マスク部材、塗布装置、塗布システムおよび塗布方法
【課題】マスキングテープの側面に形成されるメニスカスを小さくする。
【解決手段】マスキングテープ１は、テープ状の基材１１、粘着剤層１２、および、マスキングテープ１の両側面１０３内に設けられる吸収性部材１３を備える。マスキングテープ１は、下面エッジ１０５を基板９上の塗布領域と非塗布領域９２との境界に一致させつつ、基板９の主面９０に貼付される。マスキングテープ１の側面１０３では、粘着剤層１２の側方端面が有機ＥＬ液に対して非吸収性である非吸収領域１０３１となり、吸収性部材１３の側面１０３における露出領域が、有機ＥＬ液に対して吸収性を有する吸収領域１０３２となる。基板９に有機ＥＬ液が塗布される際には、マスキングテープ１の側面１０３に付着した有機ＥＬ液９３が吸収性部材１３により吸収される。これにより、マスキングテープ１の側面１０３に形成されるメニスカス９４の高さを小さくすることができる。
【解決手段】マスキングテープ１は、テープ状の基材１１、粘着剤層１２、および、マスキングテープ１の両側面１０３内に設けられる吸収性部材１３を備える。マスキングテープ１は、下面エッジ１０５を基板９上の塗布領域と非塗布領域９２との境界に一致させつつ、基板９の主面９０に貼付される。マスキングテープ１の側面１０３では、粘着剤層１２の側方端面が有機ＥＬ液に対して非吸収性である非吸収領域１０３１となり、吸収性部材１３の側面１０３における露出領域が、有機ＥＬ液に対して吸収性を有する吸収領域１０３２となる。基板９に有機ＥＬ液が塗布される際には、マスキングテープ１の側面１０３に付着した有機ＥＬ液９３が吸収性部材１３により吸収される。これにより、マスキングテープ１の側面１０３に形成されるメニスカス９４の高さを小さくすることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の主面上の非塗布領域に密着して当該非塗布領域に対する流動性材料の付着を防止するマスク部材、および、当該マスク部材を密着させた基板に流動性材料を塗布する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、有機ＥＬ（Electro Luminescence）材料を利用した有機ＥＬ表示装置の開発が行われており、例えば、高分子有機ＥＬ材料を用いたアクティブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ表示装置の製造では、ガラス基板（以下、単に「基板」という。）に対して、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）回路の形成、陽極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）電極の形成、隔壁の形成、正孔輸送材料を含む流動性材料（以下、「正孔輸送液」という。）の塗布、加熱処理による正孔輸送層の形成、有機ＥＬ材料を含む流動性材料（以下、「有機ＥＬ液」という。）の塗布、加熱処理による有機ＥＬ層の形成、陰極の形成、および、絶縁膜の形成による封止が順次行われる。
【０００３】
有機ＥＬ表示装置の製造において、正孔輸送液または有機ＥＬ液を基板に塗布する装置の１つとして、特許文献１および特許文献２に示すように、流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルを、基板に対して主走査方向および副走査方向に相対移動することにより、基板上に流動性材料をストライプ状に塗布する装置が知られている。
【０００４】
有機ＥＬ表示装置用の基板の表面には、正孔輸送液や有機ＥＬ液等の流動性材料が塗布されるべき塗布領域（すなわち、発光領域）の周囲に、ドライバ回路が組み込まれた領域や絶縁膜による封止のために必要な領域が設けられている。有機ＥＬ表示装置の製造では、正孔輸送層や有機ＥＬ層の形成工程においてこれらの塗布領域の周囲の領域（以下、「非塗布領域」という。）に流動性材料が付着する可能性があり、流動性材料が付着した状態で後工程が行われると電極の特性劣化や封止不良等が発生する可能性がある。したがって、基板の非塗布領域に流動性材料が付着することを防止する必要がある。
【０００５】
一方、特許文献３では、被貼付面に貼付されてマスク領域を覆うマスキング用の粘着テープが開示されており、当該粘着テープの側面（すなわち、基材および粘着層の側面）は液体吸収材により覆われている。特許文献３によれば、非マスク領域および粘着テープに対してブラシにより塗料が塗布される際に、粘着テープの側面に塗布された塗料を当該液体吸収材が吸収することにより、粘着テープの基材が塗料を吸収してしまうことが防止される。当該粘着テープでは、当該液体吸収材による塗料の吸収により、液体吸収材の内側において粘着層と被貼付面との間への塗料の侵入が防止される。特許文献３では、また、被貼付面上のマスク領域と非マスク領域との境界において、液体吸収材により粘着テープの側面に塗布された塗料の硬化を防止し、粘着テープをきれいに剥離する技術も開示されている。
【特許文献１】特開２００４−１１１０７３号公報
【特許文献２】特開２００４−８９７７１号公報
【特許文献３】特表２００５−５２４７２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、有機ＥＬ表示装置用の基板に対する流動性材料の塗布において、非塗布領域にマスキングテープを貼付することにより流動性材料の非塗布領域への付着を防止する場合、通常のマスキングテープを利用すると、マスキングテープの側面に付着した流動性材料が、表面張力や重力の影響によりメニスカスを形成する。
【０００７】
特許文献１および特許文献２に開示されるようなノズルによる流動性材料の塗布では、基板上に供給される流動性材料が微量であるため、塗布後の流動性材料は短時間で乾燥して硬化する。そして、マスキングテープの側面に形成されたメニスカスが、基板上の他の領域に塗布されて乾燥した流動性材料の薄膜から突出する。このため、マスキングテープが剥離されると、当該メニスカスが、流動性材料の薄膜から突出した状態で基板上に残置される可能性がある。
【０００８】
上述のように、有機ＥＬ表示装置の製造では、基板上に様々な薄膜が積層される。例えば、有機ＥＬ層の形成に際して上記のようなメニスカスが形成されると、塗布領域のエッジ近傍において有機ＥＬ層の膜厚が所定の膜厚よりも大きくなってしまい、次工程において形成される陰極の厚さが塗布領域のエッジ近傍において不足してしまう恐れがある。
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、マスキングテープの側面に形成されるメニスカスを小さくすることを主な目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１に記載の発明は、基板の主面上の非塗布領域に密着して前記非塗布領域に対する流動性材料の付着を防止するテープ状または薄板状のマスク部材であって、基板に密着する下面と、前記下面とは反対側の上面と、前記上面のエッジから前記下面のエッジへと上下に亘る側面とを備え、前記側面が、前記下面の前記エッジに接するとともに前記下面の前記エッジに沿って存在し、前記基板に塗布される流動性材料に対して非吸収性である非吸収領域と、前記非吸収領域の前記上面側において前記流動性材料に対して吸収性を有する吸収領域とを備える。
【００１１】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のマスク部材であって、前記上面が、テープ状の基材上の一の主面であり、前記基材の前記一の主面とは反対側の面上に粘着剤層が形成されており、前記下面が、前記粘着材層の前記基材とは反対側の面である。
【００１２】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載のマスク部材であって、前記非吸収領域が、前記流動性材料に対して非吸収性である前記粘着剤層の側方端面であり、前記吸収領域が、前記流動性材料に対して吸収性を有する前記基材の側方端面である。
【００１３】
請求項４に記載の発明は、請求項２に記載のマスク部材であって、前記基材および前記粘着剤層よりも前記流動性材料に対する吸収性が高い吸収性部材が前記側面内に設けられ、前記非吸収領域が、前記流動性材料に対して非吸収性である前記粘着剤層の側方端面であり、前記吸収領域が、前記吸収性部材の前記側面における露出領域である。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、請求項２に記載のマスク部材であって、前記基材および前記粘着剤層よりも前記流動性材料に対する吸収性が高いシート状の吸収性部材が、前記基材と前記粘着剤層との間に設けられ、前記非吸収領域が、前記流動性材料に対して非吸収性である前記粘着剤層の側方端面であり、前記吸収領域が、前記吸収性部材の前記側面における露出領域である。
【００１５】
請求項６に記載の発明は、請求項４または５に記載のマスク部材であって、前記基材が、前記流動性材料に対して非吸収性である。
【００１６】
請求項７に記載の発明は、請求項１ないし６のいずれかに記載のマスク部材であって、前記側面とは反対側に、前記側面と同様の非吸収領域および吸収領域を備えるもう１つの側面をさらに備える。
【００１７】
請求項８に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、請求項１ないし７のいずれかに記載のマスク部材が、基板上の非塗布領域と塗布領域との境界に前記下面の前記エッジを一致させつつ前記非塗布領域に密着している前記基板を保持する基板保持部と、前記基板に向けて流動性材料を連続的に吐出するノズルと、前記ノズルを前記基板の主面に平行であって前記エッジと交差する主走査方向に前記基板に対して相対的に移動することにより、前記基板上の前記マスク部材を含む領域に前記流動性材料を塗布する主走査機構と、前記基板の前記主面に平行であって前記主走査方向に垂直な副走査方向に前記ノズルを前記基板に対して相対的に移動する副走査機構とを備える。
【００１８】
請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の塗布装置であって、前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含む。
【００１９】
請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載の塗布装置であって、前記画素形成材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料である。
【００２０】
請求項１１に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布システムであって、請求項１ないし７のいずれかに記載のマスク部材を、基板上の非塗布領域と塗布領域との境界に前記下面の前記エッジを一致させつつ前記非塗布領域に密着させるマスク部材密着装置と、請求項８ないし１０のいずれかに記載の塗布装置と、流動性材料が塗布された基板から前記マスク部材を剥離するマスク部材剥離装置と、前記マスク部材密着装置、前記塗布装置および前記マスク部材剥離装置へと順に基板を搬送する基板搬送機構とを備える。
【００２１】
請求項１２に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布方法であって、ａ）請求項１ないし７のいずれかに記載のマスク部材が、基板上の非塗布領域と塗布領域との境界に前記下面の前記エッジを一致させつつ前記非塗布領域に密着している前記基板に向けて、ノズルから流動性材料を連続的に吐出しつつ前記ノズルを前記基板の主面に平行であって前記エッジと交差する主走査方向に相対的に移動することにより、前記基板上の前記マスク部材を含む領域に前記流動性材料を塗布する工程と、ｂ）前記ノズルを前記基板の前記主面に平行であって前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動する工程と、ｃ）前記ａ）工程および前記ｂ）工程を繰り返す工程とを備える。
【００２２】
請求項１３に記載の発明は、請求項１２に記載の塗布方法であって、前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含む。
【００２３】
請求項１４に記載の発明は、請求項１３に記載の塗布方法であって、前記画素形成材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料である。
【発明の効果】
【００２４】
本発明では、マスキングテープの側面に形成されるメニスカスを小さくすることができる。請求項８ないし１４の発明では、膜厚の均一性を向上しつつ基板上に流動性材料を塗布することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
