【課題】 10μm以下のビームサイズの入射X線を使用したX線反射率法で微小領域の膜厚を計測するには、入射角を変えながら、X線の焦点位置、試料表面、回転軸の関係を１μm以下の精度で維持、制御する必要がある。
【解決手段】 本発明は、X線レンズを振幅分割ビームスプリッターと集光光学系として用いることにある。X線レンズで屈折されたX線は、焦点位置で１０μm以下に集光するような角度分布を与える。薄膜積層体を焦点位置に配置し、鏡面反射されたX線を物体波、X線レンズを透過したX線を参照波として薄膜積層体下流に配置したX線レンズで重ね合わせ干渉させる。光路差と薄膜積層体中で生じた位相差を反映した干渉縞の間隔および位置から反射X線の位相を解析し、微小領域の膜厚を計測、検査することを特徴とする薄膜積層体検査方法 （もっと読む）

【課題】 膨大な量のテーブルを記憶するデータベースが無くても、強度を正確に算出し、正確な定量値を算出することのできる蛍光Ｘ線分析方法を提供する。
【解決手段】 ＦＰ法や検量法を用いて得た定量値の精密性に着目し、必要最小のテーブルを用いて蛍光Ｘ線の実測値から試料の大体の組成比等を仮定し、この仮定から得られた仮の強度を使って定量計算を行い、定量計算で得られた仮の定量値に基づいて前記仮の強度を修正して定量計算を行うという処理を繰り返し、仮の強度を規定値内に収束させ、収束したときの仮の定量値を「定量値」として決定するようにした。 （もっと読む）

【課題】容器中の二相流状態における液膜厚さの分布情報を求めるために、ＣＴ画像により計測領域を２次元又は３次元の連続的情報として得る。ＣＴ装置での時間平均画像において液膜厚さを評価しようとした場合に、液膜分布を計測するために液膜の真値との相関関係を把握することが必要となる。
【解決手段】被検体を透過するエネルギーを持つＸ線源と、透過Ｘ線を検出する検出器と、被検体の全周方向からの透過データが取得可能な機構とからなるＸ線ＣＴ装置と、該被検体内の容器表面の液膜厚さを計測可能な厚さ計測器を少なくとも１つ有し、Ｘ線ＣＴ装置が取得するＣＴ画像において厚さ計測器の計測位置と対応する箇所の液膜厚さを、厚さ計測器の計測値によりキャリブレーションを実施し、ＣＴ画像から液膜厚さを算出する。 （もっと読む）

【課題】電子線を照射した試料からの特性Ｘ線を回折させてスペクトルを採取するシステムにおいて、採取スペクトル中にカソードルミネッセンスが含まれているかを検出し、除去する。
【解決手段】試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、電子線が照射された前記試料から放出される特性Ｘ線を受けて回折Ｘ線を生じさせる回折格子と、前記回折格子で生じた回折Ｘ線を検出するイメージセンサと、前記イメージセンサで検出された前記回折Ｘ線の採取スペクトルを分析してエネルギー分布スペクトルを生成する分析部と、前記エネルギー分布スペクトルのベースラインを抽出するベース抽出部と、前記ベースラインの傾きから前記エネルギー分布スペクトルに含まれるカソードルミネッセンス成分を抽出するカソードルミネッセンス抽出部と、を備え、前記分析部は、抽出された前記カソードルミネッセンス成分を前記エネルギー分布スペクトルから除去する。 （もっと読む）

【課題】結晶構造を有する試料から発生する散乱線および不純線を抑制し、回折Ｘ線を回避することができるＸ線分析装置および方法を提供する。
【解決手段】Ｘ線分析装置は、試料Ｓを試料の所定点周りに３６０°回転させながら１次Ｘ線２を照射させて取得した回折パターンを記憶する制御手段１５と、試料ＳのＲ−θ座標において試料の測定面上に位置することができる試料の平行移動範囲の上下限値のθ座標を、演算および／または記憶する演算記憶手段１７と、演算および／または記憶されたθ座標の上下限値、および回折パターンに基づいて、隣り合う間隔がθ座標の上下限値範囲内の角度であって、回折Ｘ線を回避できる回避角度を選択するための選択手段とを備え、制御手段１５が試料の測定点の座標に応じて、回避角度の中から測定点の座標に最も近い回避角度を読み出して、読み出した回避角度に試料を設定する。 （もっと読む）

