積層体の製造方法及び設備
【課題】製造効率を損なうことなく、干渉むらの程度が幅方向で均一な長尺の複層構造のハードコートフィルムを塗布で製造する。
【解決手段】塗膜３８の雰囲気の流れを調整する雰囲気調整手段を塗膜３８に対向するように搬送路に設けた第１乾燥装置４１で塗膜３８を乾燥する。この第１乾燥装置４１の乾燥工程において塗膜３８が所定の速度以下で乾燥する第１領域と、この第１領域よりも速くすすむ第２領域とを、予め特定しておく。特定した第２領域を、塗布位置よりも上流に配された第１加熱装置３５で加熱して、第１領域よりも高い温度にする。この第２領域の昇温により、塗膜３８の第２領域に対するしみこみ深さを大きくし、塗膜３８がセルロースアシレートフィルム３１にしみこむ深さを幅方向で一定にする。
【解決手段】塗膜３８の雰囲気の流れを調整する雰囲気調整手段を塗膜３８に対向するように搬送路に設けた第１乾燥装置４１で塗膜３８を乾燥する。この第１乾燥装置４１の乾燥工程において塗膜３８が所定の速度以下で乾燥する第１領域と、この第１領域よりも速くすすむ第２領域とを、予め特定しておく。特定した第２領域を、塗布位置よりも上流に配された第１加熱装置３５で加熱して、第１領域よりも高い温度にする。この第２領域の昇温により、塗膜３８の第２領域に対するしみこみ深さを大きくし、塗膜３８がセルロースアシレートフィルム３１にしみこむ深さを幅方向で一定にする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、支持体へしみこむ成分を含む液を支持体上へ塗布するステップ、塗膜を乾燥するステップを順に有する積層体の製造方法に関するものであり、具体的な一例としては、セルロースアシレートを含む支持体上に、支持体へしみこむ有機溶剤を溶媒として含むハードコート層形成用塗布液を塗布するステップ、乾燥するステップを順に有する光学用途ハードコートフィルムの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ハードコート層は、各種ディスプレイ、各種レンズ・ディスク、建材、雑貨などの部材表面を強化（耐傷性や耐候性などを向上）するために、以前からよく用いられている。
【０００３】
ところが、ハードコート層を光学用途部材の表面上に設けると、干渉むら（干渉縞、色むら、虹彩模様とも呼ばれる）がよく生じる。特に、高画質が期待される薄型大画面ディスプレイで表面反射防止と表面保護とを兼ねる反射防止ハードコートフィルムでは、干渉むらが致命的な欠陥となる。そのため、特に光学フィルム分野では、干渉むら対策が盛んに試みられてきた。
【０００４】
干渉むらは、ハードコート層の空気界面での反射光と、ハードコート層と支持体との界面（以下、「ハードコート層−支持体界面」と称する）での反射光とが干渉することによって生じることが古くから知られている。ハードコート層は空気より屈折率が高いので、空気界面での反射光をなくすことはできない。したがって、干渉むらを弱める有力手段としては、ハードコート層−支持体界面での反射光を弱めることが検討されてきた。
【０００５】
ハードコート層−支持体界面での反射光を弱める手段としては、（Ａ）ハードコート層と支持体の屈折率を等しくする（あるいは屈折率を極力近づける）ことが多数文献で提案されている。しかし、例えば液晶ディスプレイ用反射防止ハードコートフィルムでは、支持体が偏光板保護を兼ねているために必要な、光学異方性がないこと、親水性が良いこと等の性能を満たすことができる支持体の材質が限られており、現在は主にセルロースアシレートフィルム（特にトリアセチルセルロースフィルム）が多用されている。このように支持体の材質が限定されてしまう場合には、（Ａ）のアイデアで干渉むらを抑えようとすると、ハードコート層の屈折率を支持体と揃えなければならない。しかし、ハードコート材料の屈折率は一般的にトリアセチルセルロースの屈折率よりも高い。ハードコート層中に低屈折率物質を添加したり、トリアセチルセルロースフィルム中に高屈折率材料を添加すれば屈折率を揃えることは可能だが、添加剤を大量に使用すると材料コストが上がってしまう。また、ハードコート層中に低屈折率物質としてシリカ粒子を添加する方法も知られているが、ハードコート層の屈折率をトリアセチルセルロースフィルムに近づけるためにシリカ粒子を大量に添加すると、硬化させた際の架橋構造数が減少し、ハードコート層が本来期待されている膜硬度を保てなくなってしまう問題が起きる。
【０００６】
そこで、支持体とハードコート層との屈折率差を完全になくすことを諦めた別アイデアも種々提案されている。代表的手段としては、（Ｂ）支持体とハードコート層との間に、支持体とハードコート層の間の屈折率を持つ中間層を設けることが挙げられる。
【０００７】
中間層の形成手段も種々提案されており、（１）ハードコート層と別に１層塗布して乾燥して中間層を形成する方式、（２）ハードコート層成分と支持体成分とが混合した中間層を形成する方式、とに大別される。しかし、いずれの方式でも、ハードコート層−中間層界面または／および中間層−支持体界面を挟んで屈折率が非連続的に変化してしまう場合が多く、その場合は干渉むらが残ってしまう。なお、ハードコート層−中間層界面とはハードコート層と中間層との界面、中間層−支持体界面とは中間層と支持体との界面である。
【０００８】
発明者は、ハードコート層単層に干渉むらが残っている場合には、ハードコート層上へ干渉薄膜型反射防止層を形成すると干渉むらがより目立つようになることを発見した。一般的に前記反射防止層を多層形成するほど反射防止性能が向上することが知られているが、反射防止層を多層形成して表面反射率を下げれば下げるほど干渉むらが目立ってしまうことも分かった。特に、ハードコート層中に防眩粒子が入っておらず、ハードコート層透明性が高い品種の場合、干渉むらの問題は深刻である。
【０００９】
また発明者は、ハードコート層形成用塗液の乾燥むらで塗膜面内に微小な膜厚むらが生じただけでも顕在化してしまうことにも気づいた。反射防止ハードコートフィルムのハードコート層形成用塗液の溶媒としてよく用いられる有機溶剤は概して乾燥速度が速いため、乾燥ゾーン内の溶媒乾燥速度に関係するパラメーター（例えば膜面風速や環境温度など）が塗膜面内で不均一な場合、面内の乾燥速度差が大きく、膜厚むらができやすい。また、反射防止ハードコートフィルムのハードコート層は、塗布速度すなわち生産速度を上げるためになるべく溶媒量を多くして塗液を低粘度にしたいのだが、塗液を低粘度にするほど、乾燥速度不均一時に起きる膜厚むらは大きくなってしまう。
【００１０】
乾燥時に起きる膜厚むらを低減させるためには、塗膜の粘度が特に低い初期乾燥工程を低乾燥速度環境にすることがよく行われる。例えば特許文献１では、塗布直後に塗膜面に対向する数ｍｍ隔てた位置に板を配置し、塗膜上の空間を狭くして溶媒蒸発ガス濃度を上げ、その空間に塗膜付き支持体を連続搬送させて、塗膜からの溶媒乾燥速度を０．１ｇ／ｍ２・ｓ以下に抑えることにより、初期乾燥時に起きる膜厚むらを低減させることを提案している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００４−２９０９６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかし、特許文献１など数多くある精密乾燥先行技術のどれを組み合わせて試しても、ハードコート層の干渉むらは、干渉型反射防止層の下地として認容できないレベルまでにしか抑えられなかった。本発明者は、ハードコート層は膜厚によって干渉むらが見えやすかったり、逆に見えにくかったりすることを経験的につかんだため、なるべく干渉むらが見えにくくなる塗布量に予め調節して塗布したが、支持体幅方向中央部の干渉むらが狙い通り許容範囲内になった場合は支持体幅方向端部の干渉むらがなぜか悪く、ハードコート層の塗布量を増減させると今度は支持体幅方向端部の干渉むらが許容範囲内である一方、支持体幅方向中央部の干渉むらが悪くなってしまう、という現象に悩まされた。
【００１３】
支持体幅方向中央部の干渉むらレベルが許容範囲内になるように塗布量を設定し、干渉むらレベルが許容限度を超えてしまう支持体幅方向端部を廃棄する手も考えられなくはないが、原材料・廃棄コストアップになるので避けたい。
【００１４】
また、ハードコート層は厚くするほど干渉むらは弱くなる傾向があるので、ハードコート層の膜厚を支持体全幅にわたってどこまでも増やしていけば、支持体幅方向中央部も端部も干渉むらレベルを許容範囲内に抑えることは可能である。しかし、ハードコート層を厚くするだけで干渉むらレベルをクリア反射防止ハードコートフィルムの許容範囲内に抑えるためには、数十μｍもの膜厚にすることが必要になる。それでは、幅方向で一部を切除・廃棄する上述の方法と同様、大きくコストアップしてしまう。さらに、ハードコート層を数十μｍもの厚みにしてしまうと、乾燥工程後に通常行うことが多い紫外線硬化工程にてハードコート層が大きくカールしてしまい、ハードコート層上に干渉薄膜型反射防止層を均一塗布することが極めて困難になる。また、たとえ塗布がなんとかできたとしても、膜面から数ｍｍしか離れていない位置に配置されることが多い乾燥ゾーンの板に支持体が引っ掛かり、フィルムが傷ついたり、フィルムが傷ついた際に発塵して製品に点欠陥が生じてしまうのを避けることは極めて困難であることが想定された。
【００１５】
したがって、ハードコート層の膜厚を極力厚くせずに、干渉むらレベルを支持体幅方向中央部も端部も許容限度内に収める製造条件を確立することが、特に干渉薄膜多層型反射防止ハードコートフィルムでは最重要課題であることが分かった。
【００１６】
そこで本発明者が鋭意分析および解析を行った結果、初期乾燥工程では支持体幅方向中央部に比べて幅方向端部の溶媒蒸発ガス濃度が低くなりがちで、支持体幅方向端部の乾燥速度が中央部より速くなりがちであることが分かった。するとハードコート層塗膜の一部が支持体にしみこんで中間層を形成する際、支持体幅方向端部ではより早く塗膜の固形分濃度が上昇し、それによって支持体へのしみこみが停止して、ハードコート成分が支持体へしみこんだ中間層部分の厚みが比較的薄く、支持体へしみこまずに残ったハードコート層部分が比較的厚くなる。
【００１７】
その結果、支持体幅方向端部と中央部では中間層厚みおよびハードコート層厚みに差が生じる。支持体幅方向で中間層・ハードコート層膜厚に差が生じると、前述の通り、支持体幅方向のある部分で干渉むらレベルが比較的弱くなるように設計して塗布・乾燥を行っても、支持体幅方向の異なる部分では干渉むらレベルがちょうど悪くなってしまう膜厚になってしまうことが避けられない。つまり、なるべくハードコート層を薄くし、かつ支持体幅方向のどこでも干渉むらレベルを許容範囲内に収めるためには、中間層厚みおよびハードコート層厚みを支持体幅方向均一にすることが必要であることが分かった。
【００１８】
そのためには、仮にハードコート層を支持体幅方向均一に塗布した場合、初期乾燥工程でハードコート層の支持体へのしみこみ量を支持体幅方向均一にしなければならない。しみこみ量は主に乾燥速度で支配されるので、しみこみ量を支持体幅方向均一にするためには溶媒乾燥速度を支持体幅方向均一にしなければならない、とまず考えた。
【００１９】
そこで、溶媒乾燥速度を幅方向均一にするために、特に支持体幅方向端部に着目して様々な溶媒乾燥速度均一化策を講じたが、支持体端部を中央部と同程度の乾燥条件（溶媒蒸発ガス濃度・風速・温度）にするのは極めて困難であることが次第に分かってきた。
【００２０】
乾燥速度を支持体幅方向均一にするのが困難だと分かったため、次には、乾燥速度を上げて速く溶媒を蒸発させ、塗膜中の固形分濃度を上げて速くしみこみを停止させればいいのではないかと考えた。しかし、乾燥速度を上げるために風を強く吹かせると、予想していたことではあるが、強風のせいで乾燥ムラが起きて干渉むらが悪化してしまった。
【００２１】
そこで次に、乾燥速度を上げるための支持体全幅加熱を試みた。その結果、驚くべきことが起きた。ハードコート成分の支持体へのしみこみ量の幅方向不均一が若干でも良化することを期待、予想していたのだが、かえって極度に悪化してしまったのである。
【００２２】
この驚くべき現象について鋭意考察した結果、初期乾燥時における加熱がハードコート層成分の支持体へのしみこみを促進しているらしいことに想到した。そして、この原理、現象を利用すれば、支持体幅方向の任意の位置でハードコート層の支持体へのしみこみ量を制御することができるだろうことにも想到した。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明は、塗布液の塗布により形成される塗布層と、前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層とを備える積層体の製造方法において、支持体に、前記塗布液を塗布して塗膜を形成する塗布工程と、前記塗膜周囲の雰囲気の流れと、前記雰囲気における前記塗膜から蒸発した溶剤成分の濃度との少なくとも一方を調整する雰囲気調整手段に前記塗膜を対向させて、前記塗膜の初期乾燥をすすめる初期乾燥工程と、前記初期乾燥工程における前記塗膜の初期乾燥が所定の速度ですすむ前記支持体の第１領域とこの第１領域よりも相対的に初期乾燥が速くすすむ第２領域とを予め特定しておき、初期乾燥工程で前記第２領域の温度が前記第１領域よりも高くなるように、前記支持体を加熱する加熱工程を有することを特徴として構成されている。
【００２４】
前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層は前記セルロースアシレートからなるセルロースアシレート層であり、前記塗布層は透明であり、前記塗布工程では、搬送されている前記支持体としてのセルロースアシレートフィルムに、塗布液を塗布して塗膜を形成し、初期乾燥工程では、雰囲気調整手段に塗膜が対抗するようにセルロースアシレートフィルムを搬送しながら、塗膜の初期乾燥をすすめることが好ましい。
【００２５】
前記加熱工程では、前記初期乾燥工程における前記第２領域の乾燥速度が大きいほど、前記初期乾燥工程における温度がより高くなるように前記第２領域を加熱することが好ましい。
【００２６】
前記塗布工程では、（１）ローラの周面に巻き掛けられて支持されたセルロースアシレートフィルムに塗布液を塗布し、前記加熱工程は、前記ローラの上流に配される加熱手段により、ローラに向かうセルロースアシレートフィルムの第２領域を加熱すること、または、（２）ローラの周面に巻き掛けられて支持されたセルロースアシレートフィルムに前記塗布液を塗布し、前記加熱工程は、前記ローラの周面のうち第２領域が接触する接触領域を加熱することにより、第２領域を加熱することが好ましい。
【００２７】
初期乾燥工程の間に塗膜の一部がしみこんだセルロースアシレートフィルムのしみこみ領域から形成され、セルロースアシレートと塗布層の成分とが混在する中間層を積層体は有し、初期乾燥工程における第２領域の温度と、中間層の厚み及び塗布層の厚みとの関係を予め求めておき、前記関係に基づいて加熱工程における第２領域の温度を設定し、設定された値となるように加熱工程での加熱を行うことが好ましい。
【００２８】
所定の固さに達した塗膜に乾燥気体を吹き付けることにより塗膜を乾燥させる乾燥促進工程を有し、初期乾燥工程では、乾燥促進工程よりも小さな乾燥速度で、所定の固さになるまで塗膜の初期乾燥をすすめることが好ましい。
【００２９】
また、本発明は、塗布液の塗布により形成される塗布層と、前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層とを備える積層体の製造方法において、支持体に、塗布液を塗布して塗膜を形成する塗布工程と、前記塗膜周囲の雰囲気の流れと、雰囲気における塗膜から蒸発した溶剤成分の濃度との少なくとも一方を調整する雰囲気調整手段に塗膜を対向させて、塗膜の初期乾燥をすすめる初期乾燥工程と、初期乾燥工程における塗膜の初期乾燥が所定の速度ですすむ支持体の第１領域とこの第１領域よりも相対的に初期乾燥が速くすすむ第２領域とを予め特定しておき、初期乾燥工程で第１領域の温度が第２領域よりも低くなるように、支持体を冷却する冷却工程を有することを特徴として構成されている。
【００３０】
さらに、本発明は、塗布液の塗布により形成される塗布層と、前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層とを備える積層体の製造設備において、前記支持体に、前記塗布液を塗布して塗膜を形成する塗布装置と、前記塗膜と対抗して設けられ、塗膜周囲の雰囲気の流れと前記雰囲気における塗膜から蒸発した溶剤成分の濃度との少なくとも一方を調整する雰囲気調整手段と、雰囲気調整手段を有し塗膜の初期乾燥をすすめる初期乾燥装置と、初期乾燥装置における塗膜の初期乾燥が所定の速度ですすむ支持体の第１領域とこの第１領域よりも相対的に乾燥が速くすすむ第２領域とが特定されると、初期乾燥で第２領域の温度が第１領域よりも高くなるように支持体を加熱する加熱装置とを備えることを特徴として構成されている。
【００３１】
上記積層体の製造設備は、前記支持体としてのセルロースアシレートフィルムを搬送する搬送手段を備え、前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層は前記セルロースアシレートからなるセルロースアシレート層であり、塗布層は透明であり、塗布装置は、搬送手段により搬送されているセルロースアシレートフィルムに塗布液を塗布し、雰囲気調整手段は、塗膜に対向するように前記セルロースアシレートフィルムの搬送路に沿って設けられ、加熱装置は、前記塗布液が塗布される塗布位置の上流に配されていることが好ましい。
【発明の効果】
【００３２】
本発明によれば、側端部の干渉むらを抑えて、干渉むらの程度が幅方向で均一な積層体、例えば複層構造のハードコートフィルムを、製造効率を低下させることなく、長尺に塗布で製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明により製造する積層体としてのハードコートフィルムの断面図である。
【図２】ハードコートフィルムを用いた反射防止シートの断面図である。
【図３】フィルム製造設備の概略図である。
