オルガノポリシロキサン系組成物および硬化物
【課題】成型加工性、透明性、耐熱、耐光性、ガスバリア性に優れるオルガノポリシロキサン系組成物および硬化物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士をヒドロシリル化して得られるポリシロキサン化合物（ｂ）に、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）をヒドロシリル化反応させて得られるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物、
からなるオルガノポリシロキサン系組成物であって、前記（Ｂ）成分が、アルケニル基を２個以上含有する芳香族系化合物、アルケニル基を２個以上含有する脂環式炭化水素系化合物、ジビニルシラン系化合物等から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とするオルガノポリシロキサン系組成物。
【解決手段】（Ａ）アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士をヒドロシリル化して得られるポリシロキサン化合物（ｂ）に、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）をヒドロシリル化反応させて得られるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物、
からなるオルガノポリシロキサン系組成物であって、前記（Ｂ）成分が、アルケニル基を２個以上含有する芳香族系化合物、アルケニル基を２個以上含有する脂環式炭化水素系化合物、ジビニルシラン系化合物等から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とするオルガノポリシロキサン系組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成型加工性、透明性、耐熱、耐光性、ガスバリア性に優れるオルガノポリシロキサン系組成物および硬化物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリシロキサン組成物は、耐熱性、耐寒性、耐候性、耐光性、化学的安定性、電気特性、難燃性、耐水性、透明性、着色性、非粘着性、非腐食性に優れており、様々な産業で利用されている。中でも、多面体構造を有するポリシロキサンで構成された組成物は、その特異的な化学構造から、さらに優れた耐熱性、耐光性、化学的安定性、低誘電性等を示すことが知られており、その応用が期待されている。
【０００３】
しかし、ポリシロキサン組成物は優れた特性を持つ一方で、一般にガスバリア性が低いといった問題点を有している。そのためガスバリア性が低いポリシロキサン組成物を封止材として用いた場合、リフレクターが硫化物によって黒色化する問題があり、この問題に対して、例えば、特許文献１では、予め金属部材をガスバリア性の高いアクリル系樹脂でコーティング処理を行い、そのうえで、シリコーン樹脂で封止を行っている。しかしながら、該当技術で使用しているシリコーン樹脂自体のガスバリア性は低く、アクリル系樹脂でコーティング処理を行った後に、別途シリコーン樹脂で封止する等、手間がかかり、生産性に問題があった。
【０００４】
また、特許文献２において、多面体構造を有するポリシロキサン変性体を用いた組成物が開示されている。この組成物は、成型加工性、透明性、耐熱・耐光性、接着性に優れているが、ガスバリア性についてはさらなる改良の余地も残されていた。
上記のように、ポリシロキサンを用いた材料の開示は見られるが、成型加工性、透明性、耐熱・耐光性に加え、ガスバリア性に優れた材料の例は見られず、新たな材料の開発が求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２０６１２４
【特許文献２】ＷＯ０８／０１０５４５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
成型加工性、透明性、耐熱、耐光性、ガスバリア性に優れるオルガノポリシロキサン系組成物および硬化物を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解決すべく、鋭意研究を重ねた結果、
（Ａ）アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士をヒドロシリル化して得られるポリシロキサン化合物（ｂ）に、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）をヒドロシリル化反応させて得られるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物、
からなるオルガノポリシロキサン系組成物により、上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。すなわち、本発明は以下の構成を有するものである。
【０００８】
（１）． （Ａ）アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士をヒドロシリル化して得られるポリシロキサン化合物（ｂ）に、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）をヒドロシリル化反応させて得られる、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物、
からなるオルガノポリシロキサン系組成物であって、
前記（Ｂ）成分が、一般式（１）で表される化合物、一般式（２）で表される化合物、一般式（３）で表される化合物、一般式（４）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とするオルガノポリシロキサン系組成物。
一般式（１）
ＲＩaＲＩＩ （１）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩは２価以上の脂環式炭化水素基、または２価以上の芳香族炭化水素基、ａ≧２）
一般式（２）
ＲＩaＲＩＩＩbＳｉ （２）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ａ≧２、ｂ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝４）
一般式（３）
（ＲＩaＲＩＩＩbＳｉ）ｎ（ＲＩｃＲＩＩＩｄＳｉ）mＲＩＶ （３）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲＩＶは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
一般式（４）
（ＲＩaＲＩＩＩbＳｉＯ）ｎ（ＲＩｃＲＩＩＩｄＳｉＯ）mＲＩＶ （４）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲＩＶは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
（２）． 前記（Ｂ）成分が、平均分子量２０００以下の化合物であることを特徴とする（１）に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【０００９】
（３）． 前記（Ｂ）成分のＲＩＶが、下記構造で表される２価の炭化水素基であることを特徴とする（１）または（２）に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００１０】
【化１】
【００１１】
【化２】
【００１２】
【化３】
【００１３】
【化４】
【００１４】
【化５】
【００１５】
（４）． 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）のポリシロキサン化合物（ｂ）において、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）由来のアルケニル基もしくはヒドロシリル基のどちらか一方が残留していることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００１６】
（５）． 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）が、温度２０℃において、液状であることを特徴とする、（１）〜（４）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００１７】
（６）． 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）の分子中に少なくとも３個のヒドロシリル基を有する事を特徴とする、（１）〜（５）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００１８】
（７）． 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）のアルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）のアルケニル基が、ビニル基であることを特徴とする、（１）〜（６）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００１９】
（８）． 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）において、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）成分が、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を含有するシロキサン化合物であることを特徴とする、（１）〜（７）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２０】
（９）． 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）において、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）成分が、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する環状シロキサンであることを特徴とする、（８）に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２１】
（１０）． 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）において、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）成分が、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する直鎖状シロキサンであることを特徴とする、（８）に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２２】
（１１）． 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）が、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士をヒドロシリル化させて得られるポリシロキサン化合物（ｂ）を得た後、さらにヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）とをヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする、（１）〜（１０）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２３】
（１２）． ヒドロシリル化触媒を含有することを特徴とする、（１）〜（１１）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２４】
（１３）． 硬化遅延剤を含有することを特徴とする、（１）〜（１２）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２５】
（１４）． 接着性付与剤を含有することを特徴とする、（１）〜（１３）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２６】
（１５）． 無機フィラーを含有することを特徴とする、（１）〜（１４）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２７】
（１６）． （１）〜（１５）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物を硬化して得られる硬化物。
【００２８】
（１７）． （１）〜（１５）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物を用いてなる光素子封止剤。
【００２９】
（１８）． （１７）に記載の光素子封止剤を用いてなる光学デバイス。
【００３０】
（１９）． 該光素子封止剤の硬化後の透湿度が３０ｇ／ｍ２／２４ｈ以下であることを特徴とする（１８）に記載の光学デバイス。
【発明の効果】
【００３１】
成型加工性、透明性、耐熱、耐光性、ガスバリア性に優れるオルガノポリシロキサン系組成物および硬化物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
＜（Ａ）ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体＞
本発明の（Ａ）成分であるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体は、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士をヒドロシリル化して得られるポリシロキサン化合物（ｂ）に、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）をヒドロシリル化させて得ることができる。本発明の（Ａ）成分であるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体の製造においては、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士を分子間でヒドロシリル化反応させてポリシロキサン化合物（ｂ）を得た後、さらにヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）をヒドロシリル化反応させることにより、（Ａ）成分であるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体を得ることができる。
【００３３】
本発明における（Ａ）成分であるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体は、ハンドリング性・加工性の観点から温度２０℃において、液状であることが好ましい。
【００３４】
また、（Ａ）成分であるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体は、得られる硬化物の強度や硬度、さらには、耐熱性・耐光性等の観点から、分子中に少なくとも３個のヒドロシリル基を有することが好ましい。
【００３５】
＜アルケニル基およびヒドロキシル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）＞
本発明における（ａ）成分は、多面体構造を形成するＳｉ原子上に直接、または間接的にアルケニル基およびヒドロシリル基が結合したポリシロキサン系化合物であればよく、特に限定されない。
【００３６】
本発明において使用される多面体構造を形成するＳｉ原子上に直接、または間接的にアルケニル基およびヒドロシリル基が結合したポリシロキサン系化合物において、多面体構造に含有されるＳｉ原子の数は６〜２４であることが好ましく、具体的に、例えば、以下の構造で示される多面体構造を有するシルセスキオキサンが例示される（ここでは、Ｓｉ原子数＝８を代表例として例示する）。
【００３７】
【化６】
【００３８】
上記式中Ｒ1〜Ｒ8は、アルケニル基、アミノ基を有する有機基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヒドロシリル基またはこれらの基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部をハロゲン原子、シアノ基などで置換したクロロメチル基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、メルカプト基などから選択される同一又は異種の、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０の非置換又は置換の１価の炭化水素基である。アルケニル基の例として、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基等が挙げられる。アミノ基を有する有機基の例として、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、トリメチルアミノ基等が挙げられる。アルキル基の例として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。シクロアルキル基の例として、シクロヘキシル基等、アリール基の例として、フェニル基、トリル基等が挙げられる。
【００３９】
ただし、Ｒ１〜Ｒ８のうち、平均して、少なくとも１つはアルケニル基、また、少なくとも１つはヒドロシリル基である。前記アルケニル基においては、耐熱性の観点からビニル基が好ましく、アルケニル基以外の基が選択される場合は、耐熱性の観点からメチル基が好ましい。
【００４０】
上記、多面体構造を有するシルセスキオキサンは、例えば、ＲＳｉＸ３（式中Ｒは、上述のＲ１〜Ｒ８を表し、Ｘは、ハロゲン原子、アルコキシ基等の加水分解性官能基を表す）のシラン化合物の加水分解縮合反応によって、得ることができる。また、ＲＳｉＸ３の加水分解縮合反応によって分子内に３個のシラノール基を有するトリシラノール化合物を合成したのち、さらに、同一もしくは異なる３官能性シラン化合物を反応させることにより、閉環し、多面体構造を有するシルセスキオキサンを合成する方法も知られている。さらには、前記トリシラノール化合物に、１官能性シランおよび／または２官能性シランを反応させることにより、部分開裂型の多面体構造を有するシルセスキオキサンを合成することもできる。
【００４１】
本発明での多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）において、さらに好ましい例としては、以下の構造で示されるような多面体構造を有するシリル化ケイ酸が例示される（ここでは、Ｓｉ原子数＝８を代表例として例示する）。多面体骨格を形成するＳｉ原子とアルケニル基およびヒドロシリル基とが、シロキサン結合を介して結合していると、得られる硬化物の剛直になり過ぎず、良好な成形体を得ることができる。
【００４２】
【化７】
【００４３】
上記式中Ｒ９〜Ｒ３２は、アルケニル基、アミノ基を有する有機基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヒドロシリル基またはこれらの基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部をハロゲン原子、シアノ基などで置換したクロロメチル基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、メルカプト基などから選択される同一又は異種の、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０の非置換又は置換の１価の炭化水素基である。アルケニル基の例として、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基等が挙げられる。アミノ基を有する有機基の例として、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、トリメチルアミノ基等が挙げられる。アルキル基の例として、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。シクロアルキル基の例として、シクロヘキシル基等、アリール基の例として、フェニル基、トリル基等が挙げられる。これらＲ９〜Ｒ３２のうち、少なくとも１つはアルケニル基であり、また、少なくとも１つはヒドロシリル基である。前記アルケニル基においては、耐熱性の観点からビニル基が好ましく、アルケニル基以外の基が選択される場合も、耐熱性、耐光性の観点からメチル基が好ましい。
【００４４】
多面体構造を有するシリル化ケイ酸の合成方法としては、特に限定されず、公知の方法を用いて合成される。前記合成方法としては、具体的に、例えば、テトラエトキシシラン等のテトラアルコキシシランを４級アンモニウムヒドロキシド等の塩基存在下で加水分解縮合させる方法が挙げられる。
【００４５】
本合成方法においては、テトラアルコキシシランの加水分解縮合反応により、多面体構造を有するケイ酸塩が得られ、さらに得られたケイ酸塩をアルケニル基含有シリルクロライド、ヒドロシリル基含有シリルクロライド等のシリル化剤と反応させることにより、多面体構造を形成するＳｉ原子とアルケニル基およびヒドロシリル基とが、シロキサン結合を介して結合した多面体構造ポリシロキサン系化合物を得ることが可能となる。本発明においては、テトラアルコキシシランの替わりに、シリカや稲籾殻等のシリカ含有物質からも、同様の多面体構造を有するシリル化ケイ酸を得ることが可能である。
【００４６】
本発明においては、多面体構造に含有されるＳｉ原子の数として、６〜２４、さらに好ましくは、６〜１０のものを好適に用いることが可能である。また、Ｓｉ原子数の異なる多面体構造ポリシロキサン系化合物の混合物であってもよい。
【００４７】
本発明の（ａ）における多面体構造を形成するＳｉ原子上に存在するアルケニル基およびヒドロシリル基については、得られる多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）や多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）を用いて得られる硬化物の強度やガスバリア性、ハンドリング性、成形加工性の観点から、
（ｉ）［アルケニル基の数］−［ヒドロシリル基の数］＞２、もしくは、
（ｉｉ）［ヒドロシリル基の数］−［アルケニル基の数］＞２、
であることが好ましい。
【００４８】
また、本発明の（ａ）における多面体構造を形成するＳｉ原子上に存在するアルケニル基もしくはヒドロシリル基の少なくともいずれか一方が平均して２．５個以下、さらには、１．５個以下であることが好ましい。２．５個を超えると、後述のポリシロキサン化合物（ｂ）あるいは、多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）にゲル化が生じ、ハンドリング性や成形加工性等が低下する恐れがある。
【００４９】
一方、ガスバリア性の観点からは、本発明の（ａ）における多面体構造を形成するＳｉ原子上に存在するアルケニル基もしくはヒドロシリル基の少なくともいずれか一方が平均して０．５個以上、さらには、１．０個以上であることが好ましい。
【００５０】
＜ポリシロキサン化合物（ｂ）＞
本発明におけるポリシロキサン化合物（ｂ）は、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士を直接ヒドロシリル化反応により結合させて得ることができる。本発明におけるポリシロキサン化合物（ｂ）は、（ａ）由来のアルケニル基およびヒドロシリル基の反応により、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）の分子同士が直接結合することで、例えば、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）を用いて得られる硬化物の強度やガスバリア性、ダイシング性（切削加工性）を向上させることが可能となる。ここで、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）由来のアルケニル基およびヒドロシリル基のヒドロシリル化反応において、アルケニル基またはヒドロシリル基のどちらか一方が残留していることが、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）を用いて得られる硬化物の硬度や強度、ガスバリア性やダイシング性（切削加工性）の観点から好ましい。ここで、前記、アルケニル基またはヒドロシリル基のどちらか一方が残留した状態とは、アルケニル基もしくはヒドロシリル基の一方が実質的に消失してポリシロキサン化合物（ｂ）の１分子中に、平均して０．５個以下、好ましくは、０．２個以下、さらに好ましくは０個の状態となり、他方、残留する置換基の数がポリシロキサン化合物（ｂ）１分子中に、平均して、１．５個、好ましくは２個、さらに好ましくは、２．５個以上の状態となることをさす。このとき、ガスバリア性の観点からは、残留する置換基の数がさらに多くなることがより好ましい。
【００５１】
また、具体的に例えば、最終的に得られるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）やヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）を含有する組成物を硬化させて得られる硬化物の耐熱性や耐光性の観点から、アルケニル基のみが残留していることが好ましい。
