形成される液体導入口を閉じ、待機位置から上方の回収位置へ移動して、基板１から飛散する第１の液体を下方に導いて回収する。下段液体ガイド４０は、待機位置から上方の回収位置へ移動して、基板１から飛散する第２の液体を下方に導いて回収する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は半導体ウエハ、液晶用ガラス基板等の基板類を湿式処理する際に使用される回転式基板処理装置に関し、特にその基板を１枚ずつ処理する枚葉タイプの回転式基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスや液晶パネルの製造に使用される枚葉タイプの回転式基板処理装置は、処理槽内で基板をロータ上に水平に載せ、このロータを所定速度で回転させながら、基板の上面に液体を散布することにより、その上面を湿式処理する。基板の上面に散布された液体は遠心力により周囲に飛散する。また、液体の散布後に基板上に溜まる液体を除去するためにロータを高速で回転させるが、このときも基板から周囲に液体が飛散する。これらの飛散液体を回収するために、回転機構の周囲にはカップが設けられている。
【０００３】
ところで、この種の回転式基板処理装置では、同一槽内でエッチング等の薬液処理と純水による洗浄処理を連続して行う場合がある。この場合、使用後の薬液と洗浄処理で生じる廃液（純水と薬液が混じった液体）を分離回収する必要があり、その分離回収機構としては次の３つが知られている。
【０００４】
第１は図５に示す三方弁方式である。これは、基板１を回転させる回転機構２の周囲に設けられたカップ３の底部にドレン配管４を設け、この配管途中に三方弁４ａを設けたものである。そして、三方弁４ａを操作することにより、薬液と廃液が分離回収される。
【０００５】
第２の方式は、図６及び図７に示すカップ昇降式である。これは、蛇腹やテレスコ等の伸縮部材５を用いてカップ３を昇降可能にすると共に、カップ３の内側空間を上下に仕切る仕切り部３ａをカップ３の内面に設けたものである。薬液を回収するときは、図６に示されるように、仕切り部３ａが基板１の下方となる高さにカップ３を固定する。これにより、カップ３内の仕切り部３ａより上方の空間に薬液が回収され、フレキシブル管６ａを介してカップ３の外に取り出される。廃液を回収するときは、図７に示されるように、仕切り部３ａが基板１の上方となる高さにカップ３を固定する。これにより、カップ３内の仕切り部３ａより下方の空間に廃液が回収され、フレキシブル管６ｂを介してカップ３の外に導出される。
【０００６】
第３の方式は、図８及び図９に示すロータ昇降式である。これは、仕切り部３ａを備えたカップ３を固定し、代わりに回転機構２をシリンダー７により昇降させるようにしたものである。回転機構２を昇降させることにより、カップ昇降式の場合と同様に薬液と廃液が分離回収される。ただし、カップ昇降式の場合と異なり、カップ３が固定されているので、フレキシブル管６ａ，６ｂは不要となり、カップ３内に回収された薬液及び廃液は、カップ３の外面に取り付けられたポケット８ａ，８ｂを介してカップ３の外に導出される。
【０００７】
しかしながら、これらの分離回収機構には次のような問題がある。
【０００８】
図５に示す三方弁方式の場合は、薬液と廃液の間でカップ２及びドレン配管４の一部が共用されるため、薬液処理に切り替わった最初の数秒間は、先の洗浄処理で残った純水が薬液に混入する。このため、この間に回収される薬液は廃液としなければならず、薬液回収率の低下を招く。
【０００９】
図６及び図７に示すカップ昇降式の場合は、回転機構２の周囲に設けられるカップ３を回転機構２に対して昇降させなければならないため、両者の間を蛇腹やテレスコ等の伸縮部材５によってシールする必要がある。また、カップ３内に回収された液体をカップ３の外に導出するために、その導出管にフレキシブル管６ａ，６ｂを使うことが必要になる。ここにおける薬液としては、例えばエッチング処理の場合は腐食性が非常に強いフッ化水素等も使用されるので、薬液の種類によっては伸縮部材５及びフレキシブル管６ａ，６ｂの材質が限定され、非常に高価なものとなる。
【００１０】
図８及び図９に示すロータ昇降式の場合は、カップ３が固定式となるため、カップ内からカップ外へ液体を導出するための導出管にフレキシブル管を使う必要はなくなる。しかし、ローラ２とカップ３の間をシールするためのシール部材としての伸縮部材５は依然として必要である。このため、伸縮部材５に要するコストが大きな問題として残る。また、回転機構２を昇降可能な可動構造とする必要があるため、振動が大きくなりやすいという問題がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、高い薬液回収率を確保し得るのは勿論のこと、フレキシブル材を必要とする可動部を可及的に排除することにより装置価格の低減を図り、しかも振動が少ない回転式基板処理装置を提供することになる。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本出願人は２段カップ方式の回転式基板処理装置を特願平９−２８８０１６号により先に特許出願した。
【００１３】
この先願装置は、図１０〜図１２に示すように、処理すべき基板１を水平に支持して回転させる回転機構２と、基板１の回転によって基板１から飛散する液体を回収するべく回転機構２の周囲に設けられたカップ３とを備えている。カップ３は、円筒形状をした可動式の上カップ３Ａと、上カップ３Ａを収容する固定式の下カップ３Ｂとに分割されている。可動式の上カップ３Ａは、シリンダー７，７の同期動作により昇降動作を行う。上カップ３Ａの上端部は、内側に傾斜した環状の上段液体ガイド部３′である。上段液体ガイド部３′の下方には、内側空間を上下に仕切る仕切り部として、内側に傾斜した環状の下段液体ガイド部３″が設けられている。
【００１４】
基板１の搬入・搬出を行う待機時は、図１０に示すように、上段液体ガイド部３′が基板１より下方となる位置に、上カップ３Ａが保持される。薬液処理時は、図１１に示すように、上段液体ガイド部３′が基板１より上方に位置し、下段液体ガイド部３″が基板１より下方となる薬液回収位置に、上カップ３Ａが上昇する。この状態で基板１を回転させると、基板１上の薬液は下カップ３Ｂの外（上カップ３Ａ内）に回収され、第１ポケット８ａ，８ａより薬液用の気液分離ボックス等に導かれる。純水による洗浄処理時は、図１２に示すように、下段液体ガイド部３″が基板１より上方となる廃液回収位置まで、上カップ２０Ａが更に上昇する。この状態で基板１を回転させると、基板１上の廃液は固定式の下カップ３Ｂ内に回収され、第２ポケット８ｂ，８ｂを経由して廃液用の気液分離ボックス等に導かれる。
【００１５】
かくして、先願装置では、フレキシブル材を必要とする可動部が可及的に排除され、装置価格が低減される。また、回転機構が固定されることにより、振動が抑えられる。
【００１６】
