【課題】原材料の固形分を含むスラリーを加熱する場合でも、加熱温度を詳細に規定することなく原材料の堆積及びショートパスを防止することができる、その反応装置を用いたトナーの製造方法、並びにその反応装置を用いて製造したトナーを提供する。
【解決手段】反応管１００の中心軸方向における一方の端部から連続的に供給されて流れる固形分を含むスラリー状の原材料に熱を加える反応装置１０であって、原材料の流れ方向に反応管１００の内部を複数の小区画に区切る複数の多孔板１１０を備え、多孔板１１０の直径をＤとし、反応管１００の内壁面の直径をＤ’とし、原材料の流れ方向における多孔板１１０の間隔をＳとしたとき、（１／２）・Ｄ’≦Ｄ＜Ｄ’、かつ、０．２≦Ｓ／Ｄ’≦５．０の条件を満たすように構成した。 （もっと読む）

【課題】特性の異なる二種類の多孔性表面領域を有する粒子、及び粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】表面を有する支持体を提供する工程、支持体上で第１多孔性層を形成する工程、支持体上で１個以上の粒子をパターン形成する工程、支持体上で第１多孔性層より大きい多孔度を有する第２多孔性層を形成する工程、さらに、パターン形成された１個以上の粒子を、第２多孔性層の破壊を含む処理によって支持体から解放することにより、第１多孔性層の一部及び第２多孔性層の一部を表面に含む多孔性粒子を製造する。 （もっと読む）

【課題】 溶液中で、電場又は重力場により形成された粒子配列体又は構造体において、電場又は重力場が消失した後も長時間に亘って、その構造を安定に維持しうる粒子配列体又は構造体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 溶液中で、電場や重力などの外場によって形成させた粒子配列体又は構造体に、無機及び有機イオン種またはその混合物を添加し、粒子間及び粒子−容器底面間の距離に対する相互作用ポテンシャルエネルギーの障壁の高さを制御することによって、粒子配列体又は構造体をその場に固定することができ、電場などの外場を解除しても、溶液中で長期間にわたって安定にその形態を維持することができる。 （もっと読む）

【課題】 基板とシート部材とによって構成される試料操作素子に対し、その操作構造での所望の領域を選択的に親水化処理することが可能な試料操作素子の表面処理方法、及び処理装置を提供する。
【解決手段】 下部基板１２と、上部シート部材１４とを有する試料操作素子１０を載置するステージ２０と、素子１０にレーザ光Ｌを供給するレーザ光源３０と、素子１０に対し、シート部材１４側からまたは基板１２側から所定の照射光軸Ａｘに沿って、シート部材と基板との間に形成された操作構造内にビームウエストが位置する集光条件でレーザ光Ｌを照射する集光光学系３５とによって表面処理装置１Ａを構成する。そして、試料操作素子１０の操作構造内において、レーザ発生プラズマにより、シート部材１４で操作構造を構成している凹状構造部の内側表面を親水化処理する。 （もっと読む）

【課題】小型でコンパクトな液体輸送装置を提供することにある。
【解決手段】内部に液体を含有するシリンジ外筒及びシリンジ外筒の内部を摺動するピストンで構成されたシリンジと、一方の端部が前記シリンジ外筒に連結されたチューブと、ピストンを押す押し子と、を有し、押し子によりピストンを押し、シリンジ外筒からチューブに液体を供給することで、チューブの他端から液体を供給する液体輸送装置であって、シリンジ外筒を支持する支持部と、シリンジと略平行に配置され、かつ、押し子を支持部に対して、ピストンの移動方向に直線的に相対移動させる直線移動機構と、ピストンと押し子との間に配置され、押し子がピストンを押すことで発生する圧力を検出する圧力検出部と、を備えかつ、圧力検出部で検出した圧力に基づいて、直線移動機構の動作を制御する制御部と、を有することで上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】誘電体バリア放電方式の放電部の耐久性を向上させる。
【解決手段】プラズマ処理装置は、誘電体バリア放電方式のプラズマ源の近傍に、コロナ放電方式のプラズマ源を設置し、コロナ放電によって生成されるプラズマを補助プラズマとして用いて、誘電体バリア放電によって生成される主プラズマの放電維持電圧を低下させる。 （もっと読む）

