【課題】 連続した波長を有するＸ線から、所定の波長の回折Ｘ線を容易に選択して取り出すことができるＸ線分光システムを提供する。
【解決手段】 連続した波長を有するＸ線が、一定の角度で入射した際に、前記連続した波長を有するＸ線が回折角の異なる回折Ｘ線に回折され、かつ前記回折Ｘ線の回折角が前記回折Ｘ線の波長の増加関数となる関係を有する周期性構造体と、前記周期構造体によって回折された回折角の異なる回折Ｘ線を分離して、前記回折Ｘ線から所定の波長の回折Ｘ線を選択して取り出すためのスリットとを具備するＸ線分光システム。 （もっと読む）

【課題】円筒面変換処理と時間遅延積分処理との両方を同じ演算制御過程内で行うことを可能にすることにより、極めて分解能が高く、しかも強度の高い回折Ｘ線像を得ることができるＸ線回折装置を提供する。
【解決手段】ＣＰＵ１７、メモリ２０等から成るコンピュータの外部にＤＳＰ（デジタルシグナルプロセッサ）から成る信号処理部２１を設置して成るＸ線回折装置１である。測定装置２はＸ線回折測定を行う。２次元ピクセル型検出器１２は複数のピクセルから出力されるデータ量の大きな２次元回折線データを高速通信線であるカメラリンクケーブル２４を通して信号処理部２１へ伝送する。信号処理部２１は送られてきた大量の回折線データに対して円筒面変換処理２６及び時間遅延積分処理２７を行い、処理結果の画像データを１ラインの行データごとにバス２３へ伝送する。 （もっと読む）

【課題】水素吸蔵材料の中性子回折に使用することができる中性子による散乱が無い、若しくは散乱が少ない耐水素性及び耐圧性の中性子回折測定用セル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】水素吸蔵材料を中性子回折測定する際の試料として保持するセルであって、中性子散乱の無い金属若しくは中性子散乱の少ない金属の内面に、水素吸蔵性の無い材料又は水素吸蔵性の小さい材料からなる耐水素性の層を設けたことを特徴とする。この耐水素性の層の厚さは、０．１μ〜１００μｍがより好ましい。 （もっと読む）

【課題】 熱膨張または熱収縮による被搭載物の位置ずれを抑え得るマウント装置を提供する。
【解決手段】 マウント装置は、被搭載物を搭載するための搭載板、搭載板を載置する基台、搭載板と基台との間に配設されて搭載板を支持する第１支持部材、第２支持部材および第３支持部材であって、搭載板の被搭載物を搭載する面に平行で互いに垂直な２方向をＸ方向およびＹ方向と定義するとき、基台に対する搭載板のＸ方向の動きを規制し、Ｙ方向の動きを許容する第１支持部材、基台に対する搭載板のＸ方向の動きとＹ方向の動きとを許容する第２支持部材、および基台に対する搭載板のＸ方向の動きとＹ方向の動きとを許容する第３支持部材、ならびに、搭載板と基台との間に配設されて、基台に対する搭載板のＸ方向の動きとＹ方向の動きとを規制する規制部材を有する。 （もっと読む）

【課題】 ２次元のトールボット・ロー干渉法を用いた撮像装置における照射光度を向上させること。
【解決手段】 被検知物を撮像する撮像装置は、光源部１１０と、光源部からの光を回折する回折格子２１０と、前記回折格子を経た光を検出する検出器と、を備える。
光源部１１０は、回折格子２１０により回折されることで第１の干渉パターンを形成する光を出射する複数の第１の光出射部と、回折格子により回折されることで第２の干渉パターンを形成する光を出射する複数の第２の光出射部と、を有する。複数の第１の光出射部と複数の第２の光出射部は、第１の干渉パターンと第２の干渉パターンの少なくとも一部が重なり、且つ、第１の干渉パターンの明部と第２の干渉パターンの明部が異なる位置に形成されるように配置されているため、第１の干渉パターンと第２の干渉パターンによって、合成パターンが形成される。 （もっと読む）

