【課題】複数本のＸ線ラインセンサを被検査物の搬送方向に備える構成であっても、各Ｘ線ラインセンサからの検出信号から生成される被検査物の画像の境界を一致させることができるＸ線異物検出装置およびＸ線異物検出方法を提供すること。
【解決手段】搬送路２１上を搬送される被検査物ＷにＸ線を照射するＸ線発生器９と、被検査物Ｗの搬送方向に複数配置され、被検査物Ｗを透過するＸ線に応じた検出信号を出力するＸ線ラインセンサと、Ｘ線ラインセンサからの検出信号が入力され、Ｘ線ラインセンサの間隔および被検査物Ｗの搬送速度に基づいて、搬送方向の上流側のＸ線ラインセンサほどＸ線ラインセンサの検出信号を遅延させて出力する遅延部４４と、遅延部４４からの検出信号を合成して被検査物Ｗに対応する画像データとして出力する合成部４６と、合成部が出力する画像データに基づいて被検査物Ｗ中の異物の有無を判定する判定部４８と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】高解像度かつＳ／Ｎ特性に優れた画像に基づいて物品の検査を行うことができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】第１Ｘ線センサ２２０ａと第２Ｘ線センサ２２０ｂとは、互いに水平に並んで配設される。第１Ｘ線センサ２２０ａは、フォトダイオードで構成され、例えばＳｉ（珪素）を含んでなる検出部２２３を有する。検出部２２３は主に可視光を検出するとともにＸ線２１０を検出する。第２Ｘ線センサ２２０ｂは、シンチレータ２２１およびフォトダイオード２２２により構成される。シンチレータ２２１は、検出したＸ線２１０を光に変換する変換層２２４を備える。フォトダイオード２２２は、第１Ｘ線センサ２２０ａと同様に、Ｓｉを含んでなる検出部２２５を備える。 （もっと読む）

【課題】幾何条件を変更した後に最初に断層撮影をする場合に、スキャン開始から断面像の完成までの時間を短くできるＣＴ装置を提供する。
【解決手段】透過像の回転中心位置を求め記憶する回転中心求出部９ｅと、スキャン制御部９ｄと回転中心求出部９ｅと再構成部９ｆとを制御して、被検体５に対し第一のスキャンを実施して、第一のスキャンデータから回転中心位置の求出と記憶を行い、引き続き、被検体５に対し第二のスキャンを実施して第二のスキャンデータを記憶しつつ、第二のスキャンデータから順次、回転中心位置を用いて再構成処理を前記第二のスキャンと並行して行い、被検体５の断面像を再構成する撮影制御部９ｃを有するＣＴ装置。 （もっと読む）

【解決課題】散乱法や遮光法における気泡による計測誤差、異種元素によるカウントロス、乳化による計測不能などの問題を解決し、低コストで簡易に、流体中の微粒子の数量及び粒子径などを正確に測定できる方法及び装置を提供することを目的とする。
【解決手段】流体を流すフローセル１０と、フローセル１０の側面からＸ線を照射するＸ線源２０と、Ｘ線源２０から照射されたＸ線が流体中の微粒子によって減弱された透過Ｘ線量を検出するＸ線検出器３０と、Ｘ線源から照射されたＸ線により流体中の微粒子によって放出される蛍光Ｘ線を検出する蛍光Ｘ線検出器４０と、透過Ｘ線量及び蛍光Ｘ線量の各基準量からの変動量に基づいて流体中の微粒子及び気泡を識別して微粒子の量及び粒径を算出する演算処理装置と、を具備する流体中微粒子の検出装置。 （もっと読む）

【課題】
レビューＳＥＭを用いて回路パターンを定点観察する場合に、観察する回路パターンのばらつきが大きい場合でも、虚報の発生を抑えて安定した検査を行えるようにする。
【解決手段】
レビューＳＥＭを用いて所定の回路パターンを順次撮像してえたＳＥＭ画像を記憶手段に記憶し、この記憶したＳＥＭ画像の中から設定した条件に適合する画像を選択し平均化して平均画像(ＧＰ画像)を作成し、このＧＰ画像を用いたＧＰ比較によりパターン検査を行うことにより、回路パターンのばらつきが大きい場合でも虚報の発生をおさえた検査を可能にした。 （もっと読む）