しかし、その一方では、上カップ３Ａの薬液導入口である上段液体ガイド部３′と下段液体ガイド部３″の間が常時開放している。このため、待機時にも上段液体ガイド部３′と下段液体ガイド部３″の間から薬液蒸気が上方へ逸散し、薬液濃度の濃い雰囲気と廃液から生じる薬液の濃度の薄い雰囲気が混じり合うという問題がある。この問題を解決するために、ダウンフローが与えられているが、そのファンを駆動するためのモータの設備コストや運転コストが増大する問題がある。また、ダウンフローよっても、薬液と廃液の雰囲気分離を完全に行うことは困難である。
【００１７】
即ち、先願装置では、薬液と廃液の分離回収は行えても、それぞれの雰囲気分離までは困難である。
【００１８】
また、上カップ３Ａは、上段液体ガイド部３′が基板１より下方となる待機位置まで下降する必要がある。このとき、下段液体ガイド部３″は基板１の遙か下方へ必要以上に下降する。一方、下段液体ガイド部３″が廃液回収位置へ上昇したときは、上端液体ガイド部３′は薬液回収位置の遙か上方へ必要以上に上昇する。このため、上段カップ３Ａの昇降ストロークが非常に大きい。このストロークの大きさ、特に下方への必要以上の下降は下カップ３Ｂの深さを大きくする原因になり、装置高の増大につながる。
【００１９】
本発明の回転式基板処理装置は、先願装置の利点を残しつつ、これらの欠点を解消するものであり、処理すべき基板を回転機構により水平に支持して回転させ、その回転によって基板から飛散する２種類の液体を分離回収する回転式基板処理装置において、２種類の液体のうちの一方を回収するべく回転機構の外側に設けられ、基板位置より下方の待機位置と上方の回収位置の間を昇降すると共に、上方の回収位置で基板から飛散する一方の液体を受けて下方へ導く筒状で可動式の下段液体ガイドと、下段液体ガイドより外側に設けられ、基板位置より下方の待機位置と上方の回収位置の間を下段液体ガイドから独立して昇降すると共に、昇降方向で下段液体ガイドに重なり合うことが可能であり、且つ上方の回収位置で基板から飛散する他方の液体を受けて下方へ導く筒状で可動式の上段液体ガイドとを具備している。
【００２０】
本発明の回転式基板処理装置では、回転機構の外側で独立に昇降する２段の環状液体ガイドのダブルアクション及び昇降方向での重なり合い構造により、先願装置の利点を残しつつ、薬液蒸気の逸散が抑制され、且つ昇降部の動作ストロークが抑制されて、装置高が抑制される。特に、２段の環状液体ガイドの昇降方向での重なり合いについて、基板位置より上方又は下方において行うようにした場合、薬液蒸気の逸散及び装置高を更に効果的に抑制できる。
【００２１】
即ち、基板位置より下方の待機位置では、上段液体ガイドと下段液体ガイドを重ね合わせる。これにより、上段液体ガイドと下段液体ガイドの間に形成される液体導入口が閉止される。また、下段液体ガイドの必要以上の降下が回避される。
【００２２】
２種類の液体のうちの他方を回収するときは、上段液体ガイドのみを、基板位置より上方の回収位置へ上昇させる。これにより、上段液体ガイドと下段液体ガイドの間に形成される液体導入口が開放し、基板から飛散する他方の液体は、この液体導入口から上段液体ガイド内に回収される。
【００２３】
一方の液体を回収するときは、下段液体ガイドを、基板位置より上方の回収位置へ上昇させる。これにより、基板から飛散する一方の液体は下段液体ガイド内に回収される。一方の液体を回収するとき、上段液体ガイドを上昇させず、下段液体ガイドのみを上昇させて上段液体ガイドに重ねれば、上段液体ガイドと下段液体ガイドの間の液体導入口が閉止される。また、上段液体ガイドの必要以上の上昇が回避される。
【発明の効果】
【００２４】
本発明に係る回転式基板処理装置は、回転機構の外側に、独立に昇降可能とされた上下２段の液体ガイドを設け、且つ２段の液体ガイドを重ね合わせ可能とすることにより、液体の混合を回避し、高い薬液回収率を確保できる。また、フレキシブル材を必要とする可動部を可及的に排除し、装置価格を低減できる。更に、回転機構を固定できるので、振動を抑制できる。これらに加え、薬液蒸気の逸散防止を図り、薬液と廃液の雰囲気分離を可能にすると共に、薬液蒸気の逸散防止に要する経費を抑制できる。更に又、液体ガイドの昇降ストロークの抑制により装置高も抑制できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下に本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図１は本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置の概略縦断面図で、待機時を示す。図２は同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、薬液処理時を示す。図３は同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、洗浄処理時を示す。図４は同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、乾燥処理時を示す。
【００２６】
本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置は、図１〜図４に示すように、処理すべき基板１を水平に支持して回転させる回転機構１０と、基板１の回転によって基板１から飛散する液体を回収するべく回転機構１０の周囲に設けられたカップ２０と、カップ２０に組み合わされた筒状の上段液体ガイド３０及び下段液体ガイド４０と、回転機構１０の上方に設けられた環状の飛散防止カバー５０とを備えている。これらは、処理槽を兼ねるケーシング６０内に設けられている。ケーシング６０の天井面にはダウンフローを形成するためにクリーンファン７０が設けられている。
【００２７】
回転機構１０は、基板１を水平に支持するロータ１１と、その駆動部１２とからなる。カップ２０は廃液を回収する。このカップ２０は円筒形状で固定式であり、２重の周壁２１を有している。周壁２１の外側には、薬液を回収するために、環状の回収部２０′が一体的に設けられている。
【００２８】
カップ２０内に回収された廃液は、図３及び図４に示すように、カップ２０の底面に接続された排気ダクト兼用の導管２２，２２を介してカップ２０の下方へ取り出され、廃液用の気液分離ボックス２３に送られる。カップ２０の外側に設けられた回収部２０′に回収された薬液は、図１及び図２に示すように、回収部２０′の底面に接続された導管２４，２４を介して回収部２０′の下方へ取り出され、薬液用の気液分離ボックス２５に送られる。両方の液体回収系は、干渉を回避するために、水平面内で周方向に９０°変位して配置されている。
【００２９】
