【課題】 重量が大きく反りが大きい基板に対して塗布液を塗布する場合においても、装置コストを増大させることなく、短い処理時間で精度よく塗布液を塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】 基板は、基板搬送機構１４によりステージ１２上に搬送されて、その保持面３０に吸着保持される。そして、ステージ１２上に吸着保持された基板の表面に、スリットノズル４１における塗布液吐出用スリットを近接させた状態で、スリットノズル４１を基板に対して移動させることにより、基板の表面に塗布液を塗布する。しかる後、塗布液が塗布された基板は、基板搬送機構１５によりステージ上から搬出される。 （もっと読む）

【課題】塗工液の吐出口に対応する上下ダイ間の隙間を調整することが可能な塗工ダイヘッドに関して、該隙間の調整量を安定化させ、被塗工物の横幅方向における塗膜厚のさらなる均一化を図る。
【解決手段】本願発明の塗工ダイヘッド２６は、下面を有する上ダイ２と、塗工液を吐出するための隙間９を形成するように該下面に対向する上面を有する下ダイ１とを備える。さらに、上ダイ２の下面から該下面とは反対側の面までのダイ部分が上リップ４として、上ダイ２から分離されている。上リップ４の下面を下ダイ１の上面に対して平行移動して隙間９の間隔を調整する調整機構の部品として、楔５、天板３および調整ねじ７が設けられている。さらにダイヘッド２６は、上リップ４を固定することが可能な固定機構の一部品として固定ねじ６を有する。 （もっと読む）

【課題】塗布液が乾燥する前に撓みが生じる状態で持ち上げられる操作が行なわれる基板に対して塗布液を塗布する際に、出来上がった塗布膜の厚さ分布の均一性の悪化を抑制できる塗布方法及び塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明の塗布方法は、表面ｆに塗布されたレジスト液ｒが乾燥する前に撓みが生じる状態で持ち上げられる操作が行なわれる基板Ｓに対して塗布液を塗布する塗布方法であって、前記操作で生じ得る基板（Ｓ）の撓みが大きい箇所が小さい箇所に比べてレジスト液ｒの厚さが薄くなるように基板Ｓの表面ｆにレジスト液ｒを塗布する工程を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】 スジムラ故障や泡欠陥のないエクストルージョン型ダイヘッドを用いた塗布装置及び塗布方法を提供する。
【解決手段】 塗液を外部に吐出するスリット１７とこのスリット１７と連通し塗液を供給するマニフォールド１８とを内部に有するエクストルージョン型ダイヘッド１を使用して被塗布物上に塗液を塗布する塗布装置であって、マニフォールド１８の壁面に気泡捕集部１９としてＶ字溝を設ける。 （もっと読む）

【課題】チクソトロピー性の高い塗液であっても、塗工開始後から所望の目付け量で安定して塗工可能な塗工装置及びその塗工方法を提供すること。
【解決手段】塗工装置は、塗工開始前に塗工ヘッド（２）から塗液タンク（３）に還流する塗液経路を設け、所望の目付け量が得られる塗工時の塗工ヘッド（２）の内圧以上の圧力で還流可能なポンプ（３）を有する。このような構成により、塗工直前まで塗工ヘッド（２）内の圧力を塗工時と同じもしくはそれ以上に保ち、流動させておくことが可能となる。その結果、塗工開始時の塗液粘度を低減し、かつ流動性を確保することで、塗工開始からの目付け量の変動を抑制することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】生産効率の向上を図りつつ、基板の破損を抑制することが可能となる。
【解決手段】基板Ｗの各主面Ｓ1、Ｓ2へのパターン形成を並行して実行することで、生産効率の向上が図られている。しかも、ディスペンサー３、４、５、６それぞれは、基板Ｗに対して非接触で対向するノズル３１、４１、５１、６１から塗布液を吐出することで、基板Ｗにパターンを形成する。これによって、パターン形成の際に基板Ｗに加わる圧力を小さく抑えることができる。こうして、生産効率の向上を図りつつ、基板の破損を抑制することが可能となっている。 （もっと読む）

【課題】バックアップローラに巻き掛けられて走行するウェブと塗布ヘッド先端との間のクリアランスに塗布液ビードを形成して塗布する塗布装置を用いて、ナノサイズの紐状フィラーを含む塗布液をウェブに塗布しても塗布スジ故障が発生しない。
【解決手段】バックアップローラ２０に巻き掛けられて走行するウェブ１２と塗布ヘッド先端１８Ａとの間のクリアランスｄに塗布液ビード２２Ａを形成して塗布する塗布装置を用いて、金属ナノワイヤー２６Ａを多数本含む塗布液２２をウェブ１２に塗布する塗布工程と、塗布された塗布層２２Ｂを乾燥する乾燥工程とを少なくとも備えた紐状フィラー含有塗布物の製造方法において、塗布工程では、塗布液２２のウエット膜厚をｈとし、クリアランスをｄとしたときに、ｈ＜ｄ≦３ｈを満足するようにクリアランスを設定する。 （もっと読む）

