有機トランジスタ
【課題】高い移動度、大きな電流オン／オフ比を有し、保存安定性に優れた有機トランジスタを提供する。
【解決手段】有機半導体層として下式（１４）の様な改良したペリレン誘導体を含有してなる有機トランジスタ。
【解決手段】有機半導体層として下式（１４）の様な改良したペリレン誘導体を含有してなる有機トランジスタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機トランジスタに関する。さらに詳しくは、特定の有機化合物を有機半導体層に用いてなる有機トランジスタに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、アモルファスシリコンや多結晶シリコンを用いてなる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）は、液晶表示装置などのフラットパネル表示用のスイッチング素子として広く用いられている。しかし、これらシリコンを用いた薄膜トランジスタの作製に用いられるＣＶＤ装置は、高価であり、大型の薄膜トランジスタ素子の製造は、製造コストの増大を伴うという難点がある。
【０００３】
また、アモルファスシリコンや多結晶シリコンの成膜は、高温度下で実施されるため、基板としては、軽量で、フレキシビリティーではあるが、耐熱性に乏しいプラスチック材料などは使用できないという難点がある。
【０００４】
上記問題を解決するために、アモルファスシリコンや多結晶シリコンに代えて、有機化合物をチャネル半導体層（以下、有機半導体層という）に用いた有機トランジスタ（有機薄膜トランジスタ、有機ＴＦＴとも称される）が提案されている（非特許文献１）。
【０００５】
有機半導体層を形成する方法としては、例えば、真空蒸着法や塗布法などが知られており、これらの成膜方法によれば、製造コストを抑えつつ、有機トランジスタ素子の大型化が容易となる。
【０００６】
さらには、成膜時に必要となる温度を下げることができ、有機化合物を用いた有機トランジスタでは、基板にプラスチック材料を使用することが可能となり、フレキシブルな表示素子への適用が可能となり、その実用化に期待が集まっている。
【０００７】
実用的な有機トランジスタは、高い電荷移動度、および大きな電流オン／オフ比などの特性を有している必要がある。ここで「オン／オフ比」という用語は、有機トランジスタがオンであるときのソース電極とドレイン電極間の電流の、有機トランジスタがオフであるときのソース電極とドレイン電極間の電流に対する比を意味する。
さらには、有機トランジスタの実用化に向けては、優れた保存安定性が必要となる。
【０００８】
現在までに、有機半導体層に、例えば、ペンタセンを用いた有機トランジスタが提案されている（非特許文献２）。しかし、ペンタセンを用いてなる有機トランジスタは、大気中では有機トランジスタとしての機能は低く、且つ、保存安定性が低いという難点がある。
【０００９】
さらに、チオフェンオリゴマー（α−ヘキサチエニレン）を有機半導体層に用いた有機トランジスタが提案されている（非特許文献３）。しかし、該有機トランジスタも、空気中での保存安定性が低いという難点がある。
【００１０】
また、ジベンゾ［ａ，ｊ］ナフタセン、ジベンゾ［ｄｅ，ｑｒ］ナフタセンは、有機トランジスタの有機半導体層に有用であることが記載されている（特許文献１）。しかし、これらのジベンゾナフタセンを有機半導体層に使用した有機トランジスタは、電荷移動度が低いという難点があることが判明した。
【００１１】
現在では、実用化に向け、一層改良された有機トランジスタの開発が求められている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【００１２】
【非特許文献１】Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．，６３，１３７２（１９９３）
【非特許文献２】Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．，７２，１８５４（１９９８）
【非特許文献３】Ｓｃｉｅｎｃｅ，２６８，２７０（１９９５）
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特表２００５−５１９４８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
現在までに、種々の有機化合物を有機半導体層に用いた有機トランジスタの提案がなされているが、そのいずれもが、実用的に充分満足できる特性を有しているとはいい難いものであった。
【００１５】
本発明は、上述に鑑み、電荷移動度が高く、大きな電流オン／オフ比を有し、かつ保存安定性に優れた有機トランジスタを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明者は、前記課題を解決するため、鋭意検討した結果、一般式（１）〜一般式（３）で表わされる化合物を少なくとも１種、有機半導体層に含有してなる有機トランジスタは、電荷移動度が高く、大きな電流オン／オフ比を有し、かつ保存安定性に優れていることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１７】
すなわち、本発明は、
有機半導体層を有する有機トランジスタにおいて、該有機半導体層に一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物を少なくとも１種含有してなる有機トランジスタである。
【００１８】
【化１】
【００１９】
［式中、式（１）におけるＸ１〜Ｘ２０、式（２）におけるＸ２１〜Ｘ２８、ならびに式（３）におけるＸ２９〜Ｘ４０は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未置換のアリール基を表す。さらに、式（１）における隣接するＸ１〜Ｘ８、式（２）における隣接するＸ２１〜Ｘ２８は互いに結合して置換または未置換のベンゼン環、あるいは置換または未置換のナフタレン環を形成していてもよい。また、式（１）におけるＺ１およびＺ２、式（２）におけるＺ３、ならびに式（３）におけるＺ４は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を表し、式（１）におけるｎは０または１を表す］
【発明の効果】
【００２０】
本発明により、電荷移動度が高く、電流のオン／オフ比が大きく、かつ保存安定性に優れた有機トランジスタを提供することが可能になった。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の有機トランジスタの模式的断面図である。
【図２】本発明の有機トランジスタの模式的断面図である。
【図３】本発明の有機トランジスタの模式的断面図である。
【図４】本発明の有機トランジスタの模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の有機トランジスタは、有機半導体層に一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物を少なくとも１種含有してなるものである。
【００２３】
【化２】
【００２４】
一般式（１）で表わされる化合物におけるＸ１〜Ｘ２０、一般式（２）で表わされる化合物におけるＸ２１〜Ｘ２８、ならびに一般式（３）で表わされる化合物におけるＸ２９〜Ｘ４０は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未置換のアリール基を表し、
好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは炭素数４〜２０の置換または未置換のアリール基を表し、
より好ましくは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数１〜１６の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数１〜１６の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは炭素数６〜２０のアリール基を表す。
【００２５】
尚、本明細書において、アリール基とは、例えば、フェニル基、ナフチル基などの炭素環式芳香族基、例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基などの複素環式芳香族基を表す。尚、アリール基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは炭素数４〜２０の前記ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基で置換されていてもよいアリール基などが挙げられる。
【００２６】
（置換基の具体例）
一般式（１）における置換基Ｘ１〜Ｘ２０、一般式（２）における置換基Ｘ２１〜Ｘ２８、ならびに一般式（３）における置換基Ｘ２９〜Ｘ４０の具体例としては、例えば、水素原子；例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子；例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルペンチル基、４−メチル−２−ペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、１−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、２−プロピルペンチル基、ｎ−ノニル基、２，２−ジメチルヘプチル基、２，６−ジメチル−４−ヘプチル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、１−メチルデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、１−ヘキシルヘプチル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−エイコシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの直鎖、分岐または環状のアルキル基；
例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、３，３−ジメチルブチルオキシ基、２−エチルブチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−トリデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基、ｎ−ヘプタデシルオキシ基、ｎ−オクタデシルオキシ基、ｎ−エイコシルオキシ基などの直鎖、分岐または環状のアルコキシ基；
【００２７】
例えば、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−ｎ−プロピルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、４−ｎ−ブチルフェニル基、４−イソブチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−イソペンチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル基、４−ｎ−ヘキシルフェニル基、４−シクロヘキシルフェニル基、４−ｎ−ヘプチルフェニル基、４−ｎ−オクチルフェニル基、４−ｎ−ノニルフェニル基、４−ｎ−デシルフェニル基、４−ｎ−ウンデシルフェニル基、４−ｎ−ドデシルフェニル基、４−ｎ−テトラデシルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、５−インダニル基、１，２，３，４−テトラヒドロ−５−ナフチル基、１，２，３，４−テトラヒドロ−６−ナフチル基、
２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−ｎ−プロポキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、４−ｎ−ブトキシフェニル基、４−イソブトキシフェニル基、４−ｎ−ペンチルオキシフェニル基、４−ｎ−ヘキシルオキシフェニル基、４−シクロヘキシルオキシフェニル基、４−ｎ−ヘプチルオキシフェニル基、４−ｎ−オクチルオキシフェニル基、４−ｎ−ノニルオキシフェニル基、４−ｎ−デシルオキシフェニル基、４−ｎ−ウンデシルオキシフェニル基、４−ｎ−ドデシルオキシフェニル基、４−ｎ−テトラデシルオキシフェニル基、２，３−ジメトキシフェニル基、２，４−ジメトキシフェニル基、２，５−ジメトキシフェニル基、３，４−ジメトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、３，５−ジエトキシフェニル基、２−メトキシ−４−メチルフェニル基、２−メトキシ−５−メチルフェニル基、２−メチル−４−メトキシフェニル基、３−メチル−４−メトキシフェニル基、３−メチル−５−メトキシフェニル基、
２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、４−ブロモフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、２−メチル−４−クロロフェニル基、２−クロロ−４−メチルフェニル基、３−クロロ−４−メチルフェニル基、２−クロロ−４−メトキシフェニル基、３−メトキシ−４−フルオロフェニル基、３−メトキシ−４−クロロフェニル基、３−フルオロ−４−メトキシフェニル基、２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル基、４−フェニルフェニル基、３−フェニルフェニル基、４−（４’−メチルフェニル）フェニル基、４−（４’−メトキシフェニル）フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、４−メチル−１−ナフチル基、４−エトキシ−１−ナフチル基、６−ｎ−ブチル−２−ナフチル基、６−メトキシ−２−ナフチル基、７−エトキシ−２−ナフチル基、１−アントラセニル基、２−アントラセニル基、９−アントラセニル基、２−テトラセニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、９，９−ジ−ｎ−プロピル−２−フルオレニル基、２−フリル基、２−チエニル基、５−ｎ−プロピル−２−チエニル基、５−ｎ−ブチル−２−チエニル基、５−ｎ−ヘキシル−２−チエニル基、５−ｎ−オクチル−チエニル基、５−ｎ−デシル−２−チエニル基、５−ｎ−トリデシル−２−チエニル基、５−フェニル−２−チエニル基、５−（２’−チエニル）−２−チエニル基、５−（５’−ｎ−ブチル−２’−チエニル）−２−チエニル基、５−（５’−ｎ−ヘキシル−２’−チエニル）−２−チエニル基、５−（５’−ｎ−デシル−２’−チエニル）−２−チエニル基、３−チエニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基などの置換または未置換のアリール基を挙げることができる。