【００５２】
また、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士をヒドロシリル化反応させてポリシロキサン化合物（ｂ）を得る際には、ヒドロシリル化触媒を用いることができる。前記ヒドロシリル化触媒としては、特に制限はなく、任意のものを使用することができる。具体的に例示すると、白金−オレフィン錯体、塩化白金酸、白金の単体、担体（アルミナ、シリカ、カーボンブラック等）に固体白金を担持させたもの；白金−ビニルシロキサン錯体｛例えば、Ｐｔｎ（ＶｉＭｅ２ＳｉＯＳｉＭｅ２Ｖｉ）ｎ、Ｐｔ〔（ＭｅＶｉＳｉＯ）４〕ｎ｝；白金−ホスフィン錯体｛例えば、Ｐｔ（ＰＰｈ３）４、Ｐｔ（ＰＢｕ３）４｝；白金−ホスファイト錯体｛例えば、Ｐｔ〔Ｐ（ＯＰｈ）３〕４、Ｐｔ〔Ｐ（ＯＢｕ）３〕４｝（式中、Ｍｅはメチル基、Ｂｕはブチル基、Ｖｉはビニル基、Ｐｈはフェニル基を表し、ｎ、ｍは整数を表す）、Ｐｔ（ａｃａｃ）２、また、Ａｓｈｂｙらの米国特許第３１５９６０１及び３１５９６６２号明細書中に記載された白金−炭化水素複合体、並びにＬａｍｏｒｅａｕｘらの米国特許第３２２０９７２号明細書中に記載された白金アルコラ−ト触媒も挙げられる。
【００５３】
また、白金化合物以外の触媒の例としては、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ３）３、ＲｈＣｌ３、Ｒｈ／Ａl２Ｏ３、ＲｕＣｌ３、ＩｒＣｌ３、ＦｅＣｌ３、ＡｌＣｌ３、ＰｄＣｌ２・２Ｈ２Ｏ、ＮｉＣｌ２、ＴｉＣｌ４、等が挙げられる。これらの触媒は単独で使用してもよく、２種以上併用しても構わない。触媒活性の点から塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体、Ｐｔ（ａｃａｃ）2等が好ましい。
【００５４】
ヒドロシリル化反応の反応温度としては、３０〜４００℃、さらに好ましくは、４０〜２５０℃であることが好ましい。また、ポリシロキサン化合物（ｂ）にヒドロシリル化触媒が残存する場合は、残存するヒドロシリル化触媒を、次の（ｃ）とヒドロシリル化する際のヒドロシリル化触媒として用いることも可能である。
【００５５】
＜ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）＞
本発明におけるヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）は、分子中にヒドロシリル基またはアルケニル基を平均して１個以上含有する化合物であれば特に制限はないが、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）のハンドリング性、成形加工性、透明性、あるいは、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）を用いて得られる硬化物の透明性、耐熱性、耐光性の観点から、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を含有するシロキサン化合物、さらには、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する環状シロキサン、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する直鎖状シロキサン、特には、耐青色レーザー性やガスバリア性等の観点から、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する環状シロキサンが好ましいものとして例示される。
【００５６】
本発明におけるヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）は単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５７】
前記アルケニル基を有する直鎖状シロキサンとしては、ジメチルシロキサン単位とメチルビニルシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、ジフェニルシロキサン単位とメチルビニルシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、メチルフェニルシロキサン単位とメチルビニルシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、ジメチルビニルシリル基で末端が封鎖されたポリシロキサン、などが例示される。
【００５８】
前記アルケニル基を有する環状シロキサンとしては、１，３，５，７−ビニル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１−プロピル−３，５，７−トリビニル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１，５−ジビニル−３，７−ジヘキシル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５−トリビニル−トリメチルシクロシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタビニル−１，３，５，７，９−ペンタメチルシクロシロキサン、１，３，５，７，９，１１−ヘキサビニル−１，３，５，７，９，１１−ヘキサメチルシクロシロキサンなどが例示される。
前記ヒドロシリル基を有する直鎖状シロキサンの具体例としては、ジメチルシロキサン単位とメチルハイドロジェンシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、ジフェニルシロキサン単位とメチルハイドロジェンシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、メチルフェニルシロキサン単位とメチルハイドロジェンシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、ジメチルハイドロジェンシリル基で末端が封鎖されたポリシロキサン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、などが例示される。
【００５９】
前記ヒドロシリル基を有する環状シロキサンの具体例としては、１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１−プロピル−３，５，７−トリハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１，５−ジハイドロジェン−３，７−ジヘキシル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５−トリハイドロジェン−トリメチルシクロシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタハイドロジェン−１，３，５，７，９−ペンタメチルシクロシロキサン、１，３，５，７，９，１１−ヘキサハイドロジェン−１，３，５，７，９，１１−ヘキサメチルシクロシロキサンなどが例示される。
【００６０】
本発明におけるヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）は、耐熱性・耐光性の観点から、Ｓｉ原子上は、水素原子、ビニル基、メチル基から構成されることが好ましく、さらには、１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンが入手性にも優れていることから好ましい。また、特には、耐青色レーザー性やガスバリア性の観点から、１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンが好ましい。
【００６１】
ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）の添加量は、ポリシロキサン化合物（ｂ）にアルケニル基が残留している場合、残留するアルケニル基１個あたり、（ｃ）成分のＳｉ原子に直結した水素原子の数が１個より多いことが好ましく、さらに好ましくは２．５〜２０個になるように用いることであるが、化合物に依存する。添加量が少ないと、架橋反応によりゲル化が生じてハンドリング性の劣るヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）となり、多すぎると、（Ａ）を用いて得られる硬化物の物性に悪影響を及ぼす場合がある。さらには、過剰量の（ｃ）成分を存在させるため、例えば減圧・加熱条件下にて、未反応の（ｃ）成分を取り除くことが好ましい。
【００６２】
また、ポリシロキサン化合物（ｂ）にヒドロシリル基が残留している場合、残留するヒドロシリル基１個あたり、（ｃ）成分のＳｉ原子に直結したアルケニル基の数が１個より少ないことが好ましく、さらに好ましくは０．０５〜０．４個になるように用いることであるが、化合物に依存する。添加量が少ないと、硬化物の物性に悪影響を及ぼす場合があり、多すぎると、架橋反応によりゲル化が生じてハンドリング性の劣るヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）となる。
【００６３】
＜（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物＞
本発明における（Ｂ）成分であるアルケニル基を２個以上含有する化合物は、前記（Ａ）成分とヒドロシリル化反応により硬化する。本発明における（Ｂ）成分は（Ａ）成分との相溶性が良く、（Ａ）成分および（Ｂ）成分を用いたオルガノポリシロキサン系組成物は、成型加工性に優れている。また、（Ａ）成分および（Ｂ）成分を用いたオルガノポリシロキサン系組成物を硬化させることで、皺による硬化ムラがなく、透明で、耐熱・耐光性がよく、高いガスバリア性を持つ硬化物が得られる。
【００６４】
本発明における（Ｂ）成分は、１分子中にアルケニル基を２個以上含有していればよく、さらに好ましくは２〜１０個である。１分子中のアルケニル基の数が多いと、より架橋構造をとり、ガスバリア性が向上するが、多すぎると耐熱・耐光性が低下する恐れもある。
【００６５】
本発明における（Ｂ）成分は、下記一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）で示される化合物であればよい。
一般式（１）
ＲＩaＲＩＩ （１）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩは２価以上の脂環式炭化水素基、または２価以上の芳香族炭化水素基、ａ≧２）
一般式（２）
ＲＩaＲＩＩＩbＳｉ （２）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ａ≧２、ｂ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝４）
一般式（３）
（ＲＩaＲＩＩＩbＳｉ）ｎ（ＲＩｃＲＩＩＩｄＳｉ）mＲＩＶ （３）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲＩＶは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
一般式（４）
（ＲＩaＲＩＩＩbＳｉＯ）ｎ（ＲＩｃＲＩＩＩｄＳｉＯ）mＲＩＶ （４）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲＩＶは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
これらは、単独で用いても良く、２種類以上併用して用いてもよい。
【００６６】
このような（Ｂ）成分が、一般式（１）
ＲＩaＲＩＩ （１）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩは２価以上の脂環式炭化水素基、または２価以上の芳香族炭化水素基、ａ≧２）で表される化合物の場合、具体的に例えば、１，２−ジビニルベンゼン、１，４−ジビニルベンゼン、１，３，５−トリビニルベンゼン、１，２，４，５−テトラビニルベンゼン、１，２−ジアリルベンゼン、１，４−ジアリルベンゼン、１，３，５−トリアリルベンゼン、１，２，４，５−テトラアリルベンゼン、１，５−ジビニルナフタレン、１，６−ジビニルナフタレン、１，７−ジビニルナフタレン、１，８−ジビニルナフタレン、２，６−ジビニルナフタレン、２，７−ジビニルナフタレン、１，５−ジアリルナフタレン、１，６−ジアリルナフタレン、１，７−ジアリルナフタレン、１，８−ジアリルナフタレン、２，６−ジアリルナフタレン、２，７−ジアリルナフタレン、１，６−ジビニルアントラセン、１，７−ジビニルアントラセン、１，８−ジビニルアントラセン、１，９−ジビニルアントラセン、２，７−ジビニルアントラセン、２，８−ジビニルアントラセン、１，６−ジアリルアントラセン、１，７−ジアリルアントラセン、１，８−ジアリルアントラセン、１，９−ジアリルアントラセン、２，７−ジアリルアントラセン、２，８−ジアリルアントラセン、１，２−ジビニルシクロヘキサン、１，３−ジビニルシクロヘキサン、１，４−ジビニルシクロヘキサン、１，２−ジアリルシクロヘキサン、１，３−ジアリルシクロヘキサン、１，４−ジアリルシクロヘキサン、１，２，４−トリビニルシクロヘキサン、１，３，５−トリビニルシクロヘキサン、１，２，４−トリアリルシクロヘキサン、１，３，５−トリアリルシクロヘキサン、１，２，４，５−テトラビニルシクロヘキサン、１，２，４，５−テトラアリルシクロヘキサン等が挙げられる。
【００６７】
中でも、（Ａ）成分との相溶性、硬化物の透明性、ガスバリア性、耐熱性、耐光性の観点から、１，２−ジビニルベンゼン、１，４−ジビニルベンゼン、１，３，５−トリビニルベンゼン、１，２，４，５−テトラビニルベンゼンが好ましい例として挙げられる。
【００６８】
また、（Ｂ）成分が、一般式（２）
ＲＩaＲＩＩＩbＳｉ （２）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ａ≧２、ｂ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝４）で表される化合物の場合、具体的に例えば、ジビニルジメチルシラン、ジビニルシクロヘキシルメチルシラン、ジビニルフェニルメチルシラン、ジビニルジシクロヘキシルシラン、ジビニルジフェニルシラン、ジアリルジメチルシラン、ジアリルシクロヘキシルメチルシラン、ジアリルフェニルメチルシラン、ジアリルジシクロヘキシルシラン、ジアリルジフェニルシラン、トリビニルメチルシラン、トリビニルシクロヘキシルシラン、トリビニルフェニルシラン、トリアリルメチルシラン、トリアリルシクロヘキシルシラン、トリアリルフェニルシラン、テトラビニルシラン、テトラアリルシラン等が挙げられる。
【００６９】
中でも、（Ａ）成分との相溶性、硬化物の透明性、ガスバリア性、耐熱性、耐光性の観点から、ジビニルジメチルシラン、ジビニルシクロヘキシルメチルシラン、ジビニルフェニルメチルシラン、ジビニルジシクロヘキシルシラン、ジビニルジフェニルシランが好ましい例として挙げられる。
【００７０】
また、（Ｂ）成分が、一般式（３）
（ＲＩaＲＩＩＩbＳｉ）ｎ（ＲＩｃＲＩＩＩｄＳｉ）mＲＩＶ （３）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲＩＶは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）で表される化合物の場合、
ＲＩＶが２価以上の脂肪族炭化水素基では、具体的に例えば、ビス（ビニルジメチルシリル）メタン、トリス（ビニルジメチルシリル）メタン、テトラキス（ビニルジメチルシリル）メタン、ビス（ビニルフェニルメチルシリル）メタン、トリス（ビニルフェニルメチルシリル）メタン、テトラキス（ビニルフェニルメチルシリル）メタン、ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）メタン、トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）メタン、テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）メタン、ビス（ビニルジフェニルシリル）メタン、トリス（ビニルジフェニルシリル）メタン、テトラキス（ビニルジフェニルシリル）メタン、（ビニルジメチルシリル）（ジビニルメチルシリル）メタン、（ビニルフェニルメチルシリル）（ジビニルメチルシリル）メタン、（ビニルジメチルシリル）（ジビニルフェニルシリル）メタン、ビス（ジビニルメチルシリル）メタン、トリス（ジビニルメチルシリル）メタン、テトラキス（ジビニルメチルシリル）メタン、ビス（ジビニルフェニルシリル）メタン、トリス（ジビニルフェニルシリル）メタン、テトラキス（ジビニルフェニルシリル）メタン、ビス（トリビニルシリル）メタン、トリス（トリビニルシリル）メタン、テトラキス（トリビニルシリル）メタン、１，２−ビス（ビニルジメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ビニルジフェニルシリル）エタン、１，２−ビス（ジビニルメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジビニルフェニルシリル）エタン、１，２−ビス（トリビニルシリル）エタン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）プロパン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）プロパン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）プロパン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）プロパン、１，３−ビス（トリビニルシリル）プロパン、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ブタン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）ブタン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）ブタン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）ブタン、１，４−ビス（トリビニルシリル）ブタン、１，５−ビス（ビニルジメチルシリル）ペンタン、１，５−ビス（ビニルジフェニルシリル）ペンタン、１，５−ビス（ジビニルメチルシリル）ペンタン、１，５−ビス（ジビニルフェニルシリル）ペンタン、１，５−ビス（トリビニルシリル）ペンタン等が挙げられる。
【００７１】
また、ＲＩＶが２価以上の脂環式炭化水素基である場合、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（トリビニルシリル）シクロヘキサン等が挙げられる。
【００７２】
また、ＲＩＶが２価以上の芳香族炭化水素基である場合、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（トリビニルシリル）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルジフェニルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルフェニルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（トリビニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（トリビニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ジビニルメチルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシリル）アントラセン、２，７−ビス（トリビニルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ビニルジメチルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ビニルジフェニルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ジビニルメチルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ジビニルフェニルシリル）アントラセン、２，８−ビス（トリビニルシリル）アントラセン等が挙げられる。
ＲＩＶは２価以上の炭化水素基であれば特に問題ないが、ＲＩＶが、下記構造で表される２価の炭化水素基であることが耐熱、耐光性の観点から、より好ましい例として挙げられる。
【００７３】
【化８】
【００７４】
【化９】
【００７５】
【化１０】
【００７６】
【化１１】
【００７７】
【化１２】
【００７８】
このような（Ｂ）成分として、一般式（３）の好ましい例としては、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリビニルシリル）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルジフェニルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルフェニルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（トリビニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（トリビニルシリル）ナフタレン、４，４’−ビス（ビニルジメチルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルジフェニルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ジビニルメチルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ジビニルフェニルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（トリビニルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルジメチルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルジフェニルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ジビニルメチルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ジビニルフェニルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（トリビニルシリル）ビフェニル、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルフェニルメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルシクロヘキシルメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルジフェニルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ジビニルメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ジビニルフェニルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−トリビニルシリルフェニレン）プロパン等が挙げられる。
中でも、（Ａ）成分との相溶性、硬化物の透明性、ガスバリア性、耐熱性、耐光性の観点から、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、４，４’−ビス（ビニルジメチルシリル）ビフェニル、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシリルフェニレン）プロパンが、さらに好ましい例として挙げられる。
【００７９】
また、（Ｂ）成分が、一般式（４）
（ＲＩaＲＩＩＩbＳｉＯ）ｎ（ＲＩｃＲＩＩＩｄＳｉＯ）mＲＩＶ （４）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲＩＶは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）で表される化合物の場合、