【課題】蛍光X線二次元分析のための、空間分解能の高いＸ線用二次元分光素子及び二次元分布測定装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線用二次元分光素子は分光素子を二次元に配置し、１つの面がＸ線入射面、他方の面がＸ線出射面となり、内面にＸ線分光用多層膜をもつ複数のセルがＸ線入射面からＸ線出射面に延びているので、Ｘ線入射面から入射した二次元X線の回折X線が入射Ｘ線の位置分解能を保ったままＸ線出射面から出射し、高い空間分解能の二次元分布画像を得ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】複数種類の計測方法を組み合わせることにより、検査可能な試料を制限することのない試料検査装置及び試料検査方法を提供する。
【解決手段】試料検査装置は、入射部１１、反射光受光部１２及び分析部１３（エリプソメータ部）と、Ｘ線源２１、蛍光Ｘ線検出部２２及び分析部２３（Ｘ線測定部）と、レーザ光源３１、ビームスプリッタ３４、ラマン散乱光検出部３２及び分析部３３（ラマン散乱光測定部）とを備える。試料６に応じた適切な手法を用いて試料の厚みの計測が可能である。またエリプソメトリ及び蛍光Ｘ線分析を組み合わせることにより、試料６の厚みと屈折率等の光学特性とを独立に計測することができる。また試料６が多層試料である場合は、各層を適切な試料で検査することができる。 （もっと読む）

【課題】 特別な構成を設けることなくＸ線曝射の開始及び停止において生じる遅延時間を簡易で安価に測定する技術を提供する。
【解決手段】 Ｘ線を曝射してＸ線画像を取得するＸ線撮影装置は、Ｘ線を出力する出力手段と、出力手段に制御信号を供給してＸ線出力に係る動作を制御する制御手段と、出力されたＸ線を検出して電荷を蓄積する複数の検出素子を備えた検出手段と、複数の検出素子を一定の速度で順に走査して、各検出素子に蓄積された電荷を読み出す読出手段と、各検出素子の電荷を画素値に変換して画像を生成する生成手段と、生成した画像を解析して、制御信号の出力に対する、出力手段のＸ線出力に係る動作の遅延を測定する測定手段とを備える。出力手段は検出手段が備える各検出素子に対して一定強度のＸ線を出力し、測定手段は、画像において画素値の変化が存在する領域と存在しない領域との境界の位置と、走査の速度とに基づいて遅延を測定する。 （もっと読む）

【課題】石灰中の強熱減量の含有率を短時間で精度よく求めることができるＸ線分析方法およびその装置を提供する。
【解決手段】本発明のＸ線分析方法は、強熱減量の含有率が既知の石灰からなる標準試料Ｓに１次Ｘ線２を照射し、前記標準試料Ｓから発生するコンプトン散乱線６の強度を検出し、検出したコンプトン散乱線６の強度と強熱減量の含有率との相関を示す強熱減量の検量線を作成し、石灰からなる未知試料Ｓに１次Ｘ線２を照射し、前記未知試料Ｓから発生するコンプトン散乱線６の強度を検出し、前記強熱減量の検量線を用いて前記未知試料Ｓ中の強熱減量の含有率を求める。 （もっと読む）