図１は、本発明の第１の実施の形態に係るマスキングテープが貼付された基板に対して流動性材料を塗布する塗布システム８の構成を示す図である。塗布システム８は、平面表示装置用のガラス基板（以下、単に「基板」という。）に画素形成材料を含む流動性材料を塗布するシステムである。本実施の形態では、塗布システム８において、アクティブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置用の基板に、有機ＥＬ材料を含む流動性材料（以下、「有機ＥＬ液」という。）が塗布される。有機ＥＬ液は、有機ＥＬ材料の他に、キシレンやメシチレン等の有機溶媒（本実施の形態では、キシレン）を含む。
【００２６】
図２は、テープ状のマスク部材であるマスキングテープ１が貼付された基板９を示す平面図である。図２では、塗布システム８（図１参照）により有機ＥＬ液が塗布される領域（以下、「塗布領域」という。）９１に平行斜線を付す。本実施の形態では、基板９上に４つの塗布領域９１が設けられ、１枚の基板９から４つの有機ＥＬ表示装置用の基板が製造される。４つの塗布領域９１の周囲の格子状の領域９２は、ドライバ回路の組み込みや後工程における絶縁膜による封止等に利用されるため、有機ＥＬ液が塗布されるべきではない領域であり、以下、「非塗布領域９２」という。マスキングテープ１は、図２に示すように、基板９の主面９０上の非塗布領域９２に貼付されて（すなわち、密着して）非塗布領域９２に対する有機ＥＬ液の付着を防止する。
【００２７】
図１に示すように、塗布システム８は、基板９上の非塗布領域９２にマスキングテープ１（図２参照）を貼付するテープ貼付装置２、マスキングテープ１が貼付された基板９に向けて有機ＥＬ液をノズルから連続的に吐出しつつノズルを基板９に対して相対的に移動してマスキングテープ１を含む領域に有機ＥＬ液を塗布する塗布装置３、および、有機ＥＬ液が塗布された基板９からマスキングテープ１を剥離するテープ剥離装置４を備える。
【００２８】
塗布システム８は、テープ貼付装置２と塗布装置３との間、および、塗布装置３とテープ剥離装置４との間に固定型の搬送ロボット６をさらに備える。塗布システム８では、２つの搬送ロボット６が、テープ貼付装置２、塗布装置３およびテープ剥離装置４へと順に基板９を搬送する基板搬送機構となっている。
【００２９】
図３は、図２に示すマスキングテープ１および基板９の一部を、図２中のＡ−Ａの位置にてマスキングテープ１の長手方向に垂直に切断した断面図である。図３に示すように、マスキングテープ１は、テープ状の基材１１、基材１１の一方の面１１２（すなわち、図３中における下側の面であり、以下、「基材下面１１２」という。）上に形成された粘着剤層１２、並びに、マスキングテープ１の両側の側面１０３内に（具体的には、基材１１および粘着剤層１２の側方に形成された長手方向に伸びる溝部に）設けられる吸収性部材１３を備える。
【００３０】
吸収性部材１３は、基材１１および粘着剤層１２よりも有機ＥＬ液に対する吸収性が高い材料により形成されている。本実施の形態では、基材１１および粘着剤層１２は、有機ＥＬ液に対して実質的に非吸収性である材料により形成されている。ここで、基材１１および粘着剤層１２の有機ＥＬ液に対する実質的な非吸収性とは、塗布装置３によりマスキングテープ１に塗布された微量の有機ＥＬ液が短時間（例えば、数秒）にて乾燥する間に、有機ＥＬ液が基材１１および粘着剤層１２にほとんど（あるいは、全く）吸収されないことを意味する。
【００３１】
基材１１は、例えば、プラスチックフィルムにより形成される。基材１１として使用されるプラスチックフィルムは、例えば、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン系フィルム、ポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ナイロン等のポリアミド系フィルム、トリアセチルセルロースフィルム、ポリイミドフィルム等である。耐溶剤性、耐水性等の観点からは、ポリエステル系フィルムにより基材１１が形成されることが好ましく、また、耐熱性の観点からは、ポリイミドフィルムにより基材１１が形成されることが好ましい。本実施の形態では、基材１１は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）により形成される。
【００３２】
粘着剤層１２は、例えば、ポリエステル系粘着剤、または、アクリル系粘着剤により形成される。ポリエステル系粘着剤としては、粘着剤層１２の濡れ性を向上するという観点から、例えば、ポリカーボネートジオールやポリカプロラクトンジオール等から選択されるジオール化合物（好ましくは、水酸基価が３５〜１３０ＫＯＨｍｇ／ｇ（より好ましくは、４５〜１２０ＫＯＨｍｇ／ｇ）であるもの）と、セバシン酸、アジピン酸、アゼライン酸およびフタル酸から選択される二塩基酸とから得られるポリエステルを含有するものが好ましい。
【００３３】
ポリエステルの重量平均分子量（Ｍｗ）は、粘着剤としての凝集力を確保して耐熱性や耐久性を向上するという観点からは、１万以上（より好ましくは、２万以上）とされることが好ましく、粘度が過剰に高くなることを防止して粘着剤層１２の形成を容易とするという観点からは、１０万以下（より好ましくは、８万以下）とされることが好ましい。ここで、重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトフラフィー（ＧＰＣ）による標準ポリスチレン換算の重量平均分子量を意味する。
【００３４】
アクリル系粘着剤としては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステルと親水性モノマーとを単量体単位として含むアクリル系ポリマーを含有するものが好ましい。アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、粘着剤としての凝集力を確保して耐熱性や耐久性を向上するという観点からは、３０万以上（より好ましくは、５０万以上）とされることが好ましく、粘度が過剰に高くなることを防止して粘着剤層１２の形成を容易とするという観点からは、２００万以下（より好ましくは、１７０万以下）とされることが好ましい。
【００３５】
（メタ）アクリル酸アルキルエステルのアルキル基としては、炭素数が２以上１４以下（より好ましくは４以上８以下）であるものが好ましく、例えば、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、イソアミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、イソオクチル基、イソノニル基、イソデシル基が使用される。
【００３６】
親水性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシブチル等の水酸基含有単量体、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルアミノエチル等のアミノ基含有単量体、（メタ）アクリルアミド、Ｎ,Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ,Ｎ−メチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド等のアミド基含有単量体が使用される。また、（メタ）アクリロニトリル、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド等も親水性モノマーとして使用される。さらには、上記親水性モノマーが２種類以上組み合わされて使用されてもよい。
【００３７】
吸収性部材１３としては、例えば、メンブレンフィルタ等に利用される多孔性ポリマが使用される。この場合、吸収性部材１３からのパーティクルの発生を防止するために、多孔性ポリマにパーティクル防止対策が施されたものが好ましい。
【００３８】
図３に示すマスキングテープ１では、基材下面１１２と、基材下面１１２とは反対側の基材１１の主面１１１（図３中の上側の面であり、以下、「基材上面１１１」という。）との間の距離、すなわち、基材１１の厚さが約３７μｍとされる。また、粘着剤層１２の基材１１側の主面１２１（図３中の上側の面）と、基材１１側とは反対側の主面１２２（図３中の下側の面であり、以下、「粘着剤層下面１２２」という。）との間の距離、すなわち、粘着剤層１２の厚さは約１５μｍとされる。なお、図３では、図示の都合上、マスキングテープ１の厚さを幅に比べて実際よりも厚く描いている（図１６．Ａないし図１６．Ｃ、図１８および図１９においても同様）。
【００３９】
マスキングテープ１では、粘着剤層下面１２２が、マスキングテープ１の基板９の主面９０に密着する下面となり、基材上面１１１が、マスキングテープ１の下面とは反対側であって下面に平行な上面となる。また、マスキングテープ１の両側の側面１０３は、マスキングテープ１の上面（基材上面１１１）の幅方向の両側において長手方向に伸びるエッジ１０４（以下、「上面エッジ１０４」という。）から、マスキングテープ１の下面（粘着剤層下面１２２）の幅方向の両側において長手方向に伸びるエッジ１０５（以下、「下面エッジ１０５」という。）へと上下に亘って存在する。
【００４０】
図２に示すように、３本のマスキングテープ１はそれぞれ、幅方向の両側の下面エッジ１０５の少なくとも一方を基板９上の塗布領域９１と非塗布領域９２との境界に一致させつつ、基板９の主面９０に貼付される。
【００４１】
図３に示すように、マスキングテープ１の両側の側面１０３ではそれぞれ、マスキングテープ１の下面エッジ１０５に沿って伸びる粘着剤層１２の側方端面１０３１が、基板９に塗布される有機ＥＬ液に対して非吸収性を示す領域となり、吸収性部材１３の側面１０３における露出領域１０３２が、粘着剤層１２の側方端面１０３１の上側において有機ＥＬ液に対して吸収性を有する領域となる。以下、粘着剤層１２の側方端面１０３１を、「非吸収領域１０３１」と呼び、吸収性部材１３の露出領域１０３２を、「吸収領域１０３２」と呼ぶ。
【００４２】
換言すれば、マスキングテープ１の両側面１０３（すなわち、一の側面１０３および当該一の側面１０３とは反対側の側面１０３）は、マスキングテープ１の下面エッジ１０５に接するとともに下面エッジ１０５に沿って存在する非吸収領域１０３１、および、非吸収領域１０３１の上側（すなわち、マスキングテープ１の上面である基材上面１１１側）に下面エッジ１０５から離れて配置される吸収領域１０３２を備える。
【００４３】
図４ないし図６はそれぞれ、テープ貼付装置２の構成を示す平面図、正面図および左側面図である。図４ないし図６に示すように、テープ貼付装置２は、基板９を保持する基板保持部２１、基板９を基板保持部２１と共に移動する基板移動機構２２、有機ＥＬ液が塗布される前の基板９上の非塗布領域９２にマスキングテープ１（図２参照）を貼付するテープ貼付ヘッド２３、および、テープ貼付ヘッド２３を基板９の移動方向とは垂直な方向に移動するヘッド移動機構２４を備える。
【００４４】
テープ貼付装置２では、基板移動機構２２により、基板９が基板保持部２１と共にレール２２１に沿って水平方向に移動するとともに垂直方向を向く回転軸を中心として回転する。また、ヘッド移動機構２４により、テープ貼付ヘッド２３が基板９の移動範囲の上方においてレール２４１に沿って水平方向に移動する。
【００４５】
図７．Ａは、テープ貼付ヘッド２３の構成を拡大して示す左側面図である。図７．Ａでは、テープ貼付ヘッド２３のハウジング２３１に収容される内部構成を描いている。テープ貼付ヘッド２３では、ベーステープ２５１の一方の主面にマスキングテープ１が保持された２層構造のテープ２５を利用してマスキングテープ１の貼付が行われる。
【００４６】
図７．Ａに示すように、テープ貼付ヘッド２３は、未使用のテープ２５が巻き付けられる供給リール２３２、テープ２５からマスキングテープ１を分離して基板９に貼付する貼付部２３３、マスキングテープ１が分離された後のテープ２５（すなわち、ベーステープ２５１）を巻き取って回収する回収リール２３４、および、これらの構成を収容するハウジング２３１を備える。
【００４７】
テープ貼付装置２により基板９にマスキングテープ１が貼付される際には、まず、図４ないし図６に示すヘッド移動機構２４によりテープ貼付ヘッド２３が移動されて基板９の移動経路の上方に位置する。このとき、基板９は、図６におけるテープ貼付ヘッド２３の右側に位置している。続いて、基板移動機構２２により基板９が図６中の左側へと移動し、図７．Ａに示す貼付開始位置に位置する。基板９が貼付開始位置に位置すると、テープ貼付ヘッド２３の貼付部２３３の切断部２３５により、テープ２５の切断部２３５と対向する側においてマスキングテープ１のみが切断される。
【００４８】
切断されたマスキングテープ１は、供給リール２３２および回収リール２３４が図７．Ａ中における反時計回りに回転することにより、ベーステープ２５１と共に貼付部２３３のテープ分離部材２３６の先端へと送られ、当該先端において、ベーステープ２５１が送られてきた方向とはおよそ反対側に導かれることにより、マスキングテープ１がベーステープ２５１から剥離し、その先端部がハウジング２３１の下部開口２３７から基板９に向かって移動する。
