【課題】Ｘ線回折測定において、プロファイル中心部分から離れた部分の成因についても解析可能とする。
【解決手段】バルク結晶等の試料をＸ線回折測定して構造解析する。このとき、スキャン角度をΔθ、反射指数ｈｋｌ面と試料表面との角度を面角度をθｃとして、Ｘ線回折プロファイルの横軸をΔθ／sinθｃとしてプロットし、解析対象ピークのピーク拡がり形状が、結晶のモザイク性により生じる局所的なtwist分布に起因して生じるピーク拡がり形状であるか否かを判定する方法において、Ｘ線回折プロファイルを広開口角条件と狭開口角条件の２種類の条件で測定し、両開口角条件で不変性を示すピーク拡がり形状部分がtwist分布に起因した普遍的分布に対応することを同定する工程を備えている。 （もっと読む）

【課題】被写体によって生じた集光Ｘ線ビームの屈折角を高い分解能でかつ短時間で検出可能とし、高い空間分解能で被写体を観察できるＸ線撮像装置を提供する。
【解決手段】集光Ｘ線ビームの角度分布の端が回折条件を満たすように入射角を調整した結晶のＸ線回折を利用して、被写体によって生じた集光Ｘ線ビームの屈折角を検出する。 （もっと読む）

【課題】エネルギー分解能が良好な１次元の位置感応型Ｘ線検出器を用いることで、受光側にモノクロメータを配置することなく、蛍光Ｘ線に起因するバックグラウンドを低減する。
【解決手段】入射Ｘ線２８と回折Ｘ線３０とのなす角度を変更しながら試料２０からの回折Ｘ線３０の強度をＸ線検出器１０で検出する。Ｘ線検出器１０はシリコン・ストリップ検出器であり、細長く延びる単位検出領域を複数個備えている１次元の位置感応型検出器である。この検出器は、受光したＸ線のうち、そのＸ線エネルギーが上限値と下限値の間にあるものだけを弁別する機能を備えている。ＣｕＫαにおけるエネルギー分解能は２０％以下である。上述の上限値と下限値を適切に設定することで、蛍光Ｘ線の大半をカウントしないようにすることができて、本来の回折Ｘ線の強度をあまり下げずに、バックグラウンドを大幅に下げることができる。 （もっと読む）

【課題】マイクロリトグラフィーのための物体の検査を可能にし、短い全長を有する反射型顕微鏡を提供する。
【解決手段】物体平面内での物体を検査する反射型Ｘ線顕微鏡であって、物体は、波長＜１００ｎｍ、特に、＜３０ｎｍの光線で照明され、像平面に拡大して結像され、第１鏡と第２鏡とを含み、物体平面から像平面までの光路内に配置される第１副系とを備える。反射型Ｘ線顕微鏡が光路内で第１副系に後置されて少なくとも第３鏡を有する第２副系を含むことにより特徴付けられる。 （もっと読む）

【課題】火災や炭酸化等の影響を受けたＡＬＣパネルの強度性状を明らかにして、ＡＬＣパネルの劣化を正確に判断するとともに、継続使用の可否判断が可能なＡＬＣパネルの劣化診断方法を提供すること。
【解決手段】ＡＬＣパネルの試験体を用いて予め（１）加熱時間又は経過時間と深さ方向におけるトバモライトピークの高さの変化又は深さ方向における貫入力の変化に基づくＡＬＣパネルの変化に係わる深さとの関係（２）加熱時間毎又は経過時間毎の荷重とたわみとの関係とを求め、実際に火災又は炭酸化の影響を受けたＡＬＣパネルの表面から深さ方向に沿ってコア抜きしたサンプルから、深さ方向におけるトバモライトピークの高さの変化又は深さ方向における貫入力の変化に基づくＡＬＣパネルの変化に係わる深さを測定し、得られた測定結果と上記関係（１）、（２）とからＡＬＣパネルの劣化を診断する。 （もっと読む）