ＲＩＶが２価以上の脂肪族炭化水素基では、具体的に例えば、ビス（ビニルジメチルシロキシ）メタン、トリス（ビニルジメチルシロキシ）メタン、テトラキス（ビニルジメチルシロキシ）メタン、ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）メタン、トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）メタン、テトラキス（ビニルフェニルメチルシロキシ）メタン、ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）メタン、トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）メタン、テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）メタン、ビス（ビニルジフェニルシロキシ）メタン、トリス（ビニルジフェニルシロキシ）メタン、テトラキス（ビニルジフェニルシロキシ）メタン、（ビニルジメチルシロキシ）（ジビニルメチルシロキシ）メタン、（ビニルフェニルメチルシロキシ）（ジビニルメチルシロキシ）メタン、（ビニルジメチルシロキシ）（ジビニルフェニルシロキシ）メタン、ビス（ジビニルメチルシロキシ）メタン、トリス（ジビニルメチルシロキシ）メタン、テトラキス（ジビニルメチルシロキシ）メタン、ビス（ジビニルフェニルシロキシ）メタン、トリス（ジビニルフェニルシロキシ）メタン、テトラキス（ジビニルフェニルシロキシ）メタン、ビス（トリビニルシロキシ）メタン、トリス（トリビニルシロキシ）メタン、テトラキス（トリビニルシロキシ）メタン、１，２−ビス（ビニルジメチルシロキシ）エタン、１，２−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）エタン、１，２−ビス（ジビニルメチルシロキシ）エタン、１，２−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）エタン、１，２−ビス（トリビニルシロキシ）エタン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）プロパン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）プロパン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）プロパン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）プロパン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）プロパン、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ブタン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ブタン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ブタン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ブタン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）ブタン、１，５−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ペンタン、１，５−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ペンタン、１，５−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ペンタン、１，５−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ペンタン、１，５−ビス（トリビニルシロキシ）ペンタン等が挙げられる。
【００８０】
また、ＲＩＶが２価以上の脂環式炭化水素基である場合、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン等が挙げられる。
【００８１】
また、ＲＩＶが２価以上の芳香族炭化水素基である場合、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（トリビニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（トリビニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ジビニルメチルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（トリビニルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ビニルジメチルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ジビニルメチルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（トリビニルシロキシ）アントラセン等が挙げられる。
【００８２】
ＲＩＶが２価以上の炭化水素基であれば特に問題ないが、ＲＩＶが、下記構造で表される２価の炭化水素基であることが耐熱、耐光性の観点から、より好ましい例として挙げられる。
【００８３】
【化１３】
【００８４】
【化１４】
【００８５】
【化１５】
【００８６】
【化１６】
【００８７】
【化１７】
【００８８】
このような（Ｂ）成分として、一般式（４）の好ましい例としては、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（トリビニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（トリビニルシロキシ）ナフタレン、４，４’−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（トリビニルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（トリビニルシロキシ）ビフェニル、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルフェニルメチルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルシクロヘキシルメチルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルジフェニルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ジビニルメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ジビニルフェニルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−トリビニルシロキシフェニレン）プロパン等が挙げられる。
【００８９】
中でも、（Ａ）成分との相溶性、硬化物の透明性、ガスバリア性、耐熱性、耐光性の観点から、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、４，４’−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ビフェニル、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシロキシフェニレン）プロパンが、さらに好ましい例として挙げられる。
これらは、単独で用いても良く、２種類以上併用して用いてもよい。
【００９０】
本発明における（Ｂ）成分は、平均分子量が２０００以下であることが（Ａ）成分との相溶性の観点から好ましく、１５００以下であることがより好ましく、さらには１００〜１０００が好ましい例として挙げられる。重量平均分子量が小さいと、（Ｂ）成分がポリシロキサン組成物の系内から揮発しやすくなり、望まれた物性が得られないことがある。また、重量平均分子量が多いと、得られた硬化物の水蒸気透過率が高くなるなど、ガスバリア性が低くなることがある。
【００９１】
本発明における（Ｂ）成分の添加量は種々設定できるが、アルケニル基１個あたり、多面体構造ポリシロキサン系化合物に含まれるＳｉ原子に直結した水素原子が０．３〜５個、好ましくは、０．５〜３個となる割合で添加されることが望ましい。アルケニル基の割合が少なすぎると、発泡等による外観不良が生じやすくなり、また、多すぎると硬化物の物性に悪影響を及ぼす場合がある。
【００９２】
＜硬化触媒＞
本発明では、オルガノポリシロキサン系組成物を硬化させる際に、ヒドロシリル化触媒を用いる。
【００９３】
本発明で用いるヒドロシリル化触媒としては、通常ヒドロシリル化触媒として公知のものを用いることができ特に制限はない。
【００９４】
具体的には例示すれば、白金−オレフィン錯体、塩化白金酸、白金の単体、担体（アルミナ、シリカ、カーボンブラック等）に固体白金を担持させたもの；白金−ビニルシロキサン錯体、例えば、Ｐｔn（ＶｉＭｅ2ＳｉＯＳｉＭｅ2Ｖｉ）n、Ｐｔ〔（ＭｅＶｉＳｉＯ）4〕m；白金−ホスフィン錯体、例えば、Ｐｔ（ＰＰｈ3）4、Ｐｔ（ＰＢｕ3）4；白金−ホスファイト錯体、例えば、Ｐｔ〔Ｐ（ＯＰｈ）3〕4、Ｐｔ〔Ｐ（ＯＢｕ）3〕4（式中、Ｍｅはメチル基、Ｂｕはブチル基、Ｖｉはビニル基、Ｐｈはフェニル基を表し、ｎ、ｍは整数を表す）、Ｐｔ（ａｃａｃ）2、また、Ａｓｈｂｙらの米国特許第３１５９６０１及び３１５９６６２号明細書中に記載された白金−炭化水素複合体、並びにＬａｍｏｒｅａｕｘらの米国特許第３２２０９７２号明細書中に記載された白金アルコラ−ト触媒も挙げられる。
【００９５】
また、白金化合物以外の触媒の例としては、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3、ＲｈＣｌ3、Ｒｈ／Ａl2Ｏ3、ＲｕＣｌ3、ＩｒＣｌ3、ＦｅＣｌ3、ＡｌＣｌ3、ＰｄＣｌ2・２Ｈ2Ｏ、ＮｉＣｌ2、ＴｉＣｌ4、等が挙げられる。これらの触媒は単独で使用してもよく、２種以上併用しても構わない。触媒活性の点から塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体、Ｐｔ（ａｃａｃ）2等が好ましい。
【００９６】
＜硬化遅延剤＞
硬化遅延剤は、本発明のオルガノポリシロキサン系組成物の保存安定性を改良あるいは、硬化過程でのヒドロシリル化反応の反応性を調整するための成分である。本発明においては、硬化遅延剤としては、ヒドロシリル化触媒による付加型硬化性組成物で用いられている公知のものが使用でき、具体的には脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リン化合物、有機イオウ化合物、窒素含有化合物、スズ系化合物、有機過酸化物等が挙げられる。これらを単独使用、または２種以上併用してもよい。
【００９７】
前記の脂肪族不飽和結合を含有する化合物としては、具体的には３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチン、３−ヒドロキシ−３−フェニル−１−ブチン、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、１−エチニル−１−シクロヘキサノール等のプロパギルアルコール類、エン−イン化合物類、無水マレイン酸、マレイン酸ジメチル等のマレイン酸エステル類等が例示できる。
【００９８】
有機リン化合物としては、具体的にはトリオルガノフォスフィン類、ジオルガノフォスフィン類、オルガノフォスフォン類、トリオルガノフォスファイト類等が例示できる。
【００９９】
有機イオウ化合物としては、具体的にはオルガノメルカプタン類、ジオルガノスルフィド類、硫化水素、ベンゾチアゾール、チアゾール、ベンゾチアゾールジサルファイド等が例示できる。
【０１００】
窒素含有化合物としては、具体的にはＮ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−１，４−ブタンジアミン、２，２’−ビピリジン等が例示できる。
【０１０１】
スズ系化合物としては、具体的にはハロゲン化第一スズ２水和物、カルボン酸第一スズ等が例示できる。
【０１０２】
有機過酸化物としては、具体的にはジ−ｔ−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、過安息香酸ｔ−ブチル等が例示されうる。これらのうち、マレイン酸ジメチル、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、１−エチニル−１−シクロヘキサノールが、特に好ましい硬化遅延剤として例示できる。
【０１０３】
硬化遅延剤の添加量は、特に限定するものではないが、ヒドロシリル化触媒１モルに対して１０−１〜１０３モルの範囲で用いるのが好ましく、１〜１００モルの範囲で用いるのがより好ましい。また、これらの硬化遅延剤は単独で使用してもよく、２種類以上組み合わせて使用してもよい。
＜接着性付与剤＞
接着性付与剤は本発明におけるオルガノポリシロキサン系組成物と基材との接着性を向上する目的で用いるものであり、その様な効果があるものであれば特に制限はないが、シランカップリング剤が好ましい例として例示できる。
【０１０４】
シランカップリング剤としては、分子中に有機基と反応性のある官能基と加水分解性のケイ素基を各々少なくとも１個有する化合物であれば特に限定されない。有機基と反応性のある基としては、取扱い性の点からエポキシ基、メタクリル基、アクリル基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、ビニル基、カルバメート基から選ばれる少なくとも１個の官能基が好ましく、硬化性及び接着性の点から、エポキシ基、メタクリル基、アクリル基が特に好ましい。加水分解性のケイ素基としては取扱い性の点からアルコキシシリル基が好ましく、反応性の点からメトキシシリル基、エトキシシリル基が特に好ましい。
【０１０５】
好ましいシランカップリング剤としては、具体的には３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン等のエポキシ官能基を有するアルコキシシラン類：３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、アクリロキシメチルトリメトキシシラン、アクリロキシメチルトリエトキシシラン等のメタクリル基あるいはアクリル基を有するアルコキシシラン類が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、２種類以上併用してもよい。
【０１０６】
シランカップリング剤の添加量としては、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の混合物１００重量部に対して、０．０５〜３０重量部であることが好ましく、さらに好ましくは、０．１〜１０重量部である。添加量が少ないと接着性改良効果が表れず、添加量が多いと硬化物の物性に悪影響を及ぼす場合がある。
【０１０７】
本発明においては、接着性付与剤の効果を高めるために、公知の接着性促進剤を用いることができる。接着性促進剤としては、エポキシ含有化合物、エポキシ樹脂、ボロン酸エステル化合物、有機アルミニウム化合物、有機チタン化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１０８】
＜無機フィラー＞
本発明のオルガノポリシロキサン系組成物は、必要に応じて無機フィラーを添加することができる。
【０１０９】
本発明のオルガノポリシロキサン系組成物の組成分として無機フィラーを用いることにより、得られる成形体の強度、硬度、弾性率、熱膨張率、熱伝導率、放熱性、電気的特性、光の反射率、難燃性、耐火性、およびガスバリア性等の諸物性を改善することができる。
【０１１０】
無機フィラーは、無機物もしくは無機物を含む化合物であれば特に限定されないが、具体的に例えば、石英、ヒュームドシリカ、沈降性シリカ、無水ケイ酸、溶融シリカ、結晶性シリカ、超微粉無定型シリカ等のシリカ系無機フィラー、アルミナ、ジルコン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミ、炭化ケイ素、ガラス繊維、ガラスフレーク、アルミナ繊維、炭素繊維、マイカ、黒鉛、カーボンブラック、フェライト、グラファイト、ケイソウ土、白土、クレー、タルク、水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、炭酸マンガン、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウム、ケイ酸カルシウム、無機バルーン、銀粉等を挙げることができる。これらは、単独で用いてもよく、２種類以上併用してもよい。
【０１１１】
無機フィラーは、適宜表面処理をほどこしてもよい。表面処理としては、アルキル化処理、トリメチルシリル化処理、シリコーン処理、カップリング剤による処理等が挙げられるが、特に限定されるものではない。
【０１１２】
前記カップリング剤の例としては、シランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、分子中に有機基と反応性のある官能基と加水分解性のケイ素基を各々少なくとも１個有する化合物であれば特に限定されない。有機基と反応性のある基としては、取扱い性の点からエポキシ基、メタクリル基、アクリル基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、ビニル基、カルバメート基から選ばれる少なくとも１個の官能基が好ましく、硬化性及び接着性の点から、エポキシ基、メタクリル基、アクリル基が特に好ましい。加水分解性のケイ素基としては取扱い性の点からアルコキシシリル基が好ましく、反応性の点からメトキシシリル基、エトキシシリル基が特に好ましい。
【０１１３】
好ましいシランカップリング剤としては、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン等のエポキシ官能基を有するアルコキシシラン類：３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、アクリロキシメチルトリメトキシシラン、アクリロキシメチルトリエトキシシラン等のメタクリル基あるいはアクリル基を有するアルコキシシラン類が挙げられる。
【０１１４】
上記無機フィラーをオルガノポリシロキサン系組成物の組成分として用いることにより、得られる成形体の強度、硬度、弾性率、熱膨張率、熱伝導率、放熱性、電気的特性、光の反射率、難燃性、耐火性等の諸物性を改善することができる。
【０１１５】
無機フィラーの形状としては、破砕状、片状、球状、棒状等、各種用いることができる。無機フィラーの平均粒径や粒径分布は、特に限定されるものではないが、平均粒径が０．００５〜１００μｍであることが好ましく、さらには０．０１〜５０μｍであることが好ましい。同様に、比表面積についても、特に限定されない。
【０１１６】
無機フィラーの添加量は特に限定されないが、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の混合物１００重量部に対して、１〜１０００重量部、よりこの好ましくは、５〜５００重量部、さらに好ましくは、１０〜３００重量部である。無機フィラーの添加量が多すぎると、流動性が悪くなる場合があり、少ないと、得られる成型体の物性が不十分となる場合がある。
【０１１７】
無機フィラーの混合の順序としては、特に限定されないが、貯蔵安定性が良好になりやすいという点においては、（Ｂ）成分に混ぜた後、（Ａ）成分を混合する方法が望ましい。また、反応成分である（Ａ）成分、（Ｂ）成分がよく混合され安定した成形物が得られやすいという点においては、（Ａ）成分、（Ｂ）成分を混合したものに、無機フィラーを混合することが好ましい。
【０１１８】
これら無機フィラーを混合する手段としては、特に限定されるものではないが、具体的に例えば、２本ロールあるいは３本ロール、遊星式撹拌脱泡装置、ホモジナイザー、ディゾルバー、プラネタリーミキサー等の撹拌機、プラストミル等の溶融混練機等が挙げられる。無機フィラーの混合は、常温で行ってもよいし加熱して行ってもよく、また、常圧下に行ってもよいし減圧状態で行ってもよい。混合する際の温度が高いと、成型する前に組成物が硬化する場合がある。
【０１１９】
＜オルガノポリシロキサン系組成物および硬化物＞
本発明のオルガノポリシロキサン系組成物は、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）に、アルケニル基を２個以上含有する化合物（Ｂ）、必要に応じて、ヒドロシリル化触媒、硬化遅延剤、接着性付与剤を加えることにより得ることができる。本発明のオルガノポリシロキサン系組成物は、液状樹脂組成物として取り扱うことが可能であり、成型加工性に優れる。この液状組成物を、型、パッケージ、基板等に流し込み、加熱して硬化させることで容易に成型体を得ることができる。本発明のオルガノポリシロキサン系組成物によって得られる成型体は、透明性、耐熱、耐光性、ガスバリア性に優れるに優れる。
【０１２０】
硬化させる際に温度を加える場合は、好ましくは、３０〜４００℃、さらに好ましくは５０〜２５０℃である。硬化温度が高くなり過ぎると、得られる硬化物に外観不良が生じる傾向があり、低すぎると硬化が不十分となる。また、２段階以上の温度条件を組み合わせて硬化させてもよい。具体的には例えば、７０℃、１２０℃、１５０℃の様に段階的に硬化温度を引き上げていくことで、良好な硬化物を得ることができ好ましい。
【０１２１】
本発明においては、必要に応じて、ヒドロシリル化触媒を追加して用いることができる。
【０１２２】
硬化時間は硬化温度、用いるヒドロシリル化触媒の量及びヒドロシリル基の量、その他、本願組成物のその他の配合物の組み合わせにより適宜選択することができるが、あえて例示すれば、１分〜１２時間、好ましくは１０分〜８時間行うことにより、良好な硬化物を得ることができる。
【０１２３】
本発明におけるオルガノポリシロキサン系組成物は、具体的に例えば、パッケージや基板などに、注入あるいは塗布して使用することが可能である。注入あるいは塗布した後、上述の硬化条件にて、硬化させることで、用途に応じた成型体を容易に得ることができる。
【０１２４】
また、本発明のオルガノポリシロキサン系組成物には、必要に応じて蛍光体、着色剤、耐熱性向上剤などの各種添加剤や反応制御剤、離型剤あるいは充填剤用分散剤などを任意で添加することができる。この充填剤用分散剤としては、例えば、ジフェニルシランジオール、各種アルコキシシラン、カーボンファンクショナルシラン、シラノール基含有低分子量シロキサンなどが挙げられる。なお、これら任意成分は、本発明の効果を損なわないように最小限の添加量に止めることが好ましい。
【０１２５】
本発明に用いるオルガノポリシロキサン系組成物は、上記した成分をロール、バンバリーミキサー、ニーダーなどの混練機を用いたり、遊星式攪拌脱泡機を用いて均一に混合し、必要に応じ加熱処理を施したりしてもよい。
【０１２６】
本発明のオルガノポリシロキサン系組成物は、成形体として使用することができる。成形方法としては、押出成形、圧縮成形、ブロー成形、カレンダー成形、真空成形、発泡成形、射出成形、液状射出成形、注型成形などの任意の方法を使用することができる。
本発明によるオルガノポリシロキサン系組成物から得られる成形体は、耐熱性、耐光性に優れ、光学材料用組成物として用いることができる。ここで言う光学材料とは、可視光、赤外線、紫外線、Ｘ線、レーザーなどの光をその材料中を通過させる用途に用いる材料一般を示す。
【０１２７】
本発明において得られる変性体および組成物の用途としては、具体的には、カラーフィルター、レジスト材料、液晶ディスプレイ分野における基板材料、パッシベーション膜、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、偏光子保護フィルムなどの液晶用フィルムなどの液晶表示装置周辺材料が例示される。
【０１２８】
また、次世代フラットパネルディスプレイとして期待されるカラーＰＤＰ（プラズマディスプレイ）の封止剤、反射防止フィルム、光学補正フィルム、ハウジング材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、ＬＥＤ表示装置に使用されるＬＥＤ素子のモールド材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、プラズマアドレス液晶（ＰＡＬＣ）ディスプレイにおける基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、偏光子保護フィルム。
【０１２９】
有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイにおける前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）における各種フィルム基板、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤が例示される。
【０１３０】
光記録分野では、ＶＤ（ビデオディスク）、ＣＤ／ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ／ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＭＯ／ＭＤ、ＰＤ（相変化ディスク）、光カード用のディスク基板材料、ピックアップレンズ、保護フィルム、封止剤、接着剤が例示される。
【０１３１】
光学機器分野では、スチールカメラのレンズ用材料、ファインダプリズム、ターゲットプリズム、ファインダーカバー、受光センサー部が例示される。また、ビデオカメラの撮影レンズ、ファインダーが例示される。またプロジェクションテレビの投射レンズ、保護フィルム、封止剤、接着剤などが例示される。光センシング機器のレンズ用材料、封止剤、接着剤、フィルムなどが例示される。
【０１３２】
光部品分野では、光通信システムでの光スイッチ周辺のファイバー材料、レンズ、導波路、素子の封止剤、接着剤などが例示される。
光コネクタ周辺の光ファイバー材料、フェルール、封止剤、接着剤などが例示される。
光受動部品、光回路部品ではレンズ、導波路、ＬＥＤ素子の封止剤、接着剤などが例示される。
光電子集積回路（ＯＥＩＣ）周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止剤、接着剤などが例示される。
【０１３３】