【００２８】
一般式（１）で表わされる化合物における隣接するＸ１〜Ｘ８、一般式（２）で表わされる化合物における隣接するＸ２１〜Ｘ２８は、互いに結合して置換または未置換のベンゼン環、あるいは置換または未置換のナフタレン環を形成していてもよい。
【００２９】
尚、形成されるベンゼン環およびナフタレン環は、置換基を有していてもよく、例えば、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未置換のアリール基などの置換基で置換されていてもよく、
好ましくは、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは炭素数４〜２０の置換または未置換のアリール基で置換されていてもよい。
【００３０】
置換基の具体例としては、例えば、一般式（１）で表わされる化合物におけるＸ１〜Ｘ２０、一般式（２）で表わされる化合物におけるＸ２１〜Ｘ２８、ならびに一般式（３）で表わされる化合物におけるＸ２９〜Ｘ４０で例示したハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未置換のアリール基を例示することができる。
【００３１】
さらに、一般式（１）におけるＺ１およびＺ２、一般式（２）におけるＺ３、ならびに一般式（３）におけるＺ４は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を表し、一般式（３）におけるＺ４は、好ましくは酸素原子を表す。
【００３２】
また、一般式（１）におけるｎは０または１を表す。
【００３３】
本発明の有機トランジスタにおいては、有機半導体層に一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物を少なくとも１種含有することが特徴であり、このことにより、従来にはない、電荷移動度が高く、電流のオン／オフ比が大きく、かつ保存安定性に優れた有機トランジスタを提供することが可能となる。
【００３４】
本発明に係る一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の化合物を挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３５】
【化３】
【００３６】
【化４】
【００３７】
【化５】
【００３８】
【化６】
【００３９】
【化７】
【００４０】
【化８】
【００４１】
【化９】
【００４２】
【化１０】
【００４３】
【化１１】
【００４４】
【化１２】
【００４５】
【化１３】
【００４６】
【化１４】
【００４７】
【化１５】
【００４８】
【化１６】
【００４９】
【化１７】
【００５０】
【化１８】
【００５１】
【化１９】
【００５２】
【化２０】
【００５３】
【化２１】
【００５４】
【化２２】
【００５５】
【化２３】
【００５６】
【化２４】
【００５７】
【化２５】
【００５８】
【化２６】
【００５９】
【化２７】
【００６０】
【化２８】
【００６１】
【化２９】
【００６２】
【化３０】
【００６３】
【化３１】
【００６４】
【化３２】
【００６５】
【化３３】
【００６６】
【化３４】
【００６７】
【化３５】
【００６８】
【化３６】
【００６９】
【化３７】
【００７０】
【化３８】
【００７１】
【化３９】
【００７２】
【化４０】
【００７３】
本発明に係る一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物は、それ自体公知の方法を参考にして製造することができる。
【００７４】
すなわち、一般式（１）で表される化合物は、例えば、一般式（４）または一般式（５）で表される化合物に、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム］を塩基の存在下で作用させることにより製造することができる［例えば、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，１０７、１７４（２００７）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００７５】
【化４１】
〔式中、Ｘ１〜Ｘ２０、Ｚ１、Ｚ２、ｎは一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ｙ１〜Ｙ４はハロゲン原子またはトリフルオロメチルスルフォニル基を表す〕
【００７６】
一般式（４）および一般式（５）において、Ｙ１〜Ｙ４で表されるハロゲン原子としては、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である。
【００７７】
一般式（１）において、Ｚ１およびＺ２が酸素原子である化合物は、例えば、一般式（６）で表される化合物に、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム］を塩基の存在下、一般式（７）および一般式（８）で表される化合物を作用させることにより製造することができる［例えば、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，７２、２３４５（１９９９）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００７８】
【化４２】
〔式中、Ｘ１〜Ｘ２０、ｎは一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ｚ１およびＺ２は酸素原子を表す〕
【００７９】
一般式（１）において、ｎが１である化合物は、例えば、一般式（９）で表される化合物に、酸化剤（例えば、塩化アルミニウム／塩化第二銅、塩化アルミニウム／塩化ナトリウム、三フッ化コバルト、トリフルオロ酢酸タリウム、四酢酸鉛、または塩化第二鉄）を作用させることにより製造することができる［例えば、Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１０２、６５０４（１９８０）、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，８７、３５７（１９８７）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００８０】
尚、一般式（９）で表される化合物は、例えば、一般式（１０）で表される化合物に、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム］および塩基の存在下、一般式（１１）および一般式（１２）で表される化合物を作用させることにより製造することができる［例えば、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，９５、２４５７（１９９５）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００８１】
【化４３】
〔式中、Ｘ１〜Ｘ２０、Ｚ１およびＺ２は一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ｙ５およびＹ６はハロゲン原子を表す〕
【００８２】
一般式（１０）において、Ｙ５およびＹ６で表されるハロゲン原子としては、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である。
【００８３】
一般式（２）で表される化合物は、例えば、一般式（１３）で表される化合物に、酸（例えば、メタンスルフォン酸）を作用させることにより製造することができる［例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５６、７０５５（１９９１）、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．，４０、７５７（２００３）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００８４】
【化４４】
〔式中、Ｘ２１〜Ｘ２８、Ｚ３は一般式（２）の場合と同じ意味を表す〕
【００８５】
一般式（２）において、Ｘ２１およびＸ２２が水素原子である一般式（１４）で表される化合物は、例えば、一般式（１５）で表される化合物と、ハロゲノ酢酸アルキルエステル（例えば、クロロ酢酸エチルエステル）を、塩基の存在下作用させた後、脱炭酸させて製造することができる［例えば、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．，２７、２２１３（１９９０）Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．，３２、１７（１９９５）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００８６】
【化４５】
〔式中、Ｘ２３〜Ｘ２８、Ｚ３は一般式（２）の場合と同じ意味を表す〕
【００８７】
一般式（２）において、Ｘ２１が直鎖、分岐または環状のアルキル基で表される化合物は、例えば、Ｘ２１が水素原子である化合物に、塩基（例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド）を作用させた後、直鎖、分岐または環状のアルキル化剤（例えば、アルキルハライド化合物、アルキルトシラート化合物）を作用させることにより製造することができる。
【００８８】
一般式（２）において、Ｘ２１がハロゲン原子で表される化合物は、例えば、Ｘ２１が水素原子である化合物に、塩基（例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド）を作用させた後、ハロゲン化剤（例えば、臭素、ヨウ素、Ｎ−フルオロ−Ｎ−（フェニルスルフォニル）ベンゼンスルフォンアミド、パーフルオロアルキルヨウ素、１，２−ジブロモテトラクロロエタン）を作用させることにより製造することができる。
【００８９】
一般式（２）において、Ｘ２１が置換または未置換のアリール基で表される化合物は、一般式（２）において、Ｘ２１がハロゲン原子である化合物と、置換または未置換のアリールホウ酸化合物を、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム］および塩基の存在下で作用させることにより製造することができる［例えば、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，９５、２４５７（１９９５）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００９０】
一般式（２）において、Ｘ２２がハロゲン原子で表される化合物は、例えば、Ｘ２２が水素原子である化合物に、ハロゲン化剤（例えば、Ｎ−クロロサクシイミド、Ｎ−ブロモサクシイミド）を作用させることにより製造することができる。
【００９１】
一般式（２）において、Ｚ３が酸素原子であり、Ｘ２１とＸ２２、およびＸ２３とＸ２４が互いに結合して置換または未置換のベンゼン環、あるいは置換または未置換のナフタレン環である化合物は、例えば、一般式（１６）で表される化合物に、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム］を塩基の存在下、１，２−ジブロモベンゼン誘導体、１，２−ジブロモナフタレン誘導体および／または２，３−ジブロモナフタレン誘導体を作用させることにより製造することができる［例えば、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，７２、２３４５（１９９９）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００９２】
【化４６】
〔式中、Ｘ２５〜Ｘ２８は一般式（２）の場合と同じ意味を表し、Ｚ３は酸素原子を表す〕
【００９３】
一般式（３）で表される化合物は、例えば、一般式（１７）で表される化合物に、酸（例えば、メタンスルフォン酸）を作用させることにより製造することができる［例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５６、７０５５（１９９１）、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．，４０、７５７（２００３）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００９４】
【化４７】
〔式中、Ｘ２９〜Ｘ４０、Ｚ４は一般式（２）の場合と同じ意味を表す〕
【００９５】
一般式（３）において、Ｘ２９およびＸ３０が水素原子である一般式（１８）で表される化合物は、例えば、一般式（１９）で表される化合物と、ハロゲノ酢酸アルキルエステル（例えば、クロロ酢酸エチルエステル）を塩基の存在下作用させた後、脱炭酸させて製造することができる［例えば、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．，２７、２２１３（１９９０）Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．，３２、１７（１９９５）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００９６】
【化４８】
〔式中、Ｘ３１〜Ｘ４０、Ｚ４は一般式（３）の場合と同じ意味を表す〕
【００９７】
一般式（３）において、Ｘ２９が直鎖、分岐または環状のアルキル基で表される化合物は、例えば、Ｘ２９が水素原子である化合物に、塩基（例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド）を作用させた後、直鎖、分岐または環状のアルキル化剤（例えば、アルキルハライド化合物、アルキルトシラート化合物）を作用させることにより製造することができる。
【００９８】
一般式（３）において、Ｘ２９がハロゲン原子で表される化合物は、例えば、Ｘ２９が水素原子である化合物に、塩基（例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド）を作用させた後、ハロゲン化剤（例えば、臭素、ヨウ素、Ｎ−フルオロ−Ｎ−（フェニルスルフォニル）ベンゼンスルフォンアミド、パーフルオロアルキルヨウ素、１，２−ジブロモテトラクロロエタン）を作用させることにより製造することができる。
