【課題】 被めっき物に均一で適切な超音波振動を加えることができ、超音波振動によりめっき浴中の粒子の分散性を向上させ、均一な大面積複合めっきを可能とする複合めっき処理方法および複合めっき処理装置を提供する。
【解決手段】 被めっき物に２つ以上の振動モードの超音波振動を励振できるようにし、その振動モードの組み合わせにより、被めっき物に屈曲進行波や時間的に変化する複数の定在波を励振して、めっき浴中の粒子の分散性を向上させ、均一な複合めっき被膜の形成を可能とする。 （もっと読む）

【課題】膜厚の基板面内均一性に優れためっき膜を形成できるめっき装置を提供する。
【解決手段】側壁３０と側壁に囲まれた開口部３１とを有するカップ２０と、ウエハ９０を、カップ２０の開口部に対向させると共に、カップと離間して保持する電極ピン７０およびウエは押さえ８８と、ウエハ９０の外周部に接触する電極ピン７０と、カップ２０内のめっき液６０に接触して配置されるアノード電極５２と、カップ２０にめっき液を供給し、めっき液をウエハに接触させた後、カップとウエハとの間の隙間８２からオーバーフローさせるポンプと、カップの側壁に設けられたスリット３２とを備える。 （もっと読む）

【課題】安定的に貫通孔内にめっきを行うことができる電解めっき装置およびめっき方法を提供すること。
【解決手段】電解めっき装置は、陽極２１と、導電層１２に接続される陰極（図示略）と、基材１の絶縁層１１の他面を、電解めっき液Ｌを挟んで陽極２１と対向させ、貫通孔１１１から露出する導電層１２の一部に電解めっき液Ｌを接触させながら、陽極２１上および電解めっき液Ｌ上で基材１を搬送する搬送部２０とを備える。搬送部２０は、少なくとも基材１の導電層１２の周縁部の一部が上方側に反るように、前記基材１を保持しながら基材１を搬送するように構成されている （もっと読む）

【課題】貫通孔内に所望の処理を施すことができる処理方法および処理装置を提供すること。
【解決手段】処理装置１は、内部に液体Ｌが供給されるとともに、供給された前記液体Ｌに基板２を浸積させる槽１１を備える。処理装置１は、第一供給口１１１Ａから第一排出口１１１Ｂに向かって液体Ｌを流すとともに、第二供給口１１２Ａから第二排出口１１２Ｂに向かって液体Ｌを流すと、液体Ｌが、鉛直方向上方側から下方側に向かって前記基板２の一方の基板面および他方の基板面に沿って流れるように構成され、基板２の一方の面における液体Ｌの平均流速と、他方の面における液体Ｌの平均流速とを異ならせる調整手段を有する。 （もっと読む）

【課題】めっき液噴流方向を均一化すると共に、ポンプに負荷を掛けることなく噴射ノズルからのめっき液流量（圧力）を増加させる手段を備えた半導体装置の製造装置を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造装置は、めっき処理槽１と、ウェハー支持部３と、めっき液噴射ノズル土台配管１２と、ウェハー２の被処理面に向かってめっき液を噴射する複数のめっき液噴射ノズル１３とを備えている。複数のめっき液噴射ノズル１３の各々は、ベンチュリ構造型のノズルである。めっき液噴射ノズル１３から噴射されためっき液の一部は、めっき処理槽１の上部から底部に向かって流動し、めっき液噴射ノズル１３から噴射されるめっき液と合流して、ウェハー２の被処理面に向かって再度噴射される。 （もっと読む）

【課題】ワークタルミを発生させずに化学処理が行える化学処理装置を提供する。
【解決手段】幅方向を上下方向にして長尺シート状のワーク１を搬送するワーク搬送装置20とワークの化学処理を行う化学処理槽４を備え、化学処理槽搬入時にワーク上端と下端をクランプしかつ化学処理槽搬出時に開放する上下端搬送クランプ５、６群を有する化学処理装置において、ワーク搬送装置20の上端搬送クランプ５群が上側エンドレスベルト81に固定され、下端搬送クランプ６群が下側エンドレスベルト82に鉛直方向へ移動可能に取付けられ、かつ、下側エンドレスベルト82と各下端搬送クランプ６間に各下端搬送クランプを鉛直下方向へ向けて付勢する付勢手段が設けられていることを特徴とし、この付勢手段の作用によりワーク下端側が適正な付勢力により鉛直下方向へ引っ張られた状態で搬送されることになるためワークタルミの発生を防止できる。 （もっと読む）