【課題】複数の読取りヘッドを用いて回転ステージを所望の回転角度で高精度に回転させることができる定量移動装置を提供する。
【解決手段】回転ステージ２を回転させるサーボモータ４と、回転ステージ２又は回転ステージ２と一体に動く物体に設けられたスケール３と、スケール３を検知して信号を出力する複数の読取りヘッド８ａ〜８ｈと、複数の読取りヘッド８ａ〜８ｈの各出力信号に基づいて回転角度データの平均値を演算しその平均値を信号Ｓ１として出力するデータ処理部９と、回転角度の平均値の信号Ｓ１に基づいてモータ４の回転を制御するサーボアンプ６とを有する定量移動装置１である。 （もっと読む）

【課題】金属材料のき裂進展速度を高精度に評価し、ひいては余寿命を評価する。
【解決手段】本発明に係る金属材料のき裂進展速度評価方法は、金属材料の試料におけるき裂の先端を含む領域内の複数の測定点の結晶方位をＥＢＳＰ法により測定する測定ステップ（Ｓ２）と、各測定点の結晶方位のずれを示す方位差関数値を解析して試料の評価パラメータを得る解析ステップ（Ｓ３）と、上記試料と同種の金属材料から形成され予めき裂進展試験を実施することによりき裂進展速度が既知の他の試料を用いて取得しておいた、き裂進展速度および評価パラメータの相関関係を参照することによって、上記解析ステップにおける解析の結果得られた試料の評価パラメータから、当該試料のき裂進展速度を評価する評価ステップ（Ｓ４、Ｓ５）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】プレ撮影と本撮影との間での格子位置の変動によるアーチファクトの発生を防止する。
【解決手段】被検体を配置しない状態でのプレ撮影時に生成される第１の位相微分像と、被検体を配置した状態での本撮影時に生成される第２の位相微分像とについて、値がπ／２から−π／２、または−π／２からπ／２に変化する境界線を求め、所定方向に境界線を通過するたびにπまたは−πずつ変化する第１の階段状データと第２の階段状データとそれぞれを作成する。第１の位相微分像に第１の階段状データを加算して第１の加算済位相微分像を生成し、第２の位相微分像に前記第２の階段状データを加算して第２の加算済位相微分像を生成する。第２の加算済位相微分像から第１の加算済位相微分像を減算して補正済位相微分像を生成する。 （もっと読む）

【課題】電子線を照射した試料からの特性Ｘ線を回折させてスペクトルを採取するＸ線検出システムにおいて、適切な集光を行うＸ線集光ミラーを備えることでエネルギー分布スペクトルの検出精度を維持する。
【解決手段】試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、電子線が照射された前記試料から放出される特性Ｘ線を集光させて回折格子に導くＸ線集光ミラーと、前記Ｘ線集光ミラーの位置もしくは角度を調整するＸ線集光ミラー調整部と、前記Ｘ線集光ミラーにより集光された特性Ｘ線を受けて回折Ｘ線を生じさせる回折格子と、前記回折格子で生じた回折Ｘ線を検出するイメージセンサと、を備え、前記Ｘ線集光ミラー調整部は、前記Ｘ線集光ミラーの反射面において反射する前記特性Ｘ線のエネルギーに応じて反射可能な角度範囲で、前記Ｘ線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する。 （もっと読む）

【課題】電子線を照射した試料からの特性Ｘ線を回折させてスペクトルを採取するシステムにおいて、採取スペクトルの各ピークが、測定対象であるか、カソードルミネッセンスや高次線の複合ピークであるかの情報を提供する。
【解決手段】試料に対して電子線を照射する電子線照射部１０と、電子線が照射された前記試料から放出される特性Ｘ線を受けて回折Ｘ線を生じさせる回折格子５０と、前記回折格子で生じた回折Ｘ線を検出するイメージセンサ６０と、前記回折Ｘ線のイメージのエネルギー分散方向を測定長手方向として前記イメージセンサに隣接して配置され、エネルギー設定範囲において前記回折Ｘ線を検出するシンチレーションカウンタ７０と、前記イメージセンサで検出された前記回折Ｘ線のスペクトルを分析すると共に、前記シンチレーションカウンタの検出結果を参照し、前記スペクトルのピークの内容を分析する分析部８０とを備える。 （もっと読む）

