【課題】回折線による分析精度の低下を抑制することができる蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】蛍光Ｘ線分析装置１００は、スペクトルから、二次Ｘ線ピークを抽出する二次Ｘ線ピーク抽出部１２と、抽出された前記二次Ｘ線ピークのエネルギー幅を算出する二次Ｘ線ピーク幅算出部１３と、抽出された前記二次Ｘ線ピークのエネルギー値における蛍光Ｘ線ピークのエネルギー幅の情報を取得する蛍光Ｘ線ピーク幅情報取得部１４と、二次Ｘ線ピーク幅算出部１３が算出した前記二次Ｘ線ピークのエネルギー幅が、前記二次Ｘ線ピークのエネルギー値における蛍光Ｘ線ピークのエネルギー幅よりも大きい場合に、抽出された前記二次Ｘ線ピークを回折線ピークと判定する回折線ピーク判定部１５と、を含む。 （もっと読む）

【課題】モアレのビジビリティ低下を抑制することができ、高画質な位相像や微分位相像を取得することが可能となるトモシンセシス撮像装置及びトモシンセシス画像の撮像方法を提供する。
【解決手段】被検査物内部の奥行き情報を取得するトモシンセシス撮像装置であって、
遮蔽格子は、透過部と遮蔽部とが周期的に配列され、これらの周期が互いに異なる周期を有する、少なくとも２つの部分遮蔽格子の積層によって構成され、
２つの部分遮蔽格子を周期の方向に移動させ、積層による部分遮蔽格子間の各遮蔽部の重なり状態を制御する制御手段を備え、
電磁波源の回転による電磁波源の入射方向に応じて、制御手段により各遮蔽部の重なり状態を制御し、
電磁波源から出射され遮蔽格子の透過部を透過する電磁波が、各遮蔽部による遮蔽を抑制する。 （もっと読む）

【課題】測定試料およびＸ線照射装置の姿勢を制御する駆動機構を有さず、測定可能な試料の大きさや形状に特段の制約がなく、測定面上に標準試料を安定して固定することができ、かつＸ線回折測定を行う際にＸ線の漏洩が防止されたＸ線回折装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るＸ線回折装置は、Ｘ線照射装置と二次元Ｘ線検出器とを有し前記二次元Ｘ線検出器よりも大きい測定対象物に対してＸ線回折測定を行うＸ線回折装置であって、前記二次元Ｘ線検出器は平板状に設置されており、前記Ｘ線照射装置は前記二次元Ｘ線検出器を貫通するように配設され、前記二次元Ｘ線検出器と前記Ｘ線照射装置とが一体に固定され、前記Ｘ線照射装置の姿勢を規定しかつＸ線の漏洩を防止するための筒状シールド部材が前記二次元Ｘ線検出器の周縁に配設されており、前記測定対象物の表面に前記Ｘ線回折測定に用いる標準試料粉末を付着させ固定する付着固定機構を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】試料の各部ごとの材料特性情報を容易に、直感的に、しかも正確に知ることができるＸ線応力測定装置を提供する。
【解決手段】試料Ｓの光学画像を撮像するカメラ７と、その光学画像を表示するディスプレイ１７と、ディスプレイ１７の画面上の位置を入力できる入力装置１８と、Ｘ線を発生するＸ線源１１と、試料Ｓを移動させるテーブル４と、試料Ｓから出たＸ線Ｒ２を検出するＸ線検出器１２と、入力装置１８によって指示された位置に基づいて試料Ｓの測定位置を決定し、決定された試料Ｓの測定位置に対して測定を行う測定プログラムと、Ｘ線検出器１２の出力信号に基づいて試料Ｓの測定位置における応力を演算する応力演算プログラムと、試料Ｓの光学画像及び測定位置、応力の絶対値、及び応力の方向をディスプレイ１７の同じ画面上に表示させる画像形成プログラム２２とを有するＸ線応力測定装置である。 （もっと読む）

