弾性表面波共振子、弾性表面波発振器、及び電子機器
【課題】良好な周波数温度特性を実現するとともに、周波数のバラつきを抑制可能な弾性表面波共振子を提供する。
【解決手段】弾性表面波共振子は、オイラー角（−１．５°≦φ≦１．５°，１１７°≦θ≦１４２°，４２．７９°≦｜ψ｜≦４９．５７°）の水晶基板と、前記水晶基板上に設けられ、複数の電極指を含み、ストップバンド上端モードの弾性表面波を励振するＩＤＴと、を備え、平面視で、前記電極指の間の位置に、前記水晶基板の窪である電極指間溝を配置し、前記電極指間溝の間に配置されている前記水晶基板の凸部のライン占有率をηｇ、前記凸部上に配置されている前記電極指のライン占有率をηｅとし、前記ＩＤＴの実効ライン占有率ηｅｆｆを前記ライン占有率ηｇと前記ライン占有率ηｅとの相加平均とした場合、下記式の関係を満たす。
【解決手段】弾性表面波共振子は、オイラー角（−１．５°≦φ≦１．５°，１１７°≦θ≦１４２°，４２．７９°≦｜ψ｜≦４９．５７°）の水晶基板と、前記水晶基板上に設けられ、複数の電極指を含み、ストップバンド上端モードの弾性表面波を励振するＩＤＴと、を備え、平面視で、前記電極指の間の位置に、前記水晶基板の窪である電極指間溝を配置し、前記電極指間溝の間に配置されている前記水晶基板の凸部のライン占有率をηｇ、前記凸部上に配置されている前記電極指のライン占有率をηｅとし、前記ＩＤＴの実効ライン占有率ηｅｆｆを前記ライン占有率ηｇと前記ライン占有率ηｅとの相加平均とした場合、下記式の関係を満たす。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、弾性表面波共振子、およびこれを搭載した弾性表面波発振器及び電子機器に係り、特に基板表面に溝を設けたタイプの弾性表面波共振子、およびこれを搭載した弾性表面波発振器に関する。
【背景技術】
【０００２】
弾性表面波（ＳＡＷ：surface acoustic wave）装置（例えばＳＡＷ共振子）において、周波数温度特性の変化には、ＳＡＷのストップバンドや圧電基板（例えば水晶基板）のカット角、およびＩＤＴ（interdigital transducer）の形成形態等が及ぼす影響が大きい。
【０００３】
例えば特許文献１には、ＳＡＷのストップバンドの上端モード、下端モードのそれぞれを励起させる構成、およびストップバンドの上端モード、下端モードにおけるそれぞれの定在波の分布などが開示されている。
【０００４】
また、特許文献２〜５には、ＳＡＷにおけるストップバンドの上端モードの方が、ストップバンドの下端モードよりも周波数温度特性が良好である点が記載されている。そして、特許文献２、３には、レイリー波を利用したＳＡＷ装置において良好な周波数温度特性を得るために、水晶基板のカット角を調整すると共に、電極の基準化膜厚（Ｈ／λ）を０．１程度まで厚くする事が記載されている。
【０００５】
また、特許文献４には、レイリー波を利用したＳＡＷ装置において水晶基板のカット角を調整すると共に、電極の基準化膜厚（Ｈ／λ）を０．０４５程度以上厚くする旨が記載されている。
【０００６】
また、特許文献５には、回転ＹカットＸ伝搬の水晶基板を用い、ストップバンドの上端の共振を利用することで、ストップバンドの下端の共振を用いる場合よりも周波数温度特性が向上する旨が記載されている。
【０００７】
また、特許文献６、および非特許文献１には、ＳＴカット水晶基板を用いたＳＡＷ装置において、ＩＤＴを構成する電極指間や反射器を構成する導体ストリップ間に溝（グルーブ）を設けることが記載されている。また非特許文献１には、溝の深さにより二次曲線状の周波数温度特性における頂点温度が変化する旨と、二次温度係数がほぼ−３．４×１０−８／℃２となる旨が記載されている。
【０００８】
また、特許文献７には、ＬＳＴカットの水晶基板を用いたＳＡＷ装置において、周波数温度特性を示す曲線を三次曲線とするための構成が記載されていると共に、レイリー波を用いたＳＡＷ装置においては、三次曲線で示されるような温度特性を持つカット角の基板は発見することができなかった旨が記載されている。
【０００９】
上記のように、周波数温度特性を改善するための要素は多岐に亙り、特にレイリー波を用いたＳＡＷ装置では、ＩＤＴを構成する電極の膜厚を厚くすることが周波数温度特性に寄与する要因の１つであると考えられている。しかし本願出願人は、電極の膜厚を厚くすると、経時変化特性や耐温度衝撃特性等の耐環境特性が劣化することを実験的に見出した。また、周波数温度特性の改善を主目的とした場合には、前述したように電極膜厚を厚くしなければならず、これに伴って経時変化特性や耐温度衝撃特性等の劣化を余儀なくされていた。これはＱ値に関しても当てはめられることであり、電極膜厚を厚くせずに高Ｑ化実現させることは困難であった。
【００１０】
上記問題を解決するため、特許文献８においては、水晶基板の弾性表面波の伝搬方向垂直な方向にグルーブを形成して、グルーブにより形成される凸部の上に電極を形成した構成を開示している。これにより、経時変化特性や耐温度衝撃特性等の耐環境特性を改善し、高いＱ値を実現している。また特許文献９、１０においては、高いＱ値を実現するため、ＩＤＴ電極間や、ＩＤＴ電極の両側に配置された反射器を構成するストライプ状の金属膜の間にグルーブを形成する構成を開示している。
【００１１】
さらに特許文献８においては、グルーブの深さ、グルーブ上に形成される電極の膜厚、電極のライン占有率について体系的な調査を行っている。そして弾性表面波共振子をストップバンド上端モードで励振させた場合において、与えられたグルーブ深さ、電極膜厚に対して、ライン占有率を調整することにより、弾性表面波の二次温度係数の絶対値が０．０１ｐｐｍ／℃２以下になる条件について突き止めている。これにより弾性表面波の周波数温度特性が三次曲線状になるため、変曲点近傍の温度範囲では周波数偏差を抑制できることが期待される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開平１１−２１４９５８号公報
【特許文献２】特開２００６−１４８６２２号公報
【特許文献３】特開２００７−２０８８７１号公報
【特許文献４】特開２００７−２６７０３３号公報
【特許文献５】特開２００２−１００９５９号公報
【特許文献６】特開昭５７−５４１８号公報
【特許文献７】特許第３８５１３３６号公報
【特許文献８】ＷＯ２０１０／０９８１３９号公報
【特許文献９】特開昭６１−２２０５１３号公報
【特許文献１０】特開昭６１−２２０５１４号公報
【特許文献１１】特開２００９−２２５４２０号公報
【非特許文献】
【００１３】
【非特許文献１】グルーブ形ＳＡＷ共振器の製造条件と特性（電子通信学会技術研究報告ＭＷ８２−５９（１９８２））
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
さらに、特許文献１１においては、ＩＤＴ電極を構成する電極指の線幅、すなわちライン占有率が変動した場合の弾性表面波共振子の動作温度範囲における周波数偏差を低減する構成について開示している。しかし、特許文献８乃至１１に示される弾性表面波共振子においても、弾性表面波共振子の損失を低減することが強く求められているが、これについて具体的な開示が成されていないのが現状である。
【００１５】
そこで、本発明は、上記問題点に着目し、弾性表面波の周波数偏差を低減するとともに弾性表面波共振子の損失を低減した弾性表面波共振子、及びこれを用いた弾性表面波発振器、電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
［適用例１］オイラー角（−１．５°≦φ≦１．５°，１１７°≦θ≦１４２°，４２．７９°≦｜ψ｜≦４９．５７°）の水晶基板と、前記水晶基板上に設けられ、複数の電極指を含み、ストップバンド上端モードの弾性表面波を励振するＩＤＴと、を備え、平面視で、前記電極指の間の位置に、前記水晶基板の窪である電極指間溝を配置し、前記電極指間溝の間に配置されている前記水晶基板の凸部のライン占有率をηｇ、前記凸部上に配置されている前記電極指のライン占有率をηｅとし、前記ＩＤＴの実効ライン占有率ηｅｆｆを前記ライン占有率ηｇと前記ライン占有率ηｅとの相加平均とした場合、下式の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【数１】
【数２】
【００１７】
上記構成により、励振効率を高めて弾性表面波共振子の損失を低減できるとともに、弾性表面波共振子の一次温度係数の変動量を抑制して、共振周波数のバラつきを抑制することができる。
【００１８】
［適用例２］適用例１に記載の弾性表面波共振子において、前記弾性表面波の波長をλ、前記電極指間溝の深さをＧ、前記ＩＤＴの電極膜厚をＨとし、前記電極指間溝の深さＧを前記弾性表面波の波長λで除した値Ｇ／λと、前記実効ライン占有率ηｅｆｆとによる平面座標を（Ｇ／λ、ηｅｆｆ）とした場合に、前記平面座標（Ｇ／λ、ηｅｆｆ）が、
（１）０．０００λ＜Ｈ≦０．００５λの場合、
（０．０１０、０．７１０）、（０．０２０、０．７１０）、（０．０３０、０．７１０）、（０．０４０、０．７１０）、（０．０５０、０．７１０）、（０．０６０、０．７１０）、（０．０７０、０．７１０）、（０．０８０、０．７１０）、（０．０９０、０．７１０）、（０．０９０、０．４２０）、（０．０８０、０．５７０）、（０．０７０、０．５９０）、（０．０６０、０．６１５）、（０．０５０、０．６３０）、（０．０４０、０．６３５）、（０．０３０、０．６５０）、（０．０２０、０．６７０）、（０．０１０、０．７１０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０３０、０．５９０）、（０．０４０、０．５８０）、（０．０５０、０．５５０）、（０．０６０、０．５２０）、（０．０７０、０．４８０）、（０．０８０、０．４５０）、（０．０９０、０．４００）、（０．０９０、０．１８０）、（０．０８０、０．３４０）、（０．０７０、０．４１０）、（０．０６０、０．４６０）、（０．０５０、０．４９０）、（０．０４０、０．５２０）、（０．０３０、０．５５０）、（０．０３０、０．５９０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（２）０．００５λ＜Ｈ≦０．０１０λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７４０）、（０．０３０、０．７１５）、（０．０４０、０．７３０）、（０．０５０、０．７４０）、（０．０６０、０．７３０）、（０．０７０、０．７３０）、（０．０８０、０．７３０）、（０．０８０、０．５００）、（０．０７０、０．５７０）、（０．０６０、０．６１０）、（０．０５０、０．６３０）、（０．０４０、０．６３５）、（０．０３０、０．６５５）、（０．０２０、０．６８０）、（０．０１０、０．７６０）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０２０、０．６５０）、（０．０３０、０．６１０）、（０．０４０、０．５７０）、（０．０５０、０．５５０）、（０．０６０、０．５２０）、（０．０７０、０．４７０）、（０．０７０、０．３７０）、（０．０６０、０．４４０）、（０．０５０、０．４８０）、（０．０４０、０．５２０）、（０．０３０、０．５５０）、（０．０２０、０．５９０）、（０．０２０、０．６５０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（３）０．０１０λ＜Ｈ≦０．０１５λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７６０）、（０．０３０、０．７６０）、（０．０４０、０．７５０）、（０．０５０、０．７５０）、（０．０６０、０．７５０）、（０．０７０、０．７４０）、（０．０８０、０．７４０）、（０．０８０、０．３４０）、（０．０７０、０．５４５）、（０．０６０、０．５９０）、（０．０５０、０．６２０）、（０．０４０、０．６４５）、（０．０３０、０．６７０）、（０．０２０、０．７０５）、（０．０１０、０．７６０）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０１０、０．７４０）、（０．０２０、０．６５０）、（０．０３０、０．６１０）、（０．０４０、０．５７０）、（０．０５０、０．５４０）、（０．０６０、０．４８０）、（０．０７０、０．４３０）、（０．０７０、０．３５０）、（０．０６０、０．４２０）、（０．０５０、０．４７０）、（０．０４０、０．５１０）、（０．０３０、０．５５０）、（０．０２０、０．６１０）、（０．０１０、０．７００）、（０．０１０、０．７４０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（４）０．０１５λ＜Ｈ≦０．０２０λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７７０）、（０．０３０、０．７６０）、（０．０４０、０．７６０）、（０．０５０、０．７６０）、（０．０６０、０．７５０）、（０．０７０、０．７５０）、（０．０７０、０．５１０）、（０．０６０、０．５７０）、（０．０５０、０．６２０）、（０．０４０、０．６４０）、（０．０３０、０．６６０）、（０．０２０、０．６７５）、（０．０１０、０．７００）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線の範囲、
及び、（０．０１０、０．６９０）、（０．０２０、０．６４０）、（０．０３０、０．５９０）、（０．０４０、０．５５０）、（０．０５０、０．５１０）、（０．０６０、０．４７０）、（０．０７０、０．４１５）、（０．０７０、０．２８０）、（０．０６０、０．３８０）、（０．０５０、０．４７０）、（０．０４０、０．５１０）、（０．０３０、０．５５０）、（０．０２０、０．６１０）、（０．０１０、０．６８０）、（０．０１０、０．６９０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（５）０．０２０λ＜Ｈ≦０．０２５λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７７０）、（０．０３０、０．７６０）、（０．０４０、０．７６０）、（０．０５０、０．７６０）、（０．０６０、０．７６０）、（０．０７０、０．７６０）、（０．０７０、０．５５０）、（０．０６０、０．５４５）、（０．０５０、０．５９０）、（０．０４０、０．６２０）、（０．０３０、０．６４５）、（０．０２０、０．６８０）、（０．０１０、０．７００）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０１０、０．６９０）、（０．０２０、０．６４０）、（０．０３０、０．５９０）、（０．０４０、０．５５０）、（０．０５０、０．５１０）、（０．０６０、０．４２０）、（０．０７０、０．４１５）、（０．０７０、０．３４０）、（０．０６０、０．３４０）、（０．０５０、０．４２０）、（０．０４０、０．４７０）、（０．０３０、０．５２０）、（０．０２０、０．５８０）、（０．０１０、０．６５０）、（０．０１０、０．６９０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（６）０．０２５λ＜Ｈ≦０．０３０λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７７０）、（０．０３０、０．７７０）、（０．０４０、０．７６０）、（０．０５０、０．７６０）、（０．０６０、０．７６０）、（０．０７０、０．７６０）、（０．０７０、０．５５０）、（０．０６０、０．５０５）、（０．０５０、０．５９０）、（０．０４０、０．６２０）、（０．０３０、０．６４５）、（０．０２０、０．６８０）、（０．０１０、０．７００）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０１０、０．６７０）、（０．０２０、０．６０５）、（０．０３０、０．５６０）、（０．０４０、０．５２０）、（０．０５０、０．４７０）、（０．０６０、０．３９５）、（０．０７０、０．５００）、（０．０７０、０．４９０）、（０．０６０、０．２７０）、（０．０５０、０．４１０）、（０．０４０、０．４７０）、（０．０３０、０．５２０）、（０．０２０、０．５８０）、（０．０１０、０．６２０）、（０．０１０、０．６７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（７）０．０３０λ＜Ｈ≦０．０３５λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７７０）、（０．０３０、０．７７０）、（０．０４０、０．７６０）、（０．０５０、０．７６０）、（０．０６０、０．７６０）、（０．０７０、０．７６０）、（０．０７０、０．５５０）、（０．０６０、０．５００）、（０．０５０、０．５４５）、（０．０４０、０．５９０）、（０．０３０、０．６２５）、（０．０２０、０．６５０）、（０．０１０、０．６８０）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０１０、０．６５５）、（０．０２０、０．５９０）、（０．０３０、０．５４０）、（０．０４０、０．４９５）、（０．０５０、０．４３５）、（０．０６０、０．３９５）、（０．０７０、０．５００）、（０．０７０、０．５５０）、（０．０６０、０．３８０）、（０．０５０、０．３３０）、（０．０４０、０．４１０）、（０．０３０、０．４７０）、（０．０２０、０．５２０）、（０．０１０、０．５９０）、（０．０１０、０．６５５）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれることを特徴とする弾性表面波共振子。
【００１９】
上記構成により、Ｈの厚みに対応して、弾性表面波共振子の二次温度係数の絶対値を０．０１ｐｐｍ／℃以下に抑制することができる。
【００２０】
［適用例３］請求項１に記載の弾性表面波共振子において、前記電極指間溝の深さＧと前記実効ライン占有率ηｅｆｆとが
【数３】
【数４】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【００２１】
上記構成により、弾性表面波共振子の二次温度係数の絶対値を０．０１ｐｐｍ／℃２以下に抑制することができる。
【００２２】
［適用例４］適用例３に記載の弾性表面波共振子であって、
前記ＩＤＴの電極膜厚Ｈが、
【数５】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【００２３】
このような特徴を有する弾性表面波共振子によれば、動作温度範囲内において良好な周波数温度特性を示すことを実現することができる。また、このような特徴を有することによれば、電極膜厚の増加に伴う耐環境特性の劣化を抑制することが可能となる。
【００２４】
［適用例５］適用例４に記載の弾性表面波共振子であって、
前記実効ライン占有率ηｅｆｆが、
【数６】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【００２５】
適用例４における電極膜厚の範囲内において上述の式を満たすようにηｅｆｆを定めることで、二次温度係数の絶対値を、０．０１ｐｐｍ／℃２以下に収めることが可能となる。
【００２６】
［適用例６］適用例２、適用例４、適用例５のいずれか１例に記載の弾性表面波共振子であって、前記電極指間溝の深さＧと前記電極膜厚Ｈとの和が、
【数７】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
電極指間溝の深さGと電極膜厚Hとの和を上式のように定めることで、従来の弾性表面波共振子よりも高いＱ値を得ることができる。
【００２７】
［適用例７］適用例１乃至適用例６のいずれか１例に記載の弾性表面波共振子であって、前記ψと前記θが、
【数８】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【００２８】
このような特徴を有するカット角で切り出された水晶基板を用いて弾性表面波共振子を製造することで、広い範囲で良好な周波数温度特性を示す弾性表面波共振子とすることができる。
【００２９】
［適用例８］適用例１乃至適用例７のいずれか１例に記載の弾性表面波共振子であって、
前記ＩＤＴにおけるストップバンド上端モードの周波数をｆｔ２、前記ＩＤＴを弾性表面波の伝搬方向に挟み込むように配置される反射器におけるストップバンド下端モードの周波数をｆｒ１、前記反射器のストップバンド上端モードの周波数をｆｒ２としたとき、
【数９】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【００３０】
このような特徴を有することにより、ＩＤＴのストップバンド上端モードの周波数ｆｔ２において、反射器の反射係数｜Γ｜が大きくなり、ＩＤＴから励振されたストップバンド上端モードの弾性表面波が、反射器にて高い反射係数でＩＤＴ側に反射されるようになる。そしてストップバンド上端モードの弾性表面波のエネルギー閉じ込めが強くなり、低損失な弾性表面波共振子を実現することができる。
【００３１】
［適用例９］適用例１乃至適用例８のいずれか１例に記載の弾性表面波共振子であって、前記反射器を構成する導体ストリップ間に導体ストリップ間溝を設け、前記電極指間溝よりも前記導体ストリップ間溝の深さの方が浅いことを特徴とする弾性表面波共振子。
【００３２】
このような特徴を有することで、反射器のストップバンドをＩＤＴのストップバンドよりも高域側へ周波数シフトさせることができる。このため、数式９の関係を実現させることが可能となる。
【００３３】
［適用例１０］適用例１乃至適用例９のいずれか１例に記載の弾性表面波共振子と、前記ＩＤＴを駆動するための回路を備えたことを特徴とする弾性表面波発振器。
【００３４】
［適用例１１］適用例１乃至適用例９いずれか１例に記載の弾性表面波共振子を備えたことを特徴とする電子機器。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】第１実施形態のＳＡＷデバイスの構成を示す図であって、（Ａ）は平面構成を示す図であり、（Ｂ）は側面における部分拡大断面を示す図であり、（Ｃ）は（Ｂ）における詳細を説明するための部分拡大図であり、（Ｄ）は（Ｃ）における部分拡大図であって、ＳＡＷ共振子をフォトリソグラフィ技法とエッチング技法とを用いて製造したときに想定しえる溝部の断面形状を示す図である。
【図２】本発明で用いる水晶基板の母材となるウェーハの方位の一例を示す図である。
【図３】第１実施形態の変形例として傾斜型ＩＤＴを採用した場合におけるＳＡＷデバイスの構成例を示す図であって、（Ａ）は電極指を傾斜させてＸ´´軸に直交させた形態の例であり、（Ｂ）は電極指を繋ぐバスバーを傾斜させたＩＤＴを有するＳＡＷデバイスの例である。
【図４】ストップバンド上端モードと下端モードとの関係を示す図である。
【図５】電極指間溝の深さと動作温度範囲内における周波数変動量との関係を示すグラフである。
【図６】ＳＴカット水晶基板における温度特性を示す図である。
【図７】ストップバンド上端モードの共振点とストップバンド下端モードの共振点におけるライン占有率ηの変化に伴う二次温度係数の変化の違いを示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを２％λとした場合におけるストップバンド上端モードの二次温度係数βの変位を示すグラフであり、（Ｂ）は溝深さＧを２％λとした場合におけるストップバンド下端モードの二次温度係数βの変位を示すグラフであり、（Ｃ）は溝深さＧを４％λとした場合におけるストップバンド上端モードの二次温度係数βの変位を示すグラフであり、（Ｄ）は溝深さＧを４％λとした場合におけるストップバンド下端モードの二次温度係数βの変位を示すグラフである。
【図８】電極膜厚を０として電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを１％λ、（Ｂ）は溝深さＧを１．２５％λ、（Ｃ）は溝深さＧを１．５％λ、（Ｄ）は溝深さＧを２％λ、（Ｅ）は溝深さＧを３％λ、（Ｆ）は溝深さＧを４％λ、（Ｇ）は溝深さＧを５％λ、（Ｈ）は溝深さＧを６％λ、（Ｉ）は溝深さＧを８％λとした場合におけるグラフである。
【図９】電極膜厚を０とした場合における二次温度係数が０となる電極指間溝の深さとライン占有率ηとの関係を示すグラフである。
【図１０】電極膜厚を０として電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを１％λ、（Ｂ）は溝深さＧを１．２５％λ、（Ｃ）は溝深さＧを１．５％λ、（Ｄ）は溝深さＧを２％λ、（Ｅ）は溝深さＧを３％λ、（Ｆ）は溝深さＧを４％λ、（Ｇ）は溝深さＧを５％λ、（Ｈ）は溝深さＧを６％λ、（Ｉ）は溝深さＧを８％λとした場合におけるグラフである。
【図１１】電極指間溝の深さと、該電極指間溝の深さが±０．００１λずれた場合の周波数変動量との関係を示すグラフである。
【図１２】電極膜厚を変化させた場合における二次温度係数が０となる電極指間溝の深さとライン占有率ηとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は電極膜厚を１％λ、（Ｂ）は電極膜厚を１．５％λ、（Ｃ）は電極膜厚を２％λ、（Ｄ）は電極膜厚を２．５％λ、（Ｅ）は電極膜厚を３％λ、（Ｆ）は電極膜厚を３．５％λとした場合におけるグラフである。
【図１３】各電極膜厚における二次温度係数β≒０（ｐｐｍ／℃２）となるη１と電極指間溝の深さとの関係をグラフにまとめた図であり、（Ａ）は電極膜厚を１％λ〜３．５％λまで変化させた際の溝深さＧとη１との関係を示し、（Ｂ）は、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる領域が点Ａ乃至Ｈを結んでなる多角形内であることを説明する図である。
【図１４】電極膜厚Ｈ≒０からＨ＝０．０３５λまでの電極指間溝の深さとライン占有率ηとの関係を近似曲線で示した図である。
【図１５】電極膜厚を０．０１λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを２％λ、（Ｄ）は溝深さＧを３％λ、（Ｅ）は溝深さＧを４％λ、（Ｆ）は溝深さＧを５％λの場合におけるグラフである。
【図１６】電極膜厚を０．０１５λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを１．５％λ、（Ｄ）は溝深さＧを２．５％λ、（Ｅ）は溝深さＧを３．５％λ、（Ｆ）は溝深さＧを４．５％λの場合におけるグラフである。
【図１７】電極膜厚を０．０２λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを２％λ、（Ｄ）は溝深さＧを３％λ、（Ｅ）は溝深さＧを４％λ、（Ｆ）は溝深さＧを５％λの場合におけるグラフである。
【図１８】電極膜厚を０．０２５λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを１．５％λ、（Ｄ）は溝深さＧを２．５％λ、（Ｅ）は溝深さＧを３．５％λ、（Ｆ）は溝深さＧを４．５％λの場合におけるグラフである。
【図１９】電極膜厚を０．０３λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを２％λ、（Ｄ）は溝深さＧを３％λ、（Ｅ）は溝深さＧを４％λ、（Ｆ）は溝深さＧを５％λの場合におけるグラフである。
【図２０】電極膜厚を０．０３５λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを２％λ、（Ｄ）は溝深さＧを３％λ、（Ｅ）は溝深さＧを４％λ、（Ｆ）は溝深さＧを５％λの場合におけるグラフである。
【図２１】電極膜厚を０．０１λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを２％λ、（Ｄ）は溝深さＧを３％λ、（Ｅ）は溝深さＧを４％λ、（Ｆ）は溝深さＧを５％λの場合におけるグラフである。
【図２２】電極膜厚を０．０１５λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを１．５％λ、（Ｄ）は溝深さＧを２．５％λ、（Ｅ）は溝深さＧを３．５％λ、（Ｆ）は溝深さＧを４．５％λの場合におけるグラフである。
【図２３】電極膜厚を０．０２λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを２％λ、（Ｄ）は溝深さＧを３％λ、（Ｅ）は溝深さＧを４％λ、（Ｆ）は溝深さＧを５％λの場合におけるグラフである。
【図２４】電極膜厚を０．０２５λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを１．５％λ、（Ｄ）は溝深さＧを２．５％λ、（Ｅ）は溝深さＧを３．５％λ、（Ｆ）は溝深さＧを４．５％λの場合におけるグラフである。
【図２５】電極膜厚を０．０３λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを２％λ、（Ｄ）は溝深さＧを３％λ、（Ｅ）は溝深さＧを４％λ、（Ｆ）は溝深さＧを５％λの場合におけるグラフである。
【図２６】電極膜厚を０．０３５λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを２％λ、（Ｄ）は溝深さＧを３％λ、（Ｅ）は溝深さＧを４％λ、（Ｆ）は溝深さＧを５％λの場合におけるグラフである。
【図２７】電極膜厚Ｈを０≦Ｈ＜０．００５λとした場合におけるライン占有率ηと溝深さＧの関係を示すグラフによって｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる範囲を示す図であり、（Ａ）はη１、（Ｂ）はη２の場合を示す。
【図２８】電極膜厚Ｈを０．００５λ≦Ｈ＜０．０１０λとした場合におけるライン占有率ηと溝深さＧの関係を示すグラフによって｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる範囲を示す図であり、（Ａ）はη１、（Ｂ）はη２の場合を示す。
【図２９】電極膜厚Ｈを０．０１０λ≦Ｈ＜０．０１５λとした場合におけるライン占有率ηと溝深さＧの関係を示すグラフによって｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる範囲を示す図であり、（Ａ）はη１、（Ｂ）はη２の場合を示す。
【図３０】電極膜厚Ｈを０．０１５λ≦Ｈ＜０．０２０λとした場合におけるライン占有率ηと溝深さＧの関係を示すグラフによって｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる範囲を示す図であり、（Ａ）はη１、（Ｂ）はη２の場合を示す。
【図３１】電極膜厚Ｈを０．０２０λ≦Ｈ＜０．０２５λとした場合におけるライン占有率ηと溝深さＧの関係を示すグラフによって｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる範囲を示す図であり、（Ａ）はη１、（Ｂ）はη２の場合を示す。
【図３２】電極膜厚Ｈを０．０２５λ≦Ｈ＜０．０３０λとした場合におけるライン占有率ηと溝深さＧの関係を示すグラフによって｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる範囲を示す図であり、（Ａ）はη１、（Ｂ）はη２の場合を示す。
【図３３】電極膜厚Ｈを０．０３０λ≦Ｈ＜０．０３５λとした場合におけるライン占有率ηと溝深さＧの関係を示すグラフによって｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる範囲を示す図であり、（Ａ）はη１、（Ｂ）はη２の場合を示す。
【図３４】電極膜厚、ライン占有率η（η１：実線、η２：破線）を定めた際の電極指間溝の深さとオイラー角ψとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は電極膜厚を１％λ、（Ｂ）は電極膜厚を１．５％λ、（Ｃ）は電極膜厚を２％λ、（Ｄ）は電極膜厚を２．５％λ、（Ｅ）は電極膜厚を３％λ、（Ｆ）は電極膜厚を３．５％λとした場合のグラフである。
【図３５】各電極膜厚Ｈにおける電極指間溝の深さＧとオイラー角ψとの関係をグラフにまとめた図である。
【図３６】二次温度係数βが−０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる電極指間溝の深さとオイラー角ψとの関係を示すグラフである。
【図３７】二次温度係数βが＋０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる電極指間溝の深さとオイラー角ψとの関係を示すグラフである。
【図３８】電極膜厚Ｈの範囲を０＜Ｈ≦０．００５λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフであり、（Ａ）はψの最大値と最小値、（Ｂ）は、βの要件を満たすψの領域をそれぞれ示すグラフである。
【図３９】電極膜厚Ｈの範囲を０．００５λ＜Ｈ≦０．０１０λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフであり、（Ａ）はψの最大値と最小値、（Ｂ）は、βの要件を満たすψの領域をそれぞれ示すグラフである。