【００９９】
一般式（３）において、Ｘ２９が置換または未置換のアリール基で表される化合物は、一般式（３）において、Ｘ２９がハロゲン原子である化合物と、置換または未置換のアリールホウ酸化合物を、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム］および塩基の存在下で作用させることにより製造することができる［例えば、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，９５、２４５７（１９９５）に記載の方法を参考にすることができる］。
【０１００】
一般式（３）において、Ｘ３０がハロゲン原子で表される化合物は、例えば、Ｘ３０が水素原子である化合物に、ハロゲン化剤（例えば、Ｎ−クロロサクシイミド、Ｎ−ブロモサクシイミド）を作用させることにより製造することができる。
【０１０１】
尚、本発明に係る一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物は、場合により使用した溶媒（例えば、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒）との溶媒和を形成した型で製造されることがあるが、本発明の有機トランジスタには、一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物の無溶媒和物は勿論、このような溶媒和物をも使用することができる。
【０１０２】
一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物を、有機トランジスタに使用する場合、再結晶法、カラムクロマトグラフィー法、昇華精製法などの精製方法、あるいはこれらの方法を併用して、純度を高めた化合物を使用することは好ましいことである。
【０１０３】
有機トランジスタは、通常、ソース電極、ドレイン電極およびゲート電極、およびゲート絶縁層、有機半導体層を有して成るものであり、本発明の有機トランジスタにおいては、該有機半導体層に一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種含有してなるものである。
【０１０４】
本発明の有機トランジスタの形態について、図面を参照しながら説明する。
【０１０５】
図１は本発明の有機トランジスタの一形態を示す模式的断面図である。この有機トランジスタの形態においては、基板１１上にゲート電極２１が設けられ、そのゲート電極上にゲート絶縁層３１が積層されており、その上に所定の間隔で形成されたソース電極６１およびドレイン電極４１が形成されており、さらにその上に有機半導体層５１が積層されている（ボトムゲート・ボトムコンタクト構造）。
【０１０６】
図２に示した有機トランジスタの形態においては、基板１２上にゲート電極２２が設けられ、そのゲート電極上にゲート絶縁層３２が積層されており、その上に有機半導体層５２が積層されており、さらにその上に、所定の間隔でソース電極６２およびドレイン電極４２が形成されている（ボトムゲート・トップコンタクト構造）。
【０１０７】
また、図３に示した有機トランジスタの形態においては、基板１３の上に、所定の間隔でソース電極６３およびドレイン電極４３が形成されており、その上に有機半導体層５３が積層されており、その上にゲート絶縁層３３が積層されており、さらにその上にゲート電極２３が設けられている（トップゲート・ボトムコンタクト構造）。
【０１０８】
図４に示した有機トランジスタの形態においては、基板１４の上に、有機半導体層５４が積層されており、その上に、所定の間隔でソース電極６４およびドレイン電極４４が形成されており、その上にゲート絶縁層３４が積層されており、さらにその上にゲート電極２４が設けられている（トップゲート・トップコンタクト構造）。
【０１０９】
このような構成を有する有機トランジスタでは、有機半導体層がチャネル領域を形成しており、ゲート電極に印加される電圧で、ソース電極とドレイン電極の間に流れる電流が制御されることによってオン／オフ動作する。
【０１１０】
本発明の有機トランジスタに使用する基板としては、特に限定するものではないが、一般には、ガラス、石英、シリコン単結晶、多結晶シリコン、アモルファスシリコン、プラスチック基板などを用いることができる。さらには、これらを組み合わせた複合基板も用いることができ、一層構造でも、多層構造の形態でもよい。
【０１１１】
プラスチック基板としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリイミド、ボリカーボネート、トリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートなどからなる基板が挙げられる。
【０１１２】
尚、導電性のある基板、例えば、シリコンを基板に用いた場合、その基板はゲート電極を兼ねることもできる。
【０１１３】
本発明の有機トランジスタにおいて、ソース電極、ドレイン電極、およびゲート電極に用いる材料としては特に限定するものではなく、導電性の材料であれば任意に用いることができる。
【０１１４】
電極材料としては、例えば、酸化インジウムスズ合金（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＮＥＳＡ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化モリブデン、金、銀、白金、銅、インジウム、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、クロム、鉄、錫、タンタル、パラジウム、テルル、イリジウム、ルテニウム、ゲルマニウム、タングステン、モリブデン、リチウム、ベリリウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、亜鉛、マグネシウム／インジウム合金、マグネシウム／銅合金、マグネシウム／銀合金、マグネシウム／アルミニウム合金、クロム／モリブデン合金、アルミニウム／リチウム合金、アルミニウム／スカンジウム／リチウム合金、ナトリウム／カリウム合金などの金属や合金、さらには、フッ素ドープ酸化亜鉛、導電率を向上させたシリコン単結晶、多結晶シリコン、アモルファスシリコン等のシリコン系材料、カーボンブラック、グラファイト、グラッシーカーボン等の炭素材料などを挙げることができ、より好ましくは、酸化インジウムスズ合金、金、銀、白金、銅、インジウム、アルミニウム、導電率を向上させたシリコン系材料、炭素材料である。これらはバルク状、薄片状、微粒子状など様々な形態で使用できる。
【０１１５】
また、電極材料としては、ドーピング処理などで導電率を向上させた導電性ポリマー（例えば、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）とポリスチレンスルホン酸の錯体など）も好適に用いられる。
【０１１６】
尚、これらの電極材料は、１種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。
【０１１７】
ソース電極、ドレイン電極は、上に挙げた電極材料の中でも、有機半導体層との接触面において電気抵抗が小さいものが好ましい。
【０１１８】
各電極の形成方法としては、特に限定するものではないが、例えば、導電性の材料を、蒸着やスパッタリングなどの方法を用いて形成することができ、リソグラフやエッチング処理により、所望の形状にパターニングできる。
【０１１９】
また、導電性ポリマーや導電性微粒子を用いて電極を形成する場合には、導電性ポリマーの溶液あるいは分散液、導電性微粒子の分散液を、インクジェット法によりパターニングしてもよく、塗工膜からリソグラフやレーザーアブレーションなどにより形成してもよい。さらには、導電性ポリマーや導電性微粒子を含むインク、導電性ペースト（銀ペースト、カーボンペーストなど）などを凸版、凹版、平版、スクリーン印刷などの印刷法でパターニングする方法を用いることもできる。
【０１２０】
ソース電極、ドレイン電極の膜厚は、特に限定するものではないが、一般に、数ｎｍ〜数百μｍの範囲に設定することが好ましく、より好ましくは、１ｎｍ〜１００μｍであり、さらに好ましくは、１０ｎｍ〜２０μｍである。
【０１２１】
尚、ソース電極、ドレイン電極は、互いに対向するように配置されるが、その間隔（チャネル長）は、一般に、数百ｎｍ〜数ｍｍの範囲に設定することが好ましく、より好ましくは、１００ｎｍ〜１ｍｍであり、さらに好ましくは、１μｍ〜５００μｍである。
【０１２２】
ゲート絶縁層に使用する材料としては、種々の絶縁材料を用いることができ、無機絶縁体あるいは有機高分子化合物が好ましい。
【０１２３】
無機絶縁体としては、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、窒化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化タンタル、酸化チタン、酸化スズ、酸化バナジウム、チタン酸バリウムストロンチウム、ジルコニウム酸チタン酸バリウム、ジルコニウム酸チタン酸鉛、チタン酸鉛ランタン、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、フッ化バリウムマグネシウム、チタン酸ビスマス、チタン酸ストロンチウムビスマス、タンタル酸ストロンチウムビスマス、タンタル酸ニオブ酸ビスマス、トリオキサイドイットリウムなどを挙げることができ、より好ましくは、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化チタンである。
【０１２４】
無機絶縁体からなるゲート絶縁層の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、分子線エピタキシャル成長法、イオンクラスタービーム法、低エネルギーイオンビーム法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、スパッタリング法、大気圧プラズマ法などのドライプロセス、さらには、スプレーコート法、スピンコート法、ブレードコート法、ディップコート法、キャスト法、ロールコート法、バーコート法、ダイコート法、エアーナイフ法、スライドホッパー法、エクストリュージョン法などの塗布法、各種印刷法やインクジェット法などのウェットプロセスを挙げることができ、使用する材料の特性に応じて適宜選択して適用することができる。また、シリコン系材料をゲート電極として用い、有機半導体層形成前にゲート絶縁層を形成する場合には、熱酸化法で形成してもよい。
【０１２５】
ゲート絶縁層に用いる有機高分子化合物としては、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、ポリアクリレート、光ラジカル重合系の光硬化性樹脂、光カチオン重合系の光硬化性樹脂、あるいはアクリロニトリル成分を含有する共重合体、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ノボラック樹脂、ポリフッ化ビニリデン、シアノエチルプルランなどを用いることができる。有機高分子化合物を用いたゲート絶縁層の形成法としては、ウェットプロセスが好ましい。
【０１２６】
ゲート絶縁層に使用する絶縁材料は、１種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。
【０１２７】
尚、ゲート絶縁層に無機絶縁体として、例えば、酸化ケイ素を使用する場合、有機半導体層との界面になる酸化ケイ素の表面は、例えば、ヘキサメチルジシラザン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクチルトリクロロシラン、オクタデシルトリクロロシラン、ベンジルトリクロロシラン、１−ヘキシルフォスフォン酸、１−オクチルフォスフォン酸、１−ヘキサデシルフォスフォン酸、３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデシルフォスフォン酸などで処理されていてもよい。
【０１２８】
また、有機高分子化合物をゲート絶縁層に使用し、ゲート絶縁層を形成した後に有機半導体層を形成する場合は、有機高分子化合物からなるゲート絶縁層上にラビング処理を施してから有機半導体層を形成するようにしてもよい。
【０１２９】
ゲート絶縁層の膜厚は、特に限定するものではないが、一般に、数ｎｍ〜数十μｍの範囲に設定することが好ましく、より好ましくは、５ｎｍ〜１０μｍであり、さらに好ましくは、１０ｎｍ〜５μｍである。
【０１３０】
本発明の有機トランジスタは、有機半導体層に一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種含有してなるものであり、一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物は、１種を単独で使用してもよく、複数種を併用してもよい。
【０１３１】
さらに、有機半導体層は、一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物と、他の化合物（例えば、ポリアセチレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリチエニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリピロール誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリキノリン誘導体、ペリレン誘導体、テトラセン誘導体、ペンタセン誘導体、フタロシアニン誘導体など）を併用して形成されていてもよい。この場合、一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物の含有量は、２０質量％以上が好ましく、５０質量％以上になるように調製することがより好ましい。
【０１３２】
本発明の有機トランジスタは、ｐ型（正孔がキャリアとして機能する）の有機トランジスタ、またはｎ型（電子がキャリアとして機能する）の有機トランジスタとして機能するが、好ましくは、ｐ型の有機トランジスタとして使用するのが好ましい。
【０１３３】
有機半導体層の形成方法としては、特に限定するものではなく、公知の形成方法を用いることができる。
【０１３４】
形成方法としては、例えば、真空蒸着法、分子線エピタキシャル成長法、イオンクラスタービーム法、低エネルギーイオンビーム法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、スパッタリング法、プラズマ重合法、熱転写法、レーザー転写法などのドライプロセス、スプレーコート法、スピンコート法、ブレードコート法、ディップコート法、キャスト法、ロールコート法、バーコート法、ダイコート法、ＬＢ法（ラングミューア・ブロジュット法）、各種印刷法、インクジェット法などのウェットプロセスを挙げることができる。
