【課題】 Ｘ線の吸収効果を考慮した被検知物の位相変化に関する像を得ることのできるＸ線撮像装置および撮像方法を提供する。
【解決手段】 Ｘ線を空間的に分割する分割素子と、遮蔽素子を複数有する遮蔽手段を有する。また、第１の検出画素と第２の検出画素を含む画素群を複数有する検出手段を有する。第１の検出画素で検出されるＸ線は前記遮蔽素子によりＸ線の一部が遮蔽されるように構成されている。第１の検出画素と隣り合う第２の検出画素で検出されるＸ線は遮蔽素子によりＸ線が遮蔽されないように構成されている。 （もっと読む）

【課題】転がり疲労損傷程度を評価して保守作業を効率化する。
【解決手段】対象材に対してＸ線回折により結晶子サイズおよび不均一ひずみを測定し、結晶子サイズが３０ｎｍ以下であるとの条件及び不均一ひずみが０．２５％以上であるとの条件の少なくとも一方の条件で対象材に対して転がり疲労き裂の発生予測を決定する。また、基準材の結晶子サイズに対して対象材の結晶子サイズが５０％以下であるとの条件、及び、基準材の不均一ひずみに対して対象材の不均一ひずみが２倍以上の変化であるとの条件の少なくとも一方の条件で対象材に対して転がり疲労き裂の発生予測を決定する。 （もっと読む）

【課題】電子回折断層撮影の方法を提供する。
【解決手段】当該発明は、透過電子顕微鏡における電子回折断層撮影のための方法を記載する。知られた方法は、走査透過電子顕微鏡を使用することを伴うと共に、ＳＴＥＭの回折の走査されたビームを使用する。当該発明は、結晶と比べてわずかにより大きい直径を備えた静止のビーム（２００）で回折パターンを形成することを提案するが、それの結果としてＳＴＥＭユニット無しのＴＥＭは、使用されることができる。結晶を見出すことは、ＴＥＭのモードにおいてなされる。当該発明に従った方法の利点は、走査するユニット無しのＴＥＭが、使用されることができると共に、全体の結晶が、回折パターンを得る一方で、照明される際に、回折のボリュームが、結晶の配向に依存するものではないというものである。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線における特定の波長領域を取り出すに当たり、効率よく狭い波長幅のものを取り出すことができ、フィルタリング性能の向上を図ることが可能となるＸ線源システム及びＸ線位相イメージングシステムを提供する。
【解決手段】Ｘ線源と、位相格子と、吸収格子と、を有するＸ線源システムであって、
位相格子は、Ｘ線源と一定の距離をおいて設置され、
位相格子の構造が、Ｘ線源より照射されたＸ線による位相波面を所定の形状に変形させる屈折レンズを、Ｘ線の照射される方向と直交する方向に並べた屈折レンズ群で構成されると共に、
吸収格子は、屈折レンズ群による干渉で特定の周波数領域のＸ線による干渉縞のコントラストが高くなる位置に設置され、
Ｘ線の透過率を高くした特定の領域が、屈折レンズ群による特定の周波数領域における干渉縞のＸ線強度が高くなる箇所に対応させて配設されている。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線回折装置において異なる波長のＸ線に基づいた測定データを１回の測定によって同時に取得できるようにする。異なる波長の回折線のデータを２次元検出器の受光面の全領域を使って取得することを可能とする。
【解決手段】Ｘ線発生源２から発生した特性Ｘ線を試料３に照射し、試料３で回折した特性Ｘ線をＸ線検出部器６のＸ線検出部１３によって検出する波長分別型Ｘ線回折装置１である。Ｘ線発生源２は、原子番号が異なる複数の金属によって構成され、それぞれの金属から互いに波長が異なる複数の特性Ｘ線を発生する。Ｘ線検出部１３は、それぞれがＸ線を受光してＸ線の波長に対応したパルス信号を出力する複数のピクセル１２で構成される。ピクセル１２のそれぞれに付設されておりピクセル１２の出力信号を特性Ｘ線の波長ごとに分別して出力する分別回路が設けられている。個々のピクセル１２において波長別にＸ線強度を検出する。 （もっと読む）