【図４０】電極膜厚Ｈの範囲を０．０１０λ＜Ｈ≦０．０１５λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフであり、（Ａ）はψの最大値と最小値、（Ｂ）は、βの要件を満たすψの領域をそれぞれ示すグラフである。
【図４１】電極膜厚Ｈの範囲を０．０１５λ＜Ｈ≦０．０２０λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフであり、（Ａ）はψの最大値と最小値、（Ｂ）は、βの要件を満たすψの領域をそれぞれ示すグラフである。
【図４２】電極膜厚Ｈの範囲を０．０２０λ＜Ｈ≦０．０２５λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフであり、（Ａ）はψの最大値と最小値、（Ｂ）は、βの要件を満たすψの領域をそれぞれ示すグラフである。
【図４３】電極膜厚Ｈの範囲を０．０２５λ＜Ｈ≦０．０３０λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフであり、（Ａ）はψの最大値と最小値、（Ｂ）は、βの要件を満たすψの領域をそれぞれ示すグラフである。
【図４４】電極膜厚Ｈの範囲を０．０３０λ＜Ｈ≦０．０３５λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフであり、（Ａ）はψの最大値と最小値、（Ｂ）は、βの要件を満たすψの領域をそれぞれ示すグラフである。
【図４５】電極膜厚０．０２λ、電極指間溝の深さ０．０４λにおけるオイラー角θと二次温度係数βとの関係を示すグラフである。
【図４６】オイラー角φと二次温度係数βとの関係を示すグラフである。
【図４７】周波数温度特性が良好となるオイラー角θとオイラー角ψとの関係を示すグラフである。
【図４８】周波数温度特性が最も良好となった条件下における４つの試験片での周波数温度特性データの例を示す図である。
【図４９】電極指間溝の深さと電極膜厚との和である段差とＣＩ値との関係を示すグラフである。
【図５０】本実施形態に係るＳＡＷ共振子における等価回路定数や静特性の例を示す表である。
【図５１】本実施形態に係るＳＡＷ共振子におけるインピーダンスカーブデータである。
【図５２】従来のＳＡＷ共振子における段差とＱ値の関係と本実施形態に係るＳＡＷ共振子段差とＱ値の関係を比較するためのグラフである。
【図５３】ＩＤＴと反射器のＳＡＷ反射特性を示す図である。
【図５４】ヒートサイクル試験における電極膜厚Ｈと周波数変動との関係を示すグラフである。
【図５５】実施形態に係るＳＡＷ発振器の構成を示す図である。
【図５６】ＳＡＷ共振子の周波数温度特性を示すグラフであり、（Ａ）は特開２００６−２０３４０８号に開示されているＳＡＷ共振子の周波数温度特性を示すグラフ、（Ｂ）は実質的な動作温度範囲内における周波数温度特性の範囲を示すグラフである。
【図５７】ＩＤＴおよび反射器に保護膜としてアルミナを被覆したＳＡＷ共振子における動作範囲内の周波数変動量の変化を示すグラフである。
【図５８】ＩＤＴおよび反射器に保護膜としてＳｉＯ２を被覆したＳＡＷ共振子における動作範囲内の周波数変動量の変化を示すグラフである。
【図５９】第２実施形態に係るＳＡＷ共振子であって、図５９（Ａ）は第２実施形態のＳＡＷ共振子の平面図であり、図５９（Ｂ）は部分拡大断面図、図５９（Ｃ）は同図（Ｂ）における詳細を説明するための拡大図、図５９（Ｄ）は図５９（Ｃ）の部分拡大図に関して、本発明に係るＳＡＷ共振子をフォトリソグラフィ技法とエッチング技法とを用いて製造したときに想定しえる断面形状であって、断面形状が矩形ではなく台形状となった場合における、ＩＤＴ電極指の実効ライン占有率ηｅｆｆの特定方法を説明するための図である。
【図６０】例１におけるタイプ１とタイプ２の周波数温度特性を示す図である。
【図６１】例２におけるタイプ１とタイプ２の周波数温度特性を示す図である。
【図６２】タイプ１のライン占有率ηを変化させたときの一次温度係数の変動量の変化を示す図である。
【図６３】タイプ２の実効ライン占有率ηｅｆｆを変化させたときの一次温度係数の変動量の変化を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
以下、本発明の弾性表面波共振子、および弾性表面波発振器に係る実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。但し、この実施形態に記載される構成要素、種類、組み合わせ、形状、その相対配置などは特定的な記載がない限り、この発明の範囲をそれのみに限定する主旨ではなく単なる説明例に過ぎない。
【００３７】
まず、図１を参照して、本発明の弾性表面波（ＳＡＷ）共振子に係る第１実施形態について説明する。なお図１において、図１（Ａ）はＳＡＷ共振子の平面図であり、図１（Ｂ）は部分拡大断面図、図１（Ｃ）は同図（Ｂ）における詳細を説明するための拡大図、図１（Ｄ）は図１（Ｃ）の部分拡大図に関して、本発明に係るＳＡＷ共振子をフォトリソグラフィ技法とエッチング技法とを用いて製造したときに想定しえる断面形状であって、断面形状が矩形ではなく台形状となった場合における、ＩＤＴ電極指のライン占有率ηの特定方法を説明するための図である。ライン占有率ηは、溝３２の底部から、溝３２の深さ（台座の高さ）Ｇと電極膜厚Ｈとを足した値である（Ｇ＋Ｈ）の１／２となる高さにおける、凸部の幅Ｌと溝３２の幅Ｓとを足した値（Ｌ＋Ｓ）に対する前記幅Ｌの占める割合とするのが適切である。
本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０は、水晶基板３０と、ＩＤＴ１２、および反射器２０を基本として構成される。
【００３８】
図２は、本発明で用いる水晶基板３０の母材となるウェーハ１の方位の一例を示す図である。図２において、Ｘ軸は水晶の電気軸、Ｙ軸は水晶の機械軸、Ｚ軸は水晶の光学軸である。ウェーハ１は、後述のようにＺ´軸を法線とするカット面を有し、カット面内にＸ´´軸とＸ´´軸に垂直なＹ´´´軸を有する。さらに、ＳＡＷ共振子１０を構成するＩＤＴ１２および反射器２０は、後述のようにＳＡＷの伝搬方向を考慮してＸ´´軸に沿って配置される。ＳＡＷ共振子１０を構成する水晶基板３０は、ウェーハ１から切り出されて個片化されたものである。水晶基板３０の平面視形状は特に限定されないが、Ｘ´´軸に平行な方向を長辺とし、Ｙ´´´軸に平行な方向を短辺とした長方形としてもよい。
【００３９】
本実施形態では水晶基板３０として、オイラー角（−１．５°≦φ≦１．５°，１１７°≦θ≦１４２°，４２．７９°≦｜ψ｜≦４９．５７°）で表される面内回転ＳＴカット水晶基板を採用した。ここで、図２を参照してオイラー角について説明する。オイラー角（０°，０°，０°）で表される基板は、Ｚ軸に垂直な主面を有するＺカット基板３となる。
【００４０】
ここで、オイラー角（φ，θ，ψ）のφはＺカット基板３の第１の回転に関するものであり、Ｚ軸を回転軸とし、＋Ｘ軸から＋Ｙ軸側へ回転する方向を正の回転角度とした第１回転角度である。第１の回転後のＸ軸、Ｙ軸をそれぞれＸ´軸、Ｙ´軸とする。なお、図２では、オイラー角の説明として、オイラー角のφが０°の場合を図示している。よって、図２においては、Ｘ軸にＸ´軸が重なっており、Ｙ軸にＹ´軸が重なっている。
【００４１】
オイラー角のθはＺカット基板３の第１の回転後に行う第２の回転に関するものであり、第１の回転後のＸ軸（即ち、Ｘ´軸）を回転軸とし、第１の回転後の＋Ｙ軸（即ち、＋Ｙ´軸）から＋Ｚ軸へ回転する方向を正の回転角度とした第２の回転角度である。圧電基板のカット面、すなわち上述のウェーハ１のカット面は、第１回転角度φと第２回転角度θとで決定される。つまり、第２回転後のＹ軸をＹ´´軸とし、第２回転後のＺ軸をＺ´軸とした場合、Ｘ´軸とＹ´´軸の両方に平行な面が圧電基板のカット面となり、Ｚ´軸がこのカット面の法線となる。
【００４２】
オイラー角のψはＺカット基板３の第２の回転後に行う第３の回転に関するものであり、第２の回転後のＺ軸であるＺ´軸を回転軸とし、第２の回転後の+Ｘ軸（即ち、＋Ｘ´軸）から第２の回転後の+Ｙ軸（即ち、＋Ｙ´´軸）側へ回転する方向を正の回転角度とした第３回転角度である。ＳＡＷの伝搬方向は、第２の回転後のＸ軸（即ち、Ｘ´軸）に対する第３回転角度ψで表される。つまり、第３の回転後のＸ軸をＸ´´軸とし、第３回転後のＹ軸をＹ´´´軸とした場合、Ｘ´´軸とＹ´´´軸の両方に平行な面が圧電基板のカット面となり、その法線はＺ´軸となる。このように第３の回転を行なっても法線は不変であるので、この圧電基板のカット面も上述のウェーハ１のカット面となる。またＸ´´軸に平行な方向がＳＡＷの伝搬方向となる。
【００４３】
なお、ＳＡＷの位相速度方向はＸ´´軸方向に平行な方向となる。ＳＡＷのパワーフローと呼ばれている現象は、ＳＡＷの位相が進む方向（位相速度方向）と、ＳＡＷのエネルギーが進む方向（群速度方向）とにずれが生じる現象である。位相速度方向と群速度方向とがなす角度はパワーフロー角と呼ばれている（図３参照）。
【００４４】
ＩＤＴ１２は、複数の電極指１８ａ、１８ｂの基端部をそれぞれバスバー１６ａ，１６ｂで接続した櫛歯状電極１４ａ，１４ｂを一対有し、一方の櫛歯状電極１４ａを構成する電極指１８ａと、他方の櫛歯状電極１４ｂを構成する電極指１８ｂとを所定の間隔をあけて交互に配置している。さらに、図１（Ａ）に示す如く電極指１８ａ、１８ｂは、それら電極指の延長方向が、弾性表面波の伝播方向であるＸ´´軸と直交するように配置される。このようにして構成されるＳＡＷ共振子１０によって励起されるＳＡＷは、Ｒａｙｌｅｉｇｈ型（レイリー型）のＳＡＷであり、Ｘ´´軸とＺ´軸の両方に振動変位成分を有する。そしてこのように、ＳＡＷの伝播方向を水晶の結晶軸であるＸ軸からずらすことで、ストップバンド上端モードのＳＡＷを励起することが可能となるのである。
【００４５】
また、更に、第１実施形態の変形例に係るＳＡＷ共振子１０は、図３に示す如き形態とすることができる。即ち、図３に示す如くＸ´´軸からパワーフロー角（以下、ＰＦＡと称す）δだけ傾斜させたＩＤＴを適用する場合であっても、以下の要件を満たすことによって高Ｑ化することができる。図３（Ａ）は、傾斜型ＩＤＴ１２ａの一実施形態例を示す平面図であり、オイラー角で決まるＳＡＷの伝播方向であるＸ´´軸と傾斜型ＩＤＴ１２ａの電極指１８ａ，１８ｂの延長方向とが直交関係となるように、傾斜型ＩＤＴ１２ａにおける電極指１８ａ，１８ｂの配置形態を傾斜させたものである。
【００４６】
図３（Ｂ）は、傾斜型ＩＤＴ１２ａの別の実施形態例を示す平面図である。本例では、電極指１８ａ，１８ｂを相互に接続するバスバー１６ａ，１６ｂを傾斜させることにより、Ｘ´´軸に対して電極指配列方向を傾斜させて配置しているが、図３（Ａ）と同様にＸ´´軸と電極指１８ａ，１８ｂの延長方向とが直交関係となるように構成されている。
【００４７】
どのような傾斜型ＩＤＴを用いたとしても、これらの実施形態例のようにＸ´´軸に垂直な方向が電極指の延長方向となるよう電極指を配置することにより、本発明における良好な温度特性を維持しつつ、低損失なＳＡＷ共振子を実現することができる。
【００４８】
ここで、ストップバンド上端モードのＳＡＷと下端モードのＳＡＷの関係について説明する。図４は、正規型ＩＤＴ１２におけるストップバンド上端モードおよび下端モードの定在波の分布を示す図である。図４に示すような正規型ＩＤＴ１２（図４に示すのはＩＤＴ１２を構成する電極指１８）によって形成されるストップバンド下端モード、および上端モードのＳＡＷにおいて、それぞれの定在波は、腹（又は節）の位置が互いにπ／２（即ち、λ／４）ずれている。
【００４９】
図４によれば上述したように、実線で示すストップバンド下端モードの定在波は、電極指１８の中央位置、すなわち反射中心位置に腹が存在し、一点鎖線で示したストップバンド上端モードの定在波は反射中心位置に節が存在する。このような電極指間の中心位置に節が存在するモードでは、ＳＡＷの振動を電極指１８（１８ａ，１８ｂ）によって効率良く電荷に変換することができず、そのモードは電気信号として励振、もしくは、受信することができない場合が多い。しかし、本出願に記載の手法では、オイラー角におけるψを零でなくし、ＳＡＷの伝播方向を水晶の結晶軸であるＸ軸からずらすことで、ストップバンド上端モードの定在波を図４の実線の位置、すなわち、そのモードの定在波の腹を電極指１８の中央位置にシフトさせることが可能となり、ストップバンド上端モードのＳＡＷを励起することが可能となるのである。
【００５０】
また、反射器２０は、前記ＩＤＴ１２をＳＡＷの伝播方向に挟み込むように一対設けられる。具体的構成例としては、ＩＤＴ１２を構成する電極指１８と平行に設けられる複数の導体ストリップ２２の両端をそれぞれ接続したものである。
【００５１】
ここで、別の実施例においては、複数の導体ストリップ２２の一端のみをそれぞれ接続することができる。さらに別の実施例においては、複数の導体ストリップ２２の両端以外の箇所（例えば、導体ストリップ２２の延長方向中央）でそれぞれ接続することができる。
【００５２】
なお、水晶基板のＳＡＷ伝搬方向の端面からの反射波を積極的に利用する端面反射型ＳＡＷ共振子や、ＩＤＴの電極指対数を多くすることでＩＤＴ自体でＳＡＷの定在波を励起する多対ＩＤＴ型ＳＡＷ共振子においては、反射器は必ずしも必要ではない。
このようにして構成されるＩＤＴ１２や反射器２０を構成する電極膜の材料としては、アルミニウム（Ａｌ）やＡｌを主体とした合金を用いることができる。
【００５３】
ＩＤＴ１２や反射器２０を構成する電極膜の電極の厚みを極力少なくすることにより電極が有する温度特性の影響を最小限としている。更に、水晶基板部の溝の深さを大きく採り、水晶基板部の溝の性能によって、すなわち水晶の良好な温度特性を利用することで、良好な周波数温度特性を引き出している。それによって電極の温度特性がＳＡＷ共振子の温度特性に与える影響を小さくすることができ、電極の質量が１０％以内の変動であれば良好な温度特性を維持することができる。
【００５４】
なお、上記の理由により電極膜材料として合金を用いる場合、主成分となるＡｌ以外の金属は重量比で１０％以下、望ましくは３％以下にすればよい。これにより、純Ａｌを用いた場合とＡｌ合金を用いた場合とで、温度特性やその他電気的特性を互いに同等なものにすることができる。
【００５５】
Ａｌ以外の金属を主体とした電極を用いる場合には、電極の質量がＡｌを用いた場合の±１０％以内となるようにその電極の膜厚を調整すれば良い。このようにすることでＡｌを用いたときと同等の良好な温度特性が得られる。
【００５６】
上記のような基本構成を有するＳＡＷ共振子１０における水晶基板３０は、ＩＤＴ１２の電極指間や反射器２０の導体ストリップ間に溝（電極指間溝）３２を設けている。
【００５７】
水晶基板３０に設ける溝３２は、ストップバンド上端モードにおけるＳＡＷの波長をλとし、溝深さをＧとした場合、
【数１０】
とすると良い。なお溝深さＧについて上限値を定める場合には、図５を参照することで読み取れるように、
【数１１】
の範囲とすると良い。溝深さＧをこのような範囲で定めることにより、動作温度範囲内（−４０℃〜＋８５℃）における周波数変動量を、詳細を後述する目標値としての２５ｐｐｍ以下とすることができるからである。また、溝深さＧについて望ましくは、
【数１２】
の範囲とすると良い。溝深さＧをこのような範囲で定めることにより、溝深さＧに製造上のばらつきが生じた場合であっても、ＳＡＷ共振子１０個体間における共振周波数のシフト量を補正範囲内に抑えることができる。
【００５８】
また、ライン占有率ηとは図１（Ｃ）や図１（Ｄ）に示すように、電極指１８の線幅（水晶凸部のみの場合には凸部の幅をいう）Ｌを電極指１８間のピッチλ／２（＝Ｌ＋Ｓ）で除した値である。したがって、ライン占有率ηは、式（４）で示すことができる。
【数１３】
ここで本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０は、ライン占有率ηを式（５）、（６）を満たすような範囲で定めると良い。なお、数（５）、（６）からも解るようにηは溝３２の深さＧを定めることにより導き出すことができる。
【数１４】
【数１５】
【００５９】
また、本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０における電極膜材料（ＩＤＴ１２や反射器２０等）の膜厚は、
【数１６】
の範囲とすることが望ましい。
【００６０】
さらに、ライン占有率ηについて式（７）で示した電極膜の厚みを考慮した場合、ηは式（８）により求めることができる。
【数１７】
【００６１】
ライン占有率ηは、電極膜厚が厚いほど電気的特性（特に共振周波数）の製造ばらつきが大きくなり、電極膜厚Ｈが式（５）、（６）の範囲内においては±０．０４以内の製造ばらつき、Ｈ＞０．０３５λにおいては±０．０４より大きい製造ばらつきが生じる可能性が大きい。しかしながら、電極膜厚Ｈが式（５）、（６）の範囲内であり、且つライン占有率ηのばらつきが±０．０４以内であれば、二次温度係数βの絶対値の小さいＳＡＷデバイスが実現できる。即ちライン占有率ηは、式（８）に±０．０４の公差を加えた式（９）の範囲まで許容できる。
【数１８】
【００６２】
上記のような構成の本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０では、二次温度係数βを± ０．０１（ｐｐｍ／℃２）以内とし、望ましくはＳＡＷの動作温度範囲を−４０℃〜＋８５℃とした場合に、当該動作温度範囲内における周波数変動量ΔＦを２５ｐｐｍ以下とすることができる程度まで、周波数温度特性を向上させることを目的としている。
【００６３】
ところで、一般的に弾性表面波共振子の温度特性は、下式で示される。
Δｆ＝α×（Ｔ−Ｔ０）＋β×（Ｔ−Ｔ０）２
ここで、Δｆは温度Ｔと頂点温度Ｔ０間の周波数変化量（ｐｐｍ）、αは一次温度係数（ｐｐｍ／℃）、βは二次温度係数（ｐｐｍ／℃２）、Ｔは温度、Ｔ０は周波数が最大となる温度（頂点温度）を意味する。
【００６４】
例えば、圧電基板がいわゆるＳＴカット（オイラー角（φ、θ、ψ）＝（０°、１２０°〜１３０°、０°））の水晶板で形成されている場合、一次温度係数α＝０．０（ｐｐｍ／℃）、二次温度係数β＝−０．０３４（ｐｐｍ／℃２）となり、グラフに示すと図６のようになる。図６において、温度特性は上に凸の放物線（二次曲線）を描いている。
【００６５】
図６に示すようなＳＡＷ共振子は、温度の変化に対する周波数変動量が極めて大きく、温度変化に対する周波数変化量Δｆを抑圧することが必要となる。従って、図６に示す二次温度係数βをより０に近づけて、ＳＡＷ共振子が実際に使用される際の温度（動作温度）の変化に対する周波数変化量Δｆが０に近づくように、弾性表面波共振子を新たな知見に基づいて実現する必要があるのである。
【００６６】
従って、本発明の目的の１つは、上記の如き課題を解消し、弾性表面波デバイスの周波数温度特性を極めて良好なものとし、温度が変化しても周波数が安定して動作する弾性表面波デバイスを実現することである。
【００６７】
上記の如き技術思想（技術要素）を備えた構成とするＳＡＷデバイスとすれば、前述の如き課題を解決することを実現し得ること、即ち、本願発明者がシミュレーションと実験を繰り返すことによって、如何にして本発明に係る知見に想到したのかについて、以下に詳細に説明し、証明する。
【００６８】
なお、前述のＳＴカットと呼ばれる水晶基板を用いて伝搬方向を結晶Ｘ軸方向としたＳＡＷ共振子は、動作温度範囲を同一とした場合、動作温度範囲内における周波数変動量ΔＦは約１３３（ｐｐｍ）となり、二次温度係数βは、−０．０３４（ｐｐｍ／℃２）程度となる。また、水晶基板のカット角とＳＡＷ伝搬方向をオイラー角表示で（０，１２３°，４５°）とし、動作温度範囲を同一とした面内回転ＳＴカット水晶基板を用いたＳＡＷ共振子においてストップバンド下端モードの励振を利用した場合、周波数変動量ΔＦは約６３ｐｐｍ、二次温度係数βは−０．０１６（ｐｐｍ／℃２）程度となる。
【００６９】
これらＳＴカット水晶基板や面内回転ＳＴカット水晶基板を用いたＳＡＷ共振子はいずれもレイリー波と呼ばれる弾性表面波を利用しており、ＬＳＴカット水晶基板のリーキー波と呼ばれる弾性表面波に比べて水晶基板や電極の加工精度に対する周波数や周波数温度特性のばらつきが極めて小さいため、量産性に優れ、各種のＳＡＷ装置に利用されている。しかしながら、従来利用されていたＳＴカット水晶基板や面内回転ＳＴカット水晶基板などを用いたＳＡＷ共振子は、前述のとおり、周波数温度特性を示す曲線を二次曲線とした二次温度特性であり、更に、その二次温度特性の二次温度係数の絶対値が大きいので、動作温度範囲における周波数変動量が大きく、周波数の安定性を求める有線通信装置や無線通信装置に使用される共振子や発振器などのＳＡＷ装置には利用が困難であった。例えば、ＳＴカット水晶基板の二次温度係数βの１／３以下、面内回転ＳＴカット水晶基板の二次温度係数βの３７％以上の改善に相当する二次温度係数βが±０．０１（ｐｐｍ／℃２）以下の二次温度特性を持つ周波数温度特性が得られれば、そのような周波数の安定性を求める装置を実現できる。更に、二次温度係数βがほぼ零であり、周波数温度特性を示す曲線を三次曲線とした三次温度特性が得られれば、動作温度範囲において、より周波数の安定性が高まり、より望ましい。このような三次温度特性では、−４０℃〜＋８５℃もの広い動作温度範囲においても±２５ｐｐｍ以下の、従来の如きＳＡＷデバイスでは実現し得なかった極めて高い周波数安定度が得られる。
【００７０】
ＳＡＷ共振子１０の周波数温度特性の変化には上述したように、ＩＤＴ１２における電極指１８のライン占有率ηや電極膜厚Ｈ、及び溝深さＧなどが関係していることが、本願発明者が行ったシミュレーションと実験に基づく知見により明らかとなった。そして本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０は、ストップバンド上端モードの励振を利用する。
【００７１】
図７は、図１（Ｃ）において、電極膜厚Ｈを零（Ｈ＝０％λ）として、即ち、水晶基板３０の表面に凹凸の水晶からなる溝３２を形成した状態において、水晶基板３０の表面にＳＡＷを励起して伝播させた場合のライン占有率ηの変化に対する二次温度係数βの変化を示すグラフである。図７において図７（Ａ）は溝深さＧを０．０２λとした場合のストップバンド上端モードの共振における二次温度係数βを示し、図７（Ｂ）は溝深さＧを０．０２λとした場合のストップバンド下端モードの共振における二次温度係数βを示す。また、図７において図７（Ｃ）は溝深さＧを０．０４λとした場合のストップバンド上端モードの共振における二次温度係数βを示し、図７（Ｄ）は溝深さＧを０．０４λとした場合のストップバンド下端モードの共振における二次温度係数βを示す。なお、図７に示すシミュレーションは、周波数温度特性を変動させる因子を減らすために、電極膜を設けない水晶基板３０に何らかの形でＳＡＷを伝搬させた場合の例を示すものである。また、水晶基板３０のカット角は、オイラー角（０°，１２３°，ψ）のものを使用した。なお、ψに関しては、二次温度係数βの絶対値が最小となる値を適宜選択している。
【００７２】
図７からは、ストップバンド上端モードの場合も下端モードの場合も、ライン占有率ηが０．６〜０．７となるあたりで二次温度係数βが大きく変化していることを読み取ることができる。そして、ストップバンド上端モードにおける二次温度係数βの変化とストップバンド下端モードにおける二次温度係数βの変化とを比較すると、次のような事を読み取ることができる。すなわち、ストップバンド下端モードにおける二次温度係数βの変化は、マイナス側からさらにマイナス側へ変化する事により特性が低下している（二次温度係数βの絶対値が大きくなっている）。これに対し、ストップバンド上端モードにおける二次温度係数βの変化は、マイナス側からプラス側へ変化することにより特性が向上している（二次温度係数βの絶対値が小さくなる点が存在している）ということである。
【００７３】
このことより、ＳＡＷデバイスにおいて良好な周波数温度特性を得るためには、ストップバンド上端モードの振動を用いることが望ましいということが明らかとなった。
【００７４】
次に発明者は、溝深さＧを種々変化させた水晶基板においてストップバンド上端モードのＳＡＷを伝搬させた際におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係について調べた。
【００７５】
図８（Ａ）乃至（Ｉ）は、図７と同様に電極膜厚Ｈを零（Ｈ＝０％λ）として、それぞれ溝深さＧを０．０１λ（１％λ）から０．０８λ（８％λ）まで変化させたときのライン占有率ηと二次温度係数βとの関係をシミュレーションしたときの評価結果を示すグラフである。評価結果から、溝深さＧを図８（Ｂ）に示す如く０．０１２５λ（１．２５％λ）としたあたりからβ＝０となる点、すなわち周波数温度特性を示す近似曲線が三次曲線を示す点が現れ始めていることが読み取れる。そして、図８からは、β＝０となるηがそれぞれ２箇所（ηが大きな方におけるβ＝０となる点（η１）や、ηが小さい方におけるβ＝０となる点（η２））が存在することも判明した。更に、図８に示す評価結果から、η２の方が、η１よりも溝深さＧの変化に対するライン占有率ηの変動量が大きいという事も読み取ることができる。
【００７６】
この点については、図９を参照することによりその理解を深めることができる。図９は、溝深さＧを変えていった場合において二次温度係数βが０となるη１、η２をそれぞれプロットしたグラフである。図９は、溝深さＧが大きくなるにつれて、η１、η２は互いに小さくなるが、η２の方は、縦軸ηのスケールを０．５λ〜０．９λの範囲で示したグラフにおいて、溝深さＧ＝０．０４λとなったあたりでスケールアウトしてしまうほど変動量が大きいということを読み取ることができる。つまり、η２は、溝深さＧの変化に対する変動量が大きいということがいえる。
【００７７】
図１０（Ａ）乃至（Ｉ）は、図７や図８と同様に電極膜厚Ｈを零（Ｈ＝０％λ）として、図８における縦軸を二次温度係数βに替えて周波数変動量ΔＦとして示したグラフである。図１０からは当然に、β＝０となる２つの点（η１、η２）において、周波数変動量ΔＦが低下する事を読み取ることができる。さらに図１０からは、β＝０となる２つの点では、溝深さＧを変えたいずれのグラフにおいても、η１にあたる点の方が、周波数変動量ΔＦが小さく抑えられているということを読み取ることができる。
【００７８】
上記傾向によると、製造時に誤差が生じ易い量産品に関しては、溝深さＧの変動に対するβ＝０となる点の周波数変動量が少ない方、すなわちη１を採用することが望ましいと考えられる。図５には、各溝深さＧにおいて二次温度係数βが最小となる点（η１）での周波数変動量ΔＦと溝深さＧとの関係のグラフを示す。図５によると、周波数変動量ΔＦが目標値である２５ｐｐｍ以下となる溝深さＧの下限値は、溝深さＧが０．０１λとなり、溝深さＧの範囲はそれ以上、すなわち０．０１≦Ｇということになる。
【００７９】
なお、図５にはシミュレーションよって、溝深さＧが０．０８以上となる場合の例も追加した。このシミュレーションによれば溝深さＧは、０．０１λ以上で周波数変動量ΔＦが２５ｐｐｍ以下となり、その後、溝深さＧが増す毎に周波数変動量ΔＦが小さくなる。しかし、溝深さＧが約０．９λ以上となった場合に、周波数変動量ΔＦは再び増加し、０．０９４λを越えると周波数変動量ΔＦが２５ｐｐｍを超えることとなる。
【００８０】
図５に示すグラフは水晶基板３０上に、ＩＤＴ１２や反射器２０等の電極膜を形成していない状態でのシミュレーションであるが、詳細を以下に示す図２１〜図２６を参照すると解るように、ＳＡＷ共振子１０は電極膜を設けた方が周波数変動量ΔＦを小さくすることができると考えられる。よって溝深さＧの上限値を定めるとすれば電極膜を形成していない状態での最大値、すなわちＧ≦０．９４λとすれば良く、目標を達成するために好適な溝深さＧの範囲としては、
【数１９】
と示すことができる。
【００８１】
なお、量産工程において溝深さＧは、最大±０．００１λ程度のバラツキを持つ。よって、ライン占有率ηを一定とした場合において、溝深さＧが±０．００１λだけズレた場合におけるＳＡＷ共振子１０の個々の周波数変動量Δｆについて図１１に示す。図１１によれば、Ｇ＝０．０４λの場合において、溝深さＧが±０．００１λズレた場合、すなわち溝深さが０．０３９λ≦Ｇ≦０．０４１λの範囲においては、周波数変動量Δｆが±５００ｐｐｍ程度であるということを読み取ることができる。
【００８２】
ここで、周波数変動量Δｆが±１０００ｐｐｍ未満であれば、種々の周波数微調整手段により周波数調整が可能である。しかし、周波数変動量Δｆが±１０００ｐｐｍ以上となった場合には、周波数の調整によりＱ値、ＣＩ（crystal impedance）値等の静特性や、長期信頼性への影響が生じ、ＳＡＷ共振子１０として良品率の低下へと繋がる。
【００８３】
図１１に示すプロットを繋ぐ直線について、周波数変動量Δｆ［ｐｐｍ］と溝深さＧとの関係を示す近似式を導くと、式（１０）を得ることができる。
【数２０】
【００８４】
ここで、Δｆ＜１０００ｐｐｍとなるＧの値を求めると、Ｇ≦０．０６９５λとなる。したがって、本実施形態に係る溝深さＧの範囲として好適には、
【数２１】
とすることが望ましいということができる。
【００８５】
次に、図１２（Ａ）乃至（Ｆ）に、二次温度係数β＝０となるη、すなわち三次温特を示すライン占有率ηと溝深さＧとの関係をシミュレーションしたときの評価結果のグラフを示す。水晶基板３０は、オイラー角を（０°，１２３°，ψ）とした。ここでψについては、周波数温度特性が三次曲線の傾向を示す角度、すなわち二次温度係数β＝０となる角度を適宜選択している。なお、図１２と同様な条件において、β＝０となるηを得た際のオイラー角ψと溝深さＧとの関係を図３４に示す。図３４の電極膜厚Ｈ＝０．０２λのグラフ（図３４（Ｃ））において、ψ＜４２°のプロットが表示されていないが、このグラフのη２のプロットはＧ＝０．０３λにてψ＝４１．９°となっている。各電極膜厚における溝深さＧとライン占有率ηとの関係については、詳細を後述する図１５〜図２０に基づいてプロットを得ている。
【００８６】
図１２（Ａ）乃至（Ｆ）に示す評価結果からは、いずれの膜厚においても、上述したように、η１はη２に比べて溝深さＧの変化による変動が少ないということを読み取ることができる。このため、図１２におけるそれぞれの膜厚の溝深さＧとライン占有率ηとの関係を示すグラフからη１を抜き出し図１３（Ａ）にβ≒０となる点をプロットしてまとめた。それに対して、β≒０とはならずとも、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）を満足する領域を評価したところ、図１３（Ｂ）に示す如く実線で示す多角形の中にη１が集中していることが明らかとなった。
【００８７】
図１３（Ｂ）の点ａ乃至ｈの座標を下表１に示す。
【表１】
【００８８】
図１３（Ｂ）は、点ａ乃至ｈで囲まれた多角形内であれば、電極膜厚Ｈの厚みに係わらず｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）が保証され、良好な周波数温度特性が得られることを示している。この良好な周波数温度特性が得られる範囲は、下に示す式（１１）と式（１２）、および式（１３）の両方を満足する範囲である。
【数２２】
【数２３】
【数２４】
式（１１）、（１２）、（１３）より、図１３（Ｂ）において実線で囲った範囲において、ライン占有率ηは、式（５）と式（６）の両方を満たす範囲として特定することができるといえる。
【数２５】
【数２６】
【００８９】
ここで、二次温度係数βを±０．０１（ｐｐｍ／℃２）以内まで許容する場合、０．０１００λ≦Ｇ≦０．０５００λにおいては、式（３）と式（５）を共に満たし、０．０５００λ＜Ｇ≦０．０６９５λにおいては、式（３）と式（６）を共に満たすように構成すれば、二次温度係数βが±０．０１（ｐｐｍ／℃２）以内になることを確認した。
【００９０】
尚、点ａ乃至ｈにおける各電極膜厚Ｈの二次温度係数β（ｐｐｍ／℃２）の値を下表２に示す。表２からは、全ての点において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となっていることが確認できる。
【表２】
【００９１】
また、式（１１）〜（１３）およびこれにより導かれる式（５）、（６）を踏まえて電極膜厚Ｈ≒０、０．０１λ、０．０２λ、０．０３λとしたＳＡＷ共振子１０についてそれぞれ、β＝０となる溝深さＧとライン占有率ηとの関係を近似直線で示すと図１４のようになる。なお、電極膜を設けない水晶基板３０における溝深さＧとライン占有率ηとの関係については、図９に示した通りである。
【００９２】
電極膜厚Ｈを３．０％λ（０．０３０λ）以下で変化させたときに、β＝０、即ち、三次曲線の周波数温度特性が得られる。このとき、周波数温度特性が良好となるＧとηとの関係式は式（８）で示すことができる。
【数２７】
ここで、Ｇ、Ｈの単位はλである。
但し、この式（８）は、電極膜厚Ｈが、０＜Ｈ≦０．０３０λの範囲において成立するものである。
【００９３】
ライン占有率ηは、電極膜厚が厚いほど電気的特性（特に共振周波数）の製造ばらつきが大きくなり、電極膜厚Ｈが式（５）、（６）の範囲内においては±０．０４以内の製造ばらつき、Ｈ＞０．０３５λにおいては±０．０４より大きい製造ばらつきが生じる可能性が大きい。しかしながら、電極膜厚Ｈが式（５）、（６）の範囲内であり、且つライン占有率ηのばらつきが±０．０４以内であれば、二次温度係数βの小さいＳＡＷデバイスが実現できる。即ち、ライン占有率の製造ばらつきを考慮した上で二次温度係数βを±０．０１ｐｐｍ／℃２以内とする場合、ライン占有率ηは、式（８）に±０．０４の公差を加えた式（９）の範囲まで許容できる。