カップ２０に組み合わされる上段液体ガイド３０は、カップ２０に外嵌する円筒部３１と、円筒部３１の上端から内側へ傾斜して上方に延出した傾斜部３２とを有しており、傾斜部３２はカップ２０の上方に突出している。この上段液体ガイド３０は、薬液の回収に使用されるもので、薬液の回収部２０′の周壁内面をガイド面として昇降自在に支持され、図示されない駆動機構により、待機位置を起点として上方へ２段階に駆動される。
【００３０】
待機位置では、傾斜部３２の上端（内縁）がロータ１１より下方に位置する。１段目の上昇位置は薬液回収位置であり、この位置では傾斜部３２の上端（内縁）はロータ１１上の基板１より上方に位置する。２段目の上昇位置は、下段液体ガイド４０を廃液回収位置へ引き上げる引き上げ位置である。
【００３１】
下段液体ガイド４０は、上段液体ガイド３０の内側に配置され、廃液の回収に使用される。この下段液体ガイド４０は、上段液体ガイド３０と同様、円筒部４１と、円筒部４１の上端から内側へ傾斜して上方に延出した傾斜部４２とを有している。円筒部４１は、カップ２０の２重の周壁２１内に挿入されている。カップ２０の上方に突出する傾斜部４２は、上段液体ガイド３０の傾斜部３２の下側に位置し、その傾斜部３２と同じかこれより若干小さい角度で内側に傾斜している。
【００３２】
下段液体ガイド４０は、カップ２０の周壁２１をガイドとして昇降自在に支持され、最も下の待機位置では、上段液体ガイド３０と同様に、傾斜部４２の上端（内縁）がロータ１１より下方に位置する。上段液体ガイド３０と下段液体ガイド４０は、周方向に間隔をあけて配置された複数本のロッド３３，３３・・により連結されている。各ロッド３３は、上段液体ガイド３０の傾斜部３２に結合固定され、その傾斜部３２から下方に延出している。そして各ロッド３３は、円筒部４１の上端部外面に取り付けられたガイド４３に昇降自在に通され、下端のストッパにより抜け止めされている。
【００３３】
これにより、上段液体ガイド３０が待機位置にあるときは、各ロッド３３が各ガイド４３に深く挿入されることにより、下段液体ガイド４０が待機位置に保持され、上段液体ガイド３０の傾斜部３２が下段液体ガイド４０の傾斜部４２に重なり合う（図１）。上段液体ガイド３０が１段目の上昇位置（薬液回収位置）へ上昇する間は、各ロッド３３が各ガイド４３から引き抜かれ、下段液体ガイド４０は待機位置に保持される（図２）。上段液体ガイド３０が２段目の上昇位置（引き上げ位置）へ上昇すると、下段液体ガイド４０が上段液体ガイド３０により引き上げられ、廃液回収位置へ移動する。
【００３４】
上段液体ガイド３０及び下段液体ガイド４０の上昇時にロータ１１と干渉するのを回避するために、傾斜部３２，４２の上端開口径は、ロータ１１の外径より大きく設定されている。
【００３５】
回転機構１０の上方に設けられた環状の飛散防止カバー５０は、ロータ１１の上方に同心円状に配置された円筒部５１と、円筒部５１の上端部から内側に張り出したフランジ部５２とを有している。円筒部５１は、ロータ１１上に基板１をセット・リセットするための隙間をロータ１１との間に確保する。また、上段液体ガイド３０及び下段液体ガイド４０の昇降を阻害しないように、傾斜部３２，４２の上端開口径より小さい外径とされている。円筒部５１の高さは、上段液体ガイド３０が２段目の上昇位置（引き上げ位置）へ上昇し、下段液体ガイド４０が廃液回収位置へ引き上げられた状態で、両ガイドの傾斜部３２，４２が円筒部５１に外嵌するように設定されている。
【００３６】
次に、本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置の機能について説明する。
【００３７】
ロータ１１上への基板１のセットは、図１に示す待機状態、即ち、上段液体ガイド３０が待機位置へ下降した状態で行われる。この状態では、上段液体ガイド３０と下段液体ガイド４０は、ロータ１１より下方の実質同じ高さに位置し、上段液体ガイド３０の傾斜部３２は傾斜部４２の上に重なり合う。このため、傾斜部３２，４２間の薬液導入口は全周にわたって閉止され、薬液蒸気のケーシング６０内への逸散が防止される。
【００３８】
ケーシング６０内では、常時クリーンファン７０によりダウンフローが形成されている。待機時、このダウンフローは、飛散防止カバー５０の内側を通り、ロータ１１と液体ガイド３０，４０の間に形成された環状の微小な隙間を通ってカップ２０内に入り、廃液回収用の導管２２，２２及び気液分離ボックス２３などを経てケーシング６０外へ導出される。このため、廃液蒸気のケーシング６０内への逸散が防止される。従って、比較的弱いダウンフローでも、薬液と廃液の雰囲気分離が可能になる。
【００３９】
また、下段液体ガイド４０が上段液体ガイド３０と実質同じ高さにあることにより、下段液体ガイド４０の必要以上の降下が回避され、カップ２０の深さが抑制される。
【００４０】
薬液処理を行うときは、図２に示すように、上段液体ガイド３０が薬液処理位置へ駆動される。これにより、傾斜部３２，４２間の薬液導入口が開放する。また、上段液体ガイド３０の傾斜部３２は飛散防止カバー５０の円筒部５１に僅かの隙間をあけて外嵌する。下段液体ガイド４０は待機位置に残っている。この状態で、基板１が回転し、その基板１上に、飛散防止カバー５０内の薬液噴出ノズル８０から薬液が散布される。散布が終わると、基板１を高速で回転させて、基板１上の薬液を除去する。基板１上の薬液は、基板１の回転に伴う遠心力により外側へ移動し、傾斜部３２，４２間の薬液導入口からカップ２０外側の回収部２０′に流入し回収される。
【００４１】
このとき、ロータ１１の上方には飛散防止カバー５０があり、且つ、その外側に上段液体ガイド３０の傾斜部３２が嵌合している。このため、基板１上からの薬液飛散が防止され、且つ、薬液蒸気の逸散も最小限に抑制される。更に、下段液体ガイド４０が待機位置に残り、ロータ１１との間の隙間が微小なことから、ダウンフローは主に傾斜部３２，４２間の薬液導入口からカップ２０外側の回収部２０′に流入する。このため、カップ２０内への薬液蒸気の侵入も最小限に抑制される。従って、ここでも薬液と廃液の雰囲気分離が図られる。
【００４２】
薬液処理が終わると洗浄処理を行う。このときは、図３に示すように、上段液体ガイド３０が薬液処理位置からその上の引き上げ位置へ駆動される。これにより、下段液体ガイド４０は廃液回収位置へ上昇し、ロータ１１との間の隙間を増大させると共に、その傾斜部３２は飛散防止カバー５０の円筒部５１に僅かの隙間をあけて外嵌する。また、上段液体ガイド３０の傾斜部３２は、引き続き飛散防止カバー５０の円筒部５１に僅かの隙間をあけて外嵌する。
【００４３】
この状態で、基板１が回転し、その基板１上に、飛散防止カバー５０内の純水噴出ノズル９０から純水が散布される。散布が終わると、基板１を高速で回転させて、基板１上の廃液を除去する。基板１上の廃液は、基板１の回転に伴う遠心力により外側へ移動し、下段液体ガイド４０の傾斜部４２に案内されてカップ２０内に流入し回収される。
【００４４】