【課題】人力で保持可能で、測定位置の画像確認が可能な可搬型Ｘ線回折計測装置を提供する。
【解決手段】
可搬型Ｘ線回折装置を、平行なＸ線を試料に斜め方向から照射するＸ線照射手段と、このＸ線照射手段によりＸ線が照射された試料で回折したＸ線のうち平行な成分の回折Ｘ線を集光して検出する回折Ｘ線検出手段と、回折Ｘ線を検出した前記回折Ｘ線検出手段から出力される信号を処理する信号処理手段とを備えて構成し、平行な連続波長のＸ線を試料に照射し、このＸ線が照射された試料で回折した回折Ｘ線から平行な成分を抽出してこの抽出した回折Ｘ線の平行な成分を集光し、この集光した回折Ｘ線をエネルギー分散型の検出素子で検出し、この検出素子で検出して得た信号を処理するＸ線回折方法とした。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で重元素に対する組成分析を行う。
【解決手段】レーザーコンプトン光１００が試料２００に照射される。このレーザーコンプトン光１００及びこのレーザーコンプトン光１００が試料２００を透過した後の透過光１１０がＸ線検出器１２０で検出され、その検出信号がデータ処理部１３０で処理される。このレーザーコンプトン光発生装置２０は、準単色あるいは単色のＸ線をレーザーコンプトン光１００として出力する。ここでは、周回軌道で加速された高エネルギー電子２１とレーザー光２２とが衝突部２３で衝突する設定とされる。レーザー光源２９から発せられたレーザー光２２は、交差角調整部３０でその交差角が制御され、衝突部２３に導入され、高エネルギー電子２１と衝突する。交差角調整部３０によってこの交差角を制御することによって、レーザーコンプトン光１００のエネルギーを制御することができる。 （もっと読む）

【課題】プローブ粒子の照射量を適切に決定できるイオン散乱分光測定方法を提供する。
【解決手段】イオン散乱分光測定方法は、プローブ粒子の試料への照射開始工程と、試料で散乱され検出されたプローブ粒子数を第１照射量まで積算して第１イオン散乱分光スペクトルを得る工程と、検出プローブ粒子数を第１照射量より多い第２照射量まで積算して第２イオン散乱分光スペクトルを得る工程と、第１イオン散乱分光スペクトルに基づき、試料中の第１元素に対応する第１エネルギ範囲について、単位照射量当りの検出プローブ粒子数である第１の散乱率を算出する工程と、第２イオン散乱分光スペクトルに基づき、第１エネルギ範囲について、第２散乱率を算出する工程と、第２散乱率の第１散乱率に対する違いが基準に対して少ないかどうか判定する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】結晶構造が回転対称の試料だけでなく、回転対称でない試料であっても、簡単に精度のよい分析をすることができるコンパクトな蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】本発明の蛍光Ｘ線分析装置は、結晶構造を有する試料Ｓが載置される試料台８と、試料Ｓに１次Ｘ線２を照射するＸ線源１と、試料Ｓからの２次Ｘ線４を検出する検出手段７と、試料台８を回転させる回転手段１１と、試料台８を平行移動させる平行移動手段１２と、試料Ｓの回転角度とその角度で発生する２次Ｘ線４の強度とを対応させて取得した回折パターンに基づいて、隣り合う間隔が１８０°未満であって、回折Ｘ線を回避できる回避角度を少なくとも３つ選択するための選択手段１７とを備え、制御手段１５が、試料台８、回転手段１１および平行移動手段１２が当該装置の他の構造物と干渉しない回避角度に試料Ｓを設定するように回転手段１１を制御する。 （もっと読む）

【課題】測定対象物へのＸ線の照射密度を高めた場合にも、バックグラウンドとなる蛍光Ｘ線に影響されることなく回折Ｘ線のピークを正確に判別することができるＸ線応力測定装置を提供する。
【解決手段】金属試料表面にＸ線を照射するＸ線照射手段と、金属試料表面から発せられる回折Ｘ線を検出するＸ線検出手段と、回折Ｘ線の波長変化から金属の応力を演算する演算手段とを備えたＸ線応力測定装置において、Ｘ線検出手段と金属試料表面との間にＴｉフィルタとＣｌ化合物フィルタとを備えたことを特徴とする。なおＴｉとＣｌ化合物とを含有するフィルタを用いてもよい。ＴｉフィルタはＦｅの蛍光Ｘ線を低減させ、Ｃｌ化合物フィルタはＴｉの蛍光Ｘ線を低減させる。 （もっと読む）