【課題】結晶構造を有する試料から発生する散乱線および不純線を抑制し、回折Ｘ線を回避することができるＸ線分析装置および方法を提供する。
【解決手段】Ｘ線分析装置は、試料Ｓを試料の所定点周りに３６０°回転させながら１次Ｘ線２を照射させて取得した回折パターンを記憶する制御手段１５と、試料ＳのＲ−θ座標において試料の測定面上に位置することができる試料の平行移動範囲の上下限値のθ座標を、演算および／または記憶する演算記憶手段１７と、演算および／または記憶されたθ座標の上下限値、および回折パターンに基づいて、隣り合う間隔がθ座標の上下限値範囲内の角度であって、回折Ｘ線を回避できる回避角度を選択するための選択手段とを備え、制御手段１５が試料の測定点の座標に応じて、回避角度の中から測定点の座標に最も近い回避角度を読み出して、読み出した回避角度に試料を設定する。 （もっと読む）

【課題】プレ撮影と本撮影との間での格子位置の変動によるアーチファクトの発生を防止する。
【解決手段】被検体を配置しない状態でプレ撮影を行った後、被検体を配置して本撮影を行う。Ｘ線画像検出器で取得された複数の縞画像に基づき、数式（Ａ）及び（Ｂ）を用いて、プレ撮影時に第１の位相微分像ψ_α１（ｘ，ｙ）及びψ_β１（ｘ，ｙ）を算出し、本撮影時に第２の位相微分像ψ_α２（ｘ，ｙ）及びψ_β２（ｘ，ｙ）を算出する。そして、画素ごとに、ψ_α２（ｘ，ｙ）−ψ_α１（ｘ，ｙ）とψ_β２（ｘ，ｙ）−ψ_β１（ｘ，ｙ）とを算出し、両者から絶対値の小さい方を選択することにより、補正済位相微分像を生成する。


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【課題】 放射分析装置、例えばＸ線分光器において、分析用放射ビームの開口角は測定過程中変えること。
【解決手段】 放射ビームが放射源から検査さるべき試料を介して放射検出器に判る光学路に沿って走り、光学路中に視準素子を有するコリメータが存在し、コリメータは、放射ビームを通るように動く結果、放射ビームの開口角を変化させることを可能にする、検査さるべき試料の放射分析用装置であって、コリメータは、放射ビームにさらされる視準素子の長さが結果として変化されるように放射ビームを通るように変動可能で、視準素子はそれ自体閉じた断面を有し相互に異なった長さを有するチャネルの形を有し、動きはチャネルの長手方向に対し横方向に変位する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線の被検知物による吸収情報と位相情報とを、分離して独立した情報として取得するＸ線装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線装置であって、Ｘ線発生手段から発生したＸ線を空間的に分割する分割素子と、分割素子により分割され、被検知物を透過したＸ線の位相変化によるＸ線の位置変化量を、Ｘ線または光の強度変化量に換えて、Ｘ線または光の強度を検出する検出手段と、検出手段から得られたＸ線または光の強度から被検知物の吸収情報であるＸ線透過率像と、位相情報であるＸ線微分位相像またはＸ線位相シフト像を演算する演算手段と、を有し、分割素子は、Ｘ線を分割することにより検出手段において２以上の幅を有するＸ線を照射する構成を備え、演算手段は、検出手段におけるＸ線の位置変化量とＸ線または光の強度変化量との相関関係が２以上の幅を有するＸ線間で異なることに基づいて演算する構成を備えている。 （もっと読む）