【０１３５】
ウェットプロセスにより、有機半導体層の形成する場合は、一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物を、溶媒に溶解、または分散させた溶液を用いる。
【０１３６】
係る溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールなどのエーテル系溶媒、ヘキサン、オクタン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメンなどの炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、フルオロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル、グルタロジニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル系溶媒、ジメチルスルフォキサイド、スルフォラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどの非プロトン性極性溶媒などを挙げることができる。これらの溶媒は、１種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。
【０１３７】
係る溶媒中の一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物の濃度に関しては、特に制限するものではないが、一般には、０．０１〜２０質量％、より好ましくは、０．０５〜１５質量％程度に調製することが好ましい。
【０１３８】
有機半導体層の膜厚に関しては、特に制限するものではないが、一般に、数ｎｍ〜数十μｍの範囲に設定することが好ましく、より好ましくは、１ｎｍ〜１０μｍであり、さらに好ましくは、５ｎｍ〜１μｍである。
【０１３９】
本発明においては、有機半導体層の形成後、さらに所望により、後処理を施してもよい。
【０１４０】
例えば、有機半導体層の形成後に、熱処理を施して、形成時に生じた膜厚の歪を緩和したり、あるいは生成したピンホールなどの改善することが可能な場合がある。
【０１４１】
また、有機半導体層中の分子の配列、配向を制御するなどの目的で、熱処理を行うことは好ましい場合がある。
【０１４２】
熱処理の温度に関しては、特に制限するものではないが、室温〜２００℃程度、好ましくは、４０℃〜１５０℃で実施する。尚、熱処理は、空気中で実施してもよく、また窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で実施してもよい。
【０１４３】
本発明の有機トランジスタにおいては、所望により、有機半導体層はドーピング処理を施されていてもよい。
【０１４４】
尚、ドーパントとしては、ドナー性ドーパント、アクセプター性ドーパントのいずれも使用可能であり、アクセプター性ドーパントを使用することは好ましい。
【０１４５】
ドナー性ドーパントとしては、有機半導体層の有機化合物に電子を供与する機能を有する化合物であれば好適に用いることができる。
【０１４６】
ドナー性ドーパントとしては、例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓなどのアルカリ金属、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａなどのアルカリ土類金属、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｙｂなどの希土類金属、アンモニウムイオン、Ｒ４Ｐ＋（Ｒはアルキル基を表す）、Ｒ４Ａｓ＋（Ｒはアルキル基を表す）、Ｒ３Ｓ＋（Ｒはアルキル基を表す）、アセチルコリンなどが挙げられる。
【０１４７】
アクセプター性ドーパントとしては、有機半導体層の有機化合物から電子を取り去る機能を有する化合物であれば好適に用いることができる。アクセプター性ドーパントとしては、例えば、Ｃｌ２、Ｂｒ２、Ｉ２、ＩＣｌ、ＩＣｌ３、ＩＢｒ、ＩＦなどのハロゲン化合物、ＰＦ５、ＡｓＦ５、ＳｂＦ５、ＢＦ３、ＢＣｌ３、ＢＢｒ３、ＳＯ３などのルイス酸、ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＮＯ３、Ｈ２ＳＯ４、ＨＣｌＯ４、ＦＳＯ３Ｈ、ＣｌＳＯ３Ｈ、ＣＦ３ＳＯ３Ｈなどのプロトン酸、酢酸、蟻酸、アミノ酸などの有機酸、ＦｅＣｌ３、ＦｅＯＣｌ、ＴｉＣｌ４、ＺｒＣｌ４、ＨｆＣｌ４、ＮｂＦ５、ＮｂＣｌ５、ＴａＣｌ５、ＭｏＣｌ５、ＷＦ５、ＷＣｌ６、ＵＦ６、ＬｎＣｌ３（Ｌｎ＝Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、ＰｒなどのランタノイドとＹ）などの遷移金属化合物、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、ＣｌＯ４−、ＰＦ６−、ＡｓＦ５−、ＳｂＦ６−、ＢＦ４−、スルホン酸アニオンなどの電解質アニオンなどが挙げられる。尚、ドーピング方法としては、有機半導体層を形成した後に、ドーパントを導入する方法、あるいは有機半導体層の形成時に、ドーパントを導入する方法を適用することができる。
【０１４８】
また、本発明の有機トランジスタは、大気中の酸素、水分などの影響を軽減する目的で、有機トランジスタの外周面の全面、または一部にガスバリア層を設けることもできる。ガスバリア層を形成する材料としては、例えば、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどを挙げることができる。さらには、ゲート絶縁層に使用する材料として挙げた無機絶縁体もガスバリア層の形成に用いることができる。
【０１４９】
尚、本発明の有機トランジスタは、例えば、液晶表示素子、有機電界発光素子、電子ペーパー、各種センサー、ＲＦＩＤｓ（ｒａｄｉｏ ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ ｃａｒｄｓ）などに使用することができる。
【実施例】
【０１５０】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５１】
（実施例１）
ゲート電極としての抵抗率０．０２Ω・ｃｍのシリコン基板に、厚さ２００ｎｍの熱酸化膜（ＳｉＯ２）を形成した。ここで、シリコン基板自体がゲート電極となり、シリコン基板表面に形成されたＳｉＯ２層がゲート絶縁層となる。この上に、真空下（５×１０−４Ｐａ）で、例示化合物番号１の化合物を、蒸着速度０．０３ｎｍ／ｓｅｃの速度で、３０ｎｍの厚さに蒸着し、有機半導体層を形成した。さらに、この上に、マスクを用いて、金を蒸着してソース電極およびドレイン電極を形成した。尚、ソース電極およびドレイン電極の厚みは４０ｎｍであり、チャネル幅は５ｍｍ、チャネル長は２０μｍであった。
【０１５２】
以上のように作製した有機トランジスタは、ｐ型のトランジスタ素子としての特性を示した。有機トランジスタの電流―電圧（Ｉ−Ｖ）特性の飽和領域から、電荷移動度を求めた。
さらに、ドレインバイアス−５０Ｖとし、ゲートバイアス−５０Ｖおよび０Ｖにした時のドレイン電流値を測定し、電流のオン／オフ比を求めた。
さらに、作製した有機トランジスタ素子を大気中で、２５℃で、１ヶ月保存した後、再度、電荷移動度と電流のオン／オフ比を測定した。測定結果を第１表に示した。
【０１５３】
（実施例２〜１５）
実施例１において、有機半導体層の形成に際して、例示化合物番号１の化合物を使用する代わりに、例示化合物番号２の化合物（実施例２）、例示化合物番号９の化合物（実施例３）、例示化合物番号１６の化合物（実施例４）、例示化合物番号２５の化合物（実施例５）、例示化合物番号３３の化合物（実施例６）、例示化合物番号３７の化合物（実施例７）、例示化合物番号４１の化合物（実施例８）、例示化合物番号５１の化合物（実施例９）、例示化合物番号５３の化合物（実施例１０）、例示化合物番号７３の化合物（実施例１１）、例示化合物番号８８の化合物（実施例１２）、例示化合物番号９２の化合物（実施例１３）、例示化合物番号１１６の化合物（実施例１４）、例示化合物番号１４５の化合物（実施例１５）を使用した以外は、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタを作製した。
さらに、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタの特性を調べ、結果を第１表に示した。
【０１５４】
（比較例１）
実施例１において、有機半導体層の形成に際して、例示化合物番号１の化合物を使用する代わりに、ペンタセンを使用した以外は、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタを作製した。
さらに、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタの特性を調べ、結果を第１表に示した。
尚、１ヶ月放置後には、有機トランジスタとしての特性を示さなかった。
【０１５５】
（比較例２）
実施例１において、有機半導体層の形成に際して、例示化合物番号１の化合物を使用する代わりに、α−ヘキサチエニレンを使用した以外は、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタを作製した。
さらに、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタの特性を調べ、結果を第１表に示した。
【０１５６】
（比較例３）
実施例１において、有機半導体層の形成に際して、例示化合物番号１の化合物を使用する代わりに、ジベンゾ［ａ，ｊ］ナフタセンを使用した以外は、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタを作製した。
さらに、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタの特性を調べ、結果を第１表に示した。
【０１５７】
（比較例４）
実施例１において、有機半導体層の形成に際して、例示化合物番号１の化合物を使用する代わりに、ジベンゾ［ｄｅ，ｑｒ］ナフタセンを使用した以外は、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタを作製した。
さらに、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタの特性を調べ、結果を第１表に示した。
【０１５８】
（実施例１６）
ゲート電極としての抵抗率０．０２Ω・ｃｍのシリコン基板に、厚さ２００ｎｍの熱酸化膜（ＳｉＯ２）を形成した。ここで、シリコン基板自体がゲート電極となり、シリコン基板表面に形成されたＳｉＯ２層がゲート絶縁層となる。シリコン基板を８０℃に加熱しておき、その上に、例示化合物番号８の化合物のクロロベンゼン溶液（濃度：０．３質量％）を塗布したところ、クロロベンゼンが蒸発し、５０ｎｍの厚さの例示化合物番号８の化合物からなる有機半導体層が形成された。さらに、この上に、マスクを用いて、金を蒸着してソース電極およびドレイン電極を形成した。尚、ソース電極およびドレイン電極の厚みは４０ｎｍであり、チャネル幅は５ｍｍ、チャネル長は２０μｍであった。
さらに、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタの特性を調べたところ、移動度は、３．８×１０−２（ｃｍ２／Ｖｓｅｃ）であり、電流のオン／オフ比は３．４×１０５であった。
【０１５９】
（実施例１７）
実施例１６において、有機半導体層の形成に際して、例示化合物番号８の化合物を使用する代わりに、例示化合物番号１１１の化合物を使用した以外は、実施例１６に記載の方法により、有機トランジスタを作製した。
さらに、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタの特性を調べたところ、移動度は、３．４×１０−２（ｃｍ２／Ｖｓｅｃ）であり、電流のオン／オフ比は３．２×１０５であった。
【０１６０】
【表１】
【０１６１】
第１表より、本発明の有機トランジスタは、高い電荷移動度、大きな電流オン／オフ比を有し、有機トランジスタとして優れた特性を有しており、さらに経時変化が抑制された、安定性に優れた有機トランジスタであることが明らかである。
【産業上の利用可能性】
【０１６２】
本発明の有機トランジスタは、高い電荷移動度、大きな電流オン／オフ比を有し、かつ保存安定性に優れており、液晶表示素子、有機電界発光素子、電子ペーパー、各種センサー、ＲＦＩＤｓ（ｒａｄｉｏ ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ ｃａｒｄｓ）などに使用することができる。
【符号の説明】
【０１６３】
１１：基板
２１：ゲート電極
３１：ゲート絶縁層
４１：ドレイン電極
５１：有機半導体層
６１：ソース電極
１２：基板
２２：ゲート電極
３２：ゲート絶縁層
４２：ドレイン電極
５２：有機半導体層
６２：ソース電極
１３：基板
２３：ゲート電極
３３：ゲート絶縁層
４３：ドレイン電極
５３：有機半導体層
６３：ソース電極
１４：基板
２４：ゲート電極
３４：ゲート絶縁層
４４：ドレイン電極
５４：有機半導体層
６４：ソース電極
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機トランジスタに関する。さらに詳しくは、特定の有機化合物を有機半導体層に用いてなる有機トランジスタに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、アモルファスシリコンや多結晶シリコンを用いてなる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）は、液晶表示装置などのフラットパネル表示用のスイッチング素子として広く用いられている。しかし、これらシリコンを用いた薄膜トランジスタの作製に用いられるＣＶＤ装置は、高価であり、大型の薄膜トランジスタ素子の製造は、製造コストの増大を伴うという難点がある。
【０００３】
また、アモルファスシリコンや多結晶シリコンの成膜は、高温度下で実施されるため、基板としては、軽量で、フレキシビリティーではあるが、耐熱性に乏しいプラスチック材料などは使用できないという難点がある。
【０００４】
上記問題を解決するために、アモルファスシリコンや多結晶シリコンに代えて、有機化合物をチャネル半導体層（以下、有機半導体層という）に用いた有機トランジスタ（有機薄膜トランジスタ、有機ＴＦＴとも称される）が提案されている（非特許文献１）。
【０００５】