【図４】第１乾燥装置における塗膜の初期乾燥の説明図である。（ａ）は図３のVI−VI線に沿う断面図である。（ｂ）は、塗膜が形成されたセルロースアシレートフィルムを、塗膜の露出面の垂直方向から見た平面図である。（ｃ）は塗膜の乾燥速度を示すグラフである。（ｄ）はしみこみ領域の厚みを表すグラフである。
【図５】第１加熱装置の概略図である。
【図６】第４乾燥装置の概略図である。
【図７】第５乾燥装置の概略図である。
【図８】本発明の別の実施形態としての雰囲気調整手段の概略斜視図である。
【図９】さらに別の実施形態としての雰囲気調整手段の概略平面図である。
【図１０】本発明の別の実施形態であるフィルム製造設備の概略図である。
【図１１】本発明のさらに別の実施形態であるフィルム製造設備の概略図である。
【図１２】第２加熱装置による加熱方法を示す説明図である。
【図１３】第２加熱装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
本発明により製造される積層体は、図１のハードコートフィルム１０のように、セルロースアシレート層１１と、ハードコート層１２と、ハードコート層１２の成分及びセルロースアシレートが混在する中間層１３とを備える。このように、本発明により製造することができる積層体は複層構造をもつ。セルロースアシレート層１１は、セルロースアシレートから成る。ハードコート層１２は、セルロースアシレート層１１の一方の表面（以下、第１面と称する）１１ａを保護したり、このハードコートフィルム１０を例えば液晶ディスプレイ等の表示装置の露出部材として用いた場合にこのハードコートフィルム１０よりも内部に配される部材を保護する。
【００３５】
セルロースアシレート層１１とハードコート層１２とはいずれも透明であるが、構成する材料が互いに異なることから、結果的に屈折率も互いに異なる。セルロースアシレート層１１のセルロースアシレートとしてはセルローストリアセテート（ＴＡＣ）が好ましい。
【００３６】
ハードコート層１２は、後述のように、セルロースアシレートから成るフィルム（以下、セルロースアシレートフィルムと称する）の一方の面上に、塗布液（以下、ハードコート塗布液）を塗布することにより形成される。中間層１３は、塗布されたハードコート塗布液が乾燥されてハードコート層１２を形成するまでの間に、形成される。すなわち、ハードコート塗布液は塗布されるとその一部がセルロースアシレートフィルムに前記一方の面からしみこみ、しみこんだ領域が中間層１３となる。セルロースアシレートフィルムのうち、ハードコート塗布液がしみこまない非しみこみ領域がセルロースアシレート層１１となる。
【００３７】
なお、セルロースアシレートフィルムに代えて他のフィルムを用いてもよい。他のフィルムが非透明である場合には、セルロースアシレート層１１に代えて形成される層は、非透明なものとなる。
【００３８】
以上のようにハードコートフィルム１０は、セルロースアシレート層１１と中間層１３とハードコート層１２との３層を有する。ただし、セルロースアシレート層１１と中間層１３との境界、中間層１３とハードコート層１２との境界は、目視で確認することができる程に明確である必要はない。例えば、これらの各境界は、表示装置等に用いる光源の光をハードコートフィルム１０に入射した際に、光路の変化が認められる程度のものであってもよいし、光路の変化が明確には認められなくても各層１１，１２，１３を成す成分が異なるという成分的な境界であればよい。
【００３９】
なお、ハードコート層１２に代えて、塗布により形成される他の塗布層としてもよい。他の塗布層を形成する場合であっても、セルロースアシレートフィルムのように塗布液がしみこみ可能な素材に塗布液を塗布する場合には、通常は中間層１３が形成される。セルロースアシレートフィルムに塗布液を塗布する場合には、中間層１３が特に形成されやすい。セルロースアシレートは、多くの液体との親和性をもつので、塗布されるとその塗布液により膨潤したり塗布液に溶解するからである。もっとも、本発明においては、中間層１３を意図的ないし積極的に形成する。中間層１３を形成することにより、塗布層としてのハードコート層１２とハードコート塗布液を塗布するセルロースアシレートフィルムとの接着力をより高めることができる。また、中間層１３を形成しない場合には、セルロースアシレート層１１とハードコート層１２との界面において光が反射するが、このような光の反射を、中間層１３を形成することにより低減することができる。本実施形態では、塗布液として、透明な塗布層を形成するようなものを用いているが、本発明はこれに限定されない。
【００４０】
なお、セルロースアシレート層１１には、各種添加剤を含ませてもよい。ハードコート層１２は、紫外線（ＵＶ）等の光を照射することで硬化したいわゆる光硬化性ポリマー、あるいは熱により硬化した熱硬化性ポリマーで形成されてあることが好ましい。
【００４１】
本発明により製造される積層体は、上記のような３層に他の層を加えたものも含む。例えば、図２に示すような反射防止ハードコートフィルムも本発明の積層体の一態様である。図２においては、図１と同じ構成部材については図１と同じ符号を付し、説明を略す。反射防止ハードコートフィルム２０は、セルロースアシレート層１１と、ハードコート層１２と、中間層１３と、反射防止部材２１とを備える。反射防止ハードコートフィルム２０は、所期のサイズのシートにカットされていてもよい。
【００４２】
反射防止部材２１は、セルロースアシレート層１１とハードコート層１２と中間層１３とからなる薄膜体を形成した後に、形成する。反射防止部材２１は、ハードコート層１２の露出面に設けられる。反射防止部材２１は、ハードコートフィルム１０に照射光が第１フィルム面１０ａから入射する際に、第１フィルム面１０ａにおける反射を低減する。なお、反射防止ハードコートフィルム２０を液晶ディスプレイ等の表示装置に用いる場合には、表示装置の光源側がセルロースアシレート層１１、表示装置の視認側が反射防止部材２１となるように、反射防止ハードコートフィルム２０を配する。
【００４３】
反射防止部材２１は、単層構造と複層構造とのいずれであってもよい。単層構造と複層構造とのいずれにするかは、照射光の屈折率に応じて決定する。複層構造の場合には、反射防止部材２１が所期の反射防止機能を発現するように、層数と各層の屈折率とを決定する。
【００４４】
中間層１３は、セルロースアシレートフィルムに対するハードコート塗布液のしみこみによって形成され、ハードコート層１２の成分とセルロースアシレートとを含むので、セルロースアシレート層１１とハードコート層１２とのいずれとも異なる屈折率をもつ。中間層１３の屈折率は、セルロースアシレート層１１の屈折率とハードコート層１２の屈折率との間である。中間層１３の屈折率は、ハードコートフィルム１０の厚み方向において均一である場合もあるし、不均一である場合もある。
【００４５】
塗布層がハードコート層１２である場合には、塗布されたハードコート塗布液が後述のように乾燥工程と硬化工程とを経ることにより、ハードコート塗布液の硬化成分が重合してポリマーが生成する。中間層１３の屈折率の厚み方向でのプロファイルは、セルロースアシレートフィルムの中にしみこんだハードコート塗布液のうち硬化成分が重合したポリマーの、中間層１３の厚み方向での濃度プロファイルに対応する。
【００４６】
ハードコート層１２は、通常、セルロースアシレート層よりも屈折率が高い。したがって、ハードコートフィルム１０の厚み方向における屈折率は、セルロースアシレート層１１が最も低く、ハードコート層１２が最も高く、中間層１３がセルロースアシレート層１１とハードコート層１２との間の値になる。
【００４７】
中間層１３の厚み方向における屈折率のプロファイルは、セルロースアシレートフィルムの成分と、ハードコート塗布液の成分と、ハードコート層１２を形成する諸条件等に応じて異なる態様となる。
【００４８】
セルロースアシレート層１１の厚みＴ１１は、用いるセルロースアシレートフィルムの厚みと形成される中間層１３の厚みＴ１３とによるので、特に限定されない。ハードコート層１２の厚みＴ１２は、好ましくは０．１μｍ以上１００μｍ以下の範囲、より好ましくは０．８μｍ以上２０μｍ以下の範囲である。なお、ハードコート層１２の厚みＴ１２が０．１μｍ以上であると、０．１μｍ未満の場合と比べてハードコートとしての前述の作用が確実に得られる。また、本発明は、中間層１３の厚みＴ１３を、０．１μｍ以上２０μｍ以下の範囲とする場合に効果が大きく、０．８μｍ以上１０μｍ以下の範囲とする場合に効果が特に大きい。中間層１３の厚みＴ１３が０．１μｍ以上の場合には、０．１μｍ未満の場合に比べて、塗膜３８（図３参照）の乾燥速度の幅方向Ｚ２（図４参照）における差によって、干渉むらの程度が幅方向で異なりやすくなるからである。また、中間層１３の厚みＴ１３が２０μｍ以下の場合には、２０μｍを超える場合に比べて、干渉むらレベルの違いが目立つからである。
【００４９】
セルロースアシレート層１１の厚みＴ１１と、ハードコート層１２の厚みＴ１２と、中間層１３の厚みＴ１３とは、それぞれ、一定であることが好ましい。３層１１，１２，１３の中でも特にハードコート層１２につき、干渉むら抑制の観点で、厚みＴ１２を一定にすることが好ましい。また、３層１１，１２，１３の中でも特に中間層１３につき、ハードコートフィルム１０での干渉むらの程度を均一にする観点で、その厚みＴ１３を一定にすることが好ましい。中間層１３の厚みが一定とは、ハードコート層１２と中間層１３とセルロースアシレート層１１との各界面が明瞭であろうと不明瞭であろうと、各界面に凹凸があろうとなかろうと、塗膜３８がセルロースアシレートフィルム３１（図３参照）にしみこんだときに、しみこみ領域の厚みが一定であることを意味する。
【００５０】
干渉むらは、前述の通り、ハードコートフィルム１０の各位置における光の反射と各反射光同士の干渉により発現する色のむらである。具体的には、ハードコート層１２側から照射した光が、外部の空気とハードコート層１２と界面、ハードコート層１２と中間層１３との界面、中間層１３とセルロースアシレート層との界面のそれぞれにおいて反射し、これらの反射光の干渉でおきる色のむらである。したがって、中間層１３の厚みが所定方向で不均一であると、その所定方向における干渉むらの程度は不均一となる。また、中間層１３は、後述のようにハードコート層１２の形成に伴って形成されるので、中間層１３の厚みが所定方向で不均一であると、その所定方向におけるハードコート層１２の厚みも不均一になり、干渉むらの程度の不均一さはさらに顕著になる。
【００５１】
そこで、本発明では、セルロースアシレート層１１の厚みＴ１１及びハードコート層１２の厚みＴ１２を、長尺のハードコートフィルム１０の幅方向で一定にするのみならず、中間層１３の厚みＴ１３を長尺のハードコートフィルム１０の幅方向で一定にする。これにより、干渉むらの程度を幅方向で均一にする。
【００５２】
積層体の製造設備及び方法について以下説明する。図３には、積層体としてのハードコートフィルム１０を製造するフィルム製造設備３０を例として挙げる。フィルム製造設備３０は、図３に示すように、周方向に回転することにより、周面に接したセルロースアシレートフィルム３１を搬送する搬送手段としての複数のローラ３２を備える。フィルム製造設備３０は、セルロースアシレートフィルムの搬送路の上流側から順に、セルロースアシレートフィルム３１の所定領域を加熱する第１加熱装置３５、ハードコート塗布液３６をセルロースアシレートフィルム３１に塗布する塗布装置３７、ハードコート塗布液３６からなる塗膜３８を乾燥する第１乾燥装置４１と第２乾燥装置４２と第３乾燥装置４３、光源４６を備える。図３では、セルロースアシレートフィルム３１の搬送方向に符号Ｚ１を付す。
【００５３】
塗布装置３７は、供給されたハードコート塗布液３６を流出口から流出する塗布ダイ４７と、セルロースアシレート３１の搬送路に挟むように塗布ダイ４７とは反対側に配され、セルロースアシレートフィルム３１を非塗布面側から支持する支持ローラ４８とを備える。塗布ダイ４７は、セルロースアシレートフィルム３１の幅方向に延びたスリット形状の流出口（図示せず）を先端に有し、この先端を搬送路に向けて配される。支持ローラ４８は、駆動手段（図示せず）を備え、この駆動手段により、断面円形の中心の軸４８ａを回転の中心として周方向に回転する駆動ローラである。支持ローラ４８は、ローラ３２により案内されてきたセルロースアシレートフィルム３１を周面で支持し、周方向に回転することにより搬送する。搬送されているセルロースアシレートフィルム３１に対して塗布ダイ３１から連続的にハードコート塗布液３６を流出することにより、セルロースアシレートフィルム３１の一方のフィルム面に塗膜３８が形成される。
【００５４】
塗膜３８は、本実施形態では、乾燥する前の厚みが１μｍ以上１５０μｍ以下の範囲となるように形成してある。これにより、前述のような厚みＴ１３が０．１μｍ以上２０μｍ以下の範囲の中間層１３を形成することができる。ただし、乾燥前の塗膜３８の厚みは、形成すべきハードコート層１２の厚みＴ１２と、ハードコート塗布液３６の処方とに基づいて適宜設定するものであるので、上記範囲に限定されない。
【００５５】
支持ローラ４８は、駆動ローラでなくてもよく、軸４８ａを中心に回動自在に設けられ、ローラ３２で搬送されているセルロースアシレートフィルム３１が周面に接触すると回転するいわゆるフリーローラであってもよい。
【００５６】
塗布ダイ４７から流出したハードコート塗布液３６がセルロースアシレートフィルム３１に接触し始める塗布位置は、搬送されているセルロースアシレートフィルム３１のうち、支持ローラ４８に巻きかけられて支持されている範囲とすることが好ましい。
【００５７】
塗布ダイ４７から流出したハードコート塗布液３６がセルロースアシレートフィルム３１に接触し始める塗布位置に近接して、被測定物の温度を非接触で測定する温度測定手段（図示せず）が配されてある。この温度測定手段により、塗布位置におけるセルロースアシレートフィルム３１の温度を測定する。
【００５８】
塗布位置の上流に配してある第１加熱装置３５は、塗布位置におけるセルロースアシレートフィルム３１の所定領域が所定の温度になるように、支持ローラ４８に向かうセルロースアシレートフィルム３１を加熱する。なお、図３に示す態様では、第１加熱装置３５を、セルロースアシレートフィルム３１を非塗布面側から加熱するように、非塗布面側に配してある。しかし、第１加熱装置３５を塗布面側に配して、セルロースアシレートフィルム３１を塗布面側から加熱してもよい。第１加熱装置３５の詳細については、別の図面を用いて後述する。
【００５９】
塗布位置の下流に配する第１乾燥装置（初期乾燥装置）４１は、搬送路を囲むようにして温度及び湿度を調整すべき空間を外部空間と仕切るチャンバ５１と、チャンバ５１に所定の温度及び湿度の気体を所定の流量で送り込む第１送風機５２と、第１送風機５２から送り出す気体の温度及び湿度と流量とを制御する第１コントローラ５３とを備える。
【００６０】
チャンバ５１には、第１送風機５２からの気体が供給される供給口（図示せず）と、内部の雰囲気を外部に排出する排出口（図示せず）とが形成されてある。セルロースアシレートフィルム３１がチャンバ３１に案内されると、塗膜３８に含まれるハードコート塗布液３６の溶剤成分が蒸発する。蒸発した溶剤成分、すなわち溶剤ガスの濃度が一定量を超えないように、供給口からの気体の供給と、排気口からの雰囲気の排出とを行う。
【００６１】
チャンバ５１の外部には、案内された雰囲気から溶剤ガスを除去して、この雰囲気をチャンバ５１に供給する気体として再利用するように回収する第１回収機５５が備えられる。この第１回収機５５により、排気口から排出された雰囲気は、溶剤ガスを除去された後に第１送風機５２に送られる。このようにして、チャンバ５１に送る気体は循環して利用する。ただし、チャンバ５１に送る第１送風機５２の気体は、チャンバ５１の内部の雰囲気を再利用したものでなくてもよい。この場合には、第１回収機５５では、案内されてきた雰囲気から溶剤ガスを除去し、外部に排気する。
【００６２】
第１乾燥装置４１は、塗膜３８に対向するように、セルロースアシレートフィルム３１の搬送路に沿って並んで配される複数の雰囲気調整手段５４を備える。各雰囲気調整手段５４は、セルロースアシレートフィルム３１の搬送方向に延びている板である。各雰囲気調整手段５４は、搬送されているセルロースアシレートフィルム３１の塗膜３８と対向する対向面がセルロースアシレートフィルム３１の搬送路と略平行な面である。
【００６３】
塗膜３８の周辺の雰囲気は、塗膜３８を備えるセルロースアシレートフィルム３１の搬送によって流れだしたり、流れの方向や流速が変化したりする。雰囲気調整手段５４は、これらの現象を抑制するように、塗膜３８の周囲の雰囲気の流れを調整する。これにより、塗膜３８に厚みむらが発生することを防止する。このように、雰囲気調整手段５４は、塗膜３８の側縁よりも外側から塗膜３８の上方に雰囲気が流れこむことを防ぐいわゆる遮風板として作用したり、塗膜３８の雰囲気の流れる方向や流れる速度が変化することを防ぐいわゆる整流板として作用する。この雰囲気調整手段５４を用いることにより、塗膜３８は、第１乾燥装置４１の下流に配される第２乾燥装置４２、第３乾燥装置４３よりも遅い乾燥速度で乾燥がすすむ。
【００６４】
第２乾燥装置４２は、第１乾燥装置４１のチャンバ５１、第１送風機５２、第１コントローラ５３とそれぞれ同じ構成のチャンバ５７と、第２送風機５８と、第２コントローラ５９とを備える。
【００６５】
チャンバ５７の外部には、第１回収機５５と同様の構成をもつ第２回収機６０を備え、この第２回収機６０により、チャンバ５７に送る気体を循環して再利用してもよい。
【００６６】
第２乾燥装置４２は、第１乾燥装置４１と異なり、雰囲気調整手段５４が配されてはいないので、塗膜３８上には、第２送風機５８から供給される乾燥気体がわずかに流れており、このような雰囲気の流れにより塗膜３８の乾燥がすすむ。この第２乾燥装置４２では、雰囲気の流れにより塗膜３８の厚みが不均一にならないように、所定の固さに達した後の塗膜３８を乾燥する。このように、第２乾燥装置４２では、第１乾燥装置４１におけるよりも大きな乾燥速度で塗膜３８の乾燥をすすめる乾燥促進工程を行う。
【００６７】
第３乾燥装置４３は、チャンバ６１と、チャンバ６１の内部に配されるダクト６２と、ダクト６２に乾燥気体を供給する第３送風機６３と、第３送風機６３から送り出す乾燥気体の温度及び湿度と流量とを制御する第３コントローラ６６を備える。
【００６８】