【００４９】
これと並行して、エアシリンダ２３８により貼付ローラ２３９が下部開口２３７を介して下方に移動し、図７．Ｂに示すように、マスキングテープ１の先端部を上側から基板９の主面９０に向けて押圧して貼付する。これと同時に、基板移動機構２２（図６参照）により基板９が図７．Ａの左方向へと移動を開始する。そして、供給リール２３２からテープ２５が継続的に送り出されるとともに基板９が移動を継続することにより、図７．Ｂに示すように、基板９の主面９０上にマスキングテープ１が貼付される。
【００５０】
図７．Ａに示すテープ貼付ヘッド２３では、切断部２３５によりテープ２５上のマスキングテープ１のみが再び切断され、マスキングテープ１が後端部まで基板９に貼付されることによりマスキングテープ１が基板９の主面９０に密着する。なお、テープ貼付ヘッド２３では、マスキングテープ１の先端部および後端部の貼付時以外は、貼付ローラ２３９はハウジング２３１内へと待避していてもよい。また、マスキングテープ１の貼付開始は、テープ２５を供給しつつテープ２５の供給速度に等しい速度で左方向へと移動している基板９に対して行われてもよい。
【００５１】
テープ貼付装置２では、図２に示すように、基板９の格子状の非塗布領域９２のうち、基板移動機構２２による基板９の移動方向に平行に伸びる３つの領域（すなわち、図２中の上下方向に伸びる領域）にのみマスキングテープ１が貼付され、基板９の移動方向に垂直に伸びる領域（すなわち、図２中の左右方向に伸びる領域）にはマスキングテープ１の貼付は行われない。後述するように、塗布システム８では、マスキングテープ１の貼付が省略された領域に対しては有機ＥＬ液の塗布は行われない。
【００５２】
図８および図９は、塗布装置３の構成を示す平面図および正面図である。図９に示すように、塗布装置３は、マスキングテープ１（図２参照）が非塗布領域９２に貼付された（すなわち、密着している）基板９を保持する基板保持部３１を備え、基板保持部３１は内部にヒータによる加熱機構（図示省略）を備える。図８および図９では、図示の都合上、基板９の主面９０上に貼付されたマスキングテープ１の図示を省略している。
【００５３】
塗布装置３は、また、図８および図９に示すように、基板保持部３１を基板９の主面に平行な所定の方向（すなわち、図８中の上下方向であり、以下、「副走査方向」という。）に水平移動するとともに垂直方向に向く軸を中心として回転する基板移動機構３２、基板９上に形成された位置調整用目印（図示省略）を撮像して検出する目印検出部３３、基板保持部３１上の基板９に向けて３本のノズル３７から有機ＥＬ液を連続的に吐出する吐出機構である塗布ヘッド３４、塗布ヘッド３４を基板９の主面に平行であって副走査方向に垂直な方向（すなわち、図８中の左右方向であり、以下、「主走査方向」という。）に水平移動するヘッド移動機構３５、主走査方向に関して基板保持部３１の両側に設けられるとともに塗布ヘッド３４からの有機ＥＬ液を受ける２つの受液部３６、および、塗布ヘッド３４の３本のノズル３７に有機ＥＬ液を供給する流動性材料供給部３８を備える。塗布装置３では、ヘッド移動機構３５および基板移動機構３２が、３本のノズル３７を基板９に対して主走査方向および副走査方向に相対的に移動する主走査機構および副走査機構となる。
【００５４】
塗布ヘッド３４では、３本のノズル３７が、図８中の左右方向（すなわち、主走査方向）に関して略直線状に離れて配列されるとともに図８中の上下方向（すなわち、副走査方向）に僅かにずれて配置され、これらのノズル３７から吐出された有機ＥＬ液が、基板９の塗布領域９１（図２参照）に予め形成されている主走査方向に伸びる隔壁の間の溝に塗布される。本実施の形態では、隣接する２本のノズル３７の間の副走査方向に関する距離は、隔壁間のピッチ（以下、「隔壁ピッチ」という。）に等しい。塗布ヘッド３４では、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）と互いに色が異なる３種類の有機ＥＬ材料をそれぞれ含む３種類の有機ＥＬ液が３本のノズル３７から吐出される。
【００５５】
図１０は、塗布装置３による有機ＥＬ液の塗布動作の流れを示す図である。塗布装置３により有機ＥＬ液の塗布が行われる際には、まず、テープ貼付装置２により非塗布領域９２にマスキングテープ１（図２参照）が貼付された基板９が基板保持部３１に載置されて保持され、目印検出部３３からの出力に基づいて基板移動機構３２が駆動されて基板９が図８中に実線にて示す塗布開始位置に位置する（ステップＳ１１）。塗布ヘッド３４は予め図８および図９中に実線にて示す位置に位置している。
【００５６】
続いて、流動性材料供給部３８から塗布ヘッド３４へと有機ＥＬ液が供給されてノズル３７から有機ＥＬ液の吐出が開始されるとともに、ヘッド移動機構３５が駆動されて塗布ヘッド３４の移動が開始される。塗布装置３では、ノズル３７から有機ＥＬ液を基板９に向けて連続的に吐出しつつ、ノズル３７を基板９に対して図８中の左側から右側へと（すなわち、基板９に貼付されたマスキングテープ１の上面エッジ１０４および下面エッジ１０５（図３参照）と交差する主走査方向に）相対的に移動することにより、基板９の隔壁間の３つの隣接する溝、および、マスキングテープ１上に有機ＥＬ液が塗布される（ステップＳ１２）。
【００５７】
塗布ヘッド３４が図８および図９中に二点鎖線にて示す位置まで移動すると、基板移動機構３２が駆動され、基板９が基板保持部３１と共に図８中の上側に（すなわち、副走査方向に）隔壁ピッチの３倍の距離だけ移動する（ステップＳ１３）。このとき、塗布ヘッド３４では、３本のノズル３７から受液部３６に向けて有機ＥＬ液が連続的に吐出されている。
【００５８】
副走査方向における基板９の移動が終了すると、基板９および基板保持部３１が図８中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動したか否かが確認され（ステップＳ１４）、塗布終了位置まで移動していない場合には、ステップＳ１２に戻って塗布ヘッド３４が有機ＥＬ液を吐出しつつ図８中において右側から左側へと（すなわち、主走査方向に）移動することにより、基板９上に３種類の有機ＥＬ液が塗布される（ステップＳ１２）。そして、副走査方向における基板９の移動が再び行われた後、基板９が塗布終了位置まで移動したか否かが確認される（ステップＳ１３，Ｓ１４）。
【００５９】
図１１は、マスキングテープ１が貼付された基板９を示す平面図であり、図１２は、図１１中のＢ−Ｂの位置におけるマスキングテープ１および基板９の断面図である。塗布装置３では、基板９が塗布終了位置に位置するまで、塗布ヘッド３４の主走査方向への移動、および、塗布ヘッド３４の１回の主走査毎に行われる基板９の副走査方向へのピッチ移動が繰り返され（ステップＳ１２〜Ｓ１４）、これにより、図１１および図１２に示すように、基板９上のマスキングテープ１を含む領域（すなわち、非塗布領域９２に貼付されたマスキングテープ１上の領域、および、塗布領域９１の隔壁間の溝）に有機ＥＬ液９３がストライプ状に塗布される。そして、基板９が図８中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動すると、ノズル３７からの有機ＥＬ液の吐出が停止されて基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が終了する。なお、図１１では、図示の都合上、基板９上に塗布された有機ＥＬ液９３の幅およびピッチを実際よりも大きく描いている。
【００６０】
塗布装置３では、有機ＥＬ液９３の塗布が行われている間、塗布ヘッド３４のノズル３７（図８および図９参照）から有機ＥＬ液９３が連続的に吐出されている。塗布装置３では、非塗布領域９２のうち基板９の移動方向に垂直に伸びる領域（すなわち、図１１中において左右方向に伸びる領域であり、マスキングテープ１の貼付が省略されている領域）に対して、塗布ヘッド３４を受液部３６上に待機させた状態で、基板９を当該領域の幅（すなわち、図１１中の上下方向の幅）と等しい距離だけ副走査方向に移動することにより、当該領域への有機ＥＬ液９３の塗布が回避される。
【００６１】
図１３は、テープ剥離装置４の構成を示す平面図である。図１３に示すように、テープ剥離装置４は、図４ないし図６に示すテープ貼付装置２のテープ貼付ヘッド２３に代えてテープ剥離ヘッド４３を備える。テープ剥離装置４のその他の構成はテープ貼付装置２とほぼ同様である。
【００６２】
テープ剥離装置４は、基板９を保持する基板保持部４１、基板９を基板保持部４１と共に移動する基板移動機構４２、マスキングテープ１（図２参照）を保持して剥離するテープ剥離ヘッド４３、および、テープ剥離ヘッド４３を基板９の移動方向とは垂直な方向に移動するヘッド移動機構４４を備える。テープ剥離装置４では、基板移動機構４２により、基板９が基板保持部４１と共にレール４２１に沿って水平方向に移動するとともに垂直方向を向く回転軸を中心として回転する。また、ヘッド移動機構４４により、テープ剥離ヘッド４３が基板９の移動範囲の上方においてレール４４１に沿って水平方向に移動する。
【００６３】
図１４．Ａは、テープ剥離ヘッド４３の構成を拡大して示す左側面図である。図１４．Ａでも、図７．Ａと同様に、テープ剥離ヘッド４３のハウジング４３１の内部構成を描いている。図１４．Ａに示すように、テープ剥離ヘッド４３は、マスキングテープ１に粘着することによりマスキングテープ１の少なくとも一部を保持する剥離テープ４５、剥離テープ４５の粘着面をマスキングテープ１に対向させつつ剥離テープ４５を案内して基板９上のマスキングテープ１に順次粘着させる剥離テープ案内部である粘着機構４３３、未使用の剥離テープ４５を粘着機構４３３に供給する剥離テープ供給部である供給リール４３２、剥離テープ４５を剥離テープ４５に粘着されたマスキングテープ１と共に基板９から引き上げて回収する剥離テープ回収部である回収リール４３４、および、これらの構成を収容するハウジング４３１を備える。粘着機構４３３は、エアシリンダ４３６および押圧ローラ４３７を備える。また、剥離テープ４５の幅は、マスキングテープ１の幅よりも大きい。
【００６４】
テープ剥離装置４により基板９からマスキングテープ１が剥離される際には、まず、基板移動機構４２およびヘッド移動機構４４（図１３参照）により基板９およびテープ剥離ヘッド４３が移動されて剥離開始位置に位置する。すなわち、剥離対象であるマスキングテープ１の先端が、テープ剥離ヘッド４３のハウジング４３１の下部開口４３５の下方に位置する。
【００６５】
続いて、エアシリンダ４３６により押圧ローラ４３７が下部開口４３５を介して下方に移動し、剥離テープ４５を上側（すなわち、剥離テープ４５の粘着面とは反対側）からマスキングテープ１の先端部に押圧して粘着する。次に、基板移動機構４２により基板９が図１４．Ａ中の左方向に移動を開始する。これと同時に、供給リール４３２および回収リール４３４の図１４．Ａ中における時計回りの回転が開始されて供給リール４３２に巻き付けられている剥離テープ４５が送り出されるとともに、押圧ローラ４３７が上方に移動して元の位置に戻ることにより、図１４．Ｂに示すように、剥離テープ４５に粘着されたマスキングテープ１の先端部が基板９から剥離する。そして、供給リール４３２から剥離テープ４５が継続的に送り出されるとともに基板９が移動を継続することにより、基板９上のマスキングテープ１が剥離テープ４５に粘着されつつ基板９から剥離し、回収リール４３４により巻き取られて回収される。
【００６６】
図１５は、図１２に対応する基板９の断面図である。テープ剥離装置４では、有機ＥＬ液９３が塗布された基板９からマスキングテープ１が剥離されることにより、図１５に示すように、基板９の塗布領域９１上にのみ有機ＥＬ液９３が残置される。このように、図１３に示すテープ剥離装置４では、テープ剥離ヘッド４３によりマスキングテープ１を保持して持ち上げた状態で、基板移動機構４２により基板９をマスキングテープ１が貼付されている方向に沿って移動することにより、基板９からのマスキングテープ１の剥離が行われる。
【００６７】
テープ剥離装置４では、有機ＥＬ液が付着したマスキングテープ１の上面を剥離テープ４５により覆ってマスキングテープ１を基板９から剥離するため、マスキングテープ１上に付着した有機ＥＬ液を基板９に落下させることなくマスキングテープ１を回収することができる。なお、剥離テープ４５のマスキングテープ１への粘着開始は、剥離テープ４５を供給しつつ剥離テープ４５の供給速度に等しい速度で移動している基板９に対して行われてもよい。
【００６８】
以上のように、塗布システム８では、テープ貼付装置２およびテープ剥離装置４がそれぞれ、基板９の非塗布領域９２（図２参照）にマスク部材であるマスキングテープ１を密着させるマスク部材密着装置、および、基板９からマスク部材を剥離するマスク部材剥離装置となっている。
【００６９】