【課題】プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用量を一層削減すること。
【解決手段】スリットノズル７２の吐出口をプライミングローラ１４の頂部に対して平行に対向させ、スリットノズル７２に一定量のレジスト液Ｒを吐出させ、そのまま所定時間放置する。次に、プライミングローラ１４の回転を開始して、プライミングローラ１４の外周面上にレジスト液Ｒを巻き取り、その後もプライミングローラ１４の回転をそのまま継続させて、プライミングローラ１４に巻き取られた塗布液膜の自然乾燥を促し、所定時間経過後にプライミングローラ１４の回転を停止させて該塗布液膜を所定の待機用回転角位置に着かせ、該塗布液膜の自然乾燥を継続する。その後、この塗布液膜を洗浄によって除去する。 （もっと読む）

【課題】スジムラの発生を抑制することが可能なノズルプリンティング装置を提供する。
【解決手段】所定の配列方向に所定の間隔をあけて配置される複数本のノズルを備えるノズルプリンティング装置であって、前記複数本のノズルは、溶媒と溶質とを含むインキを吐出する第１のノズルと、溶質を含まない液体を吐出する第２のノズルとから構成され、前記第１のノズルの本数と、第２のノズルの本数とが同じであるノズルプリンティング装置。 （もっと読む）

【課題】塗工域の塗工始端部又は塗工終端部に生じる盛り上がり部の盛り上がり高さ寸法を小さくする。
【解決手段】基材走行路Ｒの途中に設けられた間欠塗工装置２で、基材走行路Ｒを走行する基材Ｗの表面に基材走行方向に沿って塗工域Ｃと非塗工域Ｄを交互に形成するときに、塗工域Ｃの塗工始端部Ｃａ又は塗工終端部Ｃｂに形成される盛り上がり部Ｑが生じる場合に、盛り上がり部Ｑが通過する基材走行路Ｒの所定箇所Ｒａに向かってガスをＧを噴出させるガス噴出用スリット１３を備えたガス噴出装置７と、ガス噴出用スリット１３から噴出させるガスＧをガス噴出装置７へ設定時間だけ供給するガス供給装置８を備えたこと。 （もっと読む）

【課題】塗工材が基材の塗工面に塗工された塗工製品を、低コストで、かつ歩留まりをより高くして製造することができる塗工材塗工方法、及び塗工材塗工装置を提供する。
【解決手段】ダイ２と相対的に金属箔３１を搬送させながら、ダイ２のスリット３から吐出した塗工液４０を、金属箔３１の塗工面３１ａに塗工する塗工材塗工方法において、塗工面３１ａと対向する位置に配置されるダイ２の先端面２ａと、塗工面３１ａとの距離であるダイギャップＨで、塗工開始時を、第１ダイギャップＨ１とし、塗工液４０を所望の厚みｔ＝３０（μｍ）でコンスタントに塗工している状態にあるときを、第２ダイギャップＨ２（Ｈ２＜Ｈ１）とすると、塗工液４０をスリット３から吐出開始と同時に、ダイ２を金属箔３１と相対的に等速度Ｖで移動させることにより、ダイギャップＨを、第１ダイギャップＨ１から第２ダイギャップＨ２に小さくする。 （もっと読む）

【課題】 基材上に良好に塗布膜を形成することができる塗布装置、この塗布装置を組み込んだ塗布膜形成システム、塗布方法および塗布膜形成方法を提供する。
【解決手段】 ノズル１１が塗布液を吐出する吐出位置において、基材５を他方主面から支持しつつ、搬送経路８に沿って基材５を走行させる支持ローラ１２に対して、振動付与部１３が振動を付与することで、支持ローラ１２に支持された基材５を介して、基材５の一方主面に塗布された塗布液に振動を付与することができる。これにより、基材５上に塗布された塗布液によって形成される塗布膜の膜厚のばらつきを平坦化することで塗布ムラを軽減することができる。 （もっと読む）

【課題】基板に塗布液を塗布して所定のパターンを形成するパターン形成技術において、異形基板に効率よくパターン形成を行うことのできる技術を提供する。
【解決手段】マニホールド空間となる窪部５５２およびこれに連通する複数の溝部５５３を有するハウジング本体５５ａと、例えばシリコーンゴム製の弾性部材５５ｂと、一部の溝部５５３に対応する位置に貫通孔５５５が設けられたカバー部材５５ｃとを重ね合わせて吐出ノズル５５が構成される。貫通孔５５５に臨む弾性部材５５ｂを押圧して弾性変形させ、溝部５５３と弾性部材５５ｂとで囲まれた塗布液流路の断面積を変化させることで、塗布液の吐出・停止を制御する。 （もっと読む）