ダクト６２には、乾燥空気を塗膜３８に向けて流出する流出ノズル６７と、塗膜３８上方の雰囲気を吸引する吸引ノズル６８とが、搬送方向Ｚ１に交互に形成されてある。このダクト６２からの乾燥空気の吹きつけにより、塗膜３６の乾燥をさらにすすめる。
【００６９】
ダクト６２には排気口（図示せず）が形成されてある。この排気口は、吸引ノズル６８から吸引したチャンバ５７の内部の雰囲気をチャンバ５７の外部へ排出する。これにより、チャンバ６１の内部は溶剤ガスの濃度を一定値以下に抑えられる。
【００７０】
チャンバ５７の外部には、ダクト６２の排気口に接続し、第１回収機５５と同様の構成をもつ第３回収機６９を備えてもよい。この第３回収機６９により、ダクト６２に送る気体を循環して再利用してもよい。
【００７１】
図３のフィルム製造設備は、第２乾燥装置４２と第３乾燥装置４３との両方を備えるが、必ずしもこの態様である必要はない。つまり、乾燥すべき塗膜３８の固さとその塗膜の乾燥速度とに応じて、第２乾燥装置４２と第３乾燥装置４３とのいずれか一方で乾燥を促進させてもよい。
【００７２】
本実施形態では、ハードコート塗布液３６における硬化成分として紫外線硬化性のものを用いてある。そこで、光源４６は紫外線を射出するものとしてある。この光源４６は、搬送されてくるセルロースアシレートフィルム３１の塗膜３８に紫外線を照射する。この紫外線の照射により、乾燥した塗膜３８に含まれる硬化成分が重合して硬化し、塗膜３８からハードコート層１２が形成される。
【００７３】
なお、塗膜３８の一部は、乾燥する間にセルロースアシレートフィルム３１の中にしみこむ。光源４６からのＵＶは、セルロースアシレートフィルム３１における塗膜３８のしみこみ領域にまで達するので、しみこんだ塗膜３８の硬化成分をも硬化させる。これにより、しみこみ領域は、中間層１３となる。
【００７４】
第１乾燥装置４１における塗膜３８の乾燥について、図４を参照しながら具体的に説明する。図４においては、セルロースアシレートフィルム３１の幅方向を矢線Ｚ２で示す。また、図４においては、セルロースアシレートフィルム３１の搬送方向Ｚ１を上向きに採ったときにおける、セルロースアシレートフィルム３１と塗膜３８との各右側縁に符号３１ｅ（Ｒ）と３８ｅ（Ｒ）とを付し、各左側縁に符号３１ｅ（Ｌ）と３８ｅ（Ｌ）とを付す。図４の（ｃ）及び（ｄ）の横軸における符号「ｃ」は、幅方向Ｚ２での中央を意味する。
【００７５】
塗膜３８は、セルロースアシレートフィルム３１の幅方向Ｚ２における全域ではなく、図４の（ａ）及び（ｂ）に示すように、セルロースアシレートフィルム３１の両側端部を非塗布域として残すように形成される。つまり、塗膜３８の右側縁３８ｅ（Ｒ）は、セルロースアシレートフィルム３１の右側縁３１ｅ（Ｒ）よりも内側に、また、塗膜３８の左側縁３８ｅ（Ｌ）は、セルロースアシレートフィルム３１の左側縁３１ｅ（Ｌ）よりも内側に、それぞれ位置する。雰囲気調整手段５４は、塗膜３８のみならず、セルロースアシレートフィルム３１の幅よりも大きな幅をもつ。つまり、雰囲気調整手段の側縁は、セルロースアシレートの側縁３１ｅ（Ｒ），３１ｅ（Ｌ）よりも外側に位置する。これにより、塗膜３８の上方にある雰囲気の流れをより確実に調整することができる。なお、雰囲気調整手段５４は、遮風板として作用させる場合には、セルロースアシレートフィルム３１からの距離Ｄが１０ｍｍ以下の範囲で一定、かつ、塗膜３８と接触しない程度となるように、配されることが好ましい。
【００７６】
塗膜３８の第１乾燥装置４１における乾燥速度は、位置によって異なる。具体的には、塗膜３８の各側端部３８ｓは中央部３８ｃよりも乾燥速度が大きい。そして、各側端部３８ｓは、中央部３８ｃとの境界から側縁３８ｅ（Ｒ），３８ｅ（Ｌ）に向かうに従い乾燥速度が大きくなる。これは、塗膜３８の側端部３８ｓの雰囲気は、中央部３８の雰囲気よりも溶剤ガスの濃度が低いので、溶剤ガスの拡散速度がより大きいからである。側端部３８ｓと中央部３８ｃとの乾燥速度に差が現れる現象は、雰囲気調整手段５４を用いる場合には特に顕著である。乾燥速度を幅方向で略均一にする方法は、種々提案されているので、このような公知の方法を本発明に適用してもよい。しかし、これらの公知の方法で達成することができる乾燥速度の均一化には限界があり、本願発明はフィルム幅方向で乾燥速度が均一ではない状況を前提とし、それでもフィルム幅方向で干渉むらの程度を均一にしようとするための技術である。
【００７７】
乾燥速度が大きい領域は、小さい領域よりも、塗膜３８における固形分の濃度が速く高くなる。固形分濃度が徐々に高くなり一定のレベルに達するとしみこみが停止する。したがって、図４の（ｃ）のように側端部３８ｓと中央部３８との乾燥速度が異なる塗膜３８を、第１加熱装置３５を用いることなしに乾燥させた場合には、セルロースアシレートフィルム３１のうち塗膜３８の一部がしみこんだしみこみ領域の厚みは、図４の（ｄ）の二点鎖線に示すように側端部３８ｓと中央部３８ｃとで異なるものとなる。そして、側端部では、中央部との境界から側縁に向かうに従いしみこみ領域の厚みが小さくなる。したがって、得られるハードコートフィルムにおける中間層１３の厚みも、（ｄ）の二点鎖線で示すグラフと同様の形状となる。
【００７８】
本発明では、第１加熱装置３５を用いることにより、しみこみ領域の幅方向Ｚ２における厚みを、図４の（ｄ）の実線で示すように一定にする。具体的には、まず、セルロースアシレートフィルム３１のうち、塗膜の中央部３８ｃが形成される領域を第１領域３１ｃ、側端部３８ｓが形成される領域を第２領域３１ｂとして特定しておく。すなわち、第１乾燥装置４１での乾燥が所定の速度ですすむ領域を第１領域３１ａとし、この第１領域３１ａよりも相対的に乾燥が速くすすむ領域を第２領域３１ｂとして予め特定する。そして、第２領域３１ｂを第１加熱装置３５による加熱対象とし、この加熱により、初期乾燥工程での第２領域３１ｂの温度を第１領域３１ａの温度よりも高くする。これにより、塗膜３８の乾燥速度が側端部３８ｓと中央部３８ｃとで異なる場合であっても、厚みが幅方向Ｚ２で一定である中間層１３を形成する。幅方向Ｚ２における厚みプロファイルが一定の中間層１３を形成することにより、積層体であるハードコートフィルム１０の干渉むらの程度が幅方向Ｚ２で均一になる。
【００７９】
例えば、幅１５００ｍｍのセルロースアシレートフィルム３１を用い、雰囲気調整手段５４とセルロースアシレートフィルム３１との距離を５ｍｍとした第１乾燥装置４１では給排気を実施せずに雰囲気の温度を２３℃、塗膜３８の乾燥速度を０．０５ｇ／ｍ２・ｓとし、第２乾燥装置４２にも雰囲気調整手段５４を設けて、この雰囲気調整手段５４とセルロースアシレートフィルム３１との距離を５ｍｍとした第２乾燥装置４２では給気風量を１５ｍ３／ｍｉｎ、雰囲気の温度を３５℃とした場合には、塗布開始時における第１領域３１ａの温度は２０℃以上２５℃以下の範囲とすることが好ましい。これに対し、第２領域３１ｂの温度はさらに高い温度とし、５０℃以上６０℃以下の範囲とすることが好ましい。
【００８０】
セルロースアシレートフィルム３１の幅を大きくしてこの幅が雰囲気調整手段５４の幅に近づくほど、幅方向Ｚ２での（フィルム端部と中央部の）乾燥速度の差は大きくなるので、第２領域３１ｂの加熱温度はフィルム幅が比較的小さい時より高くする。また、第１乾燥装置４１でのフィルム幅方向平均乾燥速度を大きくするほど、フィルム幅方向全体で乾燥が速く進んで塗膜の固形分濃度が早く高くなり、塗液のしみこみ停止が早くなって、幅方向Ｚ２でのしみこみ量の差は小さくなるので、第２領域３１ｂの加熱温度は第１乾燥装置４１でのフィルム幅方向平均乾燥速度が比較的大きい時より低くする。第１乾燥装置４１で給気をし、さらに排気も行う場合には、給気口近傍の乾燥速度がフィルム中央部の乾燥速度より大きくなり、排気口近傍の乾燥速度もフィルム中央部の乾燥速度より大きくなるため、乾燥速度の差に応じて第２領域３１ｂの温度を決める。第１乾燥装置４１で塗膜３８近傍の全面上方から給気する場合には、側縁に近いほど乾燥速度がより大きくなるので、フィルム側縁の温度をより高くする。第１乾燥装置４１で塗膜３８近傍の全面上方から排気する場合は、側縁に近いほど乾燥速度がより大きくなるので、フィルム側縁の温度をより高くする。第１乾燥装置４１で乾燥速度が比較的速い領域（第２領域３１ｂ上）の塗膜３８の温度を、乾燥速度が比較的遅い領域（第１領域３１ａ上）の塗膜３８の温度よりも高くすることによって、しみこみ領域の厚みを幅方向で均一にするという本発明の技術思想を踏まえて、第１領域３１ａと第２領域３１ｂとの温度は、セルロースアシレートフィルム３１の幅、雰囲気調整手段５４と塗膜３８との距離、給排気の有無、送風の方向、雰囲気の温度など、セルロースアシレートフィルム３１の幅方向Ｚ２における各位置における乾燥速度を考慮して決定すればよい。
【００８１】
第１加熱装置３５による加熱は以下の方法で行う。第１加熱装置３５は、図５に示すように、セルロースアシレートフィルム３１の搬送路の非塗布面側に設けてある。第１加熱装置３５は、セルロースアシレートフィルム３１に対向する対向部がヒータ７２とされてある。第１加熱装置３５は、それぞれヒータ７２からの発熱量を制御するコントローラ７３を有する。なお、図５では、説明の便宜上、各ヒータ７３及びそれらの配列ピッチを、セルロースアシレートフィルム３１及び塗膜３８に対して大きく描いてある。
【００８２】
第１加熱装置３５は、セルロースアシレートフィルム３１の搬送路の塗布面側に配してもよい。
【００８３】
第１加熱装置３５は、複数のヒータ７２を備え、複数のヒータ７２は、セルロースアシレートフィルム３１の幅方向Ｚ２に並ぶ。
【００８４】
コントローラ７３は、これらのヒータ７２を独立して制御し、各ヒータ７２のオン・オフの切替を含めた各ヒータ７２からの発熱量を制御する。コントローラ７３には、各ヒータ７２のオン・オフの情報に関する信号とオンにするヒータ７２の発すべき熱量の情報に関する信号とが予め入力されてあり、これらの信号に基づいて各ヒータ７２を制御する。
【００８５】
第１加熱装置３５は、複数のヒータ７２のうち、セルロースアシレートフィルム３１の第２領域３１ｂが通過するものがオンとされる。これにより、第１領域３１ａよりも第２領域３１ｂの方が、塗膜３８がセルロースアシレートフィルム３１の中にしみこみやすくなり、しみこみ領域の厚みが増す。これは、第２領域３１ｂにおける塗膜３８の成分の拡散速度が第１領域３１ａにおける拡散速度よりも大きくなるからである。
【００８６】
第２領域３１ｂで乾燥速度が大きくなる位置が通過するヒータ７２ほど、その発熱量を大きくするとよい。これにより、第２領域３１ｂにおけるしみこみ領域の厚みを一定にすることができる。また、第１乾燥装置４１における乾燥速度が大きくなる場合ほど、ヒータ７２の発熱量を大きくして、初期乾燥工程における第２領域３１ｂの温度をより高くすることが好ましい。
【００８７】
ただし、第２領域３１ｂの温度を高くするほど、塗膜３８の第１乾燥装置４１における乾燥速度も速くなり、高くしすぎると、むしろ塗膜３８の乾燥が促進されてしまい、塗膜の固形分濃度が早く高くなり、しみこみ領域の厚みの増加を抑制することになる。第１乾燥装置４１における初期乾燥速度が大きい箇所ほど、塗布位置における第２領域３１ｂの温度が高くなるように加熱することによってしみこみ成分のしみこみを促進するのが本願発明の目的なので、その加熱設定温度は、第１乾燥装置４１における第２領域３１ｂ上の塗膜３８の乾燥を促進しすぎて塗膜の固形分濃度を高くしてしまい、逆にしみこみを抑制してしまうほどの高温にはしない所定範囲とする。すなわち、塗膜３８の乾燥速度としみこみ速度とのバランスをとるように塗布位置における第２領域３１ｂの温度を設定することが好ましく、その方法としては以下の方法が挙げられる。
【００８８】
まず、初期乾燥工程時の第２領域３１ｂの温度、すなわち塗布位置における第２領域３１ｂの温度と、得られるハードコートフィルム１０における中間層１３の厚みとの関係を予め求めておく。そして、求めた前記関係に基づいて、塗布位置における第２領域３１ｂの温度を設定する。設定された温度になるように、第２領域３１ｂを第１加熱装置３５で暖める。この方法によると、塗膜３８の乾燥が促進されることなくしみこみ領域の厚みを増加させるような第２領域３１ｂの塗布位置における温度を求めることができる。
【００８９】
初期乾燥工程時の第２領域３１ｂの温度と、得られるハードコートフィルム１０における中間層１３の厚み及びハードコート層１２の厚みとの関係を予め求めておくことがさらに好ましい。これにより、塗膜３８のセルロースアシレート層１１における拡散もより考慮して、ハードコート層１２の厚みをより確実に幅方向Ｚ２で一定にすることができる。
【００９０】
初期乾燥工程時の第２領域３１ｂの温度と、得られるハードコートフィルム１０における中間層１３の厚みとの関係に代えて、塗布開始時の第２領域３１ｂの温度と、しみこみ領域の厚みとの関係としてもよい。
【００９１】
さらに、ハードコート塗布液３６のしみこみは、塗布開始時から２秒ないし２０秒経過した時点で停止することが多い。第１領域３１ａと第２領域３１ｂとを特定するための乾燥速度の測定は、ハードコート塗布液３６のしみこみが停止する時点以降であれば、ハードコートフィルム１０の製造中でも行うことができる。このように、製造過程で乾燥速度を測定して、第１領域３１ａと第２領域３１ｂとを特定した場合には、特定した第２領域３１ｂの信号をコントローラ７３に入力して第１加熱装置３５を制御するというフィードバック制御を実施してもよい。なお、塗布されたハードコート塗布液３６のしみこみが停止するまでの上記時間は、ハードコート塗布液３６の処方や乾燥条件等により変わる。
【００９２】
なお、しみこみ領域の厚みの大小は、乾燥する前の塗膜３８の温度と乾燥過程の所定時点における塗膜３８の温度との差によっても概ね検出することができる。塗膜３８のうち、乾燥速度が速い領域ほど、蒸発潜熱で温度が大きく下がるので、塗膜３８の温度を検出して乾燥する前と比べて、幅方向Ｚ２で温度が大きく下がる領域を第２領域３１ｂとして特定してもよい。
【００９３】
以上の方法により、搬送速度を下げることなく、しみこみ領域の厚みを幅方向Ｚ２で均一にすることができる。結果として、製造効率は低下することなく長尺の積層体であるハードコートフィルム１０を製造することができ、また、長尺の積層体であるハードコートフィルム１０においては、中間層１３も幅方向Ｚ２で均一な厚みとなるとともに、さらにハードコート層１２も幅方向Ｚ２で均一な厚みとなるので、得られる積層体であるハードコートフィルム１０は干渉むらの程度が幅方向Ｚ２で一定なものとなる。
【００９４】
なお、セルロースアシレートフィルム３１の温度を高くしすぎると、しみこみ領域の厚みの増加作用を超えて塗膜３８の乾燥が促進されるという現象を利用し、第１領域３１ａを塗膜３８の乾燥が促進されるように第２領域３１ａよりも大幅に昇温してもよい。これにより、第２領域３１ａのしみこみ領域の厚みを小さく抑える。この方法も、製造効率を低下させない点で有効である。この方法は、第１領域３１ａを加熱するための加熱装置（図示せず）を、一方の第１加熱装置３５と他方の第１加熱装置３５との間に配することにより実施することができる。
【００９５】
第２の実施形態では、第１乾燥装置４１に代えて、図６に示す第４乾燥装置８０を用いる。図６においては、図３の第１乾燥装置４１と同じ部材、装置については同じ符号を付し、説明を略す。第４乾燥装置８０は、搬送路を囲むようにして温度及び湿度を調整すべき空間を外部空間と仕切るチャンバ８１と、チャンバ８１に配される雰囲気調整部８４と、第１送風機５２と、第１回収機５５とを備える。なお、第１乾燥装置と同様に第１コントローラ５３が設けられてあるが、図示は略す。
【００９６】
雰囲気調整部８４は、雰囲気調整手段５４とダクト８６とからなり、チャンバ８１の内部に設けられる。ダクト８６は、雰囲気調整手段５４よりも外側、すなわち、セルロースアシレートフィルムの搬送路側とは反対側に設けられる。第１送風機５２は、ダクト８６に接続し、所定の温度及び湿度に調整した気体をダクト８６に供給する。ダクト８６の給気口（図示せず）は、雰囲気調整手段５４と対向するように形成されており、気体を雰囲気調整手段５４に向けて流出する。
【００９７】
雰囲気調整手段５４は、ダクト８６からの気体の流れ方向を調整する整流板として作用する。これにより、塗膜３８は、ダクト８６からの気体の吹き付けにより厚みが不均一になることもなく、流れが調整された気体の送り込みにより乾燥がすすむ。
【００９８】
第４乾燥装置８０を用いた場合にも、塗膜３８の乾燥速度のグラフは、第１乾燥装置４１を用いた場合と同様の図４の（ｃ）のグラフと同様に凹形状になる。第４乾燥装置８０を用いると第１乾燥装置４１を用いるよりも側端部３８ｓの乾燥速度が大きくなる傾向があり、側端部３８ｓでの曲線は、図４の（ｃ）の曲線よりも傾きが急になる。このような場合でも、第１加熱装置３５により、セルロースアシレートフィルム３１の第２領域３１ｂを塗布前に予め加熱しておくことにより、第２領域３１ｂでのしみこみ領域の厚みを増加させ、幅方向Ｚ２で一定の厚みをもつ中間層１３を形成することができる。
【００９９】
第３の実施形態では、第１乾燥装置４１に代えて、図７に示す第５乾燥装置９０を用いる。図７においては、図３の第１乾燥装置４１と同じ部材、装置については同じ符号を付し、説明を略す。第５乾燥装置９０は、搬送路を囲むようにして温度及び湿度を調整すべき空間を外部空間と仕切るチャンバ９１と、雰囲気調整部９４と、第１送風機５２と、第１回収機５５とを備える。なお、第１乾燥装置４１と同様に第１コントローラ５３が設けられてあるが、図示は略す。
【０１００】
雰囲気調整部９４は、雰囲気調整手段５４と給気ダクト９６と排気ダクト９７とからなり、チャンバ８１の内部に設けられる。給気ダクト９６は、雰囲気調整手段５４の一方の側縁よりも外側に配され、排気ダクト９７は、他方の側縁よりも外側に配される。これにより、給気ダクト９６から、雰囲気調整手段５４と塗膜３８との間に気体を供給し、塗膜３８の雰囲気は排気ダクト９７で吸引されて外部の第１回収機５５に案内される。
【０１０１】
雰囲気調整手段５４は、給気ダクト９６及び排気ダクト９７による気体の流れ方向を調整する整流板として作用する。これにより、塗膜３８は、給気ダクト９６からの気体の吹き付けにより厚みが不均一になることなく、流れが調整された気体の送り込みにより乾燥がすすむ。
【０１０２】