有機半導体層を形成する方法としては、例えば、真空蒸着法や塗布法などが知られており、これらの成膜方法によれば、製造コストを抑えつつ、有機トランジスタ素子の大型化が容易となる。
【０００６】
さらには、成膜時に必要となる温度を下げることができ、有機化合物を用いた有機トランジスタでは、基板にプラスチック材料を使用することが可能となり、フレキシブルな表示素子への適用が可能となり、その実用化に期待が集まっている。
【０００７】
実用的な有機トランジスタは、高い電荷移動度、および大きな電流オン／オフ比などの特性を有している必要がある。ここで「オン／オフ比」という用語は、有機トランジスタがオンであるときのソース電極とドレイン電極間の電流の、有機トランジスタがオフであるときのソース電極とドレイン電極間の電流に対する比を意味する。
さらには、有機トランジスタの実用化に向けては、優れた保存安定性が必要となる。
【０００８】
現在までに、有機半導体層に、例えば、ペンタセンを用いた有機トランジスタが提案されている（非特許文献２）。しかし、ペンタセンを用いてなる有機トランジスタは、大気中では有機トランジスタとしての機能は低く、且つ、保存安定性が低いという難点がある。
【０００９】
さらに、チオフェンオリゴマー（α−ヘキサチエニレン）を有機半導体層に用いた有機トランジスタが提案されている（非特許文献３）。しかし、該有機トランジスタも、空気中での保存安定性が低いという難点がある。
【００１０】
また、ジベンゾ［ａ，ｊ］ナフタセン、ジベンゾ［ｄｅ，ｑｒ］ナフタセンは、有機トランジスタの有機半導体層に有用であることが記載されている（特許文献１）。しかし、これらのジベンゾナフタセンを有機半導体層に使用した有機トランジスタは、電荷移動度が低いという難点があることが判明した。
【００１１】
現在では、実用化に向け、一層改良された有機トランジスタの開発が求められている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【００１２】
【非特許文献１】Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．，６３，１３７２（１９９３）
【非特許文献２】Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．，７２，１８５４（１９９８）
【非特許文献３】Ｓｃｉｅｎｃｅ，２６８，２７０（１９９５）
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特表２００５−５１９４８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
現在までに、種々の有機化合物を有機半導体層に用いた有機トランジスタの提案がなされているが、そのいずれもが、実用的に充分満足できる特性を有しているとはいい難いものであった。
【００１５】
本発明は、上述に鑑み、電荷移動度が高く、大きな電流オン／オフ比を有し、かつ保存安定性に優れた有機トランジスタを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明者は、前記課題を解決するため、鋭意検討した結果、一般式（１）〜一般式（３）で表わされる化合物を少なくとも１種、有機半導体層に含有してなる有機トランジスタは、電荷移動度が高く、大きな電流オン／オフ比を有し、かつ保存安定性に優れていることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１７】
すなわち、本発明は、
有機半導体層を有する有機トランジスタにおいて、該有機半導体層に一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物を少なくとも１種含有してなる有機トランジスタである。
【００１８】
【化１】
【００１９】
［式中、式（１）におけるＸ１〜Ｘ２０、式（２）におけるＸ２１〜Ｘ２８、ならびに式（３）におけるＸ２９〜Ｘ４０は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未置換のアリール基を表す。さらに、式（１）における隣接するＸ１〜Ｘ８、式（２）における隣接するＸ２１〜Ｘ２８は互いに結合して置換または未置換のベンゼン環、あるいは置換または未置換のナフタレン環を形成していてもよい。また、式（１）におけるＺ１およびＺ２、式（２）におけるＺ３、ならびに式（３）におけるＺ４は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を表し、式（１）におけるｎは０または１を表す］
【発明の効果】
【００２０】
本発明により、電荷移動度が高く、電流のオン／オフ比が大きく、かつ保存安定性に優れた有機トランジスタを提供することが可能になった。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の有機トランジスタの模式的断面図である。
【図２】本発明の有機トランジスタの模式的断面図である。
【図３】本発明の有機トランジスタの模式的断面図である。
【図４】本発明の有機トランジスタの模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の有機トランジスタは、有機半導体層に一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物を少なくとも１種含有してなるものである。
【００２３】
【化２】
【００２４】
一般式（１）で表わされる化合物におけるＸ１〜Ｘ２０、一般式（２）で表わされる化合物におけるＸ２１〜Ｘ２８、ならびに一般式（３）で表わされる化合物におけるＸ２９〜Ｘ４０は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未置換のアリール基を表し、
好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは炭素数４〜２０の置換または未置換のアリール基を表し、
より好ましくは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数１〜１６の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数１〜１６の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは炭素数６〜２０のアリール基を表す。
【００２５】
尚、本明細書において、アリール基とは、例えば、フェニル基、ナフチル基などの炭素環式芳香族基、例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基などの複素環式芳香族基を表す。尚、アリール基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは炭素数４〜２０の前記ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基で置換されていてもよいアリール基などが挙げられる。
【００２６】
（置換基の具体例）
一般式（１）における置換基Ｘ１〜Ｘ２０、一般式（２）における置換基Ｘ２１〜Ｘ２８、ならびに一般式（３）における置換基Ｘ２９〜Ｘ４０の具体例としては、例えば、水素原子；例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子；例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルペンチル基、４−メチル−２−ペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、１−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、２−プロピルペンチル基、ｎ−ノニル基、２，２−ジメチルヘプチル基、２，６−ジメチル−４−ヘプチル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、１−メチルデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、１−ヘキシルヘプチル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−エイコシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの直鎖、分岐または環状のアルキル基；
例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、３，３−ジメチルブチルオキシ基、２−エチルブチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−トリデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基、ｎ−ヘプタデシルオキシ基、ｎ−オクタデシルオキシ基、ｎ−エイコシルオキシ基などの直鎖、分岐または環状のアルコキシ基；
【００２７】
例えば、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−ｎ−プロピルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、４−ｎ−ブチルフェニル基、４−イソブチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−イソペンチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル基、４−ｎ−ヘキシルフェニル基、４−シクロヘキシルフェニル基、４−ｎ−ヘプチルフェニル基、４−ｎ−オクチルフェニル基、４−ｎ−ノニルフェニル基、４−ｎ−デシルフェニル基、４−ｎ−ウンデシルフェニル基、４−ｎ−ドデシルフェニル基、４−ｎ−テトラデシルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、５−インダニル基、１，２，３，４−テトラヒドロ−５−ナフチル基、１，２，３，４−テトラヒドロ−６−ナフチル基、
２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−ｎ−プロポキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、４−ｎ−ブトキシフェニル基、４−イソブトキシフェニル基、４−ｎ−ペンチルオキシフェニル基、４−ｎ−ヘキシルオキシフェニル基、４−シクロヘキシルオキシフェニル基、４−ｎ−ヘプチルオキシフェニル基、４−ｎ−オクチルオキシフェニル基、４−ｎ−ノニルオキシフェニル基、４−ｎ−デシルオキシフェニル基、４−ｎ−ウンデシルオキシフェニル基、４−ｎ−ドデシルオキシフェニル基、４−ｎ−テトラデシルオキシフェニル基、２，３−ジメトキシフェニル基、２，４−ジメトキシフェニル基、２，５−ジメトキシフェニル基、３，４−ジメトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、３，５−ジエトキシフェニル基、２−メトキシ−４−メチルフェニル基、２−メトキシ−５−メチルフェニル基、２−メチル−４−メトキシフェニル基、３−メチル−４−メトキシフェニル基、３−メチル−５−メトキシフェニル基、
２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、４−ブロモフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、２−メチル−４−クロロフェニル基、２−クロロ−４−メチルフェニル基、３−クロロ−４−メチルフェニル基、２−クロロ−４−メトキシフェニル基、３−メトキシ−４−フルオロフェニル基、３−メトキシ−４−クロロフェニル基、３−フルオロ−４−メトキシフェニル基、２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル基、４−フェニルフェニル基、３−フェニルフェニル基、４−（４’−メチルフェニル）フェニル基、４−（４’−メトキシフェニル）フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、４−メチル−１−ナフチル基、４−エトキシ−１−ナフチル基、６−ｎ−ブチル−２−ナフチル基、６−メトキシ−２−ナフチル基、７−エトキシ−２−ナフチル基、１−アントラセニル基、２−アントラセニル基、９−アントラセニル基、２−テトラセニル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、９，９−ジ−ｎ−プロピル−２−フルオレニル基、２−フリル基、２−チエニル基、５−ｎ−プロピル−２−チエニル基、５−ｎ−ブチル−２−チエニル基、５−ｎ−ヘキシル−２−チエニル基、５−ｎ−オクチル−チエニル基、５−ｎ−デシル−２−チエニル基、５−ｎ−トリデシル−２−チエニル基、５−フェニル−２−チエニル基、５−（２’−チエニル）−２−チエニル基、５−（５’−ｎ−ブチル−２’−チエニル）−２−チエニル基、５−（５’−ｎ−ヘキシル−２’−チエニル）−２−チエニル基、５−（５’−ｎ−デシル−２’−チエニル）−２−チエニル基、３−チエニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基などの置換または未置換のアリール基を挙げることができる。
【００２８】
一般式（１）で表わされる化合物における隣接するＸ１〜Ｘ８、一般式（２）で表わされる化合物における隣接するＸ２１〜Ｘ２８は、互いに結合して置換または未置換のベンゼン環、あるいは置換または未置換のナフタレン環を形成していてもよい。
【００２９】
尚、形成されるベンゼン環およびナフタレン環は、置換基を有していてもよく、例えば、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未置換のアリール基などの置換基で置換されていてもよく、
好ましくは、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは炭素数４〜２０の置換または未置換のアリール基で置換されていてもよい。
【００３０】
置換基の具体例としては、例えば、一般式（１）で表わされる化合物におけるＸ１〜Ｘ２０、一般式（２）で表わされる化合物におけるＸ２１〜Ｘ２８、ならびに一般式（３）で表わされる化合物におけるＸ２９〜Ｘ４０で例示したハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未置換のアリール基を例示することができる。
【００３１】