【数２８】
【００９４】
図１５〜図２０に、電極膜厚をそれぞれ０．０１λ（１％λ）、０．０１５λ（１．５％λ）、０．０２λ（２％λ）、０．０２５λ（２．５％λ）、０．０３λ（３％λ）、０．０３５λ（３．５％λ）とした場合において、溝深さＧを変化させた場合におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係のグラフを示す。
【００９５】
また、図２１〜図２６には、図１５〜図２０にそれぞれ対応したＳＡＷ共振子１０におけるライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係のグラフを示す。なお、水晶基板はいずれもオイラー角（０°，１２３°，ψ）のものを使用し、ψについては適宜ΔＦが最小となる角度を選択する。
【００９６】
ここで、図１５（Ａ）乃至（Ｆ）は、電極膜厚Ｈを０．０１λとした場合のライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示す図であり、図２１（Ａ）乃至（Ｆ）は電極膜厚Ｈを０．０１λとした場合のライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示す図である。
【００９７】
また、図１６（Ａ）乃至（Ｆ）は、電極膜厚Ｈを０．０１５λとした場合のライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示す図であり、図２２（Ａ）乃至（Ｆ）は電極膜厚Ｈを０．０１５λとした場合のライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示す図である。
【００９８】
また、図１７（Ａ）乃至（Ｆ）は、電極膜厚Ｈを０．０２λとした場合のライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示す図であり、図２３（Ａ）乃至（Ｆ）は電極膜厚Ｈを０．０２λとした場合のライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示す図である。
【００９９】
また、図１８（Ａ）乃至（Ｆ）は、電極膜厚Ｈを０．０２５λとした場合のライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示す図であり、図２４（Ａ）乃至（Ｆ）は電極膜厚Ｈを０．０２５λとした場合のライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示す図である。
【０１００】
また、図１９（Ａ）乃至（Ｆ）は、電極膜厚Ｈを０．０３λとした場合のライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示す図であり、図２５（Ａ）乃至（Ｆ）は電極膜厚Ｈを０．０３λとした場合のライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示す図である。
【０１０１】
また、図２０（Ａ）乃至（Ｆ）は、電極膜厚Ｈを０．０３５λとした場合のライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示す図であり、図２６（Ａ）乃至（Ｆ）は電極膜厚Ｈを０．０３５λとした場合のライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示す図である。
【０１０２】
これらの図（図１５〜図２６）においては、いずれのグラフにおいても微差はあるものの、その変化の傾向に関しては、水晶基板３０のみにおけるライン占有率ηと二次温度係数β、およびライン占有率ηと周波数変動量ΔＦの関係を示すグラフである図８、図１０と似ていることが解る。
つまり、本実施形態に係る効果は、電極膜を除いた水晶基板３０単体における弾性表面波の伝播においても奏することができるということが言える。
【０１０３】
二次温度係数βが０となる２点のη１、η２の各々に対して、βの範囲を｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）まで拡張したときのη１、η２の範囲について、電極膜厚Ｈの範囲を定めて溝深さＧを変化させた場合について、それぞれシミュレーションを実施した。なお、η１、η２はそれぞれ、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる大きい方のηをη１、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる小さい方のηをη２としている。なお、水晶基板はいずれもオイラー角（０°，１２３°，ψ）のものを使用し、ψについては適宜ΔＦが最少となる角度を選択する。
【０１０４】
図２７（Ａ）は、電極膜厚Ｈを０．０００λ＜Ｈ≦０．００５λとした場合において、上記βの範囲を満たすη１と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表３は、図２７（Ａ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表３】
【０１０５】
図２７（Ａ）と表３から、η１では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０９λの範囲において、計測点ａ−ｒを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１０６】
図２７（Ｂ）は、電極膜厚Ｈを０．０００λ＜Ｈ≦０．００５λとした場合において、上記βの範囲を満たすη２と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表４は、図２７（Ｂ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表４】
【０１０７】
図２７（Ｂ）と表４から、η２では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０３λ≦Ｇ≦０．０９λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１０８】
図２８（Ａ）は、電極膜厚Ｈを０．００５λ＜Ｈ≦０．０１０λとした場合において、上記βの範囲を満たすη１と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表５は、図２８（Ａ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表５】
【０１０９】
図２８（Ａ）と表５から、η１では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０８λの範囲において、計測点ａ−ｐを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１１０】
図２８（Ｂ）は、電極膜厚Ｈを０．００５λ＜Ｈ≦０．０１０λとした場合において、上記βの範囲を満たすη２と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表６は、図２８（Ｂ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表６】
【０１１１】
図２８（Ｂ）と表６から、η２では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０２λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｌを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１１２】
図２９（Ａ）は、電極膜厚Ｈを０．０１０λ＜Ｈ≦０．０１５λとした場合において、上記βの範囲を満たすη１と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表７は、図２９（Ａ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表７】
【０１１３】
図２９（Ａ）と表７から、η１では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０８λの範囲において、計測点ａ−ｐを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１１４】
図２９（Ｂ）は、電極膜厚Ｈを０．０１０λ＜Ｈ≦０．０１５λとした場合において、上記βの範囲を満たすη２と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表８は、図２９（Ｂ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表８】
【０１１５】
図２９（Ｂ）と表８から、η２では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１１６】
図３０（Ａ）は、電極膜厚Ｈを０．０１５λ＜Ｈ≦０．０２０λとした場合において、上記βの範囲を満たすη１と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表９は、図３０（Ａ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表９】
【０１１７】
図３０（Ａ）と表９から、η１では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１１８】
図３０（Ｂ）は、電極膜厚Ｈを０．０１５λ＜Ｈ≦０．０２０λとした場合において、上記βの範囲を満たすη２と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表１０は、図３０（Ｂ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表１０】
【０１１９】
図３０（Ｂ）と表１０から、η２では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１２０】
図３１（Ａ）は、電極膜厚Ｈを０．０２０λ＜Ｈ≦０．０２５λとした場合において、上記βの範囲を満たすη１と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表１１は、図３１（Ａ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表１１】
【０１２１】
図３１（Ａ）と表１１から、η１では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１２２】
図３１（Ｂ）は、電極膜厚Ｈを０．０２０λ＜Ｈ≦０．０２５λとした場合において、上記βの範囲を満たすη２と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表１２は、図３１（Ｂ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表１２】
【０１２３】
図３１（Ｂ）と表１２から、η２では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１２４】
図３２（Ａ）は、電極膜厚Ｈを０．０２５λ＜Ｈ≦０．０３０λとした場合において、上記βの範囲を満たすη１と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表１３は、図３２（Ａ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表１３】
【０１２５】
図３２（Ａ）と表１３から、η１では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１２６】
図３２（Ｂ）は、電極膜厚Ｈを０．０２５λ＜Ｈ≦０．０３０λとした場合において、上記βの範囲を満たすη２と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表１４は、図３２（Ｂ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表１４】
【０１２７】
図３２（Ｂ）と表１４から、η２では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１２８】
図３３（Ａ）は、電極膜厚Ｈを０．０３０λ＜Ｈ≦０．０３５λとした場合において、上記βの範囲を満たすη１と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表１５は、図３３（Ａ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表１５】
【０１２９】
図３３（Ａ）と表１５から、η１では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１３０】
図３３（Ｂ）は、電極膜厚Ｈを０．０３０λ＜Ｈ≦０．０３５λとした場合において、上記βの範囲を満たすη２と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表１６は、図３３（Ｂ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表１６】
【０１３１】
図３３（Ｂ）と表１６から、η２では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１３２】
図３５に、図３４に示すグラフにおけるη１によって得られるψと溝深さＧとの関係をまとめた。なお、η１を選択した理由については上述した通りである。図３５に示すように、電極膜の膜厚が変化した場合であっても、ψの角度には殆ど違いは無く、ψの最適角度は溝深さＧの変動にしたがって変化して行くことが解る。これも、二次温度係数βの変化が水晶基板３０の形態に起因する割合が高いことの裏付けということができる。
【０１３３】
上記と同様にして、二次温度係数β＝−０．０１（ｐｐｍ／℃２）となるψとβ＝＋０．０１（ｐｐｍ／℃２）となるψについて溝深さＧとの関係を求め、図３６、図３７にまとめた。これらのグラフ（図３５〜図３７）から−０．０１≦β≦＋０．０１とすることのできるψの角度を求めると、上記条件下における好適なψの角度範囲は４３°＜ψ＜４５°と定めることができ、さらに好適には４３．２°≦ψ≦４４．２と定めることができる。
【０１３４】
なお、電極膜厚Ｈを変化させた場合において、溝深さＧを変化させた際に｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲についてシミュレーションを行った。そのシミュレーションの結果を、図３８〜図４４に示す。なお、水晶基板はいずれもオイラー角（０°，１２３°，ψ）のものを使用し、ψについては適宜ΔＦが最少となる角度を選択する。
【０１３５】
図３８（Ａ）は、電極膜厚Ｈの範囲を０＜Ｈ≦０．００５λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフである。ここで、ψの最大値を示すプロットを結ぶ直線と、ψの最小値を示すプロットを結ぶ破線とで挟まれた範囲が、上記条件を満たす範囲である。
【０１３６】
溝深さＧを０．０１λ≦Ｇ≦０．０６９５の範囲として、図３８（Ａ）に示す実線と破線の範囲を多角形状で近似すると、図３８（Ｂ）のように示すことができ、図３８（Ｂ）において実線で示される多角形の内側にあたる範囲では、βが上記条件を満たすといえる。図３８（Ｂ）に示される多角形の範囲を近似式で示すと、式（１４）、（１５）で示すことができる。
【数２９】
【数３０】
【０１３７】
図３９（Ａ）は、電極膜厚Ｈの範囲を０．００５λ＜Ｈ≦０．０１０λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフである。ここで、ψの最大値を示すプロットを結ぶ直線と、ψの最小値を示すプロットを結ぶ破線とで挟まれた範囲が、上記条件を満たす範囲である。
【０１３８】
溝深さＧを０．０１λ≦Ｇ≦０．０６９５の範囲として、図３９（Ａ）に示す実線と破線の範囲を多角形状で近似すると、図２９（Ｂ）のように示すことができ、図３９（Ｂ）において実線で示される多角形の内側にあたる範囲では、βが上記条件を満たすといえる。図３９（Ｂ）に示される多角形の範囲を近似式で示すと、式（１６）、（１７）で示すことができる。
【数３１】
【数３２】
【０１３９】
図４０（Ａ）は、電極膜厚Ｈの範囲を０．０１０＜Ｈ≦０．０１５λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフである。ここで、ψの最大値を示すプロットを結ぶ直線と、ψの最小値を示すプロットを結ぶ破線とで挟まれた範囲が、上記条件を満たす範囲である。
【０１４０】
溝深さＧを０．０１λ≦Ｇ≦０．０６９５の範囲として、図４０（Ａ）に示す実線と破線の範囲を多角形状で近似すると、図４０（Ｂ）のように示すことができ、図４０（Ｂ）において実線で示される多角形の内側にあたる範囲では、βが上記条件を満たすといえる。図４０（Ｂ）に示される多角形の範囲を近似式で示すと、式（１８）、（１９）で示すことができる。
【数３３】
【数３４】
【０１４１】
図４１（Ａ）は、電極膜厚Ｈの範囲を０．０１５＜Ｈ≦０．０２０λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフである。ここで、ψの最大値を示すプロットを結ぶ直線と、ψの最小値を示すプロットを結ぶ破線とで挟まれた範囲が、上記条件を満たす範囲である。
【０１４２】
溝深さＧを０．０１λ≦Ｇ≦０．０６９５の範囲として、図４１（Ａ）に示す実線と破線の範囲を多角形状で近似すると、図４１（Ｂ）のように示すことができ、図４１（Ｂ）において実線で示される多角形の内側にあたる範囲では、βが上記条件を満たすといえる。図４１（Ｂ）に示される多角形の範囲を近似式で示すと、式（２０）、（２１）で示すことができる。
【数３５】
【数３６】
【０１４３】
図４２は、電極膜厚Ｈの範囲を０．０２０＜Ｈ≦０．０２５λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフである。ここで、ψの最大値を示すプロットを結ぶ直線と、ψの最小値を示すプロットを結ぶ破線とで挟まれた範囲が、上記条件を満たす範囲である。
【０１４４】
溝深さＧを０．０１λ≦Ｇ≦０．０６９５の範囲として、図４２に示す実線と破線の範囲を多角形状で近似すると、図４２（Ｂ）のように示すことができ、図４２（Ｂ）において実線で示される多角形の内側にあたる範囲では、βが上記条件を満たすといえる。図４２（Ｂ）に示される多角形の範囲を近似式で示すと、式（２２）〜（２４）で示すことができる。
【数３７】
【数３８】
【数３９】
【０１４５】
図４３（Ａ）は、電極膜厚Ｈの範囲を０．０２５＜Ｈ≦０．０３０λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフである。ここで、ψの最大値を示すプロットを結ぶ直線と、ψの最小値を示すプロットを結ぶ破線とで挟まれた範囲が、上記条件を満たす範囲である。
【０１４６】
溝深さＧを０．０１λ≦Ｇ≦０．０６９５の範囲として、図４３（Ａ）に示す実線と破線の範囲を多角形状で近似すると、図４３（Ｂ）のように示すことができ、図４３（Ｂ）において実線で示される多角形の内側にあたる範囲では、βが上記条件を満たすといえる。図４３（Ｂ）に示される多角形の範囲を近似式で示すと、式（２５）〜（２７）で示すことができる。
【数４０】
【数４１】
【数４２】
図４４（Ａ）は、電極膜厚Ｈの範囲を０．０３０＜Ｈ≦０．０３５λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフである。ここで、ψの最大値を示すプロットを結ぶ直線と、ψの最小値を示すプロットを結ぶ破線とで挟まれた範囲が、上記条件を満たす範囲である。
【０１４７】
溝深さＧを０．０１λ≦Ｇ≦０．０６９５の範囲として、図４４（Ａ）に示す実線と破線の範囲を多角形状で近似すると、図４４（Ｂ）のように示すことができ、図４４（Ｂ）において実線で示される多角形の内側にあたる範囲では、βが上記条件を満たすといえる。図４４（Ｂ）に示される多角形の範囲を近似式で示すと、式（２８）〜（３０）で示すことができる。
【数４３】
【数４４】
【数４５】
【０１４８】
次に、図４５にθの角度を振った際の二次温度係数βの変化、すなわちθと二次温度係数βとの関係を示す。ここで、シミュレーションに用いたＳＡＷデバイスは、カット角とＳＡＷ伝搬方向をオイラー角表示で（０，θ，ψ）とし、溝深さＧを０．０４λとした水晶基板であり、電極膜厚Ｈは０．０２λとしている。なお、ψに関しては、θの設定角度に基づいて、上述した角度範囲内において、適宜二次温度係数βの絶対値が最小となる値を選択した。また、ηに関しては、上記式（８）に従って、０．６３８３とした。
【０１４９】
このような条件の下、θと二次温度係数βとの関係を示す図４５からは、θが１１７°以上１４２°以下の範囲内であれば、二次温度係数βの絶対値が０．０１（ｐｐｍ／℃２）の範囲内にある事を読み取ることができる。よって、上記のような設定値において、θを１１７°≦θ≦１４２°の範囲で定めることによれば、良好な周波数温度特性を持ったＳＡＷ共振子１０を構成することができると言える。
【０１５０】
θと二次温度係数βとの関係を裏付けるシミュレーションデータとして、表１７〜１９を示す。
【表１７】
【０１５１】
表１７は、電極膜厚Ｈを変えた場合におけるθと二次温度係数βとの関係を示す表であり、電極膜厚Ｈを０．０１％λとした場合と、電極膜厚Ｈを３．５０％λとした場合におけるθの臨界値（１１７°、１４２°）での二次温度係数βの値を示す。なお、このシミュレーションにおける溝深さＧは、いずれも４％λである。表１７からは、１１７°≦θ≦１４２°の範囲では、電極膜厚Ｈの厚みを変えた場合（電極膜厚の臨界値として規定した０≒０．０１％λと３．５％λ）であっても、その厚みに依存する事無く｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）を満足するということを読み取ることができる。
【０１５２】
【表１８】
表１８は、溝深さＧを変えた場合におけるθと二次温度係数βとの関係を示す表であり、溝深さＧを１．００％λと６．９５％λとした場合におけるθの臨界値（１１７°、１４２°）での二次温度係数βの値を示す。なお、このシミュレーションにおける電極膜厚Ｈは、いずれも２．００％λである。表１８からは、１１７°≦θ≦１４２°の範囲では、溝深さＧを変えた場合（溝深さＧの臨界値として規定した１．００％λと６．９５％λ）であっても、その深さに依存する事無く｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）を満足するということを読み取ることができる。
【０１５３】
【表１９】
表１９は、ライン占有率ηを変えた場合におけるθと二次温度係数βとの関係を示す表であり、ライン占有率ηを０．６２と０．７６とした場合におけるθの臨界値（１１７°、１４２°）での二次温度係数βの値を示す。なお、このシミュレーションにおける電極膜厚Ｈは、いずれも２．００％λであり、溝深さＧは、いずれも４．００％λである。表１９からは、１１７°≦θ≦１４２°の範囲では、ライン占有率ηを変えた場合（η＝０．６２、０．７６は、電極膜厚Ｈを０．０２０λ〜０．０２５の範囲としてライン占有率η（η１）と溝深さＧの関係を示した図３１（Ａ）において、溝深さを４％λとした場合におけるηの最小値と最大値）であっても、その値に依存する事無く｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）を満足するということを読み取ることができる。
【０１５４】
図４６は、オイラー角表示で（φ，１２３°，４３．７７°）の水晶基板３０を用い、溝深さＧを０．０４λ、電極膜厚Ｈを０．０２λ、及びライン占有率ηを０．６５とした場合において、φの角度と二次温度係数βとの関係を示すグラフである。
【０１５５】
図４６からは、φが−２°、＋２°の場合にはそれぞれ二次温度係数βが−０．０１（ｐｐｍ／℃２）よりも低くなってしまっているが、φが−１．５°から＋１．５°の範囲であれば確実に、二次温度係数βの絶対値が０．０１（ｐｐｍ／℃２）の範囲内にある事を読み取ることができる。よって、上記のような設定値においてφを−１．５°≦φ≦＋１．５°、好適には−１°≦φ≦＋１°の範囲で定めることによれば、良好な周波数温度特性を持ったＳＡＷ共振子１０を構成することができる。
【０１５６】
上記説明では、φ、θ、ψはそれぞれ、一定条件の下に溝深さＧとの関係において最適値の範囲を導き出している。これに対し、図４７では、−４０℃〜＋８５℃における周波数変動量が最小となる非常に望ましいθとψの関係を示しており、その近似式を求めている。図４７によれば、ψの角度は、θの角度上昇に伴って変化し、三次曲線を描くように上昇する。なお、図４７の例では、θ＝１１７°とした場合のψは４２．７９°であり、θ＝１４２°とした場合のψは４９．５７°である。これらのプロットを近似曲線として示すと図４７中破線で示す曲線となり、近似式としては式（３１）で示すことができる。
【数４６】
【０１５７】
このことより、ψはθが定まることにより定めることができ、θの範囲を１１７°≦θ≦１４２°とした場合におけるψの範囲は４２．７９°≦ψ≦４９．５７°とすることができる。なお、シミュレーションにおける溝深さＧ、電極膜厚Ｈはそれぞれ、Ｇ＝０．０４λ、Ｈ＝０．０２λとした。
【０１５８】
上記のような理由により、本実施形態において種々定めた条件によりＳＡＷ共振子１０を構成することによれば、目標値を満たす良好な周波数温度特性を実現可能なＳＡＷ共振子とすることができる。
【０１５９】
また、本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０では、式（７）や図１５〜図２６に示したように、電極膜の膜厚Ｈを０＜Ｈ≦０．０３５λの範囲とした上で周波数温度特性の改善を図っている。これは、従来のように膜厚Ｈを極度に厚くして周波数温度特性の改善を図るものとは異なり、耐環境特性を維持したまま周波数温度特性の改善を実現するものである。図５４に、ヒートサイクル試験における電極膜厚（Ａｌ電極膜厚）と周波数変動との関係を示す。なお、図５４に示したヒートサイクル試験の結果は、−５５℃雰囲気下においてＳＡＷ共振子を３０分間晒した上で雰囲気温度＋１２５℃まで上昇させて３０分晒すというサイクルを８回続けた後のものである。図５４からは、電極膜厚Ｈを０．０６λにし、且つ電極指間溝を設けない場合に比べ、本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０の電極膜厚Ｈの範囲では、周波数変動（Ｆ変動）が、１／３以下になっていることを読み取ることができる。なお、図５４は何れのプロットもＨ＋Ｇ＝０．０６λとしている。
【０１６０】
また、図５４と同じ条件で製造されたＳＡＷ共振子について、１２５℃雰囲気に１０００時間放置する高温放置試験を行ったところ、従来のＳＡＷ共振子（Ｈ＝０．０６λ且つＧ＝０）に比べ、本実施形態に係るＳＡＷ共振子（Ｈ＝０．０３λ且つＧ＝０．０３λ、Ｈ＝０．０２λ且つＧ＝０．０４λ、Ｈ＝０．０１５λ且つＧ＝０．０４５λ、Ｈ＝０．０１λ且つＧ＝０．０５λの４条件）の試験前後の周波数変動量が１／３以下になることを確認した。
【０１６１】
上記のような条件の下、Ｈ＋Ｇ＝０．０６７λ（アルミ膜厚２０００Å、溝深さ４７００Å）、ＩＤＴのライン占有率ηｉ＝０．６、反射器のライン占有率ηｒ＝０．８、オイラー角（０°，１２３°，４３．５°）、ＩＤＴの対数１２０対、交差幅４０λ（λ＝１０μｍ）、反射器本数（片側あたり）７２本（３６対）、電極指の傾斜角度なし（電極指の配列方向とＳＡＷの位相速度方向が一致）、といった条件で製造されたＳＡＷ共振子１０では、図４８に示すような周波数温度特性を示すこととなる。
【０１６２】
図４８は、試験片個数ｎ＝４個による周波数温度特性をプロットしたものである。図４８によれば、これらの試験片による動作温度範囲内における周波数変動量ΔＦは約２０ｐｐｍ以下に抑制されていることを読み取ることができる。
【０１６３】
本実施形態では溝深さＧや電極膜厚Ｈ等による周波数温度特性への影響を説明してきた。しかし溝深さＧと電極膜厚Ｈを合わせた深さ（段差）は、等価回路定数やＣＩ値等の静特性やＱ値にも影響を与える。例えば図４９、段差を０．０６２λ〜０．０７１λまで変化させた場合における段差とＣＩ値との関係を示すグラフである。図４９によればＣＩ値は、段差を０．０６７λとした時に収束し、段差をそれ以上大きくした場合であっても良化しない（低くならない）ということを読み取ることができる。
【０１６４】
図４８に示すような周波数温度特性を示すＳＡＷ共振子１０における周波数と等価回路定数、および静特性を図５０にまとめた。ここで、Ｆは周波数、ＱはＱ値、γは容量比、ＣＩはＣＩ（クリスタルインピーダンス：Crystal Impedance）値、Ｍは性能指数（フィギュアオブメリット：Figure of Merit）をそれぞれ示す。
【０１６５】
また、図５２には、従来のＳＡＷ共振子と、本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０における段差とＱ値との関係を比較するためのグラフを示す。なお、図５２においては、太線で示すグラフが本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０の特性を示すものであり、電極指間に溝を設け、且つストップバンド上端モードの共振を用いたものである。細線で示すグラフが従来のＳＡＷ共振子の特性を示すものであり、電極指間に溝を設けずにストップバンド上端モードの共振を用いたものである。図５２から明らかなように、電極指間に溝を設け、且つストップバンド上端モードの共振を用いると、段差（Ｇ＋Ｈ）が０．０４０７λ（４．０７％λ）以上の領域において、電極指間に溝を設けずにストップバンド下端モードの共振を用いた場合よりも高いＱ値が得られる。
【０１６６】
なお、シミュレーションに係るＳＡＷ共振子の基本データは以下の通りである。
・本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０の基本データ
Ｈ：０．０２λ
Ｇ：変化
ＩＤＴライン占有率ηｉ：０．６
反射器ライン占有率ηｒ：０．８
オイラー角（０°，１２３°，４３．５°）
対数：１２０
交差幅：４０λ（λ＝１０μｍ）
反射器本数（片側あたり）：６０
電極指の傾斜角度なし
・従来のＳＡＷ共振子の基本データ
Ｈ：変化
Ｇ：ゼロ
ＩＤＴライン占有率ηｉ：０．４
反射器ライン占有率ηｒ：０．３
オイラー角（０°，１２３°，４３．５°）
対数：１２０
交差幅：４０λ（λ＝１０μｍ）
反射器本数（片側あたり）：６０
電極指の傾斜角度なし
【０１６７】
これらのＳＡＷ共振子の特性を比較するため図５０や図５２を参照すると、本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０が、いかに高Ｑ化されているかを理解することができる。このような高Ｑ化は、エネルギー閉じ込め効果の向上によるものであると考えられ、以下の理由による。
【０１６８】
ストップバンドの上端モードで励振した弾性表面波を効率良くエネルギー閉じ込めするためには、図５３のように、ＩＤＴ１２のストップバンド上端の周波数ｆｔ２を、反射器２０のストップバンド下端の周波数ｆｒ１と反射器２０のストップバンド上端の周波数ｆｒ２との間に設定すれば良い。即ち、
【数４７】
の関係を満たすように設定すれば良い。これにより、ＩＤＴ１２のストップバンド上端の周波数ｆｔ２において、反射器２０の反射係数Γが大きくなり、ＩＤＴ１２から励振されたストップバンド上端モードのＳＡＷが、反射器２０にて高い反射係数でＩＤＴ１２側に反射されるようになる。そしてストップバンド上端モードのＳＡＷのエネルギー閉じ込めが強くなり、低損失な共振子を実現することができる。
【０１６９】
これに対し、ＩＤＴ１２のストップバンド上端の周波数ｆｔ２と反射器２０のストップバンド下端の周波数ｆｒ１、反射器２０のストップバンド上端の周波数ｆｒ２との関係をｆｔ２＜ｆｒ１の状態やｆｒ２＜ｆｔ２の状態に設定してしまうと、ＩＤＴ１２のストップバンド上端周波数ｆｔ２において反射器２０の反射係数Γが小さくなってしまい、強いエネルギー閉じ込め状態を実現することが困難になってしまう。
【０１７０】
ここで、式（３２）の状態を実現するためには、反射器２０のストップバンドをＩＤＴ１２のストップバンドよりも高域側へ周波数シフトする必要がある。具体的には、ＩＤＴ１２の電極指１８の配列周期よりも、反射器２０の導体ストリップ２２の配列周期を小さくすることで実現できる。また、他の方法としては、ＩＤＴ１２の電極指１８として形成された電極膜の膜厚よりも反射器２０の導体ストリップ２２として形成された電極膜の膜厚を薄くしたり、ＩＤＴ１２の電極指間溝の深さよりも反射器２０の導体ストリップ間溝の深さを浅くすることで実現できる。また、これらの手法を複数組み合わせて適用しても良い。
【０１７１】
なお図５０によれば、高Ｑ化の他、高いフィギュアオブメリットＭを得ることができているということができる。また、図５１は、図５０を得たＳＡＷ共振子におけるインピーダンスＺと周波数との関係を示すグラフである。図５１からは、共振点付近に無用なスプリアスが存在していない事を読み取ることができる。