次に、塗布システム８による基板９への有機ＥＬ液の塗布動作について説明する。塗布システム８では、まず、基板９が図４ないし図６に示すテープ貼付装置２に搬入される。基板９上には予め、ＴＦＴ回路、ＩＴＯ電極、隔壁および正孔輸送層が形成されている。続いて、テープ貼付装置２において、基板９上の非塗布領域９２にマスキングテープ１が順次貼付された後、搬送ロボット６（図１参照）により基板９がテープ貼付装置２から搬出され、図８および図９に示す塗布装置３に搬入される。
【００７０】
塗布装置３では、非塗布領域９２にマスキングテープ１が貼付された基板９に向けて有機ＥＬ液が吐出され、マスキングテープ１を含む基板９上の領域（すなわち、マスキングテープ１上の領域、および、塗布領域９１の隔壁間の溝）に有機ＥＬ液がストライプ状に塗布される。
【００７１】
図１６．Ａおよび図１６．Ｂは、有機ＥＬ液９３が塗布された基板９の一部をマスキングテープ１の一部と共に示す断面図である。図１６．Ａは、有機ＥＬ液９３が基板９に塗布された直後の様子を示し、図１６．Ｂは、有機ＥＬ液９３の塗布から僅かな時間（例えば、数秒）が経過した後の様子を示す。図１６．Ａおよび図１６．Ｂでは、図示の都合上、有機ＥＬ液９３の厚さを実際よりも大きく描いている（後述の図１６．Ｃにおいても同様）。
【００７２】
図１６．Ａに示すように、塗布直後の有機ＥＬ液９３は、基板９の主面９０およびマスキングテープ１の基材上面１１１においてほぼ均一な厚さとなっており、マスキングテープ１の側面１０３では、重力の影響により、下面エッジ１０５側が上面エッジ１０４側よりも厚くなっている。
【００７３】
ここで、仮に、マスキングテープ１に代えて、図１７．Ａに示す側面に吸収性部材が設けられていない比較例のマスキングテープ７１（すなわち、有機ＥＬ液に対して非吸収性を示す基材７１１と粘着剤層７１２のみにより構成されるマスキングテープ７１）に対して有機ＥＬ液７９３が塗布されたとすると、有機ＥＬ液７９３は、基板７９およびマスキングテープ７１の表面張力および重力の影響により流動して図１７．Ａに示す形状となり、マスキングテープ７１の側面７１０３においてメニスカス７９４が形成される。
【００７４】
具体的には、マスキングテープ７１の側面７１０３では、側面７１０３に付着した有機ＥＬ液７９３が、重力により上面エッジ７１０４側から下面エッジ７１０５側へと引っ張られるが、表面張力により反対向きにも（すなわち、下面エッジ７１０５側から上面エッジ７１０４側へと）引っ張られるため、側面７１０３上に有機ＥＬ液７９３の膜がメニスカス７９４として形成される。また、有機ＥＬ液７９３は、表面張力により、マスキングテープ７１の基材上面７１１１において上面エッジ７１０４から離れる側へと流動し、基板７９の主面７９０においてマスキングテープ７１の下面エッジ７１０５から離れる方向へと流動する。
【００７５】
これに対し、マスキングテープ１では、図１６．Ｂに示すように、側面１０３内に吸収性部材１３による吸収領域１０３２が設けられているため、側面１０３に付着した有機ＥＬ液９３が塗布直後に吸収性部材１３により迅速に吸収される。これにより、マスキングテープ１の側面１０３に形成されるメニスカス９４の高さ（すなわち、基板９の主面９０からの高さ）を、非吸収領域１０３１の高さと同等程度まで小さくすることができる。
【００７６】
マスキングテープ１では、側面１０３において吸収領域１０３２と下面エッジ１０５との間に非吸収領域１０３１が設けられており、さらに、吸収性部材１３が非吸収性の粘着剤層１２により基板９の主面９０から隔てられているため、吸収性部材１３に一旦吸収された有機ＥＬ液９３が、マスキングテープ１の下側からしみ出して基板９の非塗布領域９２に付着してしまうことを防止することができる。また、有機ＥＬ液の吸収により脆くなった吸収性部材１３の一部がマスキングテープ１から脱落し、基板９の主面９０上に残渣として残ってしまうことを防止することができる。
【００７７】
有機ＥＬ液の塗布が終了すると、図１に示す搬送ロボット６により基板９が塗布装置３から搬出される。基板９上では、塗布装置３により塗布された有機ＥＬ液の溶媒成分が塗布装置３の基板保持部３１（図９参照）の加熱機構により蒸発し、有機ＥＬ液が乾燥した状態にてマスキングテープ１および塗布領域９１上に付着している。
【００７８】
有機ＥＬ液が塗布された基板９は、搬送ロボット６により、図１３に示すテープ剥離装置４に搬入され、有機ＥＬ液が塗布されたマスキングテープ１が基板９から剥離される。塗布システム８では、マスキングテープ１の基板９からの剥離が終了すると、基板９がテープ剥離装置４から塗布システム８外へと搬出されて基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が終了する。なお、塗布システム８では、実際には、有機ＥＬ液の塗布が複数の基板に対して連続的に行われる。
【００７９】
図１６．Ｃは、マスキングテープ１が剥離された基板９の一部を示す断面図である。また、図１７．Ｂは、上記比較例のマスキングテープ７１が剥離された基板７９の一部を示す断面図である。上述のように、塗布装置３では、図１６．Ｂに示すように、マスキングテープ１の側面１０３において有機ＥＬ液９３が吸収性部材１３により吸収されるため、図１６．Ｃに示すように、マスキングテープ１の剥離後に塗布領域９１のエッジ近傍（すなわち、塗布領域９１の非塗布領域９２近傍の部位）に残る有機ＥＬ液９３のメニスカス９４の高さを、図１７．Ｂに示す比較例の基板７９上のメニスカス７９４に比べて小さくすることができる。すなわち、塗布装置３では、有機ＥＬ液の膜厚の均一性を向上しつつ基板９上に有機ＥＬ液を塗布することができる。
【００８０】
これにより、後工程（ベーク工程）において、基板９を加熱して有機ＥＬ液９３から溶媒成分を完全に蒸発させて有機ＥＬ層を基板９上に定着させる際に、塗布領域９１のエッジ近傍の有機ＥＬ層の厚さが、メニスカス９４に含まれる有機ＥＬ材料により厚くなってしまうことを抑制することができる。その結果、以降の工程において有機ＥＬ層の上に積層される他の層（本実施の形態では、陰極層）の厚さが、塗布領域９１のエッジ近傍において不足することを防止することができる。
【００８１】
ところで、有機ＥＬ液における有機ＥＬ材料の含有率は通常２％〜３％程度であり、ベークにより形成される有機ＥＬ層の厚さは、ベーク前の有機ＥＬ液９３の厚さに比べて小さくなる。また、有機ＥＬ層の厚さは、有機ＥＬ表示装置の性能に大きく影響するため、高精度にコントロールされる必要がある。したがって、メニスカス９４の高さを小さくして有機ＥＬ層の膜厚の均一性を向上することができる塗布装置３は、有機ＥＬ液の塗布に特に適しているといえる。
【００８２】
マスキングテープ１では、図１６．Ｂに示すように、側面１０３内に基材１１および粘着剤層１２とは別部材である吸収性部材１３が設けられて吸収領域１０３２が形成される。したがって、吸収領域１０３２を形成する材料として、基材１１または粘着剤層１２に要求される仕様に制限されることなく、有機ＥＬ液に対する吸収性が高い材料を使用することができる。これにより、マスキングテープ１の側面１０３における有機ＥＬ液に対する吸収性をより高くすることができる。
【００８３】
特に、塗布装置３のようにノズル３７からの吐出による有機ＥＬ液の塗布では、基板９上に供給される有機ＥＬ液が微量であるため、塗布後の有機ＥＬ液は短時間で乾燥して硬化する。上述のように、マスキングテープ１は、側面１０３において有機ＥＬ液に対する高い吸収性を有し、塗布後の有機ＥＬ液を乾燥前に迅速に吸収することができるため、ノズル３７から有機ＥＬ液を吐出する塗布装置３、および、塗布装置３を備える塗布システム８における有機ＥＬ液の塗布に特に適している。
【００８４】
また、マスキングテープ１では、吸収性部材１３が基材１１および粘着剤層１２の側方に設けられることにより、吸収領域１０３２の下端をマスキングテープ１の下面エッジ１０５に近接させることができるとともに、吸収領域１０３２を基材１１と粘着剤層１２とに亘って大面積にて形成することができる。その結果、メニスカス９４の高さをより小さくすることができる。
【００８５】
次に、本発明の第２の実施の形態に係るマスキングテープについて説明する。図１８は、第２の実施の形態に係るマスキングテープ１ａを基板９の一部と共に長手方向に垂直に切断した断面図である。図１８に示すように、マスキングテープ１ａは、図３に示すマスキングテープ１の吸収性部材１３とは形状および配置が異なる吸収性部材１３ａを備える。その他の構成は図３と同様であり、以下の説明において同符号を付す。
【００８６】
図１８に示すように、マスキングテープ１ａでは、シート状の吸収性部材１３ａが基材１１と粘着剤層１２との間に設けられ、吸収性部材１３ａにより基材１１と粘着剤層１２とが接続される。基材１１および粘着剤層１２は、第１の実施の形態と同様に、有機ＥＬ液９３に対して実質的に非吸収性の材料により形成されており、吸収性部材１３ａは、基材１１および粘着剤層１２よりも有機ＥＬ液９３に対する吸収性が高い材料により形成されている。また、マスキングテープ１ａの両側面１０３では、粘着剤層１２の側方端面が非吸収領域１０３１となり、吸収性部材１３ａの側面１０３における露出領域が吸収領域１０３２となる。
【００８７】
マスキングテープ１ａが貼付された基板９に対する塗布装置３（図８参照）による有機ＥＬ液の塗布の流れは、第１の実施の形態と同様である。有機ＥＬ液の塗布では、第１の実施の形態と同様に、マスキングテープ１ａの側面１０３内に吸収領域１０３２が設けられているため、側面１０３に付着した有機ＥＬ液を塗布直後に迅速に吸収することができる。これにより、マスキングテープ１ａの側面１０３に形成されるメニスカスの高さを、非吸収領域１０３１の高さと同等程度まで小さくすることができる。マスキングテープ１ａは、特に、基材１１、吸収性部材１３ａおよび粘着剤層１２を厚さ方向に積層することにより容易に形成することができる。
【００８８】
次に、本発明の第３の実施の形態に係るマスキングテープについて説明する。図１９は、第３の実施の形態に係るマスキングテープ１ｂを基板９と共に長手方向に垂直に切断した断面図である。図１９に示すように、マスキングテープ１ｂは、図３に示すマスキングテープ１の両側の吸収性部材１３、および、有機ＥＬ液に対して非吸収性である基材１１に代えて、有機ＥＬ液に対して吸収性を有する基材１１ａを備える。その他の構成は図３と同様であり、以下の説明において同符号を付す。基材１１ａは、例えば、紙等の繊維質の材料により形成され、塗布装置３（図８参照）によりマスキングテープ１ｂに塗布された微量の有機ＥＬ液を乾燥する前に迅速に吸収する。
【００８９】
図１９に示すように、マスキングテープ１ｂの両側面１０３では、粘着剤層１２の側方端面が非吸収領域１０３１となり、基材１１ａの側方端面が吸収領域１０３２となる。塗布装置３による有機ＥＬ液の塗布では、第１の実施の形態と同様に、マスキングテープ１ｂの側面１０３に付着した有機ＥＬ液が、基材１１ａの吸収領域１０３２から塗布直後に迅速に吸収される。このため、マスキングテープ１ｂの側面１０３に形成されるメニスカスの高さを、非吸収領域１０３１の高さと同等程度まで小さくすることができる。マスキングテープ１ｂは、特に、基材１１ａおよび粘着剤層１２のみにより形成されているため、マスキングテープ１ｂの構造を簡素化することができる。
【００９０】
次に、本発明の第４の実施の形態に係るマスク部材について説明する。図２０は、第４の実施の形態に係る薄板状のマスク部材１ｃを基板９と共に示す平面図であり、図２１は、図２０中のＣ−Ｃの位置におけるマスク部材１ｃおよび基板９の断面図である。なお、図２１では、図示の都合上、マスク部材１ｃの厚さを幅に比べて実際よりも厚く描いている。
【００９１】
図２０に示すように、マスク部材１ｃは、平面視において基板９の非塗布領域９２と同形状の格子状であり、図２１に示すように、下面１０２にて基板９の非塗布領域９２に密着する。マスク部材１ｃと基板９の主面９０との密着は、例えば、静電気力を利用して行われる。マスク部材１ｃは、有機ＥＬ液に対して非吸収性の部材本体１４、および、格子状の部材本体１４の４つの開口１４０（図２０参照）の側面１０３ａに設けられるとともに有機ＥＬ液に対して吸収性を有する（すなわち、部材本体１４よりも有機ＥＬ液に対する吸収性が高い）吸収性部材１３ｂを備える。
【００９２】
マスク部材１ｃでは、下面１０２に平行な上面１０１のエッジ１０４から下面１０２のエッジ１０５（以下、「下面エッジ１０５」という。）へと上下に亘る一方の側面１０３ａにおいて、部材本体１４の側方端面が、有機ＥＬ液に対して非吸収性である非吸収領域１０３１となり、吸収性部材１３ｂの側面１０３ａにおける露出領域が有機ＥＬ液に対して吸収性を有する吸収領域１０３２となる。側面１０３ａでは、第１の実施の形態と同様に、非吸収領域１０３１がマスク部材１ｃの下面エッジ１０５に接するとともに下面エッジ１０５に沿って存在し、吸収領域１０３２が非吸収領域１０３１の上面１０１側に下面エッジ１０５から離れて配置される。
【００９３】