【課題】結晶構造が回転対称の試料だけでなく、回転対称でない試料であっても、簡単に精度のよい分析をすることができるコンパクトな蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】本発明の蛍光Ｘ線分析装置は、結晶構造を有する試料Ｓが載置される試料台８と、試料Ｓに１次Ｘ線２を照射するＸ線源１と、試料Ｓからの２次Ｘ線４を検出する検出手段７と、試料台８を回転させる回転手段１１と、試料台８を平行移動させる平行移動手段１２と、試料Ｓの回転角度とその角度で発生する２次Ｘ線４の強度とを対応させて取得した回折パターンに基づいて、隣り合う間隔が１８０°未満であって、回折Ｘ線を回避できる回避角度を少なくとも３つ選択するための選択手段１７とを備え、制御手段１５が、試料台８、回転手段１１および平行移動手段１２が当該装置の他の構造物と干渉しない回避角度に試料Ｓを設定するように回転手段１１を制御する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線測定における割込み測定を簡単に行えるようにし、複数の試料に対する主測定及び割込み測定の両方の信頼性を高く維持する。
【解決手段】試料支持台１２を含むＸ線測定系４を防Ｘ線カバー２で包囲して成るＸ線測定装置１である。主測定の対象である複数のウエハを収容したカセット４３ａを載せるカセット台４１ａと、割込み測定の対象である複数のウエハを収容したカセット４３ｂを載せるカセット台４１ｂとが防Ｘ線カバー２の外側にある。試料室シャッタ５２を開けることによりカセット４３ａ，４３ｂ内のウエハをカバー２の内部のＸ線測定系４へ搬送できる。Ｘ線測定系４によってウエハの主測定又は割込み測定を行っている間、カバー８ａ，８ｂによってカセット４３ａ，４３ｂを覆い、ロック装置４２ａ，４２ｂでカバー８ａ，８ｂを開かないようにして、カセット４３ａ,４３ｂ内のウエハが測定者の意に反して交換されてしまうことを防止する。 （もっと読む）

【課題】測定対象物へのＸ線の照射密度を高めた場合にも、バックグラウンドとなる蛍光Ｘ線に影響されることなく回折Ｘ線のピークを正確に判別することができるＸ線応力測定装置を提供する。
【解決手段】金属試料表面にＸ線を照射するＸ線照射手段と、金属試料表面から発せられる回折Ｘ線を検出するＸ線検出手段と、回折Ｘ線の波長変化から金属の応力を演算する演算手段とを備えたＸ線応力測定装置において、Ｘ線検出手段と金属試料表面との間にＴｉフィルタとＣｌ化合物フィルタとを備えたことを特徴とする。なおＴｉとＣｌ化合物とを含有するフィルタを用いてもよい。ＴｉフィルタはＦｅの蛍光Ｘ線を低減させ、Ｃｌ化合物フィルタはＴｉの蛍光Ｘ線を低減させる。 （もっと読む）

【課題】核燃料棒上のクラッドの分析を遂行する方法の提供。
【解決手段】核燃料棒上のクラッドフレークの断面の分析方法であって、該フレークの結晶のモルホロジーを決定し、該フレークの結晶のサイズを決定し、該フレークの様々な場所における該フレークの元素分布を相関させ、しかもこれらの分布はエネルギー分散型分光器が取り付けられた走査電子顕微鏡でもって得られ、該元素分布により該結晶中の化学元素を決定し、そして鉄濃縮の減損並びに亜鉛及びケイ素の濃縮を該結晶のサイズ及びモルホロジーと相関させることを含む方法。 （もっと読む）

【課題】測定精度の向上が図られるＸ線回折装置、を提供する。
【解決手段】Ｘ線回折装置１０は、Ｘ線発生部２２と、２次元検出器５０と、スリット板４０とを備える。Ｘ線発生部２２は、Ｘ線を発生し、試料３０に向けて照射する。２次元検出器５０は、試料３０により回折されたＸ線を２次元的に受光し、その受光領域内の各点においてＸ線を検出する。スリット板４０は、試料３０と２次元検出器５０との間のＸ線の光路上に配置され、試料３０により回折されたＸ線を部分的に遮蔽する。 （もっと読む）