光ファイバー分野では、装飾ディスプレイ用照明・ライトガイドなど、工業用途のセンサー類、表示・標識類など、また通信インフラ用および家庭内のデジタル機器接続用の光ファイバーが例示される。
【０１３４】
半導体集積回路周辺材料では、ＬＳＩ、超ＬＳＩ材料用のマイクロリソグラフィー用のレジスト材料が例示される。
【０１３５】
自動車・輸送機分野では、自動車用のランプリフレクタ、ベアリングリテーナー、ギア部分、耐蝕コート、スイッチ部分、ヘッドランプ、エンジン内部品、電装部品、各種内外装品、駆動エンジン、ブレーキオイルタンク、自動車用防錆鋼板、インテリアパネル、内装材、保護・結束用ワイヤーネス、燃料ホース、自動車ランプ、ガラス代替品が例示される。また、鉄道車輌用の複層ガラスが例示される。また、航空機の構造材の靭性付与剤、エンジン周辺部材、保護・結束用ワイヤーネス、耐蝕コートが例示される。
【０１３６】
建築分野では、内装・加工用材料、電気カバー、シート、ガラス中間膜、ガラス代替品、太陽電池周辺材料が例示される。農業用では、ハウス被覆用フィルムが例示される。
【０１３７】
次世代の光・電子機能有機材料としては、次世代ＤＶＤ、有機ＥＬ素子周辺材料、有機フォトリフラクティブ素子、光−光変換デバイスである光増幅素子、光演算素子、有機太陽電池周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止剤、接着剤などが例示される。
【０１３８】
＜透湿度＞
本発明のオルガノポリシロキサン系組成物を用いた硬化後の透湿度は３０ｇ／ｍ２／２４ｈ以下であることがガスバリア性の観点から好ましい。
なお、透湿度とは以下の方法に従って算出することができる。
【０１３９】
５ｃｍ角の板ガラス（０．５ｍｍ厚）の上部に５ｃｍ角のポリイソブチレンゴムシート（３ｍｍ厚、ロの字型になるように内部の３ｃｍ角を切り取ったもの）を固定した治具を作製し、和光純薬工業製塩化カルシウム（水分測定用）１ｇをロの字型内に充填しこれを試験体とする。さらに上部に５ｃｍ角の評価用硬化物（２ｍｍ厚）を固定し、恒温恒湿機（エスペック製 ＰＲ‐２ＫＰ）内で温度４０℃、湿度、９０％ＲＨで２４時間養生する。下記式に従い、透湿度を算出することができる。
【０１４０】
透湿度（ｇ／ｍ２／２４ｈ）＝{（透湿性試験後の試験体総重量（ｇ））−（透湿性試験前の試験体総重量（ｇ））}×１００００／９ｃｍ２
尚、ここに記載の試験体総重量とは、５ｃｍ角の板ガラス、および５ｃｍ角のポリイソブチレンゴムシート、および塩化カルシウム、および５ｃｍ角の評価用硬化物を含んだ総重量である。また、ここで使用したポリイソブチレンゴムは、同様の透湿度の試験の結果、０ｇ／ｍ２／２４ｈであることが確認されている。
【０１４１】
硬化後の透湿度が３０ｇ／ｍ２／２４ｈ以下であることにより水分、更には、酸素、硫化水素等のガス透過が抑制されて、例えば、ＬＥＤにおける銀リードフレームや、リフレクター等の腐食が生じにくくなるなど、耐久性が向上する効果が期待できる。
【実施例】
【０１４２】
次に本発明の組成物を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
（組成物の相溶性）
オルガノポリシロキサン系組成物を配合後、３０分間室温で放置しても分離することなく透明であるものは○、配合後、白濁し分離するものは×とした。
【０１４３】
（硬化物形状）
５ｃｍ角の板ガラス（０．５ｍｍ厚）の上部に、７ｃｍ角のシリコーンゴムシート（２ｍｍ厚、ロの字型になるように内部を５ｃｍ角に切り取ったもの）を固定した治具を作製した。そこにオルガノポリシロキサン系組成物を流し込み、対流式オーブンで８０℃×２時間、１００℃×１時間、１５０℃×６時間熱硬化させることで、２ｍｍ厚の硬化物を作成した。得られた硬化物形状を目視で確認し、透明で皺による硬化ムラのないものは○、皺による硬化ムラがあるものは×とした。
【０１４４】
（透明性）
１０ｃｍ×１０ｃｍの板ガラス２枚を純粋で洗浄し、乾燥させた。その後、フッ素系離型剤（ダイキン工業社製ダイフリー、ＧＡ６０１０）でスプレーし、キムワイプで均一に塗布した後、余剰分を除去した。コの字型に切った２ｍｍ厚のシリコーンゴムにテフロン（登録商標）シールを巻いた素ペーサーを２枚の上記板ガラスで挟んでクリップで固定し、１５０℃、１ｈ加熱乾燥してガラスセルを作成した。
このガラスセルにオルガノポリシロキサン系組成物を流し込み、対流式オーブンで８０℃×２時間、１００℃×１時間、１５０℃×６時間熱硬化させることで、２ｍｍ厚の硬化物を作成した。
【０１４５】
初期の指標として、硬化後のサンプルを目視により確認し、透明であるものは○、透明でないものは×とした。
【０１４６】
耐熱性の指標として、上記、ガラスセルで作成した２ｍｍ厚の硬化物を、さらに対流式オーブンにて１２０℃×５０時間加熱した。この硬化物を放冷後、目視により、硬化物が着色せず透明であるものは○、着色や透明でないものは×とした。
耐光性の指標として、ガラスセルで作成した２ｍｍ厚の硬化物を、さらにＵＶ照射（メタリングウエザーメーター、３０ＭＪ／ｍ２、１００℃）を行った。この硬化物を放冷後、目視により、硬化物が着色せず透明であるものは○、着色や透明でないものは×とした。
【０１４７】
（光線透過率）
１０ｃｍ×１０ｃｍの板ガラス２枚を純水で洗浄し、乾燥させた。その後、フッ素系離型剤（ダイキン工業社製ダイフリー、ＧＡ６０１０）でスプレーし、キムワイプで均一に塗布した後、余剰分を除去した。コの字型に切った２ｍｍ厚のシリコーンゴムにテフロン（登録商標）シールを巻いた素ペーサーを２枚の上記板ガラスで挟んでクリップで固定し、１５０℃、１ｈ加熱乾燥してガラスセルを作成した。
【０１４８】
このガラスセルにオルガノポリシロキサン系組成物を流し込み、対流式オーブンで８０℃×２時間、１００℃×１時間、１５０℃×６時間熱硬化させることで、２ｍｍ厚の硬化物を作成した。この２ｍｍ厚の硬化物を、試紫外可視分光光度計（日本分光社製 JASCO JSV 560）により、空気中での６００ｎｍの光線透過率を測定し、光線透過率とした。
【０１４９】
(透湿度)
オルガノポリシロキサン系組成物を型に５ｃｍ角の型に充填し、対流式オーブンで８０℃×２時間、１００℃×１時間、１５０℃×６時間熱硬化させて５ｃｍ角の評価用硬化物（２ｍｍ厚）の試料を作成した。この硬化物を室温２５℃、湿度５５％ＲＨの状態で２４時間養生した。
本発明における透湿度とは以下の方法に従って算出したものである。
【０１５０】
５ｃｍ角の板ガラス（０．５ｍｍ厚）の上部に５ｃｍ角のポリイソブチレンゴムシート（３ｍｍ厚、ロの字型になるように内部の３ｃｍ角を切り取ったもの）を固定した治具を作製し、和光純薬工業製塩化カルシウム（水分測定用）１ｇをロの字型内に充填しこれを試験体とした。さらに上部に５ｃｍ角の評価用硬化物（２ｍｍ厚）を固定し、恒温恒湿機（エスペック製 ＰＲ‐２ＫＰ）内で温度４０℃、湿度、９０％ＲＨで２４時間養生した。下記式に従い、透湿度を算出した。
【０１５１】
透湿度（ｇ／ｍ２／２４ｈ）＝{（透湿性試験後の試験体総重量（ｇ））−（透湿性試験前の試験体総重量（ｇ））}×１００００／９．０ｃｍ２
尚、ここに記載の試験体総重量とは、５ｃｍ角の板ガラス、および５ｃｍ角のポリイソブチレンゴムシート、および塩化カルシウム、および５ｃｍ角の評価用硬化物を含んだ総重量である。また、ここで使用したポリイソブチレンゴムは、同様の透湿度の試験の結果、０ｇ／ｍ２／２４ｈであることが確認されている。
【０１５２】
（製造例１）
多面体構造を有するポリシロキサンの合成方法として、４８％トリメチル−２ヒドロキシエチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液（コリン水溶液）１２８８ｇにテトラアルコキシシラン１０４２ｇを加え、室温で３時間激しく攪拌した。反応系内が発熱し、
均一溶液になった段階で、攪拌を緩め、さらに１２時間反応させた。次に、反応系内に生成した固形物に、メタノール７５０ｍＬを加え均一溶液とした。ジメチルビニルクロロシラン５８８ｇ、トリメチルクロロシラン５５４ｇ、ジメチルクロロシラン１３２ｇ、ヘキサン７５０ｍＬの溶液を攪拌しながら、得られた均一溶液をゆっくりと滴下した。滴下終了後、１時間反応させた後、有機層を抽出、濃縮することにより、固形物を得た。次に、生成した固形物をメタノール中で攪拌し洗浄した後、ろ別することによりアルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物６０１ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲより、ビニル基とトリメチルシリル基、ヒドロシリル基が、３．１：３．９：１．０の割合で導入している事を確認した。
【０１５３】
（製造例２）
製造例１で得られたアルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物４０ｇ、トルエン２００ｇの混合溶液に、白金ビニルシロキサン錯体（３％白金、キシレン溶液）１０．１μＬ、トルエン１０ｇの混合溶液を滴下し、１０５℃で１時間加温したのち、室温まで冷却した。１Ｈ−ＮＭＲより、ポリシロキサン由来のヒドロシリル基が消失している事を確認した。
【０１５４】
次いで１、３、５、７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン６４ｇとトルエン６４ｇの混合溶液に滴下し、１０５℃で２時間加温したのち、室温まで冷却した。１Ｈ−ＮＭＲより、シロキサン由来のビニル基が消失している事を確認した。得られた反応溶液から、トルエンと未反応の１、３、５、７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンを留去することにより、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体４８ｇを得た。
【０１５５】
（製造例３）
多面体構造を有するポリシロキサンの合成方法として、４８％トリメチル−２ヒドロキシエチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液（コリン水溶液）１２８８ｇにテトラアルコキシシラン１０４２ｇを加え、室温で３時間激しく攪拌した。反応系内が発熱し、
均一溶液になった段階で、攪拌を緩め、さらに１２時間反応させた。次に、反応系内に生成した固形物に、メタノール７５０ｍＬを加え均一溶液とした。ジメチルビニルクロロシラン８５ｇ、トリメチルクロロシラン３８０ｇ、ジメチルクロロシラン６００ｇ、ヘキサン７５０ｍＬの溶液を攪拌しながら、得られた均一溶液をゆっくりと滴下した。滴下終了後、１時間反応させた後、有機層を抽出、濃縮することにより、固形物を得た。次に、生成した固形物をメタノール中で攪拌し洗浄した後、ろ別することによりアルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物６０１ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲより、ビニル基とトリメチルシリル基、ヒドロシリル基が、０．５：２．７：４．８の割合で導入している事を確認した。
【０１５６】
（製造例４）
製造例３で得られたアルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物６０ｇ、トルエン３００ｇの混合溶液に、白金ビニルシロキサン錯体（３％白金、キシレン溶液）３．０μＬ、トルエン１０ｇの混合溶液を滴下し、１０５℃で１時間加温したのち、室温まで冷却した。１Ｈ−ＮＭＲより、ポリシロキサン由来のビニル基が消失している事を確認した。
【０１５７】
次いで１、３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン５ｇとトルエン５ｇの混合溶液に滴下し、１０５℃で２時間加温したのち、室温まで冷却した。１Ｈ−ＮＭＲより、シロキサン由来のビニル基が消失している事を確認した。得られた反応溶液から、トルエンを留去することにより、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体６４ｇを得た。
【０１５８】
（実施例１）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，２−ジビニルベンゼン（重量平均分子量１３０）０．６４ｇを加え、さらに、エチニルシクロヘキサノールを０．２１μｌ、マレイン酸ジメチルを０．１μｌ添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、オルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１５９】
（実施例２）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、ジビニルジメチルシラン（重量平均分子量１１２）０．５５ｇを加え、さらに、エチニルシクロヘキサノールを０．２１μｌ、マレイン酸ジメチルを０．１μｌ添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、オルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６０】
（実施例３）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン（重量平均分子量２４８）１．２１ｇを加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６１】
（実施例４）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシロキシフェニレン）プロパン（重量平均分子量３９８）１．９４ｇ、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（東レダウコーニング製、ＳＨ６０４０）０．１８ｇ加え、撹拌した。さらに、エチニルシクロヘキサノールを０．１５μｌ、マレイン酸ジメチルを０．０７μｌ添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、オルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６２】
（実施例５）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン（重量平均分子量２８０）１．３６ｇ、を加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６３】
（実施例６）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン（重量平均分子量２８４）１．３９ｇ、を加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６４】
（実施例７）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン（重量平均分子量２４８）１．２１ｇを加え混合した。そこに、一次平均粒径７ｎｍでＢＥＴ比表面積が２６０（ｍ２／ｇ）であるヒュームドシリカ（日本アエロジル社製、商品名アエロジルＲ８１２）０．６２ｇを加え攪拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、ポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６５】
（実施例８）
製造例４で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン（重量平均分子量２４８）０．９１ｇを加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６６】
（比較例１）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、トリアリルイソシアヌレート（重量平均分子量２４９）０．８１ｇを加え、さらに、エチニルシクロヘキサノールを０．２１μｌ、マレイン酸ジメチルを０．１μｌ添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、ポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６７】
（比較例２）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、ジアリルイソシアヌレート（重量平均分子量２２３）１．０９ｇを加え、さらに、エチニルシクロヘキサノールを０．２１μｌ、マレイン酸ジメチルを０．１μｌ添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、ポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６８】
（比較例３）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、ビニル基を両末端に含有する直鎖状ポリジメチルシロキサン（重量平均分子量７８０）３．８１ｇを加え、良く混合することによりポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６９】
【表１】
【０１７０】
上記のように、本発明のオルガノポリシロキサン系組成物は成型加工性に優れており、また本発明のオルガノポリシロキサン系組成物より得られた成型体は、皺による硬化ムラがなく、透明性、耐熱、耐光性、ガスバリア性に優れることが分かった。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成型加工性、透明性、耐熱、耐光性、ガスバリア性に優れるオルガノポリシロキサン系組成物および硬化物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリシロキサン組成物は、耐熱性、耐寒性、耐候性、耐光性、化学的安定性、電気特性、難燃性、耐水性、透明性、着色性、非粘着性、非腐食性に優れており、様々な産業で利用されている。中でも、多面体構造を有するポリシロキサンで構成された組成物は、その特異的な化学構造から、さらに優れた耐熱性、耐光性、化学的安定性、低誘電性等を示すことが知られており、その応用が期待されている。
【０００３】
しかし、ポリシロキサン組成物は優れた特性を持つ一方で、一般にガスバリア性が低いといった問題点を有している。そのためガスバリア性が低いポリシロキサン組成物を封止材として用いた場合、リフレクターが硫化物によって黒色化する問題があり、この問題に対して、例えば、特許文献１では、予め金属部材をガスバリア性の高いアクリル系樹脂でコーティング処理を行い、そのうえで、シリコーン樹脂で封止を行っている。しかしながら、該当技術で使用しているシリコーン樹脂自体のガスバリア性は低く、アクリル系樹脂でコーティング処理を行った後に、別途シリコーン樹脂で封止する等、手間がかかり、生産性に問題があった。
【０００４】
また、特許文献２において、多面体構造を有するポリシロキサン変性体を用いた組成物が開示されている。この組成物は、成型加工性、透明性、耐熱・耐光性、接着性に優れているが、ガスバリア性についてはさらなる改良の余地も残されていた。
上記のように、ポリシロキサンを用いた材料の開示は見られるが、成型加工性、透明性、耐熱・耐光性に加え、ガスバリア性に優れた材料の例は見られず、新たな材料の開発が求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２０６１２４
【特許文献２】ＷＯ０８／０１０５４５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
成型加工性、透明性、耐熱、耐光性、ガスバリア性に優れるオルガノポリシロキサン系組成物および硬化物を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解決すべく、鋭意研究を重ねた結果、
（Ａ）アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士をヒドロシリル化して得られるポリシロキサン化合物（ｂ）に、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）をヒドロシリル化反応させて得られるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物、
からなるオルガノポリシロキサン系組成物により、上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。すなわち、本発明は以下の構成を有するものである。
【０００８】
（１）． （Ａ）アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士をヒドロシリル化して得られるポリシロキサン化合物（ｂ）に、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）をヒドロシリル化反応させて得られる、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物、
からなるオルガノポリシロキサン系組成物であって、
前記（Ｂ）成分が、一般式（１）で表される化合物、一般式（２）で表される化合物、一般式（３）で表される化合物、一般式（４）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とするオルガノポリシロキサン系組成物。
一般式（１）
ＲＩaＲＩＩ （１）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩは２価以上の脂環式炭化水素基、または２価以上の芳香族炭化水素基、ａ≧２）
一般式（２）
ＲＩaＲＩＩＩbＳｉ （２）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ａ≧２、ｂ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝４）
一般式（３）
（ＲＩaＲＩＩＩbＳｉ）ｎ（ＲＩｃＲＩＩＩｄＳｉ）mＲＩＶ （３）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲＩＶは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
一般式（４）
（ＲＩaＲＩＩＩbＳｉＯ）ｎ（ＲＩｃＲＩＩＩｄＳｉＯ）mＲＩＶ （４）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲＩＶは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
（２）． 前記（Ｂ）成分が、平均分子量２０００以下の化合物であることを特徴とする（１）に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【０００９】
（３）． 前記（Ｂ）成分のＲＩＶが、下記構造で表される２価の炭化水素基であることを特徴とする（１）または（２）に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００１０】
【化１】
【００１１】
【化２】
【００１２】
【化３】
【００１３】
【化４】
【００１４】
【化５】
【００１５】
（４）． 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）のポリシロキサン化合物（ｂ）において、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）由来のアルケニル基もしくはヒドロシリル基のどちらか一方が残留していることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００１６】
（５）． 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）が、温度２０℃において、液状であることを特徴とする、（１）〜（４）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００１７】
（６）． 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）の分子中に少なくとも３個のヒドロシリル基を有する事を特徴とする、（１）〜（５）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００１８】
（７）． 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）のアルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）のアルケニル基が、ビニル基であることを特徴とする、（１）〜（６）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００１９】
（８）． 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）において、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）成分が、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を含有するシロキサン化合物であることを特徴とする、（１）〜（７）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２０】