第５乾燥装置９０を用いた場合には、塗膜３８の乾燥速度は、図４の（ｃ）とは異なり、幅方向Ｚ２で非対称のグラフとなる。具体的には、給気ダクト９６側の側端部３８ｂは、排気ダクト側の側端部３８ｂよりも乾燥速度が大きい。この場合であっても、塗膜３８の乾燥速度が所定の速度よりも大きくなるセルロースアシレートフィルム３１の第２領域３１ｂを特定して、特定した第２領域３１ｂのみを第１乾燥装置３５のヒータ７２で加熱し、特定した第２領域が通過するヒータ７２の発熱量を独立して制御することにより、しみこみ領域の厚みを調整することができる。
【０１０３】
図３，４，６，７に示す実施形態では、雰囲気調整手段５４として、両面が平らな板を用いた場合を図示してあるが、他の形状の雰囲気調整手段を用いてもよい。例えば、雰囲気調整手段として以下のような多孔板や網状物を用いることができる。
【０１０４】
図８に示すように、第４の実施形態における雰囲気調整手段１５４は、厚み方向Ｚ３に貫通する孔１５５が複数形成されてある多孔板である。雰囲気調整手段１５４では、複数の孔１５５がマトリックス状に並ぶように形成されているが、千鳥状に並ぶように形成されてもよい。
【０１０５】
図９に示すように、第５の実施形態における雰囲気調整手段２５４は、金属等の線条体２５５を編んだ網状物である。互いに同じ方向に配される各線条体２５５の距離は、一定としてあるが、不均一であってもよい。また、線条体２５５は、９０°の角度で互いに交差するように編まれているが、公差角度はこれに限定されない。
【０１０６】
多孔板である雰囲気調整手段１５４や、網状物である雰囲気調整手段２５４は、塗膜３８から蒸発した溶剤成分の、塗膜３８のまわりの雰囲気における濃度を調整する作用をもつ。雰囲気調整手段１５４，２５４は、雰囲気調整手段５４よりも、塗膜３８の雰囲気における溶剤成分の濃度を低めに保持する。ただし、この比較は、雰囲気調整手段５４，１５４，２５４のいずれの温度も、雰囲気の温度以上にした場合におけるものである。塗膜３８の雰囲気の流れを調整する作用は、多孔板における孔の形成密度や網における線条体と線条体との隙間の大きさが小さいほど、弱い。
【０１０７】
第６の実施形態では、フィルム製造設備３０に代えて、図１０に示すフィルム製造設備１００を用いる。フィルム製造設備１００は、フィルム製造設備３０の第１乾燥装置４１に代えて第６乾燥装置１０１を備える。
【０１０８】
第６乾燥装置１０１は、雰囲気調整手段１０３とこの雰囲気調整手段１０３の温度を制御するコントローラ１０４とからなる第１の雰囲気調整部１０５を有する。第１の雰囲気調整部１０５は、セルロースアシレートフィルム３１の搬送路に沿って複数備えられてある。なお、第６乾燥装置１０１は、図３に示す第１乾燥装置４１と同様に、搬送路及び複数の第１の雰囲気調整部１０５を囲むチャンバ５１と、第１送風機５２と、第１コントローラ５３と、第１回収機５５とを備えるが、これらの図示は略す。第１送風機５２を用いる場合には、セルロースアシレートフィルム３１の搬送方向Ｚ１における下流から上流に向けて塗膜３８と平行に気体を流すように、すなわち、流出する気体が移動する塗膜３８に対して向かい風になるように、第１送風機５２を配してもよい。なお、第１送風機５２と第１コントローラ５３と第１回収機５５とは、用いなくてもよい。
【０１０９】
雰囲気調整手段１０３はクーラ１０７を備えるコンデンサ（凝縮器）である。雰囲気調整手段１０３は、クーラ１０７がセルロースアシレートフィルム３１の搬送路に対向するように配される。クーラ１０７は、雰囲気よりも低い温度に保持され、コントローラ１０４により温度が制御される。このクーラ１０７による冷却により、雰囲気に含まれる溶剤成分がクーラ１０７の表面で凝縮して液体となる。このように、気体となった溶剤成分がクーラ１０７の表面で液体となることにより、塗膜３８から蒸発した溶剤成分の前記雰囲気における濃度が調整される。この濃度調整により、塗膜３８の乾燥が第１乾燥装置４１におけるよりも速くすすむ。
【０１１０】
各雰囲気調整手段１０３は、起立した姿勢で保持される。各雰囲気調整手段１０３の下方には、液体を回収する回収容器（図示無し）が設けられる。クーラ１０７の表面に付着した液体の溶剤成分は、クーラ１０７の表面を流れ落ちて、回収容器で回収される。
【０１１１】
雰囲気調整手段１０３で液体となった溶剤成分を上記のように回収するために、第６乾燥装置１０１では、セルロースアシレートフィルム３１の搬送路が水平とは交差する向きにされ、下流に向かうに従い徐々に傾きが小さくなるように設定されてあるととともに、塗膜３８が上向きとなるようにされてある。これにより、搬送路と略平行に配する各雰囲気調整手段１０３を、起立した姿勢で配することができる。また、第６乾燥装置１０１から第２乾燥装置４２、第３乾燥装置４３と下流に向かうに従い、搬送路は徐々に水平に近づくように傾きが小さくされる。
【０１１２】
なお、雰囲気調整手段１０３は、塗膜３８の雰囲気の流れを調整する作用も備える。
【０１１３】
この第６乾燥装置１０１を用いた場合にも、塗膜３８の乾燥速度のグラフは、第１乾燥装置４１を用いた図４の（ｃ）のグラフと同様に凹形状になる。第６乾燥装置１０１を用いると第１乾燥装置４１を用いるよりも側端部３８ｓの乾燥速度が大きくなる傾向があり、側端部３８ｓでの曲線は、図４の（ｃ）の曲線よりも傾きが急になる。このような場合でも、第１加熱装置３５により、セルロースアシレートフィルム３１の第２領域３１ｂを塗布前に予め加熱しておくことにより、第２領域３１ｂでのしみこみ領域の厚みを増加させ、幅方向Ｚ２で一定の厚みをもつ中間層１３を形成することができる。
【０１１４】
雰囲気調整手段１０３の、クーラ１０７をヒータ（図示無し）に代えてもよい。この場合には、ヒータとして赤外線ヒータを用いることが好ましい。ヒータを有する雰囲気調整手段（図示無し）の場合には、これを雰囲気調整手段１０３のように起立した姿勢にして配する必要は無い。
【０１１５】
第７実施形態では、フィルム製造設備３０に代えて、図９に示すフィルム製造設備１１０を用いる。フィルム製造設備１１０は、フィルム製造設備３０の第１乾燥装置４１に代えて第７乾燥装置１１１を備える。
【０１１６】
第７乾燥装置１１１は、第６乾燥装置と同様に、第１の雰囲気調整部１０５を、セルロースアシレートフィルム３１の搬送路に沿って複数備える。第７乾燥装置は、さらに、雰囲気調整手段１１３とこの雰囲気調整手段１１３の温度を制御するコントローラ１１４とからなる第２の雰囲気調整部１１５を有する。第２の雰囲気調整部１１５も、セルロースアシレートフィルム３１の搬送路に沿って複数備えられてある。なお、第６乾燥装置１０１は、図３に示す第１乾燥装置４１と同様に、搬送路及び複数の第１、第２の雰囲気調整部１０５，１１５を囲むチャンバ５１と、第１送風機５２と、第１コントローラ５３と、第１回収機５５とを備えるが、これらの図示は略す。なお、第１送風機５２と第１コントローラ５３と第１回収機５５とは、用いなくてもよい。
【０１１７】
雰囲気調整手段１１３は、セルロースアシレートフィルム３１の搬送路を挟んで、雰囲気調整手段１０３とは反対側のエリアに設けられる。雰囲気調整手段１１３は、ヒータ１１７を備え、ヒータ１１７がセルロースアシレートフィルム３１の搬送路に対向するように配される。各雰囲気調整手段１１３は、起立した姿勢で保持される。
【０１１８】
ヒータ１１７は、雰囲気よりも高い温度に保持され、コントローラ１１４により温度が制御される。このヒータ１１７による加熱により、塗膜３８からの溶剤の蒸発がより促される。これにより、クーラ１０７の表面で凝縮して液体となる溶剤成分の単位時間における量も増える。このように、塗膜３８から蒸発した溶剤成分の前記雰囲気における濃度が調整されるとともに、乾燥が第６乾燥装置１０１（図８参照）よりも速くすすむ。
【０１１９】
なお、雰囲気調整手段１１３も、塗膜３８の雰囲気の流れを調整する作用をもつ。
【０１２０】
フィルム製造設備１００，１１０では、第１加熱装置３５を、支持ローラ４８よりも上流の搬送路に関し、セルロースアシレートフィルム３１の非塗布面側に配してあるが、塗布面側に配してもよい。
【０１２１】
以上のフィルム製造設備１０，１００，１０１では、支持ローラ４８に向かうセルロースアシレートフィルム３１の第２領域３１ｂに対して、第１加熱装置３５により加熱を実施するが、他の態様でもよい。他の態様の例を以下に説明する。
【０１２２】
第８実施形態で用いる第２加熱装置１２１は、図１２及び図１３に示すように、複数のヒータ１２２を備える。複数のヒータ１２２は、第１加熱装置３５（図３参照）と同様に、第２加熱装置１２１の一方向に並ぶように配される。第２加熱装置１２１は、支持ローラ４８の周面に対向するように配されるとともに、複数のヒータ１２２の並ぶ方向が支持ローラ４８の長手方向に一致するように配される。第２加熱装置１２１も、第１加熱装置３５と同様に、コントローラ７３（図５参照）を備え、このコントローラ７３により、複数のヒータ１２２は独立して発熱のオン・オフと、オンにした場合の発熱量とを制御される。
【０１２３】
支持ローラ４８の周面のうち、セルロースアシレートフィルム３１の第２領域３１ｂが接触する領域を接触領域と称する。複数のヒータ１２２のうち、接触領域に対向するヒータ１２２を特定する信号がコントローラ７３に入力されると、コントローラ７３は、特定されたヒータ１２２をオンにする。これにより、第２加熱装置１２１は、非接触で支持ローラ４８を加熱し、この支持ローラ４８を介して間接的に第２領域３１ｂを昇温する。そして、オンにするヒータ１２２が複数ある場合には、第２領域３１ｂのうち乾燥速度が大きい位置ほど高い温度になるように、各ヒータ１２２の発熱量を独立して制御する。
【０１２４】
塗布位置は、支持ローラ４８上とされる。セルロースアシレートフィルム３１は、塗布位置よりも上流から塗布位置に至るまでの領域を、支持ローラ４８の周面に巻き掛けられる。これにより、加熱された接触範囲４８ｂに接する第２領域が昇温する。図１３では、巻き掛け範囲を符号ＲＷで示す。ただし、巻き掛け範囲ＲＷの下流端は、塗布位置より下流でもよい。
【０１２５】
第２加熱装置１２１は、セルロースアシレートフィルム３１が支持ローラ４８から離れる支持解除位置から巻き掛け範囲ＲＷの上流端に至る範囲のいずれに対向する位置に配してもよい。
【０１２６】
図１３に示す支持ローラ４８は、駆動手段（図示）によって回転するいわゆる駆動ローラとしているが、搬送手段により搬送されているセルロースアシレートフィルム３１に接することにより回転するいわゆるフリーローラであってもよい。
【０１２７】
本実施形態では、支持ローラ４８の接触領域４８ｂを、第２加熱装置１２１のヒータ１２２により加熱する。ヒータ１２２としては、赤外線ヒータが好ましい。また、支持ローラ４８の接触領域４８ｂを加熱する方法として他の方法を用いてもよい。例えば、支持ローラ４８の内部に伝熱媒体の流路を形成し、所定温度の伝熱媒体を支持ローラ４８の内部に送り込むことによって、接触領域４８ｂを昇温させてもよい。ただし、伝熱媒体の送り込みは、支持ローラ４８さらには塗布ダイ４７の微小な振動を招くこともあるので、本実施形態のように、支持ローラ４８に接触することなく、外部から周面を加熱する方法がより好ましい。
【０１２８】
上記のいずれの実施形態も、塗布位置における第２領域３１ｂを、第１領域３１ａよりも高い温度となるように、塗布前に予め加熱している。ただし、しみこみ領域の厚みを幅方向Ｚ２で一定にするという観点では、第２領域３１ｂを加熱することなく第１領域３１ａを冷却してもよいし、第２領域３１ｂの加熱と第１領域３１の冷却とを併せて実施してもよい。第１領域３１ａを冷却することは、後工程である乾燥工程での乾燥効率を下げることを意味する。そこで、乾燥効率、すなわち積層体の製造効率を保持する観点では、第１領域３１ａを冷却することなく第２領域３１ｂを加熱することがより好ましい。
【０１２９】
上記の製造方法及び設備は、長尺のセルロースアシレートフィルム３１を搬送しながら、塗布及び乾燥させるものであるが、本発明はこれに限定されない。すなわち、積層体の支持体としてのセルロースアシレートフィルム３１を静置した状態で、このセルロースアシレートフィルム３１に対してハードコート塗布液３６を塗布したり、塗膜を乾燥してもよい。
【符号の説明】
【０１３０】
１０ ハードコートフィルム
１１ セルロースアシレート層
１２ ハードコート層
１３ 中間層
２０ 反射防止ハードコートフィルム
３０，１００，１１０ フィルム製造設備
３１ セルロースアシレートフィルム
３５，１２１ 第１，第２加熱装置
３７ 塗布装置
３８ 塗膜
４１，８０，９０，１０１，１１１ 第１，第４〜第７乾燥装置
４８ 支持ローラ
５４，１０３，１１３ 雰囲気調整手段
１０５，１１５ 第１，第２雰囲気調整部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、支持体へしみこむ成分を含む液を支持体上へ塗布するステップ、塗膜を乾燥するステップを順に有する積層体の製造方法に関するものであり、具体的な一例としては、セルロースアシレートを含む支持体上に、支持体へしみこむ有機溶剤を溶媒として含むハードコート層形成用塗布液を塗布するステップ、乾燥するステップを順に有する光学用途ハードコートフィルムの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ハードコート層は、各種ディスプレイ、各種レンズ・ディスク、建材、雑貨などの部材表面を強化（耐傷性や耐候性などを向上）するために、以前からよく用いられている。
【０００３】
ところが、ハードコート層を光学用途部材の表面上に設けると、干渉むら（干渉縞、色むら、虹彩模様とも呼ばれる）がよく生じる。特に、高画質が期待される薄型大画面ディスプレイで表面反射防止と表面保護とを兼ねる反射防止ハードコートフィルムでは、干渉むらが致命的な欠陥となる。そのため、特に光学フィルム分野では、干渉むら対策が盛んに試みられてきた。
【０００４】
干渉むらは、ハードコート層の空気界面での反射光と、ハードコート層と支持体との界面（以下、「ハードコート層−支持体界面」と称する）での反射光とが干渉することによって生じることが古くから知られている。ハードコート層は空気より屈折率が高いので、空気界面での反射光をなくすことはできない。したがって、干渉むらを弱める有力手段としては、ハードコート層−支持体界面での反射光を弱めることが検討されてきた。
【０００５】
ハードコート層−支持体界面での反射光を弱める手段としては、（Ａ）ハードコート層と支持体の屈折率を等しくする（あるいは屈折率を極力近づける）ことが多数文献で提案されている。しかし、例えば液晶ディスプレイ用反射防止ハードコートフィルムでは、支持体が偏光板保護を兼ねているために必要な、光学異方性がないこと、親水性が良いこと等の性能を満たすことができる支持体の材質が限られており、現在は主にセルロースアシレートフィルム（特にトリアセチルセルロースフィルム）が多用されている。このように支持体の材質が限定されてしまう場合には、（Ａ）のアイデアで干渉むらを抑えようとすると、ハードコート層の屈折率を支持体と揃えなければならない。しかし、ハードコート材料の屈折率は一般的にトリアセチルセルロースの屈折率よりも高い。ハードコート層中に低屈折率物質を添加したり、トリアセチルセルロースフィルム中に高屈折率材料を添加すれば屈折率を揃えることは可能だが、添加剤を大量に使用すると材料コストが上がってしまう。また、ハードコート層中に低屈折率物質としてシリカ粒子を添加する方法も知られているが、ハードコート層の屈折率をトリアセチルセルロースフィルムに近づけるためにシリカ粒子を大量に添加すると、硬化させた際の架橋構造数が減少し、ハードコート層が本来期待されている膜硬度を保てなくなってしまう問題が起きる。
【０００６】
そこで、支持体とハードコート層との屈折率差を完全になくすことを諦めた別アイデアも種々提案されている。代表的手段としては、（Ｂ）支持体とハードコート層との間に、支持体とハードコート層の間の屈折率を持つ中間層を設けることが挙げられる。
【０００７】
中間層の形成手段も種々提案されており、（１）ハードコート層と別に１層塗布して乾燥して中間層を形成する方式、（２）ハードコート層成分と支持体成分とが混合した中間層を形成する方式、とに大別される。しかし、いずれの方式でも、ハードコート層−中間層界面または／および中間層−支持体界面を挟んで屈折率が非連続的に変化してしまう場合が多く、その場合は干渉むらが残ってしまう。なお、ハードコート層−中間層界面とはハードコート層と中間層との界面、中間層−支持体界面とは中間層と支持体との界面である。
【０００８】
発明者は、ハードコート層単層に干渉むらが残っている場合には、ハードコート層上へ干渉薄膜型反射防止層を形成すると干渉むらがより目立つようになることを発見した。一般的に前記反射防止層を多層形成するほど反射防止性能が向上することが知られているが、反射防止層を多層形成して表面反射率を下げれば下げるほど干渉むらが目立ってしまうことも分かった。特に、ハードコート層中に防眩粒子が入っておらず、ハードコート層透明性が高い品種の場合、干渉むらの問題は深刻である。
【０００９】
また発明者は、ハードコート層形成用塗液の乾燥むらで塗膜面内に微小な膜厚むらが生じただけでも顕在化してしまうことにも気づいた。反射防止ハードコートフィルムのハードコート層形成用塗液の溶媒としてよく用いられる有機溶剤は概して乾燥速度が速いため、乾燥ゾーン内の溶媒乾燥速度に関係するパラメーター（例えば膜面風速や環境温度など）が塗膜面内で不均一な場合、面内の乾燥速度差が大きく、膜厚むらができやすい。また、反射防止ハードコートフィルムのハードコート層は、塗布速度すなわち生産速度を上げるためになるべく溶媒量を多くして塗液を低粘度にしたいのだが、塗液を低粘度にするほど、乾燥速度不均一時に起きる膜厚むらは大きくなってしまう。
【００１０】