【課題】極微量の元素検出を可能とし、被射体内部の特定元素分布をＣＴで得られるのと同様に断層像として、高空間分解能を有する機能画像の作成を行う蛍光エックス線分析装置を提供すること。
【解決手段】単色エックス線をシートビーム状に照射する光源部と、分析試料を支持する試料支持部と、分析試料に含まれる被検元素から発生する蛍光エックス線を検出する検出部と、データ処理用コンピューターを備え、検出部がエックス線照射方向と直交するシートビーム面に配設され、検出素子からエックス線照射方向へおろした垂線上に存在する被検元素から発生する蛍光エックス線を検出し、且つ、試料支持部がシートビーム面を垂直に貫通する線を中心軸としてシートビーム面を光源部及びエックス線検出部に対して相対的に回転し、分析試料を単色エックス線で回転走査して分析試料内部の画像を得ることができる蛍光エックス線検出装置として構成する。 （もっと読む）

【課題】２つの結晶の方位関係と結晶粒界の特性をリアルタイムで正確に確認できることを特徴とし、透過電子顕微鏡のゴニオメ−タを利用した隣り合う結晶粒の結晶学的方位関係と結晶粒界の特性を測定する測定装置及びその測定方法を提示する。
【解決手段】このため結晶軸（Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３）に対してゴニオメ−タを利用してＸ傾斜軸及びＹ傾斜軸にそれぞれ垂直する軸である（Ｔｘ，Ｔｙ）値を測定し、測定された結晶軸（Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３）に対する３つの（Ｔｘ，Ｔｙ）値から（Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３）結晶軸の挟角を求める。次いで（Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３）の結晶指数から結晶学的な方法で（Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３）の挟角を求める。次いで、測定された（Ｔｘ，Ｔｙ）値から得た（Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３）の挟角と結晶学的に算出した挟角とを比較して、その差を最小化する（Ｔｘ，Ｔｙ）値を正確な測定値として選択して、傾斜軸と結晶軸（Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３）間の関係を樹立する。次いで２つの結晶間の脱角行列を利用して結晶粒界の特性を糾明する。 （もっと読む）

【課題】ナノメートルレベルの高強度なＸ線マイクロビームを実現する。
【解決手段】Ｘ線集光レンズは、屈折率がＮ₁のカーボン層３の上下を屈折率がＮ₂のルテニウム層２，４で挟んだ導波路構造を有し、カーボン層３の一部に形成された屈折率がＮ₃のＸ線位相シフター層５と、上部ルテニウム層４の表面上の一部に形成された屈折率がＮ₂以上のＸ線遮蔽層６を有する。位相シフター層５は、Ｘ線の波長をλ、焦点距離をｆ、Ｘ線ビームの中心からＡＹ方向に沿った距離をＹ_n（Ｑ／Ｐ）＝｛ｎλｆ＋２λｆ（Ｑ／Ｐ−１）｝^1/2（ｎは偶数、ＰとＱは１≦Ｑ≦Ｐを満たす整数）としたとき、Ｙ_n（Ｑ／Ｐ）の位置とＹ_n（（Ｑ−１）／Ｐ）の位置との間の領域に配置され、Ｘ線位相シフター層５の長さｔ（Ｑ／Ｐ）は、ｔ（Ｑ／Ｐ）＝（Ｑ−１）×λ／｛Ｐ×（Ｎ₃−Ｎ₁）｝である。 （もっと読む）

【課題】電子線回折像から、メインスポットを正確に特定し、メインスポットの位置を正確に特定して、スポット間距離を計測する。
【解決手段】電子線回折像から、明るさの閾値より明るい画素が隣接している集団をスポットであると判定する。次に、各画素集団の明るさの重心位置を、そのスポットの計測基準位置とする。各スポットの面積を算出し、面積が最大のスポットをメインスポットと判定する。メインスポットと対になるスポットを回折スポットとする。スポット間距離、格子面間隔、及び、散乱角を算出する。 （もっと読む）