このとき、ロータ１１の上方には飛散防止カバー５０があり、且つ、その外側に液体ガイド３０，４０の傾斜部３２，４０が２重に嵌合している。このため、基板１上からの廃液飛散が防止される。また、傾斜部３２，４２間の薬液導入口は飛散防止カバー５０の円筒部５１により実質的に閉止されており、ダウンフローは主に下段液体ガイド４０とロータ１１の間の増大した隙間からカップ２０内に流入する。従って、ここでも薬液蒸気の逸散が最小限に抑制され、薬液と廃液の雰囲気分離が図られる。
【００４５】
洗浄処理が終わると、乾燥処理を行う。このときは、図４に示すように、上段液体ガイド３０及び下段液体ガイド４０が回収位置に保持されたまま、回転する基板１の上面中心部に、飛散防止カバー５０内のガス噴出ノズル１００から窒素ガスがパージされると共に、回転機構１０を通して基板１の下面中心部に窒素ガスがパージされる。これらのパージガスはダウンフローと共に、カップ２０内から廃液回収用の導管２２，２２及び気液分離ボックス２３などを経てケーシング６０外へ導出される。
【００４６】
このような分離回収によると、薬液と廃液が混じり合うことがない。従って、廃液の混入による薬液回収効率の低下は生じない。
【００４７】
回転機構１０が固定されているため、振動が少ない。
【００４８】
回転機構１０が固定されている上に、廃液を回収するカップ２０も固定式であるため、両者の間をシールするのに伸縮部材を必要とせず、フレキシブル管も必要としない。従って、薬液として腐食性の強いものを使用する場合にあっても装置コストが上昇しない。
【００４９】
上段液体ガイド３０と下段液体ガイド４０のダブルアクション及び重ね合わせ構造により、薬液導入口である傾斜部３２，４２間が待機時に閉止されるので、薬液蒸気の逸散が防止され、薬液と廃液の雰囲気分離が可能になる。また、薬液蒸気の逸散を防止するためのクリーンファン７０の設備費及び運転費が節減される。また、下段液体ガイド４０の必要以上の降下が回避されるので、カップ２０が浅くなり、装置高が低減される。
【００５０】
可動式の液体ガイド３０，４０と飛散防止カバー５０の組合せにより、薬液及び廃液の飛散が防止されると共に、薬液蒸気の逸散防止、薬液と廃液の雰囲気分離が更に完全になる。
【００５１】
上段液体ガイド３０のみが強制的に駆動されるので、ガイド駆動機構が簡単である。
【００５２】
なお、ガイド駆動については、上段液体ガイド３０と下段液体ガイド４０を独立に駆動することも可能である。独立駆動によれば、下段液体ガイド４０が廃液回収位置にあるとき、これに上段液体ガイド３０を重ね合わせることができるので、上段液体ガイド３０を薬液回収位置より上方に移動させる操作は不要となる。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置の概略縦断面図で、待機時を示す。
【図２】同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、薬液処理時を示す。
【図３】同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、洗浄処理時を示す。
【図４】同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、乾燥処理時を示す。
【図５】従来の回転式基板処理装置（三方弁式）の構造を示す概略縦断面図である。
【図６】従来の回転式基板処理装置（カップ昇降式）の構造を薬液回収動作の場合について示し、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図７】従来の回転式基板処理装置（カップ昇降式）の構造を廃液回収動作の場合について示し、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図８】従来の回転式基板処理装置（ロータ昇降式）の構造を薬液回収動作の場合について示し、（ａ）概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図９】従来の回転式基板処理装置（ロータ昇降式）の構造を廃液回収動作の場合について示し、（ａ）概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図１０】先願の回転式基板処理装置を示し、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図１１】同回転式基板処理装置の薬液処理時を示し、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図１２】同回転式基板処理装置の洗浄処理時を示し、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【符号の説明】
【００５４】
１ 基板
１０ 回転機構
１１ ロータ
１２ 駆動部
２０ 廃液回収用のカップ
２０′ 薬液回収部
３０ 上段液体ガイド
３１ 円筒部
３２ 傾斜部
３３ ロッド
４０ 下段液体ガイド
４１ 円筒部
４２ 傾斜部
４３ ガイド
５０ 飛散防止カバー
６０ ケーシング
７０ クリーンファン
８０ 薬液噴射ノズル
９０ 純水噴射ノズル
１００ ガス噴射ノズル
【技術分野】
【０００１】
本発明は半導体ウエハ、液晶用ガラス基板等の基板類を湿式処理する際に使用される回転式基板処理装置に関し、特にその基板を１枚ずつ処理する枚葉タイプの回転式基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスや液晶パネルの製造に使用される枚葉タイプの回転式基板処理装置は、処理槽内で基板をロータ上に水平に載せ、このロータを所定速度で回転させながら、基板の上面に液体を散布することにより、その上面を湿式処理する。基板の上面に散布された液体は遠心力により周囲に飛散する。また、液体の散布後に基板上に溜まる液体を除去するためにロータを高速で回転させるが、このときも基板から周囲に液体が飛散する。これらの飛散液体を回収するために、回転機構の周囲にはカップが設けられている。
【０００３】
ところで、この種の回転式基板処理装置では、同一槽内でエッチング等の薬液処理と純水による洗浄処理を連続して行う場合がある。この場合、使用後の薬液と洗浄処理で生じる廃液（純水と薬液が混じった液体）を分離回収する必要があり、その分離回収機構としては次の３つが知られている。
【０００４】
第１は図５に示す三方弁方式である。これは、基板１を回転させる回転機構２の周囲に設けられたカップ３の底部にドレン配管４を設け、この配管途中に三方弁４ａを設けたものである。そして、三方弁４ａを操作することにより、薬液と廃液が分離回収される。
【０００５】
第２の方式は、図６及び図７に示すカップ昇降式である。これは、蛇腹やテレスコ等の伸縮部材５を用いてカップ３を昇降可能にすると共に、カップ３の内側空間を上下に仕切る仕切り部３ａをカップ３の内面に設けたものである。薬液を回収するときは、図６に示されるように、仕切り部３ａが基板１の下方となる高さにカップ３を固定する。これにより、カップ３内の仕切り部３ａより上方の空間に薬液が回収され、フレキシブル管６ａを介してカップ３の外に取り出される。廃液を回収するときは、図７に示されるように、仕切り部３ａが基板１の上方となる高さにカップ３を固定する。これにより、カップ３内の仕切り部３ａより下方の空間に廃液が回収され、フレキシブル管６ｂを介してカップ３の外に導出される。