乾燥時に起きる膜厚むらを低減させるためには、塗膜の粘度が特に低い初期乾燥工程を低乾燥速度環境にすることがよく行われる。例えば特許文献１では、塗布直後に塗膜面に対向する数ｍｍ隔てた位置に板を配置し、塗膜上の空間を狭くして溶媒蒸発ガス濃度を上げ、その空間に塗膜付き支持体を連続搬送させて、塗膜からの溶媒乾燥速度を０．１ｇ／ｍ２・ｓ以下に抑えることにより、初期乾燥時に起きる膜厚むらを低減させることを提案している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００４−２９０９６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかし、特許文献１など数多くある精密乾燥先行技術のどれを組み合わせて試しても、ハードコート層の干渉むらは、干渉型反射防止層の下地として認容できないレベルまでにしか抑えられなかった。本発明者は、ハードコート層は膜厚によって干渉むらが見えやすかったり、逆に見えにくかったりすることを経験的につかんだため、なるべく干渉むらが見えにくくなる塗布量に予め調節して塗布したが、支持体幅方向中央部の干渉むらが狙い通り許容範囲内になった場合は支持体幅方向端部の干渉むらがなぜか悪く、ハードコート層の塗布量を増減させると今度は支持体幅方向端部の干渉むらが許容範囲内である一方、支持体幅方向中央部の干渉むらが悪くなってしまう、という現象に悩まされた。
【００１３】
支持体幅方向中央部の干渉むらレベルが許容範囲内になるように塗布量を設定し、干渉むらレベルが許容限度を超えてしまう支持体幅方向端部を廃棄する手も考えられなくはないが、原材料・廃棄コストアップになるので避けたい。
【００１４】
また、ハードコート層は厚くするほど干渉むらは弱くなる傾向があるので、ハードコート層の膜厚を支持体全幅にわたってどこまでも増やしていけば、支持体幅方向中央部も端部も干渉むらレベルを許容範囲内に抑えることは可能である。しかし、ハードコート層を厚くするだけで干渉むらレベルをクリア反射防止ハードコートフィルムの許容範囲内に抑えるためには、数十μｍもの膜厚にすることが必要になる。それでは、幅方向で一部を切除・廃棄する上述の方法と同様、大きくコストアップしてしまう。さらに、ハードコート層を数十μｍもの厚みにしてしまうと、乾燥工程後に通常行うことが多い紫外線硬化工程にてハードコート層が大きくカールしてしまい、ハードコート層上に干渉薄膜型反射防止層を均一塗布することが極めて困難になる。また、たとえ塗布がなんとかできたとしても、膜面から数ｍｍしか離れていない位置に配置されることが多い乾燥ゾーンの板に支持体が引っ掛かり、フィルムが傷ついたり、フィルムが傷ついた際に発塵して製品に点欠陥が生じてしまうのを避けることは極めて困難であることが想定された。
【００１５】
したがって、ハードコート層の膜厚を極力厚くせずに、干渉むらレベルを支持体幅方向中央部も端部も許容限度内に収める製造条件を確立することが、特に干渉薄膜多層型反射防止ハードコートフィルムでは最重要課題であることが分かった。
【００１６】
そこで本発明者が鋭意分析および解析を行った結果、初期乾燥工程では支持体幅方向中央部に比べて幅方向端部の溶媒蒸発ガス濃度が低くなりがちで、支持体幅方向端部の乾燥速度が中央部より速くなりがちであることが分かった。するとハードコート層塗膜の一部が支持体にしみこんで中間層を形成する際、支持体幅方向端部ではより早く塗膜の固形分濃度が上昇し、それによって支持体へのしみこみが停止して、ハードコート成分が支持体へしみこんだ中間層部分の厚みが比較的薄く、支持体へしみこまずに残ったハードコート層部分が比較的厚くなる。
【００１７】
その結果、支持体幅方向端部と中央部では中間層厚みおよびハードコート層厚みに差が生じる。支持体幅方向で中間層・ハードコート層膜厚に差が生じると、前述の通り、支持体幅方向のある部分で干渉むらレベルが比較的弱くなるように設計して塗布・乾燥を行っても、支持体幅方向の異なる部分では干渉むらレベルがちょうど悪くなってしまう膜厚になってしまうことが避けられない。つまり、なるべくハードコート層を薄くし、かつ支持体幅方向のどこでも干渉むらレベルを許容範囲内に収めるためには、中間層厚みおよびハードコート層厚みを支持体幅方向均一にすることが必要であることが分かった。
【００１８】
そのためには、仮にハードコート層を支持体幅方向均一に塗布した場合、初期乾燥工程でハードコート層の支持体へのしみこみ量を支持体幅方向均一にしなければならない。しみこみ量は主に乾燥速度で支配されるので、しみこみ量を支持体幅方向均一にするためには溶媒乾燥速度を支持体幅方向均一にしなければならない、とまず考えた。
【００１９】
そこで、溶媒乾燥速度を幅方向均一にするために、特に支持体幅方向端部に着目して様々な溶媒乾燥速度均一化策を講じたが、支持体端部を中央部と同程度の乾燥条件（溶媒蒸発ガス濃度・風速・温度）にするのは極めて困難であることが次第に分かってきた。
【００２０】
乾燥速度を支持体幅方向均一にするのが困難だと分かったため、次には、乾燥速度を上げて速く溶媒を蒸発させ、塗膜中の固形分濃度を上げて速くしみこみを停止させればいいのではないかと考えた。しかし、乾燥速度を上げるために風を強く吹かせると、予想していたことではあるが、強風のせいで乾燥ムラが起きて干渉むらが悪化してしまった。
【００２１】
そこで次に、乾燥速度を上げるための支持体全幅加熱を試みた。その結果、驚くべきことが起きた。ハードコート成分の支持体へのしみこみ量の幅方向不均一が若干でも良化することを期待、予想していたのだが、かえって極度に悪化してしまったのである。
【００２２】
この驚くべき現象について鋭意考察した結果、初期乾燥時における加熱がハードコート層成分の支持体へのしみこみを促進しているらしいことに想到した。そして、この原理、現象を利用すれば、支持体幅方向の任意の位置でハードコート層の支持体へのしみこみ量を制御することができるだろうことにも想到した。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明は、塗布液の塗布により形成される塗布層と、前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層とを備える積層体の製造方法において、支持体に、前記塗布液を塗布して塗膜を形成する塗布工程と、前記塗膜周囲の雰囲気の流れと、前記雰囲気における前記塗膜から蒸発した溶剤成分の濃度との少なくとも一方を調整する雰囲気調整手段に前記塗膜を対向させて、前記塗膜の初期乾燥をすすめる初期乾燥工程と、前記初期乾燥工程における前記塗膜の初期乾燥が所定の速度ですすむ前記支持体の第１領域とこの第１領域よりも相対的に初期乾燥が速くすすむ第２領域とを予め特定しておき、初期乾燥工程で前記第２領域の温度が前記第１領域よりも高くなるように、前記支持体を加熱する加熱工程を有することを特徴として構成されている。
【００２４】
前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層は前記セルロースアシレートからなるセルロースアシレート層であり、前記塗布層は透明であり、前記塗布工程では、搬送されている前記支持体としてのセルロースアシレートフィルムに、塗布液を塗布して塗膜を形成し、初期乾燥工程では、雰囲気調整手段に塗膜が対抗するようにセルロースアシレートフィルムを搬送しながら、塗膜の初期乾燥をすすめることが好ましい。
【００２５】
前記加熱工程では、前記初期乾燥工程における前記第２領域の乾燥速度が大きいほど、前記初期乾燥工程における温度がより高くなるように前記第２領域を加熱することが好ましい。
【００２６】
前記塗布工程では、（１）ローラの周面に巻き掛けられて支持されたセルロースアシレートフィルムに塗布液を塗布し、前記加熱工程は、前記ローラの上流に配される加熱手段により、ローラに向かうセルロースアシレートフィルムの第２領域を加熱すること、または、（２）ローラの周面に巻き掛けられて支持されたセルロースアシレートフィルムに前記塗布液を塗布し、前記加熱工程は、前記ローラの周面のうち第２領域が接触する接触領域を加熱することにより、第２領域を加熱することが好ましい。
【００２７】
初期乾燥工程の間に塗膜の一部がしみこんだセルロースアシレートフィルムのしみこみ領域から形成され、セルロースアシレートと塗布層の成分とが混在する中間層を積層体は有し、初期乾燥工程における第２領域の温度と、中間層の厚み及び塗布層の厚みとの関係を予め求めておき、前記関係に基づいて加熱工程における第２領域の温度を設定し、設定された値となるように加熱工程での加熱を行うことが好ましい。
【００２８】
所定の固さに達した塗膜に乾燥気体を吹き付けることにより塗膜を乾燥させる乾燥促進工程を有し、初期乾燥工程では、乾燥促進工程よりも小さな乾燥速度で、所定の固さになるまで塗膜の初期乾燥をすすめることが好ましい。
【００２９】
また、本発明は、塗布液の塗布により形成される塗布層と、前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層とを備える積層体の製造方法において、支持体に、塗布液を塗布して塗膜を形成する塗布工程と、前記塗膜周囲の雰囲気の流れと、雰囲気における塗膜から蒸発した溶剤成分の濃度との少なくとも一方を調整する雰囲気調整手段に塗膜を対向させて、塗膜の初期乾燥をすすめる初期乾燥工程と、初期乾燥工程における塗膜の初期乾燥が所定の速度ですすむ支持体の第１領域とこの第１領域よりも相対的に初期乾燥が速くすすむ第２領域とを予め特定しておき、初期乾燥工程で第１領域の温度が第２領域よりも低くなるように、支持体を冷却する冷却工程を有することを特徴として構成されている。
【００３０】
さらに、本発明は、塗布液の塗布により形成される塗布層と、前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層とを備える積層体の製造設備において、前記支持体に、前記塗布液を塗布して塗膜を形成する塗布装置と、前記塗膜と対抗して設けられ、塗膜周囲の雰囲気の流れと前記雰囲気における塗膜から蒸発した溶剤成分の濃度との少なくとも一方を調整する雰囲気調整手段と、雰囲気調整手段を有し塗膜の初期乾燥をすすめる初期乾燥装置と、初期乾燥装置における塗膜の初期乾燥が所定の速度ですすむ支持体の第１領域とこの第１領域よりも相対的に乾燥が速くすすむ第２領域とが特定されると、初期乾燥で第２領域の温度が第１領域よりも高くなるように支持体を加熱する加熱装置とを備えることを特徴として構成されている。
【００３１】
上記積層体の製造設備は、前記支持体としてのセルロースアシレートフィルムを搬送する搬送手段を備え、前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層は前記セルロースアシレートからなるセルロースアシレート層であり、塗布層は透明であり、塗布装置は、搬送手段により搬送されているセルロースアシレートフィルムに塗布液を塗布し、雰囲気調整手段は、塗膜に対向するように前記セルロースアシレートフィルムの搬送路に沿って設けられ、加熱装置は、前記塗布液が塗布される塗布位置の上流に配されていることが好ましい。
【発明の効果】
【００３２】
本発明によれば、側端部の干渉むらを抑えて、干渉むらの程度が幅方向で均一な積層体、例えば複層構造のハードコートフィルムを、製造効率を低下させることなく、長尺に塗布で製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明により製造する積層体としてのハードコートフィルムの断面図である。
【図２】ハードコートフィルムを用いた反射防止シートの断面図である。
【図３】フィルム製造設備の概略図である。
【図４】第１乾燥装置における塗膜の初期乾燥の説明図である。（ａ）は図３のVI−VI線に沿う断面図である。（ｂ）は、塗膜が形成されたセルロースアシレートフィルムを、塗膜の露出面の垂直方向から見た平面図である。（ｃ）は塗膜の乾燥速度を示すグラフである。（ｄ）はしみこみ領域の厚みを表すグラフである。
【図５】第１加熱装置の概略図である。
【図６】第４乾燥装置の概略図である。
【図７】第５乾燥装置の概略図である。
【図８】本発明の別の実施形態としての雰囲気調整手段の概略斜視図である。
【図９】さらに別の実施形態としての雰囲気調整手段の概略平面図である。
【図１０】本発明の別の実施形態であるフィルム製造設備の概略図である。
【図１１】本発明のさらに別の実施形態であるフィルム製造設備の概略図である。
【図１２】第２加熱装置による加熱方法を示す説明図である。
【図１３】第２加熱装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
本発明により製造される積層体は、図１のハードコートフィルム１０のように、セルロースアシレート層１１と、ハードコート層１２と、ハードコート層１２の成分及びセルロースアシレートが混在する中間層１３とを備える。このように、本発明により製造することができる積層体は複層構造をもつ。セルロースアシレート層１１は、セルロースアシレートから成る。ハードコート層１２は、セルロースアシレート層１１の一方の表面（以下、第１面と称する）１１ａを保護したり、このハードコートフィルム１０を例えば液晶ディスプレイ等の表示装置の露出部材として用いた場合にこのハードコートフィルム１０よりも内部に配される部材を保護する。
【００３５】
セルロースアシレート層１１とハードコート層１２とはいずれも透明であるが、構成する材料が互いに異なることから、結果的に屈折率も互いに異なる。セルロースアシレート層１１のセルロースアシレートとしてはセルローストリアセテート（ＴＡＣ）が好ましい。
【００３６】
ハードコート層１２は、後述のように、セルロースアシレートから成るフィルム（以下、セルロースアシレートフィルムと称する）の一方の面上に、塗布液（以下、ハードコート塗布液）を塗布することにより形成される。中間層１３は、塗布されたハードコート塗布液が乾燥されてハードコート層１２を形成するまでの間に、形成される。すなわち、ハードコート塗布液は塗布されるとその一部がセルロースアシレートフィルムに前記一方の面からしみこみ、しみこんだ領域が中間層１３となる。セルロースアシレートフィルムのうち、ハードコート塗布液がしみこまない非しみこみ領域がセルロースアシレート層１１となる。
【００３７】
なお、セルロースアシレートフィルムに代えて他のフィルムを用いてもよい。他のフィルムが非透明である場合には、セルロースアシレート層１１に代えて形成される層は、非透明なものとなる。
【００３８】
以上のようにハードコートフィルム１０は、セルロースアシレート層１１と中間層１３とハードコート層１２との３層を有する。ただし、セルロースアシレート層１１と中間層１３との境界、中間層１３とハードコート層１２との境界は、目視で確認することができる程に明確である必要はない。例えば、これらの各境界は、表示装置等に用いる光源の光をハードコートフィルム１０に入射した際に、光路の変化が認められる程度のものであってもよいし、光路の変化が明確には認められなくても各層１１，１２，１３を成す成分が異なるという成分的な境界であればよい。
【００３９】
なお、ハードコート層１２に代えて、塗布により形成される他の塗布層としてもよい。他の塗布層を形成する場合であっても、セルロースアシレートフィルムのように塗布液がしみこみ可能な素材に塗布液を塗布する場合には、通常は中間層１３が形成される。セルロースアシレートフィルムに塗布液を塗布する場合には、中間層１３が特に形成されやすい。セルロースアシレートは、多くの液体との親和性をもつので、塗布されるとその塗布液により膨潤したり塗布液に溶解するからである。もっとも、本発明においては、中間層１３を意図的ないし積極的に形成する。中間層１３を形成することにより、塗布層としてのハードコート層１２とハードコート塗布液を塗布するセルロースアシレートフィルムとの接着力をより高めることができる。また、中間層１３を形成しない場合には、セルロースアシレート層１１とハードコート層１２との界面において光が反射するが、このような光の反射を、中間層１３を形成することにより低減することができる。本実施形態では、塗布液として、透明な塗布層を形成するようなものを用いているが、本発明はこれに限定されない。
【００４０】
なお、セルロースアシレート層１１には、各種添加剤を含ませてもよい。ハードコート層１２は、紫外線（ＵＶ）等の光を照射することで硬化したいわゆる光硬化性ポリマー、あるいは熱により硬化した熱硬化性ポリマーで形成されてあることが好ましい。
【００４１】
本発明により製造される積層体は、上記のような３層に他の層を加えたものも含む。例えば、図２に示すような反射防止ハードコートフィルムも本発明の積層体の一態様である。図２においては、図１と同じ構成部材については図１と同じ符号を付し、説明を略す。反射防止ハードコートフィルム２０は、セルロースアシレート層１１と、ハードコート層１２と、中間層１３と、反射防止部材２１とを備える。反射防止ハードコートフィルム２０は、所期のサイズのシートにカットされていてもよい。
【００４２】
反射防止部材２１は、セルロースアシレート層１１とハードコート層１２と中間層１３とからなる薄膜体を形成した後に、形成する。反射防止部材２１は、ハードコート層１２の露出面に設けられる。反射防止部材２１は、ハードコートフィルム１０に照射光が第１フィルム面１０ａから入射する際に、第１フィルム面１０ａにおける反射を低減する。なお、反射防止ハードコートフィルム２０を液晶ディスプレイ等の表示装置に用いる場合には、表示装置の光源側がセルロースアシレート層１１、表示装置の視認側が反射防止部材２１となるように、反射防止ハードコートフィルム２０を配する。
【００４３】
反射防止部材２１は、単層構造と複層構造とのいずれであってもよい。単層構造と複層構造とのいずれにするかは、照射光の屈折率に応じて決定する。複層構造の場合には、反射防止部材２１が所期の反射防止機能を発現するように、層数と各層の屈折率とを決定する。
【００４４】
中間層１３は、セルロースアシレートフィルムに対するハードコート塗布液のしみこみによって形成され、ハードコート層１２の成分とセルロースアシレートとを含むので、セルロースアシレート層１１とハードコート層１２とのいずれとも異なる屈折率をもつ。中間層１３の屈折率は、セルロースアシレート層１１の屈折率とハードコート層１２の屈折率との間である。中間層１３の屈折率は、ハードコートフィルム１０の厚み方向において均一である場合もあるし、不均一である場合もある。
【００４５】
塗布層がハードコート層１２である場合には、塗布されたハードコート塗布液が後述のように乾燥工程と硬化工程とを経ることにより、ハードコート塗布液の硬化成分が重合してポリマーが生成する。中間層１３の屈折率の厚み方向でのプロファイルは、セルロースアシレートフィルムの中にしみこんだハードコート塗布液のうち硬化成分が重合したポリマーの、中間層１３の厚み方向での濃度プロファイルに対応する。