【課題】 装置を小型化し、かつ、被検知物によるＸ線の吸収効果を考慮した微分位相像または位相像を得ることが可能なＸ線撮像装置およびＸ線撮像方法を提供する。
【解決手段】 Ｘ線を空間的に分割させ、被検知物に透過させた際に生じるＸ線の位置変化量に応じて、Ｘ線の透過量が連続的に変化するような減衰素子を用いる。一方の減衰素子と、この一方の減衰素子とは透過量の増減量が異なるか、または、増減傾向が異なる他方の減衰素子とを用いて透過率を算出する。この透過率を用いて、被検知物の微分位相像等を演算する。 （もっと読む）

【課題】比較的大きな試料であっても、その試料全域において、金属組織レベルで金属材料の残留応力分布を、簡易的に、精度よく測定する方法を提供する。
【解決手段】金属材料の後方散乱電子回折像から結晶方位分布を取得するステップＳ１と、結晶方位分布から隣接格子点間の格子ひずみを算出するステップＳ２と、結晶方位分布における方位差で示す転位密度から塑性ひずみを算出するステップＳ３と、格子ひずみと塑性ひずみの差分から弾性ひずみを算出するステップＳ４と、金属材料に所定の荷重を負荷して塑性変形させた後、塑性変形後の金属材料について、再度ステップＳ１〜ステップＳ４を実行し、かつ、塑性変形後の金属材料表面の座標変位を測定するステップＳ５と、座標変位から塑性変形前後の座標を対応させて、塑性変形前の残留応力成分と塑性変形後の残留応力成分との差分を求めるステップＳ６とにより金属材料の残留応力を測定する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線回折測定装置において、高精度で回折環を検出できるようにする。
【解決手段】コントローラＣＴは、測定対象物にて回折したＸ線による回折環を記録した回折光受光器２８にレーザ光を照射して回折環を測定する。コントローラＣＴは、レーザ光が照射されている位置の半径値が増加するに従って大きくなる回折Ｘ線の減衰量の変化を補正するように、半径値を用いてレーザ光強度を計算して、計算したレーザ光強度のレーザ光を回折光受光器２８に照射する。また、コントローラＣＴは、前記半径値が増加するに従って大きくなる測定対象物にＸ線を照射した際の回折Ｘ線が受光される面積の変化を補正するように、前記半径値を用いてフォーカス制御値を計算して、前記計算したフォーカス制御値に応じて対物レンズによるフォーカス位置を制御して、回折光受光器２８に形成されるレーザ光のスポット径を制御する。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線回折測定装置において、誤ったイメージングプレートの使用を避ける。
【解決手段】 コントローラＣＴは、測定対象物にて回折したＸ線による回折環をイメージングプレート２８に記録して、回折環を記録したイメージングプレート２８にレーザ光を照射して回折環を測定する。新たなイメージングプレート２８には、製造日を含む識別データがＸ線により記録されており、新たなイメージングプレート２８への交換後には、識別データが読取られ、その後、識別データがイメージングプレート２８から消去される。これにより、新たなイメージングプレート２８への交換後に識別コードが読取れなかった場合には、コントローラＣＴは、使い古しのイメージングプレート２８がセットされたと判定する。また、コントローラＣＴは、製造日を用いて使用期限の切れたイメージングプレート２８のセットも判定する。 （もっと読む）

【課題】試料表面及び厚さ方向の構造を精度よく分析できる試料構造の分析方法及び分析装置を提供する。
【解決手段】この分析装置は、試料２００が配置されるステージ１０３と、Ｘ線照射機１０１と、Ｘ線検出器１０２と、針状電極１０５と、針状電極１０５と同期してレーザーを走査するレーザー照射装置１０６と、少なくともステージ１０３、該ステージ１０３に設置される試料２００、及び針状電極１０５が収容される真空チャンバ１２１と、電源装置１０８とを備え、試料２００にＸ線１１１を照射して、該試料にて回折されたＸ線１１２をＸ線検出器１０２で検出する工程と、試料２００に高電圧及びレーザー１１３を印加して、針状電極１０５と試料２００の間に生じた電界強度とレーザーパワーにより、該試料表面を電界蒸発して掘削する工程とを交互に行うように制御されている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は隣接するスペクトルの重なりの影響を低減することができ、且つ、波数空間上のスペクトルをフィッティングして位相回復を行うよりも少ない計算量で位相回復を行うことができる計算方法、プログラムと、撮像装置を提供すること。
【解決手段】 撮像装置は、シアリング干渉計と、シアリング干渉計により得られる干渉パターンから被検体の情報を算出する算出手段を備える。
算出手段は、干渉パターンを窓フーリエ変換することにより得られる波数空間上の座標におけるフーリエ成分を表す式を３以上用い、それらのフーリエ成分を表す式を連立方程式として解くことで被検体の情報を算出する。 （もっと読む）