【課題】試料の径が大きくなっても、試料に対応した大面積の面状のＸ線検出器を、Ｘ線トポグラフの分解能を低下させること無く、使用できるようにする。また、試料の径が大きくなったことに対応して大面積の面状のＸ線検出器を使用することになった場合でも、Ｘ線検出部の全体形状を大きくしなくて済むようにする。
【解決手段】試料１１を線状のＸ線で走査したときに試料１１で回折したＸ線をＸ線検出器２８によって検出して平面的な回折像を得るＸ線トポグラフィ装置である。Ｘ線検出器２８は試料１１よりも大きい面積を有する円筒形状のイメージングプレート２８であり、線状のＸ線の走査移動Ｆに関連させてイメージングプレート２８を円筒形状の中心軸Ｘ０を中心としてα回転させる。円筒形状の中心軸Ｘ０は線状のＸ線の走査移動方向Ｆと直角方向に延在する。 （もっと読む）

セキュリティ・チェックポイントで例えば手荷物容器の内容を点検するために、Ｘ線システムは、容器のＸ線透過スペクトルを決定して、スペクトルを参照データベースの周知の禁制品材料のスペクトルと比較する。異なるＸ線システム間のわずかな変化は、参照データベースが個々のＸ線システムに適していることを必要とする。本発明によれば、２つのＸ線システムＡ及びＢは、システムＡからシステムＢへの測定されたデータのコンバートのための伝達関数を産出するステップウェッジを利用して相互に校正される。 （もっと読む）

【課題】評価対象パターンの画像を高速で処理するとともに、コンピュータ資源の効率を向上させる。
【解決手段】ＣＤ−ＳＥＭ３００により撮像された評価対象パターンの一連の画像Ｉｍｇ１〜Ｉｍｇｎを一枚当たりＴｉの時間で取り込む画像取込装置１０と、一連の画像Ｉｍｇ１〜Ｉｍｇｎを一枚当たりＴｐの時間で処理して評価対象パターンの評価結果を出力するクラスタノードＣＮ１〜ＣＮＭと、クラスタノードＣＮ１〜ＣＮＭが接続されてこれらを制御するメインノードＭＮを備える分散コンピューティングシステム１において、時間ＴｉおよびＴｐを測定して一連の画像Ｉｍｇ１〜Ｉｍｇｎの取得時間とその処理時間とが一致するように、クラスタノードＣＮ１〜ＣＮｍ（ｍ≦Ｍ）を推定して一連の画像処理に割り当てる。 （もっと読む）

【課題】従来の三元散布図では表現できなかった３元素の強度の絶対値情報を併せて表示することにより、相解析の効率化や精度向上を図る。
【解決手段】
３元素の強度を強度和で規格化した相対値を表す軸（Ａ軸、Ｂ軸、Ｃ軸）を正三角形の三辺に割り当て、その三角形が載る平面に直交する方向に３元素の強度の和を表す軸（Ｄ軸）を追加した、三角柱状の３次元空間を、マッピング分析において１箇所の微小領域で得られたデータ点をプロットする空間として設定する。そして、この３次元的なグラフを平面化して表示部の画面上に描画する。３次元的なグラフを見る方向を任意に変化可能とすることにより、従来の三元散布図上でのデータ点の位置も把握可能であるとともに、三元素の強度の絶対値も容易に知ることができる。 （もっと読む）

【課題】運動する被検査物の内部を簡単に透視できる放射線透視装置を提供することを目的とする。
【解決手段】放射線透視装置が、放射線照射部から離間した被検査物に放射線を照射して被検査物の内部を透視する放射線透視装置であって、被検査物の位置を検出する位置検出手段と、該位置検出手段が、検出した被検査物の位置に向けて放射線を照射するように放射線照射部を制御する制御手段とを具備する。 （もっと読む）