本実施の形態に係る塗布システムでは、図１に示す塗布システム８のテープ貼付装置２に代えて、マスク部材１ｃを、基板９上の非塗布領域９２と塗布領域９１との境界に、側面１０３ａ側の下面エッジ１０５を一致させつつ静電気力により非塗布領域９２に密着させるマスク部材密着装置が設けられる。また、テープ剥離装置４に代えて、マスク部材１ｃを有機ＥＬ液が塗布された基板９から剥離するマスク部材剥離装置が設けられる。
【００９４】
マスク部材１ｃが密着された基板９に対する塗布装置３による有機ＥＬ液の塗布では、第１の実施の形態と同様に、マスク部材１ｃの側面１０３ａに付着した有機ＥＬ液が、吸収性部材１３ｂの吸収領域１０３２から塗布直後に迅速に吸収される。このため、マスク部材１ｃの側面１０３ａに形成されるメニスカスの高さを、非吸収領域１０３１の高さと同等程度まで小さくすることができる。
【００９５】
塗布システム８では、１枚のマスク部材１ｃにより非塗布領域９２の全体を被覆することができるため、マスク部材１ｃの基板９に対する密着工程および剥離工程を迅速に行うことができる。また、マスク部材１ｃの基板９に対する密着や基板９からの剥離に際して、マスク部材１ｃの取り扱いを容易とすることができる。
【００９６】
一方、第１の実施の形態のように、基板９の非塗布領域９２を被覆するマスク部材としてマスキングテープ１を利用する場合、マスキングテープ１を様々な長さに切断して使用することができるため、非塗布領域９２が様々な大きさや形状を有するものであっても容易に対応することができ、非塗布領域９２を確実に被覆することができる。
【００９７】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
【００９８】
例えば、第１の実施の形態に係るマスキングテープ１では、吸収性部材１３の上側が基材１１の一部により覆われているが、吸収性部材１３は、その上面が基材上面１１１に一致するように、換言すれば、吸収性部材１３の上面がマスキングテープ１の上面において露出するように設けられてもよい。
【００９９】
また、マスキングテープ１では、必ずしも幅方向の両側の側面１０３に吸収領域１０３２が設けられる必要はなく、幅方向の一方側においてのみ、側面１０３に吸収領域１０３２が設けられてもよい。このようなマスキングテープは、例えば、当該一方側の下面エッジ１０５を、基板９の塗布領域９１と非塗布領域９２との境界に一致させるとともに、他方側の下面エッジ１０５を基板９の非塗布領域９２上の切断領域（すなわち、１枚の基板９から複数枚の有機ＥＬ表示装置用の基板を得る際に切断されるため製品として使用されない領域であり、隣接する塗布領域９１の間に位置する非塗布領域９２のほぼ中央に位置する。）に位置させて貼付される。
【０１００】
上記実施の形態に係る塗布システム８の塗布装置３では、塗布ヘッド３４に設けられるノズルの本数は３本には限定されず、また、必ずしも３種類の有機ＥＬ液が同時に塗布される必要もない。例えば、３本以上のノズルから同一種類の有機ＥＬ液が同時に吐出されて基板９に塗布されてもよい。この場合、隣接する２本のノズルの間の副走査方向に関する距離は、隔壁ピッチの３倍と等しくされる。
【０１０１】
マスキングテープ１，１ａ，１ｂおよびマスク部材１ｃは、上述の有機ＥＬ液の塗布以外に、有機ＥＬ表示装置用の基板９に対して正孔輸送材料を含む流動性材料（以下、「正孔輸送液」という。）を塗布する際に、非塗布領域９２に対する正孔輸送液の付着防止に利用されてもよい。ここで、「正孔輸送材料」とは、有機ＥＬ表示装置の正孔輸送層を形成する材料であり、「正孔輸送層」とは、有機ＥＬ材料により形成された有機ＥＬ層へと正孔を輸送する狭義の正孔輸送層のみを意味するのではなく、正孔の注入を行う正孔注入層も含む。
【０１０２】
正孔輸送液は通常、正孔輸送材料を水に溶かした（あるいは、混入した）流動性材料である。このような水系の流動性材料を基板９に塗布する場合、マスキングテープ１，１ａおよびマスク部材１ｃに設けられる吸収性部材は、吸水性ポリマー（例えば、ＳＡＰ(Super Absorbent Polymer)）等、水に対する高い吸収性を有する材料により形成される。
【０１０３】
また、マスキングテープ１，１ａ，１ｂおよびマスク部材１ｃは、必ずしも有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料を画素形成材料として含む流動性材料の塗布の際にのみ利用されるわけではなく、例えば、液晶表示装置やプラズマ表示装置等の平面表示装置用の基板に対し、着色材料や蛍光材料等の他の種類の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する場合やその他の流動性材料を塗布する場合に利用されてもよい。さらには、有機薄膜太陽電池用基板や半導体ウエハ、光ディスク用基板等の様々な基板に対する流動性材料の塗布の際に利用されてもよい。
【０１０４】
上記実施の形態では、ノズルから基板に向けて流動性材料を連続的に吐出して塗布する方法について説明したが、マスキングテープ１，１ａ，１ｂおよびマスク部材１ｃは、これ以外の塗布方法（例えば、インクジェット法やスピンコート法）により流動性材料を基板に塗布する際にも利用されてよい。
【図面の簡単な説明】
【０１０５】
【図１】第１の実施の形態に係る塗布システムの構成を示す図である。
【図２】基板の平面図である。
【図３】基板の断面図である。
【図４】テープ貼付装置の平面図である。
【図５】テープ貼付装置の正面図である。
【図６】テープ貼付装置の左側面図である。
【図７．Ａ】テープ貼付ヘッドを拡大して示す左側面図である。
【図７．Ｂ】テープ貼付ヘッドの一部を拡大して示す左側面図である。
【図８】塗布装置の平面図である。
【図９】塗布装置の正面図である。
【図１０】有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。
【図１１】マスキングテープおよび基板の平面図である。
【図１２】マスキングテープおよび基板の断面図である。
【図１３】テープ剥離装置の平面図である。
【図１４．Ａ】テープ剥離ヘッドを拡大して示す左側面図である。
【図１４．Ｂ】テープ剥離ヘッドの一部を拡大して示す左側面図である。
【図１５】基板の断面図である。
【図１６．Ａ】マスキングテープおよび基板の一部を示す断面図である。
【図１６．Ｂ】マスキングテープおよび基板の一部を示す断面図である。
【図１６．Ｃ】基板の一部を示す断面図である。
【図１７．Ａ】比較例のマスキングテープおよび基板の一部を示す断面図である。
【図１７．Ｂ】比較例の基板の一部を示す断面図である。
【図１８】第２の実施の形態に係るマスキングテープの断面図である。
【図１９】第３の実施の形態に係るマスキングテープの断面図である。
【図２０】第４の実施の形態に係るマスク部材および基板の平面図である。
【図２１】マスク部材および基板の一部を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１０６】
１，１ａ，１ｂ マスキングテープ
１ｃ マスク部材
２ テープ貼付装置
３ 塗布装置
４ テープ剥離装置
６ 搬送ロボット
８ 塗布システム
９ 基板
１１，１１ａ 基材
１２ 粘着剤層
１３，１３ａ，１３ｂ 吸収性部材
３１ 基板保持部
３２ 基板移動機構
３５ ヘッド移動機構
３７ ノズル
９０ 主面
９１ 塗布領域
９２ 非塗布領域
９３ 有機ＥＬ液
１０１ 上面
１０２ 下面
１０３，１０３ａ 側面
１０４ 上面エッジ
１０５ 下面エッジ
１１１ 基材上面
１２２ 粘着剤層下面
１０３１ 非吸収領域
１０３２ 吸収領域
Ｓ１１〜Ｓ１４ ステップ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の主面上の非塗布領域に密着して当該非塗布領域に対する流動性材料の付着を防止するマスク部材、および、当該マスク部材を密着させた基板に流動性材料を塗布する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、有機ＥＬ（Electro Luminescence）材料を利用した有機ＥＬ表示装置の開発が行われており、例えば、高分子有機ＥＬ材料を用いたアクティブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ表示装置の製造では、ガラス基板（以下、単に「基板」という。）に対して、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）回路の形成、陽極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）電極の形成、隔壁の形成、正孔輸送材料を含む流動性材料（以下、「正孔輸送液」という。）の塗布、加熱処理による正孔輸送層の形成、有機ＥＬ材料を含む流動性材料（以下、「有機ＥＬ液」という。）の塗布、加熱処理による有機ＥＬ層の形成、陰極の形成、および、絶縁膜の形成による封止が順次行われる。
【０００３】
有機ＥＬ表示装置の製造において、正孔輸送液または有機ＥＬ液を基板に塗布する装置の１つとして、特許文献１および特許文献２に示すように、流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルを、基板に対して主走査方向および副走査方向に相対移動することにより、基板上に流動性材料をストライプ状に塗布する装置が知られている。
【０００４】
有機ＥＬ表示装置用の基板の表面には、正孔輸送液や有機ＥＬ液等の流動性材料が塗布されるべき塗布領域（すなわち、発光領域）の周囲に、ドライバ回路が組み込まれた領域や絶縁膜による封止のために必要な領域が設けられている。有機ＥＬ表示装置の製造では、正孔輸送層や有機ＥＬ層の形成工程においてこれらの塗布領域の周囲の領域（以下、「非塗布領域」という。）に流動性材料が付着する可能性があり、流動性材料が付着した状態で後工程が行われると電極の特性劣化や封止不良等が発生する可能性がある。したがって、基板の非塗布領域に流動性材料が付着することを防止する必要がある。
【０００５】
一方、特許文献３では、被貼付面に貼付されてマスク領域を覆うマスキング用の粘着テープが開示されており、当該粘着テープの側面（すなわち、基材および粘着層の側面）は液体吸収材により覆われている。特許文献３によれば、非マスク領域および粘着テープに対してブラシにより塗料が塗布される際に、粘着テープの側面に塗布された塗料を当該液体吸収材が吸収することにより、粘着テープの基材が塗料を吸収してしまうことが防止される。当該粘着テープでは、当該液体吸収材による塗料の吸収により、液体吸収材の内側において粘着層と被貼付面との間への塗料の侵入が防止される。特許文献３では、また、被貼付面上のマスク領域と非マスク領域との境界において、液体吸収材により粘着テープの側面に塗布された塗料の硬化を防止し、粘着テープをきれいに剥離する技術も開示されている。
【特許文献１】特開２００４−１１１０７３号公報
【特許文献２】特開２００４−８９７７１号公報
【特許文献３】特表２００５−５２４７２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、有機ＥＬ表示装置用の基板に対する流動性材料の塗布において、非塗布領域にマスキングテープを貼付することにより流動性材料の非塗布領域への付着を防止する場合、通常のマスキングテープを利用すると、マスキングテープの側面に付着した流動性材料が、表面張力や重力の影響によりメニスカスを形成する。
【０００７】
特許文献１および特許文献２に開示されるようなノズルによる流動性材料の塗布では、基板上に供給される流動性材料が微量であるため、塗布後の流動性材料は短時間で乾燥して硬化する。そして、マスキングテープの側面に形成されたメニスカスが、基板上の他の領域に塗布されて乾燥した流動性材料の薄膜から突出する。このため、マスキングテープが剥離されると、当該メニスカスが、流動性材料の薄膜から突出した状態で基板上に残置される可能性がある。
【０００８】
上述のように、有機ＥＬ表示装置の製造では、基板上に様々な薄膜が積層される。例えば、有機ＥＬ層の形成に際して上記のようなメニスカスが形成されると、塗布領域のエッジ近傍において有機ＥＬ層の膜厚が所定の膜厚よりも大きくなってしまい、次工程において形成される陰極の厚さが塗布領域のエッジ近傍において不足してしまう恐れがある。
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、マスキングテープの側面に形成されるメニスカスを小さくすることを主な目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１に記載の発明は、基板の主面上の非塗布領域に密着して前記非塗布領域に対する流動性材料の付着を防止するテープ状または薄板状のマスク部材であって、基板に密着する下面と、前記下面とは反対側の上面と、前記上面のエッジから前記下面のエッジへと上下に亘る側面とを備え、前記側面が、前記下面の前記エッジに接するとともに前記下面の前記エッジに沿って存在し、前記基板に塗布される流動性材料に対して非吸収性である非吸収領域と、前記非吸収領域の前記上面側において前記流動性材料に対して吸収性を有する吸収領域とを備える。