【課題】多結晶材上に非晶質材が積層されてなる積層膜において、積層膜を構成する非晶質材の内部歪みを精緻に特定することができる非晶質材の内部歪み特定方法を提供する。
【解決手段】多結晶材上に非晶質材が積層されてなる積層膜における非晶質材の内部歪みを特定する方法であって、Ｘ線回折法を使用して、多結晶材１の第１の内部歪みを測定する第１のステップと、多結晶材１'上に非晶質材２を形成して積層膜５を作製する第２のステップと、Ｘ線回折法を使用して、積層膜５を構成する多結晶材１'の第２の内部歪みを測定する第３のステップと、第１の内部歪みと第２の内部歪みの差分から非晶質材２の内部歪みを特定する第４のステップからなる。 （もっと読む）

【課題】走査透過型電子顕微鏡を用いて簡易に歪の分布解析を行う結晶材料の格子歪評価方法、評価システムを提供する。
【解決手段】結晶材料の格子歪評価方法は、結晶構造を有する試料に対して晶帯軸方向に電子線を照射し、試料により回折される複数の回折波の内、特定方向に回折される特定の回折波を選択して検出する工程と、上記電子線を照射し特定の回折波を選択して検出する工程を、試料上を走査しつつ繰り返し、試料について各点での回折強度から特定の回折波に対応する方向の歪分布像を得る工程と、を含む。格子歪が生じると励起誤差が変化し回折強度は変化するので歪分布像が得られる。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線回折分析と蛍光Ｘ線分析の両方の分析により単結晶構造解析を行うＸ線分析装置の提供。
【解決手段】Ｘ線源２と、Ｘ線源が放射するＸ線を単結晶試料へ入射させる光学系３と、単結晶試料を支持する試料台４と、回折Ｘ線検出器５と、回折検出器５を角度移動させる回転駆動系６と、回折Ｘ線測定データ保存部と、回折Ｘ線の測定データに基づいて結晶構造のデータ解析を行う構造解析データ解析部と、エネルギー分散型蛍光Ｘ線検出器７と、蛍光Ｘ線測定データ保存部と、蛍光Ｘ線の測定データに基づいて蛍光Ｘ線分析を行う蛍光Ｘ線解析部と、蛍光Ｘ線分析データ保存部と、蛍光Ｘ線分析データを取得するとともに構造解析データ解析部へ出力する、蛍光Ｘ線分析データ取得手段と、を備える複合Ｘ線分析装置１であって、構造解析データ解析部は、蛍光Ｘ線分析データ取得手段が出力する蛍光Ｘ線分析データに基づいて、結晶構造のデータ解析を行う。 （もっと読む）

【課題】タンパク質結晶に損傷を与えることなく、かつ、簡便に、Ｘ線回折実験に適用するためのタンパク質結晶試料の調製方法を提供する。
【解決手段】タンパク質及びゲル化剤を含む溶液をイオン架橋形成溶液に加えて、タンパク質溶液を内包したイオン架橋ゲルカプセルを形成させる工程を含む、タンパク質結晶化用カプセルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高い空間解像度が得られる暗視野画像を得る方法、暗視野画像撮影装置及び、角度分析板を提供する。
【解決手段】厚さが２ｃｍ以上、原子面の回折に係る指数が２２０又は４４０のシリコン単結晶の角度分析板１２を用いて、平行な状態で被検体Ｓａに照射され、該被検体を透過したビームＸを、前方回折ビームＦＤと回折ビームＤとに分離し、分離された前方回折ビームＦＤ及び回折ビームＤの両方または少なくとも一方により、被検体Ｓａの暗視野画像を得る。 （もっと読む）