【００４６】
ハードコート層１２は、通常、セルロースアシレート層よりも屈折率が高い。したがって、ハードコートフィルム１０の厚み方向における屈折率は、セルロースアシレート層１１が最も低く、ハードコート層１２が最も高く、中間層１３がセルロースアシレート層１１とハードコート層１２との間の値になる。
【００４７】
中間層１３の厚み方向における屈折率のプロファイルは、セルロースアシレートフィルムの成分と、ハードコート塗布液の成分と、ハードコート層１２を形成する諸条件等に応じて異なる態様となる。
【００４８】
セルロースアシレート層１１の厚みＴ１１は、用いるセルロースアシレートフィルムの厚みと形成される中間層１３の厚みＴ１３とによるので、特に限定されない。ハードコート層１２の厚みＴ１２は、好ましくは０．１μｍ以上１００μｍ以下の範囲、より好ましくは０．８μｍ以上２０μｍ以下の範囲である。なお、ハードコート層１２の厚みＴ１２が０．１μｍ以上であると、０．１μｍ未満の場合と比べてハードコートとしての前述の作用が確実に得られる。また、本発明は、中間層１３の厚みＴ１３を、０．１μｍ以上２０μｍ以下の範囲とする場合に効果が大きく、０．８μｍ以上１０μｍ以下の範囲とする場合に効果が特に大きい。中間層１３の厚みＴ１３が０．１μｍ以上の場合には、０．１μｍ未満の場合に比べて、塗膜３８（図３参照）の乾燥速度の幅方向Ｚ２（図４参照）における差によって、干渉むらの程度が幅方向で異なりやすくなるからである。また、中間層１３の厚みＴ１３が２０μｍ以下の場合には、２０μｍを超える場合に比べて、干渉むらレベルの違いが目立つからである。
【００４９】
セルロースアシレート層１１の厚みＴ１１と、ハードコート層１２の厚みＴ１２と、中間層１３の厚みＴ１３とは、それぞれ、一定であることが好ましい。３層１１，１２，１３の中でも特にハードコート層１２につき、干渉むら抑制の観点で、厚みＴ１２を一定にすることが好ましい。また、３層１１，１２，１３の中でも特に中間層１３につき、ハードコートフィルム１０での干渉むらの程度を均一にする観点で、その厚みＴ１３を一定にすることが好ましい。中間層１３の厚みが一定とは、ハードコート層１２と中間層１３とセルロースアシレート層１１との各界面が明瞭であろうと不明瞭であろうと、各界面に凹凸があろうとなかろうと、塗膜３８がセルロースアシレートフィルム３１（図３参照）にしみこんだときに、しみこみ領域の厚みが一定であることを意味する。
【００５０】
干渉むらは、前述の通り、ハードコートフィルム１０の各位置における光の反射と各反射光同士の干渉により発現する色のむらである。具体的には、ハードコート層１２側から照射した光が、外部の空気とハードコート層１２と界面、ハードコート層１２と中間層１３との界面、中間層１３とセルロースアシレート層との界面のそれぞれにおいて反射し、これらの反射光の干渉でおきる色のむらである。したがって、中間層１３の厚みが所定方向で不均一であると、その所定方向における干渉むらの程度は不均一となる。また、中間層１３は、後述のようにハードコート層１２の形成に伴って形成されるので、中間層１３の厚みが所定方向で不均一であると、その所定方向におけるハードコート層１２の厚みも不均一になり、干渉むらの程度の不均一さはさらに顕著になる。
【００５１】
そこで、本発明では、セルロースアシレート層１１の厚みＴ１１及びハードコート層１２の厚みＴ１２を、長尺のハードコートフィルム１０の幅方向で一定にするのみならず、中間層１３の厚みＴ１３を長尺のハードコートフィルム１０の幅方向で一定にする。これにより、干渉むらの程度を幅方向で均一にする。
【００５２】
積層体の製造設備及び方法について以下説明する。図３には、積層体としてのハードコートフィルム１０を製造するフィルム製造設備３０を例として挙げる。フィルム製造設備３０は、図３に示すように、周方向に回転することにより、周面に接したセルロースアシレートフィルム３１を搬送する搬送手段としての複数のローラ３２を備える。フィルム製造設備３０は、セルロースアシレートフィルムの搬送路の上流側から順に、セルロースアシレートフィルム３１の所定領域を加熱する第１加熱装置３５、ハードコート塗布液３６をセルロースアシレートフィルム３１に塗布する塗布装置３７、ハードコート塗布液３６からなる塗膜３８を乾燥する第１乾燥装置４１と第２乾燥装置４２と第３乾燥装置４３、光源４６を備える。図３では、セルロースアシレートフィルム３１の搬送方向に符号Ｚ１を付す。
【００５３】
塗布装置３７は、供給されたハードコート塗布液３６を流出口から流出する塗布ダイ４７と、セルロースアシレート３１の搬送路に挟むように塗布ダイ４７とは反対側に配され、セルロースアシレートフィルム３１を非塗布面側から支持する支持ローラ４８とを備える。塗布ダイ４７は、セルロースアシレートフィルム３１の幅方向に延びたスリット形状の流出口（図示せず）を先端に有し、この先端を搬送路に向けて配される。支持ローラ４８は、駆動手段（図示せず）を備え、この駆動手段により、断面円形の中心の軸４８ａを回転の中心として周方向に回転する駆動ローラである。支持ローラ４８は、ローラ３２により案内されてきたセルロースアシレートフィルム３１を周面で支持し、周方向に回転することにより搬送する。搬送されているセルロースアシレートフィルム３１に対して塗布ダイ３１から連続的にハードコート塗布液３６を流出することにより、セルロースアシレートフィルム３１の一方のフィルム面に塗膜３８が形成される。
【００５４】
塗膜３８は、本実施形態では、乾燥する前の厚みが１μｍ以上１５０μｍ以下の範囲となるように形成してある。これにより、前述のような厚みＴ１３が０．１μｍ以上２０μｍ以下の範囲の中間層１３を形成することができる。ただし、乾燥前の塗膜３８の厚みは、形成すべきハードコート層１２の厚みＴ１２と、ハードコート塗布液３６の処方とに基づいて適宜設定するものであるので、上記範囲に限定されない。
【００５５】
支持ローラ４８は、駆動ローラでなくてもよく、軸４８ａを中心に回動自在に設けられ、ローラ３２で搬送されているセルロースアシレートフィルム３１が周面に接触すると回転するいわゆるフリーローラであってもよい。
【００５６】
塗布ダイ４７から流出したハードコート塗布液３６がセルロースアシレートフィルム３１に接触し始める塗布位置は、搬送されているセルロースアシレートフィルム３１のうち、支持ローラ４８に巻きかけられて支持されている範囲とすることが好ましい。
【００５７】
塗布ダイ４７から流出したハードコート塗布液３６がセルロースアシレートフィルム３１に接触し始める塗布位置に近接して、被測定物の温度を非接触で測定する温度測定手段（図示せず）が配されてある。この温度測定手段により、塗布位置におけるセルロースアシレートフィルム３１の温度を測定する。
【００５８】
塗布位置の上流に配してある第１加熱装置３５は、塗布位置におけるセルロースアシレートフィルム３１の所定領域が所定の温度になるように、支持ローラ４８に向かうセルロースアシレートフィルム３１を加熱する。なお、図３に示す態様では、第１加熱装置３５を、セルロースアシレートフィルム３１を非塗布面側から加熱するように、非塗布面側に配してある。しかし、第１加熱装置３５を塗布面側に配して、セルロースアシレートフィルム３１を塗布面側から加熱してもよい。第１加熱装置３５の詳細については、別の図面を用いて後述する。
【００５９】
塗布位置の下流に配する第１乾燥装置（初期乾燥装置）４１は、搬送路を囲むようにして温度及び湿度を調整すべき空間を外部空間と仕切るチャンバ５１と、チャンバ５１に所定の温度及び湿度の気体を所定の流量で送り込む第１送風機５２と、第１送風機５２から送り出す気体の温度及び湿度と流量とを制御する第１コントローラ５３とを備える。
【００６０】
チャンバ５１には、第１送風機５２からの気体が供給される供給口（図示せず）と、内部の雰囲気を外部に排出する排出口（図示せず）とが形成されてある。セルロースアシレートフィルム３１がチャンバ３１に案内されると、塗膜３８に含まれるハードコート塗布液３６の溶剤成分が蒸発する。蒸発した溶剤成分、すなわち溶剤ガスの濃度が一定量を超えないように、供給口からの気体の供給と、排気口からの雰囲気の排出とを行う。
【００６１】
チャンバ５１の外部には、案内された雰囲気から溶剤ガスを除去して、この雰囲気をチャンバ５１に供給する気体として再利用するように回収する第１回収機５５が備えられる。この第１回収機５５により、排気口から排出された雰囲気は、溶剤ガスを除去された後に第１送風機５２に送られる。このようにして、チャンバ５１に送る気体は循環して利用する。ただし、チャンバ５１に送る第１送風機５２の気体は、チャンバ５１の内部の雰囲気を再利用したものでなくてもよい。この場合には、第１回収機５５では、案内されてきた雰囲気から溶剤ガスを除去し、外部に排気する。
【００６２】
第１乾燥装置４１は、塗膜３８に対向するように、セルロースアシレートフィルム３１の搬送路に沿って並んで配される複数の雰囲気調整手段５４を備える。各雰囲気調整手段５４は、セルロースアシレートフィルム３１の搬送方向に延びている板である。各雰囲気調整手段５４は、搬送されているセルロースアシレートフィルム３１の塗膜３８と対向する対向面がセルロースアシレートフィルム３１の搬送路と略平行な面である。
【００６３】
塗膜３８の周辺の雰囲気は、塗膜３８を備えるセルロースアシレートフィルム３１の搬送によって流れだしたり、流れの方向や流速が変化したりする。雰囲気調整手段５４は、これらの現象を抑制するように、塗膜３８の周囲の雰囲気の流れを調整する。これにより、塗膜３８に厚みむらが発生することを防止する。このように、雰囲気調整手段５４は、塗膜３８の側縁よりも外側から塗膜３８の上方に雰囲気が流れこむことを防ぐいわゆる遮風板として作用したり、塗膜３８の雰囲気の流れる方向や流れる速度が変化することを防ぐいわゆる整流板として作用する。この雰囲気調整手段５４を用いることにより、塗膜３８は、第１乾燥装置４１の下流に配される第２乾燥装置４２、第３乾燥装置４３よりも遅い乾燥速度で乾燥がすすむ。
【００６４】
第２乾燥装置４２は、第１乾燥装置４１のチャンバ５１、第１送風機５２、第１コントローラ５３とそれぞれ同じ構成のチャンバ５７と、第２送風機５８と、第２コントローラ５９とを備える。
【００６５】
チャンバ５７の外部には、第１回収機５５と同様の構成をもつ第２回収機６０を備え、この第２回収機６０により、チャンバ５７に送る気体を循環して再利用してもよい。
【００６６】
第２乾燥装置４２は、第１乾燥装置４１と異なり、雰囲気調整手段５４が配されてはいないので、塗膜３８上には、第２送風機５８から供給される乾燥気体がわずかに流れており、このような雰囲気の流れにより塗膜３８の乾燥がすすむ。この第２乾燥装置４２では、雰囲気の流れにより塗膜３８の厚みが不均一にならないように、所定の固さに達した後の塗膜３８を乾燥する。このように、第２乾燥装置４２では、第１乾燥装置４１におけるよりも大きな乾燥速度で塗膜３８の乾燥をすすめる乾燥促進工程を行う。
【００６７】
第３乾燥装置４３は、チャンバ６１と、チャンバ６１の内部に配されるダクト６２と、ダクト６２に乾燥気体を供給する第３送風機６３と、第３送風機６３から送り出す乾燥気体の温度及び湿度と流量とを制御する第３コントローラ６６を備える。
【００６８】
ダクト６２には、乾燥空気を塗膜３８に向けて流出する流出ノズル６７と、塗膜３８上方の雰囲気を吸引する吸引ノズル６８とが、搬送方向Ｚ１に交互に形成されてある。このダクト６２からの乾燥空気の吹きつけにより、塗膜３６の乾燥をさらにすすめる。
【００６９】
ダクト６２には排気口（図示せず）が形成されてある。この排気口は、吸引ノズル６８から吸引したチャンバ５７の内部の雰囲気をチャンバ５７の外部へ排出する。これにより、チャンバ６１の内部は溶剤ガスの濃度を一定値以下に抑えられる。
【００７０】
チャンバ５７の外部には、ダクト６２の排気口に接続し、第１回収機５５と同様の構成をもつ第３回収機６９を備えてもよい。この第３回収機６９により、ダクト６２に送る気体を循環して再利用してもよい。
【００７１】
図３のフィルム製造設備は、第２乾燥装置４２と第３乾燥装置４３との両方を備えるが、必ずしもこの態様である必要はない。つまり、乾燥すべき塗膜３８の固さとその塗膜の乾燥速度とに応じて、第２乾燥装置４２と第３乾燥装置４３とのいずれか一方で乾燥を促進させてもよい。
【００７２】
本実施形態では、ハードコート塗布液３６における硬化成分として紫外線硬化性のものを用いてある。そこで、光源４６は紫外線を射出するものとしてある。この光源４６は、搬送されてくるセルロースアシレートフィルム３１の塗膜３８に紫外線を照射する。この紫外線の照射により、乾燥した塗膜３８に含まれる硬化成分が重合して硬化し、塗膜３８からハードコート層１２が形成される。
【００７３】
なお、塗膜３８の一部は、乾燥する間にセルロースアシレートフィルム３１の中にしみこむ。光源４６からのＵＶは、セルロースアシレートフィルム３１における塗膜３８のしみこみ領域にまで達するので、しみこんだ塗膜３８の硬化成分をも硬化させる。これにより、しみこみ領域は、中間層１３となる。
【００７４】
第１乾燥装置４１における塗膜３８の乾燥について、図４を参照しながら具体的に説明する。図４においては、セルロースアシレートフィルム３１の幅方向を矢線Ｚ２で示す。また、図４においては、セルロースアシレートフィルム３１の搬送方向Ｚ１を上向きに採ったときにおける、セルロースアシレートフィルム３１と塗膜３８との各右側縁に符号３１ｅ（Ｒ）と３８ｅ（Ｒ）とを付し、各左側縁に符号３１ｅ（Ｌ）と３８ｅ（Ｌ）とを付す。図４の（ｃ）及び（ｄ）の横軸における符号「ｃ」は、幅方向Ｚ２での中央を意味する。
【００７５】
塗膜３８は、セルロースアシレートフィルム３１の幅方向Ｚ２における全域ではなく、図４の（ａ）及び（ｂ）に示すように、セルロースアシレートフィルム３１の両側端部を非塗布域として残すように形成される。つまり、塗膜３８の右側縁３８ｅ（Ｒ）は、セルロースアシレートフィルム３１の右側縁３１ｅ（Ｒ）よりも内側に、また、塗膜３８の左側縁３８ｅ（Ｌ）は、セルロースアシレートフィルム３１の左側縁３１ｅ（Ｌ）よりも内側に、それぞれ位置する。雰囲気調整手段５４は、塗膜３８のみならず、セルロースアシレートフィルム３１の幅よりも大きな幅をもつ。つまり、雰囲気調整手段の側縁は、セルロースアシレートの側縁３１ｅ（Ｒ），３１ｅ（Ｌ）よりも外側に位置する。これにより、塗膜３８の上方にある雰囲気の流れをより確実に調整することができる。なお、雰囲気調整手段５４は、遮風板として作用させる場合には、セルロースアシレートフィルム３１からの距離Ｄが１０ｍｍ以下の範囲で一定、かつ、塗膜３８と接触しない程度となるように、配されることが好ましい。
【００７６】
塗膜３８の第１乾燥装置４１における乾燥速度は、位置によって異なる。具体的には、塗膜３８の各側端部３８ｓは中央部３８ｃよりも乾燥速度が大きい。そして、各側端部３８ｓは、中央部３８ｃとの境界から側縁３８ｅ（Ｒ），３８ｅ（Ｌ）に向かうに従い乾燥速度が大きくなる。これは、塗膜３８の側端部３８ｓの雰囲気は、中央部３８の雰囲気よりも溶剤ガスの濃度が低いので、溶剤ガスの拡散速度がより大きいからである。側端部３８ｓと中央部３８ｃとの乾燥速度に差が現れる現象は、雰囲気調整手段５４を用いる場合には特に顕著である。乾燥速度を幅方向で略均一にする方法は、種々提案されているので、このような公知の方法を本発明に適用してもよい。しかし、これらの公知の方法で達成することができる乾燥速度の均一化には限界があり、本願発明はフィルム幅方向で乾燥速度が均一ではない状況を前提とし、それでもフィルム幅方向で干渉むらの程度を均一にしようとするための技術である。
【００７７】
乾燥速度が大きい領域は、小さい領域よりも、塗膜３８における固形分の濃度が速く高くなる。固形分濃度が徐々に高くなり一定のレベルに達するとしみこみが停止する。したがって、図４の（ｃ）のように側端部３８ｓと中央部３８との乾燥速度が異なる塗膜３８を、第１加熱装置３５を用いることなしに乾燥させた場合には、セルロースアシレートフィルム３１のうち塗膜３８の一部がしみこんだしみこみ領域の厚みは、図４の（ｄ）の二点鎖線に示すように側端部３８ｓと中央部３８ｃとで異なるものとなる。そして、側端部では、中央部との境界から側縁に向かうに従いしみこみ領域の厚みが小さくなる。したがって、得られるハードコートフィルムにおける中間層１３の厚みも、（ｄ）の二点鎖線で示すグラフと同様の形状となる。
【００７８】
本発明では、第１加熱装置３５を用いることにより、しみこみ領域の幅方向Ｚ２における厚みを、図４の（ｄ）の実線で示すように一定にする。具体的には、まず、セルロースアシレートフィルム３１のうち、塗膜の中央部３８ｃが形成される領域を第１領域３１ｃ、側端部３８ｓが形成される領域を第２領域３１ｂとして特定しておく。すなわち、第１乾燥装置４１での乾燥が所定の速度ですすむ領域を第１領域３１ａとし、この第１領域３１ａよりも相対的に乾燥が速くすすむ領域を第２領域３１ｂとして予め特定する。そして、第２領域３１ｂを第１加熱装置３５による加熱対象とし、この加熱により、初期乾燥工程での第２領域３１ｂの温度を第１領域３１ａの温度よりも高くする。これにより、塗膜３８の乾燥速度が側端部３８ｓと中央部３８ｃとで異なる場合であっても、厚みが幅方向Ｚ２で一定である中間層１３を形成する。幅方向Ｚ２における厚みプロファイルが一定の中間層１３を形成することにより、積層体であるハードコートフィルム１０の干渉むらの程度が幅方向Ｚ２で均一になる。
【００７９】
例えば、幅１５００ｍｍのセルロースアシレートフィルム３１を用い、雰囲気調整手段５４とセルロースアシレートフィルム３１との距離を５ｍｍとした第１乾燥装置４１では給排気を実施せずに雰囲気の温度を２３℃、塗膜３８の乾燥速度を０．０５ｇ／ｍ２・ｓとし、第２乾燥装置４２にも雰囲気調整手段５４を設けて、この雰囲気調整手段５４とセルロースアシレートフィルム３１との距離を５ｍｍとした第２乾燥装置４２では給気風量を１５ｍ３／ｍｉｎ、雰囲気の温度を３５℃とした場合には、塗布開始時における第１領域３１ａの温度は２０℃以上２５℃以下の範囲とすることが好ましい。これに対し、第２領域３１ｂの温度はさらに高い温度とし、５０℃以上６０℃以下の範囲とすることが好ましい。
【００８０】