【０００６】
第３の方式は、図８及び図９に示すロータ昇降式である。これは、仕切り部３ａを備えたカップ３を固定し、代わりに回転機構２をシリンダー７により昇降させるようにしたものである。回転機構２を昇降させることにより、カップ昇降式の場合と同様に薬液と廃液が分離回収される。ただし、カップ昇降式の場合と異なり、カップ３が固定されているので、フレキシブル管６ａ，６ｂは不要となり、カップ３内に回収された薬液及び廃液は、カップ３の外面に取り付けられたポケット８ａ，８ｂを介してカップ３の外に導出される。
【０００７】
しかしながら、これらの分離回収機構には次のような問題がある。
【０００８】
図５に示す三方弁方式の場合は、薬液と廃液の間でカップ２及びドレン配管４の一部が共用されるため、薬液処理に切り替わった最初の数秒間は、先の洗浄処理で残った純水が薬液に混入する。このため、この間に回収される薬液は廃液としなければならず、薬液回収率の低下を招く。
【０００９】
図６及び図７に示すカップ昇降式の場合は、回転機構２の周囲に設けられるカップ３を回転機構２に対して昇降させなければならないため、両者の間を蛇腹やテレスコ等の伸縮部材５によってシールする必要がある。また、カップ３内に回収された液体をカップ３の外に導出するために、その導出管にフレキシブル管６ａ，６ｂを使うことが必要になる。ここにおける薬液としては、例えばエッチング処理の場合は腐食性が非常に強いフッ化水素等も使用されるので、薬液の種類によっては伸縮部材５及びフレキシブル管６ａ，６ｂの材質が限定され、非常に高価なものとなる。
【００１０】
図８及び図９に示すロータ昇降式の場合は、カップ３が固定式となるため、カップ内からカップ外へ液体を導出するための導出管にフレキシブル管を使う必要はなくなる。しかし、ローラ２とカップ３の間をシールするためのシール部材としての伸縮部材５は依然として必要である。このため、伸縮部材５に要するコストが大きな問題として残る。また、回転機構２を昇降可能な可動構造とする必要があるため、振動が大きくなりやすいという問題がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、高い薬液回収率を確保し得るのは勿論のこと、フレキシブル材を必要とする可動部を可及的に排除することにより装置価格の低減を図り、しかも振動が少ない回転式基板処理装置を提供することになる。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本出願人は２段カップ方式の回転式基板処理装置を特願平９−２８８０１６号により先に特許出願した。
【００１３】
この先願装置は、図１０〜図１２に示すように、処理すべき基板１を水平に支持して回転させる回転機構２と、基板１の回転によって基板１から飛散する液体を回収するべく回転機構２の周囲に設けられたカップ３とを備えている。カップ３は、円筒形状をした可動式の上カップ３Ａと、上カップ３Ａを収容する固定式の下カップ３Ｂとに分割されている。可動式の上カップ３Ａは、シリンダー７，７の同期動作により昇降動作を行う。上カップ３Ａの上端部は、内側に傾斜した環状の上段液体ガイド部３′である。上段液体ガイド部３′の下方には、内側空間を上下に仕切る仕切り部として、内側に傾斜した環状の下段液体ガイド部３″が設けられている。
【００１４】
基板１の搬入・搬出を行う待機時は、図１０に示すように、上段液体ガイド部３′が基板１より下方となる位置に、上カップ３Ａが保持される。薬液処理時は、図１１に示すように、上段液体ガイド部３′が基板１より上方に位置し、下段液体ガイド部３″が基板１より下方となる薬液回収位置に、上カップ３Ａが上昇する。この状態で基板１を回転させると、基板１上の薬液は下カップ３Ｂの外（上カップ３Ａ内）に回収され、第１ポケット８ａ，８ａより薬液用の気液分離ボックス等に導かれる。純水による洗浄処理時は、図１２に示すように、下段液体ガイド部３″が基板１より上方となる廃液回収位置まで、上カップ２０Ａが更に上昇する。この状態で基板１を回転させると、基板１上の廃液は固定式の下カップ３Ｂ内に回収され、第２ポケット８ｂ，８ｂを経由して廃液用の気液分離ボックス等に導かれる。
【００１５】
かくして、先願装置では、フレキシブル材を必要とする可動部が可及的に排除され、装置価格が低減される。また、回転機構が固定されることにより、振動が抑えられる。
【００１６】
しかし、その一方では、上カップ３Ａの薬液導入口である上段液体ガイド部３′と下段液体ガイド部３″の間が常時開放している。このため、待機時にも上段液体ガイド部３′と下段液体ガイド部３″の間から薬液蒸気が上方へ逸散し、薬液濃度の濃い雰囲気と廃液から生じる薬液の濃度の薄い雰囲気が混じり合うという問題がある。この問題を解決するために、ダウンフローが与えられているが、そのファンを駆動するためのモータの設備コストや運転コストが増大する問題がある。また、ダウンフローよっても、薬液と廃液の雰囲気分離を完全に行うことは困難である。
【００１７】
即ち、先願装置では、薬液と廃液の分離回収は行えても、それぞれの雰囲気分離までは困難である。
【００１８】
また、上カップ３Ａは、上段液体ガイド部３′が基板１より下方となる待機位置まで下降する必要がある。このとき、下段液体ガイド部３″は基板１の遙か下方へ必要以上に下降する。一方、下段液体ガイド部３″が廃液回収位置へ上昇したときは、上端液体ガイド部３′は薬液回収位置の遙か上方へ必要以上に上昇する。このため、上段カップ３Ａの昇降ストロークが非常に大きい。このストロークの大きさ、特に下方への必要以上の下降は下カップ３Ｂの深さを大きくする原因になり、装置高の増大につながる。
【００１９】
本発明の回転式基板処理装置は、先願装置の利点を残しつつ、これらの欠点を解消するものであり、処理すべき基板を回転機構により水平に支持して回転させ、その回転によって基板から飛散する２種類の液体を分離回収する回転式基板処理装置において、２種類の液体のうちの一方を回収するべく回転機構の外側に設けられ、基板位置より下方の待機位置と上方の回収位置の間を昇降すると共に、上方の回収位置で基板から飛散する一方の液体を受けて下方へ導く筒状で可動式の下段液体ガイドと、下段液体ガイドより外側に設けられ、基板位置より下方の待機位置と上方の回収位置の間を下段液体ガイドから独立して昇降すると共に、昇降方向で下段液体ガイドに重なり合うことが可能であり、且つ上方の回収位置で基板から飛散する他方の液体を受けて下方へ導く筒状で可動式の上段液体ガイドとを具備している。
【００２０】