【課題】金属材料の高精度な損傷評価、ひいては余寿命評価を可能にする。
【解決手段】本発明に係る金属材料の損傷評価方法は、金属材料の試料における複数の測定点の結晶方位をＥＢＳＰ法により測定する測定ステップ（Ｓ２）と、複数の測定点のうちの基準の測定点に対する各測定点の結晶方位差で定義される方位差関数値を解析して試料の損傷パラメータを得る解析ステップ（Ｓ３）と、上記試料と同種の金属材料から形成され損傷率が既知の他の試料を用いて予め取得しておいた損傷率および損傷パラメータの相関関係を参照することによって、上記解析ステップにおける解析の結果得られた試料の損傷パラメータから、当該試料の損傷率を評価する評価ステップ（Ｓ４、Ｓ５）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線回折測定により、結晶構造または分子構造が特定方向に配向した周期構造を有した基材表面に形成された薄膜由来のＸ線回折プロファイルを確実に得る。
【解決手段】 基材５の表面に薄膜７が形成された薄膜材料３を、Ｘ線の照射面積を超える中空を有する試料台１に固定して、薄膜７の回折Ｘ線を測定するＸ線回折測定方法において、薄膜材料３の初期設定面に対して入射されるＸ線の薄膜７への正射影線９を回転軸として薄膜材料３を回転させ、薄膜７にＸ線が入射される測定面を該薄膜の初期設定面に対して傾斜させた状態でＸ線を薄膜７に入射させ、薄膜７の回折Ｘ線を測定する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線吸収部に対し試料部を相対的に移動することのできる明瞭なイメージ画像を得る。
【解決手段】干渉性Ｘ線が発せられるＸ線源と、Ｘ線源からのＸ線をコリメートするコリメータと、Ｘ線を吸収又は反射する材料により形成されており、Ｘ線の可干渉となる位置に設けられた参照穴及び透過窓とを有し、コリメートされたＸ線が照射されるＸ線吸収部と、透過窓を透過したＸ線が照射される位置の支持膜に試料が設置された試料部と、試料により生じる散乱Ｘ線と、参照穴を通過したＸ線との干渉により生じたホログラムを検出する検出器と、検出器により得られたホログラムに基づき試料の内部構造のイメージ画像を得るためフーリエ変換を行う処理部と、を有し、試料部は、Ｘ線吸収部に対し相対的に移動させることができるものであって、試料部とＸ線吸収部とが接触、または、試料部とＸ線吸収部との間隔が４０μｍ以下となるように配置されている。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線分析装置において湾曲モノクロメータ等といったＸ線光学要素を用いる場合と用いない場合とで、Ｘ線管等といったＸ線光学機器の位置及び角度を簡単な操作だけで適正な状態に正確に設定できるようにする。
【解決手段】試料Ｓに照射されるＸ線を発生するＸ線管２７と、Ｘ線管２７を保持するＸ線源アーム３と、Ｘ線管２７が回転自在に取付けられＸ線源アーム３上を移動可能である可動部材１８と、可動部材１８を移動させるネジ軸２１と、試料Ｓが置かれる位置へ向かって可動部材１８と共に移動するＸ線管２７が当接する第１の位置決め部材２８ａと、試料Ｓが置かれる位置から遠ざかる方向へ可動部材１８と共に移動するＸ線管２７が当接する第２の位置決め部材２８ｂとを有しており、第１及び第２の位置決め部材はＸ線管２７をＸ線源アーム３に対する互いに異なる角度で位置決めする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、上記課題に鑑み、タルボ干渉によるモアレの周期を波数空間を用いて解析するに当たり、より分解能の高い解析が可能となる撮像装置および撮像方法を提供する。
【解決手段】
撮像装置は、光源からの光を回折することで２次元の干渉パターンを形成する第１の格子と、前記光を遮蔽する遮蔽部と前記光を透過する透過部とが２次元に配列されており、
前記干渉パターンの一部を遮蔽する第２の格子と、前記第２の格子を経た前記光を検出する検出器と、前記検出器で検出した前記光の強度分布の周期的パターンに基づいて被検体の位相像又は微分位相像を算出する演算部と、を備え、
第１の方向における前記強度分布の周期が前記検出器の検出面上の全ての領域で等しくなるように前記第１の格子と前記第２の格子とが構成されている。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、ビームラインの方向をほとんど変えずに、Ｘ線の吸収による減衰を抑えながら、Ｘ線を集束又は平行化することができるＸ線屈折方法を提供する。
【解決手段】Ｘ線Ｂ１が入射又は出射する第１面２と、前記第１面２から離れた位置から当該第１面２の反対側へ前記第１面２に垂直にかつ互いに平行に延びる複数の第２面４及び各前記第２面４の先端からその内側に隣り合う他の第２面４の基端に至るように延びる複数の第３面５を有し、前記第２面４の基端を通り前記第１面２に平行な面、前記第２面４及び前記第３面５により規定される複数のプリズム部６を有する屈折部３と、を備えたＸ線屈折素子１を、前記第１面２がＸ線Ｂ１の入射又は出射軸Ｂ_ｉｎに対して垂直な角度位置から前記第２面４に垂直なＺ軸の回りに所定角度θ回転した位置に配置する。 （もっと読む）

