【課題】構造が簡単であり、グローブを着けての作業も行い易く、電極と外部電位との電気的な接続を安定的にとることができる電池構造体を提供する。
【解決手段】電界物質を含んでいるセパレータ７の両面に配置された正極材８及び負極材９と、正極材８に接触している正極側シール部材３ｂと、負極材９に接触している負極側シール部材３ａと、正極側シール部材３ｂに接触している正極側弾性部材４ｂと、負極側シール部材３ａに接触している負極側弾性部材４ａと、正極側弾性部材４ｂと負極側弾性部材４ａとを互いに近づく方向へ押し付ける弾性部材押圧機構５ａ、５ｂ，１８、２２とを有するＸ線測定用電池構造体１である。シール部材３ｂ，３ａは耐食性を有しており、シール部材３ｂ，３ａ及び弾性部材４ｂ，４ａはＸ線を通過させる部分を有しており、弾性部材押圧機構５ｂ、５ａ、１８、２２はＸ線経路を妨げない。 （もっと読む）

【課題】 トールボット干渉法において、従来よりも回折格子及び遮蔽格子の移動の調整が容易で、かつ被検体に対して入射する光の入射方向の変化による位相像のぼけを抑制して縞走査法を行うことができる撮像装置を提供すること。
【解決手段】 撮像装置１は、光源からの発散光を回折することで干渉パターンを形成する回折格子３１０と、干渉パターンの一部を遮蔽する遮蔽格子４１０と、遮蔽格子を経た光を検出する検出器５１０と、回折格子３１０及び遮蔽格子４１０を移動させる移動手段１０１０と、を備え、移動手段１０１０は、回折格子３１０及び遮蔽格子４１０が相対移動しないように回折格子３１０及び遮蔽格子４１０を移動させることで、干渉パターン及び遮蔽格子４１０を相対移動させ、検出器５１０は、干渉パターン及び４１０遮蔽格子の相対移動に対応して、光を検出する。 （もっと読む）

【課題】本発明はＥＰＭＡ(電子プローブマイクロアナライザ)におけるＸ線像データ処理方法及び装置に関し、異なるシーケンスで取得し位置ずれが存在しているＸ線像データ同士であっても、相関演算処理を正確に行なうことができるようにすることを目的としている。
【解決手段】 ＥＰＭＡを用いて試料の同一領域について異なるタイミングでそれぞれＸ線像のデータを取得して記憶する場合において、各タイミングで前記領域について２次電子又は反射電子検出に基づく電子像データを併せて取得して記憶し、異なるタイミングで取得した電子像データを比較して位置ずれ量を算出し、算出した位置ずれ量に基づき、前記異なるタイミングで得た各Ｘ線像データに対して、各Ｘ線像データに共通して存在する領域を切り出す処理を施すことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、シリコン（Ｓｉ）基板を用い電鋳法で格子の金属部分をより緻密に形成し得る金属格子の製造方法および前記金属格子ならびにこれを用いたＸ線撮像装置を提供する。
【解決手段】本発明の金属格子ＤＧは、第１Ｓｉ部分１１とこの上に形成され第２Ｓｉ部分１２ａおよび金属部分１２ｂを交互に平行に配設した格子１２とを備え、第２Ｓｉ部分１２ａは、金属部分１２ｂとの間に第１絶縁層１２ｃを有し、その頂部に第２絶縁層１２ｄを有する。金属格子ＤＧは、シリコン基板上にレジスト層を形成し、これをリソグラフィー法でパターニングして除去し、ドライエッチング法で除去部分を所定の深さＨまでエッチングして凹部（例えばスリット溝等）を形成し、この凹部の形成面側の全面に堆積法によって絶縁層を形成し、凹部の底部の絶縁層を除し、電鋳法で凹部を金属で埋めることで製造される。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、X線等による回折測定時の含水結晶の乾燥を防ぎ、適切な試料凍結を行う方法及びそのための装置の提供を目的とする。
【解決手段】
結晶を水溶性ポリマーで包み込む工程を含む含水結晶のＸ線回折測定方法。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線分析を行うのに好適なＸ線分析装置及びＸ線分析方法を提供する。
【解決手段】照射Ｘ線用の開口部３６と参照Ｘ線用の孔３８とが形成されたマスク１８と、供試体２０を支持する支持部１９と、マスクを介して供試体にＸ線を照射することにより得られるホログラム像を取得する２次元Ｘ線検出器２２とを有し、マスクと支持部とが相対的に移動自在である。 （もっと読む）