本発明の回転式基板処理装置では、回転機構の外側で独立に昇降する２段の環状液体ガイドのダブルアクション及び昇降方向での重なり合い構造により、先願装置の利点を残しつつ、薬液蒸気の逸散が抑制され、且つ昇降部の動作ストロークが抑制されて、装置高が抑制される。特に、２段の環状液体ガイドの昇降方向での重なり合いについて、基板位置より上方又は下方において行うようにした場合、薬液蒸気の逸散及び装置高を更に効果的に抑制できる。
【００２１】
即ち、基板位置より下方の待機位置では、上段液体ガイドと下段液体ガイドを重ね合わせる。これにより、上段液体ガイドと下段液体ガイドの間に形成される液体導入口が閉止される。また、下段液体ガイドの必要以上の降下が回避される。
【００２２】
２種類の液体のうちの他方を回収するときは、上段液体ガイドのみを、基板位置より上方の回収位置へ上昇させる。これにより、上段液体ガイドと下段液体ガイドの間に形成される液体導入口が開放し、基板から飛散する他方の液体は、この液体導入口から上段液体ガイド内に回収される。
【００２３】
一方の液体を回収するときは、下段液体ガイドを、基板位置より上方の回収位置へ上昇させる。これにより、基板から飛散する一方の液体は下段液体ガイド内に回収される。一方の液体を回収するとき、上段液体ガイドを上昇させず、下段液体ガイドのみを上昇させて上段液体ガイドに重ねれば、上段液体ガイドと下段液体ガイドの間の液体導入口が閉止される。また、上段液体ガイドの必要以上の上昇が回避される。
【発明の効果】
【００２４】
本発明に係る回転式基板処理装置は、回転機構の外側に、独立に昇降可能とされた上下２段の液体ガイドを設け、且つ２段の液体ガイドを重ね合わせ可能とすることにより、液体の混合を回避し、高い薬液回収率を確保できる。また、フレキシブル材を必要とする可動部を可及的に排除し、装置価格を低減できる。更に、回転機構を固定できるので、振動を抑制できる。これらに加え、薬液蒸気の逸散防止を図り、薬液と廃液の雰囲気分離を可能にすると共に、薬液蒸気の逸散防止に要する経費を抑制できる。更に又、液体ガイドの昇降ストロークの抑制により装置高も抑制できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下に本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図１は本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置の概略縦断面図で、待機時を示す。図２は同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、薬液処理時を示す。図３は同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、洗浄処理時を示す。図４は同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、乾燥処理時を示す。
【００２６】
本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置は、図１〜図４に示すように、処理すべき基板１を水平に支持して回転させる回転機構１０と、基板１の回転によって基板１から飛散する液体を回収するべく回転機構１０の周囲に設けられたカップ２０と、カップ２０に組み合わされた筒状の上段液体ガイド３０及び下段液体ガイド４０と、回転機構１０の上方に設けられた環状の飛散防止カバー５０とを備えている。これらは、処理槽を兼ねるケーシング６０内に設けられている。ケーシング６０の天井面にはダウンフローを形成するためにクリーンファン７０が設けられている。
【００２７】
回転機構１０は、基板１を水平に支持するロータ１１と、その駆動部１２とからなる。カップ２０は廃液を回収する。このカップ２０は円筒形状で固定式であり、２重の周壁２１を有している。周壁２１の外側には、薬液を回収するために、環状の回収部２０′が一体的に設けられている。
【００２８】
カップ２０内に回収された廃液は、図３及び図４に示すように、カップ２０の底面に接続された排気ダクト兼用の導管２２，２２を介してカップ２０の下方へ取り出され、廃液用の気液分離ボックス２３に送られる。カップ２０の外側に設けられた回収部２０′に回収された薬液は、図１及び図２に示すように、回収部２０′の底面に接続された導管２４，２４を介して回収部２０′の下方へ取り出され、薬液用の気液分離ボックス２５に送られる。両方の液体回収系は、干渉を回避するために、水平面内で周方向に９０°変位して配置されている。
【００２９】
カップ２０に組み合わされる上段液体ガイド３０は、カップ２０に外嵌する円筒部３１と、円筒部３１の上端から内側へ傾斜して上方に延出した傾斜部３２とを有しており、傾斜部３２はカップ２０の上方に突出している。この上段液体ガイド３０は、薬液の回収に使用されるもので、薬液の回収部２０′の周壁内面をガイド面として昇降自在に支持され、図示されない駆動機構により、待機位置を起点として上方へ２段階に駆動される。
【００３０】
待機位置では、傾斜部３２の上端（内縁）がロータ１１より下方に位置する。１段目の上昇位置は薬液回収位置であり、この位置では傾斜部３２の上端（内縁）はロータ１１上の基板１より上方に位置する。２段目の上昇位置は、下段液体ガイド４０を廃液回収位置へ引き上げる引き上げ位置である。
【００３１】
下段液体ガイド４０は、上段液体ガイド３０の内側に配置され、廃液の回収に使用される。この下段液体ガイド４０は、上段液体ガイド３０と同様、円筒部４１と、円筒部４１の上端から内側へ傾斜して上方に延出した傾斜部４２とを有している。円筒部４１は、カップ２０の２重の周壁２１内に挿入されている。カップ２０の上方に突出する傾斜部４２は、上段液体ガイド３０の傾斜部３２の下側に位置し、その傾斜部３２と同じかこれより若干小さい角度で内側に傾斜している。
【００３２】
下段液体ガイド４０は、カップ２０の周壁２１をガイドとして昇降自在に支持され、最も下の待機位置では、上段液体ガイド３０と同様に、傾斜部４２の上端（内縁）がロータ１１より下方に位置する。上段液体ガイド３０と下段液体ガイド４０は、周方向に間隔をあけて配置された複数本のロッド３３，３３・・により連結されている。各ロッド３３は、上段液体ガイド３０の傾斜部３２に結合固定され、その傾斜部３２から下方に延出している。そして各ロッド３３は、円筒部４１の上端部外面に取り付けられたガイド４３に昇降自在に通され、下端のストッパにより抜け止めされている。
【００３３】
これにより、上段液体ガイド３０が待機位置にあるときは、各ロッド３３が各ガイド４３に深く挿入されることにより、下段液体ガイド４０が待機位置に保持され、上段液体ガイド３０の傾斜部３２が下段液体ガイド４０の傾斜部４２に重なり合う（図１）。上段液体ガイド３０が１段目の上昇位置（薬液回収位置）へ上昇する間は、各ロッド３３が各ガイド４３から引き抜かれ、下段液体ガイド４０は待機位置に保持される（図２）。上段液体ガイド３０が２段目の上昇位置（引き上げ位置）へ上昇すると、下段液体ガイド４０が上段液体ガイド３０により引き上げられ、廃液回収位置へ移動する。