【０１７２】
以上、説明したように、本発明に係るＳＡＷ共振子は、図４８で示す如く動作温度範囲（使用温度範囲：−４０℃〜＋８５℃）内に変曲点を有しているので、三次曲線若しくは三次曲線に近い周波数変動量の極めて小さい、約２０ｐｐｍ以下という周波数温度特性を実現できた。
【０１７３】
図５６（Ａ）は、特開２００６−２０３４０８号に開示されているＳＡＷ共振子の周波数温度特性を示すグラフである。周波数温度特性が三次曲線を示しているが、ご覧のとおり変極点が動作温度範囲（使用温度範囲：−４０℃〜＋８５℃）を超えた領域に存在しているため、実質的には図５６（Ｂ）に示す如く上に凸の頂点を有する二次曲線となる。このため、周波数変動量は１００（ｐｐｍ）という極めて大きな値となっている。
【０１７４】
それに対して、本発明に係るＳＡＷ共振子は、動作温度範囲内で三次曲線もしくは三次曲線に近い周波数変動量とし、周波数変動量を飛躍的に小さくすることを実現したのである。ＩＤＴおよび反射器に保護膜を被覆したＳＡＷ共振子における動作範囲内の周波数変動量の変化について、図５７、および図５８に示す。
【０１７５】
図５７に示す例は、電極に対して保護膜としてのアルミナを皮膜した場合における動作温度範囲内における周波数変動量を示す図である。図５７によれば、動作温度範囲内における周波数変動量は、１０（ｐｐｍ）以下とすることができることを読み取ることができる。
・図５７に示す例に係るＳＡＷ共振子の基本データ
Ｈ（材質：アルミ）：２０００（Å）
Ｇ：４７００（Å）
（Ｈ+Ｇ＝０．０６７λ）
ＩＤＴライン占有率ηｉ：０．６
反射器ライン占有率ηｒ：０．８
オイラー角（０°，１２３°，４３．５°）の面内回転ＳＴカット基板
対数：１２０
交差幅：４０λ（λ＝１０（μｍ））
反射器本数（片側あたり）：３６
電極指の傾斜角度なし
保護膜（アルミナ）の膜厚４００（Å）
二次温度係数β＝＋０．０００７（ｐｐｍ／℃２）
【０１７６】
図５８に示す例は、電極に対して保護膜としてのＳｉＯ２を皮膜した場合における動作温度範囲内における周波数変動量を示す図である。図５８によれば、動作温度範囲内における周波数変動量は、２０（ｐｐｍ）以下とすることができることを読み取ることができる。
・図５８に示す例に係るＳＡＷ共振子の基本データ
Ｈ（材質：アルミ）：２０００（Å）
Ｇ：４７００（Å）
（Ｈ+Ｇ＝０．０６７λ）
ＩＤＴライン占有率ηｉ：０．６
反射器ライン占有率ηｒ：０．８
オイラー角（０°，１２３°，４３．５°）の面内回転ＳＴカット基板
対数：１２０
交差幅：４０λ（λ＝１０（μｍ））
反射器本数（片側あたり）：３６
電極指の傾斜角度なし
保護膜（ＳｉＯ２）の膜厚４００（Å）
二次温度係数β＝＋０．００３９（ｐｐｍ／℃２）
【０１７７】
本願発明者は、上述のように設計されたＧ及びＨに対してライン占有率ηを調整することにより、二次温度係数βの絶対値を０．０１ｐｐｍ／℃２以下にすることが可能である点について言及した。一方、ストップバンドの上端モードで励振させた場合において、ライン占有率ηに変動が生じた場合に、弾性表面波の周波数温度特性が変動することを本願発明者は見出した。弾性表面波共振子を複数製造する場合に、全ての弾性表面波共振子を所望の設計ライン占有率に一致させることは困難であり、設計ライン占有率とは異なったライン占有率のものが製造される場合がある。このとき、そのライン占有率の設計ライン占有率からの変動量は一定とはならずライン占有率にバラつきが発生する。よって、弾性表面波共振子を複数製造した場合は、弾性表面波の周波数温度特性にバラつきが発生することになる。したがって、これらの原因により弾性表面波素子の動作温度範囲における周波数偏差にバラつきを発生させ、弾性表面波共振子の歩留を低下させる原因となることを本願発明者は見出した。
【０１７８】
さらに、上述のように、ライン占有率ηにバラつきが発生した場合の一次温度係数の変動量が最小になるときのライン占有率ηと、二次温度係数βが最小（−０．０１≦β≦０．０１）となるライン占有率ηの値とが互いに一致しないことも本願発明者は見出した。
そこで第２実施形態においては、二次温度係数βの値を上述の範囲に抑制するとともに、動作温度範囲の周波数温度特性において支配的に作用する一次温度係数の変動量を最小にすることが可能なＳＡＷデバイスについて説明する。
【０１７９】
図５９に第２実施形態に係るＳＡＷ共振子の模式図を示す。なお図５９において、図５９（Ａ）は第２実施形態のＳＡＷ共振子の平面図であり、図５９（Ｂ）は部分拡大断面図、図５９（Ｃ）は同図（Ｂ）における詳細を説明するための拡大図、図５９（Ｄ）は図５９（Ｃ）の部分拡大図に関して、本発明に係るＳＡＷ共振子をフォトリソグラフィ技法とエッチング技法とを用いて製造したときに想定しえる断面形状であって、断面形状が矩形ではなく台形状となった場合における、ＩＤＴ電極指の実効ライン占有率ηｅｆｆの特定方法を説明するための図である。
【０１８０】
第２実施形態のＳＡＷ共振子の基本的構成は、第１実施形態のＳＡＷ共振子１０と類似する。すなわち、ＳＡＷ共振子１１０は、水晶基板３０と、水晶基板上に形成されたＩＤＴ１１２と、ＩＤＴ１１２の両側に形成された反射器１２０を有する構成である。そしてＩＤＴ１１２は、弾性表面波（波長λ）が伝播する方向に対して、垂直な方向に延長し、且つ互いに交差する櫛歯状電極１１４ａ、１１４ｂにより形成されている。そして櫛歯状電極１１４ａは、弾性表面波の伝播方向に等間隔（λ）に並べて配置された複数の電極指１１８ａと、複数の電極指１１８ａを並列に接続するバスバー１１６ａにより構成される。同様に櫛歯状電極１１４ｂは、弾性表面波の伝播方向に等間隔（λ）に並べて配置された複数の電極指１１８ｂと、複数の電極指１１８ｂを並列に接続するバスバー１１６ｂにより構成される。よって電極指１１８ａ、電極指１１８ｂは弾性表面波の伝播方向に交互に等間隔（λ／２）で配置される。そして反射器１２０は、弾性表面波の伝播方向に等間隔（λ／２）で配置された導体ストリップ１２２を有する。そしてＳＡＷ共振子１１０は、ストップバンド上端モードにより弾性表面波を励振する。
【０１８１】
第１実施形態においては、電極指間溝３２により形成される凸部３４と電極指１８ａ、１８ｂの弾性表面波の伝搬方向の幅は一致している。しかし、本実施形態においては、電極指間溝１３２により形成される凸部１３４上の電極指１１８ａ，１１８ｂの弾性表面波の伝搬方向の幅は、凸部の弾性表面波の伝搬方向の幅より狭くなっている点で相違する。そして電極指１１８ａ、１１８ｂの弾性表面波の伝播方向の両端は、平面視して凸部１３４の弾性表面波の伝播方向の両端より内側に配置されている。よって、凸部１３４の弾性表面波の伝播方向の両端は、電極指１１８ａ、１１８ｂで覆われずに露出した状態となっている。そして同様な構成はＩＤＴ１１２の両端に配置された反射器１２０にも形成されている。
【０１８２】
図５９（Ｃ）において、凸部１３４の弾性表面波の伝播方向の幅をＬｇとし、電極指１１８ａ、１１８ｂの弾性表面波の伝搬方向の幅をＬｅとすると、
【数４８】
となる。これにより、第１実施形態と比較して、電極指１１８ａ、１１８ｂから発散される電気力線を凸部１３４が取りこむ量（立体角）が増えるので、弾性表面波の励振効率を向上させ、ＳＡＷ共振子１１０の損失を低減させることができる。
【０１８３】
ところで、第１実施形態のＳＡＷ共振子１０では、幅Ｌの凸部３４（図１参照）の両端の厚み（Ｇ）方向の段差が立ち上がる部分で弾性表面波が反射する。そしてライン占有率ηは、Ｌを調整することにより調整されるので、弾性表面波の反射位置を調整することにより二次温度係数βを最小にすることができる。また、一次温度係数の変動量は、凸部３４のライン占有率ηに依存するため、この値を調整することにより一次温度係数の変動量を最小にすることができる。しかし、このライン占有率ηに対応する凸部１３４の幅もＬとなるため、第１実施形態の構成では、二次温度係数βを最小にするライン占有率ηと、一次温度係数の変動量を最小にするライン占有率ηを同時に特定することは困難である。
【０１８４】
一方、第２実施形態のＳＡＷ共振子１１０において、幅Ｌｇの凸部１３４の両端の厚み（Ｇ）方向の段差が立ち上がる部分と、幅Ｌｅの電極指１１８ａ、１１８ｂの両端の厚み（Ｈ）が立ち上がる部分で弾性表面波が反射する。したがって、第２実施形態では電極指１１８ａ、１１８ｂは、
【数４９】
を実効幅とし、その両端位置で弾性表面波を反射するものと考えることができる。よってこのときの実効ライン占有率ηｅｆｆは、凸部１３４のライン占有率をηｇ（＝Ｌｇ／Ｐ）、電極指１１８ａ、１１８ｂのライン占有率をηｅ（＝Ｌｅ／Ｐ）とすると、
【数５０】
となる。このとき、
【数５１】
となる。よって、このηｅｆｆを調整することにより二次温度係数を調整することができる。一方、一次温度係数の変動量は、ηｇにより調整することができる。したがって、ηｅｆｆを調整することにより二次温度係数を調整し、ηｇを調整することにより一次温度係数の変動量を調整することができる。
【０１８５】
また、図５９（Ｄ）のように、電極指１１９、及び凸部１３５の幅方向の両側面が傾斜し、断面が台形状になっている場合は、電極指１１９の厚み方向の下端の幅をＬｅｂ、上端の幅をＬｅｔとする。そして凸部１３５の厚み方向の下端の幅をＬｇｂ、上端の幅をＬｇｔとする。このとき、
【数５２】
である。このとき、Ｌｅ、Ｌｇは、
【数５３】
と定義する。
【０１８６】
本願発明者は、第１実施形態のように電極指の幅Ｌｅと凸部の幅Ｌｇが一致する場合（タイプ１）と、第２実施形態のようにＬｇ＞Ｌｅとなる場合（タイプ２）の周波数偏差、ＣＩ値、一次温度係数の変動量を調査した。
【０１８７】
本調査に用いたＳＡＷデバイスは、タイプ１、タイプ２ともに、オイラー角（φ＝０°、θ＝１２３°、ψ＝４４°）、Ｇ＝０．０４６λ、Ｈ＝０．０２１λとし、またＩＤＴ電極の対数を２１０対、ＩＤＴ電極の両端にある反射器の本数を片側あたり９４本とした。
【０１８８】
まず、例１として、タイプ１では電極指のライン占有率ηｅを０．６４、凸部３４（図１参照）のライン占有率ηｇを０．６４とし、これによりライン占有率ηを０．６４とした。タイプ２では、ηｅを０．５７、ηｇを０．７１とし、実効ライン占有率ηｅｆｆを０．６４とした。
【０１８９】
次に、例２として、タイプ１では電極指１１８ａ、１１８ｂのライン占有率ηｅを０．６６、凸部１３４のライン占有率ηｇを０．６６とし、これによりライン占有率ηを０．６６とした。タイプ２では、ηｅを０．５９、ηｇを０．７３とし、実効ライン占有率ηｅｆｆを０．６６とした。すなわち、いずれの例においても、タイプ２のηｅｆｆは、タイプ１のηの値を維持しつつ、ηｇ＞ηｅとなるように調整している。また、ＣＩ値については各タイプのサンプルを多数（１７８４個）用意し、その平均値を算出した。
【０１９０】
図６０に例１におけるタイプ１とタイプ２の周波数温度特性を示し、図６１に例２におけるタイプ１とタイプ２の周波数温度特性を示す。図６０に示すように、例１では、タイプ１、タイプ２ともに変曲点となる温度（基準温度）が約２５℃となる三次関数的な曲線を描いている。また図６１に示すように、例２では、タイプ１、タイプ２ともに変曲点となる温度（基準温度）が約４０℃となる三次関数的な曲線を描いている。よって例１、例２において、タイプ１、タイプ２はともに二次温度係数βは極めて小さな値となっていることがわかる。
【０１９１】
図６０に示すように、例１において、タイプ１、タイプ２ともに、−４０°〜＋８５°における周波数偏差は１２ｐｐｍであるとともに、同様の曲線形状を有している。そして図６１に示すように、例２において、タイプ１の周波数偏差は１８ｐｐｍであり、タイプ２の周波数偏差は１６ｐｐｍである。よって、タイプ１からタイプ２に変形させても、タイプ２のηｅｆｆがタイプ１のη（ηｇ）の値を維持する限り、タイプ２はタイプ１の周波数温度特性を維持することがわかる。
【０１９２】
さらに例１では、タイプ１のＣＩ値は２３．８Ωであったが、タイプ２においては２０．１Ωに改善している。また例２では、タイプ１のＣＩ値は２２．４Ωであったが、タイプ２では１９．２Ωに改善し、例１、例２のタイプ２において低損失なＳＡＷ共振子を実現している。これは上述のように、電極指から発生する電気力線を凸部が見込む立体角が、タイプ１に比較してタイプ２の方が大きくなり、励振効率が高まったからと考えられる。
【０１９３】
次に、タイプ１、タイプ２の一次温度係数の変動量の変化を調査した。図６２にタイプ１のライン占有率ηを０．０１変化させたときの一次温度係数の変動量の変化を示し、図６３はタイプ２の実効ライン占有率ηｅｆｆを０．０１変化させたときの一次温度係数の変動量の変化を示す。本調査に用いたＳＡＷデバイスは、タイプ１、タイプ２ともに、オイラー角（φ＝０°、θ＝１２３°、ψ＝４４°）、Ｇ＝０．０４５λ、Ｈ＝０．０２λとした。
【０１９４】
図６２に示すように、タイプ１においてはη（またはηｇ）を０．６０から上昇させると単調減少し、０．７０で一次温度係数の変動量の極小値となり、０．７０以上で単調増加となる。
【０１９５】
一方、図６３に示すように、タイプ２においてはηｅｆｆを０．５３から上昇させると一次温度係数の変動量は単調減少し、０．６３で極小値となり、０．６３以上で単調増加となる。
【０１９６】
上述のように、例１のタイプ１及びタイプ２は、図６０に示すように、１２ｐｐｍという良好な周波数偏差を有している。しかし、タイプ１においては、図６２に示すように、η（またはηｇ）が０．６４のときは、一次温度係数の変動量が０．６ｐｐｍ／℃となっている。よって、ライン占有率η（ηｇ）のバラつきによる、一次温度係数のバラつき（すなわち周波数温度特性のバラつき）が顕著となる。一方、タイプ２においては、図６３のプロットから近似曲線を生成して、近似曲線上のηｅｆｆ＝０．６４を抽出すれば、一次温度係数の変動量が０．２程度になっていることがわかる。さらに図６３から、
【数５４】
とすることにより、一次温度係数の変動量を０．６ｐｐｍ／℃以下に抑制することができることがわかる。
【０１９７】
また例１のタイプ１、タイプ２のサンプルを多数（１７８４個）用意し、一次温度係数のバラつき、及び２５℃における共振周波数のバラつきを調査した。するとタイプ１の一次温度係数のバラつきの大きさを１とすると、タイプ２の一次温度係数のバラつきの大きさは０．２にまで改善されている。上述のように、タイプ１においては凸部３４（図１参照）のライン占有率ηｇが０．６４で、図６２により、一次温度係数の変動量が０．６ｐｐｍ／℃ある。一方、タイプ２においては、凸部１３４のライン占有率ηｇが０．７１で、図６２のプロットから近似曲線を生成して、近似曲線上のηｇ＝０．７１を抽出すれば、一次温度係数の変動量が０．１ｐｐｍ／℃程度と確認できる。そして、一次温度係数のバラつきは一次温度係数の変動量に比例するため、このような改善が見られたと考えられる。また２５℃における共振周波数のバラつきも、タイプ１においてその大きさを１とすると、タイプ２ではその大きさが０．５にまで改善されている。
【０１９８】
また、上述のことから、タイプ２はηｅｆｆの値と一致するηを有するタイプ１の周波数温度特性を維持したものとなっている。よって、上述の横軸をηとする全ての図においてηをηｅｆｆに置き換えて考えることができる。したがって、ηｅｆｆを、式（３９）の範囲に含まれ、かつ図１３（Ｂ）においてアルファベット順に結んで一巡する線に囲まれた範囲、すなわち上述の式（３）、式（５）、式（６）を満たす範囲に設計することにより、一次温度係数の変動量を抑制してＳＡＷ共振子１１０の動作温度範囲における周波数偏差のバラつきを抑制するとともに、二次温度係数βの絶対値を０．０１（ｐｐｍ／℃２）以下に抑制することができる。
【０１９９】
さらにηｅｆｆを式（３９）の範囲に含まれ、かつ図２７（Ａ）（０＜Ｈ≦０．００５λ）、図２８（Ａ）（０．００５λ＜Ｈ≦０．０１０λ）、図２９（Ａ）（０．０１０λ＜Ｈ≦０．０１５λ）、図３０（Ａ）（０．０１５λ＜Ｈ≦０．０２０λ）、図３１（Ａ）（０．０２０λ＜Ｈ≦０．０２５λ）、図３２（Ａ）（０．０２５λ＜Ｈ≦０．０３０λ）、図３３（Ａ）（０．０３０λ＜Ｈ≦０．０３５λ）において、図中の平面座標（Ｇ／λ、ηｅｆｆ）に示された各点をアルファベット順に結んで一巡する線に囲まれた範囲にそれぞれ含まれる範囲に設定する。これにより、一次温度係数の変動量を抑制して、周波数温度特性のバラつき、すなわちＳＡＷ共振子１１０の動作範囲における周波数偏差のバラつきを抑制するとともに、電極指の膜厚Ｈに対応して、二次温度係数βの絶対値を０．０１（ｐｐｍ／℃２）以下に抑制することができる。
【０２００】
上記実施形態では、ＳＡＷ共振子１０を構成するＩＤＴ１２、ＳＡＷ共振子１１０を構成するＩＤＴ１１２はすべての電極指が交互に交差しているように示した。しかし、本発明にかかるＳＡＷ共振子１０、ＳＡＷ共振子１１０は、その水晶基板のみによっても相当な効果を奏することができる。このため、ＩＤＴ１２における電極指１８、およびＩＤＴ１１２における電極指１１８ａ、１１８ｂを間引きした場合であっても、同様な効果を奏することができる。
【０２０１】
また、第１実施形態において、溝３２は、電極指１８間や反射器２０の導体ストリップ２２間に部分的に設けるようにしても良い。特に、振動変位の高いＩＤＴ１２の中央部は周波数温度特性に支配的な影響を与えるため、その部分のみに溝３２を設ける構造としても良い。このような構造であっても、周波数温度特性が良好なＳＡＷ共振子１０とすることができる。
【０２０２】
また、上記実施形態では、電極膜としてＡｌまたはＡｌを主体とする合金を用いる旨記載した。しかしながら、上記実施形態と同様な効果を奏することのできる金属であれば、他の金属材料を用いて電極膜を構成しても良い。さらに電極膜上にＳｉＯ２やアルミナなどの保護膜を設けても良い。
【０２０３】
また、上記実施形態はＩＤＴを一つだけ設けた一端子対ＳＡＷ共振子であるが、本発明はＩＤＴを複数設けた二端子対ＳＡＷ共振子にも適用可能であり、縦結合型や横結合型の二重モードＳＡＷフィルタや多重モードＳＡＷフィルタにも適用可能である。
【０２０４】
次に、本発明に係るＳＡＷ発振器について、図５５を参照して説明する。本発明に係るＳＡＷ発振器は図５５に示すように、上述したＳＡＷ共振子１０（ＳＡＷ共振子１１０）と、このＳＡＷ共振子１０（ＳＡＷ共振子１１０）のＩＤＴ１２に電圧を印加して駆動制御する回路となるＩＣ（integrated circuit）５０と、これらを収容するパッケージとから成る。なお、図５５において、図５５（Ａ）はリッドを除いた平面図であり、図５５（Ｂ）は、同図（Ａ）におけるＡ−Ａ断面を示す図である。
【０２０５】
実施形態に係るＳＡＷ発振器１００では、ＳＡＷ共振子１０とＩＣ５０とを同一のパッケージ５６に収容し、パッケージ５６の底板５６ａに形成された電極パターン５４ａ〜５４ｇとＳＡＷ共振子１０の櫛歯状電極１４ａ，１４ｂ、およびＩＣ５０のパッド５２ａ〜５２ｆとを金属ワイヤ６０により接続している。そして、ＳＡＷ共振子１０（ＳＡＷ共振子１１０）とＩＣ５０とを収容したパッケージ５６のキャビティは、リッド５８により気密に封止している。このような構成とすることで、ＩＤＴ１２（図１参照）とＩＣ５０、及びパッケージ５６の底面に形成された図示しない外部実装電極とを電気的に接続することができる。
【０２０６】
よって、近年の情報通信の高速化によるリファレンスクロックの高周波化に加え、ブレードサーバをはじめとする筐体の小型化に伴い、内部発熱の影響が大きくなり、内部に搭載される電子デバイスに求められる動作温度範囲の拡大や高精度化の要求、更には、屋外に設置される無線基地局など低温から高温の環境において、長期に亘って安定した動作が必要とされている市場において、本発明に係るＳＡＷ発振器は、動作温度範囲（使用温度範囲：−４０℃〜＋８５℃）で周波数変動量が約２０（ｐｐｍ）以下という極めて良好な周波数温度特性を有しているので好適である。
【０２０７】
更に、本発明に係るＳＡＷ共振子或は当該ＳＡＷ共振子を備えたＳＡＷ発振器は周波数温度特性の大幅な改善を実現しているので、例えば、携帯電話，ハードディスク，パーソナルコンピューター，ＢＳおよびＣＳ放送を受信するチューナ，同軸ケーブル中を伝播する高周波信号または光ケーブル中を伝播する光信号を処理する機器，広い温度範囲にて高周波・高精度クロック（低ジッタ、低位相雑音）を必要とされるサーバ・ネットワーク機器や無線通信用機器などの電子機器において、極めて良好な周波数温度特性と共に、ジッタ特性、位相ノイズ特性に優れた製品を実現することに大きく寄与し、さらなるシステムの信頼性と品質の向上に大きく貢献することは言うまでもない。
【符号の説明】
【０２０８】
１０………弾性表面波共振子（ＳＡＷ共振子）、１２………ＩＤＴ、１４ａ，１４ｂ………櫛歯状電極、１６ａ，１６ｂ………バスバー、１８ａ，１８ｂ………電極指、２０………反射器、２２………導体ストリップ、３０………水晶基板、３２………溝、３４………凸部、１１０………弾性表面波共振子（ＳＡＷ共振子）、１１２………ＩＤＴ、１１４ａ，１１４ｂ………櫛歯状電極、１１６ａ，１６ｂ………バスバー、１１８ａ，１１８ｂ………電極指、１１９………電極指、１２０………反射器、１２２………導体ストリップ、１３２………溝、１３４………凸部、１３５………凸部。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、弾性表面波共振子、およびこれを搭載した弾性表面波発振器及び電子機器に係り、特に基板表面に溝を設けたタイプの弾性表面波共振子、およびこれを搭載した弾性表面波発振器に関する。
【背景技術】
【０００２】
弾性表面波（ＳＡＷ：surface acoustic wave）装置（例えばＳＡＷ共振子）において、周波数温度特性の変化には、ＳＡＷのストップバンドや圧電基板（例えば水晶基板）のカット角、およびＩＤＴ（interdigital transducer）の形成形態等が及ぼす影響が大きい。
【０００３】
例えば特許文献１には、ＳＡＷのストップバンドの上端モード、下端モードのそれぞれを励起させる構成、およびストップバンドの上端モード、下端モードにおけるそれぞれの定在波の分布などが開示されている。
【０００４】
また、特許文献２〜５には、ＳＡＷにおけるストップバンドの上端モードの方が、ストップバンドの下端モードよりも周波数温度特性が良好である点が記載されている。そして、特許文献２、３には、レイリー波を利用したＳＡＷ装置において良好な周波数温度特性を得るために、水晶基板のカット角を調整すると共に、電極の基準化膜厚（Ｈ／λ）を０．１程度まで厚くする事が記載されている。
【０００５】
また、特許文献４には、レイリー波を利用したＳＡＷ装置において水晶基板のカット角を調整すると共に、電極の基準化膜厚（Ｈ／λ）を０．０４５程度以上厚くする旨が記載されている。
【０００６】
また、特許文献５には、回転ＹカットＸ伝搬の水晶基板を用い、ストップバンドの上端の共振を利用することで、ストップバンドの下端の共振を用いる場合よりも周波数温度特性が向上する旨が記載されている。
【０００７】
また、特許文献６、および非特許文献１には、ＳＴカット水晶基板を用いたＳＡＷ装置において、ＩＤＴを構成する電極指間や反射器を構成する導体ストリップ間に溝（グルーブ）を設けることが記載されている。また非特許文献１には、溝の深さにより二次曲線状の周波数温度特性における頂点温度が変化する旨と、二次温度係数がほぼ−３．４×１０−８／℃２となる旨が記載されている。
【０００８】
また、特許文献７には、ＬＳＴカットの水晶基板を用いたＳＡＷ装置において、周波数温度特性を示す曲線を三次曲線とするための構成が記載されていると共に、レイリー波を用いたＳＡＷ装置においては、三次曲線で示されるような温度特性を持つカット角の基板は発見することができなかった旨が記載されている。
【０００９】
上記のように、周波数温度特性を改善するための要素は多岐に亙り、特にレイリー波を用いたＳＡＷ装置では、ＩＤＴを構成する電極の膜厚を厚くすることが周波数温度特性に寄与する要因の１つであると考えられている。しかし本願出願人は、電極の膜厚を厚くすると、経時変化特性や耐温度衝撃特性等の耐環境特性が劣化することを実験的に見出した。また、周波数温度特性の改善を主目的とした場合には、前述したように電極膜厚を厚くしなければならず、これに伴って経時変化特性や耐温度衝撃特性等の劣化を余儀なくされていた。これはＱ値に関しても当てはめられることであり、電極膜厚を厚くせずに高Ｑ化実現させることは困難であった。
【００１０】
上記問題を解決するため、特許文献８においては、水晶基板の弾性表面波の伝搬方向垂直な方向にグルーブを形成して、グルーブにより形成される凸部の上に電極を形成した構成を開示している。これにより、経時変化特性や耐温度衝撃特性等の耐環境特性を改善し、高いＱ値を実現している。また特許文献９、１０においては、高いＱ値を実現するため、ＩＤＴ電極間や、ＩＤＴ電極の両側に配置された反射器を構成するストライプ状の金属膜の間にグルーブを形成する構成を開示している。
【００１１】
さらに特許文献８においては、グルーブの深さ、グルーブ上に形成される電極の膜厚、電極のライン占有率について体系的な調査を行っている。そして弾性表面波共振子をストップバンド上端モードで励振させた場合において、与えられたグルーブ深さ、電極膜厚に対して、ライン占有率を調整することにより、弾性表面波の二次温度係数の絶対値が０．０１ｐｐｍ／℃２以下になる条件について突き止めている。これにより弾性表面波の周波数温度特性が三次曲線状になるため、変曲点近傍の温度範囲では周波数偏差を抑制できることが期待される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開平１１−２１４９５８号公報
【特許文献２】特開２００６−１４８６２２号公報
【特許文献３】特開２００７−２０８８７１号公報
【特許文献４】特開２００７−２６７０３３号公報
【特許文献５】特開２００２−１００９５９号公報
【特許文献６】特開昭５７−５４１８号公報
【特許文献７】特許第３８５１３３６号公報
【特許文献８】ＷＯ２０１０／０９８１３９号公報
【特許文献９】特開昭６１−２２０５１３号公報
【特許文献１０】特開昭６１−２２０５１４号公報
【特許文献１１】特開２００９−２２５４２０号公報
【非特許文献】
【００１３】
【非特許文献１】グルーブ形ＳＡＷ共振器の製造条件と特性（電子通信学会技術研究報告ＭＷ８２−５９（１９８２））
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
さらに、特許文献１１においては、ＩＤＴ電極を構成する電極指の線幅、すなわちライン占有率が変動した場合の弾性表面波共振子の動作温度範囲における周波数偏差を低減する構成について開示している。しかし、特許文献８乃至１１に示される弾性表面波共振子においても、弾性表面波共振子の損失を低減することが強く求められているが、これについて具体的な開示が成されていないのが現状である。
【００１５】
そこで、本発明は、上記問題点に着目し、弾性表面波の周波数偏差を低減するとともに弾性表面波共振子の損失を低減した弾性表面波共振子、及びこれを用いた弾性表面波発振器、電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
［適用例１］オイラー角（−１．５°≦φ≦１．５°，１１７°≦θ≦１４２°，４２．７９°≦｜ψ｜≦４９．５７°）の水晶基板と、前記水晶基板上に設けられ、複数の電極指を含み、ストップバンド上端モードの弾性表面波を励振するＩＤＴと、を備え、平面視で、前記電極指の間の位置に、前記水晶基板の窪である電極指間溝を配置し、前記電極指間溝の間に配置されている前記水晶基板の凸部のライン占有率をηｇ、前記凸部上に配置されている前記電極指のライン占有率をηｅとし、前記ＩＤＴの実効ライン占有率ηｅｆｆを前記ライン占有率ηｇと前記ライン占有率ηｅとの相加平均とした場合、下式の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【数１】
【数２】
【００１７】
上記構成により、励振効率を高めて弾性表面波共振子の損失を低減できるとともに、弾性表面波共振子の一次温度係数の変動量を抑制して、共振周波数のバラつきを抑制することができる。
【００１８】
［適用例２］適用例１に記載の弾性表面波共振子において、前記弾性表面波の波長をλ、前記電極指間溝の深さをＧ、前記ＩＤＴの電極膜厚をＨとし、前記電極指間溝の深さＧを前記弾性表面波の波長λで除した値Ｇ／λと、前記実効ライン占有率ηｅｆｆとによる平面座標を（Ｇ／λ、ηｅｆｆ）とした場合に、前記平面座標（Ｇ／λ、ηｅｆｆ）が、
（１）０．０００λ＜Ｈ≦０．００５λの場合、
（０．０１０、０．７１０）、（０．０２０、０．７１０）、（０．０３０、０．７１０）、（０．０４０、０．７１０）、（０．０５０、０．７１０）、（０．０６０、０．７１０）、（０．０７０、０．７１０）、（０．０８０、０．７１０）、（０．０９０、０．７１０）、（０．０９０、０．４２０）、（０．０８０、０．５７０）、（０．０７０、０．５９０）、（０．０６０、０．６１５）、（０．０５０、０．６３０）、（０．０４０、０．６３５）、（０．０３０、０．６５０）、（０．０２０、０．６７０）、（０．０１０、０．７１０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０３０、０．５９０）、（０．０４０、０．５８０）、（０．０５０、０．５５０）、（０．０６０、０．５２０）、（０．０７０、０．４８０）、（０．０８０、０．４５０）、（０．０９０、０．４００）、（０．０９０、０．１８０）、（０．０８０、０．３４０）、（０．０７０、０．４１０）、（０．０６０、０．４６０）、（０．０５０、０．４９０）、（０．０４０、０．５２０）、（０．０３０、０．５５０）、（０．０３０、０．５９０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（２）０．００５λ＜Ｈ≦０．０１０λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７４０）、（０．０３０、０．７１５）、（０．０４０、０．７３０）、（０．０５０、０．７４０）、（０．０６０、０．７３０）、（０．０７０、０．７３０）、（０．０８０、０．７３０）、（０．０８０、０．５００）、（０．０７０、０．５７０）、（０．０６０、０．６１０）、（０．０５０、０．６３０）、（０．０４０、０．６３５）、（０．０３０、０．６５５）、（０．０２０、０．６８０）、（０．０１０、０．７６０）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０２０、０．６５０）、（０．０３０、０．６１０）、（０．０４０、０．５７０）、（０．０５０、０．５５０）、（０．０６０、０．５２０）、（０．０７０、０．４７０）、（０．０７０、０．３７０）、（０．０６０、０．４４０）、（０．０５０、０．４８０）、（０．０４０、０．５２０）、（０．０３０、０．５５０）、（０．０２０、０．５９０）、（０．０２０、０．６５０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（３）０．０１０λ＜Ｈ≦０．０１５λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７６０）、（０．０３０、０．７６０）、（０．０４０、０．７５０）、（０．０５０、０．７５０）、（０．０６０、０．７５０）、（０．０７０、０．７４０）、（０．０８０、０．７４０）、（０．０８０、０．３４０）、（０．０７０、０．５４５）、（０．０６０、０．５９０）、（０．０５０、０．６２０）、（０．０４０、０．６４５）、（０．０３０、０．６７０）、（０．０２０、０．７０５）、（０．０１０、０．７６０）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０１０、０．７４０）、（０．０２０、０．６５０）、（０．０３０、０．６１０）、（０．０４０、０．５７０）、（０．０５０、０．５４０）、（０．０６０、０．４８０）、（０．０７０、０．４３０）、（０．０７０、０．３５０）、（０．０６０、０．４２０）、（０．０５０、０．４７０）、（０．０４０、０．５１０）、（０．０３０、０．５５０）、（０．０２０、０．６１０）、（０．０１０、０．７００）、（０．０１０、０．７４０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（４）０．０１５λ＜Ｈ≦０．０２０λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７７０）、（０．０３０、０．７６０）、（０．０４０、０．７６０）、（０．０５０、０．７６０）、（０．０６０、０．７５０）、（０．０７０、０．７５０）、（０．０７０、０．５１０）、（０．０６０、０．５７０）、（０．０５０、０．６２０）、（０．０４０、０．６４０）、（０．０３０、０．６６０）、（０．０２０、０．６７５）、（０．０１０、０．７００）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線の範囲、