【００１１】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のマスク部材であって、前記上面が、テープ状の基材上の一の主面であり、前記基材の前記一の主面とは反対側の面上に粘着剤層が形成されており、前記下面が、前記粘着材層の前記基材とは反対側の面である。
【００１２】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載のマスク部材であって、前記非吸収領域が、前記流動性材料に対して非吸収性である前記粘着剤層の側方端面であり、前記吸収領域が、前記流動性材料に対して吸収性を有する前記基材の側方端面である。
【００１３】
請求項４に記載の発明は、請求項２に記載のマスク部材であって、前記基材および前記粘着剤層よりも前記流動性材料に対する吸収性が高い吸収性部材が前記側面内に設けられ、前記非吸収領域が、前記流動性材料に対して非吸収性である前記粘着剤層の側方端面であり、前記吸収領域が、前記吸収性部材の前記側面における露出領域である。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、請求項２に記載のマスク部材であって、前記基材および前記粘着剤層よりも前記流動性材料に対する吸収性が高いシート状の吸収性部材が、前記基材と前記粘着剤層との間に設けられ、前記非吸収領域が、前記流動性材料に対して非吸収性である前記粘着剤層の側方端面であり、前記吸収領域が、前記吸収性部材の前記側面における露出領域である。
【００１５】
請求項６に記載の発明は、請求項４または５に記載のマスク部材であって、前記基材が、前記流動性材料に対して非吸収性である。
【００１６】
請求項７に記載の発明は、請求項１ないし６のいずれかに記載のマスク部材であって、前記側面とは反対側に、前記側面と同様の非吸収領域および吸収領域を備えるもう１つの側面をさらに備える。
【００１７】
請求項８に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、請求項１ないし７のいずれかに記載のマスク部材が、基板上の非塗布領域と塗布領域との境界に前記下面の前記エッジを一致させつつ前記非塗布領域に密着している前記基板を保持する基板保持部と、前記基板に向けて流動性材料を連続的に吐出するノズルと、前記ノズルを前記基板の主面に平行であって前記エッジと交差する主走査方向に前記基板に対して相対的に移動することにより、前記基板上の前記マスク部材を含む領域に前記流動性材料を塗布する主走査機構と、前記基板の前記主面に平行であって前記主走査方向に垂直な副走査方向に前記ノズルを前記基板に対して相対的に移動する副走査機構とを備える。
【００１８】
請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の塗布装置であって、前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含む。
【００１９】
請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載の塗布装置であって、前記画素形成材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料である。
【００２０】
請求項１１に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布システムであって、請求項１ないし７のいずれかに記載のマスク部材を、基板上の非塗布領域と塗布領域との境界に前記下面の前記エッジを一致させつつ前記非塗布領域に密着させるマスク部材密着装置と、請求項８ないし１０のいずれかに記載の塗布装置と、流動性材料が塗布された基板から前記マスク部材を剥離するマスク部材剥離装置と、前記マスク部材密着装置、前記塗布装置および前記マスク部材剥離装置へと順に基板を搬送する基板搬送機構とを備える。
【００２１】
請求項１２に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布方法であって、ａ）請求項１ないし７のいずれかに記載のマスク部材が、基板上の非塗布領域と塗布領域との境界に前記下面の前記エッジを一致させつつ前記非塗布領域に密着している前記基板に向けて、ノズルから流動性材料を連続的に吐出しつつ前記ノズルを前記基板の主面に平行であって前記エッジと交差する主走査方向に相対的に移動することにより、前記基板上の前記マスク部材を含む領域に前記流動性材料を塗布する工程と、ｂ）前記ノズルを前記基板の前記主面に平行であって前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動する工程と、ｃ）前記ａ）工程および前記ｂ）工程を繰り返す工程とを備える。
【００２２】
請求項１３に記載の発明は、請求項１２に記載の塗布方法であって、前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含む。
【００２３】
請求項１４に記載の発明は、請求項１３に記載の塗布方法であって、前記画素形成材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料である。
【発明の効果】
【００２４】
本発明では、マスキングテープの側面に形成されるメニスカスを小さくすることができる。請求項８ないし１４の発明では、膜厚の均一性を向上しつつ基板上に流動性材料を塗布することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
図１は、本発明の第１の実施の形態に係るマスキングテープが貼付された基板に対して流動性材料を塗布する塗布システム８の構成を示す図である。塗布システム８は、平面表示装置用のガラス基板（以下、単に「基板」という。）に画素形成材料を含む流動性材料を塗布するシステムである。本実施の形態では、塗布システム８において、アクティブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置用の基板に、有機ＥＬ材料を含む流動性材料（以下、「有機ＥＬ液」という。）が塗布される。有機ＥＬ液は、有機ＥＬ材料の他に、キシレンやメシチレン等の有機溶媒（本実施の形態では、キシレン）を含む。
【００２６】
図２は、テープ状のマスク部材であるマスキングテープ１が貼付された基板９を示す平面図である。図２では、塗布システム８（図１参照）により有機ＥＬ液が塗布される領域（以下、「塗布領域」という。）９１に平行斜線を付す。本実施の形態では、基板９上に４つの塗布領域９１が設けられ、１枚の基板９から４つの有機ＥＬ表示装置用の基板が製造される。４つの塗布領域９１の周囲の格子状の領域９２は、ドライバ回路の組み込みや後工程における絶縁膜による封止等に利用されるため、有機ＥＬ液が塗布されるべきではない領域であり、以下、「非塗布領域９２」という。マスキングテープ１は、図２に示すように、基板９の主面９０上の非塗布領域９２に貼付されて（すなわち、密着して）非塗布領域９２に対する有機ＥＬ液の付着を防止する。
【００２７】
図１に示すように、塗布システム８は、基板９上の非塗布領域９２にマスキングテープ１（図２参照）を貼付するテープ貼付装置２、マスキングテープ１が貼付された基板９に向けて有機ＥＬ液をノズルから連続的に吐出しつつノズルを基板９に対して相対的に移動してマスキングテープ１を含む領域に有機ＥＬ液を塗布する塗布装置３、および、有機ＥＬ液が塗布された基板９からマスキングテープ１を剥離するテープ剥離装置４を備える。
【００２８】
塗布システム８は、テープ貼付装置２と塗布装置３との間、および、塗布装置３とテープ剥離装置４との間に固定型の搬送ロボット６をさらに備える。塗布システム８では、２つの搬送ロボット６が、テープ貼付装置２、塗布装置３およびテープ剥離装置４へと順に基板９を搬送する基板搬送機構となっている。
【００２９】
図３は、図２に示すマスキングテープ１および基板９の一部を、図２中のＡ−Ａの位置にてマスキングテープ１の長手方向に垂直に切断した断面図である。図３に示すように、マスキングテープ１は、テープ状の基材１１、基材１１の一方の面１１２（すなわち、図３中における下側の面であり、以下、「基材下面１１２」という。）上に形成された粘着剤層１２、並びに、マスキングテープ１の両側の側面１０３内に（具体的には、基材１１および粘着剤層１２の側方に形成された長手方向に伸びる溝部に）設けられる吸収性部材１３を備える。
【００３０】
吸収性部材１３は、基材１１および粘着剤層１２よりも有機ＥＬ液に対する吸収性が高い材料により形成されている。本実施の形態では、基材１１および粘着剤層１２は、有機ＥＬ液に対して実質的に非吸収性である材料により形成されている。ここで、基材１１および粘着剤層１２の有機ＥＬ液に対する実質的な非吸収性とは、塗布装置３によりマスキングテープ１に塗布された微量の有機ＥＬ液が短時間（例えば、数秒）にて乾燥する間に、有機ＥＬ液が基材１１および粘着剤層１２にほとんど（あるいは、全く）吸収されないことを意味する。
【００３１】
基材１１は、例えば、プラスチックフィルムにより形成される。基材１１として使用されるプラスチックフィルムは、例えば、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン系フィルム、ポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ナイロン等のポリアミド系フィルム、トリアセチルセルロースフィルム、ポリイミドフィルム等である。耐溶剤性、耐水性等の観点からは、ポリエステル系フィルムにより基材１１が形成されることが好ましく、また、耐熱性の観点からは、ポリイミドフィルムにより基材１１が形成されることが好ましい。本実施の形態では、基材１１は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）により形成される。
【００３２】
粘着剤層１２は、例えば、ポリエステル系粘着剤、または、アクリル系粘着剤により形成される。ポリエステル系粘着剤としては、粘着剤層１２の濡れ性を向上するという観点から、例えば、ポリカーボネートジオールやポリカプロラクトンジオール等から選択されるジオール化合物（好ましくは、水酸基価が３５〜１３０ＫＯＨｍｇ／ｇ（より好ましくは、４５〜１２０ＫＯＨｍｇ／ｇ）であるもの）と、セバシン酸、アジピン酸、アゼライン酸およびフタル酸から選択される二塩基酸とから得られるポリエステルを含有するものが好ましい。
【００３３】
ポリエステルの重量平均分子量（Ｍｗ）は、粘着剤としての凝集力を確保して耐熱性や耐久性を向上するという観点からは、１万以上（より好ましくは、２万以上）とされることが好ましく、粘度が過剰に高くなることを防止して粘着剤層１２の形成を容易とするという観点からは、１０万以下（より好ましくは、８万以下）とされることが好ましい。ここで、重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトフラフィー（ＧＰＣ）による標準ポリスチレン換算の重量平均分子量を意味する。
【００３４】
アクリル系粘着剤としては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステルと親水性モノマーとを単量体単位として含むアクリル系ポリマーを含有するものが好ましい。アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、粘着剤としての凝集力を確保して耐熱性や耐久性を向上するという観点からは、３０万以上（より好ましくは、５０万以上）とされることが好ましく、粘度が過剰に高くなることを防止して粘着剤層１２の形成を容易とするという観点からは、２００万以下（より好ましくは、１７０万以下）とされることが好ましい。
【００３５】
（メタ）アクリル酸アルキルエステルのアルキル基としては、炭素数が２以上１４以下（より好ましくは４以上８以下）であるものが好ましく、例えば、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、イソアミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、イソオクチル基、イソノニル基、イソデシル基が使用される。
【００３６】
親水性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシブチル等の水酸基含有単量体、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルアミノエチル等のアミノ基含有単量体、（メタ）アクリルアミド、Ｎ,Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ,Ｎ−メチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド等のアミド基含有単量体が使用される。また、（メタ）アクリロニトリル、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド等も親水性モノマーとして使用される。さらには、上記親水性モノマーが２種類以上組み合わされて使用されてもよい。