セルロースアシレートフィルム３１の幅を大きくしてこの幅が雰囲気調整手段５４の幅に近づくほど、幅方向Ｚ２での（フィルム端部と中央部の）乾燥速度の差は大きくなるので、第２領域３１ｂの加熱温度はフィルム幅が比較的小さい時より高くする。また、第１乾燥装置４１でのフィルム幅方向平均乾燥速度を大きくするほど、フィルム幅方向全体で乾燥が速く進んで塗膜の固形分濃度が早く高くなり、塗液のしみこみ停止が早くなって、幅方向Ｚ２でのしみこみ量の差は小さくなるので、第２領域３１ｂの加熱温度は第１乾燥装置４１でのフィルム幅方向平均乾燥速度が比較的大きい時より低くする。第１乾燥装置４１で給気をし、さらに排気も行う場合には、給気口近傍の乾燥速度がフィルム中央部の乾燥速度より大きくなり、排気口近傍の乾燥速度もフィルム中央部の乾燥速度より大きくなるため、乾燥速度の差に応じて第２領域３１ｂの温度を決める。第１乾燥装置４１で塗膜３８近傍の全面上方から給気する場合には、側縁に近いほど乾燥速度がより大きくなるので、フィルム側縁の温度をより高くする。第１乾燥装置４１で塗膜３８近傍の全面上方から排気する場合は、側縁に近いほど乾燥速度がより大きくなるので、フィルム側縁の温度をより高くする。第１乾燥装置４１で乾燥速度が比較的速い領域（第２領域３１ｂ上）の塗膜３８の温度を、乾燥速度が比較的遅い領域（第１領域３１ａ上）の塗膜３８の温度よりも高くすることによって、しみこみ領域の厚みを幅方向で均一にするという本発明の技術思想を踏まえて、第１領域３１ａと第２領域３１ｂとの温度は、セルロースアシレートフィルム３１の幅、雰囲気調整手段５４と塗膜３８との距離、給排気の有無、送風の方向、雰囲気の温度など、セルロースアシレートフィルム３１の幅方向Ｚ２における各位置における乾燥速度を考慮して決定すればよい。
【００８１】
第１加熱装置３５による加熱は以下の方法で行う。第１加熱装置３５は、図５に示すように、セルロースアシレートフィルム３１の搬送路の非塗布面側に設けてある。第１加熱装置３５は、セルロースアシレートフィルム３１に対向する対向部がヒータ７２とされてある。第１加熱装置３５は、それぞれヒータ７２からの発熱量を制御するコントローラ７３を有する。なお、図５では、説明の便宜上、各ヒータ７３及びそれらの配列ピッチを、セルロースアシレートフィルム３１及び塗膜３８に対して大きく描いてある。
【００８２】
第１加熱装置３５は、セルロースアシレートフィルム３１の搬送路の塗布面側に配してもよい。
【００８３】
第１加熱装置３５は、複数のヒータ７２を備え、複数のヒータ７２は、セルロースアシレートフィルム３１の幅方向Ｚ２に並ぶ。
【００８４】
コントローラ７３は、これらのヒータ７２を独立して制御し、各ヒータ７２のオン・オフの切替を含めた各ヒータ７２からの発熱量を制御する。コントローラ７３には、各ヒータ７２のオン・オフの情報に関する信号とオンにするヒータ７２の発すべき熱量の情報に関する信号とが予め入力されてあり、これらの信号に基づいて各ヒータ７２を制御する。
【００８５】
第１加熱装置３５は、複数のヒータ７２のうち、セルロースアシレートフィルム３１の第２領域３１ｂが通過するものがオンとされる。これにより、第１領域３１ａよりも第２領域３１ｂの方が、塗膜３８がセルロースアシレートフィルム３１の中にしみこみやすくなり、しみこみ領域の厚みが増す。これは、第２領域３１ｂにおける塗膜３８の成分の拡散速度が第１領域３１ａにおける拡散速度よりも大きくなるからである。
【００８６】
第２領域３１ｂで乾燥速度が大きくなる位置が通過するヒータ７２ほど、その発熱量を大きくするとよい。これにより、第２領域３１ｂにおけるしみこみ領域の厚みを一定にすることができる。また、第１乾燥装置４１における乾燥速度が大きくなる場合ほど、ヒータ７２の発熱量を大きくして、初期乾燥工程における第２領域３１ｂの温度をより高くすることが好ましい。
【００８７】
ただし、第２領域３１ｂの温度を高くするほど、塗膜３８の第１乾燥装置４１における乾燥速度も速くなり、高くしすぎると、むしろ塗膜３８の乾燥が促進されてしまい、塗膜の固形分濃度が早く高くなり、しみこみ領域の厚みの増加を抑制することになる。第１乾燥装置４１における初期乾燥速度が大きい箇所ほど、塗布位置における第２領域３１ｂの温度が高くなるように加熱することによってしみこみ成分のしみこみを促進するのが本願発明の目的なので、その加熱設定温度は、第１乾燥装置４１における第２領域３１ｂ上の塗膜３８の乾燥を促進しすぎて塗膜の固形分濃度を高くしてしまい、逆にしみこみを抑制してしまうほどの高温にはしない所定範囲とする。すなわち、塗膜３８の乾燥速度としみこみ速度とのバランスをとるように塗布位置における第２領域３１ｂの温度を設定することが好ましく、その方法としては以下の方法が挙げられる。
【００８８】
まず、初期乾燥工程時の第２領域３１ｂの温度、すなわち塗布位置における第２領域３１ｂの温度と、得られるハードコートフィルム１０における中間層１３の厚みとの関係を予め求めておく。そして、求めた前記関係に基づいて、塗布位置における第２領域３１ｂの温度を設定する。設定された温度になるように、第２領域３１ｂを第１加熱装置３５で暖める。この方法によると、塗膜３８の乾燥が促進されることなくしみこみ領域の厚みを増加させるような第２領域３１ｂの塗布位置における温度を求めることができる。
【００８９】
初期乾燥工程時の第２領域３１ｂの温度と、得られるハードコートフィルム１０における中間層１３の厚み及びハードコート層１２の厚みとの関係を予め求めておくことがさらに好ましい。これにより、塗膜３８のセルロースアシレート層１１における拡散もより考慮して、ハードコート層１２の厚みをより確実に幅方向Ｚ２で一定にすることができる。
【００９０】
初期乾燥工程時の第２領域３１ｂの温度と、得られるハードコートフィルム１０における中間層１３の厚みとの関係に代えて、塗布開始時の第２領域３１ｂの温度と、しみこみ領域の厚みとの関係としてもよい。
【００９１】
さらに、ハードコート塗布液３６のしみこみは、塗布開始時から２秒ないし２０秒経過した時点で停止することが多い。第１領域３１ａと第２領域３１ｂとを特定するための乾燥速度の測定は、ハードコート塗布液３６のしみこみが停止する時点以降であれば、ハードコートフィルム１０の製造中でも行うことができる。このように、製造過程で乾燥速度を測定して、第１領域３１ａと第２領域３１ｂとを特定した場合には、特定した第２領域３１ｂの信号をコントローラ７３に入力して第１加熱装置３５を制御するというフィードバック制御を実施してもよい。なお、塗布されたハードコート塗布液３６のしみこみが停止するまでの上記時間は、ハードコート塗布液３６の処方や乾燥条件等により変わる。
【００９２】
なお、しみこみ領域の厚みの大小は、乾燥する前の塗膜３８の温度と乾燥過程の所定時点における塗膜３８の温度との差によっても概ね検出することができる。塗膜３８のうち、乾燥速度が速い領域ほど、蒸発潜熱で温度が大きく下がるので、塗膜３８の温度を検出して乾燥する前と比べて、幅方向Ｚ２で温度が大きく下がる領域を第２領域３１ｂとして特定してもよい。
【００９３】
以上の方法により、搬送速度を下げることなく、しみこみ領域の厚みを幅方向Ｚ２で均一にすることができる。結果として、製造効率は低下することなく長尺の積層体であるハードコートフィルム１０を製造することができ、また、長尺の積層体であるハードコートフィルム１０においては、中間層１３も幅方向Ｚ２で均一な厚みとなるとともに、さらにハードコート層１２も幅方向Ｚ２で均一な厚みとなるので、得られる積層体であるハードコートフィルム１０は干渉むらの程度が幅方向Ｚ２で一定なものとなる。
【００９４】
なお、セルロースアシレートフィルム３１の温度を高くしすぎると、しみこみ領域の厚みの増加作用を超えて塗膜３８の乾燥が促進されるという現象を利用し、第１領域３１ａを塗膜３８の乾燥が促進されるように第２領域３１ａよりも大幅に昇温してもよい。これにより、第２領域３１ａのしみこみ領域の厚みを小さく抑える。この方法も、製造効率を低下させない点で有効である。この方法は、第１領域３１ａを加熱するための加熱装置（図示せず）を、一方の第１加熱装置３５と他方の第１加熱装置３５との間に配することにより実施することができる。
【００９５】
第２の実施形態では、第１乾燥装置４１に代えて、図６に示す第４乾燥装置８０を用いる。図６においては、図３の第１乾燥装置４１と同じ部材、装置については同じ符号を付し、説明を略す。第４乾燥装置８０は、搬送路を囲むようにして温度及び湿度を調整すべき空間を外部空間と仕切るチャンバ８１と、チャンバ８１に配される雰囲気調整部８４と、第１送風機５２と、第１回収機５５とを備える。なお、第１乾燥装置と同様に第１コントローラ５３が設けられてあるが、図示は略す。
【００９６】
雰囲気調整部８４は、雰囲気調整手段５４とダクト８６とからなり、チャンバ８１の内部に設けられる。ダクト８６は、雰囲気調整手段５４よりも外側、すなわち、セルロースアシレートフィルムの搬送路側とは反対側に設けられる。第１送風機５２は、ダクト８６に接続し、所定の温度及び湿度に調整した気体をダクト８６に供給する。ダクト８６の給気口（図示せず）は、雰囲気調整手段５４と対向するように形成されており、気体を雰囲気調整手段５４に向けて流出する。
【００９７】
雰囲気調整手段５４は、ダクト８６からの気体の流れ方向を調整する整流板として作用する。これにより、塗膜３８は、ダクト８６からの気体の吹き付けにより厚みが不均一になることもなく、流れが調整された気体の送り込みにより乾燥がすすむ。
【００９８】
第４乾燥装置８０を用いた場合にも、塗膜３８の乾燥速度のグラフは、第１乾燥装置４１を用いた場合と同様の図４の（ｃ）のグラフと同様に凹形状になる。第４乾燥装置８０を用いると第１乾燥装置４１を用いるよりも側端部３８ｓの乾燥速度が大きくなる傾向があり、側端部３８ｓでの曲線は、図４の（ｃ）の曲線よりも傾きが急になる。このような場合でも、第１加熱装置３５により、セルロースアシレートフィルム３１の第２領域３１ｂを塗布前に予め加熱しておくことにより、第２領域３１ｂでのしみこみ領域の厚みを増加させ、幅方向Ｚ２で一定の厚みをもつ中間層１３を形成することができる。
【００９９】
第３の実施形態では、第１乾燥装置４１に代えて、図７に示す第５乾燥装置９０を用いる。図７においては、図３の第１乾燥装置４１と同じ部材、装置については同じ符号を付し、説明を略す。第５乾燥装置９０は、搬送路を囲むようにして温度及び湿度を調整すべき空間を外部空間と仕切るチャンバ９１と、雰囲気調整部９４と、第１送風機５２と、第１回収機５５とを備える。なお、第１乾燥装置４１と同様に第１コントローラ５３が設けられてあるが、図示は略す。
【０１００】
雰囲気調整部９４は、雰囲気調整手段５４と給気ダクト９６と排気ダクト９７とからなり、チャンバ８１の内部に設けられる。給気ダクト９６は、雰囲気調整手段５４の一方の側縁よりも外側に配され、排気ダクト９７は、他方の側縁よりも外側に配される。これにより、給気ダクト９６から、雰囲気調整手段５４と塗膜３８との間に気体を供給し、塗膜３８の雰囲気は排気ダクト９７で吸引されて外部の第１回収機５５に案内される。
【０１０１】
雰囲気調整手段５４は、給気ダクト９６及び排気ダクト９７による気体の流れ方向を調整する整流板として作用する。これにより、塗膜３８は、給気ダクト９６からの気体の吹き付けにより厚みが不均一になることなく、流れが調整された気体の送り込みにより乾燥がすすむ。
【０１０２】
第５乾燥装置９０を用いた場合には、塗膜３８の乾燥速度は、図４の（ｃ）とは異なり、幅方向Ｚ２で非対称のグラフとなる。具体的には、給気ダクト９６側の側端部３８ｂは、排気ダクト側の側端部３８ｂよりも乾燥速度が大きい。この場合であっても、塗膜３８の乾燥速度が所定の速度よりも大きくなるセルロースアシレートフィルム３１の第２領域３１ｂを特定して、特定した第２領域３１ｂのみを第１乾燥装置３５のヒータ７２で加熱し、特定した第２領域が通過するヒータ７２の発熱量を独立して制御することにより、しみこみ領域の厚みを調整することができる。
【０１０３】
図３，４，６，７に示す実施形態では、雰囲気調整手段５４として、両面が平らな板を用いた場合を図示してあるが、他の形状の雰囲気調整手段を用いてもよい。例えば、雰囲気調整手段として以下のような多孔板や網状物を用いることができる。
【０１０４】
図８に示すように、第４の実施形態における雰囲気調整手段１５４は、厚み方向Ｚ３に貫通する孔１５５が複数形成されてある多孔板である。雰囲気調整手段１５４では、複数の孔１５５がマトリックス状に並ぶように形成されているが、千鳥状に並ぶように形成されてもよい。
【０１０５】
図９に示すように、第５の実施形態における雰囲気調整手段２５４は、金属等の線条体２５５を編んだ網状物である。互いに同じ方向に配される各線条体２５５の距離は、一定としてあるが、不均一であってもよい。また、線条体２５５は、９０°の角度で互いに交差するように編まれているが、公差角度はこれに限定されない。
【０１０６】
多孔板である雰囲気調整手段１５４や、網状物である雰囲気調整手段２５４は、塗膜３８から蒸発した溶剤成分の、塗膜３８のまわりの雰囲気における濃度を調整する作用をもつ。雰囲気調整手段１５４，２５４は、雰囲気調整手段５４よりも、塗膜３８の雰囲気における溶剤成分の濃度を低めに保持する。ただし、この比較は、雰囲気調整手段５４，１５４，２５４のいずれの温度も、雰囲気の温度以上にした場合におけるものである。塗膜３８の雰囲気の流れを調整する作用は、多孔板における孔の形成密度や網における線条体と線条体との隙間の大きさが小さいほど、弱い。
【０１０７】
第６の実施形態では、フィルム製造設備３０に代えて、図１０に示すフィルム製造設備１００を用いる。フィルム製造設備１００は、フィルム製造設備３０の第１乾燥装置４１に代えて第６乾燥装置１０１を備える。
【０１０８】
第６乾燥装置１０１は、雰囲気調整手段１０３とこの雰囲気調整手段１０３の温度を制御するコントローラ１０４とからなる第１の雰囲気調整部１０５を有する。第１の雰囲気調整部１０５は、セルロースアシレートフィルム３１の搬送路に沿って複数備えられてある。なお、第６乾燥装置１０１は、図３に示す第１乾燥装置４１と同様に、搬送路及び複数の第１の雰囲気調整部１０５を囲むチャンバ５１と、第１送風機５２と、第１コントローラ５３と、第１回収機５５とを備えるが、これらの図示は略す。第１送風機５２を用いる場合には、セルロースアシレートフィルム３１の搬送方向Ｚ１における下流から上流に向けて塗膜３８と平行に気体を流すように、すなわち、流出する気体が移動する塗膜３８に対して向かい風になるように、第１送風機５２を配してもよい。なお、第１送風機５２と第１コントローラ５３と第１回収機５５とは、用いなくてもよい。
【０１０９】
雰囲気調整手段１０３はクーラ１０７を備えるコンデンサ（凝縮器）である。雰囲気調整手段１０３は、クーラ１０７がセルロースアシレートフィルム３１の搬送路に対向するように配される。クーラ１０７は、雰囲気よりも低い温度に保持され、コントローラ１０４により温度が制御される。このクーラ１０７による冷却により、雰囲気に含まれる溶剤成分がクーラ１０７の表面で凝縮して液体となる。このように、気体となった溶剤成分がクーラ１０７の表面で液体となることにより、塗膜３８から蒸発した溶剤成分の前記雰囲気における濃度が調整される。この濃度調整により、塗膜３８の乾燥が第１乾燥装置４１におけるよりも速くすすむ。
【０１１０】
各雰囲気調整手段１０３は、起立した姿勢で保持される。各雰囲気調整手段１０３の下方には、液体を回収する回収容器（図示無し）が設けられる。クーラ１０７の表面に付着した液体の溶剤成分は、クーラ１０７の表面を流れ落ちて、回収容器で回収される。
【０１１１】
雰囲気調整手段１０３で液体となった溶剤成分を上記のように回収するために、第６乾燥装置１０１では、セルロースアシレートフィルム３１の搬送路が水平とは交差する向きにされ、下流に向かうに従い徐々に傾きが小さくなるように設定されてあるととともに、塗膜３８が上向きとなるようにされてある。これにより、搬送路と略平行に配する各雰囲気調整手段１０３を、起立した姿勢で配することができる。また、第６乾燥装置１０１から第２乾燥装置４２、第３乾燥装置４３と下流に向かうに従い、搬送路は徐々に水平に近づくように傾きが小さくされる。
【０１１２】
なお、雰囲気調整手段１０３は、塗膜３８の雰囲気の流れを調整する作用も備える。
【０１１３】
この第６乾燥装置１０１を用いた場合にも、塗膜３８の乾燥速度のグラフは、第１乾燥装置４１を用いた図４の（ｃ）のグラフと同様に凹形状になる。第６乾燥装置１０１を用いると第１乾燥装置４１を用いるよりも側端部３８ｓの乾燥速度が大きくなる傾向があり、側端部３８ｓでの曲線は、図４の（ｃ）の曲線よりも傾きが急になる。このような場合でも、第１加熱装置３５により、セルロースアシレートフィルム３１の第２領域３１ｂを塗布前に予め加熱しておくことにより、第２領域３１ｂでのしみこみ領域の厚みを増加させ、幅方向Ｚ２で一定の厚みをもつ中間層１３を形成することができる。
【０１１４】
雰囲気調整手段１０３の、クーラ１０７をヒータ（図示無し）に代えてもよい。この場合には、ヒータとして赤外線ヒータを用いることが好ましい。ヒータを有する雰囲気調整手段（図示無し）の場合には、これを雰囲気調整手段１０３のように起立した姿勢にして配する必要は無い。
【０１１５】
第７実施形態では、フィルム製造設備３０に代えて、図９に示すフィルム製造設備１１０を用いる。フィルム製造設備１１０は、フィルム製造設備３０の第１乾燥装置４１に代えて第７乾燥装置１１１を備える。
【０１１６】
第７乾燥装置１１１は、第６乾燥装置と同様に、第１の雰囲気調整部１０５を、セルロースアシレートフィルム３１の搬送路に沿って複数備える。第７乾燥装置は、さらに、雰囲気調整手段１１３とこの雰囲気調整手段１１３の温度を制御するコントローラ１１４とからなる第２の雰囲気調整部１１５を有する。第２の雰囲気調整部１１５も、セルロースアシレートフィルム３１の搬送路に沿って複数備えられてある。なお、第６乾燥装置１０１は、図３に示す第１乾燥装置４１と同様に、搬送路及び複数の第１、第２の雰囲気調整部１０５，１１５を囲むチャンバ５１と、第１送風機５２と、第１コントローラ５３と、第１回収機５５とを備えるが、これらの図示は略す。なお、第１送風機５２と第１コントローラ５３と第１回収機５５とは、用いなくてもよい。
【０１１７】
雰囲気調整手段１１３は、セルロースアシレートフィルム３１の搬送路を挟んで、雰囲気調整手段１０３とは反対側のエリアに設けられる。雰囲気調整手段１１３は、ヒータ１１７を備え、ヒータ１１７がセルロースアシレートフィルム３１の搬送路に対向するように配される。各雰囲気調整手段１１３は、起立した姿勢で保持される。