及び、（０．０１０、０．６９０）、（０．０２０、０．６４０）、（０．０３０、０．５９０）、（０．０４０、０．５５０）、（０．０５０、０．５１０）、（０．０６０、０．４７０）、（０．０７０、０．４１５）、（０．０７０、０．２８０）、（０．０６０、０．３８０）、（０．０５０、０．４７０）、（０．０４０、０．５１０）、（０．０３０、０．５５０）、（０．０２０、０．６１０）、（０．０１０、０．６８０）、（０．０１０、０．６９０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（５）０．０２０λ＜Ｈ≦０．０２５λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７７０）、（０．０３０、０．７６０）、（０．０４０、０．７６０）、（０．０５０、０．７６０）、（０．０６０、０．７６０）、（０．０７０、０．７６０）、（０．０７０、０．５５０）、（０．０６０、０．５４５）、（０．０５０、０．５９０）、（０．０４０、０．６２０）、（０．０３０、０．６４５）、（０．０２０、０．６８０）、（０．０１０、０．７００）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０１０、０．６９０）、（０．０２０、０．６４０）、（０．０３０、０．５９０）、（０．０４０、０．５５０）、（０．０５０、０．５１０）、（０．０６０、０．４２０）、（０．０７０、０．４１５）、（０．０７０、０．３４０）、（０．０６０、０．３４０）、（０．０５０、０．４２０）、（０．０４０、０．４７０）、（０．０３０、０．５２０）、（０．０２０、０．５８０）、（０．０１０、０．６５０）、（０．０１０、０．６９０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（６）０．０２５λ＜Ｈ≦０．０３０λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７７０）、（０．０３０、０．７７０）、（０．０４０、０．７６０）、（０．０５０、０．７６０）、（０．０６０、０．７６０）、（０．０７０、０．７６０）、（０．０７０、０．５５０）、（０．０６０、０．５０５）、（０．０５０、０．５９０）、（０．０４０、０．６２０）、（０．０３０、０．６４５）、（０．０２０、０．６８０）、（０．０１０、０．７００）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０１０、０．６７０）、（０．０２０、０．６０５）、（０．０３０、０．５６０）、（０．０４０、０．５２０）、（０．０５０、０．４７０）、（０．０６０、０．３９５）、（０．０７０、０．５００）、（０．０７０、０．４９０）、（０．０６０、０．２７０）、（０．０５０、０．４１０）、（０．０４０、０．４７０）、（０．０３０、０．５２０）、（０．０２０、０．５８０）、（０．０１０、０．６２０）、（０．０１０、０．６７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（７）０．０３０λ＜Ｈ≦０．０３５λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７７０）、（０．０３０、０．７７０）、（０．０４０、０．７６０）、（０．０５０、０．７６０）、（０．０６０、０．７６０）、（０．０７０、０．７６０）、（０．０７０、０．５５０）、（０．０６０、０．５００）、（０．０５０、０．５４５）、（０．０４０、０．５９０）、（０．０３０、０．６２５）、（０．０２０、０．６５０）、（０．０１０、０．６８０）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０１０、０．６５５）、（０．０２０、０．５９０）、（０．０３０、０．５４０）、（０．０４０、０．４９５）、（０．０５０、０．４３５）、（０．０６０、０．３９５）、（０．０７０、０．５００）、（０．０７０、０．５５０）、（０．０６０、０．３８０）、（０．０５０、０．３３０）、（０．０４０、０．４１０）、（０．０３０、０．４７０）、（０．０２０、０．５２０）、（０．０１０、０．５９０）、（０．０１０、０．６５５）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれることを特徴とする弾性表面波共振子。
【００１９】
上記構成により、Ｈの厚みに対応して、弾性表面波共振子の二次温度係数の絶対値を０．０１ｐｐｍ／℃以下に抑制することができる。
【００２０】
［適用例３］請求項１に記載の弾性表面波共振子において、前記電極指間溝の深さＧと前記実効ライン占有率ηｅｆｆとが
【数３】
【数４】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【００２１】
上記構成により、弾性表面波共振子の二次温度係数の絶対値を０．０１ｐｐｍ／℃２以下に抑制することができる。
【００２２】
［適用例４］適用例３に記載の弾性表面波共振子であって、
前記ＩＤＴの電極膜厚Ｈが、
【数５】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【００２３】
このような特徴を有する弾性表面波共振子によれば、動作温度範囲内において良好な周波数温度特性を示すことを実現することができる。また、このような特徴を有することによれば、電極膜厚の増加に伴う耐環境特性の劣化を抑制することが可能となる。
【００２４】
［適用例５］適用例４に記載の弾性表面波共振子であって、
前記実効ライン占有率ηｅｆｆが、
【数６】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【００２５】
適用例４における電極膜厚の範囲内において上述の式を満たすようにηｅｆｆを定めることで、二次温度係数の絶対値を、０．０１ｐｐｍ／℃２以下に収めることが可能となる。
【００２６】
［適用例６］適用例２、適用例４、適用例５のいずれか１例に記載の弾性表面波共振子であって、前記電極指間溝の深さＧと前記電極膜厚Ｈとの和が、
【数７】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
電極指間溝の深さGと電極膜厚Hとの和を上式のように定めることで、従来の弾性表面波共振子よりも高いＱ値を得ることができる。
【００２７】
［適用例７］適用例１乃至適用例６のいずれか１例に記載の弾性表面波共振子であって、前記ψと前記θが、
【数８】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【００２８】
このような特徴を有するカット角で切り出された水晶基板を用いて弾性表面波共振子を製造することで、広い範囲で良好な周波数温度特性を示す弾性表面波共振子とすることができる。
【００２９】
［適用例８］適用例１乃至適用例７のいずれか１例に記載の弾性表面波共振子であって、
前記ＩＤＴにおけるストップバンド上端モードの周波数をｆｔ２、前記ＩＤＴを弾性表面波の伝搬方向に挟み込むように配置される反射器におけるストップバンド下端モードの周波数をｆｒ１、前記反射器のストップバンド上端モードの周波数をｆｒ２としたとき、
【数９】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【００３０】
このような特徴を有することにより、ＩＤＴのストップバンド上端モードの周波数ｆｔ２において、反射器の反射係数｜Γ｜が大きくなり、ＩＤＴから励振されたストップバンド上端モードの弾性表面波が、反射器にて高い反射係数でＩＤＴ側に反射されるようになる。そしてストップバンド上端モードの弾性表面波のエネルギー閉じ込めが強くなり、低損失な弾性表面波共振子を実現することができる。
【００３１】
［適用例９］適用例１乃至適用例８のいずれか１例に記載の弾性表面波共振子であって、前記反射器を構成する導体ストリップ間に導体ストリップ間溝を設け、前記電極指間溝よりも前記導体ストリップ間溝の深さの方が浅いことを特徴とする弾性表面波共振子。
【００３２】
このような特徴を有することで、反射器のストップバンドをＩＤＴのストップバンドよりも高域側へ周波数シフトさせることができる。このため、数式９の関係を実現させることが可能となる。
【００３３】
［適用例１０］適用例１乃至適用例９のいずれか１例に記載の弾性表面波共振子と、前記ＩＤＴを駆動するための回路を備えたことを特徴とする弾性表面波発振器。
【００３４】
［適用例１１］適用例１乃至適用例９いずれか１例に記載の弾性表面波共振子を備えたことを特徴とする電子機器。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】第１実施形態のＳＡＷデバイスの構成を示す図であって、（Ａ）は平面構成を示す図であり、（Ｂ）は側面における部分拡大断面を示す図であり、（Ｃ）は（Ｂ）における詳細を説明するための部分拡大図であり、（Ｄ）は（Ｃ）における部分拡大図であって、ＳＡＷ共振子をフォトリソグラフィ技法とエッチング技法とを用いて製造したときに想定しえる溝部の断面形状を示す図である。
【図２】本発明で用いる水晶基板の母材となるウェーハの方位の一例を示す図である。
【図３】第１実施形態の変形例として傾斜型ＩＤＴを採用した場合におけるＳＡＷデバイスの構成例を示す図であって、（Ａ）は電極指を傾斜させてＸ´´軸に直交させた形態の例であり、（Ｂ）は電極指を繋ぐバスバーを傾斜させたＩＤＴを有するＳＡＷデバイスの例である。
【図４】ストップバンド上端モードと下端モードとの関係を示す図である。
【図５】電極指間溝の深さと動作温度範囲内における周波数変動量との関係を示すグラフである。
【図６】ＳＴカット水晶基板における温度特性を示す図である。
【図７】ストップバンド上端モードの共振点とストップバンド下端モードの共振点におけるライン占有率ηの変化に伴う二次温度係数の変化の違いを示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを２％λとした場合におけるストップバンド上端モードの二次温度係数βの変位を示すグラフであり、（Ｂ）は溝深さＧを２％λとした場合におけるストップバンド下端モードの二次温度係数βの変位を示すグラフであり、（Ｃ）は溝深さＧを４％λとした場合におけるストップバンド上端モードの二次温度係数βの変位を示すグラフであり、（Ｄ）は溝深さＧを４％λとした場合におけるストップバンド下端モードの二次温度係数βの変位を示すグラフである。
【図８】電極膜厚を０として電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを１％λ、（Ｂ）は溝深さＧを１．２５％λ、（Ｃ）は溝深さＧを１．５％λ、（Ｄ）は溝深さＧを２％λ、（Ｅ）は溝深さＧを３％λ、（Ｆ）は溝深さＧを４％λ、（Ｇ）は溝深さＧを５％λ、（Ｈ）は溝深さＧを６％λ、（Ｉ）は溝深さＧを８％λとした場合におけるグラフである。
【図９】電極膜厚を０とした場合における二次温度係数が０となる電極指間溝の深さとライン占有率ηとの関係を示すグラフである。
【図１０】電極膜厚を０として電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを１％λ、（Ｂ）は溝深さＧを１．２５％λ、（Ｃ）は溝深さＧを１．５％λ、（Ｄ）は溝深さＧを２％λ、（Ｅ）は溝深さＧを３％λ、（Ｆ）は溝深さＧを４％λ、（Ｇ）は溝深さＧを５％λ、（Ｈ）は溝深さＧを６％λ、（Ｉ）は溝深さＧを８％λとした場合におけるグラフである。
【図１１】電極指間溝の深さと、該電極指間溝の深さが±０．００１λずれた場合の周波数変動量との関係を示すグラフである。
【図１２】電極膜厚を変化させた場合における二次温度係数が０となる電極指間溝の深さとライン占有率ηとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は電極膜厚を１％λ、（Ｂ）は電極膜厚を１．５％λ、（Ｃ）は電極膜厚を２％λ、（Ｄ）は電極膜厚を２．５％λ、（Ｅ）は電極膜厚を３％λ、（Ｆ）は電極膜厚を３．５％λとした場合におけるグラフである。
【図１３】各電極膜厚における二次温度係数β≒０（ｐｐｍ／℃２）となるη１と電極指間溝の深さとの関係をグラフにまとめた図であり、（Ａ）は電極膜厚を１％λ〜３．５％λまで変化させた際の溝深さＧとη１との関係を示し、（Ｂ）は、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる領域が点Ａ乃至Ｈを結んでなる多角形内であることを説明する図である。
【図１４】電極膜厚Ｈ≒０からＨ＝０．０３５λまでの電極指間溝の深さとライン占有率ηとの関係を近似曲線で示した図である。
【図１５】電極膜厚を０．０１λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを２％λ、（Ｄ）は溝深さＧを３％λ、（Ｅ）は溝深さＧを４％λ、（Ｆ）は溝深さＧを５％λの場合におけるグラフである。
【図１６】電極膜厚を０．０１５λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを１．５％λ、（Ｄ）は溝深さＧを２．５％λ、（Ｅ）は溝深さＧを３．５％λ、（Ｆ）は溝深さＧを４．５％λの場合におけるグラフである。
【図１７】電極膜厚を０．０２λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを２％λ、（Ｄ）は溝深さＧを３％λ、（Ｅ）は溝深さＧを４％λ、（Ｆ）は溝深さＧを５％λの場合におけるグラフである。
【図１８】電極膜厚を０．０２５λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを１．５％λ、（Ｄ）は溝深さＧを２．５％λ、（Ｅ）は溝深さＧを３．５％λ、（Ｆ）は溝深さＧを４．５％λの場合におけるグラフである。
【図１９】電極膜厚を０．０３λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを２％λ、（Ｄ）は溝深さＧを３％λ、（Ｅ）は溝深さＧを４％λ、（Ｆ）は溝深さＧを５％λの場合におけるグラフである。
【図２０】電極膜厚を０．０３５λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを２％λ、（Ｄ）は溝深さＧを３％λ、（Ｅ）は溝深さＧを４％λ、（Ｆ）は溝深さＧを５％λの場合におけるグラフである。
【図２１】電極膜厚を０．０１λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを２％λ、（Ｄ）は溝深さＧを３％λ、（Ｅ）は溝深さＧを４％λ、（Ｆ）は溝深さＧを５％λの場合におけるグラフである。
【図２２】電極膜厚を０．０１５λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを１．５％λ、（Ｄ）は溝深さＧを２．５％λ、（Ｅ）は溝深さＧを３．５％λ、（Ｆ）は溝深さＧを４．５％λの場合におけるグラフである。
【図２３】電極膜厚を０．０２λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを２％λ、（Ｄ）は溝深さＧを３％λ、（Ｅ）は溝深さＧを４％λ、（Ｆ）は溝深さＧを５％λの場合におけるグラフである。
【図２４】電極膜厚を０．０２５λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを１．５％λ、（Ｄ）は溝深さＧを２．５％λ、（Ｅ）は溝深さＧを３．５％λ、（Ｆ）は溝深さＧを４．５％λの場合におけるグラフである。
【図２５】電極膜厚を０．０３λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを２％λ、（Ｄ）は溝深さＧを３％λ、（Ｅ）は溝深さＧを４％λ、（Ｆ）は溝深さＧを５％λの場合におけるグラフである。
【図２６】電極膜厚を０．０３５λとして電極指間溝の深さを変えた場合におけるライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は溝深さＧを０、（Ｂ）は溝深さＧを１％λ、（Ｃ）は溝深さＧを２％λ、（Ｄ）は溝深さＧを３％λ、（Ｅ）は溝深さＧを４％λ、（Ｆ）は溝深さＧを５％λの場合におけるグラフである。
【図２７】電極膜厚Ｈを０≦Ｈ＜０．００５λとした場合におけるライン占有率ηと溝深さＧの関係を示すグラフによって｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる範囲を示す図であり、（Ａ）はη１、（Ｂ）はη２の場合を示す。
【図２８】電極膜厚Ｈを０．００５λ≦Ｈ＜０．０１０λとした場合におけるライン占有率ηと溝深さＧの関係を示すグラフによって｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる範囲を示す図であり、（Ａ）はη１、（Ｂ）はη２の場合を示す。
【図２９】電極膜厚Ｈを０．０１０λ≦Ｈ＜０．０１５λとした場合におけるライン占有率ηと溝深さＧの関係を示すグラフによって｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる範囲を示す図であり、（Ａ）はη１、（Ｂ）はη２の場合を示す。
【図３０】電極膜厚Ｈを０．０１５λ≦Ｈ＜０．０２０λとした場合におけるライン占有率ηと溝深さＧの関係を示すグラフによって｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる範囲を示す図であり、（Ａ）はη１、（Ｂ）はη２の場合を示す。
【図３１】電極膜厚Ｈを０．０２０λ≦Ｈ＜０．０２５λとした場合におけるライン占有率ηと溝深さＧの関係を示すグラフによって｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる範囲を示す図であり、（Ａ）はη１、（Ｂ）はη２の場合を示す。
【図３２】電極膜厚Ｈを０．０２５λ≦Ｈ＜０．０３０λとした場合におけるライン占有率ηと溝深さＧの関係を示すグラフによって｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる範囲を示す図であり、（Ａ）はη１、（Ｂ）はη２の場合を示す。
【図３３】電極膜厚Ｈを０．０３０λ≦Ｈ＜０．０３５λとした場合におけるライン占有率ηと溝深さＧの関係を示すグラフによって｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる範囲を示す図であり、（Ａ）はη１、（Ｂ）はη２の場合を示す。
【図３４】電極膜厚、ライン占有率η（η１：実線、η２：破線）を定めた際の電極指間溝の深さとオイラー角ψとの関係を示すグラフであり、（Ａ）は電極膜厚を１％λ、（Ｂ）は電極膜厚を１．５％λ、（Ｃ）は電極膜厚を２％λ、（Ｄ）は電極膜厚を２．５％λ、（Ｅ）は電極膜厚を３％λ、（Ｆ）は電極膜厚を３．５％λとした場合のグラフである。
【図３５】各電極膜厚Ｈにおける電極指間溝の深さＧとオイラー角ψとの関係をグラフにまとめた図である。
【図３６】二次温度係数βが−０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる電極指間溝の深さとオイラー角ψとの関係を示すグラフである。
【図３７】二次温度係数βが＋０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる電極指間溝の深さとオイラー角ψとの関係を示すグラフである。
【図３８】電極膜厚Ｈの範囲を０＜Ｈ≦０．００５λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフであり、（Ａ）はψの最大値と最小値、（Ｂ）は、βの要件を満たすψの領域をそれぞれ示すグラフである。
【図３９】電極膜厚Ｈの範囲を０．００５λ＜Ｈ≦０．０１０λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフであり、（Ａ）はψの最大値と最小値、（Ｂ）は、βの要件を満たすψの領域をそれぞれ示すグラフである。
【図４０】電極膜厚Ｈの範囲を０．０１０λ＜Ｈ≦０．０１５λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフであり、（Ａ）はψの最大値と最小値、（Ｂ）は、βの要件を満たすψの領域をそれぞれ示すグラフである。
【図４１】電極膜厚Ｈの範囲を０．０１５λ＜Ｈ≦０．０２０λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフであり、（Ａ）はψの最大値と最小値、（Ｂ）は、βの要件を満たすψの領域をそれぞれ示すグラフである。
【図４２】電極膜厚Ｈの範囲を０．０２０λ＜Ｈ≦０．０２５λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフであり、（Ａ）はψの最大値と最小値、（Ｂ）は、βの要件を満たすψの領域をそれぞれ示すグラフである。
【図４３】電極膜厚Ｈの範囲を０．０２５λ＜Ｈ≦０．０３０λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフであり、（Ａ）はψの最大値と最小値、（Ｂ）は、βの要件を満たすψの領域をそれぞれ示すグラフである。
【図４４】電極膜厚Ｈの範囲を０．０３０λ＜Ｈ≦０．０３５λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフであり、（Ａ）はψの最大値と最小値、（Ｂ）は、βの要件を満たすψの領域をそれぞれ示すグラフである。
【図４５】電極膜厚０．０２λ、電極指間溝の深さ０．０４λにおけるオイラー角θと二次温度係数βとの関係を示すグラフである。
【図４６】オイラー角φと二次温度係数βとの関係を示すグラフである。
【図４７】周波数温度特性が良好となるオイラー角θとオイラー角ψとの関係を示すグラフである。
【図４８】周波数温度特性が最も良好となった条件下における４つの試験片での周波数温度特性データの例を示す図である。
【図４９】電極指間溝の深さと電極膜厚との和である段差とＣＩ値との関係を示すグラフである。
【図５０】本実施形態に係るＳＡＷ共振子における等価回路定数や静特性の例を示す表である。
【図５１】本実施形態に係るＳＡＷ共振子におけるインピーダンスカーブデータである。
【図５２】従来のＳＡＷ共振子における段差とＱ値の関係と本実施形態に係るＳＡＷ共振子段差とＱ値の関係を比較するためのグラフである。
【図５３】ＩＤＴと反射器のＳＡＷ反射特性を示す図である。
【図５４】ヒートサイクル試験における電極膜厚Ｈと周波数変動との関係を示すグラフである。
【図５５】実施形態に係るＳＡＷ発振器の構成を示す図である。
【図５６】ＳＡＷ共振子の周波数温度特性を示すグラフであり、（Ａ）は特開２００６−２０３４０８号に開示されているＳＡＷ共振子の周波数温度特性を示すグラフ、（Ｂ）は実質的な動作温度範囲内における周波数温度特性の範囲を示すグラフである。
【図５７】ＩＤＴおよび反射器に保護膜としてアルミナを被覆したＳＡＷ共振子における動作範囲内の周波数変動量の変化を示すグラフである。
【図５８】ＩＤＴおよび反射器に保護膜としてＳｉＯ２を被覆したＳＡＷ共振子における動作範囲内の周波数変動量の変化を示すグラフである。
【図５９】第２実施形態に係るＳＡＷ共振子であって、図５９（Ａ）は第２実施形態のＳＡＷ共振子の平面図であり、図５９（Ｂ）は部分拡大断面図、図５９（Ｃ）は同図（Ｂ）における詳細を説明するための拡大図、図５９（Ｄ）は図５９（Ｃ）の部分拡大図に関して、本発明に係るＳＡＷ共振子をフォトリソグラフィ技法とエッチング技法とを用いて製造したときに想定しえる断面形状であって、断面形状が矩形ではなく台形状となった場合における、ＩＤＴ電極指の実効ライン占有率ηｅｆｆの特定方法を説明するための図である。
【図６０】例１におけるタイプ１とタイプ２の周波数温度特性を示す図である。
【図６１】例２におけるタイプ１とタイプ２の周波数温度特性を示す図である。
【図６２】タイプ１のライン占有率ηを変化させたときの一次温度係数の変動量の変化を示す図である。
【図６３】タイプ２の実効ライン占有率ηｅｆｆを変化させたときの一次温度係数の変動量の変化を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
以下、本発明の弾性表面波共振子、および弾性表面波発振器に係る実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。但し、この実施形態に記載される構成要素、種類、組み合わせ、形状、その相対配置などは特定的な記載がない限り、この発明の範囲をそれのみに限定する主旨ではなく単なる説明例に過ぎない。
【００３７】
まず、図１を参照して、本発明の弾性表面波（ＳＡＷ）共振子に係る第１実施形態について説明する。なお図１において、図１（Ａ）はＳＡＷ共振子の平面図であり、図１（Ｂ）は部分拡大断面図、図１（Ｃ）は同図（Ｂ）における詳細を説明するための拡大図、図１（Ｄ）は図１（Ｃ）の部分拡大図に関して、本発明に係るＳＡＷ共振子をフォトリソグラフィ技法とエッチング技法とを用いて製造したときに想定しえる断面形状であって、断面形状が矩形ではなく台形状となった場合における、ＩＤＴ電極指のライン占有率ηの特定方法を説明するための図である。ライン占有率ηは、溝３２の底部から、溝３２の深さ（台座の高さ）Ｇと電極膜厚Ｈとを足した値である（Ｇ＋Ｈ）の１／２となる高さにおける、凸部の幅Ｌと溝３２の幅Ｓとを足した値（Ｌ＋Ｓ）に対する前記幅Ｌの占める割合とするのが適切である。
本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０は、水晶基板３０と、ＩＤＴ１２、および反射器２０を基本として構成される。
【００３８】
図２は、本発明で用いる水晶基板３０の母材となるウェーハ１の方位の一例を示す図である。図２において、Ｘ軸は水晶の電気軸、Ｙ軸は水晶の機械軸、Ｚ軸は水晶の光学軸である。ウェーハ１は、後述のようにＺ´軸を法線とするカット面を有し、カット面内にＸ´´軸とＸ´´軸に垂直なＹ´´´軸を有する。さらに、ＳＡＷ共振子１０を構成するＩＤＴ１２および反射器２０は、後述のようにＳＡＷの伝搬方向を考慮してＸ´´軸に沿って配置される。ＳＡＷ共振子１０を構成する水晶基板３０は、ウェーハ１から切り出されて個片化されたものである。水晶基板３０の平面視形状は特に限定されないが、Ｘ´´軸に平行な方向を長辺とし、Ｙ´´´軸に平行な方向を短辺とした長方形としてもよい。
【００３９】
本実施形態では水晶基板３０として、オイラー角（−１．５°≦φ≦１．５°，１１７°≦θ≦１４２°，４２．７９°≦｜ψ｜≦４９．５７°）で表される面内回転ＳＴカット水晶基板を採用した。ここで、図２を参照してオイラー角について説明する。オイラー角（０°，０°，０°）で表される基板は、Ｚ軸に垂直な主面を有するＺカット基板３となる。
【００４０】
ここで、オイラー角（φ，θ，ψ）のφはＺカット基板３の第１の回転に関するものであり、Ｚ軸を回転軸とし、＋Ｘ軸から＋Ｙ軸側へ回転する方向を正の回転角度とした第１回転角度である。第１の回転後のＸ軸、Ｙ軸をそれぞれＸ´軸、Ｙ´軸とする。なお、図２では、オイラー角の説明として、オイラー角のφが０°の場合を図示している。よって、図２においては、Ｘ軸にＸ´軸が重なっており、Ｙ軸にＹ´軸が重なっている。
【００４１】
オイラー角のθはＺカット基板３の第１の回転後に行う第２の回転に関するものであり、第１の回転後のＸ軸（即ち、Ｘ´軸）を回転軸とし、第１の回転後の＋Ｙ軸（即ち、＋Ｙ´軸）から＋Ｚ軸へ回転する方向を正の回転角度とした第２の回転角度である。圧電基板のカット面、すなわち上述のウェーハ１のカット面は、第１回転角度φと第２回転角度θとで決定される。つまり、第２回転後のＹ軸をＹ´´軸とし、第２回転後のＺ軸をＺ´軸とした場合、Ｘ´軸とＹ´´軸の両方に平行な面が圧電基板のカット面となり、Ｚ´軸がこのカット面の法線となる。
【００４２】
オイラー角のψはＺカット基板３の第２の回転後に行う第３の回転に関するものであり、第２の回転後のＺ軸であるＺ´軸を回転軸とし、第２の回転後の+Ｘ軸（即ち、＋Ｘ´軸）から第２の回転後の+Ｙ軸（即ち、＋Ｙ´´軸）側へ回転する方向を正の回転角度とした第３回転角度である。ＳＡＷの伝搬方向は、第２の回転後のＸ軸（即ち、Ｘ´軸）に対する第３回転角度ψで表される。つまり、第３の回転後のＸ軸をＸ´´軸とし、第３回転後のＹ軸をＹ´´´軸とした場合、Ｘ´´軸とＹ´´´軸の両方に平行な面が圧電基板のカット面となり、その法線はＺ´軸となる。このように第３の回転を行なっても法線は不変であるので、この圧電基板のカット面も上述のウェーハ１のカット面となる。またＸ´´軸に平行な方向がＳＡＷの伝搬方向となる。
【００４３】
なお、ＳＡＷの位相速度方向はＸ´´軸方向に平行な方向となる。ＳＡＷのパワーフローと呼ばれている現象は、ＳＡＷの位相が進む方向（位相速度方向）と、ＳＡＷのエネルギーが進む方向（群速度方向）とにずれが生じる現象である。位相速度方向と群速度方向とがなす角度はパワーフロー角と呼ばれている（図３参照）。
【００４４】
ＩＤＴ１２は、複数の電極指１８ａ、１８ｂの基端部をそれぞれバスバー１６ａ，１６ｂで接続した櫛歯状電極１４ａ，１４ｂを一対有し、一方の櫛歯状電極１４ａを構成する電極指１８ａと、他方の櫛歯状電極１４ｂを構成する電極指１８ｂとを所定の間隔をあけて交互に配置している。さらに、図１（Ａ）に示す如く電極指１８ａ、１８ｂは、それら電極指の延長方向が、弾性表面波の伝播方向であるＸ´´軸と直交するように配置される。このようにして構成されるＳＡＷ共振子１０によって励起されるＳＡＷは、Ｒａｙｌｅｉｇｈ型（レイリー型）のＳＡＷであり、Ｘ´´軸とＺ´軸の両方に振動変位成分を有する。そしてこのように、ＳＡＷの伝播方向を水晶の結晶軸であるＸ軸からずらすことで、ストップバンド上端モードのＳＡＷを励起することが可能となるのである。
【００４５】
また、更に、第１実施形態の変形例に係るＳＡＷ共振子１０は、図３に示す如き形態とすることができる。即ち、図３に示す如くＸ´´軸からパワーフロー角（以下、ＰＦＡと称す）δだけ傾斜させたＩＤＴを適用する場合であっても、以下の要件を満たすことによって高Ｑ化することができる。図３（Ａ）は、傾斜型ＩＤＴ１２ａの一実施形態例を示す平面図であり、オイラー角で決まるＳＡＷの伝播方向であるＸ´´軸と傾斜型ＩＤＴ１２ａの電極指１８ａ，１８ｂの延長方向とが直交関係となるように、傾斜型ＩＤＴ１２ａにおける電極指１８ａ，１８ｂの配置形態を傾斜させたものである。
【００４６】
図３（Ｂ）は、傾斜型ＩＤＴ１２ａの別の実施形態例を示す平面図である。本例では、電極指１８ａ，１８ｂを相互に接続するバスバー１６ａ，１６ｂを傾斜させることにより、Ｘ´´軸に対して電極指配列方向を傾斜させて配置しているが、図３（Ａ）と同様にＸ´´軸と電極指１８ａ，１８ｂの延長方向とが直交関係となるように構成されている。
【００４７】
どのような傾斜型ＩＤＴを用いたとしても、これらの実施形態例のようにＸ´´軸に垂直な方向が電極指の延長方向となるよう電極指を配置することにより、本発明における良好な温度特性を維持しつつ、低損失なＳＡＷ共振子を実現することができる。
【００４８】
ここで、ストップバンド上端モードのＳＡＷと下端モードのＳＡＷの関係について説明する。図４は、正規型ＩＤＴ１２におけるストップバンド上端モードおよび下端モードの定在波の分布を示す図である。図４に示すような正規型ＩＤＴ１２（図４に示すのはＩＤＴ１２を構成する電極指１８）によって形成されるストップバンド下端モード、および上端モードのＳＡＷにおいて、それぞれの定在波は、腹（又は節）の位置が互いにπ／２（即ち、λ／４）ずれている。
【００４９】
図４によれば上述したように、実線で示すストップバンド下端モードの定在波は、電極指１８の中央位置、すなわち反射中心位置に腹が存在し、一点鎖線で示したストップバンド上端モードの定在波は反射中心位置に節が存在する。このような電極指間の中心位置に節が存在するモードでは、ＳＡＷの振動を電極指１８（１８ａ，１８ｂ）によって効率良く電荷に変換することができず、そのモードは電気信号として励振、もしくは、受信することができない場合が多い。しかし、本出願に記載の手法では、オイラー角におけるψを零でなくし、ＳＡＷの伝播方向を水晶の結晶軸であるＸ軸からずらすことで、ストップバンド上端モードの定在波を図４の実線の位置、すなわち、そのモードの定在波の腹を電極指１８の中央位置にシフトさせることが可能となり、ストップバンド上端モードのＳＡＷを励起することが可能となるのである。
【００５０】
また、反射器２０は、前記ＩＤＴ１２をＳＡＷの伝播方向に挟み込むように一対設けられる。具体的構成例としては、ＩＤＴ１２を構成する電極指１８と平行に設けられる複数の導体ストリップ２２の両端をそれぞれ接続したものである。
【００５１】
ここで、別の実施例においては、複数の導体ストリップ２２の一端のみをそれぞれ接続することができる。さらに別の実施例においては、複数の導体ストリップ２２の両端以外の箇所（例えば、導体ストリップ２２の延長方向中央）でそれぞれ接続することができる。
【００５２】
なお、水晶基板のＳＡＷ伝搬方向の端面からの反射波を積極的に利用する端面反射型ＳＡＷ共振子や、ＩＤＴの電極指対数を多くすることでＩＤＴ自体でＳＡＷの定在波を励起する多対ＩＤＴ型ＳＡＷ共振子においては、反射器は必ずしも必要ではない。
このようにして構成されるＩＤＴ１２や反射器２０を構成する電極膜の材料としては、アルミニウム（Ａｌ）やＡｌを主体とした合金を用いることができる。
【００５３】
ＩＤＴ１２や反射器２０を構成する電極膜の電極の厚みを極力少なくすることにより電極が有する温度特性の影響を最小限としている。更に、水晶基板部の溝の深さを大きく採り、水晶基板部の溝の性能によって、すなわち水晶の良好な温度特性を利用することで、良好な周波数温度特性を引き出している。それによって電極の温度特性がＳＡＷ共振子の温度特性に与える影響を小さくすることができ、電極の質量が１０％以内の変動であれば良好な温度特性を維持することができる。
【００５４】