【課題】被処理物の表面に対するＵＶオゾン処理の処理効率を向上させる。
【解決手段】表面処理装置１００は、第１および第２の紫外線照射処理室１０ａ，１０ｂを備える。第１および第２の紫外線照射処理室１０ａ，１０ｂ内には、それぞれ、複数の紫外線ランプ２０ａ，２０ｂが配置される。そして、第１の紫外線照射処理室１０ａ内で被処理物５０の表面に対して紫外線照射処理が施された後、第２の紫外線照射処理室１０ｂ内で被処理物５０の表面に対して紫外線照射処理が施される。なお、紫外線ランプ２０ａ，２０ｂから放射される紫外線の強度は、互いに等しい。また、被処理物５０と紫外線ランプ２０ａとの距離と被処理物５０と紫外線ランプ２０ｂとの距離とは、互いに等しい。また、第２の紫外線照射処理室１０ｂ内に供給される混合ガス中の酸素濃度は、第１の紫外線照射処理室１０ａ内に供給される混合ガス中の酸素濃度よりも低い。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、単粒子膜を構成する各粒子が２次元に最密充填し、高精度に配列した曲面上の単粒子膜エッチングマスクとその製造方法、該単粒子膜エッチングマスクを用いた曲面上の微細構造体の製造方法および該製造方法で得られた高精度な曲面上の微細構造体を提供する。
【解決手段】曲面、傾斜および段差など非平面である部分で面方向のピッチまたは大きさが０．１μｍ〜１００００μｍである表面が一部若しくは全部である基板上に形成する、粒子が２次元に最密充填した単粒子膜であって、
下記式（１）で定義される粒子の配列のずれＤ（％）が１０％以下であることを特徴とする単粒子膜。
Ｄ（％）＝｜Ｂ−Ａ｜×１００／Ａ・・・（１）
（式（１）中、Ａは前記粒子の平均粒径、Ｂは前記単粒子膜における前記粒子間の平均ピッチを示す。） （もっと読む）

【課題】樹脂製容器２に電子線を照射して殺菌する装置において、適正な殺菌が行われたことを確認するために、樹脂製容器２の内部に到達した電子量を測定する。
【解決手段】容器搬送装置２０のグリッパ２８に保持されて搬送される樹脂製容器２に電子線照射手段１６から電子線を照射して殺菌を行う装置であり、電子線を照射する際に、樹脂製容器２の口部２ｂから内部に電子捕捉部材（アースロッド）６０を挿入し、この電子捕捉部材６０からアース側に流れる電流を電流測定手段（電流計）７６で測定することにより、樹脂製容器２の内部側に到達した電子の量を測定する。 （もっと読む）

【目的】電極とワークとの間で放電が起き難くする。
【解決手段】放電空間４２Ｂとプラズマ出力口１６との間に設けられたプラズマ流出通路の構成要素である個別通路８１Ｂに関して、Ｘ部分８１ＢＸ、Ｚ部分８１ＢＺのＸ部分８１ＢＸＸの接続部Ｍより放電空間側の部分８１ＢＺO、Ｘ部分８１ＢＸＸ、拡散器８２Ｂ、スリット８６等により主通路が構成され、Ｚ方向部分８１ＢＺの接続部Ｍより放電空間とは反対側の部分８１ＢＺＰにより分岐通路が構成される。アース板９０は、分岐通路８１ＢＺＰを塞ぐ状態で設けられる。分岐通路８１ＢＺＰと主通路の部分８１ＢＺＯとは同一直線上に位置するため、アース板９０との間で放電が起き、ワークＷとの間では起き難くすることができる。 （もっと読む）

【課題】ヒータツールを機械的に研磨することなくヒータツールに付着するフラックスや樹脂などを能率良く除去することができ、先端面の温度分布を変化させることがなく、接合のバラツキを少なくして接合の信頼性を向上させる。
【解決手段】ヒータツール１０の有機汚染物付着面１２に炭酸ガスレーザー２０を照射して有機汚染物を加熱し炭化する第一段階の処理工程と、ii）大気圧プラズマ装置３０がプロセスガスを励起して射出するプラズマを、有機汚染物の付着面１２に導き、炭化した有機汚染物を除去する第二段階の処理工程、とを有する。 （もっと読む）

【課題】マイクロリアクタを包含するマイクロリアクタラインのインライン洗浄が可能なマイクロリアクタライン洗浄システム、及びマイクロリアクタラインの洗浄方法を提供する。
【解決手段】マイクロリアクタ１２と、前記マイクロリアクタ１２に接続され、前記マイクロリアクタ１２に原料液１４を供給する配管１８と、前記配管１８の上流側に接続され、前記配管１８に洗浄液３４を供給可能な供給管４４と、前記配管１８の前記供給管４４の接続位置から前記マイクロリアクタ１２の流入口１２ａ前までの任意の位置に接続され、前記配管１８から前記洗浄液３４を排出可能な排出管４６と、前記排出管４６に介装され、前記排出管４６の流路の開閉を行なうバルブ４８と、を有し、前記バルブ４８は、前記配管１８の洗浄時に開放されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】十分に微細なナノ粒子を、均一な粒度で製造することができるナノ粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】金属原子を含む化合物を、その金属原子を含む化合物を金属原子に還元できる温度に加熱される流路に輸送して、連続的に加熱し（連続加熱還元工程）、その後、還元により得られる金属原子を、急冷する（冷却工程）ことにより、ナノ粒子を製造する。このようなナノ粒子の製造方法によれば、十分に微細なナノ粒子を、均一な粒度で製造することができる。 （もっと読む）