【課題】 複数のＸ線ビームを出射させるＸ線源を用いたＸ線撮像装置であって、干渉パターンの不均一さを軽減することを目的とする。
【解決手段】 Ｘ線撮像装置は、電子源とターゲットとを有するＸ線源と、Ｘ線源からのＸ線を回折する回折格子と、遮蔽格子からのＸ線を検出する検出器と、を備える。Ｘ線源のターゲットは複数の凸部を有し、複数の凸部の各々は出射面を有する。出射面は、電子源からの電子線が入射することにより、回折格子へ向かうＸ線を出射する。出射面から出射されたＸ線は、回折格子で回折されることにより、干渉パターンを形成する。ターゲットの複数の凸部は、複数の干渉パターンの明部同士及び暗部同士が互いに重なるように配列されていて、複数の出射面の各々と回折格子との距離が互いに等しいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電子線を照射した試料からの特性Ｘ線を回折格子により回折させてイメージセンサでスペクトルを採取するシステムにおいて、幅広いエネルギー領域の測定を行う。
【解決手段】試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、電子線が照射された前記試料から放出される特性Ｘ線を受けて回折Ｘ線を生じさせる回折格子と、前記回折Ｘ線のエネルギー分散方向と直交方向の複数の位置に前記回折Ｘ線の結像面を振り分けるように前記回折Ｘ線の進行を振り分けるスプリッタと、前記スプリッタにより振り分けられた複数の結像面のそれぞれに配置された異なるエネルギー感度特性の複数のイメージセンサと、を有する。 （もっと読む）

【課題】人力で保持可能で、測定位置の画像確認が可能な可搬型Ｘ線回折計測装置を提供する。
【解決手段】
可搬型Ｘ線回折装置を、平行なＸ線を試料に斜め方向から照射するＸ線照射手段と、このＸ線照射手段によりＸ線が照射された試料で回折したＸ線のうち平行な成分の回折Ｘ線を集光して検出する回折Ｘ線検出手段と、回折Ｘ線を検出した前記回折Ｘ線検出手段から出力される信号を処理する信号処理手段とを備えて構成し、平行な連続波長のＸ線を試料に照射し、このＸ線が照射された試料で回折した回折Ｘ線から平行な成分を抽出してこの抽出した回折Ｘ線の平行な成分を集光し、この集光した回折Ｘ線をエネルギー分散型の検出素子で検出し、この検出素子で検出して得た信号を処理するＸ線回折方法とした。 （もっと読む）

【課題】アスベスト含有材料の無害化処理時に到達した加熱温度を正確かつ容易に評価することができる加熱温度判定方法を提供する。
【解決手段】アスベスト含有材料を加熱して無害化処理するにあたり、クリソタイルとカルシウムとを含むアスベスト含有検体を加熱して得られるオケルマナイト生成量と加熱温度との関係に基づいて、アスベスト含有材料が無害化処理時に到達する加熱温度を判定する。例えば、オケルマナイト生成量はＸ線回折によって測定される。 （もっと読む）

【課題】収束電子回折を用いた、物性の新規な測定方法を提供する。
【解決手段】物性の測定方法は、透過型電子顕微鏡により、試料の収束電子回折実験像を取得する工程と、収束電子回折実験像のＺｅｒｎｉｋｅモーメントの強度を計算する工程と、試料に関し物性を変化させて計算された収束電子回折計算像のＺｅｒｎｉｋｅモーメントの強度と、収束電子回折実験像のＺｅｒｎｉｋｅモーメントの強度とを比較する強度比較工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】支持基板上に複数枚の小格子を配列した回折格子を湾曲させた際に、湾曲の際の応力が集中する応力集中線によって支持基板が折れるのを防止する。
【解決手段】第２の回折格子１３を円筒状に湾曲させる際に応力が集中する支持基板２１の応力集中線Ｆに、少なくとも１枚の小格子が重なるように複数枚の小格子２２ａ〜２２ｄを配列する。これにより、応力集中線Ｆにおける支持基板２１の剛性が向上するので、応力集中線Ｆにおいて支持基板２１が折れるのを防止することができる。更に、小格子間の境界、例えば小格子２２ａ及び２２ｂの境界Ｕ１と、小格子２２ｃ及び２２ｄの境界Ｕ２とが応力集中線Ｆ方向において一致しないように、複数枚の小格子２２ａ〜２２ｄを支持基板２１上に配列することで、応力集中線Ｆ以外で支持基板２１が折れるのも防止することができる。 （もっと読む）