【課題】複数枚の回折格子を使用して位相コントラスト画像を撮影する放射線撮影システムにおいて、高精度な測定器を使用せずに各回折格子の位置や傾きを調整する。
【解決手段】１枚目の格子である第３の吸収型格子２５は、ＦＰＤ２０の検出面に直交するｚ軸上に配置され、第３の吸収型格子２５を通過するＸ線量に基づいて、ｚ軸に直交するｘ軸、ｙ軸上の回転位置θｘ、θｙが調整される。２枚目の格子である第１の吸収型格子２１は、モアレパターンが生じるようにｚ軸上に配置され、ＦＰＤ２０により検出したモアレパターンの周波数が面内において一律になるように、θｘ、θｙが調整される。３枚目の格子である第２の吸収型格子２２は、２枚目の格子である第１の吸収型格子２１と同様にモアレパターンに基づいてθｘ、θｙが調整され、その後にモアレパターンがＦＰＤ２０により検出されなくなるように、ｚ軸位置またはｚ軸周りのθｚが調整される。 （もっと読む）

【課題】酸素分離膜用材料の還元膨張率を適切に測定する方法を提供すること。
【解決手段】本発明により提供される還元膨張率測定方法は、酸素分離膜用材料の還元膨張率を測定する方法であって、測定対象となる材料１６について還元雰囲気下でＸ線回折測定を行い、その材料１６の還元雰囲気下における還元雰囲気下格子定数を求める工程と、材料１６について空気雰囲気下でＸ線回折測定を行い、その材料１６の空気雰囲気下における空気雰囲気下格子定数を求める工程と、得られた還元雰囲気下格子定数と空気雰囲気下格子定数とに基づいて、材料の還元膨張率を算出する工程とを包含する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線回折測定により薄膜材料の結晶子径を簡易且つ高精度に測定する薄膜材料の結晶子径測定方法、薄膜に対するＸ線回折測定を行うための測定対象試料、及びこの測定対象試料の製造方法を提供する。
【解決手段】フィルム上に薄膜が形成されている被検試料を１０枚積層させ、Ｘ線が入射する側から数えて第１番目の被検試料１Ｊと第２番目の被検試料１Ｉとの間に標準粉末試料を仕込み、これを測定対象試料とする。この測定対象試料に対して透過法によるＸ線回折測定を行う。 （もっと読む）

【課題】多層ＣＮＴの集合構造全体での構造評価をする。
【解決手段】多層ＣＮＴの集合構造に対して所定の入射角度でＸ線を入射するステップと、上記集合構造から出射する回折Ｘ線の検出位置を集合構造回りに走査しつつ変えていき、各検出位置で回折Ｘ線強度を測定するステップと、上記集合構造のＸ線入射位置を高さ方向に走査しつつ変えていき、各走査位置で透過Ｘ線の強度を測定するステップと、上記回折Ｘ線強度の測定データからピーク面積を、また、上記透過Ｘ線強度の測定データから減衰量を、それぞれ、演算するステップと、上記ピーク面積と減衰量とから上記集合構造の配向性を解析するステップと、を含む。 （もっと読む）