【課題】減厚による歪緩和の影響を補正して、バルクの結晶中の歪を測定する。
【手段】結晶基材を含む被測定試料に集束イオンビームを照射して減厚し、被測定試料薄片とする減厚工程と、減厚工程途中の複数時点で、被測定試料薄片に集束電子線を照射して高角度散乱電子の電子線強度Ｉ１〜Ｉ３を測定する工程と、前記複数時点で、結晶基材の格子定数を電子線回折法により測定し、被測定試料薄片の歪Ｅ１〜Ｅ３を算出する工程と、散乱電子の電子線強度Ｉ１〜Ｉ３及び歪Ｅ１〜Ｅ３に基づき、散乱電子の電子線強度Ｉを変数とする歪の近似式Ｅ＝Ｅ（Ｉ）を作成する工程と、減厚に伴い歪緩和が始まる臨界厚さに等しい厚さの結晶基材に、集束電子線を照射したとき測定される高角度散乱電子の臨界電子線強度Ｉｏを予測する工程と、臨界電子線強度Ｉｏを近似式Ｅ＝Ｅ（Ｉ）に代入して、被測定試料の歪Ｅｏを算出する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】透過法によるＸ線回折測定ができる構造を前提として、被測定試料と標準試料の周囲環境を同じにして高精度な熱分析測定を実現する。
【解決手段】被測定試料に対しＸ線を照射してＸ線回折測定を実施するとともに、当該被測定試料および標準試料を加熱して熱分析測定を同時に実施する機能を備えたＸ線回折・熱分析同時測定装置であり、被測定試料および標準試料を加熱する加熱炉を備えている。この加熱炉は、円筒形状をしており、中心軸が水平方向に配置され、一端面から他端面へとＸ線を透過可能な構成をしている。さらに、被測定試料および標準試料を加熱する加熱炉内に配置され、これら各試料から伝えられる熱を検出する感熱板３０と、感熱板３０の感熱面に設けられた被測定試料を保持する第１試料保持部３１と、感熱板３０の感熱面に設けられた標準試料を保持する第２試料保持部３２とを有している。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線の伝搬損失が少なく、導波モードが位相制御されたＸ線導波路を提供する。
【解決手段】 Ｘ線導波路は、物質の屈折率実部が１以下となる波長帯域のＸ線を導波させるためのコア４０４と、コア４０４にＸ線を閉じ込めるためのクラッド４０２，４０３と、を備える。コア４０４とクラッド４０２，４０３が、コア４０４とクラッド４０２，４０３との界面での全反射によりＸ線をコアに閉じ込めてＸ線を導波するように構成されている。コア４０４が、屈折率実部が異なる複数の物質が２次元以上の方向に周期的に配列された周期構造を持つ。Ｘ線導波路には、コア４０４のＸ線の導波方向に垂直な方向においてＸ線の電場強度分布または磁場強度分布の腹または節の数と周期構造の周期数とが一致する導波モードが存在する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線トポグラフを求めるＸ線回折装置においてＸ線トポグラフの平面領域内の位置を明確に特定できるようにする。光学顕微鏡、イメージングデバイス等によって捕えることができない光学的に透明な物質を可視化して測定対象とする。
【解決手段】試料１８の平面領域から出たＸ線を空間的に１対１の幾何学的対応をつけて平面的なＸ線トポグラフとして検出し、当該Ｘ線トポグラフを信号として出力するＸ線トポグラフィ装置４，２２と、試料１８の平面領域の光像を受光してその光像を平面位置情報によって特定された信号として出力する２次元イメージングデバイス６と、Ｘ線トポグラフの出力信号とイメージングデバイス６の出力信号とに基づいて合成画像データを生成する画像合成用の演算制御装置とを有するＸ線回折装置である。 （もっと読む）