【０１１８】
ヒータ１１７は、雰囲気よりも高い温度に保持され、コントローラ１１４により温度が制御される。このヒータ１１７による加熱により、塗膜３８からの溶剤の蒸発がより促される。これにより、クーラ１０７の表面で凝縮して液体となる溶剤成分の単位時間における量も増える。このように、塗膜３８から蒸発した溶剤成分の前記雰囲気における濃度が調整されるとともに、乾燥が第６乾燥装置１０１（図８参照）よりも速くすすむ。
【０１１９】
なお、雰囲気調整手段１１３も、塗膜３８の雰囲気の流れを調整する作用をもつ。
【０１２０】
フィルム製造設備１００，１１０では、第１加熱装置３５を、支持ローラ４８よりも上流の搬送路に関し、セルロースアシレートフィルム３１の非塗布面側に配してあるが、塗布面側に配してもよい。
【０１２１】
以上のフィルム製造設備１０，１００，１０１では、支持ローラ４８に向かうセルロースアシレートフィルム３１の第２領域３１ｂに対して、第１加熱装置３５により加熱を実施するが、他の態様でもよい。他の態様の例を以下に説明する。
【０１２２】
第８実施形態で用いる第２加熱装置１２１は、図１２及び図１３に示すように、複数のヒータ１２２を備える。複数のヒータ１２２は、第１加熱装置３５（図３参照）と同様に、第２加熱装置１２１の一方向に並ぶように配される。第２加熱装置１２１は、支持ローラ４８の周面に対向するように配されるとともに、複数のヒータ１２２の並ぶ方向が支持ローラ４８の長手方向に一致するように配される。第２加熱装置１２１も、第１加熱装置３５と同様に、コントローラ７３（図５参照）を備え、このコントローラ７３により、複数のヒータ１２２は独立して発熱のオン・オフと、オンにした場合の発熱量とを制御される。
【０１２３】
支持ローラ４８の周面のうち、セルロースアシレートフィルム３１の第２領域３１ｂが接触する領域を接触領域と称する。複数のヒータ１２２のうち、接触領域に対向するヒータ１２２を特定する信号がコントローラ７３に入力されると、コントローラ７３は、特定されたヒータ１２２をオンにする。これにより、第２加熱装置１２１は、非接触で支持ローラ４８を加熱し、この支持ローラ４８を介して間接的に第２領域３１ｂを昇温する。そして、オンにするヒータ１２２が複数ある場合には、第２領域３１ｂのうち乾燥速度が大きい位置ほど高い温度になるように、各ヒータ１２２の発熱量を独立して制御する。
【０１２４】
塗布位置は、支持ローラ４８上とされる。セルロースアシレートフィルム３１は、塗布位置よりも上流から塗布位置に至るまでの領域を、支持ローラ４８の周面に巻き掛けられる。これにより、加熱された接触範囲４８ｂに接する第２領域が昇温する。図１３では、巻き掛け範囲を符号ＲＷで示す。ただし、巻き掛け範囲ＲＷの下流端は、塗布位置より下流でもよい。
【０１２５】
第２加熱装置１２１は、セルロースアシレートフィルム３１が支持ローラ４８から離れる支持解除位置から巻き掛け範囲ＲＷの上流端に至る範囲のいずれに対向する位置に配してもよい。
【０１２６】
図１３に示す支持ローラ４８は、駆動手段（図示）によって回転するいわゆる駆動ローラとしているが、搬送手段により搬送されているセルロースアシレートフィルム３１に接することにより回転するいわゆるフリーローラであってもよい。
【０１２７】
本実施形態では、支持ローラ４８の接触領域４８ｂを、第２加熱装置１２１のヒータ１２２により加熱する。ヒータ１２２としては、赤外線ヒータが好ましい。また、支持ローラ４８の接触領域４８ｂを加熱する方法として他の方法を用いてもよい。例えば、支持ローラ４８の内部に伝熱媒体の流路を形成し、所定温度の伝熱媒体を支持ローラ４８の内部に送り込むことによって、接触領域４８ｂを昇温させてもよい。ただし、伝熱媒体の送り込みは、支持ローラ４８さらには塗布ダイ４７の微小な振動を招くこともあるので、本実施形態のように、支持ローラ４８に接触することなく、外部から周面を加熱する方法がより好ましい。
【０１２８】
上記のいずれの実施形態も、塗布位置における第２領域３１ｂを、第１領域３１ａよりも高い温度となるように、塗布前に予め加熱している。ただし、しみこみ領域の厚みを幅方向Ｚ２で一定にするという観点では、第２領域３１ｂを加熱することなく第１領域３１ａを冷却してもよいし、第２領域３１ｂの加熱と第１領域３１の冷却とを併せて実施してもよい。第１領域３１ａを冷却することは、後工程である乾燥工程での乾燥効率を下げることを意味する。そこで、乾燥効率、すなわち積層体の製造効率を保持する観点では、第１領域３１ａを冷却することなく第２領域３１ｂを加熱することがより好ましい。
【０１２９】
上記の製造方法及び設備は、長尺のセルロースアシレートフィルム３１を搬送しながら、塗布及び乾燥させるものであるが、本発明はこれに限定されない。すなわち、積層体の支持体としてのセルロースアシレートフィルム３１を静置した状態で、このセルロースアシレートフィルム３１に対してハードコート塗布液３６を塗布したり、塗膜を乾燥してもよい。
【符号の説明】
【０１３０】
１０ ハードコートフィルム
１１ セルロースアシレート層
１２ ハードコート層
１３ 中間層
２０ 反射防止ハードコートフィルム
３０，１００，１１０ フィルム製造設備
３１ セルロースアシレートフィルム
３５，１２１ 第１，第２加熱装置
３７ 塗布装置
３８ 塗膜
４１，８０，９０，１０１，１１１ 第１，第４〜第７乾燥装置
４８ 支持ローラ
５４，１０３，１１３ 雰囲気調整手段
１０５，１１５ 第１，第２雰囲気調整部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布液の塗布により形成される塗布層と、前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層とを備える積層体の製造方法において、
支持体に、前記塗布液を塗布して塗膜を形成する塗布工程と、
前記塗膜周囲の雰囲気の流れと、前記雰囲気における前記塗膜から蒸発した溶剤成分の濃度との少なくとも一方を調整する雰囲気調整手段に前記塗膜を対向させて、前記塗膜の初期乾燥をすすめる初期乾燥工程と、
前記初期乾燥工程における前記塗膜の初期乾燥が所定の速度ですすむ前記支持体の第１領域とこの第１領域よりも相対的に初期乾燥が速くすすむ第２領域とを予め特定しておき、初期乾燥工程で前記第２領域の温度が前記第１領域よりも高くなるように、前記支持体を加熱する加熱工程を有することを特徴とする積層体の製造方法。
【請求項２】
前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層は前記セルロースアシレートからなるセルロースアシレート層であり、
前記塗布層は透明であり、
前記塗布工程では、搬送されている前記支持体としてのセルロースアシレートフィルムに、塗布液を塗布して塗膜を形成し、
前記初期乾燥工程では、前記雰囲気調整手段に前記塗膜が対抗するように前記セルロースアシレートフィルムを搬送しながら、前記塗膜の初期乾燥をすすめることを特徴とする請求項１記載の積層体の製造方法。
【請求項３】
前記加熱工程では、前記初期乾燥工程における前記第２領域の乾燥速度が大きいほど、前記初期乾燥工程における温度がより高くなるように前記第２領域を加熱することを特徴とする請求項１または２記載の積層体の製造方法。
【請求項４】
前記塗布工程では、ローラの周面に巻き掛けられて支持された前記セルロースアシレートフィルムに前記塗布液を塗布し、
前記加熱工程は、前記ローラの上流に配される加熱手段により、前記ローラに向かう前記セルロースアシレートフィルムの前記第２領域を加熱することを特徴とする請求項２または３記載の積層体の製造方法。
【請求項５】
前記塗布工程では、ローラの周面に巻き掛けられて支持された前記セルロースアシレートフィルムに前記塗布液を塗布し、
前記加熱工程は、前記ローラの周面のうち前記第２領域が接触する接触領域を加熱することにより、前記第２領域を加熱することを特徴とする請求項２または３記載の積層体の製造方法。
【請求項６】
前記初期乾燥工程の間に前記塗膜の一部がしみこんだ前記セルロースアシレートフィルムのしみこみ領域から形成され、セルロースアシレートと前記塗布層の成分とが混在する中間層を前記積層体は有し、
前記初期乾燥工程における前記第２領域の温度と、前記中間層の厚み及び前記塗布層の厚みとの関係を予め求めておき、
前記関係に基づいて前記加熱工程における前記第２領域の温度を設定し、設定された値となるように前記加熱工程での加熱を行うことを特徴とする請求項１ないし５いずれか１項記載の積層体の製造方法。
【請求項７】
所定の固さに達した前記塗膜に乾燥気体を吹き付けることにより前記塗膜を乾燥させる乾燥促進工程を有し、
前記初期乾燥工程では、前記乾燥促進工程よりも小さな乾燥速度で、所定の固さになるまで前記塗膜の初期乾燥をすすめることを特徴とする請求項１ないし６いずれか１項記載の積層体の製造方法。
【請求項８】
塗布液の塗布により形成される塗布層と、前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層とを備える積層体の製造方法において、
支持体に、前記塗布液を塗布して塗膜を形成する塗布工程と、
前記塗膜周囲の雰囲気の流れと、前記雰囲気における前記塗膜から蒸発した溶剤成分の濃度との少なくとも一方を調整する雰囲気調整手段に前記塗膜を対向させて、前記塗膜の初期乾燥をすすめる初期乾燥工程と、
前記初期乾燥工程における前記塗膜の初期乾燥が所定の速度ですすむ前記支持体の第１領域とこの第１領域よりも相対的に初期乾燥が速くすすむ第２領域とを予め特定しておき、初期乾燥工程で前記第１領域の温度が前記第２領域よりも低くなるように、前記支持体を冷却する冷却工程を有することを特徴とする積層体の製造方法。
【請求項９】
塗布液の塗布により形成される塗布層と、前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層とを備える積層体の製造設備において、
前記支持体に、前記塗布液を塗布して塗膜を形成する塗布装置と、
前記塗膜と対抗して設けられ、前記塗膜周囲の雰囲気の流れと前記雰囲気における前記塗膜から蒸発した溶剤成分の濃度との少なくとも一方を調整する雰囲気調整手段と、
前記雰囲気調整手段を有し、前記塗膜の初期乾燥をすすめる初期乾燥装置と、
前記初期乾燥装置における前記塗膜の初期乾燥が所定の速度ですすむ前記支持体の第１領域とこの第１領域よりも相対的に乾燥が速くすすむ第２領域とが特定されると、前記初期乾燥で前記第２領域の温度が前記第１領域よりも高くなるように前記支持体を加熱する加熱装置とを備えることを特徴とする積層体の製造設備。
【請求項１０】
前記支持体としてのセルロースアシレートフィルムを搬送する搬送手段を備え、
前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層は前記セルロースアシレートからなるセルロースアシレート層であり、
前記塗布層は透明であり、
前記塗布装置は、前記搬送手段により搬送されているセルロースアシレートフィルムに、塗布液を塗布し、
前記雰囲気調整手段は、前記塗膜に対向するように前記セルロースアシレートフィルムの搬送路に沿って設けられ、
前記加熱装置は、前記塗布液が塗布される塗布位置の上流に配されていることを特徴とする請求項９記載の積層体の製造設備。
【請求項１】
塗布液の塗布により形成される塗布層と、前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層とを備える積層体の製造方法において、
支持体に、前記塗布液を塗布して塗膜を形成する塗布工程と、
前記塗膜周囲の雰囲気の流れと、前記雰囲気における前記塗膜から蒸発した溶剤成分の濃度との少なくとも一方を調整する雰囲気調整手段に前記塗膜を対向させて、前記塗膜の初期乾燥をすすめる初期乾燥工程と、
前記初期乾燥工程における前記塗膜の初期乾燥が所定の速度ですすむ前記支持体の第１領域とこの第１領域よりも相対的に初期乾燥が速くすすむ第２領域とを予め特定しておき、初期乾燥工程で前記第２領域の温度が前記第１領域よりも高くなるように、前記支持体を加熱する加熱工程を有することを特徴とする積層体の製造方法。
【請求項２】
前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層は前記セルロースアシレートからなるセルロースアシレート層であり、
前記塗布層は透明であり、
前記塗布工程では、搬送されている前記支持体としてのセルロースアシレートフィルムに、塗布液を塗布して塗膜を形成し、
前記初期乾燥工程では、前記雰囲気調整手段に前記塗膜が対抗するように前記セルロースアシレートフィルムを搬送しながら、前記塗膜の初期乾燥をすすめることを特徴とする請求項１記載の積層体の製造方法。
【請求項３】
前記加熱工程では、前記初期乾燥工程における前記第２領域の乾燥速度が大きいほど、前記初期乾燥工程における温度がより高くなるように前記第２領域を加熱することを特徴とする請求項１または２記載の積層体の製造方法。
【請求項４】
前記塗布工程では、ローラの周面に巻き掛けられて支持された前記セルロースアシレートフィルムに前記塗布液を塗布し、
前記加熱工程は、前記ローラの上流に配される加熱手段により、前記ローラに向かう前記セルロースアシレートフィルムの前記第２領域を加熱することを特徴とする請求項２または３記載の積層体の製造方法。
【請求項５】
前記塗布工程では、ローラの周面に巻き掛けられて支持された前記セルロースアシレートフィルムに前記塗布液を塗布し、
前記加熱工程は、前記ローラの周面のうち前記第２領域が接触する接触領域を加熱することにより、前記第２領域を加熱することを特徴とする請求項２または３記載の積層体の製造方法。
【請求項６】
前記初期乾燥工程の間に前記塗膜の一部がしみこんだ前記セルロースアシレートフィルムのしみこみ領域から形成され、セルロースアシレートと前記塗布層の成分とが混在する中間層を前記積層体は有し、
前記初期乾燥工程における前記第２領域の温度と、前記中間層の厚み及び前記塗布層の厚みとの関係を予め求めておき、
前記関係に基づいて前記加熱工程における前記第２領域の温度を設定し、設定された値となるように前記加熱工程での加熱を行うことを特徴とする請求項１ないし５いずれか１項記載の積層体の製造方法。
【請求項７】
所定の固さに達した前記塗膜に乾燥気体を吹き付けることにより前記塗膜を乾燥させる乾燥促進工程を有し、
前記初期乾燥工程では、前記乾燥促進工程よりも小さな乾燥速度で、所定の固さになるまで前記塗膜の初期乾燥をすすめることを特徴とする請求項１ないし６いずれか１項記載の積層体の製造方法。
【請求項８】
塗布液の塗布により形成される塗布層と、前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層とを備える積層体の製造方法において、
支持体に、前記塗布液を塗布して塗膜を形成する塗布工程と、
前記塗膜周囲の雰囲気の流れと、前記雰囲気における前記塗膜から蒸発した溶剤成分の濃度との少なくとも一方を調整する雰囲気調整手段に前記塗膜を対向させて、前記塗膜の初期乾燥をすすめる初期乾燥工程と、
前記初期乾燥工程における前記塗膜の初期乾燥が所定の速度ですすむ前記支持体の第１領域とこの第１領域よりも相対的に初期乾燥が速くすすむ第２領域とを予め特定しておき、初期乾燥工程で前記第１領域の温度が前記第２領域よりも低くなるように、前記支持体を冷却する冷却工程を有することを特徴とする積層体の製造方法。
【請求項９】
塗布液の塗布により形成される塗布層と、前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層とを備える積層体の製造設備において、
前記支持体に、前記塗布液を塗布して塗膜を形成する塗布装置と、
前記塗膜と対抗して設けられ、前記塗膜周囲の雰囲気の流れと前記雰囲気における前記塗膜から蒸発した溶剤成分の濃度との少なくとも一方を調整する雰囲気調整手段と、
前記雰囲気調整手段を有し、前記塗膜の初期乾燥をすすめる初期乾燥装置と、
前記初期乾燥装置における前記塗膜の初期乾燥が所定の速度ですすむ前記支持体の第１領域とこの第１領域よりも相対的に乾燥が速くすすむ第２領域とが特定されると、前記初期乾燥で前記第２領域の温度が前記第１領域よりも高くなるように前記支持体を加熱する加熱装置とを備えることを特徴とする積層体の製造設備。
【請求項１０】
前記支持体としてのセルロースアシレートフィルムを搬送する搬送手段を備え、
前記塗布液中の成分がしみこみ可能な層は前記セルロースアシレートからなるセルロースアシレート層であり、
前記塗布層は透明であり、
前記塗布装置は、前記搬送手段により搬送されているセルロースアシレートフィルムに、塗布液を塗布し、
前記雰囲気調整手段は、前記塗膜に対向するように前記セルロースアシレートフィルムの搬送路に沿って設けられ、
前記加熱装置は、前記塗布液が塗布される塗布位置の上流に配されていることを特徴とする請求項９記載の積層体の製造設備。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図２】
【図３】
【図４】
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【図１０】
【図１１】
【図１２】
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【公開番号】特開２０１１−２００８２２（Ｐ２０１１−２００８２２Ａ）
【公開日】平成２３年１０月１３日（２０１１．１０．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−７２０６４（Ｐ２０１０−７２０６４）
【出願日】平成２２年３月２６日（２０１０．３．２６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１０月１３日（２０１１．１０．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月２６日（２０１０．３．２６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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