【課題】めっき部形成時におけるレジストマスクの形成・剥離が不要であり、めっき漏れを抑制でき、めっき部の厚さのバラつきを低減し、かつ、めっきロスの少ない支持枠付回路基板の提供。
【解決手段】支持枠１１の内部開口領域１２で回路基板１０および支持枠１１が一体化している支持枠付回路基板であって、回路基板１０は、金属支持基板１と、金属支持基板１上に形成された絶縁層２と、絶縁層２上に形成された配線層３と、配線層３および絶縁層２を覆うカバー層４と、カバー層４に覆われていない配線層３の表面上に形成されためっき部６とを有し、上記支持枠１１は、金属支持基板１と、金属支持基板１上に形成された絶縁層２と、絶縁層２上に形成された導体層７と、導体層７上に形成され、カバー層４と同一の材料から構成される保護層８とを有することを特徴とする支持枠付回路基板。 （もっと読む）

【課題】基板を安定的に処理することができる基板の処理方法および処理装置を提供すること。
【解決手段】処理装置１は、内部に液体Ｌが供給されるとともに、供給された液体Ｌに基板２を浸積させる槽１１と、槽１１内部に配置される基板２の基板面が鉛直方向に略平行となるように基板２を保持する保持部１３とを備える。処理装置１は、槽１１の供給口１１１から排出口１１２に向かって液体Ｌを流すと、液体Ｌが、鉛直方向上方側から下方側に向かって基板面に沿って流れるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】 金属薄膜付樹脂フィルムなどの長尺基板上に連続電解めっきにより金属層を成膜する際に、金属層での突起の発生を抑制することができる連続電解めっき装置及び連続電解めっき方法を提供する。
【解決手段】 複数のアノード１５ｇ、１５ｈを備えためっき槽１３内で、長尺基板Ｆ１をめっき液１４に浸漬させ且つ各アノード１５ｇ、１５ｈと対向させて搬送しながら電解めっきを行う連続電解めっき装置であって、長尺基板Ｆ１と少なくとも１つのアノード１５ｇ、１５ｈとの間に、めっき液１４の液面１４ａから１０ｃｍまでの深さに配置され、長尺基板Ｆ１に向かってめっき液を噴出する少なくとも１つの第１ノズル１８ｇ、１８ｈを備えている。 （もっと読む）

本発明によれば、次の要素が提供される：カソードを形成するブレード（１２０、１３０）であって、臨界ゾーン領域（２１）を画定する、コーティングされる表面を有するブレード、アノード（１９）、不溶解性の粒子を含む電解浴、および基準壁（１４）に対する作業位置に前記ブレードが装着される装着台（１２）。装着台（１２）は、前記浴中に置かれ、粒子およびアノードの金属は、コーティング（２０）をコーティングされる表面上に形成するために同時堆積される（１９）。前記アノード（１９）は、通常、臨界領域（２１）に面して配置され、前記装着台（１２）には、臨界ゾーン（１２）に対して比較的一定の予め決められた厚さであって、前記コーティング（２０）の縁部に沿ってほぼゼロの値まで徐々に低下する厚さを有するコーティング（２０）を得るために電流線を監視する手段が設けられる。
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【課題】ロールの周面へのメッキを均一な厚さに施すことができるロール用メッキ装置を提供する。
【解決手段】メッキ対象のロールＲの両端をチャックする一対のロールチャック２と、メッキ液Ｌを貯留しこのメッキ液ＬにロールＲを浸漬させるメッキ槽３と、上記メッキ槽３内に設けられ、上記ロールチャック２に外嵌するよう対向配設され、ロール端部へのメッキ電流の集中を抑制する一対のメッキ電流遮蔽器５とを備えるロール用メッキ装置１であって、上記メッキ電流遮蔽器５が、上記ロールチャック２の軸方向に移動可能に吊設されており、上記ロールチャック２に外嵌するロール端面被覆板１０と、このロール端面被覆板１０の対向面側に立設され、切欠領域を有する帯状のロール周面端部被覆板１１とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電流が集中するシリンダボアの開口端部における花咲きを抑制するとともに、均一なめっき層を形成可能なシリンダブロックのめっき処理装置およびシリンダブロックのめっき処理方法を提案する。
【解決手段】めっき処理装置１は、シリンダボア１０２を形成する円筒形状のシリンダ内周面１０３を有するシリンダブロック１０１を載置自在な載置台３と、シリンダボア１０２内に配置されシリンダ内周面１０３との間に環状の処理液流路４を形成する筒状電極６と、シリンダボア１０２の一方側の開口縁に当接されシリンダ内周面１０３に比べて小径な開口を有し処理液流路４の断面積を絞る環状のシール部材２１と、シリンダボア１０２の他方側にめっき処理液１１を送給し処理液流路４の他方側から一方側に向けてめっき処理液１１を流動させる処理液循環装置１２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】シール位置の位置精度が高く、シリンダブロックの固定およびシール治具の保持を簡便な動作で可能な低廉な構造を備え、エンジン小型化に柔軟に対応可能なシリンダブロックのめっき処理装置を提案する。
【解決手段】めっき処理装置１は、シリンダブロック１０１を載置自在な載置台３と、シリンダ内周面１０３との間に環状の処理液流路４を形成する筒状電極６と、筒状電極６の自由端部に設けられたシール治具７と、シリンダ内周面１０３の他方側の開口端をシール可能な拡張状態に伸縮可能な拡張シール部材３１と、シール治具７に着脱自在に接続され拡張シール部材３１を拡張状態に作動させるエアジョイント９と、載置台３とともにシリンダブロック１０１を挟み込んで保持する上治具８と、エアジョイント９とシール治具７とを連結するときに位置調整を行うコイルスプリング３３と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被めっき品の側面にめっきを付着させず、被めっき品の片面に確実にめっきを施すことを可能にするめっき治具を提供する。
【解決手段】被めっき品１０の外周側面を囲む枠状に形成され、内側面を被めっき品の側面に押接して該側面をシールするシール材３０と、シール材３０を外側から囲み、シール材の外周側面の位置を規制する拘束部材２０と、拘束部材の内側に配置され、シール材と該シール材の内側に配置される被めっき品とを支持する支持部材２２と、拘束部材の内側に、押圧面２４ａを支持部材２２に対向させ、被めっき品１０の外面１０ａを露出させて装着され、シール材３０を支持部材２２との間に介在させて挟圧する押圧部材２４とを備え、シール材３０は、拘束部材２０、支持部材２２及び押圧部材２４により被めっき品１０の側面に押接される面を除く三方の面を拘束しながら押圧部材２４により押圧されることにより、シール材３０が変形して被めっき品１０の側面に内側面を押圧する変形しろを有することを特徴とする。 （もっと読む）