なお、上記の理由により電極膜材料として合金を用いる場合、主成分となるＡｌ以外の金属は重量比で１０％以下、望ましくは３％以下にすればよい。これにより、純Ａｌを用いた場合とＡｌ合金を用いた場合とで、温度特性やその他電気的特性を互いに同等なものにすることができる。
【００５５】
Ａｌ以外の金属を主体とした電極を用いる場合には、電極の質量がＡｌを用いた場合の±１０％以内となるようにその電極の膜厚を調整すれば良い。このようにすることでＡｌを用いたときと同等の良好な温度特性が得られる。
【００５６】
上記のような基本構成を有するＳＡＷ共振子１０における水晶基板３０は、ＩＤＴ１２の電極指間や反射器２０の導体ストリップ間に溝（電極指間溝）３２を設けている。
【００５７】
水晶基板３０に設ける溝３２は、ストップバンド上端モードにおけるＳＡＷの波長をλとし、溝深さをＧとした場合、
【数１０】
とすると良い。なお溝深さＧについて上限値を定める場合には、図５を参照することで読み取れるように、
【数１１】
の範囲とすると良い。溝深さＧをこのような範囲で定めることにより、動作温度範囲内（−４０℃〜＋８５℃）における周波数変動量を、詳細を後述する目標値としての２５ｐｐｍ以下とすることができるからである。また、溝深さＧについて望ましくは、
【数１２】
の範囲とすると良い。溝深さＧをこのような範囲で定めることにより、溝深さＧに製造上のばらつきが生じた場合であっても、ＳＡＷ共振子１０個体間における共振周波数のシフト量を補正範囲内に抑えることができる。
【００５８】
また、ライン占有率ηとは図１（Ｃ）や図１（Ｄ）に示すように、電極指１８の線幅（水晶凸部のみの場合には凸部の幅をいう）Ｌを電極指１８間のピッチλ／２（＝Ｌ＋Ｓ）で除した値である。したがって、ライン占有率ηは、式（４）で示すことができる。
【数１３】
ここで本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０は、ライン占有率ηを式（５）、（６）を満たすような範囲で定めると良い。なお、数（５）、（６）からも解るようにηは溝３２の深さＧを定めることにより導き出すことができる。
【数１４】
【数１５】
【００５９】
また、本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０における電極膜材料（ＩＤＴ１２や反射器２０等）の膜厚は、
【数１６】
の範囲とすることが望ましい。
【００６０】
さらに、ライン占有率ηについて式（７）で示した電極膜の厚みを考慮した場合、ηは式（８）により求めることができる。
【数１７】
【００６１】
ライン占有率ηは、電極膜厚が厚いほど電気的特性（特に共振周波数）の製造ばらつきが大きくなり、電極膜厚Ｈが式（５）、（６）の範囲内においては±０．０４以内の製造ばらつき、Ｈ＞０．０３５λにおいては±０．０４より大きい製造ばらつきが生じる可能性が大きい。しかしながら、電極膜厚Ｈが式（５）、（６）の範囲内であり、且つライン占有率ηのばらつきが±０．０４以内であれば、二次温度係数βの絶対値の小さいＳＡＷデバイスが実現できる。即ちライン占有率ηは、式（８）に±０．０４の公差を加えた式（９）の範囲まで許容できる。
【数１８】
【００６２】
上記のような構成の本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０では、二次温度係数βを± ０．０１（ｐｐｍ／℃２）以内とし、望ましくはＳＡＷの動作温度範囲を−４０℃〜＋８５℃とした場合に、当該動作温度範囲内における周波数変動量ΔＦを２５ｐｐｍ以下とすることができる程度まで、周波数温度特性を向上させることを目的としている。
【００６３】
ところで、一般的に弾性表面波共振子の温度特性は、下式で示される。
Δｆ＝α×（Ｔ−Ｔ０）＋β×（Ｔ−Ｔ０）２
ここで、Δｆは温度Ｔと頂点温度Ｔ０間の周波数変化量（ｐｐｍ）、αは一次温度係数（ｐｐｍ／℃）、βは二次温度係数（ｐｐｍ／℃２）、Ｔは温度、Ｔ０は周波数が最大となる温度（頂点温度）を意味する。
【００６４】
例えば、圧電基板がいわゆるＳＴカット（オイラー角（φ、θ、ψ）＝（０°、１２０°〜１３０°、０°））の水晶板で形成されている場合、一次温度係数α＝０．０（ｐｐｍ／℃）、二次温度係数β＝−０．０３４（ｐｐｍ／℃２）となり、グラフに示すと図６のようになる。図６において、温度特性は上に凸の放物線（二次曲線）を描いている。
【００６５】
図６に示すようなＳＡＷ共振子は、温度の変化に対する周波数変動量が極めて大きく、温度変化に対する周波数変化量Δｆを抑圧することが必要となる。従って、図６に示す二次温度係数βをより０に近づけて、ＳＡＷ共振子が実際に使用される際の温度（動作温度）の変化に対する周波数変化量Δｆが０に近づくように、弾性表面波共振子を新たな知見に基づいて実現する必要があるのである。
【００６６】
従って、本発明の目的の１つは、上記の如き課題を解消し、弾性表面波デバイスの周波数温度特性を極めて良好なものとし、温度が変化しても周波数が安定して動作する弾性表面波デバイスを実現することである。
【００６７】
上記の如き技術思想（技術要素）を備えた構成とするＳＡＷデバイスとすれば、前述の如き課題を解決することを実現し得ること、即ち、本願発明者がシミュレーションと実験を繰り返すことによって、如何にして本発明に係る知見に想到したのかについて、以下に詳細に説明し、証明する。
【００６８】
なお、前述のＳＴカットと呼ばれる水晶基板を用いて伝搬方向を結晶Ｘ軸方向としたＳＡＷ共振子は、動作温度範囲を同一とした場合、動作温度範囲内における周波数変動量ΔＦは約１３３（ｐｐｍ）となり、二次温度係数βは、−０．０３４（ｐｐｍ／℃２）程度となる。また、水晶基板のカット角とＳＡＷ伝搬方向をオイラー角表示で（０，１２３°，４５°）とし、動作温度範囲を同一とした面内回転ＳＴカット水晶基板を用いたＳＡＷ共振子においてストップバンド下端モードの励振を利用した場合、周波数変動量ΔＦは約６３ｐｐｍ、二次温度係数βは−０．０１６（ｐｐｍ／℃２）程度となる。
【００６９】
これらＳＴカット水晶基板や面内回転ＳＴカット水晶基板を用いたＳＡＷ共振子はいずれもレイリー波と呼ばれる弾性表面波を利用しており、ＬＳＴカット水晶基板のリーキー波と呼ばれる弾性表面波に比べて水晶基板や電極の加工精度に対する周波数や周波数温度特性のばらつきが極めて小さいため、量産性に優れ、各種のＳＡＷ装置に利用されている。しかしながら、従来利用されていたＳＴカット水晶基板や面内回転ＳＴカット水晶基板などを用いたＳＡＷ共振子は、前述のとおり、周波数温度特性を示す曲線を二次曲線とした二次温度特性であり、更に、その二次温度特性の二次温度係数の絶対値が大きいので、動作温度範囲における周波数変動量が大きく、周波数の安定性を求める有線通信装置や無線通信装置に使用される共振子や発振器などのＳＡＷ装置には利用が困難であった。例えば、ＳＴカット水晶基板の二次温度係数βの１／３以下、面内回転ＳＴカット水晶基板の二次温度係数βの３７％以上の改善に相当する二次温度係数βが±０．０１（ｐｐｍ／℃２）以下の二次温度特性を持つ周波数温度特性が得られれば、そのような周波数の安定性を求める装置を実現できる。更に、二次温度係数βがほぼ零であり、周波数温度特性を示す曲線を三次曲線とした三次温度特性が得られれば、動作温度範囲において、より周波数の安定性が高まり、より望ましい。このような三次温度特性では、−４０℃〜＋８５℃もの広い動作温度範囲においても±２５ｐｐｍ以下の、従来の如きＳＡＷデバイスでは実現し得なかった極めて高い周波数安定度が得られる。
【００７０】
ＳＡＷ共振子１０の周波数温度特性の変化には上述したように、ＩＤＴ１２における電極指１８のライン占有率ηや電極膜厚Ｈ、及び溝深さＧなどが関係していることが、本願発明者が行ったシミュレーションと実験に基づく知見により明らかとなった。そして本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０は、ストップバンド上端モードの励振を利用する。
【００７１】
図７は、図１（Ｃ）において、電極膜厚Ｈを零（Ｈ＝０％λ）として、即ち、水晶基板３０の表面に凹凸の水晶からなる溝３２を形成した状態において、水晶基板３０の表面にＳＡＷを励起して伝播させた場合のライン占有率ηの変化に対する二次温度係数βの変化を示すグラフである。図７において図７（Ａ）は溝深さＧを０．０２λとした場合のストップバンド上端モードの共振における二次温度係数βを示し、図７（Ｂ）は溝深さＧを０．０２λとした場合のストップバンド下端モードの共振における二次温度係数βを示す。また、図７において図７（Ｃ）は溝深さＧを０．０４λとした場合のストップバンド上端モードの共振における二次温度係数βを示し、図７（Ｄ）は溝深さＧを０．０４λとした場合のストップバンド下端モードの共振における二次温度係数βを示す。なお、図７に示すシミュレーションは、周波数温度特性を変動させる因子を減らすために、電極膜を設けない水晶基板３０に何らかの形でＳＡＷを伝搬させた場合の例を示すものである。また、水晶基板３０のカット角は、オイラー角（０°，１２３°，ψ）のものを使用した。なお、ψに関しては、二次温度係数βの絶対値が最小となる値を適宜選択している。
【００７２】
図７からは、ストップバンド上端モードの場合も下端モードの場合も、ライン占有率ηが０．６〜０．７となるあたりで二次温度係数βが大きく変化していることを読み取ることができる。そして、ストップバンド上端モードにおける二次温度係数βの変化とストップバンド下端モードにおける二次温度係数βの変化とを比較すると、次のような事を読み取ることができる。すなわち、ストップバンド下端モードにおける二次温度係数βの変化は、マイナス側からさらにマイナス側へ変化する事により特性が低下している（二次温度係数βの絶対値が大きくなっている）。これに対し、ストップバンド上端モードにおける二次温度係数βの変化は、マイナス側からプラス側へ変化することにより特性が向上している（二次温度係数βの絶対値が小さくなる点が存在している）ということである。
【００７３】
このことより、ＳＡＷデバイスにおいて良好な周波数温度特性を得るためには、ストップバンド上端モードの振動を用いることが望ましいということが明らかとなった。
【００７４】
次に発明者は、溝深さＧを種々変化させた水晶基板においてストップバンド上端モードのＳＡＷを伝搬させた際におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係について調べた。
【００７５】
図８（Ａ）乃至（Ｉ）は、図７と同様に電極膜厚Ｈを零（Ｈ＝０％λ）として、それぞれ溝深さＧを０．０１λ（１％λ）から０．０８λ（８％λ）まで変化させたときのライン占有率ηと二次温度係数βとの関係をシミュレーションしたときの評価結果を示すグラフである。評価結果から、溝深さＧを図８（Ｂ）に示す如く０．０１２５λ（１．２５％λ）としたあたりからβ＝０となる点、すなわち周波数温度特性を示す近似曲線が三次曲線を示す点が現れ始めていることが読み取れる。そして、図８からは、β＝０となるηがそれぞれ２箇所（ηが大きな方におけるβ＝０となる点（η１）や、ηが小さい方におけるβ＝０となる点（η２））が存在することも判明した。更に、図８に示す評価結果から、η２の方が、η１よりも溝深さＧの変化に対するライン占有率ηの変動量が大きいという事も読み取ることができる。
【００７６】
この点については、図９を参照することによりその理解を深めることができる。図９は、溝深さＧを変えていった場合において二次温度係数βが０となるη１、η２をそれぞれプロットしたグラフである。図９は、溝深さＧが大きくなるにつれて、η１、η２は互いに小さくなるが、η２の方は、縦軸ηのスケールを０．５λ〜０．９λの範囲で示したグラフにおいて、溝深さＧ＝０．０４λとなったあたりでスケールアウトしてしまうほど変動量が大きいということを読み取ることができる。つまり、η２は、溝深さＧの変化に対する変動量が大きいということがいえる。
【００７７】
図１０（Ａ）乃至（Ｉ）は、図７や図８と同様に電極膜厚Ｈを零（Ｈ＝０％λ）として、図８における縦軸を二次温度係数βに替えて周波数変動量ΔＦとして示したグラフである。図１０からは当然に、β＝０となる２つの点（η１、η２）において、周波数変動量ΔＦが低下する事を読み取ることができる。さらに図１０からは、β＝０となる２つの点では、溝深さＧを変えたいずれのグラフにおいても、η１にあたる点の方が、周波数変動量ΔＦが小さく抑えられているということを読み取ることができる。
【００７８】
上記傾向によると、製造時に誤差が生じ易い量産品に関しては、溝深さＧの変動に対するβ＝０となる点の周波数変動量が少ない方、すなわちη１を採用することが望ましいと考えられる。図５には、各溝深さＧにおいて二次温度係数βが最小となる点（η１）での周波数変動量ΔＦと溝深さＧとの関係のグラフを示す。図５によると、周波数変動量ΔＦが目標値である２５ｐｐｍ以下となる溝深さＧの下限値は、溝深さＧが０．０１λとなり、溝深さＧの範囲はそれ以上、すなわち０．０１≦Ｇということになる。
【００７９】
なお、図５にはシミュレーションよって、溝深さＧが０．０８以上となる場合の例も追加した。このシミュレーションによれば溝深さＧは、０．０１λ以上で周波数変動量ΔＦが２５ｐｐｍ以下となり、その後、溝深さＧが増す毎に周波数変動量ΔＦが小さくなる。しかし、溝深さＧが約０．９λ以上となった場合に、周波数変動量ΔＦは再び増加し、０．０９４λを越えると周波数変動量ΔＦが２５ｐｐｍを超えることとなる。
【００８０】
図５に示すグラフは水晶基板３０上に、ＩＤＴ１２や反射器２０等の電極膜を形成していない状態でのシミュレーションであるが、詳細を以下に示す図２１〜図２６を参照すると解るように、ＳＡＷ共振子１０は電極膜を設けた方が周波数変動量ΔＦを小さくすることができると考えられる。よって溝深さＧの上限値を定めるとすれば電極膜を形成していない状態での最大値、すなわちＧ≦０．９４λとすれば良く、目標を達成するために好適な溝深さＧの範囲としては、
【数１９】
と示すことができる。
【００８１】
なお、量産工程において溝深さＧは、最大±０．００１λ程度のバラツキを持つ。よって、ライン占有率ηを一定とした場合において、溝深さＧが±０．００１λだけズレた場合におけるＳＡＷ共振子１０の個々の周波数変動量Δｆについて図１１に示す。図１１によれば、Ｇ＝０．０４λの場合において、溝深さＧが±０．００１λズレた場合、すなわち溝深さが０．０３９λ≦Ｇ≦０．０４１λの範囲においては、周波数変動量Δｆが±５００ｐｐｍ程度であるということを読み取ることができる。
【００８２】
ここで、周波数変動量Δｆが±１０００ｐｐｍ未満であれば、種々の周波数微調整手段により周波数調整が可能である。しかし、周波数変動量Δｆが±１０００ｐｐｍ以上となった場合には、周波数の調整によりＱ値、ＣＩ（crystal impedance）値等の静特性や、長期信頼性への影響が生じ、ＳＡＷ共振子１０として良品率の低下へと繋がる。
【００８３】
図１１に示すプロットを繋ぐ直線について、周波数変動量Δｆ［ｐｐｍ］と溝深さＧとの関係を示す近似式を導くと、式（１０）を得ることができる。
【数２０】
【００８４】
ここで、Δｆ＜１０００ｐｐｍとなるＧの値を求めると、Ｇ≦０．０６９５λとなる。したがって、本実施形態に係る溝深さＧの範囲として好適には、
【数２１】
とすることが望ましいということができる。
【００８５】
次に、図１２（Ａ）乃至（Ｆ）に、二次温度係数β＝０となるη、すなわち三次温特を示すライン占有率ηと溝深さＧとの関係をシミュレーションしたときの評価結果のグラフを示す。水晶基板３０は、オイラー角を（０°，１２３°，ψ）とした。ここでψについては、周波数温度特性が三次曲線の傾向を示す角度、すなわち二次温度係数β＝０となる角度を適宜選択している。なお、図１２と同様な条件において、β＝０となるηを得た際のオイラー角ψと溝深さＧとの関係を図３４に示す。図３４の電極膜厚Ｈ＝０．０２λのグラフ（図３４（Ｃ））において、ψ＜４２°のプロットが表示されていないが、このグラフのη２のプロットはＧ＝０．０３λにてψ＝４１．９°となっている。各電極膜厚における溝深さＧとライン占有率ηとの関係については、詳細を後述する図１５〜図２０に基づいてプロットを得ている。
【００８６】
図１２（Ａ）乃至（Ｆ）に示す評価結果からは、いずれの膜厚においても、上述したように、η１はη２に比べて溝深さＧの変化による変動が少ないということを読み取ることができる。このため、図１２におけるそれぞれの膜厚の溝深さＧとライン占有率ηとの関係を示すグラフからη１を抜き出し図１３（Ａ）にβ≒０となる点をプロットしてまとめた。それに対して、β≒０とはならずとも、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）を満足する領域を評価したところ、図１３（Ｂ）に示す如く実線で示す多角形の中にη１が集中していることが明らかとなった。
【００８７】
図１３（Ｂ）の点ａ乃至ｈの座標を下表１に示す。
【表１】
【００８８】
図１３（Ｂ）は、点ａ乃至ｈで囲まれた多角形内であれば、電極膜厚Ｈの厚みに係わらず｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）が保証され、良好な周波数温度特性が得られることを示している。この良好な周波数温度特性が得られる範囲は、下に示す式（１１）と式（１２）、および式（１３）の両方を満足する範囲である。
【数２２】
【数２３】
【数２４】
式（１１）、（１２）、（１３）より、図１３（Ｂ）において実線で囲った範囲において、ライン占有率ηは、式（５）と式（６）の両方を満たす範囲として特定することができるといえる。
【数２５】
【数２６】
【００８９】
ここで、二次温度係数βを±０．０１（ｐｐｍ／℃２）以内まで許容する場合、０．０１００λ≦Ｇ≦０．０５００λにおいては、式（３）と式（５）を共に満たし、０．０５００λ＜Ｇ≦０．０６９５λにおいては、式（３）と式（６）を共に満たすように構成すれば、二次温度係数βが±０．０１（ｐｐｍ／℃２）以内になることを確認した。
【００９０】
尚、点ａ乃至ｈにおける各電極膜厚Ｈの二次温度係数β（ｐｐｍ／℃２）の値を下表２に示す。表２からは、全ての点において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となっていることが確認できる。
【表２】
【００９１】
また、式（１１）〜（１３）およびこれにより導かれる式（５）、（６）を踏まえて電極膜厚Ｈ≒０、０．０１λ、０．０２λ、０．０３λとしたＳＡＷ共振子１０についてそれぞれ、β＝０となる溝深さＧとライン占有率ηとの関係を近似直線で示すと図１４のようになる。なお、電極膜を設けない水晶基板３０における溝深さＧとライン占有率ηとの関係については、図９に示した通りである。
【００９２】
電極膜厚Ｈを３．０％λ（０．０３０λ）以下で変化させたときに、β＝０、即ち、三次曲線の周波数温度特性が得られる。このとき、周波数温度特性が良好となるＧとηとの関係式は式（８）で示すことができる。
【数２７】
ここで、Ｇ、Ｈの単位はλである。
但し、この式（８）は、電極膜厚Ｈが、０＜Ｈ≦０．０３０λの範囲において成立するものである。
【００９３】
ライン占有率ηは、電極膜厚が厚いほど電気的特性（特に共振周波数）の製造ばらつきが大きくなり、電極膜厚Ｈが式（５）、（６）の範囲内においては±０．０４以内の製造ばらつき、Ｈ＞０．０３５λにおいては±０．０４より大きい製造ばらつきが生じる可能性が大きい。しかしながら、電極膜厚Ｈが式（５）、（６）の範囲内であり、且つライン占有率ηのばらつきが±０．０４以内であれば、二次温度係数βの小さいＳＡＷデバイスが実現できる。即ち、ライン占有率の製造ばらつきを考慮した上で二次温度係数βを±０．０１ｐｐｍ／℃２以内とする場合、ライン占有率ηは、式（８）に±０．０４の公差を加えた式（９）の範囲まで許容できる。
【数２８】
【００９４】
図１５〜図２０に、電極膜厚をそれぞれ０．０１λ（１％λ）、０．０１５λ（１．５％λ）、０．０２λ（２％λ）、０．０２５λ（２．５％λ）、０．０３λ（３％λ）、０．０３５λ（３．５％λ）とした場合において、溝深さＧを変化させた場合におけるライン占有率ηと二次温度係数βとの関係のグラフを示す。
【００９５】
また、図２１〜図２６には、図１５〜図２０にそれぞれ対応したＳＡＷ共振子１０におけるライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係のグラフを示す。なお、水晶基板はいずれもオイラー角（０°，１２３°，ψ）のものを使用し、ψについては適宜ΔＦが最小となる角度を選択する。
【００９６】
ここで、図１５（Ａ）乃至（Ｆ）は、電極膜厚Ｈを０．０１λとした場合のライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示す図であり、図２１（Ａ）乃至（Ｆ）は電極膜厚Ｈを０．０１λとした場合のライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示す図である。
【００９７】
また、図１６（Ａ）乃至（Ｆ）は、電極膜厚Ｈを０．０１５λとした場合のライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示す図であり、図２２（Ａ）乃至（Ｆ）は電極膜厚Ｈを０．０１５λとした場合のライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示す図である。
【００９８】
また、図１７（Ａ）乃至（Ｆ）は、電極膜厚Ｈを０．０２λとした場合のライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示す図であり、図２３（Ａ）乃至（Ｆ）は電極膜厚Ｈを０．０２λとした場合のライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示す図である。
【００９９】
また、図１８（Ａ）乃至（Ｆ）は、電極膜厚Ｈを０．０２５λとした場合のライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示す図であり、図２４（Ａ）乃至（Ｆ）は電極膜厚Ｈを０．０２５λとした場合のライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示す図である。
【０１００】
また、図１９（Ａ）乃至（Ｆ）は、電極膜厚Ｈを０．０３λとした場合のライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示す図であり、図２５（Ａ）乃至（Ｆ）は電極膜厚Ｈを０．０３λとした場合のライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示す図である。
【０１０１】
また、図２０（Ａ）乃至（Ｆ）は、電極膜厚Ｈを０．０３５λとした場合のライン占有率ηと二次温度係数βとの関係を示す図であり、図２６（Ａ）乃至（Ｆ）は電極膜厚Ｈを０．０３５λとした場合のライン占有率ηと周波数変動量ΔＦとの関係を示す図である。
【０１０２】
これらの図（図１５〜図２６）においては、いずれのグラフにおいても微差はあるものの、その変化の傾向に関しては、水晶基板３０のみにおけるライン占有率ηと二次温度係数β、およびライン占有率ηと周波数変動量ΔＦの関係を示すグラフである図８、図１０と似ていることが解る。
つまり、本実施形態に係る効果は、電極膜を除いた水晶基板３０単体における弾性表面波の伝播においても奏することができるということが言える。
【０１０３】
二次温度係数βが０となる２点のη１、η２の各々に対して、βの範囲を｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）まで拡張したときのη１、η２の範囲について、電極膜厚Ｈの範囲を定めて溝深さＧを変化させた場合について、それぞれシミュレーションを実施した。なお、η１、η２はそれぞれ、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる大きい方のηをη１、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）となる小さい方のηをη２としている。なお、水晶基板はいずれもオイラー角（０°，１２３°，ψ）のものを使用し、ψについては適宜ΔＦが最少となる角度を選択する。
【０１０４】
図２７（Ａ）は、電極膜厚Ｈを０．０００λ＜Ｈ≦０．００５λとした場合において、上記βの範囲を満たすη１と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表３は、図２７（Ａ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表３】
【０１０５】
図２７（Ａ）と表３から、η１では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０９λの範囲において、計測点ａ−ｒを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１０６】
図２７（Ｂ）は、電極膜厚Ｈを０．０００λ＜Ｈ≦０．００５λとした場合において、上記βの範囲を満たすη２と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表４は、図２７（Ｂ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表４】
【０１０７】
図２７（Ｂ）と表４から、η２では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０３λ≦Ｇ≦０．０９λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１０８】
図２８（Ａ）は、電極膜厚Ｈを０．００５λ＜Ｈ≦０．０１０λとした場合において、上記βの範囲を満たすη１と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表５は、図２８（Ａ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表５】
【０１０９】
図２８（Ａ）と表５から、η１では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０８λの範囲において、計測点ａ−ｐを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１１０】
図２８（Ｂ）は、電極膜厚Ｈを０．００５λ＜Ｈ≦０．０１０λとした場合において、上記βの範囲を満たすη２と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表６は、図２８（Ｂ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表６】
【０１１１】
図２８（Ｂ）と表６から、η２では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０２λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｌを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１１２】
図２９（Ａ）は、電極膜厚Ｈを０．０１０λ＜Ｈ≦０．０１５λとした場合において、上記βの範囲を満たすη１と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表７は、図２９（Ａ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表７】
【０１１３】
図２９（Ａ）と表７から、η１では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０８λの範囲において、計測点ａ−ｐを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１１４】
図２９（Ｂ）は、電極膜厚Ｈを０．０１０λ＜Ｈ≦０．０１５λとした場合において、上記βの範囲を満たすη２と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表８は、図２９（Ｂ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表８】
【０１１５】
図２９（Ｂ）と表８から、η２では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１１６】
図３０（Ａ）は、電極膜厚Ｈを０．０１５λ＜Ｈ≦０．０２０λとした場合において、上記βの範囲を満たすη１と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表９は、図３０（Ａ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表９】
【０１１７】
図３０（Ａ）と表９から、η１では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１１８】
図３０（Ｂ）は、電極膜厚Ｈを０．０１５λ＜Ｈ≦０．０２０λとした場合において、上記βの範囲を満たすη２と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表１０は、図３０（Ｂ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表１０】
【０１１９】
図３０（Ｂ）と表１０から、η２では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１２０】
図３１（Ａ）は、電極膜厚Ｈを０．０２０λ＜Ｈ≦０．０２５λとした場合において、上記βの範囲を満たすη１と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表１１は、図３１（Ａ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表１１】
【０１２１】
図３１（Ａ）と表１１から、η１では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１２２】
図３１（Ｂ）は、電極膜厚Ｈを０．０２０λ＜Ｈ≦０．０２５λとした場合において、上記βの範囲を満たすη２と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表１２は、図３１（Ｂ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表１２】
【０１２３】
図３１（Ｂ）と表１２から、η２では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１２４】
図３２（Ａ）は、電極膜厚Ｈを０．０２５λ＜Ｈ≦０．０３０λとした場合において、上記βの範囲を満たすη１と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表１３は、図３２（Ａ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表１３】
【０１２５】
図３２（Ａ）と表１３から、η１では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１２６】
図３２（Ｂ）は、電極膜厚Ｈを０．０２５λ＜Ｈ≦０．０３０λとした場合において、上記βの範囲を満たすη２と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表１４は、図３２（Ｂ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表１４】
【０１２７】
図３２（Ｂ）と表１４から、η２では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１２８】
図３３（Ａ）は、電極膜厚Ｈを０．０３０λ＜Ｈ≦０．０３５λとした場合において、上記βの範囲を満たすη１と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表１５は、図３３（Ａ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表１５】
【０１２９】
図３３（Ａ）と表１５から、η１では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１３０】
図３３（Ｂ）は、電極膜厚Ｈを０．０３０λ＜Ｈ≦０．０３５λとした場合において、上記βの範囲を満たすη２と溝深さＧの関係を示すグラフであり、表１６は、図３３（Ｂ）に示す範囲を定めるための主要な計測点の座標（Ｇ／λ、η）と、当該計測点におけるβの値を示す表である。
【表１６】
【０１３１】
図３３（Ｂ）と表１６から、η２では電極膜厚Ｈが上記範囲内である場合、溝深さＧが０．０１λ≦Ｇ≦０．０７λの範囲において、計測点ａ−ｎを頂点とする多角形で囲まれた領域内では、βが上記要件を満たすということを読み取ることができる。
【０１３２】
図３５に、図３４に示すグラフにおけるη１によって得られるψと溝深さＧとの関係をまとめた。なお、η１を選択した理由については上述した通りである。図３５に示すように、電極膜の膜厚が変化した場合であっても、ψの角度には殆ど違いは無く、ψの最適角度は溝深さＧの変動にしたがって変化して行くことが解る。これも、二次温度係数βの変化が水晶基板３０の形態に起因する割合が高いことの裏付けということができる。
