【課題】微小電子機械デバイスと、微小電子機械デバイスを作成する方法を提供する。
【解決手段】静電干渉変調器ディスプレイデバイスを製作する方法と、その方法によって形成されたデバイスが開示される。一実施形態では、静電干渉変調器ディスプレイデバイスは、前面基板と背面板を積層することによって製作され、その各々が上部で機能する部材を有する。前面基板と背面板の少なくとも一方は、干渉変調のために選択された深さのキャビティを有する。フィーチャは、付着およびパターン形成によって、型押しによって、またはパターン形成およびエッチングによって形成される。前記方法は、製造コストを低減するばかりでなく、より高い歩留まりも提供する。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
静的干渉表示デバイスを作成する方法であって、
第１の基板上に形成された光学スタックを含む第１の基板を提供するステップであって、前記第１の基板が、実質的に透明な材料から形成されるステップと、
第２の基板上に形成されたミラー層を含む第２の基板を提供するステップであって、前記第１の基板および前記第２の基板の少なくとも一方が、前記静的干渉デバイスがそれを表示するように構成された画像に基づいてパターン形成されたキャビティを定める複数の支持構造を含む、ステップと、
前記第１の基板を前記第２の基板に結合するステップであって、前記光学スタックが、前記第２の基板に面し、前記ミラー層が、前記第１の基板に面し、一方の前記基板の前記キャビティが、他方の前記基板に面し、
前記第１の基板が、前記キャビティを定める前記複数の支持構造を含み、前記光学スタックが、前記支持構造の頂上および前記キャビティの底上に形成され、前記光学スタックが、前記支持構造の前記頂部と前記キャビティの前記底の間で途切れているか、または
前記第２の基板が、前記キャビティを定める前記複数の支持構造を含み、前記ミラー層が、前記支持構造の頂上および前記キャビティの底上に形成され、前記ミラー層が、前記支持構造の前記頂部と前記キャビティの前記底の間で途切れているか
のどちらかである、ステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記第１の基板が、前記キャビティを含み、前記第２の基板が、実質的に平坦である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１の基板が、実質的に平坦であり、前記第２の基板が、前記キャビティを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記キャビティが、多数の色を干渉的に発生させるように、多数の深さを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
静的干渉表示デバイスを作成する方法であって、
複数のキャビティを定める支持構造を含む第１の面を含む、第１の基板を提供するステップであって、前記キャビティが、少なくとも１つの深さを有し、前記キャビティが、前記静的干渉表示デバイスがそれを表示するように構成された画像に少なくとも部分的に基づいてパターン形成される、ステップと、
光学スタックが前記支持構造の頂部と前記キャビティの底の間で途切れるように、前記支持構造の前記頂上および前記キャビティの前記底上に光学スタックを提供するステップと、
前記第１の面上に重ねてミラー層を提供するステップと
を含む方法。
【請求項６】
前記第１の基板を提供するステップが、型押しプロセス、フォトリソグラフィおよびエッチングプロセス、ならびにインスクライブプロセスの１つを使用して、前記第１の基板を成形するステップを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記支持構造が、前記第１の基板と同じ材料から、前記第１の基板と一体形成される、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記ミラー層を提供するステップが、前記光学スタック上に重ねて前記ミラー層を付着するステップを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項９】
前記第１の基板が、実質的に透明な材料から形成される、請求項５に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１の基板が、実質的に透明な材料から形成され、前記光学スタックを提供するステップが、前記第１の基板の前記キャビティ内に部分反射層を形成するステップを含み、前記ミラー層を提供するステップが、第２の基板を前記第１の基板に結合するステップを含み、前記第２の基板が、その上に形成された前記ミラー層を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１の基板の前記キャビティの少なくとも一部を実質的に透明な材料で満たすステップをさらに含み、前記実質的に透明な材料が、前記光学スタック上に重ねて形成される、請求項５に記載の方法。
【請求項１２】
前記ミラー層を提供するステップが、前記キャビティの前記少なくとも一部を満たした後、前記実質的に透明な材料上に前記ミラー層を形成するステップを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
静的干渉表示デバイスであって、
第１の面を含む第１の基板であって、前記第１の面上にキャビティを定める支持構造を含み、前記キャビティが、前記静的干渉表示デバイスがそれを表示するように構成された画像に少なくとも部分的に基づいてパターン形成される、第１の基板と、
前記第１の基板に結合される第２の基板であって、前記第１の面に面する第２の面を含む第２の基板と、
前記第１の面と前記第２の面の間に形成された部分透明層を含む光学スタックとを含み、
前記第１の基板が、前記支持構造の頂上に前記光学スタックまたはミラー層を、前記キャビティの底上に同じ光学スタックまたはミラー層を含み、
前記光学スタックまたはミラー層が、前記支持構造の前記頂部と前記キャビティの前記底の間で途切れている、
静的干渉表示デバイス。
【請求項１４】
前記支持構造が、前記第１の基板と同じ材料から、前記第１の基板と一体形成される、
請求項１３に記載のデバイス。
【請求項１５】
前記光学スタックが、前記支持構造の前記頂上および前記キャビティの前記底上に形成され、前記デバイスが、前記第２の基板の前記第２の面上に形成されるミラー層を含む、請求項１３に記載のデバイス。
【請求項１６】
前記第２の基板が、反射材料から形成される、請求項１３に記載のデバイス。
【請求項１７】
前記第２の基板が、鏡のような金属箔を含む、請求項１６に記載のデバイス。
【請求項１８】
前記第１の基板の前記キャビティの少なくとも一部を満たす実質的に透明なフィラをさらに含む、請求項１３に記載のデバイス。
【請求項１９】
前記光学スタックが、前記支持構造の前記頂上および前記キャビティの前記底上に形成され、前記デバイスが、前記実質的に透明なフィラ上にミラー層をさらに含み、前記ミラー層が、前記キャビティに面する、請求項１８に記載のデバイス。
【請求項２０】
静的干渉表示デバイスであって、
第１の面を含む第１の基板であって、前記第１の面上にキャビティを定める支持構造を含み、前記キャビティが、前記静的干渉表示デバイスがそれを表示するように構成された画像に少なくとも部分的に基づいてパターン形成され、前記第１の基板が、前記支持構造の頂上および前記キャビティの底上に光学スタックをさらに含み、前記光学スタックが、部分反射層を含み、前記光学スタックが、前記支持構造の前記頂部と前記キャビティの前記底の間で途切れている、第１の基板と、
前記第１の面上に重ねて形成されたミラー層と
を含む静的干渉表示デバイス。
【請求項２１】
前記第１の基板の前記キャビティの少なくとも一部を満たす実質的に透明なフィラをさらに含む、請求項２０に記載のデバイス。
【請求項２２】
前記支持構造が、前記第１の基板と同じ材料から、前記第１の基板と一体形成される、請求項２０に記載のデバイス。