（９）． 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）において、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）成分が、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する環状シロキサンであることを特徴とする、（８）に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２１】
（１０）． 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）において、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）成分が、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する直鎖状シロキサンであることを特徴とする、（８）に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２２】
（１１）． 前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）が、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士をヒドロシリル化させて得られるポリシロキサン化合物（ｂ）を得た後、さらにヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）とをヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする、（１）〜（１０）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２３】
（１２）． ヒドロシリル化触媒を含有することを特徴とする、（１）〜（１１）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２４】
（１３）． 硬化遅延剤を含有することを特徴とする、（１）〜（１２）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２５】
（１４）． 接着性付与剤を含有することを特徴とする、（１）〜（１３）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２６】
（１５）． 無機フィラーを含有することを特徴とする、（１）〜（１４）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【００２７】
（１６）． （１）〜（１５）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物を硬化して得られる硬化物。
【００２８】
（１７）． （１）〜（１５）のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物を用いてなる光素子封止剤。
【００２９】
（１８）． （１７）に記載の光素子封止剤を用いてなる光学デバイス。
【００３０】
（１９）． 該光素子封止剤の硬化後の透湿度が３０ｇ／ｍ２／２４ｈ以下であることを特徴とする（１８）に記載の光学デバイス。
【発明の効果】
【００３１】
成型加工性、透明性、耐熱、耐光性、ガスバリア性に優れるオルガノポリシロキサン系組成物および硬化物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
＜（Ａ）ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体＞
本発明の（Ａ）成分であるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体は、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士をヒドロシリル化して得られるポリシロキサン化合物（ｂ）に、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）をヒドロシリル化させて得ることができる。本発明の（Ａ）成分であるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体の製造においては、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士を分子間でヒドロシリル化反応させてポリシロキサン化合物（ｂ）を得た後、さらにヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）をヒドロシリル化反応させることにより、（Ａ）成分であるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体を得ることができる。
【００３３】
本発明における（Ａ）成分であるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体は、ハンドリング性・加工性の観点から温度２０℃において、液状であることが好ましい。
【００３４】
また、（Ａ）成分であるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体は、得られる硬化物の強度や硬度、さらには、耐熱性・耐光性等の観点から、分子中に少なくとも３個のヒドロシリル基を有することが好ましい。
【００３５】
＜アルケニル基およびヒドロキシル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）＞
本発明における（ａ）成分は、多面体構造を形成するＳｉ原子上に直接、または間接的にアルケニル基およびヒドロシリル基が結合したポリシロキサン系化合物であればよく、特に限定されない。
【００３６】
本発明において使用される多面体構造を形成するＳｉ原子上に直接、または間接的にアルケニル基およびヒドロシリル基が結合したポリシロキサン系化合物において、多面体構造に含有されるＳｉ原子の数は６〜２４であることが好ましく、具体的に、例えば、以下の構造で示される多面体構造を有するシルセスキオキサンが例示される（ここでは、Ｓｉ原子数＝８を代表例として例示する）。
【００３７】
【化６】
【００３８】
上記式中Ｒ1〜Ｒ8は、アルケニル基、アミノ基を有する有機基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヒドロシリル基またはこれらの基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部をハロゲン原子、シアノ基などで置換したクロロメチル基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、メルカプト基などから選択される同一又は異種の、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０の非置換又は置換の１価の炭化水素基である。アルケニル基の例として、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基等が挙げられる。アミノ基を有する有機基の例として、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、トリメチルアミノ基等が挙げられる。アルキル基の例として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。シクロアルキル基の例として、シクロヘキシル基等、アリール基の例として、フェニル基、トリル基等が挙げられる。
【００３９】
ただし、Ｒ１〜Ｒ８のうち、平均して、少なくとも１つはアルケニル基、また、少なくとも１つはヒドロシリル基である。前記アルケニル基においては、耐熱性の観点からビニル基が好ましく、アルケニル基以外の基が選択される場合は、耐熱性の観点からメチル基が好ましい。
【００４０】
上記、多面体構造を有するシルセスキオキサンは、例えば、ＲＳｉＸ３（式中Ｒは、上述のＲ１〜Ｒ８を表し、Ｘは、ハロゲン原子、アルコキシ基等の加水分解性官能基を表す）のシラン化合物の加水分解縮合反応によって、得ることができる。また、ＲＳｉＸ３の加水分解縮合反応によって分子内に３個のシラノール基を有するトリシラノール化合物を合成したのち、さらに、同一もしくは異なる３官能性シラン化合物を反応させることにより、閉環し、多面体構造を有するシルセスキオキサンを合成する方法も知られている。さらには、前記トリシラノール化合物に、１官能性シランおよび／または２官能性シランを反応させることにより、部分開裂型の多面体構造を有するシルセスキオキサンを合成することもできる。
【００４１】
本発明での多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）において、さらに好ましい例としては、以下の構造で示されるような多面体構造を有するシリル化ケイ酸が例示される（ここでは、Ｓｉ原子数＝８を代表例として例示する）。多面体骨格を形成するＳｉ原子とアルケニル基およびヒドロシリル基とが、シロキサン結合を介して結合していると、得られる硬化物の剛直になり過ぎず、良好な成形体を得ることができる。
【００４２】
【化７】
【００４３】
上記式中Ｒ９〜Ｒ３２は、アルケニル基、アミノ基を有する有機基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヒドロシリル基またはこれらの基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部をハロゲン原子、シアノ基などで置換したクロロメチル基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、メルカプト基などから選択される同一又は異種の、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０の非置換又は置換の１価の炭化水素基である。アルケニル基の例として、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基等が挙げられる。アミノ基を有する有機基の例として、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、トリメチルアミノ基等が挙げられる。アルキル基の例として、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。シクロアルキル基の例として、シクロヘキシル基等、アリール基の例として、フェニル基、トリル基等が挙げられる。これらＲ９〜Ｒ３２のうち、少なくとも１つはアルケニル基であり、また、少なくとも１つはヒドロシリル基である。前記アルケニル基においては、耐熱性の観点からビニル基が好ましく、アルケニル基以外の基が選択される場合も、耐熱性、耐光性の観点からメチル基が好ましい。
【００４４】
多面体構造を有するシリル化ケイ酸の合成方法としては、特に限定されず、公知の方法を用いて合成される。前記合成方法としては、具体的に、例えば、テトラエトキシシラン等のテトラアルコキシシランを４級アンモニウムヒドロキシド等の塩基存在下で加水分解縮合させる方法が挙げられる。
【００４５】
本合成方法においては、テトラアルコキシシランの加水分解縮合反応により、多面体構造を有するケイ酸塩が得られ、さらに得られたケイ酸塩をアルケニル基含有シリルクロライド、ヒドロシリル基含有シリルクロライド等のシリル化剤と反応させることにより、多面体構造を形成するＳｉ原子とアルケニル基およびヒドロシリル基とが、シロキサン結合を介して結合した多面体構造ポリシロキサン系化合物を得ることが可能となる。本発明においては、テトラアルコキシシランの替わりに、シリカや稲籾殻等のシリカ含有物質からも、同様の多面体構造を有するシリル化ケイ酸を得ることが可能である。
【００４６】
本発明においては、多面体構造に含有されるＳｉ原子の数として、６〜２４、さらに好ましくは、６〜１０のものを好適に用いることが可能である。また、Ｓｉ原子数の異なる多面体構造ポリシロキサン系化合物の混合物であってもよい。
【００４７】
本発明の（ａ）における多面体構造を形成するＳｉ原子上に存在するアルケニル基およびヒドロシリル基については、得られる多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）や多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）を用いて得られる硬化物の強度やガスバリア性、ハンドリング性、成形加工性の観点から、
（ｉ）［アルケニル基の数］−［ヒドロシリル基の数］＞２、もしくは、
（ｉｉ）［ヒドロシリル基の数］−［アルケニル基の数］＞２、
であることが好ましい。
【００４８】
また、本発明の（ａ）における多面体構造を形成するＳｉ原子上に存在するアルケニル基もしくはヒドロシリル基の少なくともいずれか一方が平均して２．５個以下、さらには、１．５個以下であることが好ましい。２．５個を超えると、後述のポリシロキサン化合物（ｂ）あるいは、多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）にゲル化が生じ、ハンドリング性や成形加工性等が低下する恐れがある。
【００４９】
一方、ガスバリア性の観点からは、本発明の（ａ）における多面体構造を形成するＳｉ原子上に存在するアルケニル基もしくはヒドロシリル基の少なくともいずれか一方が平均して０．５個以上、さらには、１．０個以上であることが好ましい。
【００５０】
＜ポリシロキサン化合物（ｂ）＞
本発明におけるポリシロキサン化合物（ｂ）は、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士を直接ヒドロシリル化反応により結合させて得ることができる。本発明におけるポリシロキサン化合物（ｂ）は、（ａ）由来のアルケニル基およびヒドロシリル基の反応により、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）の分子同士が直接結合することで、例えば、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）を用いて得られる硬化物の強度やガスバリア性、ダイシング性（切削加工性）を向上させることが可能となる。ここで、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）由来のアルケニル基およびヒドロシリル基のヒドロシリル化反応において、アルケニル基またはヒドロシリル基のどちらか一方が残留していることが、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）を用いて得られる硬化物の硬度や強度、ガスバリア性やダイシング性（切削加工性）の観点から好ましい。ここで、前記、アルケニル基またはヒドロシリル基のどちらか一方が残留した状態とは、アルケニル基もしくはヒドロシリル基の一方が実質的に消失してポリシロキサン化合物（ｂ）の１分子中に、平均して０．５個以下、好ましくは、０．２個以下、さらに好ましくは０個の状態となり、他方、残留する置換基の数がポリシロキサン化合物（ｂ）１分子中に、平均して、１．５個、好ましくは２個、さらに好ましくは、２．５個以上の状態となることをさす。このとき、ガスバリア性の観点からは、残留する置換基の数がさらに多くなることがより好ましい。
【００５１】
また、具体的に例えば、最終的に得られるヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）やヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）を含有する組成物を硬化させて得られる硬化物の耐熱性や耐光性の観点から、アルケニル基のみが残留していることが好ましい。
【００５２】
また、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士をヒドロシリル化反応させてポリシロキサン化合物（ｂ）を得る際には、ヒドロシリル化触媒を用いることができる。前記ヒドロシリル化触媒としては、特に制限はなく、任意のものを使用することができる。具体的に例示すると、白金−オレフィン錯体、塩化白金酸、白金の単体、担体（アルミナ、シリカ、カーボンブラック等）に固体白金を担持させたもの；白金−ビニルシロキサン錯体｛例えば、Ｐｔｎ（ＶｉＭｅ２ＳｉＯＳｉＭｅ２Ｖｉ）ｎ、Ｐｔ〔（ＭｅＶｉＳｉＯ）４〕ｎ｝；白金−ホスフィン錯体｛例えば、Ｐｔ（ＰＰｈ３）４、Ｐｔ（ＰＢｕ３）４｝；白金−ホスファイト錯体｛例えば、Ｐｔ〔Ｐ（ＯＰｈ）３〕４、Ｐｔ〔Ｐ（ＯＢｕ）３〕４｝（式中、Ｍｅはメチル基、Ｂｕはブチル基、Ｖｉはビニル基、Ｐｈはフェニル基を表し、ｎ、ｍは整数を表す）、Ｐｔ（ａｃａｃ）２、また、Ａｓｈｂｙらの米国特許第３１５９６０１及び３１５９６６２号明細書中に記載された白金−炭化水素複合体、並びにＬａｍｏｒｅａｕｘらの米国特許第３２２０９７２号明細書中に記載された白金アルコラ−ト触媒も挙げられる。
【００５３】
また、白金化合物以外の触媒の例としては、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ３）３、ＲｈＣｌ３、Ｒｈ／Ａl２Ｏ３、ＲｕＣｌ３、ＩｒＣｌ３、ＦｅＣｌ３、ＡｌＣｌ３、ＰｄＣｌ２・２Ｈ２Ｏ、ＮｉＣｌ２、ＴｉＣｌ４、等が挙げられる。これらの触媒は単独で使用してもよく、２種以上併用しても構わない。触媒活性の点から塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体、Ｐｔ（ａｃａｃ）2等が好ましい。
【００５４】
ヒドロシリル化反応の反応温度としては、３０〜４００℃、さらに好ましくは、４０〜２５０℃であることが好ましい。また、ポリシロキサン化合物（ｂ）にヒドロシリル化触媒が残存する場合は、残存するヒドロシリル化触媒を、次の（ｃ）とヒドロシリル化する際のヒドロシリル化触媒として用いることも可能である。
【００５５】
＜ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）＞
本発明におけるヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）は、分子中にヒドロシリル基またはアルケニル基を平均して１個以上含有する化合物であれば特に制限はないが、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）のハンドリング性、成形加工性、透明性、あるいは、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）を用いて得られる硬化物の透明性、耐熱性、耐光性の観点から、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を含有するシロキサン化合物、さらには、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する環状シロキサン、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する直鎖状シロキサン、特には、耐青色レーザー性やガスバリア性等の観点から、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する環状シロキサンが好ましいものとして例示される。
【００５６】
本発明におけるヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）は単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５７】
前記アルケニル基を有する直鎖状シロキサンとしては、ジメチルシロキサン単位とメチルビニルシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、ジフェニルシロキサン単位とメチルビニルシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、メチルフェニルシロキサン単位とメチルビニルシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、ジメチルビニルシリル基で末端が封鎖されたポリシロキサン、などが例示される。
【００５８】
前記アルケニル基を有する環状シロキサンとしては、１，３，５，７−ビニル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１−プロピル−３，５，７−トリビニル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１，５−ジビニル−３，７−ジヘキシル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５−トリビニル−トリメチルシクロシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタビニル−１，３，５，７，９−ペンタメチルシクロシロキサン、１，３，５，７，９，１１−ヘキサビニル−１，３，５，７，９，１１−ヘキサメチルシクロシロキサンなどが例示される。
前記ヒドロシリル基を有する直鎖状シロキサンの具体例としては、ジメチルシロキサン単位とメチルハイドロジェンシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、ジフェニルシロキサン単位とメチルハイドロジェンシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、メチルフェニルシロキサン単位とメチルハイドロジェンシロキサン単位及び末端トリメチルシロキシ単位との共重合体、ジメチルハイドロジェンシリル基で末端が封鎖されたポリシロキサン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、などが例示される。
【００５９】
前記ヒドロシリル基を有する環状シロキサンの具体例としては、１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１−プロピル−３，５，７−トリハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１，５−ジハイドロジェン−３，７−ジヘキシル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５−トリハイドロジェン−トリメチルシクロシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタハイドロジェン−１，３，５，７，９−ペンタメチルシクロシロキサン、１，３，５，７，９，１１−ヘキサハイドロジェン−１，３，５，７，９，１１−ヘキサメチルシクロシロキサンなどが例示される。
【００６０】
本発明におけるヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）は、耐熱性・耐光性の観点から、Ｓｉ原子上は、水素原子、ビニル基、メチル基から構成されることが好ましく、さらには、１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンが入手性にも優れていることから好ましい。また、特には、耐青色レーザー性やガスバリア性の観点から、１，３，５，７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンが好ましい。
【００６１】
ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）の添加量は、ポリシロキサン化合物（ｂ）にアルケニル基が残留している場合、残留するアルケニル基１個あたり、（ｃ）成分のＳｉ原子に直結した水素原子の数が１個より多いことが好ましく、さらに好ましくは２．５〜２０個になるように用いることであるが、化合物に依存する。添加量が少ないと、架橋反応によりゲル化が生じてハンドリング性の劣るヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）となり、多すぎると、（Ａ）を用いて得られる硬化物の物性に悪影響を及ぼす場合がある。さらには、過剰量の（ｃ）成分を存在させるため、例えば減圧・加熱条件下にて、未反応の（ｃ）成分を取り除くことが好ましい。
【００６２】
また、ポリシロキサン化合物（ｂ）にヒドロシリル基が残留している場合、残留するヒドロシリル基１個あたり、（ｃ）成分のＳｉ原子に直結したアルケニル基の数が１個より少ないことが好ましく、さらに好ましくは０．０５〜０．４個になるように用いることであるが、化合物に依存する。添加量が少ないと、硬化物の物性に悪影響を及ぼす場合があり、多すぎると、架橋反応によりゲル化が生じてハンドリング性の劣るヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）となる。
【００６３】
＜（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物＞
本発明における（Ｂ）成分であるアルケニル基を２個以上含有する化合物は、前記（Ａ）成分とヒドロシリル化反応により硬化する。本発明における（Ｂ）成分は（Ａ）成分との相溶性が良く、（Ａ）成分および（Ｂ）成分を用いたオルガノポリシロキサン系組成物は、成型加工性に優れている。また、（Ａ）成分および（Ｂ）成分を用いたオルガノポリシロキサン系組成物を硬化させることで、皺による硬化ムラがなく、透明で、耐熱・耐光性がよく、高いガスバリア性を持つ硬化物が得られる。
【００６４】
本発明における（Ｂ）成分は、１分子中にアルケニル基を２個以上含有していればよく、さらに好ましくは２〜１０個である。１分子中のアルケニル基の数が多いと、より架橋構造をとり、ガスバリア性が向上するが、多すぎると耐熱・耐光性が低下する恐れもある。