Ｘ線光学システムは、高強度のＸ線ビームを生成する。システムは、輪郭の幾何学的な対称軸とは異なる軸周辺で定められた前記輪郭を回転させることで形成される光学反射面を含む。従って、システムは、試料上に照射するフラックスを増加させるために、円形の放射プロファイルを有する源又は大きな源を用いることができる。
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【課題】
電子線を応用した検査装置では、電子像を取得して欠陥の有無を判定していたため、画像の取得時間や画像データの転送速度、画像処理の速さなどで検査速度の向上に限界が生じていた。
【解決手段】
電子レンズ１１１の後焦点面に形成される回折スポットのうち、試料１０４から垂直に反射される電子が形成する部分を遮蔽物１１７で遮蔽し、その他の反射電子線を検出器１１２で検出し、その積分強度を入出力装置１１５でモニタすることにより異物や欠陥の判定を行う。 （もっと読む）

【課題】物体内の高コントラスト像を一度に、且つ容易に得ることのできる、新しい非破壊分析方法および非破壊分析装置を提供する。
【解決手段】 単色平行Ｘ線１を物体２に照射し、物体２からの屈折Ｘ線等３を透過型結晶分析体４ａに入射させ、その屈折Ｘ線等３を透過型結晶分析体４ａの動力学的回折作用によって前方方向回折Ｘ線４１ａと回折方向回折Ｘ線４２ａとに分光する際に、透過型結晶分析体４ａの厚さを、予め、物体がないときに、前方方向回折Ｘ線４１ａおよび回折方向回折Ｘ線４２ａのいずれか一方の強度が略ゼロとなるような厚さに設定する。 （もっと読む）

【課題】微小領域の歪みを簡単に測定できるようにする。
【解決手段】立方晶の金属組織に１５ｎｍ〜１００μｍ間隔で電子線を照射して、後方散乱電子回折像法より測定点毎に結晶方位を決定し、決定した結晶方位分布および隣接する前記測定点間の方位角度差より、格子歪を決定し、前記格子歪に基づいて金属組織上における残留応力分布を求める。また、求めた残留応力分布および測定対象の金属材料の降伏応力に基づいて塑性域と判定された領域において、前記方位角度差と前記金属材料の弾性限とに基づいて、塑性変形により生じた角度差を算出し、前記算出した角度差に基づいて、幾何学的に必要な転位の転位密度を予測する。 （もっと読む）

【課題】 空間可干渉性を向上させることが可能となるＸ線位相イメージングに用いられるＸ線用線源格子等を提供する。
【解決手段】 Ｘ線源と被検体との間に配置され、Ｘ線位相イメージングに用いられるＸ線用線源格子である。Ｘ線用線源格子は、Ｘ線を遮蔽する厚さを有する突起部が一定の間隔で周期的に配列されてなる複数の部分格子を備えている。前記複数の部分格子はずらして積層されている。 （もっと読む）

【課題】ブラッグピークの発現を低減させた中性子散乱実験用部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム、クロム、鉄及びニッケルからなる群から選択される少なくとも１種の金属２．８〜１２．８重量％並びにバナジウム８７．２〜９７．２重量％からなるバナジウム合金を含む中性子散乱実験用部材。 （もっと読む）

【課題】多結晶固体のＥＢＳＤ測定から得られる前記多結晶固体の結晶方位情報と位置情報とを含む数値データを使用して、実材料を詳細に反映した材料特性の三次元数値解析を、詳細でかつ誤差の少なく実行できるようにする。
【解決手段】多結晶固体を構成する結晶粒に対して、後方散乱電子回折装置を用いて１つの結晶粒について複数の測定点を含むように測定対象の各結晶粒を計測されて得た数値データＡ_iを入力し、入力された数値データＡ_iを有限要素に割り付け、前記有限要素に三次元テンソルで表わされる物性値を与えて有限要素モデルを構築し、該有限要素モデルを用いて前記数値データＡ_iを数値解析する。 （もっと読む）