【０１３３】
上記と同様にして、二次温度係数β＝−０．０１（ｐｐｍ／℃２）となるψとβ＝＋０．０１（ｐｐｍ／℃２）となるψについて溝深さＧとの関係を求め、図３６、図３７にまとめた。これらのグラフ（図３５〜図３７）から−０．０１≦β≦＋０．０１とすることのできるψの角度を求めると、上記条件下における好適なψの角度範囲は４３°＜ψ＜４５°と定めることができ、さらに好適には４３．２°≦ψ≦４４．２と定めることができる。
【０１３４】
なお、電極膜厚Ｈを変化させた場合において、溝深さＧを変化させた際に｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲についてシミュレーションを行った。そのシミュレーションの結果を、図３８〜図４４に示す。なお、水晶基板はいずれもオイラー角（０°，１２３°，ψ）のものを使用し、ψについては適宜ΔＦが最少となる角度を選択する。
【０１３５】
図３８（Ａ）は、電極膜厚Ｈの範囲を０＜Ｈ≦０．００５λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフである。ここで、ψの最大値を示すプロットを結ぶ直線と、ψの最小値を示すプロットを結ぶ破線とで挟まれた範囲が、上記条件を満たす範囲である。
【０１３６】
溝深さＧを０．０１λ≦Ｇ≦０．０６９５の範囲として、図３８（Ａ）に示す実線と破線の範囲を多角形状で近似すると、図３８（Ｂ）のように示すことができ、図３８（Ｂ）において実線で示される多角形の内側にあたる範囲では、βが上記条件を満たすといえる。図３８（Ｂ）に示される多角形の範囲を近似式で示すと、式（１４）、（１５）で示すことができる。
【数２９】
【数３０】
【０１３７】
図３９（Ａ）は、電極膜厚Ｈの範囲を０．００５λ＜Ｈ≦０．０１０λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフである。ここで、ψの最大値を示すプロットを結ぶ直線と、ψの最小値を示すプロットを結ぶ破線とで挟まれた範囲が、上記条件を満たす範囲である。
【０１３８】
溝深さＧを０．０１λ≦Ｇ≦０．０６９５の範囲として、図３９（Ａ）に示す実線と破線の範囲を多角形状で近似すると、図２９（Ｂ）のように示すことができ、図３９（Ｂ）において実線で示される多角形の内側にあたる範囲では、βが上記条件を満たすといえる。図３９（Ｂ）に示される多角形の範囲を近似式で示すと、式（１６）、（１７）で示すことができる。
【数３１】
【数３２】
【０１３９】
図４０（Ａ）は、電極膜厚Ｈの範囲を０．０１０＜Ｈ≦０．０１５λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフである。ここで、ψの最大値を示すプロットを結ぶ直線と、ψの最小値を示すプロットを結ぶ破線とで挟まれた範囲が、上記条件を満たす範囲である。
【０１４０】
溝深さＧを０．０１λ≦Ｇ≦０．０６９５の範囲として、図４０（Ａ）に示す実線と破線の範囲を多角形状で近似すると、図４０（Ｂ）のように示すことができ、図４０（Ｂ）において実線で示される多角形の内側にあたる範囲では、βが上記条件を満たすといえる。図４０（Ｂ）に示される多角形の範囲を近似式で示すと、式（１８）、（１９）で示すことができる。
【数３３】
【数３４】
【０１４１】
図４１（Ａ）は、電極膜厚Ｈの範囲を０．０１５＜Ｈ≦０．０２０λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフである。ここで、ψの最大値を示すプロットを結ぶ直線と、ψの最小値を示すプロットを結ぶ破線とで挟まれた範囲が、上記条件を満たす範囲である。
【０１４２】
溝深さＧを０．０１λ≦Ｇ≦０．０６９５の範囲として、図４１（Ａ）に示す実線と破線の範囲を多角形状で近似すると、図４１（Ｂ）のように示すことができ、図４１（Ｂ）において実線で示される多角形の内側にあたる範囲では、βが上記条件を満たすといえる。図４１（Ｂ）に示される多角形の範囲を近似式で示すと、式（２０）、（２１）で示すことができる。
【数３５】
【数３６】
【０１４３】
図４２は、電極膜厚Ｈの範囲を０．０２０＜Ｈ≦０．０２５λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフである。ここで、ψの最大値を示すプロットを結ぶ直線と、ψの最小値を示すプロットを結ぶ破線とで挟まれた範囲が、上記条件を満たす範囲である。
【０１４４】
溝深さＧを０．０１λ≦Ｇ≦０．０６９５の範囲として、図４２に示す実線と破線の範囲を多角形状で近似すると、図４２（Ｂ）のように示すことができ、図４２（Ｂ）において実線で示される多角形の内側にあたる範囲では、βが上記条件を満たすといえる。図４２（Ｂ）に示される多角形の範囲を近似式で示すと、式（２２）〜（２４）で示すことができる。
【数３７】
【数３８】
【数３９】
【０１４５】
図４３（Ａ）は、電極膜厚Ｈの範囲を０．０２５＜Ｈ≦０．０３０λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフである。ここで、ψの最大値を示すプロットを結ぶ直線と、ψの最小値を示すプロットを結ぶ破線とで挟まれた範囲が、上記条件を満たす範囲である。
【０１４６】
溝深さＧを０．０１λ≦Ｇ≦０．０６９５の範囲として、図４３（Ａ）に示す実線と破線の範囲を多角形状で近似すると、図４３（Ｂ）のように示すことができ、図４３（Ｂ）において実線で示される多角形の内側にあたる範囲では、βが上記条件を満たすといえる。図４３（Ｂ）に示される多角形の範囲を近似式で示すと、式（２５）〜（２７）で示すことができる。
【数４０】
【数４１】
【数４２】
図４４（Ａ）は、電極膜厚Ｈの範囲を０．０３０＜Ｈ≦０．０３５λとした場合において、｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）の要件を満たすψの範囲を示すグラフである。ここで、ψの最大値を示すプロットを結ぶ直線と、ψの最小値を示すプロットを結ぶ破線とで挟まれた範囲が、上記条件を満たす範囲である。
【０１４７】
溝深さＧを０．０１λ≦Ｇ≦０．０６９５の範囲として、図４４（Ａ）に示す実線と破線の範囲を多角形状で近似すると、図４４（Ｂ）のように示すことができ、図４４（Ｂ）において実線で示される多角形の内側にあたる範囲では、βが上記条件を満たすといえる。図４４（Ｂ）に示される多角形の範囲を近似式で示すと、式（２８）〜（３０）で示すことができる。
【数４３】
【数４４】
【数４５】
【０１４８】
次に、図４５にθの角度を振った際の二次温度係数βの変化、すなわちθと二次温度係数βとの関係を示す。ここで、シミュレーションに用いたＳＡＷデバイスは、カット角とＳＡＷ伝搬方向をオイラー角表示で（０，θ，ψ）とし、溝深さＧを０．０４λとした水晶基板であり、電極膜厚Ｈは０．０２λとしている。なお、ψに関しては、θの設定角度に基づいて、上述した角度範囲内において、適宜二次温度係数βの絶対値が最小となる値を選択した。また、ηに関しては、上記式（８）に従って、０．６３８３とした。
【０１４９】
このような条件の下、θと二次温度係数βとの関係を示す図４５からは、θが１１７°以上１４２°以下の範囲内であれば、二次温度係数βの絶対値が０．０１（ｐｐｍ／℃２）の範囲内にある事を読み取ることができる。よって、上記のような設定値において、θを１１７°≦θ≦１４２°の範囲で定めることによれば、良好な周波数温度特性を持ったＳＡＷ共振子１０を構成することができると言える。
【０１５０】
θと二次温度係数βとの関係を裏付けるシミュレーションデータとして、表１７〜１９を示す。
【表１７】
【０１５１】
表１７は、電極膜厚Ｈを変えた場合におけるθと二次温度係数βとの関係を示す表であり、電極膜厚Ｈを０．０１％λとした場合と、電極膜厚Ｈを３．５０％λとした場合におけるθの臨界値（１１７°、１４２°）での二次温度係数βの値を示す。なお、このシミュレーションにおける溝深さＧは、いずれも４％λである。表１７からは、１１７°≦θ≦１４２°の範囲では、電極膜厚Ｈの厚みを変えた場合（電極膜厚の臨界値として規定した０≒０．０１％λと３．５％λ）であっても、その厚みに依存する事無く｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）を満足するということを読み取ることができる。
【０１５２】
【表１８】
表１８は、溝深さＧを変えた場合におけるθと二次温度係数βとの関係を示す表であり、溝深さＧを１．００％λと６．９５％λとした場合におけるθの臨界値（１１７°、１４２°）での二次温度係数βの値を示す。なお、このシミュレーションにおける電極膜厚Ｈは、いずれも２．００％λである。表１８からは、１１７°≦θ≦１４２°の範囲では、溝深さＧを変えた場合（溝深さＧの臨界値として規定した１．００％λと６．９５％λ）であっても、その深さに依存する事無く｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）を満足するということを読み取ることができる。
【０１５３】
【表１９】
表１９は、ライン占有率ηを変えた場合におけるθと二次温度係数βとの関係を示す表であり、ライン占有率ηを０．６２と０．７６とした場合におけるθの臨界値（１１７°、１４２°）での二次温度係数βの値を示す。なお、このシミュレーションにおける電極膜厚Ｈは、いずれも２．００％λであり、溝深さＧは、いずれも４．００％λである。表１９からは、１１７°≦θ≦１４２°の範囲では、ライン占有率ηを変えた場合（η＝０．６２、０．７６は、電極膜厚Ｈを０．０２０λ〜０．０２５の範囲としてライン占有率η（η１）と溝深さＧの関係を示した図３１（Ａ）において、溝深さを４％λとした場合におけるηの最小値と最大値）であっても、その値に依存する事無く｜β｜≦０．０１（ｐｐｍ／℃２）を満足するということを読み取ることができる。
【０１５４】
図４６は、オイラー角表示で（φ，１２３°，４３．７７°）の水晶基板３０を用い、溝深さＧを０．０４λ、電極膜厚Ｈを０．０２λ、及びライン占有率ηを０．６５とした場合において、φの角度と二次温度係数βとの関係を示すグラフである。
【０１５５】
図４６からは、φが−２°、＋２°の場合にはそれぞれ二次温度係数βが−０．０１（ｐｐｍ／℃２）よりも低くなってしまっているが、φが−１．５°から＋１．５°の範囲であれば確実に、二次温度係数βの絶対値が０．０１（ｐｐｍ／℃２）の範囲内にある事を読み取ることができる。よって、上記のような設定値においてφを−１．５°≦φ≦＋１．５°、好適には−１°≦φ≦＋１°の範囲で定めることによれば、良好な周波数温度特性を持ったＳＡＷ共振子１０を構成することができる。
【０１５６】
上記説明では、φ、θ、ψはそれぞれ、一定条件の下に溝深さＧとの関係において最適値の範囲を導き出している。これに対し、図４７では、−４０℃〜＋８５℃における周波数変動量が最小となる非常に望ましいθとψの関係を示しており、その近似式を求めている。図４７によれば、ψの角度は、θの角度上昇に伴って変化し、三次曲線を描くように上昇する。なお、図４７の例では、θ＝１１７°とした場合のψは４２．７９°であり、θ＝１４２°とした場合のψは４９．５７°である。これらのプロットを近似曲線として示すと図４７中破線で示す曲線となり、近似式としては式（３１）で示すことができる。
【数４６】
【０１５７】
このことより、ψはθが定まることにより定めることができ、θの範囲を１１７°≦θ≦１４２°とした場合におけるψの範囲は４２．７９°≦ψ≦４９．５７°とすることができる。なお、シミュレーションにおける溝深さＧ、電極膜厚Ｈはそれぞれ、Ｇ＝０．０４λ、Ｈ＝０．０２λとした。
【０１５８】
上記のような理由により、本実施形態において種々定めた条件によりＳＡＷ共振子１０を構成することによれば、目標値を満たす良好な周波数温度特性を実現可能なＳＡＷ共振子とすることができる。
【０１５９】
また、本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０では、式（７）や図１５〜図２６に示したように、電極膜の膜厚Ｈを０＜Ｈ≦０．０３５λの範囲とした上で周波数温度特性の改善を図っている。これは、従来のように膜厚Ｈを極度に厚くして周波数温度特性の改善を図るものとは異なり、耐環境特性を維持したまま周波数温度特性の改善を実現するものである。図５４に、ヒートサイクル試験における電極膜厚（Ａｌ電極膜厚）と周波数変動との関係を示す。なお、図５４に示したヒートサイクル試験の結果は、−５５℃雰囲気下においてＳＡＷ共振子を３０分間晒した上で雰囲気温度＋１２５℃まで上昇させて３０分晒すというサイクルを８回続けた後のものである。図５４からは、電極膜厚Ｈを０．０６λにし、且つ電極指間溝を設けない場合に比べ、本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０の電極膜厚Ｈの範囲では、周波数変動（Ｆ変動）が、１／３以下になっていることを読み取ることができる。なお、図５４は何れのプロットもＨ＋Ｇ＝０．０６λとしている。
【０１６０】
また、図５４と同じ条件で製造されたＳＡＷ共振子について、１２５℃雰囲気に１０００時間放置する高温放置試験を行ったところ、従来のＳＡＷ共振子（Ｈ＝０．０６λ且つＧ＝０）に比べ、本実施形態に係るＳＡＷ共振子（Ｈ＝０．０３λ且つＧ＝０．０３λ、Ｈ＝０．０２λ且つＧ＝０．０４λ、Ｈ＝０．０１５λ且つＧ＝０．０４５λ、Ｈ＝０．０１λ且つＧ＝０．０５λの４条件）の試験前後の周波数変動量が１／３以下になることを確認した。
【０１６１】
上記のような条件の下、Ｈ＋Ｇ＝０．０６７λ（アルミ膜厚２０００Å、溝深さ４７００Å）、ＩＤＴのライン占有率ηｉ＝０．６、反射器のライン占有率ηｒ＝０．８、オイラー角（０°，１２３°，４３．５°）、ＩＤＴの対数１２０対、交差幅４０λ（λ＝１０μｍ）、反射器本数（片側あたり）７２本（３６対）、電極指の傾斜角度なし（電極指の配列方向とＳＡＷの位相速度方向が一致）、といった条件で製造されたＳＡＷ共振子１０では、図４８に示すような周波数温度特性を示すこととなる。
【０１６２】
図４８は、試験片個数ｎ＝４個による周波数温度特性をプロットしたものである。図４８によれば、これらの試験片による動作温度範囲内における周波数変動量ΔＦは約２０ｐｐｍ以下に抑制されていることを読み取ることができる。
【０１６３】
本実施形態では溝深さＧや電極膜厚Ｈ等による周波数温度特性への影響を説明してきた。しかし溝深さＧと電極膜厚Ｈを合わせた深さ（段差）は、等価回路定数やＣＩ値等の静特性やＱ値にも影響を与える。例えば図４９、段差を０．０６２λ〜０．０７１λまで変化させた場合における段差とＣＩ値との関係を示すグラフである。図４９によればＣＩ値は、段差を０．０６７λとした時に収束し、段差をそれ以上大きくした場合であっても良化しない（低くならない）ということを読み取ることができる。
【０１６４】
図４８に示すような周波数温度特性を示すＳＡＷ共振子１０における周波数と等価回路定数、および静特性を図５０にまとめた。ここで、Ｆは周波数、ＱはＱ値、γは容量比、ＣＩはＣＩ（クリスタルインピーダンス：Crystal Impedance）値、Ｍは性能指数（フィギュアオブメリット：Figure of Merit）をそれぞれ示す。
【０１６５】
また、図５２には、従来のＳＡＷ共振子と、本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０における段差とＱ値との関係を比較するためのグラフを示す。なお、図５２においては、太線で示すグラフが本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０の特性を示すものであり、電極指間に溝を設け、且つストップバンド上端モードの共振を用いたものである。細線で示すグラフが従来のＳＡＷ共振子の特性を示すものであり、電極指間に溝を設けずにストップバンド上端モードの共振を用いたものである。図５２から明らかなように、電極指間に溝を設け、且つストップバンド上端モードの共振を用いると、段差（Ｇ＋Ｈ）が０．０４０７λ（４．０７％λ）以上の領域において、電極指間に溝を設けずにストップバンド下端モードの共振を用いた場合よりも高いＱ値が得られる。
【０１６６】
なお、シミュレーションに係るＳＡＷ共振子の基本データは以下の通りである。
・本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０の基本データ
Ｈ：０．０２λ
Ｇ：変化
ＩＤＴライン占有率ηｉ：０．６
反射器ライン占有率ηｒ：０．８
オイラー角（０°，１２３°，４３．５°）
対数：１２０
交差幅：４０λ（λ＝１０μｍ）
反射器本数（片側あたり）：６０
電極指の傾斜角度なし
・従来のＳＡＷ共振子の基本データ
Ｈ：変化
Ｇ：ゼロ
ＩＤＴライン占有率ηｉ：０．４
反射器ライン占有率ηｒ：０．３
オイラー角（０°，１２３°，４３．５°）
対数：１２０
交差幅：４０λ（λ＝１０μｍ）
反射器本数（片側あたり）：６０
電極指の傾斜角度なし
【０１６７】
これらのＳＡＷ共振子の特性を比較するため図５０や図５２を参照すると、本実施形態に係るＳＡＷ共振子１０が、いかに高Ｑ化されているかを理解することができる。このような高Ｑ化は、エネルギー閉じ込め効果の向上によるものであると考えられ、以下の理由による。
【０１６８】
ストップバンドの上端モードで励振した弾性表面波を効率良くエネルギー閉じ込めするためには、図５３のように、ＩＤＴ１２のストップバンド上端の周波数ｆｔ２を、反射器２０のストップバンド下端の周波数ｆｒ１と反射器２０のストップバンド上端の周波数ｆｒ２との間に設定すれば良い。即ち、
【数４７】
の関係を満たすように設定すれば良い。これにより、ＩＤＴ１２のストップバンド上端の周波数ｆｔ２において、反射器２０の反射係数Γが大きくなり、ＩＤＴ１２から励振されたストップバンド上端モードのＳＡＷが、反射器２０にて高い反射係数でＩＤＴ１２側に反射されるようになる。そしてストップバンド上端モードのＳＡＷのエネルギー閉じ込めが強くなり、低損失な共振子を実現することができる。
【０１６９】
これに対し、ＩＤＴ１２のストップバンド上端の周波数ｆｔ２と反射器２０のストップバンド下端の周波数ｆｒ１、反射器２０のストップバンド上端の周波数ｆｒ２との関係をｆｔ２＜ｆｒ１の状態やｆｒ２＜ｆｔ２の状態に設定してしまうと、ＩＤＴ１２のストップバンド上端周波数ｆｔ２において反射器２０の反射係数Γが小さくなってしまい、強いエネルギー閉じ込め状態を実現することが困難になってしまう。
【０１７０】
ここで、式（３２）の状態を実現するためには、反射器２０のストップバンドをＩＤＴ１２のストップバンドよりも高域側へ周波数シフトする必要がある。具体的には、ＩＤＴ１２の電極指１８の配列周期よりも、反射器２０の導体ストリップ２２の配列周期を小さくすることで実現できる。また、他の方法としては、ＩＤＴ１２の電極指１８として形成された電極膜の膜厚よりも反射器２０の導体ストリップ２２として形成された電極膜の膜厚を薄くしたり、ＩＤＴ１２の電極指間溝の深さよりも反射器２０の導体ストリップ間溝の深さを浅くすることで実現できる。また、これらの手法を複数組み合わせて適用しても良い。
【０１７１】
なお図５０によれば、高Ｑ化の他、高いフィギュアオブメリットＭを得ることができているということができる。また、図５１は、図５０を得たＳＡＷ共振子におけるインピーダンスＺと周波数との関係を示すグラフである。図５１からは、共振点付近に無用なスプリアスが存在していない事を読み取ることができる。
【０１７２】
以上、説明したように、本発明に係るＳＡＷ共振子は、図４８で示す如く動作温度範囲（使用温度範囲：−４０℃〜＋８５℃）内に変曲点を有しているので、三次曲線若しくは三次曲線に近い周波数変動量の極めて小さい、約２０ｐｐｍ以下という周波数温度特性を実現できた。
【０１７３】
図５６（Ａ）は、特開２００６−２０３４０８号に開示されているＳＡＷ共振子の周波数温度特性を示すグラフである。周波数温度特性が三次曲線を示しているが、ご覧のとおり変極点が動作温度範囲（使用温度範囲：−４０℃〜＋８５℃）を超えた領域に存在しているため、実質的には図５６（Ｂ）に示す如く上に凸の頂点を有する二次曲線となる。このため、周波数変動量は１００（ｐｐｍ）という極めて大きな値となっている。
【０１７４】
それに対して、本発明に係るＳＡＷ共振子は、動作温度範囲内で三次曲線もしくは三次曲線に近い周波数変動量とし、周波数変動量を飛躍的に小さくすることを実現したのである。ＩＤＴおよび反射器に保護膜を被覆したＳＡＷ共振子における動作範囲内の周波数変動量の変化について、図５７、および図５８に示す。
【０１７５】
図５７に示す例は、電極に対して保護膜としてのアルミナを皮膜した場合における動作温度範囲内における周波数変動量を示す図である。図５７によれば、動作温度範囲内における周波数変動量は、１０（ｐｐｍ）以下とすることができることを読み取ることができる。
・図５７に示す例に係るＳＡＷ共振子の基本データ
Ｈ（材質：アルミ）：２０００（Å）
Ｇ：４７００（Å）
（Ｈ+Ｇ＝０．０６７λ）
ＩＤＴライン占有率ηｉ：０．６
反射器ライン占有率ηｒ：０．８
オイラー角（０°，１２３°，４３．５°）の面内回転ＳＴカット基板
対数：１２０
交差幅：４０λ（λ＝１０（μｍ））
反射器本数（片側あたり）：３６
電極指の傾斜角度なし
保護膜（アルミナ）の膜厚４００（Å）
二次温度係数β＝＋０．０００７（ｐｐｍ／℃２）
【０１７６】
図５８に示す例は、電極に対して保護膜としてのＳｉＯ２を皮膜した場合における動作温度範囲内における周波数変動量を示す図である。図５８によれば、動作温度範囲内における周波数変動量は、２０（ｐｐｍ）以下とすることができることを読み取ることができる。
・図５８に示す例に係るＳＡＷ共振子の基本データ
Ｈ（材質：アルミ）：２０００（Å）
Ｇ：４７００（Å）
（Ｈ+Ｇ＝０．０６７λ）
ＩＤＴライン占有率ηｉ：０．６
反射器ライン占有率ηｒ：０．８
オイラー角（０°，１２３°，４３．５°）の面内回転ＳＴカット基板
対数：１２０
交差幅：４０λ（λ＝１０（μｍ））
反射器本数（片側あたり）：３６
電極指の傾斜角度なし
保護膜（ＳｉＯ２）の膜厚４００（Å）
二次温度係数β＝＋０．００３９（ｐｐｍ／℃２）
【０１７７】
本願発明者は、上述のように設計されたＧ及びＨに対してライン占有率ηを調整することにより、二次温度係数βの絶対値を０．０１ｐｐｍ／℃２以下にすることが可能である点について言及した。一方、ストップバンドの上端モードで励振させた場合において、ライン占有率ηに変動が生じた場合に、弾性表面波の周波数温度特性が変動することを本願発明者は見出した。弾性表面波共振子を複数製造する場合に、全ての弾性表面波共振子を所望の設計ライン占有率に一致させることは困難であり、設計ライン占有率とは異なったライン占有率のものが製造される場合がある。このとき、そのライン占有率の設計ライン占有率からの変動量は一定とはならずライン占有率にバラつきが発生する。よって、弾性表面波共振子を複数製造した場合は、弾性表面波の周波数温度特性にバラつきが発生することになる。したがって、これらの原因により弾性表面波素子の動作温度範囲における周波数偏差にバラつきを発生させ、弾性表面波共振子の歩留を低下させる原因となることを本願発明者は見出した。
【０１７８】
さらに、上述のように、ライン占有率ηにバラつきが発生した場合の一次温度係数の変動量が最小になるときのライン占有率ηと、二次温度係数βが最小（−０．０１≦β≦０．０１）となるライン占有率ηの値とが互いに一致しないことも本願発明者は見出した。
そこで第２実施形態においては、二次温度係数βの値を上述の範囲に抑制するとともに、動作温度範囲の周波数温度特性において支配的に作用する一次温度係数の変動量を最小にすることが可能なＳＡＷデバイスについて説明する。
【０１７９】
図５９に第２実施形態に係るＳＡＷ共振子の模式図を示す。なお図５９において、図５９（Ａ）は第２実施形態のＳＡＷ共振子の平面図であり、図５９（Ｂ）は部分拡大断面図、図５９（Ｃ）は同図（Ｂ）における詳細を説明するための拡大図、図５９（Ｄ）は図５９（Ｃ）の部分拡大図に関して、本発明に係るＳＡＷ共振子をフォトリソグラフィ技法とエッチング技法とを用いて製造したときに想定しえる断面形状であって、断面形状が矩形ではなく台形状となった場合における、ＩＤＴ電極指の実効ライン占有率ηｅｆｆの特定方法を説明するための図である。
【０１８０】
第２実施形態のＳＡＷ共振子の基本的構成は、第１実施形態のＳＡＷ共振子１０と類似する。すなわち、ＳＡＷ共振子１１０は、水晶基板３０と、水晶基板上に形成されたＩＤＴ１１２と、ＩＤＴ１１２の両側に形成された反射器１２０を有する構成である。そしてＩＤＴ１１２は、弾性表面波（波長λ）が伝播する方向に対して、垂直な方向に延長し、且つ互いに交差する櫛歯状電極１１４ａ、１１４ｂにより形成されている。そして櫛歯状電極１１４ａは、弾性表面波の伝播方向に等間隔（λ）に並べて配置された複数の電極指１１８ａと、複数の電極指１１８ａを並列に接続するバスバー１１６ａにより構成される。同様に櫛歯状電極１１４ｂは、弾性表面波の伝播方向に等間隔（λ）に並べて配置された複数の電極指１１８ｂと、複数の電極指１１８ｂを並列に接続するバスバー１１６ｂにより構成される。よって電極指１１８ａ、電極指１１８ｂは弾性表面波の伝播方向に交互に等間隔（λ／２）で配置される。そして反射器１２０は、弾性表面波の伝播方向に等間隔（λ／２）で配置された導体ストリップ１２２を有する。そしてＳＡＷ共振子１１０は、ストップバンド上端モードにより弾性表面波を励振する。
【０１８１】
第１実施形態においては、電極指間溝３２により形成される凸部３４と電極指１８ａ、１８ｂの弾性表面波の伝搬方向の幅は一致している。しかし、本実施形態においては、電極指間溝１３２により形成される凸部１３４上の電極指１１８ａ，１１８ｂの弾性表面波の伝搬方向の幅は、凸部の弾性表面波の伝搬方向の幅より狭くなっている点で相違する。そして電極指１１８ａ、１１８ｂの弾性表面波の伝播方向の両端は、平面視して凸部１３４の弾性表面波の伝播方向の両端より内側に配置されている。よって、凸部１３４の弾性表面波の伝播方向の両端は、電極指１１８ａ、１１８ｂで覆われずに露出した状態となっている。そして同様な構成はＩＤＴ１１２の両端に配置された反射器１２０にも形成されている。
【０１８２】
図５９（Ｃ）において、凸部１３４の弾性表面波の伝播方向の幅をＬｇとし、電極指１１８ａ、１１８ｂの弾性表面波の伝搬方向の幅をＬｅとすると、
【数４８】
となる。これにより、第１実施形態と比較して、電極指１１８ａ、１１８ｂから発散される電気力線を凸部１３４が取りこむ量（立体角）が増えるので、弾性表面波の励振効率を向上させ、ＳＡＷ共振子１１０の損失を低減させることができる。
【０１８３】
ところで、第１実施形態のＳＡＷ共振子１０では、幅Ｌの凸部３４（図１参照）の両端の厚み（Ｇ）方向の段差が立ち上がる部分で弾性表面波が反射する。そしてライン占有率ηは、Ｌを調整することにより調整されるので、弾性表面波の反射位置を調整することにより二次温度係数βを最小にすることができる。また、一次温度係数の変動量は、凸部３４のライン占有率ηに依存するため、この値を調整することにより一次温度係数の変動量を最小にすることができる。しかし、このライン占有率ηに対応する凸部１３４の幅もＬとなるため、第１実施形態の構成では、二次温度係数βを最小にするライン占有率ηと、一次温度係数の変動量を最小にするライン占有率ηを同時に特定することは困難である。
【０１８４】
一方、第２実施形態のＳＡＷ共振子１１０において、幅Ｌｇの凸部１３４の両端の厚み（Ｇ）方向の段差が立ち上がる部分と、幅Ｌｅの電極指１１８ａ、１１８ｂの両端の厚み（Ｈ）が立ち上がる部分で弾性表面波が反射する。したがって、第２実施形態では電極指１１８ａ、１１８ｂは、
【数４９】
を実効幅とし、その両端位置で弾性表面波を反射するものと考えることができる。よってこのときの実効ライン占有率ηｅｆｆは、凸部１３４のライン占有率をηｇ（＝Ｌｇ／Ｐ）、電極指１１８ａ、１１８ｂのライン占有率をηｅ（＝Ｌｅ／Ｐ）とすると、
【数５０】
となる。このとき、
【数５１】
となる。よって、このηｅｆｆを調整することにより二次温度係数を調整することができる。一方、一次温度係数の変動量は、ηｇにより調整することができる。したがって、ηｅｆｆを調整することにより二次温度係数を調整し、ηｇを調整することにより一次温度係数の変動量を調整することができる。
【０１８５】
また、図５９（Ｄ）のように、電極指１１９、及び凸部１３５の幅方向の両側面が傾斜し、断面が台形状になっている場合は、電極指１１９の厚み方向の下端の幅をＬｅｂ、上端の幅をＬｅｔとする。そして凸部１３５の厚み方向の下端の幅をＬｇｂ、上端の幅をＬｇｔとする。このとき、
【数５２】
である。このとき、Ｌｅ、Ｌｇは、
【数５３】
と定義する。
【０１８６】
本願発明者は、第１実施形態のように電極指の幅Ｌｅと凸部の幅Ｌｇが一致する場合（タイプ１）と、第２実施形態のようにＬｇ＞Ｌｅとなる場合（タイプ２）の周波数偏差、ＣＩ値、一次温度係数の変動量を調査した。
【０１８７】
本調査に用いたＳＡＷデバイスは、タイプ１、タイプ２ともに、オイラー角（φ＝０°、θ＝１２３°、ψ＝４４°）、Ｇ＝０．０４６λ、Ｈ＝０．０２１λとし、またＩＤＴ電極の対数を２１０対、ＩＤＴ電極の両端にある反射器の本数を片側あたり９４本とした。
【０１８８】
まず、例１として、タイプ１では電極指のライン占有率ηｅを０．６４、凸部３４（図１参照）のライン占有率ηｇを０．６４とし、これによりライン占有率ηを０．６４とした。タイプ２では、ηｅを０．５７、ηｇを０．７１とし、実効ライン占有率ηｅｆｆを０．６４とした。
【０１８９】
次に、例２として、タイプ１では電極指１１８ａ、１１８ｂのライン占有率ηｅを０．６６、凸部１３４のライン占有率ηｇを０．６６とし、これによりライン占有率ηを０．６６とした。タイプ２では、ηｅを０．５９、ηｇを０．７３とし、実効ライン占有率ηｅｆｆを０．６６とした。すなわち、いずれの例においても、タイプ２のηｅｆｆは、タイプ１のηの値を維持しつつ、ηｇ＞ηｅとなるように調整している。また、ＣＩ値については各タイプのサンプルを多数（１７８４個）用意し、その平均値を算出した。
【０１９０】
図６０に例１におけるタイプ１とタイプ２の周波数温度特性を示し、図６１に例２におけるタイプ１とタイプ２の周波数温度特性を示す。図６０に示すように、例１では、タイプ１、タイプ２ともに変曲点となる温度（基準温度）が約２５℃となる三次関数的な曲線を描いている。また図６１に示すように、例２では、タイプ１、タイプ２ともに変曲点となる温度（基準温度）が約４０℃となる三次関数的な曲線を描いている。よって例１、例２において、タイプ１、タイプ２はともに二次温度係数βは極めて小さな値となっていることがわかる。
【０１９１】
図６０に示すように、例１において、タイプ１、タイプ２ともに、−４０°〜＋８５°における周波数偏差は１２ｐｐｍであるとともに、同様の曲線形状を有している。そして図６１に示すように、例２において、タイプ１の周波数偏差は１８ｐｐｍであり、タイプ２の周波数偏差は１６ｐｐｍである。よって、タイプ１からタイプ２に変形させても、タイプ２のηｅｆｆがタイプ１のη（ηｇ）の値を維持する限り、タイプ２はタイプ１の周波数温度特性を維持することがわかる。
【０１９２】
さらに例１では、タイプ１のＣＩ値は２３．８Ωであったが、タイプ２においては２０．１Ωに改善している。また例２では、タイプ１のＣＩ値は２２．４Ωであったが、タイプ２では１９．２Ωに改善し、例１、例２のタイプ２において低損失なＳＡＷ共振子を実現している。これは上述のように、電極指から発生する電気力線を凸部が見込む立体角が、タイプ１に比較してタイプ２の方が大きくなり、励振効率が高まったからと考えられる。
【０１９３】
次に、タイプ１、タイプ２の一次温度係数の変動量の変化を調査した。図６２にタイプ１のライン占有率ηを０．０１変化させたときの一次温度係数の変動量の変化を示し、図６３はタイプ２の実効ライン占有率ηｅｆｆを０．０１変化させたときの一次温度係数の変動量の変化を示す。本調査に用いたＳＡＷデバイスは、タイプ１、タイプ２ともに、オイラー角（φ＝０°、θ＝１２３°、ψ＝４４°）、Ｇ＝０．０４５λ、Ｈ＝０．０２λとした。
【０１９４】
図６２に示すように、タイプ１においてはη（またはηｇ）を０．６０から上昇させると単調減少し、０．７０で一次温度係数の変動量の極小値となり、０．７０以上で単調増加となる。
【０１９５】
一方、図６３に示すように、タイプ２においてはηｅｆｆを０．５３から上昇させると一次温度係数の変動量は単調減少し、０．６３で極小値となり、０．６３以上で単調増加となる。
【０１９６】
上述のように、例１のタイプ１及びタイプ２は、図６０に示すように、１２ｐｐｍという良好な周波数偏差を有している。しかし、タイプ１においては、図６２に示すように、η（またはηｇ）が０．６４のときは、一次温度係数の変動量が０．６ｐｐｍ／℃となっている。よって、ライン占有率η（ηｇ）のバラつきによる、一次温度係数のバラつき（すなわち周波数温度特性のバラつき）が顕著となる。一方、タイプ２においては、図６３のプロットから近似曲線を生成して、近似曲線上のηｅｆｆ＝０．６４を抽出すれば、一次温度係数の変動量が０．２程度になっていることがわかる。さらに図６３から、
【数５４】
とすることにより、一次温度係数の変動量を０．６ｐｐｍ／℃以下に抑制することができることがわかる。
【０１９７】