【００３４】
上段液体ガイド３０及び下段液体ガイド４０の上昇時にロータ１１と干渉するのを回避するために、傾斜部３２，４２の上端開口径は、ロータ１１の外径より大きく設定されている。
【００３５】
回転機構１０の上方に設けられた環状の飛散防止カバー５０は、ロータ１１の上方に同心円状に配置された円筒部５１と、円筒部５１の上端部から内側に張り出したフランジ部５２とを有している。円筒部５１は、ロータ１１上に基板１をセット・リセットするための隙間をロータ１１との間に確保する。また、上段液体ガイド３０及び下段液体ガイド４０の昇降を阻害しないように、傾斜部３２，４２の上端開口径より小さい外径とされている。円筒部５１の高さは、上段液体ガイド３０が２段目の上昇位置（引き上げ位置）へ上昇し、下段液体ガイド４０が廃液回収位置へ引き上げられた状態で、両ガイドの傾斜部３２，４２が円筒部５１に外嵌するように設定されている。
【００３６】
次に、本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置の機能について説明する。
【００３７】
ロータ１１上への基板１のセットは、図１に示す待機状態、即ち、上段液体ガイド３０が待機位置へ下降した状態で行われる。この状態では、上段液体ガイド３０と下段液体ガイド４０は、ロータ１１より下方の実質同じ高さに位置し、上段液体ガイド３０の傾斜部３２は傾斜部４２の上に重なり合う。このため、傾斜部３２，４２間の薬液導入口は全周にわたって閉止され、薬液蒸気のケーシング６０内への逸散が防止される。
【００３８】
ケーシング６０内では、常時クリーンファン７０によりダウンフローが形成されている。待機時、このダウンフローは、飛散防止カバー５０の内側を通り、ロータ１１と液体ガイド３０，４０の間に形成された環状の微小な隙間を通ってカップ２０内に入り、廃液回収用の導管２２，２２及び気液分離ボックス２３などを経てケーシング６０外へ導出される。このため、廃液蒸気のケーシング６０内への逸散が防止される。従って、比較的弱いダウンフローでも、薬液と廃液の雰囲気分離が可能になる。
【００３９】
また、下段液体ガイド４０が上段液体ガイド３０と実質同じ高さにあることにより、下段液体ガイド４０の必要以上の降下が回避され、カップ２０の深さが抑制される。
【００４０】
薬液処理を行うときは、図２に示すように、上段液体ガイド３０が薬液処理位置へ駆動される。これにより、傾斜部３２，４２間の薬液導入口が開放する。また、上段液体ガイド３０の傾斜部３２は飛散防止カバー５０の円筒部５１に僅かの隙間をあけて外嵌する。下段液体ガイド４０は待機位置に残っている。この状態で、基板１が回転し、その基板１上に、飛散防止カバー５０内の薬液噴出ノズル８０から薬液が散布される。散布が終わると、基板１を高速で回転させて、基板１上の薬液を除去する。基板１上の薬液は、基板１の回転に伴う遠心力により外側へ移動し、傾斜部３２，４２間の薬液導入口からカップ２０外側の回収部２０′に流入し回収される。
【００４１】
このとき、ロータ１１の上方には飛散防止カバー５０があり、且つ、その外側に上段液体ガイド３０の傾斜部３２が嵌合している。このため、基板１上からの薬液飛散が防止され、且つ、薬液蒸気の逸散も最小限に抑制される。更に、下段液体ガイド４０が待機位置に残り、ロータ１１との間の隙間が微小なことから、ダウンフローは主に傾斜部３２，４２間の薬液導入口からカップ２０外側の回収部２０′に流入する。このため、カップ２０内への薬液蒸気の侵入も最小限に抑制される。従って、ここでも薬液と廃液の雰囲気分離が図られる。
【００４２】
薬液処理が終わると洗浄処理を行う。このときは、図３に示すように、上段液体ガイド３０が薬液処理位置からその上の引き上げ位置へ駆動される。これにより、下段液体ガイド４０は廃液回収位置へ上昇し、ロータ１１との間の隙間を増大させると共に、その傾斜部３２は飛散防止カバー５０の円筒部５１に僅かの隙間をあけて外嵌する。また、上段液体ガイド３０の傾斜部３２は、引き続き飛散防止カバー５０の円筒部５１に僅かの隙間をあけて外嵌する。
【００４３】
この状態で、基板１が回転し、その基板１上に、飛散防止カバー５０内の純水噴出ノズル９０から純水が散布される。散布が終わると、基板１を高速で回転させて、基板１上の廃液を除去する。基板１上の廃液は、基板１の回転に伴う遠心力により外側へ移動し、下段液体ガイド４０の傾斜部４２に案内されてカップ２０内に流入し回収される。
【００４４】
このとき、ロータ１１の上方には飛散防止カバー５０があり、且つ、その外側に液体ガイド３０，４０の傾斜部３２，４０が２重に嵌合している。このため、基板１上からの廃液飛散が防止される。また、傾斜部３２，４２間の薬液導入口は飛散防止カバー５０の円筒部５１により実質的に閉止されており、ダウンフローは主に下段液体ガイド４０とロータ１１の間の増大した隙間からカップ２０内に流入する。従って、ここでも薬液蒸気の逸散が最小限に抑制され、薬液と廃液の雰囲気分離が図られる。
【００４５】
洗浄処理が終わると、乾燥処理を行う。このときは、図４に示すように、上段液体ガイド３０及び下段液体ガイド４０が回収位置に保持されたまま、回転する基板１の上面中心部に、飛散防止カバー５０内のガス噴出ノズル１００から窒素ガスがパージされると共に、回転機構１０を通して基板１の下面中心部に窒素ガスがパージされる。これらのパージガスはダウンフローと共に、カップ２０内から廃液回収用の導管２２，２２及び気液分離ボックス２３などを経てケーシング６０外へ導出される。
【００４６】
このような分離回収によると、薬液と廃液が混じり合うことがない。従って、廃液の混入による薬液回収効率の低下は生じない。
【００４７】
回転機構１０が固定されているため、振動が少ない。
【００４８】
回転機構１０が固定されている上に、廃液を回収するカップ２０も固定式であるため、両者の間をシールするのに伸縮部材を必要とせず、フレキシブル管も必要としない。従って、薬液として腐食性の強いものを使用する場合にあっても装置コストが上昇しない。
【００４９】
上段液体ガイド３０と下段液体ガイド４０のダブルアクション及び重ね合わせ構造により、薬液導入口である傾斜部３２，４２間が待機時に閉止されるので、薬液蒸気の逸散が防止され、薬液と廃液の雰囲気分離が可能になる。また、薬液蒸気の逸散を防止するためのクリーンファン７０の設備費及び運転費が節減される。また、下段液体ガイド４０の必要以上の降下が回避されるので、カップ２０が浅くなり、装置高が低減される。
【００５０】
可動式の液体ガイド３０，４０と飛散防止カバー５０の組合せにより、薬液及び廃液の飛散が防止されると共に、薬液蒸気の逸散防止、薬液と廃液の雰囲気分離が更に完全になる。
【００５１】
上段液体ガイド３０のみが強制的に駆動されるので、ガイド駆動機構が簡単である。
【００５２】