【課題】基材の幅方向において均一な塗工厚さで塗工液を塗工できる塗工装置を提供する。
【解決手段】前後ヘッド部１６，１８とバー支持部１４の間に幅方向に沿ってそれぞれ形成され、かつ、前後液溜部３２，４２から上部まで延びたスリット状の前後一対の前後流出路３４，４４を有し、前後流出路３４，４４が、下流出路３６，４６と上流出路３８，４８とから形成され、下流出路３６，４６の間隙が、上流出路３８，４８よりも狭い。 （もっと読む）

【課題】風ムラ状のスジやひも状のスジ、面荒れを防止することができる塗布膜付きフィルムの製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】連続走行する帯状支持体１１の表面に塗布液を塗布する、塗布位置と待機位置との間で進退移動させる進退移動機構を有する塗布ヘッド１４と、前記帯状支持体の塗布面裏側を支持するバックアップローラ１３と、からなる塗布装置と、塗布装置直後に設けられるケーシングからなる乾燥装置１６と、からなり、乾燥装置１６には、塗布ヘッド１４から乾燥装置１６までの間のウェブ１１の端面側とウェブ１１の塗布面裏側を覆うケーシングと一体の遮風部分２８と、塗布ヘッド１４から乾燥装置１６までの間のウェブ１１の塗布面側を少なくとも覆う可動式のカバー２４と、塗布ヘッド１４には、塗布ヘッド１４から乾燥装置１６までの間のウェブ１１の端面側を覆う塗布ヘッドに固定された遮風板２６と、を設ける。 （もっと読む）

【課題】塗工品質の向上を図りつつ、塗工スピードの高速化によって生産性の向上を図った塗工装置を提供する。
【解決手段】塗工ヘッド３からスラリ状の活物質を吐出して、基材である集電体上に間歇的に塗布する装置である。塗工ヘッド３は、ヘッド本体３ａに開口形成されたスリット状の吐出口１６と、ヘッド本体３ａのうち吐出口１６の奥部側に形成された弁室１７と、この弁室１７に回転可能に収容配置されたカムシャフト２０とを備えている。カムシャフト２０の一回転につき一回の割合で、そのカムロブ２２にて吐出口１６を直接的に閉じるようになっている。 （もっと読む）

【課題】幅方向に長く先端で開口しているスリット７が内部に形成されている口金３において、従来では振動波（振動波に基づくキャビテーション）の伝播が充分にされず残っていた固着物を、浮かび上がらせることが可能となり、短時間で所望の洗浄結果を得る。
【解決手段】洗浄槽１１内の振動波を与えた洗浄液Ｌに口金先端９を浸漬させ、スリット７を通じて当該洗浄液Ｌを口金内部へ流入させる。この状態から、スリット７を通じて口金内部に気体を、スリット７の幅方向全長にわたって、流入させる。この後、口金先端９を洗浄槽１１内の振動波を与えた洗浄液Ｌに浸漬させ、スリット７を通じて当該洗浄液Ｌを口金内部へ流入させる。 （もっと読む）

【課題】バックアップロールに基材を巻き掛けることなく、吐出部から吐出される塗布液を基材に塗布することができる塗布装置用スロットダイを提供すること。
【解決手段】長手方向に移動する帯状の基材１に対して間隙を空けた状態で近接して配置される吐出部４０を備え、吐出部４０よりも基材移動方向に関して上手側で基材１を支持する上手側支持手段と、吐出部４０よりも基材移動方向に関して下手側で基材１を支持する下手側支持手段との間に配置され、吐出部４０から吐出される塗布液を基材１の塗布面に塗布する塗布装置用スロットダイＳＤ２であって、基材幅方向に沿う横軸心Ｙ２周りに回転自在で当該横軸心方向視にて外周面が円形状に形成され、且つ、吐出部４０に基材移動方向で上手側に近接する箇所において、外周面が塗布面に接触する状態で基材１を支持する回転支持体５０が設けられている塗布装置用スロットダイＳＤ２。 （もっと読む）

【課題】基板の浮上量の変動を抑制することが可能な塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】第一気体供給経路及び第一吸引経路のうち少なくとも一方の経路の一部分には大気開放が可能な大気開放部が設けられているので、噴出される気体の流量及び吸引される気体の流量のうち少なくとも一方の変化を緩和することが可能となる。これにより、基板の浮上量の変動を抑制することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の性質にバラつきが生じるのを防ぐこと。
【解決手段】易酸化性の金属及び溶媒を含む液状体を基板に吐出するノズルを有する塗布部と、前記塗布部に前記液状体を供給する供給系と、前記供給系及び前記塗布部のうち少なくとも一方から前記液状体を回収し、回収した前記液状体を前記供給系及び前記塗布部のうち少なくとも一方に供給する循環系とを備える。 （もっと読む）