【課題】 回折Ｘ線の強度にかかわらず、回折環を精度よく測定できるようにする。
【解決手段】 コントローラＣＴは、レーザ光の照射位置をイメージングプレート２８の中心周りに回転させるとともに径方向に変化させている状態で、イメージングプレート２８の同一回転角度でレーザ光の強度又は受光信号の増幅率を同一にするとともに、イメージングプレート２８が所定角度ずつ変化するごとにレーザ光の強度又は受光信号の増幅率を変化させる。コントローラＣＴは、イメージングプレート２８の回転角度が基準角度から所定角度ずつ変化するごとに受光信号を順次取得して、受光信号の大きさがピークとなる径方向位置を１周分検出し、検出した１周分の径方向位置における受光信号に基づいて、最適なレーザ光の強度又は受光信号の増幅率を設定する。 （もっと読む）

【課題】発光のブルーシフトが抑制された発光デバイスの製造に好適なＩＩＩ族窒化物結晶基板、エピ層付ＩＩＩ族窒化物結晶基板、ならびに半導体デバイスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本ＩＩＩ族窒化物結晶基板１は、結晶基板の表面層の均一歪みが１．９×１０^-3以下であり、結晶基板の表面層の不均一歪みが１３０ａｒｃｓｅｃ以下であり、均一歪みと不均一歪みとは、それらの一方が小さくなるほど他方が小さくなる関係を有し、結晶基板の主表面１ｓの面方位が、結晶基板の（０００１）面または（０００−１）面１ｃから＜１０−１０＞方向に１０°以上８０°以下で傾斜している。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線回折測定において測定対象試料を気密状態で測定装置内に保持するために使用されるホルダーであって、試料のセットが容易で、かつＸ線透過窓等の試料以外の部分からの回折を検出する問題も生じさせないＸ線回折測定用気密試料ホルダーを提供する。
【解決手段】測定対象試料を設置する試料設置板、前記試料設置板を保持する保持部を有する底板とこの底板に対して垂直方向に延設される複数の壁又は柱と前記壁間又は柱間に設けられたＸ線透過部とからなる試料搭載具、及び、柔軟、非透気性かつＸ線透過性の膜からなり、前記試料搭載具を気密状態で封入可能な気密袋からなることを特徴とするＸ線回折測定用気密試料ホルダー。 （もっと読む）

【課題】縞走査法を用いて被検体の位相微分画像を生成する放射線撮影装置において、格子の移動精度を向上させる。
【解決手段】Ｘ線源とＸ線画像検出器との間に第１の格子２１と第２の格子２２とが対向配置されている。走査機構は、第１の格子２１に対して第２の格子２２を、格子線に直交する方向（ｘ方向）に対して角θをなす方向に相対的に並進移動させ、第１の格子２１に対する第２の格子２２の相対位置を複数の走査位置に順に設定する。Ｘ線画像検出器は、各走査位置において、第２の格子２２により生成されるＧ２像を検出して画像データを生成する。位相微分画像生成部は、Ｘ線画像検出器により生成される複数の画像データに基づいて位相微分画像を生成する。第１及び第２の格子２１，２２に代えて、線源格子を上記方向に並進移動させてもよい。 （もっと読む）

【課題】露光マスクを必要とせず、Ｘ線タルボ干渉計用位相型回折格子を容易かつ高精度で製造することができる方法を提供する。
【解決手段】畝部１０ｂが複数形成され、隣接する畝部の間に樹脂部１２が介装されたＸ線タルボ干渉計用位相型回折格子１０の製造方法であって、モールド母材５０に単結晶ダイヤモンド製の刃具２００で溝部を切削加工し、溝の幅が４μｍ以下であるモールド形成工程と、シード層が成膜された面に未硬化樹脂が塗布された基板の塗布面に、モールドを加熱した状態で加圧浸漬し、その後未硬化樹脂が硬化する温度に冷却してモールドを前記基板から離して、突出部と溝部を有する樹脂部を形成する樹脂形成工程と、樹脂部の溝部に、溝部がＸ線干渉計で画像を得るときに照射するＸ線の位相をπ／２変化させる厚さの金属を電鋳して畝部を形成する回折格子の畝部形成工程と、を有する。 （もっと読む）