【００３７】
吸収性部材１３としては、例えば、メンブレンフィルタ等に利用される多孔性ポリマが使用される。この場合、吸収性部材１３からのパーティクルの発生を防止するために、多孔性ポリマにパーティクル防止対策が施されたものが好ましい。
【００３８】
図３に示すマスキングテープ１では、基材下面１１２と、基材下面１１２とは反対側の基材１１の主面１１１（図３中の上側の面であり、以下、「基材上面１１１」という。）との間の距離、すなわち、基材１１の厚さが約３７μｍとされる。また、粘着剤層１２の基材１１側の主面１２１（図３中の上側の面）と、基材１１側とは反対側の主面１２２（図３中の下側の面であり、以下、「粘着剤層下面１２２」という。）との間の距離、すなわち、粘着剤層１２の厚さは約１５μｍとされる。なお、図３では、図示の都合上、マスキングテープ１の厚さを幅に比べて実際よりも厚く描いている（図１６．Ａないし図１６．Ｃ、図１８および図１９においても同様）。
【００３９】
マスキングテープ１では、粘着剤層下面１２２が、マスキングテープ１の基板９の主面９０に密着する下面となり、基材上面１１１が、マスキングテープ１の下面とは反対側であって下面に平行な上面となる。また、マスキングテープ１の両側の側面１０３は、マスキングテープ１の上面（基材上面１１１）の幅方向の両側において長手方向に伸びるエッジ１０４（以下、「上面エッジ１０４」という。）から、マスキングテープ１の下面（粘着剤層下面１２２）の幅方向の両側において長手方向に伸びるエッジ１０５（以下、「下面エッジ１０５」という。）へと上下に亘って存在する。
【００４０】
図２に示すように、３本のマスキングテープ１はそれぞれ、幅方向の両側の下面エッジ１０５の少なくとも一方を基板９上の塗布領域９１と非塗布領域９２との境界に一致させつつ、基板９の主面９０に貼付される。
【００４１】
図３に示すように、マスキングテープ１の両側の側面１０３ではそれぞれ、マスキングテープ１の下面エッジ１０５に沿って伸びる粘着剤層１２の側方端面１０３１が、基板９に塗布される有機ＥＬ液に対して非吸収性を示す領域となり、吸収性部材１３の側面１０３における露出領域１０３２が、粘着剤層１２の側方端面１０３１の上側において有機ＥＬ液に対して吸収性を有する領域となる。以下、粘着剤層１２の側方端面１０３１を、「非吸収領域１０３１」と呼び、吸収性部材１３の露出領域１０３２を、「吸収領域１０３２」と呼ぶ。
【００４２】
換言すれば、マスキングテープ１の両側面１０３（すなわち、一の側面１０３および当該一の側面１０３とは反対側の側面１０３）は、マスキングテープ１の下面エッジ１０５に接するとともに下面エッジ１０５に沿って存在する非吸収領域１０３１、および、非吸収領域１０３１の上側（すなわち、マスキングテープ１の上面である基材上面１１１側）に下面エッジ１０５から離れて配置される吸収領域１０３２を備える。
【００４３】
図４ないし図６はそれぞれ、テープ貼付装置２の構成を示す平面図、正面図および左側面図である。図４ないし図６に示すように、テープ貼付装置２は、基板９を保持する基板保持部２１、基板９を基板保持部２１と共に移動する基板移動機構２２、有機ＥＬ液が塗布される前の基板９上の非塗布領域９２にマスキングテープ１（図２参照）を貼付するテープ貼付ヘッド２３、および、テープ貼付ヘッド２３を基板９の移動方向とは垂直な方向に移動するヘッド移動機構２４を備える。
【００４４】
テープ貼付装置２では、基板移動機構２２により、基板９が基板保持部２１と共にレール２２１に沿って水平方向に移動するとともに垂直方向を向く回転軸を中心として回転する。また、ヘッド移動機構２４により、テープ貼付ヘッド２３が基板９の移動範囲の上方においてレール２４１に沿って水平方向に移動する。
【００４５】
図７．Ａは、テープ貼付ヘッド２３の構成を拡大して示す左側面図である。図７．Ａでは、テープ貼付ヘッド２３のハウジング２３１に収容される内部構成を描いている。テープ貼付ヘッド２３では、ベーステープ２５１の一方の主面にマスキングテープ１が保持された２層構造のテープ２５を利用してマスキングテープ１の貼付が行われる。
【００４６】
図７．Ａに示すように、テープ貼付ヘッド２３は、未使用のテープ２５が巻き付けられる供給リール２３２、テープ２５からマスキングテープ１を分離して基板９に貼付する貼付部２３３、マスキングテープ１が分離された後のテープ２５（すなわち、ベーステープ２５１）を巻き取って回収する回収リール２３４、および、これらの構成を収容するハウジング２３１を備える。
【００４７】
テープ貼付装置２により基板９にマスキングテープ１が貼付される際には、まず、図４ないし図６に示すヘッド移動機構２４によりテープ貼付ヘッド２３が移動されて基板９の移動経路の上方に位置する。このとき、基板９は、図６におけるテープ貼付ヘッド２３の右側に位置している。続いて、基板移動機構２２により基板９が図６中の左側へと移動し、図７．Ａに示す貼付開始位置に位置する。基板９が貼付開始位置に位置すると、テープ貼付ヘッド２３の貼付部２３３の切断部２３５により、テープ２５の切断部２３５と対向する側においてマスキングテープ１のみが切断される。
【００４８】
切断されたマスキングテープ１は、供給リール２３２および回収リール２３４が図７．Ａ中における反時計回りに回転することにより、ベーステープ２５１と共に貼付部２３３のテープ分離部材２３６の先端へと送られ、当該先端において、ベーステープ２５１が送られてきた方向とはおよそ反対側に導かれることにより、マスキングテープ１がベーステープ２５１から剥離し、その先端部がハウジング２３１の下部開口２３７から基板９に向かって移動する。
【００４９】
これと並行して、エアシリンダ２３８により貼付ローラ２３９が下部開口２３７を介して下方に移動し、図７．Ｂに示すように、マスキングテープ１の先端部を上側から基板９の主面９０に向けて押圧して貼付する。これと同時に、基板移動機構２２（図６参照）により基板９が図７．Ａの左方向へと移動を開始する。そして、供給リール２３２からテープ２５が継続的に送り出されるとともに基板９が移動を継続することにより、図７．Ｂに示すように、基板９の主面９０上にマスキングテープ１が貼付される。
【００５０】
図７．Ａに示すテープ貼付ヘッド２３では、切断部２３５によりテープ２５上のマスキングテープ１のみが再び切断され、マスキングテープ１が後端部まで基板９に貼付されることによりマスキングテープ１が基板９の主面９０に密着する。なお、テープ貼付ヘッド２３では、マスキングテープ１の先端部および後端部の貼付時以外は、貼付ローラ２３９はハウジング２３１内へと待避していてもよい。また、マスキングテープ１の貼付開始は、テープ２５を供給しつつテープ２５の供給速度に等しい速度で左方向へと移動している基板９に対して行われてもよい。
【００５１】
テープ貼付装置２では、図２に示すように、基板９の格子状の非塗布領域９２のうち、基板移動機構２２による基板９の移動方向に平行に伸びる３つの領域（すなわち、図２中の上下方向に伸びる領域）にのみマスキングテープ１が貼付され、基板９の移動方向に垂直に伸びる領域（すなわち、図２中の左右方向に伸びる領域）にはマスキングテープ１の貼付は行われない。後述するように、塗布システム８では、マスキングテープ１の貼付が省略された領域に対しては有機ＥＬ液の塗布は行われない。
【００５２】
図８および図９は、塗布装置３の構成を示す平面図および正面図である。図９に示すように、塗布装置３は、マスキングテープ１（図２参照）が非塗布領域９２に貼付された（すなわち、密着している）基板９を保持する基板保持部３１を備え、基板保持部３１は内部にヒータによる加熱機構（図示省略）を備える。図８および図９では、図示の都合上、基板９の主面９０上に貼付されたマスキングテープ１の図示を省略している。
【００５３】
塗布装置３は、また、図８および図９に示すように、基板保持部３１を基板９の主面に平行な所定の方向（すなわち、図８中の上下方向であり、以下、「副走査方向」という。）に水平移動するとともに垂直方向に向く軸を中心として回転する基板移動機構３２、基板９上に形成された位置調整用目印（図示省略）を撮像して検出する目印検出部３３、基板保持部３１上の基板９に向けて３本のノズル３７から有機ＥＬ液を連続的に吐出する吐出機構である塗布ヘッド３４、塗布ヘッド３４を基板９の主面に平行であって副走査方向に垂直な方向（すなわち、図８中の左右方向であり、以下、「主走査方向」という。）に水平移動するヘッド移動機構３５、主走査方向に関して基板保持部３１の両側に設けられるとともに塗布ヘッド３４からの有機ＥＬ液を受ける２つの受液部３６、および、塗布ヘッド３４の３本のノズル３７に有機ＥＬ液を供給する流動性材料供給部３８を備える。塗布装置３では、ヘッド移動機構３５および基板移動機構３２が、３本のノズル３７を基板９に対して主走査方向および副走査方向に相対的に移動する主走査機構および副走査機構となる。
【００５４】
塗布ヘッド３４では、３本のノズル３７が、図８中の左右方向（すなわち、主走査方向）に関して略直線状に離れて配列されるとともに図８中の上下方向（すなわち、副走査方向）に僅かにずれて配置され、これらのノズル３７から吐出された有機ＥＬ液が、基板９の塗布領域９１（図２参照）に予め形成されている主走査方向に伸びる隔壁の間の溝に塗布される。本実施の形態では、隣接する２本のノズル３７の間の副走査方向に関する距離は、隔壁間のピッチ（以下、「隔壁ピッチ」という。）に等しい。塗布ヘッド３４では、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）と互いに色が異なる３種類の有機ＥＬ材料をそれぞれ含む３種類の有機ＥＬ液が３本のノズル３７から吐出される。
【００５５】
図１０は、塗布装置３による有機ＥＬ液の塗布動作の流れを示す図である。塗布装置３により有機ＥＬ液の塗布が行われる際には、まず、テープ貼付装置２により非塗布領域９２にマスキングテープ１（図２参照）が貼付された基板９が基板保持部３１に載置されて保持され、目印検出部３３からの出力に基づいて基板移動機構３２が駆動されて基板９が図８中に実線にて示す塗布開始位置に位置する（ステップＳ１１）。塗布ヘッド３４は予め図８および図９中に実線にて示す位置に位置している。
【００５６】
続いて、流動性材料供給部３８から塗布ヘッド３４へと有機ＥＬ液が供給されてノズル３７から有機ＥＬ液の吐出が開始されるとともに、ヘッド移動機構３５が駆動されて塗布ヘッド３４の移動が開始される。塗布装置３では、ノズル３７から有機ＥＬ液を基板９に向けて連続的に吐出しつつ、ノズル３７を基板９に対して図８中の左側から右側へと（すなわち、基板９に貼付されたマスキングテープ１の上面エッジ１０４および下面エッジ１０５（図３参照）と交差する主走査方向に）相対的に移動することにより、基板９の隔壁間の３つの隣接する溝、および、マスキングテープ１上に有機ＥＬ液が塗布される（ステップＳ１２）。
【００５７】
塗布ヘッド３４が図８および図９中に二点鎖線にて示す位置まで移動すると、基板移動機構３２が駆動され、基板９が基板保持部３１と共に図８中の上側に（すなわち、副走査方向に）隔壁ピッチの３倍の距離だけ移動する（ステップＳ１３）。このとき、塗布ヘッド３４では、３本のノズル３７から受液部３６に向けて有機ＥＬ液が連続的に吐出されている。
【００５８】
副走査方向における基板９の移動が終了すると、基板９および基板保持部３１が図８中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動したか否かが確認され（ステップＳ１４）、塗布終了位置まで移動していない場合には、ステップＳ１２に戻って塗布ヘッド３４が有機ＥＬ液を吐出しつつ図８中において右側から左側へと（すなわち、主走査方向に）移動することにより、基板９上に３種類の有機ＥＬ液が塗布される（ステップＳ１２）。そして、副走査方向における基板９の移動が再び行われた後、基板９が塗布終了位置まで移動したか否かが確認される（ステップＳ１３，Ｓ１４）。
【００５９】
図１１は、マスキングテープ１が貼付された基板９を示す平面図であり、図１２は、図１１中のＢ−Ｂの位置におけるマスキングテープ１および基板９の断面図である。塗布装置３では、基板９が塗布終了位置に位置するまで、塗布ヘッド３４の主走査方向への移動、および、塗布ヘッド３４の１回の主走査毎に行われる基板９の副走査方向へのピッチ移動が繰り返され（ステップＳ１２〜Ｓ１４）、これにより、図１１および図１２に示すように、基板９上のマスキングテープ１を含む領域（すなわち、非塗布領域９２に貼付されたマスキングテープ１上の領域、および、塗布領域９１の隔壁間の溝）に有機ＥＬ液９３がストライプ状に塗布される。そして、基板９が図８中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動すると、ノズル３７からの有機ＥＬ液の吐出が停止されて基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が終了する。なお、図１１では、図示の都合上、基板９上に塗布された有機ＥＬ液９３の幅およびピッチを実際よりも大きく描いている。