【課題】蛍光Ｘ線スペクトルによる組成分析を行う際に、簡易な手順で精度よく組成分析を行う。
【解決手段】第１の元素ｘおよび第２の元素ｙを含む混合試料の蛍光Ｘ線スペクトルＳｔにおいて、第１の元素ｘの蛍光Ｘ線の積分強度が第１の領域Ａ＞第２の領域Ｂ、第２の元素ｙの蛍光Ｘ線の積分強度が第２の領域Ｂ＞第１の領域Ａとなるように設定された第１の領域Ａおよび第２の領域Ｂの積分強度Ａｔおよび積分強度Ｂｔをそれぞれ算出し（ステップＳ１０６）、積分強度Ｂｔに基づき第２の領域Ｂにおける第２の元素ｙの強度分Ｂ_ｙ／ｔの値を設定し、当該強度分Ｂ_ｙ／ｔおよび第２の元素ｙの蛍光Ｘ線スペクトルＳｙの第１の領域Ａおよび第２の領域Ｂの強度比（Ａｙ／Ｂｙ）に基づき、第１の領域Ａの第２の元素ｙの強度分Ａ_ｙ／ｔを算出し、第１の領域Ａの第１の元素ｘの強度分Ａ_ｘ／ｔを、Ａ_ｘ／ｔ＝Ａｔ−Ａ_ｙ／ｔから算出する（ステップＳ１０８）。 （もっと読む）

本発明は、試料のＸ線回折（ＸＲＤ）解析及び／又はＸ線蛍光（ＸＲＦ）解析を実行する方法であって、Ｘ線源からのＸ線を試料に照射し、走査波長選択器と波長選択器により選択されたＸ線を検出するＸ線検出器とを備えるＸＲＤ・ＸＲＦ複合検出装置を提供し、走査波長選択器を使用して試料により回折されるＸ線の固定波長を選択してＸ線検出器を使用して試料での１つ又は複数の値の回折角φでの選択された固定波長のＸ線を検出することにより試料のＸＲＤ解析を実行し、及び／又は、走査波長選択器を使用して試料により発せられたＸ線の波長を走査してＸ線検出器を使用して走査された波長のＸ線を検出することにより試料のＸＲＦ解析を実行する方法を提供する。試料のＸＲＤ解析及びＸＲＦ解析の両方を実行する装置であって、走査波長選択器と、ＸＲＤ・ＸＲＦ複合検出装置を備える装置も提供される。 （もっと読む）

【課題】撮像対象被検体の任意の指定された特定領域のみ高い空間分解能で撮像可能であるとともに、簡便に高精度で画像合成が可能な産業用Ｘ線ＣＴ装置および撮像方法を提供することにある。
【解決手段】制御手段２０は、Ｘ線焦点サイズ調整手段９と検出器ピクセル積算処理手段５とを制御して、被検体全体を粗い空間分解能で撮像した画像と、前記被検体の一部に指定された領域に対して、細かい分解能で撮像した画像を得る。合成画像作成手段４Ａは、全体領域の粗い画像データの中に特定の指定領域の細かい画像データを組み込み合成させて一体画像データを合成する。 （もっと読む）

本発明は、比較的に柔らかいパーツおよび比較的に硬いパーツからなる構造の数値的三次元モデルを形成するための方法に関する。この方法は、透過性放射線によって相互距離に位置する構造の複数の数値的な断面図を形成し、その放射線に対する吸収を表すこと、数値的な断面図をメモリ内に記憶すること、そしてメモリ内に記憶された数値的な断面図に基づいて構造の数値的三次元モデルを構築することからなり、少なくとも断面図の形成中、構造の比較的に柔らかいパーツの少なくとも一部には、比較的に柔らかいパーツのそれと実質的に異なる放射線に対する吸収係数を持つ造影剤の層が設けられることを特徴とする。
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【課題】
レビューＳＥＭにおいて、目標とする欠陥を間違いなく検査する。
【解決手段】
欠陥検査装置が検出した欠陥から目的とする欠陥を選定し、その座標を取得し、レビューＳＥＭの視野を目的とする欠陥の座標に合わせてＳＥＭ像を撮像し、ＳＥＭ像中の欠陥を画面内の座標と共に検出し、欠陥検査装置が検出した欠陥と対応するＳＥＭ像中の欠陥を重ねるための座標調整値を求め、目的とする欠陥の調整した座標に合わせて、拡大ＳＥＭ像を撮像する。 （もっと読む）