【００６５】
本発明における（Ｂ）成分は、下記一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）で示される化合物であればよい。
一般式（１）
ＲＩaＲＩＩ （１）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩは２価以上の脂環式炭化水素基、または２価以上の芳香族炭化水素基、ａ≧２）
一般式（２）
ＲＩaＲＩＩＩbＳｉ （２）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ａ≧２、ｂ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝４）
一般式（３）
（ＲＩaＲＩＩＩbＳｉ）ｎ（ＲＩｃＲＩＩＩｄＳｉ）mＲＩＶ （３）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲＩＶは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
一般式（４）
（ＲＩaＲＩＩＩbＳｉＯ）ｎ（ＲＩｃＲＩＩＩｄＳｉＯ）mＲＩＶ （４）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲＩＶは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
これらは、単独で用いても良く、２種類以上併用して用いてもよい。
【００６６】
このような（Ｂ）成分が、一般式（１）
ＲＩaＲＩＩ （１）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩは２価以上の脂環式炭化水素基、または２価以上の芳香族炭化水素基、ａ≧２）で表される化合物の場合、具体的に例えば、１，２−ジビニルベンゼン、１，４−ジビニルベンゼン、１，３，５−トリビニルベンゼン、１，２，４，５−テトラビニルベンゼン、１，２−ジアリルベンゼン、１，４−ジアリルベンゼン、１，３，５−トリアリルベンゼン、１，２，４，５−テトラアリルベンゼン、１，５−ジビニルナフタレン、１，６−ジビニルナフタレン、１，７−ジビニルナフタレン、１，８−ジビニルナフタレン、２，６−ジビニルナフタレン、２，７−ジビニルナフタレン、１，５−ジアリルナフタレン、１，６−ジアリルナフタレン、１，７−ジアリルナフタレン、１，８−ジアリルナフタレン、２，６−ジアリルナフタレン、２，７−ジアリルナフタレン、１，６−ジビニルアントラセン、１，７−ジビニルアントラセン、１，８−ジビニルアントラセン、１，９−ジビニルアントラセン、２，７−ジビニルアントラセン、２，８−ジビニルアントラセン、１，６−ジアリルアントラセン、１，７−ジアリルアントラセン、１，８−ジアリルアントラセン、１，９−ジアリルアントラセン、２，７−ジアリルアントラセン、２，８−ジアリルアントラセン、１，２−ジビニルシクロヘキサン、１，３−ジビニルシクロヘキサン、１，４−ジビニルシクロヘキサン、１，２−ジアリルシクロヘキサン、１，３−ジアリルシクロヘキサン、１，４−ジアリルシクロヘキサン、１，２，４−トリビニルシクロヘキサン、１，３，５−トリビニルシクロヘキサン、１，２，４−トリアリルシクロヘキサン、１，３，５−トリアリルシクロヘキサン、１，２，４，５−テトラビニルシクロヘキサン、１，２，４，５−テトラアリルシクロヘキサン等が挙げられる。
【００６７】
中でも、（Ａ）成分との相溶性、硬化物の透明性、ガスバリア性、耐熱性、耐光性の観点から、１，２−ジビニルベンゼン、１，４−ジビニルベンゼン、１，３，５−トリビニルベンゼン、１，２，４，５−テトラビニルベンゼンが好ましい例として挙げられる。
【００６８】
また、（Ｂ）成分が、一般式（２）
ＲＩaＲＩＩＩbＳｉ （２）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ａ≧２、ｂ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝４）で表される化合物の場合、具体的に例えば、ジビニルジメチルシラン、ジビニルシクロヘキシルメチルシラン、ジビニルフェニルメチルシラン、ジビニルジシクロヘキシルシラン、ジビニルジフェニルシラン、ジアリルジメチルシラン、ジアリルシクロヘキシルメチルシラン、ジアリルフェニルメチルシラン、ジアリルジシクロヘキシルシラン、ジアリルジフェニルシラン、トリビニルメチルシラン、トリビニルシクロヘキシルシラン、トリビニルフェニルシラン、トリアリルメチルシラン、トリアリルシクロヘキシルシラン、トリアリルフェニルシラン、テトラビニルシラン、テトラアリルシラン等が挙げられる。
【００６９】
中でも、（Ａ）成分との相溶性、硬化物の透明性、ガスバリア性、耐熱性、耐光性の観点から、ジビニルジメチルシラン、ジビニルシクロヘキシルメチルシラン、ジビニルフェニルメチルシラン、ジビニルジシクロヘキシルシラン、ジビニルジフェニルシランが好ましい例として挙げられる。
【００７０】
また、（Ｂ）成分が、一般式（３）
（ＲＩaＲＩＩＩbＳｉ）ｎ（ＲＩｃＲＩＩＩｄＳｉ）mＲＩＶ （３）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲＩＶは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）で表される化合物の場合、
ＲＩＶが２価以上の脂肪族炭化水素基では、具体的に例えば、ビス（ビニルジメチルシリル）メタン、トリス（ビニルジメチルシリル）メタン、テトラキス（ビニルジメチルシリル）メタン、ビス（ビニルフェニルメチルシリル）メタン、トリス（ビニルフェニルメチルシリル）メタン、テトラキス（ビニルフェニルメチルシリル）メタン、ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）メタン、トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）メタン、テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）メタン、ビス（ビニルジフェニルシリル）メタン、トリス（ビニルジフェニルシリル）メタン、テトラキス（ビニルジフェニルシリル）メタン、（ビニルジメチルシリル）（ジビニルメチルシリル）メタン、（ビニルフェニルメチルシリル）（ジビニルメチルシリル）メタン、（ビニルジメチルシリル）（ジビニルフェニルシリル）メタン、ビス（ジビニルメチルシリル）メタン、トリス（ジビニルメチルシリル）メタン、テトラキス（ジビニルメチルシリル）メタン、ビス（ジビニルフェニルシリル）メタン、トリス（ジビニルフェニルシリル）メタン、テトラキス（ジビニルフェニルシリル）メタン、ビス（トリビニルシリル）メタン、トリス（トリビニルシリル）メタン、テトラキス（トリビニルシリル）メタン、１，２−ビス（ビニルジメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ビニルジフェニルシリル）エタン、１，２−ビス（ジビニルメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジビニルフェニルシリル）エタン、１，２−ビス（トリビニルシリル）エタン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）プロパン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）プロパン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）プロパン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）プロパン、１，３−ビス（トリビニルシリル）プロパン、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ブタン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）ブタン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）ブタン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）ブタン、１，４−ビス（トリビニルシリル）ブタン、１，５−ビス（ビニルジメチルシリル）ペンタン、１，５−ビス（ビニルジフェニルシリル）ペンタン、１，５−ビス（ジビニルメチルシリル）ペンタン、１，５−ビス（ジビニルフェニルシリル）ペンタン、１，５−ビス（トリビニルシリル）ペンタン等が挙げられる。
【００７１】
また、ＲＩＶが２価以上の脂環式炭化水素基である場合、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（トリビニルシリル）シクロヘキサン等が挙げられる。
【００７２】
また、ＲＩＶが２価以上の芳香族炭化水素基である場合、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，２，４−トリス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（トリビニルシリル）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルジフェニルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルフェニルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（トリビニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（トリビニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ジビニルメチルシリル）アントラセン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシリル）アントラセン、２，７−ビス（トリビニルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ビニルジメチルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ビニルジフェニルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ジビニルメチルシリル）アントラセン、２，８−ビス（ジビニルフェニルシリル）アントラセン、２，８−ビス（トリビニルシリル）アントラセン等が挙げられる。
ＲＩＶは２価以上の炭化水素基であれば特に問題ないが、ＲＩＶが、下記構造で表される２価の炭化水素基であることが耐熱、耐光性の観点から、より好ましい例として挙げられる。
【００７３】
【化８】
【００７４】
【化９】
【００７５】
【化１０】
【００７６】
【化１１】
【００７７】
【化１２】
【００７８】
このような（Ｂ）成分として、一般式（３）の好ましい例としては、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（トリビニルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリビニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（トリビニルシリル）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルジフェニルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルメチルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルフェニルシリル）ナフタレン、２，６−ビス（トリビニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルメチルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシリル）ナフタレン、２，７−ビス（トリビニルシリル）ナフタレン、４，４’−ビス（ビニルジメチルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルジフェニルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ジビニルメチルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（ジビニルフェニルシリル）ビフェニル、４，４’−ビス（トリビニルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルジメチルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルフェニルメチルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルジフェニルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ジビニルメチルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（ジビニルフェニルシリル）ビフェニル、３，４’−ビス（トリビニルシリル）ビフェニル、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルフェニルメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルシクロヘキシルメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルジフェニルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ジビニルメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ジビニルフェニルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−トリビニルシリルフェニレン）プロパン等が挙げられる。
中でも、（Ａ）成分との相溶性、硬化物の透明性、ガスバリア性、耐熱性、耐光性の観点から、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシリル）ナフタレン、４，４’−ビス（ビニルジメチルシリル）ビフェニル、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシリルフェニレン）プロパンが、さらに好ましい例として挙げられる。
【００７９】
また、（Ｂ）成分が、一般式（４）
（ＲＩaＲＩＩＩbＳｉＯ）ｎ（ＲＩｃＲＩＩＩｄＳｉＯ）mＲＩＶ （４）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲＩＶは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）で表される化合物の場合、
ＲＩＶが２価以上の脂肪族炭化水素基では、具体的に例えば、ビス（ビニルジメチルシロキシ）メタン、トリス（ビニルジメチルシロキシ）メタン、テトラキス（ビニルジメチルシロキシ）メタン、ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）メタン、トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）メタン、テトラキス（ビニルフェニルメチルシロキシ）メタン、ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）メタン、トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）メタン、テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）メタン、ビス（ビニルジフェニルシロキシ）メタン、トリス（ビニルジフェニルシロキシ）メタン、テトラキス（ビニルジフェニルシロキシ）メタン、（ビニルジメチルシロキシ）（ジビニルメチルシロキシ）メタン、（ビニルフェニルメチルシロキシ）（ジビニルメチルシロキシ）メタン、（ビニルジメチルシロキシ）（ジビニルフェニルシロキシ）メタン、ビス（ジビニルメチルシロキシ）メタン、トリス（ジビニルメチルシロキシ）メタン、テトラキス（ジビニルメチルシロキシ）メタン、ビス（ジビニルフェニルシロキシ）メタン、トリス（ジビニルフェニルシロキシ）メタン、テトラキス（ジビニルフェニルシロキシ）メタン、ビス（トリビニルシロキシ）メタン、トリス（トリビニルシロキシ）メタン、テトラキス（トリビニルシロキシ）メタン、１，２−ビス（ビニルジメチルシロキシ）エタン、１，２−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）エタン、１，２−ビス（ジビニルメチルシロキシ）エタン、１，２−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）エタン、１，２−ビス（トリビニルシロキシ）エタン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）プロパン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）プロパン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）プロパン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）プロパン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）プロパン、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ブタン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ブタン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ブタン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ブタン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）ブタン、１，５−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ペンタン、１，５−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ペンタン、１，５−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ペンタン、１，５−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ペンタン、１，５−ビス（トリビニルシロキシ）ペンタン等が挙げられる。
【００８０】
また、ＲＩＶが２価以上の脂環式炭化水素基である場合、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４−トリス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，２，４，５−テトラキス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン等が挙げられる。
【００８１】
また、ＲＩＶが２価以上の芳香族炭化水素基である場合、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（トリビニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（トリビニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ジビニルメチルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）アントラセン、２，７−ビス（トリビニルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ビニルジメチルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ジビニルメチルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）アントラセン、２，８−ビス（トリビニルシロキシ）アントラセン等が挙げられる。
【００８２】
ＲＩＶが２価以上の炭化水素基であれば特に問題ないが、ＲＩＶが、下記構造で表される２価の炭化水素基であることが耐熱、耐光性の観点から、より好ましい例として挙げられる。
【００８３】
【化１３】
【００８４】
【化１４】
【００８５】
【化１５】
【００８６】
【化１６】
【００８７】
【化１７】
【００８８】
このような（Ｂ）成分として、一般式（４）の好ましい例としては、具体的に例えば、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，４−ビス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（トリビニルシロキシ）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ナフタレン、２，６−ビス（トリビニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ナフタレン、２，７−ビス（トリビニルシロキシ）ナフタレン、４，４’−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（トリビニルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルフェニルメチルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルシクロヘキシルメチルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ビニルジフェニルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ジビニルメチルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（ジビニルフェニルシロキシ）ビフェニル、３，４’−ビス（トリビニルシロキシ）ビフェニル、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルフェニルメチルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルシクロヘキシルメチルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ビニルジフェニルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ジビニルメチルシリルフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−ジビニルフェニルシロキシフェニレン）プロパン、２，２−ビス（４−トリビニルシロキシフェニレン）プロパン等が挙げられる。
【００８９】
中でも、（Ａ）成分との相溶性、硬化物の透明性、ガスバリア性、耐熱性、耐光性の観点から、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、１，３−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン、２，６−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ナフタレン、４，４’−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ビフェニル、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシロキシフェニレン）プロパンが、さらに好ましい例として挙げられる。
これらは、単独で用いても良く、２種類以上併用して用いてもよい。
【００９０】
本発明における（Ｂ）成分は、平均分子量が２０００以下であることが（Ａ）成分との相溶性の観点から好ましく、１５００以下であることがより好ましく、さらには１００〜１０００が好ましい例として挙げられる。重量平均分子量が小さいと、（Ｂ）成分がポリシロキサン組成物の系内から揮発しやすくなり、望まれた物性が得られないことがある。また、重量平均分子量が多いと、得られた硬化物の水蒸気透過率が高くなるなど、ガスバリア性が低くなることがある。
【００９１】
本発明における（Ｂ）成分の添加量は種々設定できるが、アルケニル基１個あたり、多面体構造ポリシロキサン系化合物に含まれるＳｉ原子に直結した水素原子が０．３〜５個、好ましくは、０．５〜３個となる割合で添加されることが望ましい。アルケニル基の割合が少なすぎると、発泡等による外観不良が生じやすくなり、また、多すぎると硬化物の物性に悪影響を及ぼす場合がある。
【００９２】
＜硬化触媒＞
本発明では、オルガノポリシロキサン系組成物を硬化させる際に、ヒドロシリル化触媒を用いる。
【００９３】
本発明で用いるヒドロシリル化触媒としては、通常ヒドロシリル化触媒として公知のものを用いることができ特に制限はない。
【００９４】