さらに、一般式（１）におけるＺ１およびＺ２、一般式（２）におけるＺ３、ならびに一般式（３）におけるＺ４は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を表し、一般式（３）におけるＺ４は、好ましくは酸素原子を表す。
【００３２】
また、一般式（１）におけるｎは０または１を表す。
【００３３】
本発明の有機トランジスタにおいては、有機半導体層に一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物を少なくとも１種含有することが特徴であり、このことにより、従来にはない、電荷移動度が高く、電流のオン／オフ比が大きく、かつ保存安定性に優れた有機トランジスタを提供することが可能となる。
【００３４】
本発明に係る一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の化合物を挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３５】
【化３】
【００３６】
【化４】
【００３７】
【化５】
【００３８】
【化６】
【００３９】
【化７】
【００４０】
【化８】
【００４１】
【化９】
【００４２】
【化１０】
【００４３】
【化１１】
【００４４】
【化１２】
【００４５】
【化１３】
【００４６】
【化１４】
【００４７】
【化１５】
【００４８】
【化１６】
【００４９】
【化１７】
【００５０】
【化１８】
【００５１】
【化１９】
【００５２】
【化２０】
【００５３】
【化２１】
【００５４】
【化２２】
【００５５】
【化２３】
【００５６】
【化２４】
【００５７】
【化２５】
【００５８】
【化２６】
【００５９】
【化２７】
【００６０】
【化２８】
【００６１】
【化２９】
【００６２】
【化３０】
【００６３】
【化３１】
【００６４】
【化３２】
【００６５】
【化３３】
【００６６】
【化３４】
【００６７】
【化３５】
【００６８】
【化３６】
【００６９】
【化３７】
【００７０】
【化３８】
【００７１】
【化３９】
【００７２】
【化４０】
【００７３】
本発明に係る一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物は、それ自体公知の方法を参考にして製造することができる。
【００７４】
すなわち、一般式（１）で表される化合物は、例えば、一般式（４）または一般式（５）で表される化合物に、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム］を塩基の存在下で作用させることにより製造することができる［例えば、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，１０７、１７４（２００７）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００７５】
【化４１】
〔式中、Ｘ１〜Ｘ２０、Ｚ１、Ｚ２、ｎは一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ｙ１〜Ｙ４はハロゲン原子またはトリフルオロメチルスルフォニル基を表す〕
【００７６】
一般式（４）および一般式（５）において、Ｙ１〜Ｙ４で表されるハロゲン原子としては、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である。
【００７７】
一般式（１）において、Ｚ１およびＺ２が酸素原子である化合物は、例えば、一般式（６）で表される化合物に、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム］を塩基の存在下、一般式（７）および一般式（８）で表される化合物を作用させることにより製造することができる［例えば、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，７２、２３４５（１９９９）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００７８】
【化４２】
〔式中、Ｘ１〜Ｘ２０、ｎは一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ｚ１およびＺ２は酸素原子を表す〕
【００７９】
一般式（１）において、ｎが１である化合物は、例えば、一般式（９）で表される化合物に、酸化剤（例えば、塩化アルミニウム／塩化第二銅、塩化アルミニウム／塩化ナトリウム、三フッ化コバルト、トリフルオロ酢酸タリウム、四酢酸鉛、または塩化第二鉄）を作用させることにより製造することができる［例えば、Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１０２、６５０４（１９８０）、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，８７、３５７（１９８７）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００８０】
尚、一般式（９）で表される化合物は、例えば、一般式（１０）で表される化合物に、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム］および塩基の存在下、一般式（１１）および一般式（１２）で表される化合物を作用させることにより製造することができる［例えば、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，９５、２４５７（１９９５）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００８１】
【化４３】
〔式中、Ｘ１〜Ｘ２０、Ｚ１およびＺ２は一般式（１）の場合と同じ意味を表し、Ｙ５およびＹ６はハロゲン原子を表す〕
【００８２】
一般式（１０）において、Ｙ５およびＹ６で表されるハロゲン原子としては、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である。
【００８３】
一般式（２）で表される化合物は、例えば、一般式（１３）で表される化合物に、酸（例えば、メタンスルフォン酸）を作用させることにより製造することができる［例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５６、７０５５（１９９１）、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．，４０、７５７（２００３）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００８４】
【化４４】
〔式中、Ｘ２１〜Ｘ２８、Ｚ３は一般式（２）の場合と同じ意味を表す〕
【００８５】
一般式（２）において、Ｘ２１およびＸ２２が水素原子である一般式（１４）で表される化合物は、例えば、一般式（１５）で表される化合物と、ハロゲノ酢酸アルキルエステル（例えば、クロロ酢酸エチルエステル）を、塩基の存在下作用させた後、脱炭酸させて製造することができる［例えば、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．，２７、２２１３（１９９０）Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．，３２、１７（１９９５）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００８６】
【化４５】
〔式中、Ｘ２３〜Ｘ２８、Ｚ３は一般式（２）の場合と同じ意味を表す〕
【００８７】
一般式（２）において、Ｘ２１が直鎖、分岐または環状のアルキル基で表される化合物は、例えば、Ｘ２１が水素原子である化合物に、塩基（例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド）を作用させた後、直鎖、分岐または環状のアルキル化剤（例えば、アルキルハライド化合物、アルキルトシラート化合物）を作用させることにより製造することができる。
【００８８】
一般式（２）において、Ｘ２１がハロゲン原子で表される化合物は、例えば、Ｘ２１が水素原子である化合物に、塩基（例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド）を作用させた後、ハロゲン化剤（例えば、臭素、ヨウ素、Ｎ−フルオロ−Ｎ−（フェニルスルフォニル）ベンゼンスルフォンアミド、パーフルオロアルキルヨウ素、１，２−ジブロモテトラクロロエタン）を作用させることにより製造することができる。
【００８９】
一般式（２）において、Ｘ２１が置換または未置換のアリール基で表される化合物は、一般式（２）において、Ｘ２１がハロゲン原子である化合物と、置換または未置換のアリールホウ酸化合物を、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム］および塩基の存在下で作用させることにより製造することができる［例えば、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，９５、２４５７（１９９５）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００９０】
一般式（２）において、Ｘ２２がハロゲン原子で表される化合物は、例えば、Ｘ２２が水素原子である化合物に、ハロゲン化剤（例えば、Ｎ−クロロサクシイミド、Ｎ−ブロモサクシイミド）を作用させることにより製造することができる。
【００９１】
一般式（２）において、Ｚ３が酸素原子であり、Ｘ２１とＸ２２、およびＸ２３とＸ２４が互いに結合して置換または未置換のベンゼン環、あるいは置換または未置換のナフタレン環である化合物は、例えば、一般式（１６）で表される化合物に、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム］を塩基の存在下、１，２−ジブロモベンゼン誘導体、１，２−ジブロモナフタレン誘導体および／または２，３−ジブロモナフタレン誘導体を作用させることにより製造することができる［例えば、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，７２、２３４５（１９９９）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００９２】
【化４６】
〔式中、Ｘ２５〜Ｘ２８は一般式（２）の場合と同じ意味を表し、Ｚ３は酸素原子を表す〕
【００９３】
一般式（３）で表される化合物は、例えば、一般式（１７）で表される化合物に、酸（例えば、メタンスルフォン酸）を作用させることにより製造することができる［例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５６、７０５５（１９９１）、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．，４０、７５７（２００３）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００９４】
【化４７】
〔式中、Ｘ２９〜Ｘ４０、Ｚ４は一般式（２）の場合と同じ意味を表す〕
【００９５】
一般式（３）において、Ｘ２９およびＸ３０が水素原子である一般式（１８）で表される化合物は、例えば、一般式（１９）で表される化合物と、ハロゲノ酢酸アルキルエステル（例えば、クロロ酢酸エチルエステル）を塩基の存在下作用させた後、脱炭酸させて製造することができる［例えば、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．，２７、２２１３（１９９０）Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．，３２、１７（１９９５）に記載の方法を参考にすることができる］。
【００９６】
【化４８】
〔式中、Ｘ３１〜Ｘ４０、Ｚ４は一般式（３）の場合と同じ意味を表す〕
【００９７】
一般式（３）において、Ｘ２９が直鎖、分岐または環状のアルキル基で表される化合物は、例えば、Ｘ２９が水素原子である化合物に、塩基（例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド）を作用させた後、直鎖、分岐または環状のアルキル化剤（例えば、アルキルハライド化合物、アルキルトシラート化合物）を作用させることにより製造することができる。
【００９８】
一般式（３）において、Ｘ２９がハロゲン原子で表される化合物は、例えば、Ｘ２９が水素原子である化合物に、塩基（例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド）を作用させた後、ハロゲン化剤（例えば、臭素、ヨウ素、Ｎ−フルオロ−Ｎ−（フェニルスルフォニル）ベンゼンスルフォンアミド、パーフルオロアルキルヨウ素、１，２−ジブロモテトラクロロエタン）を作用させることにより製造することができる。
【００９９】
一般式（３）において、Ｘ２９が置換または未置換のアリール基で表される化合物は、一般式（３）において、Ｘ２９がハロゲン原子である化合物と、置換または未置換のアリールホウ酸化合物を、パラジウム触媒［例えば、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウムジクロライド、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム］および塩基の存在下で作用させることにより製造することができる［例えば、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，９５、２４５７（１９９５）に記載の方法を参考にすることができる］。
【０１００】
一般式（３）において、Ｘ３０がハロゲン原子で表される化合物は、例えば、Ｘ３０が水素原子である化合物に、ハロゲン化剤（例えば、Ｎ−クロロサクシイミド、Ｎ−ブロモサクシイミド）を作用させることにより製造することができる。
【０１０１】
尚、本発明に係る一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物は、場合により使用した溶媒（例えば、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒）との溶媒和を形成した型で製造されることがあるが、本発明の有機トランジスタには、一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物の無溶媒和物は勿論、このような溶媒和物をも使用することができる。
【０１０２】
一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物を、有機トランジスタに使用する場合、再結晶法、カラムクロマトグラフィー法、昇華精製法などの精製方法、あるいはこれらの方法を併用して、純度を高めた化合物を使用することは好ましいことである。