【課題】被検査物の形状異常を容易かつ迅速な方法で判断することができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】形状異常判断部は、一の領域における濃淡情報として変化線ＫＨ１と、他の領域における濃淡情報として変化線ＫＨ２とを比較することにより、被検査物の形状異常を判断する。具体的には、同一の検出位置における変化線ＫＨ１の濃淡値と変化線ＫＨ２の濃淡値とが比較される。例えば、検出位置Ａ１における変化線ＫＨ１の濃淡値Ｋ１と変化線ＫＨ２の濃淡値Ｋ２との差Ｓ１が所定範囲内か否かが形状異常判断部により判断される。この場合、差Ｓ１が所定範囲を超えるものであれば、形状異常が存在すると判断される。 （もっと読む）

【課題】試料の組成が異なる場合でも蛍光Ｘ線分析を利用して試料中の測定対象物の濃度を計測することができる濃度計測方法、及び蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】本発明では、硫黄等の測定対象成分を含む液体燃料等の試料に対して蛍光Ｘ線分析を行い、蛍光Ｘ線分析により取得したスペクトルから求められる測定対象成分の蛍光Ｘ線強度から、散乱Ｘ線及びシステムピークによるバックグラウンドを減算し、バックグラウンドを減算した蛍光Ｘ線強度に対し、試料の組成に起因する蛍光Ｘ線強度変化の補正を行う。バックグラウンドを減算した蛍光Ｘ線強度に対して補正を行った後の値と測定対象成分との関係を示す検量線を予め定めておき、検量線に基づいて、試料中の測定対象成分の濃度を計算する。 （もっと読む）

【課題】摩擦材の構成をより正確に解析可能な技術を提供する。
【解決手段】前記摩擦材を構成する材料とは異なる性質を有する所定の液体を、前記摩擦材の空隙に含ませる含浸ステップと、前記所定の液体を含む前記摩擦材からなる試料に対して所定のＸ線を照射し、前記空隙に存在する前記所定の液体の反応から、少なくとも前記空隙の位置に関する情報と形状に関する情報とのうち少なくともいずれか一方を含む摩擦材の構成情報を取得する構成情報取得ステップと、前記構成情報取得ステップで取得された前記構成情報に基づいて画像を生成する画像生成ステップと、を備える。 （もっと読む）

【課題】
観察座標を算出するのに不適当な，観察装置で検出するのが困難な欠陥(例えば，膜下欠陥など)が多発する品種・工程のウェーハにおいて，安定かつ高スループットに検査装置と観察装置の座標系のずれを補正する。
【解決手段】
観察装置を，座標変換情報を記憶する記憶手段と、検査装置で検出した複数の欠陥の座標情報を記憶手段に記憶しておいた座標変換情報を用いてそれぞれの欠陥に対応する観察装置上の座標情報に変換する座標情報変換手段と、座標情報変換手段で変換した観察装置上の座標情報に基づいてそれぞれの欠陥を撮像する撮像手段と、撮像手段で取得した画像から抽出した欠陥の座標情報と座標変換手段で変換したそれぞれの欠陥の座標情報とから記憶手段に記憶しておいた座標変換情報を修正する座標情報修正手段とを備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】測定値からノイズの影響を除去する。
【解決手段】測定対象物上に複数の測定点Ｐ₁〜Ｐ_Nを設定し、測定点Ｐ₁〜Ｐ_Nの並ぶ方向に沿って振動させながら測定ビームを照射する。測定ビームの振幅Ｗの範囲にＭ個の測定点Ｐ₄〜Ｐ₈が含まれているとすると、Ｍ個の測定点Ｐ₄〜Ｐ₈から得られる２Ｍ個の測定値ｆ₁〜ｆ_2Mから、下記(７ａ）（７ｂ)式、


に従って、フーリエ係数ｂ₁(振幅が測定ビーム径の１／２の場合)、又はｂ₂(振幅が測定ビーム径と等しい場合)を求め各測定点のフーリエ係数ｂ₁又はｂ₂の推移を求め、微小領域の分析を行なう。 （もっと読む）