【課題】構成簡単にして並列化したマイクロ流路を形成するとともに、当該マイクロ流路に均一に光触媒を担持させ、効率的に大容量の光化学反応を行うことができるマイクロ反応装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係るマイクロ反応装置は、周断面形状が円形であって長手方向に光を透過する丸棒の周面に光触媒を担持させ、前記丸棒の内部を透過する光が前記光触媒を担持した周面から漏光するように構成された光触媒担持棒を複数本束ねて構成され、少なくとも３本の前記光触媒担持棒の周面によって区画されて形成されるマイクロ流路を有する光反応部を備え、前記光反応部の第１の端部側から、液体成分と気体成分とを導入し、前記液体成分が該マイクロ流路の内面に沿う筒状液膜流となって流れ、前記気体成分が中央部を中央ガス流となって流れる状態のパイプフローを形成可能に構成されている。 （もっと読む）

ナノ粒子を形成するためのナノインプリントリソグラフィ法は、多層基板上に犠牲材料をパターン形成すること含む。幾つか場合では、多層基板のリムーバブル層に又は層内にパターンを転写し、機能材料を、多層基板のリムーバブル層に配置して凝固させる。その後、機能材料の少なくとも１つの部分を除去して、リムーバブル層の凸部を露出させ、機能材料の柱をリムーバブル層から剥離させて、ナノ粒子を得る。他の場合では、多層基板は機能材料を含み、多層基板のリムーバブル層に又は層内にパターンを転写する。犠牲層を除去し、機能材料の柱をリムーバブル層から剥離させて、ナノ粒子を得る。 （もっと読む）

【課題】処理対象に電子ビームを照射することによって、処理対象の洗浄や研磨、処理対象からの付着物の除去等を行う電子ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム照射装置１は、負電圧を周期的に発生させる電圧生成器６と、電圧生成器６に接続され、表面が接地された処理対象２に対してインパルスである電子ビーム３を照射するカソード１と、カソード１と処理対象２とを収容可能であり、内部雰囲気を真空に保持可能である真空チャンバ５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】紫外線ランプに対して、隣接ランプ管から放射される紫外線の影響を減少させること
【解決手段】この紫外線照射装置(16-2)は、複数本の紫外線ランプ(L1,L2,…)を並列配置した紫外線照射装置であって、座標軸を、前記複数本の紫外線ランプの並列方向をＸ方向、各紫外線ランプの照射方向を−Ｙ方向、各紫外線ランプ軸線方向をＺ方向と規定したとき、隣接する２本の紫外線ランプ相互間にＺ方向に延在する遮蔽板(26)を備え、前記遮蔽板の−Ｙ方向高さは、隣接する紫外線ランプ(L1)の光源をランプ中心(C1)にある点光源(S1)と見なして、各紫外線ランプ管のいずれの箇所からも隣接する紫外線ランプの点光源を視認できない高さとする。 （もっと読む）

【課題】ターゲット材料の種類によらず、液相中に粒子を連続的に安定して製造できる製造効率の十分に高度な液相レーザーアブレーション装置を提供する。
【解決手段】レーザー光Ｌを発生させるためのレーザー発振器１０と、レーザー光を導入するための窓１３Ａを備え且つ溶媒１４を保持するための処理容器１３と、処理容器内に配置されるターゲット１５と、処理容器から溶媒を流出させるための流出管１６と、処理容器に溶媒を流入させるための流入管１７と、流出管及び流入管に溶媒を流通させるためのポンプ１８と、流出管内の溶媒の流路と流入管内の溶媒の流路とポンプ内の溶媒の流路とからなる循環流路中に配置され且つ循環流路中に流通する溶媒の中からレーザーアブレーションにより形成された粒子を回収するための１５〜１０００ｎｍの孔径を有するフィルター１９とを備える。 （もっと読む）

【課題】対象となる部材の表面を迅速かつ簡便に親水化させ、しかもその親水性を半永久的に継続させることのできる表面親水化部材の製造方法を提供する。
【解決手段】部材１の表面を、プラズマ処理４などによって改質処理し、次いで前記部材の前記改質処理を行った表面に重合性基を有する水溶性モノマーと光重合開始剤との混合物５を塗布し、紫外線を照射する方法であり、θ/２法を用いて測定した表面の接触角が４０°未満である親水化部材を製造することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】低圧蒸気放電灯の消灯時に冷却ベース部の温度及び発光管部の温度を適切に制御する。
【解決手段】発光管部（１０）の端部に発光管内の水銀蒸気圧を制御するための冷却ベース部（１５）を備えた低圧水銀蒸気放電灯（１７）、冷却ベース部を冷却する第一の冷却装置（３１）、発光管部を冷却する第二の冷却装置（３２）、点灯信号及び消灯信号を受けて低圧水銀蒸気放電灯の点灯及び消灯を行なう点灯装置（２０）、並びに第一の冷却装置、第二の冷却装置及び点灯装置を制御する制御部（４０）を備えた紫外線照射装置において、制御部が、消灯信号を受けると、放電灯を点灯させたまま冷却ベース部の温度と発光管部の温度の温度勾配が小さくなるように第一の冷却装置及び第二の冷却装置の動作状態を制御した後に、点灯装置に低圧水銀蒸気放電灯を消灯させるよう構成した。 （もっと読む）