具体的には例示すれば、白金−オレフィン錯体、塩化白金酸、白金の単体、担体（アルミナ、シリカ、カーボンブラック等）に固体白金を担持させたもの；白金−ビニルシロキサン錯体、例えば、Ｐｔn（ＶｉＭｅ2ＳｉＯＳｉＭｅ2Ｖｉ）n、Ｐｔ〔（ＭｅＶｉＳｉＯ）4〕m；白金−ホスフィン錯体、例えば、Ｐｔ（ＰＰｈ3）4、Ｐｔ（ＰＢｕ3）4；白金−ホスファイト錯体、例えば、Ｐｔ〔Ｐ（ＯＰｈ）3〕4、Ｐｔ〔Ｐ（ＯＢｕ）3〕4（式中、Ｍｅはメチル基、Ｂｕはブチル基、Ｖｉはビニル基、Ｐｈはフェニル基を表し、ｎ、ｍは整数を表す）、Ｐｔ（ａｃａｃ）2、また、Ａｓｈｂｙらの米国特許第３１５９６０１及び３１５９６６２号明細書中に記載された白金−炭化水素複合体、並びにＬａｍｏｒｅａｕｘらの米国特許第３２２０９７２号明細書中に記載された白金アルコラ−ト触媒も挙げられる。
【００９５】
また、白金化合物以外の触媒の例としては、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3、ＲｈＣｌ3、Ｒｈ／Ａl2Ｏ3、ＲｕＣｌ3、ＩｒＣｌ3、ＦｅＣｌ3、ＡｌＣｌ3、ＰｄＣｌ2・２Ｈ2Ｏ、ＮｉＣｌ2、ＴｉＣｌ4、等が挙げられる。これらの触媒は単独で使用してもよく、２種以上併用しても構わない。触媒活性の点から塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体、Ｐｔ（ａｃａｃ）2等が好ましい。
【００９６】
＜硬化遅延剤＞
硬化遅延剤は、本発明のオルガノポリシロキサン系組成物の保存安定性を改良あるいは、硬化過程でのヒドロシリル化反応の反応性を調整するための成分である。本発明においては、硬化遅延剤としては、ヒドロシリル化触媒による付加型硬化性組成物で用いられている公知のものが使用でき、具体的には脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リン化合物、有機イオウ化合物、窒素含有化合物、スズ系化合物、有機過酸化物等が挙げられる。これらを単独使用、または２種以上併用してもよい。
【００９７】
前記の脂肪族不飽和結合を含有する化合物としては、具体的には３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチン、３−ヒドロキシ−３−フェニル−１−ブチン、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、１−エチニル−１−シクロヘキサノール等のプロパギルアルコール類、エン−イン化合物類、無水マレイン酸、マレイン酸ジメチル等のマレイン酸エステル類等が例示できる。
【００９８】
有機リン化合物としては、具体的にはトリオルガノフォスフィン類、ジオルガノフォスフィン類、オルガノフォスフォン類、トリオルガノフォスファイト類等が例示できる。
【００９９】
有機イオウ化合物としては、具体的にはオルガノメルカプタン類、ジオルガノスルフィド類、硫化水素、ベンゾチアゾール、チアゾール、ベンゾチアゾールジサルファイド等が例示できる。
【０１００】
窒素含有化合物としては、具体的にはＮ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−１，４−ブタンジアミン、２，２’−ビピリジン等が例示できる。
【０１０１】
スズ系化合物としては、具体的にはハロゲン化第一スズ２水和物、カルボン酸第一スズ等が例示できる。
【０１０２】
有機過酸化物としては、具体的にはジ−ｔ−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、過安息香酸ｔ−ブチル等が例示されうる。これらのうち、マレイン酸ジメチル、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、１−エチニル−１−シクロヘキサノールが、特に好ましい硬化遅延剤として例示できる。
【０１０３】
硬化遅延剤の添加量は、特に限定するものではないが、ヒドロシリル化触媒１モルに対して１０−１〜１０３モルの範囲で用いるのが好ましく、１〜１００モルの範囲で用いるのがより好ましい。また、これらの硬化遅延剤は単独で使用してもよく、２種類以上組み合わせて使用してもよい。
＜接着性付与剤＞
接着性付与剤は本発明におけるオルガノポリシロキサン系組成物と基材との接着性を向上する目的で用いるものであり、その様な効果があるものであれば特に制限はないが、シランカップリング剤が好ましい例として例示できる。
【０１０４】
シランカップリング剤としては、分子中に有機基と反応性のある官能基と加水分解性のケイ素基を各々少なくとも１個有する化合物であれば特に限定されない。有機基と反応性のある基としては、取扱い性の点からエポキシ基、メタクリル基、アクリル基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、ビニル基、カルバメート基から選ばれる少なくとも１個の官能基が好ましく、硬化性及び接着性の点から、エポキシ基、メタクリル基、アクリル基が特に好ましい。加水分解性のケイ素基としては取扱い性の点からアルコキシシリル基が好ましく、反応性の点からメトキシシリル基、エトキシシリル基が特に好ましい。
【０１０５】
好ましいシランカップリング剤としては、具体的には３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン等のエポキシ官能基を有するアルコキシシラン類：３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、アクリロキシメチルトリメトキシシラン、アクリロキシメチルトリエトキシシラン等のメタクリル基あるいはアクリル基を有するアルコキシシラン類が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、２種類以上併用してもよい。
【０１０６】
シランカップリング剤の添加量としては、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の混合物１００重量部に対して、０．０５〜３０重量部であることが好ましく、さらに好ましくは、０．１〜１０重量部である。添加量が少ないと接着性改良効果が表れず、添加量が多いと硬化物の物性に悪影響を及ぼす場合がある。
【０１０７】
本発明においては、接着性付与剤の効果を高めるために、公知の接着性促進剤を用いることができる。接着性促進剤としては、エポキシ含有化合物、エポキシ樹脂、ボロン酸エステル化合物、有機アルミニウム化合物、有機チタン化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１０８】
＜無機フィラー＞
本発明のオルガノポリシロキサン系組成物は、必要に応じて無機フィラーを添加することができる。
【０１０９】
本発明のオルガノポリシロキサン系組成物の組成分として無機フィラーを用いることにより、得られる成形体の強度、硬度、弾性率、熱膨張率、熱伝導率、放熱性、電気的特性、光の反射率、難燃性、耐火性、およびガスバリア性等の諸物性を改善することができる。
【０１１０】
無機フィラーは、無機物もしくは無機物を含む化合物であれば特に限定されないが、具体的に例えば、石英、ヒュームドシリカ、沈降性シリカ、無水ケイ酸、溶融シリカ、結晶性シリカ、超微粉無定型シリカ等のシリカ系無機フィラー、アルミナ、ジルコン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミ、炭化ケイ素、ガラス繊維、ガラスフレーク、アルミナ繊維、炭素繊維、マイカ、黒鉛、カーボンブラック、フェライト、グラファイト、ケイソウ土、白土、クレー、タルク、水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、炭酸マンガン、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウム、ケイ酸カルシウム、無機バルーン、銀粉等を挙げることができる。これらは、単独で用いてもよく、２種類以上併用してもよい。
【０１１１】
無機フィラーは、適宜表面処理をほどこしてもよい。表面処理としては、アルキル化処理、トリメチルシリル化処理、シリコーン処理、カップリング剤による処理等が挙げられるが、特に限定されるものではない。
【０１１２】
前記カップリング剤の例としては、シランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、分子中に有機基と反応性のある官能基と加水分解性のケイ素基を各々少なくとも１個有する化合物であれば特に限定されない。有機基と反応性のある基としては、取扱い性の点からエポキシ基、メタクリル基、アクリル基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、ビニル基、カルバメート基から選ばれる少なくとも１個の官能基が好ましく、硬化性及び接着性の点から、エポキシ基、メタクリル基、アクリル基が特に好ましい。加水分解性のケイ素基としては取扱い性の点からアルコキシシリル基が好ましく、反応性の点からメトキシシリル基、エトキシシリル基が特に好ましい。
【０１１３】
好ましいシランカップリング剤としては、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン等のエポキシ官能基を有するアルコキシシラン類：３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、アクリロキシメチルトリメトキシシラン、アクリロキシメチルトリエトキシシラン等のメタクリル基あるいはアクリル基を有するアルコキシシラン類が挙げられる。
【０１１４】
上記無機フィラーをオルガノポリシロキサン系組成物の組成分として用いることにより、得られる成形体の強度、硬度、弾性率、熱膨張率、熱伝導率、放熱性、電気的特性、光の反射率、難燃性、耐火性等の諸物性を改善することができる。
【０１１５】
無機フィラーの形状としては、破砕状、片状、球状、棒状等、各種用いることができる。無機フィラーの平均粒径や粒径分布は、特に限定されるものではないが、平均粒径が０．００５〜１００μｍであることが好ましく、さらには０．０１〜５０μｍであることが好ましい。同様に、比表面積についても、特に限定されない。
【０１１６】
無機フィラーの添加量は特に限定されないが、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の混合物１００重量部に対して、１〜１０００重量部、よりこの好ましくは、５〜５００重量部、さらに好ましくは、１０〜３００重量部である。無機フィラーの添加量が多すぎると、流動性が悪くなる場合があり、少ないと、得られる成型体の物性が不十分となる場合がある。
【０１１７】
無機フィラーの混合の順序としては、特に限定されないが、貯蔵安定性が良好になりやすいという点においては、（Ｂ）成分に混ぜた後、（Ａ）成分を混合する方法が望ましい。また、反応成分である（Ａ）成分、（Ｂ）成分がよく混合され安定した成形物が得られやすいという点においては、（Ａ）成分、（Ｂ）成分を混合したものに、無機フィラーを混合することが好ましい。
【０１１８】
これら無機フィラーを混合する手段としては、特に限定されるものではないが、具体的に例えば、２本ロールあるいは３本ロール、遊星式撹拌脱泡装置、ホモジナイザー、ディゾルバー、プラネタリーミキサー等の撹拌機、プラストミル等の溶融混練機等が挙げられる。無機フィラーの混合は、常温で行ってもよいし加熱して行ってもよく、また、常圧下に行ってもよいし減圧状態で行ってもよい。混合する際の温度が高いと、成型する前に組成物が硬化する場合がある。
【０１１９】
＜オルガノポリシロキサン系組成物および硬化物＞
本発明のオルガノポリシロキサン系組成物は、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）に、アルケニル基を２個以上含有する化合物（Ｂ）、必要に応じて、ヒドロシリル化触媒、硬化遅延剤、接着性付与剤を加えることにより得ることができる。本発明のオルガノポリシロキサン系組成物は、液状樹脂組成物として取り扱うことが可能であり、成型加工性に優れる。この液状組成物を、型、パッケージ、基板等に流し込み、加熱して硬化させることで容易に成型体を得ることができる。本発明のオルガノポリシロキサン系組成物によって得られる成型体は、透明性、耐熱、耐光性、ガスバリア性に優れるに優れる。
【０１２０】
硬化させる際に温度を加える場合は、好ましくは、３０〜４００℃、さらに好ましくは５０〜２５０℃である。硬化温度が高くなり過ぎると、得られる硬化物に外観不良が生じる傾向があり、低すぎると硬化が不十分となる。また、２段階以上の温度条件を組み合わせて硬化させてもよい。具体的には例えば、７０℃、１２０℃、１５０℃の様に段階的に硬化温度を引き上げていくことで、良好な硬化物を得ることができ好ましい。
【０１２１】
本発明においては、必要に応じて、ヒドロシリル化触媒を追加して用いることができる。
【０１２２】
硬化時間は硬化温度、用いるヒドロシリル化触媒の量及びヒドロシリル基の量、その他、本願組成物のその他の配合物の組み合わせにより適宜選択することができるが、あえて例示すれば、１分〜１２時間、好ましくは１０分〜８時間行うことにより、良好な硬化物を得ることができる。
【０１２３】
本発明におけるオルガノポリシロキサン系組成物は、具体的に例えば、パッケージや基板などに、注入あるいは塗布して使用することが可能である。注入あるいは塗布した後、上述の硬化条件にて、硬化させることで、用途に応じた成型体を容易に得ることができる。
【０１２４】
また、本発明のオルガノポリシロキサン系組成物には、必要に応じて蛍光体、着色剤、耐熱性向上剤などの各種添加剤や反応制御剤、離型剤あるいは充填剤用分散剤などを任意で添加することができる。この充填剤用分散剤としては、例えば、ジフェニルシランジオール、各種アルコキシシラン、カーボンファンクショナルシラン、シラノール基含有低分子量シロキサンなどが挙げられる。なお、これら任意成分は、本発明の効果を損なわないように最小限の添加量に止めることが好ましい。
【０１２５】
本発明に用いるオルガノポリシロキサン系組成物は、上記した成分をロール、バンバリーミキサー、ニーダーなどの混練機を用いたり、遊星式攪拌脱泡機を用いて均一に混合し、必要に応じ加熱処理を施したりしてもよい。
【０１２６】
本発明のオルガノポリシロキサン系組成物は、成形体として使用することができる。成形方法としては、押出成形、圧縮成形、ブロー成形、カレンダー成形、真空成形、発泡成形、射出成形、液状射出成形、注型成形などの任意の方法を使用することができる。
本発明によるオルガノポリシロキサン系組成物から得られる成形体は、耐熱性、耐光性に優れ、光学材料用組成物として用いることができる。ここで言う光学材料とは、可視光、赤外線、紫外線、Ｘ線、レーザーなどの光をその材料中を通過させる用途に用いる材料一般を示す。
【０１２７】
本発明において得られる変性体および組成物の用途としては、具体的には、カラーフィルター、レジスト材料、液晶ディスプレイ分野における基板材料、パッシベーション膜、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、偏光子保護フィルムなどの液晶用フィルムなどの液晶表示装置周辺材料が例示される。
【０１２８】
また、次世代フラットパネルディスプレイとして期待されるカラーＰＤＰ（プラズマディスプレイ）の封止剤、反射防止フィルム、光学補正フィルム、ハウジング材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、ＬＥＤ表示装置に使用されるＬＥＤ素子のモールド材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、プラズマアドレス液晶（ＰＡＬＣ）ディスプレイにおける基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、偏光子保護フィルム。
【０１２９】
有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイにおける前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）における各種フィルム基板、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤が例示される。
【０１３０】
光記録分野では、ＶＤ（ビデオディスク）、ＣＤ／ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ／ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＭＯ／ＭＤ、ＰＤ（相変化ディスク）、光カード用のディスク基板材料、ピックアップレンズ、保護フィルム、封止剤、接着剤が例示される。
【０１３１】
光学機器分野では、スチールカメラのレンズ用材料、ファインダプリズム、ターゲットプリズム、ファインダーカバー、受光センサー部が例示される。また、ビデオカメラの撮影レンズ、ファインダーが例示される。またプロジェクションテレビの投射レンズ、保護フィルム、封止剤、接着剤などが例示される。光センシング機器のレンズ用材料、封止剤、接着剤、フィルムなどが例示される。
【０１３２】
光部品分野では、光通信システムでの光スイッチ周辺のファイバー材料、レンズ、導波路、素子の封止剤、接着剤などが例示される。
光コネクタ周辺の光ファイバー材料、フェルール、封止剤、接着剤などが例示される。
光受動部品、光回路部品ではレンズ、導波路、ＬＥＤ素子の封止剤、接着剤などが例示される。
光電子集積回路（ＯＥＩＣ）周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止剤、接着剤などが例示される。
【０１３３】
光ファイバー分野では、装飾ディスプレイ用照明・ライトガイドなど、工業用途のセンサー類、表示・標識類など、また通信インフラ用および家庭内のデジタル機器接続用の光ファイバーが例示される。
【０１３４】
半導体集積回路周辺材料では、ＬＳＩ、超ＬＳＩ材料用のマイクロリソグラフィー用のレジスト材料が例示される。
【０１３５】
自動車・輸送機分野では、自動車用のランプリフレクタ、ベアリングリテーナー、ギア部分、耐蝕コート、スイッチ部分、ヘッドランプ、エンジン内部品、電装部品、各種内外装品、駆動エンジン、ブレーキオイルタンク、自動車用防錆鋼板、インテリアパネル、内装材、保護・結束用ワイヤーネス、燃料ホース、自動車ランプ、ガラス代替品が例示される。また、鉄道車輌用の複層ガラスが例示される。また、航空機の構造材の靭性付与剤、エンジン周辺部材、保護・結束用ワイヤーネス、耐蝕コートが例示される。
【０１３６】
建築分野では、内装・加工用材料、電気カバー、シート、ガラス中間膜、ガラス代替品、太陽電池周辺材料が例示される。農業用では、ハウス被覆用フィルムが例示される。
【０１３７】
次世代の光・電子機能有機材料としては、次世代ＤＶＤ、有機ＥＬ素子周辺材料、有機フォトリフラクティブ素子、光−光変換デバイスである光増幅素子、光演算素子、有機太陽電池周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止剤、接着剤などが例示される。
【０１３８】
＜透湿度＞
本発明のオルガノポリシロキサン系組成物を用いた硬化後の透湿度は３０ｇ／ｍ２／２４ｈ以下であることがガスバリア性の観点から好ましい。
なお、透湿度とは以下の方法に従って算出することができる。
【０１３９】
５ｃｍ角の板ガラス（０．５ｍｍ厚）の上部に５ｃｍ角のポリイソブチレンゴムシート（３ｍｍ厚、ロの字型になるように内部の３ｃｍ角を切り取ったもの）を固定した治具を作製し、和光純薬工業製塩化カルシウム（水分測定用）１ｇをロの字型内に充填しこれを試験体とする。さらに上部に５ｃｍ角の評価用硬化物（２ｍｍ厚）を固定し、恒温恒湿機（エスペック製 ＰＲ‐２ＫＰ）内で温度４０℃、湿度、９０％ＲＨで２４時間養生する。下記式に従い、透湿度を算出することができる。
【０１４０】
透湿度（ｇ／ｍ２／２４ｈ）＝{（透湿性試験後の試験体総重量（ｇ））−（透湿性試験前の試験体総重量（ｇ））}×１００００／９ｃｍ２
尚、ここに記載の試験体総重量とは、５ｃｍ角の板ガラス、および５ｃｍ角のポリイソブチレンゴムシート、および塩化カルシウム、および５ｃｍ角の評価用硬化物を含んだ総重量である。また、ここで使用したポリイソブチレンゴムは、同様の透湿度の試験の結果、０ｇ／ｍ２／２４ｈであることが確認されている。
【０１４１】
硬化後の透湿度が３０ｇ／ｍ２／２４ｈ以下であることにより水分、更には、酸素、硫化水素等のガス透過が抑制されて、例えば、ＬＥＤにおける銀リードフレームや、リフレクター等の腐食が生じにくくなるなど、耐久性が向上する効果が期待できる。
【実施例】
【０１４２】
次に本発明の組成物を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
（組成物の相溶性）
オルガノポリシロキサン系組成物を配合後、３０分間室温で放置しても分離することなく透明であるものは○、配合後、白濁し分離するものは×とした。
【０１４３】
（硬化物形状）
５ｃｍ角の板ガラス（０．５ｍｍ厚）の上部に、７ｃｍ角のシリコーンゴムシート（２ｍｍ厚、ロの字型になるように内部を５ｃｍ角に切り取ったもの）を固定した治具を作製した。そこにオルガノポリシロキサン系組成物を流し込み、対流式オーブンで８０℃×２時間、１００℃×１時間、１５０℃×６時間熱硬化させることで、２ｍｍ厚の硬化物を作成した。得られた硬化物形状を目視で確認し、透明で皺による硬化ムラのないものは○、皺による硬化ムラがあるものは×とした。
【０１４４】
（透明性）
１０ｃｍ×１０ｃｍの板ガラス２枚を純粋で洗浄し、乾燥させた。その後、フッ素系離型剤（ダイキン工業社製ダイフリー、ＧＡ６０１０）でスプレーし、キムワイプで均一に塗布した後、余剰分を除去した。コの字型に切った２ｍｍ厚のシリコーンゴムにテフロン（登録商標）シールを巻いた素ペーサーを２枚の上記板ガラスで挟んでクリップで固定し、１５０℃、１ｈ加熱乾燥してガラスセルを作成した。
このガラスセルにオルガノポリシロキサン系組成物を流し込み、対流式オーブンで８０℃×２時間、１００℃×１時間、１５０℃×６時間熱硬化させることで、２ｍｍ厚の硬化物を作成した。
【０１４５】
初期の指標として、硬化後のサンプルを目視により確認し、透明であるものは○、透明でないものは×とした。
【０１４６】
耐熱性の指標として、上記、ガラスセルで作成した２ｍｍ厚の硬化物を、さらに対流式オーブンにて１２０℃×５０時間加熱した。この硬化物を放冷後、目視により、硬化物が着色せず透明であるものは○、着色や透明でないものは×とした。
耐光性の指標として、ガラスセルで作成した２ｍｍ厚の硬化物を、さらにＵＶ照射（メタリングウエザーメーター、３０ＭＪ／ｍ２、１００℃）を行った。この硬化物を放冷後、目視により、硬化物が着色せず透明であるものは○、着色や透明でないものは×とした。
【０１４７】
（光線透過率）
１０ｃｍ×１０ｃｍの板ガラス２枚を純水で洗浄し、乾燥させた。その後、フッ素系離型剤（ダイキン工業社製ダイフリー、ＧＡ６０１０）でスプレーし、キムワイプで均一に塗布した後、余剰分を除去した。コの字型に切った２ｍｍ厚のシリコーンゴムにテフロン（登録商標）シールを巻いた素ペーサーを２枚の上記板ガラスで挟んでクリップで固定し、１５０℃、１ｈ加熱乾燥してガラスセルを作成した。
【０１４８】
このガラスセルにオルガノポリシロキサン系組成物を流し込み、対流式オーブンで８０℃×２時間、１００℃×１時間、１５０℃×６時間熱硬化させることで、２ｍｍ厚の硬化物を作成した。この２ｍｍ厚の硬化物を、試紫外可視分光光度計（日本分光社製 JASCO JSV 560）により、空気中での６００ｎｍの光線透過率を測定し、光線透過率とした。
【０１４９】
(透湿度)
オルガノポリシロキサン系組成物を型に５ｃｍ角の型に充填し、対流式オーブンで８０℃×２時間、１００℃×１時間、１５０℃×６時間熱硬化させて５ｃｍ角の評価用硬化物（２ｍｍ厚）の試料を作成した。この硬化物を室温２５℃、湿度５５％ＲＨの状態で２４時間養生した。
本発明における透湿度とは以下の方法に従って算出したものである。
【０１５０】
５ｃｍ角の板ガラス（０．５ｍｍ厚）の上部に５ｃｍ角のポリイソブチレンゴムシート（３ｍｍ厚、ロの字型になるように内部の３ｃｍ角を切り取ったもの）を固定した治具を作製し、和光純薬工業製塩化カルシウム（水分測定用）１ｇをロの字型内に充填しこれを試験体とした。さらに上部に５ｃｍ角の評価用硬化物（２ｍｍ厚）を固定し、恒温恒湿機（エスペック製 ＰＲ‐２ＫＰ）内で温度４０℃、湿度、９０％ＲＨで２４時間養生した。下記式に従い、透湿度を算出した。
【０１５１】
透湿度（ｇ／ｍ２／２４ｈ）＝{（透湿性試験後の試験体総重量（ｇ））−（透湿性試験前の試験体総重量（ｇ））}×１００００／９．０ｃｍ２
尚、ここに記載の試験体総重量とは、５ｃｍ角の板ガラス、および５ｃｍ角のポリイソブチレンゴムシート、および塩化カルシウム、および５ｃｍ角の評価用硬化物を含んだ総重量である。また、ここで使用したポリイソブチレンゴムは、同様の透湿度の試験の結果、０ｇ／ｍ２／２４ｈであることが確認されている。
【０１５２】
（製造例１）
多面体構造を有するポリシロキサンの合成方法として、４８％トリメチル−２ヒドロキシエチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液（コリン水溶液）１２８８ｇにテトラアルコキシシラン１０４２ｇを加え、室温で３時間激しく攪拌した。反応系内が発熱し、