システム及び方法が、電圧切り換え可能な誘電体材料に１つ以上の材料を付着させることを含む。特定の態様では、電圧切り換え可能な誘電体材料が、導電バックプレーン上に配置される。いくつかの実施形態では、電圧切り換え可能な誘電体材料が、付着に関する特性電圧が相違する複数の領域を含む。いくつかの実施形態は、マスキングを含み、取り除くことが可能なコンタクトマスクの使用を含むことができる。特定の実施形態は、電気グラフトを含む。いくつかの実施形態は、２つの層の間に配置される中間層を含む。 （もっと読む）

【課題】板状ワークを傷をつけたりすることなく安全に搬送でき、かつ均一なめっき品質及びめっき膜厚を達成できる処理槽を提供する。
【解決手段】遮蔽手段は、薄板基板Ｗの上端部および下端部に、次の４つの遮蔽板１０８、１０９、１１２、１１３を備えている。規制ローラ手段３０４は、ほぼ薄板基板Ｗの上部付近まで達する高さで下部基板遮蔽板１０８の上面に立設されたローラ立設体１２０と、外れ防止部材１２２とで構成されている。 （もっと読む）

【課題】アスペクト比の高い開口部内に空隙を形成することなく銅層を埋め込むことの可能な電気めっき方法を提供すること。
【解決手段】ウェハ上に銅層を形成する方法は、制御システムを有する電気めっきチャンバ内にウェハを配置する段階と、第１期間３０２の間にウェハに対する第１電力を正にパルス化する段階と、第１期間３０２に続く第２期間３０４の間にウェハに対する第２電力を負にパルス化する段階と、第２期間３０４に続く第３期間３０６の間にウェハに対する第３電力を正にパルス化する段階とを備える。 （もっと読む）

【課題】コストダウンが可能なシリンダバレルの表面処理装置を提供する。
【解決手段】カバー部材３２は、下面５９に、可撓性を有してガスケット面４２に密着して処理液の漏れを防止する第１のシールリング５４、第２のシールリング５５及び第３のシールリング５６を、シリンダバレルの中心６３を中心とする同心円状に備え、これらの第１〜第３のシールリング５４、５５、５６は、下端のレベルが、最も中心側のシールリングに対して中心６３から離れたシールリング程高位になるように、高低差を付けて取付けられている。
【効果】カバー部材を共用化するので、部品を減らして装置全体のコストを低減することができる。 （もっと読む）

本開示は一般に、磁性電気メッキまたは電着のための技術に関する。例示の方法は、基板へのメッキ材料の析出反応速度を変更するために電着中に磁石を使用することを含むことができる。
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【課題】無端環状マスクベルトを順次密着させてマスクしながら、連続的にめっきを施すことにより、帯板状の条材の両面または片面の一部にめっきを施す場合に、にじみの発生を抑制できる、無端環状マスクベルトおよび、それを用いためっき方法を提供する。
【解決手段】複数の層からなり、被めっき材と接する面を有する層（表面層）の材質が硬度２０°〜４０°のシリコンスポンジである無端環状マスクベルトを用いて、被めっき材の一部に該無端環状マスクベルトを押圧して順次密着させて覆いながら、被めっき材にめっきを施す。 （もっと読む）