【図１】

【図２】

【図３】

【図４】

【図５Ａ】

【図５Ｂ】

【図６Ａ】

【図６Ｂ】

【図７Ａ】

【図７Ｂ】

【図７Ｃ】

【図７Ｄ】

【図７Ｅ】

【図８】

【図９】

【図１０】

【図１１Ａ】

【図１１Ｂ】

【図１２Ａ】

【図１２Ｂ】

【図１２Ｃ】

【図１２Ｄ】

【図１３】

【図１４Ａ】

【図１４Ｂ】

【図１４Ｃ】

【図１４Ｄ】

【図１５】

【図１６Ａ】

【図１６Ｂ】

【図１６Ｃ】

【図１６Ｄ】

【図１６Ｅ】

【図１６Ｆ】

【図１７Ａ】

【図１７Ｂ】

【図１７Ｃ】

【図１８Ａ】

【図１８Ｂ】

【図１８Ｃ】

【図１９】

【図２０】

【図２１】

【図２２Ａ】

【図２２Ｂ】

【図２２Ｃ】

【図２３Ａ】

【図２３Ｂ】

【図２３Ｃ】

【図２４Ａ】

【図２４Ｂ】

【図２５】

【図２６Ａ】

【図２６Ｂ】

【図２６Ｃ】

【図２６Ｄ】

【図２６Ｅ】

【図２７Ａ】

【図２７Ｂ】

【図２７Ｃ】

【図２７Ｄ】

【図２８】

【図２９Ａ】

【図２９Ｂ】

【図２９Ｃ】

【図２９Ｄ】

【図３０Ａ】

【図３０Ｂ】

【図３０Ｃ】

【図３０Ｄ】

【図３１Ａ】

【図３１Ｂ】

【図３１Ｃ】

【図３１Ｄ】

【図３２Ａ】

【図３２Ｂ】

【図３２Ｃ】

【図３２Ｄ】

【図３２Ｅ】

【図３３Ａ】

【図３３Ｂ】

【図３３Ｃ】

【図３３Ｄ】

【図３４Ａ】

【図３４Ｂ】

【図３４Ｃ】

【図３４Ｄ】

【図３５Ａ】

【図３５Ｂ】

【図３５Ｃ】

【図３５Ｄ】

【図３６Ａ】

【図３６Ｂ】

【図３６Ｃ】

【図３６Ｄ】

【図３６Ｅ】

【図３７Ａ】

【図３７Ｂ】

【図３７Ｃ】

【図３７Ｄ】

【図３７Ｅ】

【図３８Ａ】

【図３８Ｂ】

【図３８Ｃ】

【図３８Ｄ】

【図３９Ａ】

【図３９Ｂ】

【図４０】

【図４１Ａ】

【図４１Ｂ】

【図４１Ｃ】

【図４２Ａ】

【図４２Ｂ】

【図４２Ｃ】

【図４３Ａ】

【図４３Ｂ】

【図４３Ｃ】

【図４４Ａ】

【図４４Ｂ】

【図４４Ｃ】

【図４４Ｄ】

【図４４Ｅ】

【図４５Ａ】

【図４５Ｂ】

【図４５Ｃ】

【図４５Ｄ】

【図４６Ａ】

【図４６Ｂ】

【図４７】

【図４８】

【図４９Ａ】

【図４９Ｂ】

【図４９Ｃ】

【図５０】

【図５１】

【図５２Ａ】

【図５２Ｂ】

【図５３Ａ】

【図５３Ｂ】

【図５３Ｃ】

【図５３Ｄ】

【図５４】

【図５５】

【図５６】

【図５７】

【図５８】

【図５９】

【図６０】

【図６１】

【公開番号】特開２０１０−１９８０２２（Ｐ２０１０−１９８０２２Ａ）
【公開日】平成２２年９月９日（２０１０．９．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−５６１０９（Ｐ２０１０−５６１０９）
【出願日】平成２２年３月１２日（２０１０．３．１２）
【分割の表示】特願２０１０−５０７５２５（Ｐ２０１０−５０７５２５）の分割
【原出願日】平成２０年４月２８日（２００８．４．２８）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ
２．ＧＳＭ
【出願人】（５０８０９５３３７）クォルコム・メムズ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド (133)
【Ｆターム（参考）】