【課題】試料等の機械的な回転を必要とすることなく、広い移行運動量ｑの範囲のＸ線及び中性子線の反射率曲線を短時間で測定すること。
【解決手段】湾曲結晶で構成される反射型ポリクロメータ１の湾曲面でＸ線（中性子線）を反射させて、試料Ｓの上面から見て扇型に集束されるＸ線束であって、水平方向の集束角に応じて鉛直面内でＸ線ビームと試料表面となす角度が連続的に変化するＸ線束を作成する。試料表面で反射されたＸ線強度分布を二次元検出器２で測定し、その二次元強度分布から試料表面に垂直な方向の散乱ベクトルの関数として変化するＸ線反射率曲線を求める。 （もっと読む）

【課題】非破壊かつ高空間分解能で、試料の表面付近に存在する軽元素の面内分布を測定する。
【解決手段】試料１０にイオンビーム１３を間欠的に入射させ、試料から放出されるイオン・粒子をその入射に同期して検出１４する、すなわち飛行時間分析することによって、試料表面に存在する軽元素（特に水素、リチウム）の分析を行う。また、試料表面の各点での分析結果をマッピングすることで、試料表面における注目元素の空間分布を可視化して表示することができる。 （もっと読む）

【課題】 主成分の数を間違って設定して多変量カーブ分解を行うと、評価対象物の情報を反映した妥当な解析データを得ることができない。
【解決手段】 複数の標本の原初スペクトルデータを主成分分析することにより、複数の暫定主成分スペクトルを求める。暫定主成分数を変えて、暫定主成分スペクトルの中から、寄与率の大きなものから順番に暫定主成分数の暫定主成分スペクトルを抽出する。抽出された暫定主成分スペクトルに基づいて計算された標本のスペクトルデータと、原初スペクトルデータとの差分スペクトルを、暫定主成分数ごとに求める。差分スペクトルに関連する情報エントロピーと、暫定主成分数との関係に基づいて、原初スペクトルデータの主成分数を決定する。 （もっと読む）

【課題】 クロメート処理された製品の６価クロム含有クロメート処理皮膜を判別し、皮膜の膜質を把握することを迅速に行えるクロメート処理皮膜質量測定方法を提供する。
【解決手段】 クロメート皮膜を有する製品のクロメート処理皮膜質量測定装置であって、前記製品のクロメート処理皮膜からクロム含有の抽出液を抽出する抽出部１００と、前記抽出部１００で抽出された抽出液に６価クロムが含有することを同定し、定量分析によって前記クロメート処理皮膜中の６価クロムの絶対質量を求める定量部２００と、前記抽出部１００で前記クロム含有抽出液が抽出された後の前記製品の前記クロメート処理皮膜の質量を測定する質量測定部３００とを有する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線の利用効率、計測感度が向上され、装置の小型、軽量化、コストダウンを実現できるＸ線装置を実現する。
【解決手段】Ｘ線を照射するＸ線源と、このＸ線源の下方に設けられ前記Ｘ線の照射方向に直交して流れる測定試料を透過した光を受光検出するＸ線検出器とを具備するＸ線装置において、前記測定試料の流れ方向に略直交して前記Ｘ線源と前記測定試料との間に設けられ前記Ｘ線の反射線束を前記測定試料に照射する反射鏡を具備したことを特徴とするＸ線装置である。 （もっと読む）

【課題】 高アスペクト比な金属微細構造体を高精度で容易に得ることができる微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 微細構造体の製造方法は、Ｓｉ基板に第１の絶縁膜を形成する第１工程と、第１の絶縁膜の一部を除去してＳｉ表面を露出する第２工程と、露出されたＳｉ表面からＳｉ基板をエッチングして凹部を形成する第３工程と、凹部の側壁及び底部に第２の絶縁膜を形成する第４工程と、凹部の底部に形成された第２の絶縁膜の少なくとも一部を除去してＳｉの露出面を形成する第５工程と、Ｓｉの露出面より凹部に金属を電解めっきにより充填する第６工程とを有する。 （もっと読む）