均一溶液になった段階で、攪拌を緩め、さらに１２時間反応させた。次に、反応系内に生成した固形物に、メタノール７５０ｍＬを加え均一溶液とした。ジメチルビニルクロロシラン５８８ｇ、トリメチルクロロシラン５５４ｇ、ジメチルクロロシラン１３２ｇ、ヘキサン７５０ｍＬの溶液を攪拌しながら、得られた均一溶液をゆっくりと滴下した。滴下終了後、１時間反応させた後、有機層を抽出、濃縮することにより、固形物を得た。次に、生成した固形物をメタノール中で攪拌し洗浄した後、ろ別することによりアルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物６０１ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲより、ビニル基とトリメチルシリル基、ヒドロシリル基が、３．１：３．９：１．０の割合で導入している事を確認した。
【０１５３】
（製造例２）
製造例１で得られたアルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物４０ｇ、トルエン２００ｇの混合溶液に、白金ビニルシロキサン錯体（３％白金、キシレン溶液）１０．１μＬ、トルエン１０ｇの混合溶液を滴下し、１０５℃で１時間加温したのち、室温まで冷却した。１Ｈ−ＮＭＲより、ポリシロキサン由来のヒドロシリル基が消失している事を確認した。
【０１５４】
次いで１、３、５、７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン６４ｇとトルエン６４ｇの混合溶液に滴下し、１０５℃で２時間加温したのち、室温まで冷却した。１Ｈ−ＮＭＲより、シロキサン由来のビニル基が消失している事を確認した。得られた反応溶液から、トルエンと未反応の１、３、５、７−テトラハイドロジェン−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンを留去することにより、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体４８ｇを得た。
【０１５５】
（製造例３）
多面体構造を有するポリシロキサンの合成方法として、４８％トリメチル−２ヒドロキシエチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液（コリン水溶液）１２８８ｇにテトラアルコキシシラン１０４２ｇを加え、室温で３時間激しく攪拌した。反応系内が発熱し、
均一溶液になった段階で、攪拌を緩め、さらに１２時間反応させた。次に、反応系内に生成した固形物に、メタノール７５０ｍＬを加え均一溶液とした。ジメチルビニルクロロシラン８５ｇ、トリメチルクロロシラン３８０ｇ、ジメチルクロロシラン６００ｇ、ヘキサン７５０ｍＬの溶液を攪拌しながら、得られた均一溶液をゆっくりと滴下した。滴下終了後、１時間反応させた後、有機層を抽出、濃縮することにより、固形物を得た。次に、生成した固形物をメタノール中で攪拌し洗浄した後、ろ別することによりアルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物６０１ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲより、ビニル基とトリメチルシリル基、ヒドロシリル基が、０．５：２．７：４．８の割合で導入している事を確認した。
【０１５６】
（製造例４）
製造例３で得られたアルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物６０ｇ、トルエン３００ｇの混合溶液に、白金ビニルシロキサン錯体（３％白金、キシレン溶液）３．０μＬ、トルエン１０ｇの混合溶液を滴下し、１０５℃で１時間加温したのち、室温まで冷却した。１Ｈ−ＮＭＲより、ポリシロキサン由来のビニル基が消失している事を確認した。
【０１５７】
次いで１、３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン５ｇとトルエン５ｇの混合溶液に滴下し、１０５℃で２時間加温したのち、室温まで冷却した。１Ｈ−ＮＭＲより、シロキサン由来のビニル基が消失している事を確認した。得られた反応溶液から、トルエンを留去することにより、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体６４ｇを得た。
【０１５８】
（実施例１）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，２−ジビニルベンゼン（重量平均分子量１３０）０．６４ｇを加え、さらに、エチニルシクロヘキサノールを０．２１μｌ、マレイン酸ジメチルを０．１μｌ添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、オルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１５９】
（実施例２）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、ジビニルジメチルシラン（重量平均分子量１１２）０．５５ｇを加え、さらに、エチニルシクロヘキサノールを０．２１μｌ、マレイン酸ジメチルを０．１μｌ添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、オルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６０】
（実施例３）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン（重量平均分子量２４８）１．２１ｇを加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６１】
（実施例４）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、２，２−ビス（４−ビニルジメチルシロキシフェニレン）プロパン（重量平均分子量３９８）１．９４ｇ、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（東レダウコーニング製、ＳＨ６０４０）０．１８ｇ加え、撹拌した。さらに、エチニルシクロヘキサノールを０．１５μｌ、マレイン酸ジメチルを０．０７μｌ添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、オルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６２】
（実施例５）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）ベンゼン（重量平均分子量２８０）１．３６ｇ、を加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６３】
（実施例６）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，４−ビス（ビニルジメチルシロキシ）シクロヘキサン（重量平均分子量２８４）１．３９ｇ、を加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６４】
（実施例７）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン（重量平均分子量２４８）１．２１ｇを加え混合した。そこに、一次平均粒径７ｎｍでＢＥＴ比表面積が２６０（ｍ２／ｇ）であるヒュームドシリカ（日本アエロジル社製、商品名アエロジルＲ８１２）０．６２ｇを加え攪拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、ポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６５】
（実施例８）
製造例４で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、１，４−ビス（ビニルジメチルシリル）ベンゼン（重量平均分子量２４８）０．９１ｇを加え、良く混合することによりオルガノポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られたオルガノポリシロキサン系組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６６】
（比較例１）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、トリアリルイソシアヌレート（重量平均分子量２４９）０．８１ｇを加え、さらに、エチニルシクロヘキサノールを０．２１μｌ、マレイン酸ジメチルを０．１μｌ添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、ポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６７】
（比較例２）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、ジアリルイソシアヌレート（重量平均分子量２２３）１．０９ｇを加え、さらに、エチニルシクロヘキサノールを０．２１μｌ、マレイン酸ジメチルを０．１μｌ添加し撹拌した後、遊星式攪拌脱泡機にて攪拌・脱泡を行い、ポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６８】
（比較例３）
製造例２で得たヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体５．００ｇに、ビニル基を両末端に含有する直鎖状ポリジメチルシロキサン（重量平均分子量７８０）３．８１ｇを加え、良く混合することによりポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、前述の各試験法に従い評価した。その結果を表１に記載した。
【０１６９】
【表１】
【０１７０】
上記のように、本発明のオルガノポリシロキサン系組成物は成型加工性に優れており、また本発明のオルガノポリシロキサン系組成物より得られた成型体は、皺による硬化ムラがなく、透明性、耐熱、耐光性、ガスバリア性に優れることが分かった。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士をヒドロシリル化して得られるポリシロキサン化合物（ｂ）に、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）をヒドロシリル化反応させて得られる、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物、
からなるオルガノポリシロキサン系組成物であって、
前記（Ｂ）成分が、一般式（１）で表される化合物、一般式（２）で表される化合物、一般式（３）で表される化合物、一般式（４）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とするオルガノポリシロキサン系組成物。
一般式（１）
ＲＩaＲＩＩ （１）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩは２価以上の脂環式炭化水素基、または２価以上の芳香族炭化水素基、ａ≧２）
一般式（２）
ＲＩaＲＩＩＩbＳｉ （２）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ａ≧２、ｂ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝４）
一般式（３）
（ＲＩaＲＩＩＩbＳｉ）ｎ（ＲＩｃＲＩＩＩｄＳｉ）mＲＩＶ （３）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲＩＶは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
一般式（４）
（ＲＩaＲＩＩＩbＳｉＯ）ｎ（ＲＩｃＲＩＩＩｄＳｉＯ）mＲＩＶ （４）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲＩＶは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
【請求項２】
前記（Ｂ）成分が、平均分子量２０００以下の化合物であることを特徴とする請求項１に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項３】
前記（Ｂ）成分のＲＩＶが、下記構造で表される２価の炭化水素基であることを特徴とする請求項１または２に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【化１】
【化２】
【化３】
【化４】
【化５】
【請求項４】
前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）のポリシロキサン化合物（ｂ）において、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）由来のアルケニル基もしくはヒドロシリル基のどちらか一方が残留していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項５】
前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）が、温度２０℃において、液状であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項６】
前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）の分子中に少なくとも３個のヒドロシリル基を有する事を特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項７】
前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）のアルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）のアルケニル基が、ビニル基であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項８】
前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）において、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）成分が、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を含有するシロキサン化合物であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項９】
前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）において、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）成分が、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する環状シロキサンであることを特徴とする、請求項８に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１０】
前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）において、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）成分が、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する直鎖状シロキサンであることを特徴とする、請求項８に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１１】
前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）が、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士をヒドロシリル化させて得られるポリシロキサン化合物（ｂ）を得た後、さらにヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）とをヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１２】
ヒドロシリル化触媒を含有することを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１３】
硬化遅延剤を含有することを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１４】
接着性付与剤を含有することを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１５】
無機フィラーを含有することを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物を硬化して得られる硬化物。
【請求項１７】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物を用いてなる光素子封止剤。
【請求項１８】
請求項１７に記載の光素子封止剤を用いてなる光学デバイス。
【請求項１９】
該光素子封止剤の硬化後の透湿度が３０ｇ／ｍ２／２４ｈ以下であることを特徴とする請求項１８に記載の光学デバイス。
【請求項１】
（Ａ）アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士をヒドロシリル化して得られるポリシロキサン化合物（ｂ）に、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）をヒドロシリル化反応させて得られる、ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基を２個以上含有する化合物、
からなるオルガノポリシロキサン系組成物であって、
前記（Ｂ）成分が、一般式（１）で表される化合物、一般式（２）で表される化合物、一般式（３）で表される化合物、一般式（４）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とするオルガノポリシロキサン系組成物。
一般式（１）
ＲＩaＲＩＩ （１）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩは２価以上の脂環式炭化水素基、または２価以上の芳香族炭化水素基、ａ≧２）
一般式（２）
ＲＩaＲＩＩＩbＳｉ （２）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ａ≧２、ｂ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝４）
一般式（３）
（ＲＩaＲＩＩＩbＳｉ）ｎ（ＲＩｃＲＩＩＩｄＳｉ）mＲＩＶ （３）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲＩＶは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
一般式（４）
（ＲＩaＲＩＩＩbＳｉＯ）ｎ（ＲＩｃＲＩＩＩｄＳｉＯ）mＲＩＶ （４）
（ＲＩはアルケニル基、ＲＩＩＩはアルケニル基以外の１価の脂肪族炭化水素基、または１価の脂環式炭化水素基、または１価の芳香族炭化水素基であり、同一であっても異なっていてもよい、ＲＩＶは２価以上の炭化水素基、ａ≧１、ｃ≧１、ｂ＝０〜２の整数、ｄ＝０〜２の整数、ａ＋ｂ＝ｃ＋ｄ＝３、ｎ＋ｍ≧２）
【請求項２】
前記（Ｂ）成分が、平均分子量２０００以下の化合物であることを特徴とする請求項１に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項３】
前記（Ｂ）成分のＲＩＶが、下記構造で表される２価の炭化水素基であることを特徴とする請求項１または２に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【化１】
【化２】
【化３】
【化４】
【化５】
【請求項４】
前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）のポリシロキサン化合物（ｂ）において、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）由来のアルケニル基もしくはヒドロシリル基のどちらか一方が残留していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項５】
前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）が、温度２０℃において、液状であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項６】
前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）の分子中に少なくとも３個のヒドロシリル基を有する事を特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項７】
前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）のアルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）のアルケニル基が、ビニル基であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項８】
前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）において、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）成分が、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を含有するシロキサン化合物であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項９】
前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）において、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）成分が、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する環状シロキサンであることを特徴とする、請求項８に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１０】
前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）において、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）成分が、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を有する直鎖状シロキサンであることを特徴とする、請求項８に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１１】
前記ヒドロシリル基含有多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）が、アルケニル基およびヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）同士をヒドロシリル化させて得られるポリシロキサン化合物（ｂ）を得た後、さらにヒドロシリル基もしくはアルケニル基含有化合物（ｃ）とをヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１２】
ヒドロシリル化触媒を含有することを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１３】
硬化遅延剤を含有することを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１４】
接着性付与剤を含有することを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１５】
無機フィラーを含有することを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物を硬化して得られる硬化物。
【請求項１７】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載のオルガノポリシロキサン系組成物を用いてなる光素子封止剤。
【請求項１８】
請求項１７に記載の光素子封止剤を用いてなる光学デバイス。
【請求項１９】
該光素子封止剤の硬化後の透湿度が３０ｇ／ｍ２／２４ｈ以下であることを特徴とする請求項１８に記載の光学デバイス。
【公開番号】特開２０１２−１３１９３５（Ｐ２０１２−１３１９３５Ａ）
【公開日】平成２４年７月１２日（２０１２．７．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２８６３５６（Ｐ２０１０−２８６３５６）
【出願日】平成２２年１２月２２日（２０１０．１２．２２）
【出願人】（００００００９４１）株式会社カネカ (3,932)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年７月１２日（２０１２．７．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１２月２２日（２０１０．１２．２２）
【出願人】（００００００９４１）株式会社カネカ (3,932)
【Ｆターム（参考）】
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