また例１のタイプ１、タイプ２のサンプルを多数（１７８４個）用意し、一次温度係数のバラつき、及び２５℃における共振周波数のバラつきを調査した。するとタイプ１の一次温度係数のバラつきの大きさを１とすると、タイプ２の一次温度係数のバラつきの大きさは０．２にまで改善されている。上述のように、タイプ１においては凸部３４（図１参照）のライン占有率ηｇが０．６４で、図６２により、一次温度係数の変動量が０．６ｐｐｍ／℃ある。一方、タイプ２においては、凸部１３４のライン占有率ηｇが０．７１で、図６２のプロットから近似曲線を生成して、近似曲線上のηｇ＝０．７１を抽出すれば、一次温度係数の変動量が０．１ｐｐｍ／℃程度と確認できる。そして、一次温度係数のバラつきは一次温度係数の変動量に比例するため、このような改善が見られたと考えられる。また２５℃における共振周波数のバラつきも、タイプ１においてその大きさを１とすると、タイプ２ではその大きさが０．５にまで改善されている。
【０１９８】
また、上述のことから、タイプ２はηｅｆｆの値と一致するηを有するタイプ１の周波数温度特性を維持したものとなっている。よって、上述の横軸をηとする全ての図においてηをηｅｆｆに置き換えて考えることができる。したがって、ηｅｆｆを、式（３９）の範囲に含まれ、かつ図１３（Ｂ）においてアルファベット順に結んで一巡する線に囲まれた範囲、すなわち上述の式（３）、式（５）、式（６）を満たす範囲に設計することにより、一次温度係数の変動量を抑制してＳＡＷ共振子１１０の動作温度範囲における周波数偏差のバラつきを抑制するとともに、二次温度係数βの絶対値を０．０１（ｐｐｍ／℃２）以下に抑制することができる。
【０１９９】
さらにηｅｆｆを式（３９）の範囲に含まれ、かつ図２７（Ａ）（０＜Ｈ≦０．００５λ）、図２８（Ａ）（０．００５λ＜Ｈ≦０．０１０λ）、図２９（Ａ）（０．０１０λ＜Ｈ≦０．０１５λ）、図３０（Ａ）（０．０１５λ＜Ｈ≦０．０２０λ）、図３１（Ａ）（０．０２０λ＜Ｈ≦０．０２５λ）、図３２（Ａ）（０．０２５λ＜Ｈ≦０．０３０λ）、図３３（Ａ）（０．０３０λ＜Ｈ≦０．０３５λ）において、図中の平面座標（Ｇ／λ、ηｅｆｆ）に示された各点をアルファベット順に結んで一巡する線に囲まれた範囲にそれぞれ含まれる範囲に設定する。これにより、一次温度係数の変動量を抑制して、周波数温度特性のバラつき、すなわちＳＡＷ共振子１１０の動作範囲における周波数偏差のバラつきを抑制するとともに、電極指の膜厚Ｈに対応して、二次温度係数βの絶対値を０．０１（ｐｐｍ／℃２）以下に抑制することができる。
【０２００】
上記実施形態では、ＳＡＷ共振子１０を構成するＩＤＴ１２、ＳＡＷ共振子１１０を構成するＩＤＴ１１２はすべての電極指が交互に交差しているように示した。しかし、本発明にかかるＳＡＷ共振子１０、ＳＡＷ共振子１１０は、その水晶基板のみによっても相当な効果を奏することができる。このため、ＩＤＴ１２における電極指１８、およびＩＤＴ１１２における電極指１１８ａ、１１８ｂを間引きした場合であっても、同様な効果を奏することができる。
【０２０１】
また、第１実施形態において、溝３２は、電極指１８間や反射器２０の導体ストリップ２２間に部分的に設けるようにしても良い。特に、振動変位の高いＩＤＴ１２の中央部は周波数温度特性に支配的な影響を与えるため、その部分のみに溝３２を設ける構造としても良い。このような構造であっても、周波数温度特性が良好なＳＡＷ共振子１０とすることができる。
【０２０２】
また、上記実施形態では、電極膜としてＡｌまたはＡｌを主体とする合金を用いる旨記載した。しかしながら、上記実施形態と同様な効果を奏することのできる金属であれば、他の金属材料を用いて電極膜を構成しても良い。さらに電極膜上にＳｉＯ２やアルミナなどの保護膜を設けても良い。
【０２０３】
また、上記実施形態はＩＤＴを一つだけ設けた一端子対ＳＡＷ共振子であるが、本発明はＩＤＴを複数設けた二端子対ＳＡＷ共振子にも適用可能であり、縦結合型や横結合型の二重モードＳＡＷフィルタや多重モードＳＡＷフィルタにも適用可能である。
【０２０４】
次に、本発明に係るＳＡＷ発振器について、図５５を参照して説明する。本発明に係るＳＡＷ発振器は図５５に示すように、上述したＳＡＷ共振子１０（ＳＡＷ共振子１１０）と、このＳＡＷ共振子１０（ＳＡＷ共振子１１０）のＩＤＴ１２に電圧を印加して駆動制御する回路となるＩＣ（integrated circuit）５０と、これらを収容するパッケージとから成る。なお、図５５において、図５５（Ａ）はリッドを除いた平面図であり、図５５（Ｂ）は、同図（Ａ）におけるＡ−Ａ断面を示す図である。
【０２０５】
実施形態に係るＳＡＷ発振器１００では、ＳＡＷ共振子１０とＩＣ５０とを同一のパッケージ５６に収容し、パッケージ５６の底板５６ａに形成された電極パターン５４ａ〜５４ｇとＳＡＷ共振子１０の櫛歯状電極１４ａ，１４ｂ、およびＩＣ５０のパッド５２ａ〜５２ｆとを金属ワイヤ６０により接続している。そして、ＳＡＷ共振子１０（ＳＡＷ共振子１１０）とＩＣ５０とを収容したパッケージ５６のキャビティは、リッド５８により気密に封止している。このような構成とすることで、ＩＤＴ１２（図１参照）とＩＣ５０、及びパッケージ５６の底面に形成された図示しない外部実装電極とを電気的に接続することができる。
【０２０６】
よって、近年の情報通信の高速化によるリファレンスクロックの高周波化に加え、ブレードサーバをはじめとする筐体の小型化に伴い、内部発熱の影響が大きくなり、内部に搭載される電子デバイスに求められる動作温度範囲の拡大や高精度化の要求、更には、屋外に設置される無線基地局など低温から高温の環境において、長期に亘って安定した動作が必要とされている市場において、本発明に係るＳＡＷ発振器は、動作温度範囲（使用温度範囲：−４０℃〜＋８５℃）で周波数変動量が約２０（ｐｐｍ）以下という極めて良好な周波数温度特性を有しているので好適である。
【０２０７】
更に、本発明に係るＳＡＷ共振子或は当該ＳＡＷ共振子を備えたＳＡＷ発振器は周波数温度特性の大幅な改善を実現しているので、例えば、携帯電話，ハードディスク，パーソナルコンピューター，ＢＳおよびＣＳ放送を受信するチューナ，同軸ケーブル中を伝播する高周波信号または光ケーブル中を伝播する光信号を処理する機器，広い温度範囲にて高周波・高精度クロック（低ジッタ、低位相雑音）を必要とされるサーバ・ネットワーク機器や無線通信用機器などの電子機器において、極めて良好な周波数温度特性と共に、ジッタ特性、位相ノイズ特性に優れた製品を実現することに大きく寄与し、さらなるシステムの信頼性と品質の向上に大きく貢献することは言うまでもない。
【符号の説明】
【０２０８】
１０………弾性表面波共振子（ＳＡＷ共振子）、１２………ＩＤＴ、１４ａ，１４ｂ………櫛歯状電極、１６ａ，１６ｂ………バスバー、１８ａ，１８ｂ………電極指、２０………反射器、２２………導体ストリップ、３０………水晶基板、３２………溝、３４………凸部、１１０………弾性表面波共振子（ＳＡＷ共振子）、１１２………ＩＤＴ、１１４ａ，１１４ｂ………櫛歯状電極、１１６ａ，１６ｂ………バスバー、１１８ａ，１１８ｂ………電極指、１１９………電極指、１２０………反射器、１２２………導体ストリップ、１３２………溝、１３４………凸部、１３５………凸部。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オイラー角（−１．５°≦φ≦１．５°，１１７°≦θ≦１４２°，４２．７９°≦｜ψ｜≦４９．５７°）の水晶基板と、
前記水晶基板上に設けられ、複数の電極指を含み、ストップバンド上端モードの弾性表面波を励振するＩＤＴと、を備え、
平面視で、前記電極指の間の位置に、前記水晶基板の窪である電極指間溝を配置し、
前記電極指間溝の間に配置されている前記水晶基板の凸部のライン占有率をηｇ、前記凸部上に配置されている前記電極指のライン占有率をηｅとし、
前記ＩＤＴの実効ライン占有率ηｅｆｆを前記ライン占有率ηｇと前記ライン占有率ηｅとの相加平均とした場合、下式の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【数５５】
【数５６】
【請求項２】
請求項１に記載の弾性表面波共振子において、
前記弾性表面波の波長をλ、前記電極指間溝の深さをＧ、前記ＩＤＴの電極膜厚をＨとし、前記電極指間溝の深さＧを前記弾性表面波の波長λで除した値Ｇ／λと、前記実効ライン占有率ηｅｆｆとによる平面座標を（Ｇ／λ、ηｅｆｆ）とした場合に、前記平面座標（Ｇ／λ、ηｅｆｆ）が、
（１）０．０００λ＜Ｈ≦０．００５λの場合、
（０．０１０、０．７１０）、（０．０２０、０．７１０）、（０．０３０、０．７１０）、（０．０４０、０．７１０）、（０．０５０、０．７１０）、（０．０６０、０．７１０）、（０．０７０、０．７１０）、（０．０８０、０．７１０）、（０．０９０、０．７１０）、（０．０９０、０．４２０）、（０．０８０、０．５７０）、（０．０７０、０．５９０）、（０．０６０、０．６１５）、（０．０５０、０．６３０）、（０．０４０、０．６３５）、（０．０３０、０．６５０）、（０．０２０、０．６７０）、（０．０１０、０．７１０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０３０、０．５９０）、（０．０４０、０．５８０）、（０．０５０、０．５５０）、（０．０６０、０．５２０）、（０．０７０、０．４８０）、（０．０８０、０．４５０）、（０．０９０、０．４００）、（０．０９０、０．１８０）、（０．０８０、０．３４０）、（０．０７０、０．４１０）、（０．０６０、０．４６０）、（０．０５０、０．４９０）、（０．０４０、０．５２０）、（０．０３０、０．５５０）、（０．０３０、０．５９０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（２）０．００５λ＜Ｈ≦０．０１０λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７４０）、（０．０３０、０．７１５）、（０．０４０、０．７３０）、（０．０５０、０．７４０）、（０．０６０、０．７３０）、（０．０７０、０．７３０）、（０．０８０、０．７３０）、（０．０８０、０．５００）、（０．０７０、０．５７０）、（０．０６０、０．６１０）、（０．０５０、０．６３０）、（０．０４０、０．６３５）、（０．０３０、０．６５５）、（０．０２０、０．６８０）、（０．０１０、０．７６０）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０２０、０．６５０）、（０．０３０、０．６１０）、（０．０４０、０．５７０）、（０．０５０、０．５５０）、（０．０６０、０．５２０）、（０．０７０、０．４７０）、（０．０７０、０．３７０）、（０．０６０、０．４４０）、（０．０５０、０．４８０）、（０．０４０、０．５２０）、（０．０３０、０．５５０）、（０．０２０、０．５９０）、（０．０２０、０．６５０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（３）０．０１０λ＜Ｈ≦０．０１５λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７６０）、（０．０３０、０．７６０）、（０．０４０、０．７５０）、（０．０５０、０．７５０）、（０．０６０、０．７５０）、（０．０７０、０．７４０）、（０．０８０、０．７４０）、（０．０８０、０．３４０）、（０．０７０、０．５４５）、（０．０６０、０．５９０）、（０．０５０、０．６２０）、（０．０４０、０．６４５）、（０．０３０、０．６７０）、（０．０２０、０．７０５）、（０．０１０、０．７６０）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０１０、０．７４０）、（０．０２０、０．６５０）、（０．０３０、０．６１０）、（０．０４０、０．５７０）、（０．０５０、０．５４０）、（０．０６０、０．４８０）、（０．０７０、０．４３０）、（０．０７０、０．３５０）、（０．０６０、０．４２０）、（０．０５０、０．４７０）、（０．０４０、０．５１０）、（０．０３０、０．５５０）、（０．０２０、０．６１０）、（０．０１０、０．７００）、（０．０１０、０．７４０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（４）０．０１５λ＜Ｈ≦０．０２０λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７７０）、（０．０３０、０．７６０）、（０．０４０、０．７６０）、（０．０５０、０．７６０）、（０．０６０、０．７５０）、（０．０７０、０．７５０）、（０．０７０、０．５１０）、（０．０６０、０．５７０）、（０．０５０、０．６２０）、（０．０４０、０．６４０）、（０．０３０、０．６６０）、（０．０２０、０．６７５）、（０．０１０、０．７００）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線の範囲、
及び、（０．０１０、０．６９０）、（０．０２０、０．６４０）、（０．０３０、０．５９０）、（０．０４０、０．５５０）、（０．０５０、０．５１０）、（０．０６０、０．４７０）、（０．０７０、０．４１５）、（０．０７０、０．２８０）、（０．０６０、０．３８０）、（０．０５０、０．４７０）、（０．０４０、０．５１０）、（０．０３０、０．５５０）、（０．０２０、０．６１０）、（０．０１０、０．６８０）、（０．０１０、０．６９０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（５）０．０２０λ＜Ｈ≦０．０２５λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７７０）、（０．０３０、０．７６０）、（０．０４０、０．７６０）、（０．０５０、０．７６０）、（０．０６０、０．７６０）、（０．０７０、０．７６０）、（０．０７０、０．５５０）、（０．０６０、０．５４５）、（０．０５０、０．５９０）、（０．０４０、０．６２０）、（０．０３０、０．６４５）、（０．０２０、０．６８０）、（０．０１０、０．７００）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０１０、０．６９０）、（０．０２０、０．６４０）、（０．０３０、０．５９０）、（０．０４０、０．５５０）、（０．０５０、０．５１０）、（０．０６０、０．４２０）、（０．０７０、０．４１５）、（０．０７０、０．３４０）、（０．０６０、０．３４０）、（０．０５０、０．４２０）、（０．０４０、０．４７０）、（０．０３０、０．５２０）、（０．０２０、０．５８０）、（０．０１０、０．６５０）、（０．０１０、０．６９０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（６）０．０２５λ＜Ｈ≦０．０３０λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７７０）、（０．０３０、０．７７０）、（０．０４０、０．７６０）、（０．０５０、０．７６０）、（０．０６０、０．７６０）、（０．０７０、０．７６０）、（０．０７０、０．５５０）、（０．０６０、０．５０５）、（０．０５０、０．５９０）、（０．０４０、０．６２０）、（０．０３０、０．６４５）、（０．０２０、０．６８０）、（０．０１０、０．７００）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０１０、０．６７０）、（０．０２０、０．６０５）、（０．０３０、０．５６０）、（０．０４０、０．５２０）、（０．０５０、０．４７０）、（０．０６０、０．３９５）、（０．０７０、０．５００）、（０．０７０、０．４９０）、（０．０６０、０．２７０）、（０．０５０、０．４１０）、（０．０４０、０．４７０）、（０．０３０、０．５２０）、（０．０２０、０．５８０）、（０．０１０、０．６２０）、（０．０１０、０．６７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（７）０．０３０λ＜Ｈ≦０．０３５λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７７０）、（０．０３０、０．７７０）、（０．０４０、０．７６０）、（０．０５０、０．７６０）、（０．０６０、０．７６０）、（０．０７０、０．７６０）、（０．０７０、０．５５０）、（０．０６０、０．５００）、（０．０５０、０．５４５）、（０．０４０、０．５９０）、（０．０３０、０．６２５）、（０．０２０、０．６５０）、（０．０１０、０．６８０）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０１０、０．６５５）、（０．０２０、０．５９０）、（０．０３０、０．５４０）、（０．０４０、０．４９５）、（０．０５０、０．４３５）、（０．０６０、０．３９５）、（０．０７０、０．５００）、（０．０７０、０．５５０）、（０．０６０、０．３８０）、（０．０５０、０．３３０）、（０．０４０、０．４１０）、（０．０３０、０．４７０）、（０．０２０、０．５２０）、（０．０１０、０．５９０）、（０．０１０、０．６５５）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれることを特徴とする弾性表面波共振子。
【請求項３】
請求項１に記載の弾性表面波共振子において、
前記電極指間溝の深さＧと前記実効ライン占有率ηｅｆｆとが
【数５７】
【数５８】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【請求項４】
請求項３に記載の弾性表面波共振子であって、
前記ＩＤＴの電極膜厚Ｈが、
【数５９】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【請求項５】
請求項４に記載の弾性表面波共振子であって、
前記実効ライン占有率ηｅｆｆが、
【数６０】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【請求項６】
請求項２、請求項４、請求項５のいずれか１項に記載の弾性表面波共振子であって、
前記電極指間溝の深さＧと前記電極膜厚Ｈとの和が、
【数６１】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の弾性表面波共振子であって、前記ψと前記θが、
【数６２】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の弾性表面波共振子であって、
前記ＩＤＴにおけるストップバンド上端モードの周波数をｆｔ２、前記ＩＤＴを弾性表面波の伝搬方向に挟み込むように配置される反射器におけるストップバンド下端モードの周波数をｆｒ１、前記反射器のストップバンド上端モードの周波数をｆｒ２としたとき、
【数６３】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の弾性表面波共振子であって、
前記反射器を構成する導体ストリップ間に導体ストリップ間溝を設け、
前記電極指間溝よりも前記導体ストリップ間溝の深さの方が浅いことを特徴とする弾性表面波共振子。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の弾性表面波共振子と、前記ＩＤＴを駆動するための回路を備えたことを特徴とする弾性表面波発振器。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項９いずれか１項に記載の弾性表面波共振子を備えたことを特徴とする電子機器。
【請求項１】
オイラー角（−１．５°≦φ≦１．５°，１１７°≦θ≦１４２°，４２．７９°≦｜ψ｜≦４９．５７°）の水晶基板と、
前記水晶基板上に設けられ、複数の電極指を含み、ストップバンド上端モードの弾性表面波を励振するＩＤＴと、を備え、
平面視で、前記電極指の間の位置に、前記水晶基板の窪である電極指間溝を配置し、
前記電極指間溝の間に配置されている前記水晶基板の凸部のライン占有率をηｇ、前記凸部上に配置されている前記電極指のライン占有率をηｅとし、
前記ＩＤＴの実効ライン占有率ηｅｆｆを前記ライン占有率ηｇと前記ライン占有率ηｅとの相加平均とした場合、下式の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【数５５】
【数５６】
【請求項２】
請求項１に記載の弾性表面波共振子において、
前記弾性表面波の波長をλ、前記電極指間溝の深さをＧ、前記ＩＤＴの電極膜厚をＨとし、前記電極指間溝の深さＧを前記弾性表面波の波長λで除した値Ｇ／λと、前記実効ライン占有率ηｅｆｆとによる平面座標を（Ｇ／λ、ηｅｆｆ）とした場合に、前記平面座標（Ｇ／λ、ηｅｆｆ）が、
（１）０．０００λ＜Ｈ≦０．００５λの場合、
（０．０１０、０．７１０）、（０．０２０、０．７１０）、（０．０３０、０．７１０）、（０．０４０、０．７１０）、（０．０５０、０．７１０）、（０．０６０、０．７１０）、（０．０７０、０．７１０）、（０．０８０、０．７１０）、（０．０９０、０．７１０）、（０．０９０、０．４２０）、（０．０８０、０．５７０）、（０．０７０、０．５９０）、（０．０６０、０．６１５）、（０．０５０、０．６３０）、（０．０４０、０．６３５）、（０．０３０、０．６５０）、（０．０２０、０．６７０）、（０．０１０、０．７１０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０３０、０．５９０）、（０．０４０、０．５８０）、（０．０５０、０．５５０）、（０．０６０、０．５２０）、（０．０７０、０．４８０）、（０．０８０、０．４５０）、（０．０９０、０．４００）、（０．０９０、０．１８０）、（０．０８０、０．３４０）、（０．０７０、０．４１０）、（０．０６０、０．４６０）、（０．０５０、０．４９０）、（０．０４０、０．５２０）、（０．０３０、０．５５０）、（０．０３０、０．５９０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（２）０．００５λ＜Ｈ≦０．０１０λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７４０）、（０．０３０、０．７１５）、（０．０４０、０．７３０）、（０．０５０、０．７４０）、（０．０６０、０．７３０）、（０．０７０、０．７３０）、（０．０８０、０．７３０）、（０．０８０、０．５００）、（０．０７０、０．５７０）、（０．０６０、０．６１０）、（０．０５０、０．６３０）、（０．０４０、０．６３５）、（０．０３０、０．６５５）、（０．０２０、０．６８０）、（０．０１０、０．７６０）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０２０、０．６５０）、（０．０３０、０．６１０）、（０．０４０、０．５７０）、（０．０５０、０．５５０）、（０．０６０、０．５２０）、（０．０７０、０．４７０）、（０．０７０、０．３７０）、（０．０６０、０．４４０）、（０．０５０、０．４８０）、（０．０４０、０．５２０）、（０．０３０、０．５５０）、（０．０２０、０．５９０）、（０．０２０、０．６５０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（３）０．０１０λ＜Ｈ≦０．０１５λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７６０）、（０．０３０、０．７６０）、（０．０４０、０．７５０）、（０．０５０、０．７５０）、（０．０６０、０．７５０）、（０．０７０、０．７４０）、（０．０８０、０．７４０）、（０．０８０、０．３４０）、（０．０７０、０．５４５）、（０．０６０、０．５９０）、（０．０５０、０．６２０）、（０．０４０、０．６４５）、（０．０３０、０．６７０）、（０．０２０、０．７０５）、（０．０１０、０．７６０）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０１０、０．７４０）、（０．０２０、０．６５０）、（０．０３０、０．６１０）、（０．０４０、０．５７０）、（０．０５０、０．５４０）、（０．０６０、０．４８０）、（０．０７０、０．４３０）、（０．０７０、０．３５０）、（０．０６０、０．４２０）、（０．０５０、０．４７０）、（０．０４０、０．５１０）、（０．０３０、０．５５０）、（０．０２０、０．６１０）、（０．０１０、０．７００）、（０．０１０、０．７４０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（４）０．０１５λ＜Ｈ≦０．０２０λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７７０）、（０．０３０、０．７６０）、（０．０４０、０．７６０）、（０．０５０、０．７６０）、（０．０６０、０．７５０）、（０．０７０、０．７５０）、（０．０７０、０．５１０）、（０．０６０、０．５７０）、（０．０５０、０．６２０）、（０．０４０、０．６４０）、（０．０３０、０．６６０）、（０．０２０、０．６７５）、（０．０１０、０．７００）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線の範囲、
及び、（０．０１０、０．６９０）、（０．０２０、０．６４０）、（０．０３０、０．５９０）、（０．０４０、０．５５０）、（０．０５０、０．５１０）、（０．０６０、０．４７０）、（０．０７０、０．４１５）、（０．０７０、０．２８０）、（０．０６０、０．３８０）、（０．０５０、０．４７０）、（０．０４０、０．５１０）、（０．０３０、０．５５０）、（０．０２０、０．６１０）、（０．０１０、０．６８０）、（０．０１０、０．６９０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（５）０．０２０λ＜Ｈ≦０．０２５λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７７０）、（０．０３０、０．７６０）、（０．０４０、０．７６０）、（０．０５０、０．７６０）、（０．０６０、０．７６０）、（０．０７０、０．７６０）、（０．０７０、０．５５０）、（０．０６０、０．５４５）、（０．０５０、０．５９０）、（０．０４０、０．６２０）、（０．０３０、０．６４５）、（０．０２０、０．６８０）、（０．０１０、０．７００）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０１０、０．６９０）、（０．０２０、０．６４０）、（０．０３０、０．５９０）、（０．０４０、０．５５０）、（０．０５０、０．５１０）、（０．０６０、０．４２０）、（０．０７０、０．４１５）、（０．０７０、０．３４０）、（０．０６０、０．３４０）、（０．０５０、０．４２０）、（０．０４０、０．４７０）、（０．０３０、０．５２０）、（０．０２０、０．５８０）、（０．０１０、０．６５０）、（０．０１０、０．６９０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（６）０．０２５λ＜Ｈ≦０．０３０λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７７０）、（０．０３０、０．７７０）、（０．０４０、０．７６０）、（０．０５０、０．７６０）、（０．０６０、０．７６０）、（０．０７０、０．７６０）、（０．０７０、０．５５０）、（０．０６０、０．５０５）、（０．０５０、０．５９０）、（０．０４０、０．６２０）、（０．０３０、０．６４５）、（０．０２０、０．６８０）、（０．０１０、０．７００）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０１０、０．６７０）、（０．０２０、０．６０５）、（０．０３０、０．５６０）、（０．０４０、０．５２０）、（０．０５０、０．４７０）、（０．０６０、０．３９５）、（０．０７０、０．５００）、（０．０７０、０．４９０）、（０．０６０、０．２７０）、（０．０５０、０．４１０）、（０．０４０、０．４７０）、（０．０３０、０．５２０）、（０．０２０、０．５８０）、（０．０１０、０．６２０）、（０．０１０、０．６７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれ、
（７）０．０３０λ＜Ｈ≦０．０３５λの場合、
（０．０１０、０．７７０）、（０．０２０、０．７７０）、（０．０３０、０．７７０）、（０．０４０、０．７６０）、（０．０５０、０．７６０）、（０．０６０、０．７６０）、（０．０７０、０．７６０）、（０．０７０、０．５５０）、（０．０６０、０．５００）、（０．０５０、０．５４５）、（０．０４０、０．５９０）、（０．０３０、０．６２５）、（０．０２０、０．６５０）、（０．０１０、０．６８０）、（０．０１０、０．７７０）の順に結ぶ線で囲まれた範囲、
及び、（０．０１０、０．６５５）、（０．０２０、０．５９０）、（０．０３０、０．５４０）、（０．０４０、０．４９５）、（０．０５０、０．４３５）、（０．０６０、０．３９５）、（０．０７０、０．５００）、（０．０７０、０．５５０）、（０．０６０、０．３８０）、（０．０５０、０．３３０）、（０．０４０、０．４１０）、（０．０３０、０．４７０）、（０．０２０、０．５２０）、（０．０１０、０．５９０）、（０．０１０、０．６５５）の順に結ぶ線で囲まれた範囲の何れかに含まれることを特徴とする弾性表面波共振子。
【請求項３】
請求項１に記載の弾性表面波共振子において、
前記電極指間溝の深さＧと前記実効ライン占有率ηｅｆｆとが
【数５７】
【数５８】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【請求項４】
請求項３に記載の弾性表面波共振子であって、
前記ＩＤＴの電極膜厚Ｈが、
【数５９】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【請求項５】
請求項４に記載の弾性表面波共振子であって、
前記実効ライン占有率ηｅｆｆが、
【数６０】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【請求項６】
請求項２、請求項４、請求項５のいずれか１項に記載の弾性表面波共振子であって、
前記電極指間溝の深さＧと前記電極膜厚Ｈとの和が、
【数６１】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の弾性表面波共振子であって、前記ψと前記θが、
【数６２】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の弾性表面波共振子であって、
前記ＩＤＴにおけるストップバンド上端モードの周波数をｆｔ２、前記ＩＤＴを弾性表面波の伝搬方向に挟み込むように配置される反射器におけるストップバンド下端モードの周波数をｆｒ１、前記反射器のストップバンド上端モードの周波数をｆｒ２としたとき、
【数６３】
の関係を満たすことを特徴とする弾性表面波共振子。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の弾性表面波共振子であって、
前記反射器を構成する導体ストリップ間に導体ストリップ間溝を設け、
前記電極指間溝よりも前記導体ストリップ間溝の深さの方が浅いことを特徴とする弾性表面波共振子。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の弾性表面波共振子と、前記ＩＤＴを駆動するための回路を備えたことを特徴とする弾性表面波発振器。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項９いずれか１項に記載の弾性表面波共振子を備えたことを特徴とする電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【図４０】
【図４１】
【図４２】
【図４３】
【図４４】
【図４５】
【図４６】
【図４７】
【図４８】
【図４９】
【図５０】
【図５１】
【図５２】
【図５３】
【図５４】
【図５５】
【図５６】
【図５７】
【図５８】
【図５９】
【図６０】
【図６１】
【図６２】
【図６３】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【図４０】
【図４１】
【図４２】
【図４３】
【図４４】
【図４５】
【図４６】
【図４７】
【図４８】
【図４９】
【図５０】
【図５１】
【図５２】
【図５３】
【図５４】
【図５５】
【図５６】
【図５７】
【図５８】
【図５９】
【図６０】
【図６１】
【図６２】
【図６３】
【公開番号】特開２０１２−１２０１３８（Ｐ２０１２−１２０１３８Ａ）
【公開日】平成２４年６月２１日（２０１２．６．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２７０９５３（Ｐ２０１０−２７０９５３）
【出願日】平成２２年１２月３日（２０１０．１２．３）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年６月２１日（２０１２．６．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１２月３日（２０１０．１２．３）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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