【課題】測定試料およびＸ線照射装置の姿勢を制御する駆動機構を有さず、かつ測定可能な試料の大きさや形状に特段の制約のないＸ線回折装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るＸ線回折装置は、Ｘ線照射装置と二次元Ｘ線検出器とを有するＸ線回折装置であって、前記二次元Ｘ線検出器は平板状に設置されており、前記Ｘ線照射装置は前記二次元Ｘ線検出器を貫通するように配設され、前記二次元Ｘ線検出器と前記Ｘ線照射装置とが一体に固定され、前記Ｘ線照射装置の姿勢を規定しかつＸ線の漏洩を防止するための筒状シールド部材が前記二次元Ｘ線検出器の周縁に配設されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ダイナミックレンジが広くかつ密度分解能が高い屈折コントラスト型X線撮像方法を提供する
【解決手段】 被写体の密度分布に応じて、非対称結晶の非対称度を変化させることによって、入射Ｘ線と回折Ｘ線がほぼ比例する角度領域を広げ、回折Ｘ線強度が最大値の半分となる低角および高角の入射角度で測定を行う。 （もっと読む）

【課題】より高効率に、かつより高精度に極点図測定することが可能なＸ線回折用治具を提供する。
【解決手段】主表面１２ｃを有するベース体１２０と、一方の主表面１２ｃから突出するようにベース体１２０に固定された複数の側壁部１２１と、一方の主表面１２ｃ上に載置され、試料１１の高さを調整可能な調整部材１４とを備えている。上記側壁部１２１の最上面１２ａ、１２ｂは主表面１２ｃに沿う方向に配置され、複数の最上面１２ａ、１２ｂのそれぞれの、主表面１２ｃからの距離は等しく、複数の側壁部１２１は主表面１２ｃを挟みながら互いに対向する。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子光学装置において試料キャリアの温度を決定する方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、荷電粒子光学装置において試料キャリアの温度を決定する方法に関し、該方法は、荷電粒子のビームを用いた試料キャリアの観測を含み、その観測は、その試料キャリアの温度に関する情報を与える。本発明は、TEM、STEM、SEM又はFIBなどの荷電粒子光学装置が、試料キャリアの温度に関する変化を観測するために使用することができるという見識に基づく。その変化は、力学的変化（例えば、二次金属）、結晶学的変化（例えば、ぺロブスカイトの）、及び発光変化（強度又は減衰期間）であってよい。望ましい実施形態において、異なる熱膨張係数を持つ金属（208、210）を示す2つの二次金属（210a、210b）を示し、反対方向に湾曲する。その2つの二次金属間の距離は、温度計として使用され得る。 （もっと読む）

【課題】２次元検出器を用いた場合であっても極点図測定を正確に行うことが可能なＸ線回折装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線回折装置は、Ｘ線源と、試料を保持し、移動可能な保持台と、試料から回折により出射されるＸ線を検出する２次元検出器と、Ｘ線源と保持台と２次元検出器とを制御する制御処理部とを備える。制御処理部は、記憶手段と演算手段（工程（Ｓ５０））と極点図作成手段（工程（Ｓ７０））とを含む。記憶部は、２次元検出器により複数の条件下で検出されたＸ線の複数の強度データを記憶する。演算手段（工程（Ｓ５０））は、複数の強度データについて、それぞれの強度データに対応するＸ線の試料における吸収量の差を補正するように、強度データに対する補正演算を行う。極点図作成手段（工程（Ｓ７０））は、補正演算された補正後の複数の強度データを用いて試料の極点図データを作成する。 （もっと読む）