【０１０３】
有機トランジスタは、通常、ソース電極、ドレイン電極およびゲート電極、およびゲート絶縁層、有機半導体層を有して成るものであり、本発明の有機トランジスタにおいては、該有機半導体層に一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種含有してなるものである。
【０１０４】
本発明の有機トランジスタの形態について、図面を参照しながら説明する。
【０１０５】
図１は本発明の有機トランジスタの一形態を示す模式的断面図である。この有機トランジスタの形態においては、基板１１上にゲート電極２１が設けられ、そのゲート電極上にゲート絶縁層３１が積層されており、その上に所定の間隔で形成されたソース電極６１およびドレイン電極４１が形成されており、さらにその上に有機半導体層５１が積層されている（ボトムゲート・ボトムコンタクト構造）。
【０１０６】
図２に示した有機トランジスタの形態においては、基板１２上にゲート電極２２が設けられ、そのゲート電極上にゲート絶縁層３２が積層されており、その上に有機半導体層５２が積層されており、さらにその上に、所定の間隔でソース電極６２およびドレイン電極４２が形成されている（ボトムゲート・トップコンタクト構造）。
【０１０７】
また、図３に示した有機トランジスタの形態においては、基板１３の上に、所定の間隔でソース電極６３およびドレイン電極４３が形成されており、その上に有機半導体層５３が積層されており、その上にゲート絶縁層３３が積層されており、さらにその上にゲート電極２３が設けられている（トップゲート・ボトムコンタクト構造）。
【０１０８】
図４に示した有機トランジスタの形態においては、基板１４の上に、有機半導体層５４が積層されており、その上に、所定の間隔でソース電極６４およびドレイン電極４４が形成されており、その上にゲート絶縁層３４が積層されており、さらにその上にゲート電極２４が設けられている（トップゲート・トップコンタクト構造）。
【０１０９】
このような構成を有する有機トランジスタでは、有機半導体層がチャネル領域を形成しており、ゲート電極に印加される電圧で、ソース電極とドレイン電極の間に流れる電流が制御されることによってオン／オフ動作する。
【０１１０】
本発明の有機トランジスタに使用する基板としては、特に限定するものではないが、一般には、ガラス、石英、シリコン単結晶、多結晶シリコン、アモルファスシリコン、プラスチック基板などを用いることができる。さらには、これらを組み合わせた複合基板も用いることができ、一層構造でも、多層構造の形態でもよい。
【０１１１】
プラスチック基板としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリイミド、ボリカーボネート、トリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートなどからなる基板が挙げられる。
【０１１２】
尚、導電性のある基板、例えば、シリコンを基板に用いた場合、その基板はゲート電極を兼ねることもできる。
【０１１３】
本発明の有機トランジスタにおいて、ソース電極、ドレイン電極、およびゲート電極に用いる材料としては特に限定するものではなく、導電性の材料であれば任意に用いることができる。
【０１１４】
電極材料としては、例えば、酸化インジウムスズ合金（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＮＥＳＡ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化モリブデン、金、銀、白金、銅、インジウム、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、クロム、鉄、錫、タンタル、パラジウム、テルル、イリジウム、ルテニウム、ゲルマニウム、タングステン、モリブデン、リチウム、ベリリウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、亜鉛、マグネシウム／インジウム合金、マグネシウム／銅合金、マグネシウム／銀合金、マグネシウム／アルミニウム合金、クロム／モリブデン合金、アルミニウム／リチウム合金、アルミニウム／スカンジウム／リチウム合金、ナトリウム／カリウム合金などの金属や合金、さらには、フッ素ドープ酸化亜鉛、導電率を向上させたシリコン単結晶、多結晶シリコン、アモルファスシリコン等のシリコン系材料、カーボンブラック、グラファイト、グラッシーカーボン等の炭素材料などを挙げることができ、より好ましくは、酸化インジウムスズ合金、金、銀、白金、銅、インジウム、アルミニウム、導電率を向上させたシリコン系材料、炭素材料である。これらはバルク状、薄片状、微粒子状など様々な形態で使用できる。
【０１１５】
また、電極材料としては、ドーピング処理などで導電率を向上させた導電性ポリマー（例えば、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）とポリスチレンスルホン酸の錯体など）も好適に用いられる。
【０１１６】
尚、これらの電極材料は、１種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。
【０１１７】
ソース電極、ドレイン電極は、上に挙げた電極材料の中でも、有機半導体層との接触面において電気抵抗が小さいものが好ましい。
【０１１８】
各電極の形成方法としては、特に限定するものではないが、例えば、導電性の材料を、蒸着やスパッタリングなどの方法を用いて形成することができ、リソグラフやエッチング処理により、所望の形状にパターニングできる。
【０１１９】
また、導電性ポリマーや導電性微粒子を用いて電極を形成する場合には、導電性ポリマーの溶液あるいは分散液、導電性微粒子の分散液を、インクジェット法によりパターニングしてもよく、塗工膜からリソグラフやレーザーアブレーションなどにより形成してもよい。さらには、導電性ポリマーや導電性微粒子を含むインク、導電性ペースト（銀ペースト、カーボンペーストなど）などを凸版、凹版、平版、スクリーン印刷などの印刷法でパターニングする方法を用いることもできる。
【０１２０】
ソース電極、ドレイン電極の膜厚は、特に限定するものではないが、一般に、数ｎｍ〜数百μｍの範囲に設定することが好ましく、より好ましくは、１ｎｍ〜１００μｍであり、さらに好ましくは、１０ｎｍ〜２０μｍである。
【０１２１】
尚、ソース電極、ドレイン電極は、互いに対向するように配置されるが、その間隔（チャネル長）は、一般に、数百ｎｍ〜数ｍｍの範囲に設定することが好ましく、より好ましくは、１００ｎｍ〜１ｍｍであり、さらに好ましくは、１μｍ〜５００μｍである。
【０１２２】
ゲート絶縁層に使用する材料としては、種々の絶縁材料を用いることができ、無機絶縁体あるいは有機高分子化合物が好ましい。
【０１２３】
無機絶縁体としては、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、窒化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化タンタル、酸化チタン、酸化スズ、酸化バナジウム、チタン酸バリウムストロンチウム、ジルコニウム酸チタン酸バリウム、ジルコニウム酸チタン酸鉛、チタン酸鉛ランタン、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、フッ化バリウムマグネシウム、チタン酸ビスマス、チタン酸ストロンチウムビスマス、タンタル酸ストロンチウムビスマス、タンタル酸ニオブ酸ビスマス、トリオキサイドイットリウムなどを挙げることができ、より好ましくは、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化チタンである。
【０１２４】
無機絶縁体からなるゲート絶縁層の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、分子線エピタキシャル成長法、イオンクラスタービーム法、低エネルギーイオンビーム法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、スパッタリング法、大気圧プラズマ法などのドライプロセス、さらには、スプレーコート法、スピンコート法、ブレードコート法、ディップコート法、キャスト法、ロールコート法、バーコート法、ダイコート法、エアーナイフ法、スライドホッパー法、エクストリュージョン法などの塗布法、各種印刷法やインクジェット法などのウェットプロセスを挙げることができ、使用する材料の特性に応じて適宜選択して適用することができる。また、シリコン系材料をゲート電極として用い、有機半導体層形成前にゲート絶縁層を形成する場合には、熱酸化法で形成してもよい。
【０１２５】
ゲート絶縁層に用いる有機高分子化合物としては、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、ポリアクリレート、光ラジカル重合系の光硬化性樹脂、光カチオン重合系の光硬化性樹脂、あるいはアクリロニトリル成分を含有する共重合体、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ノボラック樹脂、ポリフッ化ビニリデン、シアノエチルプルランなどを用いることができる。有機高分子化合物を用いたゲート絶縁層の形成法としては、ウェットプロセスが好ましい。
【０１２６】
ゲート絶縁層に使用する絶縁材料は、１種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。
【０１２７】
尚、ゲート絶縁層に無機絶縁体として、例えば、酸化ケイ素を使用する場合、有機半導体層との界面になる酸化ケイ素の表面は、例えば、ヘキサメチルジシラザン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクチルトリクロロシラン、オクタデシルトリクロロシラン、ベンジルトリクロロシラン、１−ヘキシルフォスフォン酸、１−オクチルフォスフォン酸、１−ヘキサデシルフォスフォン酸、３，７，１１，１５−テトラメチル−１−ヘキサデシルフォスフォン酸などで処理されていてもよい。
【０１２８】
また、有機高分子化合物をゲート絶縁層に使用し、ゲート絶縁層を形成した後に有機半導体層を形成する場合は、有機高分子化合物からなるゲート絶縁層上にラビング処理を施してから有機半導体層を形成するようにしてもよい。
【０１２９】
ゲート絶縁層の膜厚は、特に限定するものではないが、一般に、数ｎｍ〜数十μｍの範囲に設定することが好ましく、より好ましくは、５ｎｍ〜１０μｍであり、さらに好ましくは、１０ｎｍ〜５μｍである。
【０１３０】
本発明の有機トランジスタは、有機半導体層に一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種含有してなるものであり、一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物は、１種を単独で使用してもよく、複数種を併用してもよい。
【０１３１】
さらに、有機半導体層は、一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物と、他の化合物（例えば、ポリアセチレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリチエニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリピロール誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリキノリン誘導体、ペリレン誘導体、テトラセン誘導体、ペンタセン誘導体、フタロシアニン誘導体など）を併用して形成されていてもよい。この場合、一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物の含有量は、２０質量％以上が好ましく、５０質量％以上になるように調製することがより好ましい。
【０１３２】
本発明の有機トランジスタは、ｐ型（正孔がキャリアとして機能する）の有機トランジスタ、またはｎ型（電子がキャリアとして機能する）の有機トランジスタとして機能するが、好ましくは、ｐ型の有機トランジスタとして使用するのが好ましい。
【０１３３】
有機半導体層の形成方法としては、特に限定するものではなく、公知の形成方法を用いることができる。
【０１３４】
形成方法としては、例えば、真空蒸着法、分子線エピタキシャル成長法、イオンクラスタービーム法、低エネルギーイオンビーム法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、スパッタリング法、プラズマ重合法、熱転写法、レーザー転写法などのドライプロセス、スプレーコート法、スピンコート法、ブレードコート法、ディップコート法、キャスト法、ロールコート法、バーコート法、ダイコート法、ＬＢ法（ラングミューア・ブロジュット法）、各種印刷法、インクジェット法などのウェットプロセスを挙げることができる。
【０１３５】
ウェットプロセスにより、有機半導体層の形成する場合は、一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物を、溶媒に溶解、または分散させた溶液を用いる。
【０１３６】
係る溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールなどのエーテル系溶媒、ヘキサン、オクタン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメンなどの炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、フルオロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル、グルタロジニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル系溶媒、ジメチルスルフォキサイド、スルフォラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどの非プロトン性極性溶媒などを挙げることができる。これらの溶媒は、１種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。
【０１３７】
係る溶媒中の一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物の濃度に関しては、特に制限するものではないが、一般には、０．０１〜２０質量％、より好ましくは、０．０５〜１５質量％程度に調製することが好ましい。