なお、ガイド駆動については、上段液体ガイド３０と下段液体ガイド４０を独立に駆動することも可能である。独立駆動によれば、下段液体ガイド４０が廃液回収位置にあるとき、これに上段液体ガイド３０を重ね合わせることができるので、上段液体ガイド３０を薬液回収位置より上方に移動させる操作は不要となる。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置の概略縦断面図で、待機時を示す。
【図２】同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、薬液処理時を示す。
【図３】同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、洗浄処理時を示す。
【図４】同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、乾燥処理時を示す。
【図５】従来の回転式基板処理装置（三方弁式）の構造を示す概略縦断面図である。
【図６】従来の回転式基板処理装置（カップ昇降式）の構造を薬液回収動作の場合について示し、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図７】従来の回転式基板処理装置（カップ昇降式）の構造を廃液回収動作の場合について示し、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図８】従来の回転式基板処理装置（ロータ昇降式）の構造を薬液回収動作の場合について示し、（ａ）概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図９】従来の回転式基板処理装置（ロータ昇降式）の構造を廃液回収動作の場合について示し、（ａ）概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図１０】先願の回転式基板処理装置を示し、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図１１】同回転式基板処理装置の薬液処理時を示し、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図１２】同回転式基板処理装置の洗浄処理時を示し、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【符号の説明】
【００５４】
１ 基板
１０ 回転機構
１１ ロータ
１２ 駆動部
２０ 廃液回収用のカップ
２０′ 薬液回収部
３０ 上段液体ガイド
３１ 円筒部
３２ 傾斜部
３３ ロッド
４０ 下段液体ガイド
４１ 円筒部
４２ 傾斜部
４３ ガイド
５０ 飛散防止カバー
６０ ケーシング
７０ クリーンファン
８０ 薬液噴射ノズル
９０ 純水噴射ノズル
１００ ガス噴射ノズル
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理すべき基板を回転機構により水平に支持して回転させ、その回転によって基板から飛散する２種類の液体を分離回収する回転式基板処理装置において、２種類の液体のうちの一方を回収するべく回転機構の外側に設けられ、基板位置より下方の待機位置と上方の回収位置の間を昇降すると共に、上方の回収位置で基板から飛散する一方の液体を受けて下方へ導く筒状で可動式の下段液体ガイドと、下段液体ガイドより外側に設けられ、基板位置より下方の待機位置と上方の回収位置の間を下段液体ガイドから独立して昇降すると共に、昇降方向で下段液体ガイドに重なり合うことが可能であり、且つ上方の回収位置で基板から飛散する他方の液体を受けて下方へ導く筒状で可動式の上段液体ガイドとを具備することを特徴とする回転式基板処理装置。
【請求項２】
上段液体ガイドと下段液体ガイドは、基板位置より上方の回収位置で重ね合わせが可能である請求項１に記載の回転式基板処理装置。
【請求項３】
上段液体ガイドと下段液体ガイドは、両者同時に基板位置より下方に保持可能である請求項１又は２に記載の回転式基板処理装置。
【請求項４】
上段液体ガイドと下段液体ガイドは、基板位置より下方の待機位置で重ね合わせが可能である請求項３に記載の回転式基板処理装置。
【請求項５】
回転機構は昇降しない固定型である請求項１〜４のいずれかに記載の回転式基板処理装置。
【請求項１】
処理すべき基板を回転機構により水平に支持して回転させ、その回転によって基板から飛散する２種類の液体を分離回収する回転式基板処理装置において、２種類の液体のうちの一方を回収するべく回転機構の外側に設けられ、基板位置より下方の待機位置と上方の回収位置の間を昇降すると共に、上方の回収位置で基板から飛散する一方の液体を受けて下方へ導く筒状で可動式の下段液体ガイドと、下段液体ガイドより外側に設けられ、基板位置より下方の待機位置と上方の回収位置の間を下段液体ガイドから独立して昇降すると共に、昇降方向で下段液体ガイドに重なり合うことが可能であり、且つ上方の回収位置で基板から飛散する他方の液体を受けて下方へ導く筒状で可動式の上段液体ガイドとを具備することを特徴とする回転式基板処理装置。
【請求項２】
上段液体ガイドと下段液体ガイドは、基板位置より上方の回収位置で重ね合わせが可能である請求項１に記載の回転式基板処理装置。
【請求項３】
上段液体ガイドと下段液体ガイドは、両者同時に基板位置より下方に保持可能である請求項１又は２に記載の回転式基板処理装置。
【請求項４】
上段液体ガイドと下段液体ガイドは、基板位置より下方の待機位置で重ね合わせが可能である請求項３に記載の回転式基板処理装置。
【請求項５】
回転機構は昇降しない固定型である請求項１〜４のいずれかに記載の回転式基板処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２００７−１９４６６２（Ｐ２００７−１９４６６２Ａ）
【公開日】平成１９年８月２日（２００７．８．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−９６５０９（Ｐ２００７−９６５０９）
【出願日】平成１９年４月２日（２００７．４．２）
【分割の表示】特願平１１−５７４１１の分割
【原出願日】平成１１年３月４日（１９９９．３．４）
【出願人】（０００１８３３６９）住友精密工業株式会社 (336)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年８月２日（２００７．８．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年４月２日（２００７．４．２）
【分割の表示】特願平１１−５７４１１の分割
【原出願日】平成１１年３月４日（１９９９．３．４）
【出願人】（０００１８３３６９）住友精密工業株式会社 (336)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]