【課題】回折格子と遮蔽格子を有するタルボ干渉法を用いた撮像装置において、回折格子および遮蔽格子の姿勢のずれによるキャリア周波数に対応するスペクトル強度の低下を軽減する。
【解決手段】撮像装置はＸ線源１１０とＸ線源１１０から出射したＸ線を回折する回折格子１３０と回折格子１３０によって回折されたＸ線の一部を遮る遮蔽格子１５０と遮蔽格子１５０を経たＸ線の強度分布を検出する検出器１７０とを有する。更に、撮像装置は、調整部１９０を有する。調整部１９０は、検出器１７０で検出された強度分布を複数の領域に分割し、複数の領域の強度分布に基づいて、回折格子１３０および遮蔽格子１５０のうち少なくともいずれか一方の姿勢を調整する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は回折装置及びその使用に関する。
【解決手段】
本発明の回折装置は、コンパクト粉末回折装置であり、１以上の検出装置（１８）を持ち、これは、粉末サンプル（１４）を配置するためのサンプル台（１７）から３００ｍｍ未満、例えば５５ｍｍに設けられる。小さい寸法であるにもかかわらず、本発明の装置は、前記サンプルへの適切に広がったＸ線入射ビームと、単色化結晶を用いたグレージング条件での放出による小さいスポットサイズとを達成する構成を用いることで、小さい寸法であるにもかかわらず高分解能が得られる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、ナノ電子線回折パタンにおける各スポットの座標を適切に定義し、格子面距離を精度良く算出することを目的とする。
【解決手段】 上記課題は、回折スポット及び透過スポットを含む複数のスポットを表す電子線またはＸ線回折パタンを二階調化して二階調化データを生成するステップと、前記二階調化データを用いて、前記スポットの領域に相当する定義円を作成するステップと、前記スポットと前記定義円の各画素における差の二乗和が最小になるように前記定義円のサイズ又は座標の少なくとも１つを変化させて該スポットへフィッティングさせることによって、該スポットの近似円を取得するステップと、前記近似円の中心座標で前記スポットの座標を定義することによって、スポット間の距離を算出し格子面距離を取得するステップとをコンピュータが実行する半導体素子の評価方法により達成される。 （もっと読む）

【課題】従来は測定し難かった測定対象物であっても容易に測定できるＸ線回折装置及びＸ線回折の測定方法を提供する。
【解決手段】Ｘ線を照射するＸ線照射源１と、Ｘ線が測定対象物９に照射されて回折したＸ線を検出する検出器２と、Ｘ線照射源１と検出器２とを移動可能に支持する支持部材１０と、を備えているＸ線回折装置１００であって、支持部材１０は、直交する二軸のそれぞれの軸方向に、それぞれ独立して移動可能な第１の位置決め手段１３及び第２の位置決め手段１４と、二軸に垂直な軸の軸方向に移動可能な第３の位置決め手段１５とを備え、Ｘ線照射源１及び検出器２が固定された第１の位置決め手段１３、第２の位置決め手段１４及び第３の位置決め手段１５が所定の位置に移動することにより、Ｘ線の照射位置及び回折したＸ線の検出位置が決定されるように構成されているＸ線回折装置。 （もっと読む）

【課題】 ２次元トールボット干渉法を用いた撮像装置において、キャリア周波数の強度を大きくすること。
【解決手段】 撮像装置は電磁波源と、電磁波源から出射した電磁波を回折する回折格子と、回折格子からの電磁波を遮る遮蔽部１５１（１５１ａ，１５１ｂ，１５１ｃ）と透過させる複数の透過部１５２（１５２ａ，１５２ｂ，１５２ｂ）とを有する遮蔽格子と、遮蔽格子を経た電磁波を検出する検出器と、を備える。回折格子は電磁波を回折することによって、井桁状の干渉パターンを形成する。また、遮蔽格子には、複数の透過部が２次元的に配列しており、遮蔽部の一部と複数の透過部のうち１つの透過部とからなる単位パターン１５３（１５３ａ，１５３ｂ，１５３ｃ）において、単位パターンの面積に対して透過部の面積が占める面積比は、０．２５より大きい。 （もっと読む）