【０１３８】
有機半導体層の膜厚に関しては、特に制限するものではないが、一般に、数ｎｍ〜数十μｍの範囲に設定することが好ましく、より好ましくは、１ｎｍ〜１０μｍであり、さらに好ましくは、５ｎｍ〜１μｍである。
【０１３９】
本発明においては、有機半導体層の形成後、さらに所望により、後処理を施してもよい。
【０１４０】
例えば、有機半導体層の形成後に、熱処理を施して、形成時に生じた膜厚の歪を緩和したり、あるいは生成したピンホールなどの改善することが可能な場合がある。
【０１４１】
また、有機半導体層中の分子の配列、配向を制御するなどの目的で、熱処理を行うことは好ましい場合がある。
【０１４２】
熱処理の温度に関しては、特に制限するものではないが、室温〜２００℃程度、好ましくは、４０℃〜１５０℃で実施する。尚、熱処理は、空気中で実施してもよく、また窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で実施してもよい。
【０１４３】
本発明の有機トランジスタにおいては、所望により、有機半導体層はドーピング処理を施されていてもよい。
【０１４４】
尚、ドーパントとしては、ドナー性ドーパント、アクセプター性ドーパントのいずれも使用可能であり、アクセプター性ドーパントを使用することは好ましい。
【０１４５】
ドナー性ドーパントとしては、有機半導体層の有機化合物に電子を供与する機能を有する化合物であれば好適に用いることができる。
【０１４６】
ドナー性ドーパントとしては、例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓなどのアルカリ金属、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａなどのアルカリ土類金属、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｙｂなどの希土類金属、アンモニウムイオン、Ｒ４Ｐ＋（Ｒはアルキル基を表す）、Ｒ４Ａｓ＋（Ｒはアルキル基を表す）、Ｒ３Ｓ＋（Ｒはアルキル基を表す）、アセチルコリンなどが挙げられる。
【０１４７】
アクセプター性ドーパントとしては、有機半導体層の有機化合物から電子を取り去る機能を有する化合物であれば好適に用いることができる。アクセプター性ドーパントとしては、例えば、Ｃｌ２、Ｂｒ２、Ｉ２、ＩＣｌ、ＩＣｌ３、ＩＢｒ、ＩＦなどのハロゲン化合物、ＰＦ５、ＡｓＦ５、ＳｂＦ５、ＢＦ３、ＢＣｌ３、ＢＢｒ３、ＳＯ３などのルイス酸、ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＮＯ３、Ｈ２ＳＯ４、ＨＣｌＯ４、ＦＳＯ３Ｈ、ＣｌＳＯ３Ｈ、ＣＦ３ＳＯ３Ｈなどのプロトン酸、酢酸、蟻酸、アミノ酸などの有機酸、ＦｅＣｌ３、ＦｅＯＣｌ、ＴｉＣｌ４、ＺｒＣｌ４、ＨｆＣｌ４、ＮｂＦ５、ＮｂＣｌ５、ＴａＣｌ５、ＭｏＣｌ５、ＷＦ５、ＷＣｌ６、ＵＦ６、ＬｎＣｌ３（Ｌｎ＝Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、ＰｒなどのランタノイドとＹ）などの遷移金属化合物、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、ＣｌＯ４−、ＰＦ６−、ＡｓＦ５−、ＳｂＦ６−、ＢＦ４−、スルホン酸アニオンなどの電解質アニオンなどが挙げられる。尚、ドーピング方法としては、有機半導体層を形成した後に、ドーパントを導入する方法、あるいは有機半導体層の形成時に、ドーパントを導入する方法を適用することができる。
【０１４８】
また、本発明の有機トランジスタは、大気中の酸素、水分などの影響を軽減する目的で、有機トランジスタの外周面の全面、または一部にガスバリア層を設けることもできる。ガスバリア層を形成する材料としては、例えば、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどを挙げることができる。さらには、ゲート絶縁層に使用する材料として挙げた無機絶縁体もガスバリア層の形成に用いることができる。
【０１４９】
尚、本発明の有機トランジスタは、例えば、液晶表示素子、有機電界発光素子、電子ペーパー、各種センサー、ＲＦＩＤｓ（ｒａｄｉｏ ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ ｃａｒｄｓ）などに使用することができる。
【実施例】
【０１５０】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５１】
（実施例１）
ゲート電極としての抵抗率０．０２Ω・ｃｍのシリコン基板に、厚さ２００ｎｍの熱酸化膜（ＳｉＯ２）を形成した。ここで、シリコン基板自体がゲート電極となり、シリコン基板表面に形成されたＳｉＯ２層がゲート絶縁層となる。この上に、真空下（５×１０−４Ｐａ）で、例示化合物番号１の化合物を、蒸着速度０．０３ｎｍ／ｓｅｃの速度で、３０ｎｍの厚さに蒸着し、有機半導体層を形成した。さらに、この上に、マスクを用いて、金を蒸着してソース電極およびドレイン電極を形成した。尚、ソース電極およびドレイン電極の厚みは４０ｎｍであり、チャネル幅は５ｍｍ、チャネル長は２０μｍであった。
【０１５２】
以上のように作製した有機トランジスタは、ｐ型のトランジスタ素子としての特性を示した。有機トランジスタの電流―電圧（Ｉ−Ｖ）特性の飽和領域から、電荷移動度を求めた。
さらに、ドレインバイアス−５０Ｖとし、ゲートバイアス−５０Ｖおよび０Ｖにした時のドレイン電流値を測定し、電流のオン／オフ比を求めた。
さらに、作製した有機トランジスタ素子を大気中で、２５℃で、１ヶ月保存した後、再度、電荷移動度と電流のオン／オフ比を測定した。測定結果を第１表に示した。
【０１５３】
（実施例２〜１５）
実施例１において、有機半導体層の形成に際して、例示化合物番号１の化合物を使用する代わりに、例示化合物番号２の化合物（実施例２）、例示化合物番号９の化合物（実施例３）、例示化合物番号１６の化合物（実施例４）、例示化合物番号２５の化合物（実施例５）、例示化合物番号３３の化合物（実施例６）、例示化合物番号３７の化合物（実施例７）、例示化合物番号４１の化合物（実施例８）、例示化合物番号５１の化合物（実施例９）、例示化合物番号５３の化合物（実施例１０）、例示化合物番号７３の化合物（実施例１１）、例示化合物番号８８の化合物（実施例１２）、例示化合物番号９２の化合物（実施例１３）、例示化合物番号１１６の化合物（実施例１４）、例示化合物番号１４５の化合物（実施例１５）を使用した以外は、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタを作製した。
さらに、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタの特性を調べ、結果を第１表に示した。
【０１５４】
（比較例１）
実施例１において、有機半導体層の形成に際して、例示化合物番号１の化合物を使用する代わりに、ペンタセンを使用した以外は、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタを作製した。
さらに、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタの特性を調べ、結果を第１表に示した。
尚、１ヶ月放置後には、有機トランジスタとしての特性を示さなかった。
【０１５５】
（比較例２）
実施例１において、有機半導体層の形成に際して、例示化合物番号１の化合物を使用する代わりに、α−ヘキサチエニレンを使用した以外は、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタを作製した。
さらに、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタの特性を調べ、結果を第１表に示した。
【０１５６】
（比較例３）
実施例１において、有機半導体層の形成に際して、例示化合物番号１の化合物を使用する代わりに、ジベンゾ［ａ，ｊ］ナフタセンを使用した以外は、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタを作製した。
さらに、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタの特性を調べ、結果を第１表に示した。
【０１５７】
（比較例４）
実施例１において、有機半導体層の形成に際して、例示化合物番号１の化合物を使用する代わりに、ジベンゾ［ｄｅ，ｑｒ］ナフタセンを使用した以外は、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタを作製した。
さらに、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタの特性を調べ、結果を第１表に示した。
【０１５８】
（実施例１６）
ゲート電極としての抵抗率０．０２Ω・ｃｍのシリコン基板に、厚さ２００ｎｍの熱酸化膜（ＳｉＯ２）を形成した。ここで、シリコン基板自体がゲート電極となり、シリコン基板表面に形成されたＳｉＯ２層がゲート絶縁層となる。シリコン基板を８０℃に加熱しておき、その上に、例示化合物番号８の化合物のクロロベンゼン溶液（濃度：０．３質量％）を塗布したところ、クロロベンゼンが蒸発し、５０ｎｍの厚さの例示化合物番号８の化合物からなる有機半導体層が形成された。さらに、この上に、マスクを用いて、金を蒸着してソース電極およびドレイン電極を形成した。尚、ソース電極およびドレイン電極の厚みは４０ｎｍであり、チャネル幅は５ｍｍ、チャネル長は２０μｍであった。
さらに、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタの特性を調べたところ、移動度は、３．８×１０−２（ｃｍ２／Ｖｓｅｃ）であり、電流のオン／オフ比は３．４×１０５であった。
【０１５９】
（実施例１７）
実施例１６において、有機半導体層の形成に際して、例示化合物番号８の化合物を使用する代わりに、例示化合物番号１１１の化合物を使用した以外は、実施例１６に記載の方法により、有機トランジスタを作製した。
さらに、実施例１に記載の方法により、有機トランジスタの特性を調べたところ、移動度は、３．４×１０−２（ｃｍ２／Ｖｓｅｃ）であり、電流のオン／オフ比は３．２×１０５であった。
【０１６０】
【表１】
【０１６１】
第１表より、本発明の有機トランジスタは、高い電荷移動度、大きな電流オン／オフ比を有し、有機トランジスタとして優れた特性を有しており、さらに経時変化が抑制された、安定性に優れた有機トランジスタであることが明らかである。
【産業上の利用可能性】
【０１６２】
本発明の有機トランジスタは、高い電荷移動度、大きな電流オン／オフ比を有し、かつ保存安定性に優れており、液晶表示素子、有機電界発光素子、電子ペーパー、各種センサー、ＲＦＩＤｓ（ｒａｄｉｏ ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ ｃａｒｄｓ）などに使用することができる。
【符号の説明】
【０１６３】
１１：基板
２１：ゲート電極
３１：ゲート絶縁層
４１：ドレイン電極
５１：有機半導体層
６１：ソース電極
１２：基板
２２：ゲート電極
３２：ゲート絶縁層
４２：ドレイン電極
５２：有機半導体層
６２：ソース電極
１３：基板
２３：ゲート電極
３３：ゲート絶縁層
４３：ドレイン電極
５３：有機半導体層
６３：ソース電極
１４：基板
２４：ゲート電極
３４：ゲート絶縁層
４４：ドレイン電極
５４：有機半導体層
６４：ソース電極
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機半導体層を有する有機トランジスタにおいて、該有機半導体層に一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物を少なくとも１種含有してなる有機トランジスタ。
【化１】
［式中、式（１）におけるＸ１〜Ｘ２０、式（２）におけるＸ２１〜Ｘ２８、ならびに式（３）におけるＸ２９〜Ｘ４０は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未置換のアリール基を表す。さらに、式（１）における隣接するＸ１〜Ｘ８、式（２）における隣接するＸ２１〜Ｘ２８は互いに結合して置換または未置換のベンゼン環、あるいは置換または未置換のナフタレン環を形成していてもよい。また、式（１）におけるＺ１およびＺ２、式（２）におけるＺ３、ならびに式（３）におけるＺ４は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を表し、式（１）におけるｎは０または１を表す］
【請求項１】
有機半導体層を有する有機トランジスタにおいて、該有機半導体層に一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物を少なくとも１種含有してなる有機トランジスタ。
【化１】
［式中、式（１）におけるＸ１〜Ｘ２０、式（２）におけるＸ２１〜Ｘ２８、ならびに式（３）におけるＸ２９〜Ｘ４０は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、あるいは置換または未置換のアリール基を表す。さらに、式（１）における隣接するＸ１〜Ｘ８、式（２）における隣接するＸ２１〜Ｘ２８は互いに結合して置換または未置換のベンゼン環、あるいは置換または未置換のナフタレン環を形成していてもよい。また、式（１）におけるＺ１およびＺ２、式（２）におけるＺ３、ならびに式（３）におけるＺ４は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を表し、式（１）におけるｎは０または１を表す］
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１０−１０９３６０（Ｐ２０１０−１０９３６０Ａ）
【公開日】平成２２年５月１３日（２０１０．５．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２２９２９１（Ｐ２００９−２２９２９１）
【出願日】平成２１年１０月１日（２００９．１０．１）
【出願人】（０００１７９９０４）山本化成株式会社 (70)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年５月１３日（２０１０．５．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１０月１日（２００９．１０．１）
【出願人】（０００１７９９０４）山本化成株式会社 (70)
【Ｆターム（参考）】
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