【課題】後方散乱電子線回折（ＥＢＳＤ）法により得られた塑性変形を受けていない多結晶材料の結晶情報を用いて、多結晶材料が巨視的変形を受けた際の微視組織の不均一変形状態を、簡易な方法で迅速且つ確実に予測し、多結晶材料の塑性変形時の機械特性を正確に得る。
【解決手段】多結晶材料からなる試料について、後方散乱電子線回折法によって得られた各測定点の結晶情報を用いた多結晶材料の変形特性を予測する際に、各測定点の結晶情報を入力するステップと、入力された各測定点の結晶情報を用いて、各測定点と１対１に対応するように要素分割し、離散化モデルを作成するステップと、離散化モデルを用いて、所定の境界条件の下に変形解析を行うステップとを実行する。 （もっと読む）

【課題】従来よりも光子密度の高い単色Ｘ線を発生することができ、単色化されたＸ線の波長を変更することができるＸ線集光装置を提供すること。
【解決手段】複数の結晶素子（１１ａ、１１ｂ）を備え、
光源と焦点とを通る直線をｘ軸、該ｘ軸に直交する方向をｙ軸、入射角を決めるパラメータをαとして、ｘ軸上に位置する長さ２Ｌの弦を有し、かつｘ^２＋（ｙ−Ｌ／tanα）^２＝Ｌ^２（１−１／tan²α）で表される円弧上に、前記結晶素子が配置され、
前記光源が前記弦の一方の端点（Ａ）に位置し、前記焦点が前記弦の他方の端点（Ｂ）に位置し、
前記光源から放射されたＸ線が前記結晶素子によって反射されて前記焦点に集光するように、前記結晶素子の結晶格子面の方向が決定されている。 （もっと読む）

【課題】ナノビーム電子回折法の格子歪測定精度を向上し、結晶試料における局所領域の応力・格子歪を高精度に測定する。
【解決手段】回折スポット１４と透過スポット１５の間隔（あるいは異なる回折スポットの間隔）１６（Ｋ）と格子面間隔ｄとの間には、Ｋ＝１／ｄの関係がある。従って、スポット間隔Ｋの変化から格子面間隔の変化、すなわち格子歪を知ることができる。コンデンサレンズ絞り２を明瞭に観察することにより、回折スポット間隔の測定精度を高くする。この結果、格子歪の測定精度が向上する。そこで、電子回折図形を観察し記録するステップにおいて、コンデンサレンズ絞り２に焦点が合うように中間レンズ１１を調整する。これにより、結晶試料４における局所領域の応力・格子歪を高精度に測定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線タルボ・ロー干渉計による高感度Ｘ線撮像法の分野において、安価に製作でき、高精度かつ高アスペクト比のマルチスリットを用いたＸ線撮像装置を提供する
【解決手段】Ｘ線発生源１は、必要量のＸ線を、スリット部材２に向けて照射する。スリット部材２は、Ｘ線の吸収量が低い低吸収材２１と、低吸収材２１よりもＸ線の吸収量が高い高吸収材２２とを備える。低吸収材２１と高吸収材２２とは、実質的に同じ方向に延長される。さらに、低吸収材２１と高吸収材２２とは、交互に、かつ、所定のピッチで積層されている。スリット部材２は、低吸収材２１及び高吸収材２２の延長方向が、Ｘ線発生源１から照射されるＸ線の進行方向と交差するように配置される。第一格子３は、スリット部材２を透過したＸ線を回折する。第二格子４は、第一格子３で回折したＸ線を回折する。Ｘ線画像検出器５は、第二格子４で回折したＸ線を検出する （もっと読む）