【００６０】
塗布装置３では、有機ＥＬ液９３の塗布が行われている間、塗布ヘッド３４のノズル３７（図８および図９参照）から有機ＥＬ液９３が連続的に吐出されている。塗布装置３では、非塗布領域９２のうち基板９の移動方向に垂直に伸びる領域（すなわち、図１１中において左右方向に伸びる領域であり、マスキングテープ１の貼付が省略されている領域）に対して、塗布ヘッド３４を受液部３６上に待機させた状態で、基板９を当該領域の幅（すなわち、図１１中の上下方向の幅）と等しい距離だけ副走査方向に移動することにより、当該領域への有機ＥＬ液９３の塗布が回避される。
【００６１】
図１３は、テープ剥離装置４の構成を示す平面図である。図１３に示すように、テープ剥離装置４は、図４ないし図６に示すテープ貼付装置２のテープ貼付ヘッド２３に代えてテープ剥離ヘッド４３を備える。テープ剥離装置４のその他の構成はテープ貼付装置２とほぼ同様である。
【００６２】
テープ剥離装置４は、基板９を保持する基板保持部４１、基板９を基板保持部４１と共に移動する基板移動機構４２、マスキングテープ１（図２参照）を保持して剥離するテープ剥離ヘッド４３、および、テープ剥離ヘッド４３を基板９の移動方向とは垂直な方向に移動するヘッド移動機構４４を備える。テープ剥離装置４では、基板移動機構４２により、基板９が基板保持部４１と共にレール４２１に沿って水平方向に移動するとともに垂直方向を向く回転軸を中心として回転する。また、ヘッド移動機構４４により、テープ剥離ヘッド４３が基板９の移動範囲の上方においてレール４４１に沿って水平方向に移動する。
【００６３】
図１４．Ａは、テープ剥離ヘッド４３の構成を拡大して示す左側面図である。図１４．Ａでも、図７．Ａと同様に、テープ剥離ヘッド４３のハウジング４３１の内部構成を描いている。図１４．Ａに示すように、テープ剥離ヘッド４３は、マスキングテープ１に粘着することによりマスキングテープ１の少なくとも一部を保持する剥離テープ４５、剥離テープ４５の粘着面をマスキングテープ１に対向させつつ剥離テープ４５を案内して基板９上のマスキングテープ１に順次粘着させる剥離テープ案内部である粘着機構４３３、未使用の剥離テープ４５を粘着機構４３３に供給する剥離テープ供給部である供給リール４３２、剥離テープ４５を剥離テープ４５に粘着されたマスキングテープ１と共に基板９から引き上げて回収する剥離テープ回収部である回収リール４３４、および、これらの構成を収容するハウジング４３１を備える。粘着機構４３３は、エアシリンダ４３６および押圧ローラ４３７を備える。また、剥離テープ４５の幅は、マスキングテープ１の幅よりも大きい。
【００６４】
テープ剥離装置４により基板９からマスキングテープ１が剥離される際には、まず、基板移動機構４２およびヘッド移動機構４４（図１３参照）により基板９およびテープ剥離ヘッド４３が移動されて剥離開始位置に位置する。すなわち、剥離対象であるマスキングテープ１の先端が、テープ剥離ヘッド４３のハウジング４３１の下部開口４３５の下方に位置する。
【００６５】
続いて、エアシリンダ４３６により押圧ローラ４３７が下部開口４３５を介して下方に移動し、剥離テープ４５を上側（すなわち、剥離テープ４５の粘着面とは反対側）からマスキングテープ１の先端部に押圧して粘着する。次に、基板移動機構４２により基板９が図１４．Ａ中の左方向に移動を開始する。これと同時に、供給リール４３２および回収リール４３４の図１４．Ａ中における時計回りの回転が開始されて供給リール４３２に巻き付けられている剥離テープ４５が送り出されるとともに、押圧ローラ４３７が上方に移動して元の位置に戻ることにより、図１４．Ｂに示すように、剥離テープ４５に粘着されたマスキングテープ１の先端部が基板９から剥離する。そして、供給リール４３２から剥離テープ４５が継続的に送り出されるとともに基板９が移動を継続することにより、基板９上のマスキングテープ１が剥離テープ４５に粘着されつつ基板９から剥離し、回収リール４３４により巻き取られて回収される。
【００６６】
図１５は、図１２に対応する基板９の断面図である。テープ剥離装置４では、有機ＥＬ液９３が塗布された基板９からマスキングテープ１が剥離されることにより、図１５に示すように、基板９の塗布領域９１上にのみ有機ＥＬ液９３が残置される。このように、図１３に示すテープ剥離装置４では、テープ剥離ヘッド４３によりマスキングテープ１を保持して持ち上げた状態で、基板移動機構４２により基板９をマスキングテープ１が貼付されている方向に沿って移動することにより、基板９からのマスキングテープ１の剥離が行われる。
【００６７】
テープ剥離装置４では、有機ＥＬ液が付着したマスキングテープ１の上面を剥離テープ４５により覆ってマスキングテープ１を基板９から剥離するため、マスキングテープ１上に付着した有機ＥＬ液を基板９に落下させることなくマスキングテープ１を回収することができる。なお、剥離テープ４５のマスキングテープ１への粘着開始は、剥離テープ４５を供給しつつ剥離テープ４５の供給速度に等しい速度で移動している基板９に対して行われてもよい。
【００６８】
以上のように、塗布システム８では、テープ貼付装置２およびテープ剥離装置４がそれぞれ、基板９の非塗布領域９２（図２参照）にマスク部材であるマスキングテープ１を密着させるマスク部材密着装置、および、基板９からマスク部材を剥離するマスク部材剥離装置となっている。
【００６９】
次に、塗布システム８による基板９への有機ＥＬ液の塗布動作について説明する。塗布システム８では、まず、基板９が図４ないし図６に示すテープ貼付装置２に搬入される。基板９上には予め、ＴＦＴ回路、ＩＴＯ電極、隔壁および正孔輸送層が形成されている。続いて、テープ貼付装置２において、基板９上の非塗布領域９２にマスキングテープ１が順次貼付された後、搬送ロボット６（図１参照）により基板９がテープ貼付装置２から搬出され、図８および図９に示す塗布装置３に搬入される。
【００７０】
塗布装置３では、非塗布領域９２にマスキングテープ１が貼付された基板９に向けて有機ＥＬ液が吐出され、マスキングテープ１を含む基板９上の領域（すなわち、マスキングテープ１上の領域、および、塗布領域９１の隔壁間の溝）に有機ＥＬ液がストライプ状に塗布される。
【００７１】
図１６．Ａおよび図１６．Ｂは、有機ＥＬ液９３が塗布された基板９の一部をマスキングテープ１の一部と共に示す断面図である。図１６．Ａは、有機ＥＬ液９３が基板９に塗布された直後の様子を示し、図１６．Ｂは、有機ＥＬ液９３の塗布から僅かな時間（例えば、数秒）が経過した後の様子を示す。図１６．Ａおよび図１６．Ｂでは、図示の都合上、有機ＥＬ液９３の厚さを実際よりも大きく描いている（後述の図１６．Ｃにおいても同様）。
【００７２】
図１６．Ａに示すように、塗布直後の有機ＥＬ液９３は、基板９の主面９０およびマスキングテープ１の基材上面１１１においてほぼ均一な厚さとなっており、マスキングテープ１の側面１０３では、重力の影響により、下面エッジ１０５側が上面エッジ１０４側よりも厚くなっている。
【００７３】
ここで、仮に、マスキングテープ１に代えて、図１７．Ａに示す側面に吸収性部材が設けられていない比較例のマスキングテープ７１（すなわち、有機ＥＬ液に対して非吸収性を示す基材７１１と粘着剤層７１２のみにより構成されるマスキングテープ７１）に対して有機ＥＬ液７９３が塗布されたとすると、有機ＥＬ液７９３は、基板７９およびマスキングテープ７１の表面張力および重力の影響により流動して図１７．Ａに示す形状となり、マスキングテープ７１の側面７１０３においてメニスカス７９４が形成される。
【００７４】
具体的には、マスキングテープ７１の側面７１０３では、側面７１０３に付着した有機ＥＬ液７９３が、重力により上面エッジ７１０４側から下面エッジ７１０５側へと引っ張られるが、表面張力により反対向きにも（すなわち、下面エッジ７１０５側から上面エッジ７１０４側へと）引っ張られるため、側面７１０３上に有機ＥＬ液７９３の膜がメニスカス７９４として形成される。また、有機ＥＬ液７９３は、表面張力により、マスキングテープ７１の基材上面７１１１において上面エッジ７１０４から離れる側へと流動し、基板７９の主面７９０においてマスキングテープ７１の下面エッジ７１０５から離れる方向へと流動する。
【００７５】
これに対し、マスキングテープ１では、図１６．Ｂに示すように、側面１０３内に吸収性部材１３による吸収領域１０３２が設けられているため、側面１０３に付着した有機ＥＬ液９３が塗布直後に吸収性部材１３により迅速に吸収される。これにより、マスキングテープ１の側面１０３に形成されるメニスカス９４の高さ（すなわち、基板９の主面９０からの高さ）を、非吸収領域１０３１の高さと同等程度まで小さくすることができる。
【００７６】
マスキングテープ１では、側面１０３において吸収領域１０３２と下面エッジ１０５との間に非吸収領域１０３１が設けられており、さらに、吸収性部材１３が非吸収性の粘着剤層１２により基板９の主面９０から隔てられているため、吸収性部材１３に一旦吸収された有機ＥＬ液９３が、マスキングテープ１の下側からしみ出して基板９の非塗布領域９２に付着してしまうことを防止することができる。また、有機ＥＬ液の吸収により脆くなった吸収性部材１３の一部がマスキングテープ１から脱落し、基板９の主面９０上に残渣として残ってしまうことを防止することができる。
【００７７】
有機ＥＬ液の塗布が終了すると、図１に示す搬送ロボット６により基板９が塗布装置３から搬出される。基板９上では、塗布装置３により塗布された有機ＥＬ液の溶媒成分が塗布装置３の基板保持部３１（図９参照）の加熱機構により蒸発し、有機ＥＬ液が乾燥した状態にてマスキングテープ１および塗布領域９１上に付着している。
【００７８】
有機ＥＬ液が塗布された基板９は、搬送ロボット６により、図１３に示すテープ剥離装置４に搬入され、有機ＥＬ液が塗布されたマスキングテープ１が基板９から剥離される。塗布システム８では、マスキングテープ１の基板９からの剥離が終了すると、基板９がテープ剥離装置４から塗布システム８外へと搬出されて基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が終了する。なお、塗布システム８では、実際には、有機ＥＬ液の塗布が複数の基板に対して連続的に行われる。
【００７９】
図１６．Ｃは、マスキングテープ１が剥離された基板９の一部を示す断面図である。また、図１７．Ｂは、上記比較例のマスキングテープ７１が剥離された基板７９の一部を示す断面図である。上述のように、塗布装置３では、図１６．Ｂに示すように、マスキングテープ１の側面１０３において有機ＥＬ液９３が吸収性部材１３により吸収されるため、図１６．Ｃに示すように、マスキングテープ１の剥離後に塗布領域９１のエッジ近傍（すなわち、塗布領域９１の非塗布領域９２近傍の部位）に残る有機ＥＬ液９３のメニスカス９４の高さを、図１７．Ｂに示す比較例の基板７９上のメニスカス７９４に比べて小さくすることができる。すなわち、塗布装置３では、有機ＥＬ液の膜厚の均一性を向上しつつ基板９上に有機ＥＬ液を塗布することができる。
【００８０】
これにより、後工程（ベーク工程）において、基板９を加熱して有機ＥＬ液９３から溶媒成分を完全に蒸発させて有機ＥＬ層を基板９上に定着させる際に、塗布領域９１のエッジ近傍の有機ＥＬ層の厚さが、メニスカス９４に含まれる有機ＥＬ材料により厚くなってしまうことを抑制することができる。その結果、以降の工程において有機ＥＬ層の上に積層される他の層（本実施の形態では、陰極層）の厚さが、塗布領域９１のエッジ近傍において不足することを防止することができる。
【００８１】
ところで、有機ＥＬ液における有機ＥＬ材料の含有率は通常２％〜３％程度であり、ベークにより形成される有機ＥＬ層の厚さは、ベーク前の有機ＥＬ液９３の厚さに比べて小さくなる。また、有機ＥＬ層の厚さは、有機ＥＬ表示装置の性能に大きく影響するため、高精度にコントロールされる必要がある。したがって、メニスカス９４の高さを小さくして有機ＥＬ層の膜厚の均一性を向上することができる塗布装置３は、有機ＥＬ液の塗布に特に適しているといえる。
【００８２】
マスキングテープ１では、図１６．Ｂに示すように、側面１０３内に基材１１および粘着剤層１２とは別部材である吸収性部材１３が設けられて吸収領域１０３２が形成される。したがって、吸収領域１０３２を形成する材料として、基材１１または粘着剤層１２に要求される仕様に制限されることなく、有機ＥＬ液に対する吸収性が高い材料を使用することができる。これにより、マスキングテープ１の側面１０３における有機ＥＬ液に対する吸収性をより高くすることができる。
【００８３】
特に、塗布装置３のようにノズル３７からの吐出による有機ＥＬ液の塗布では、基板９上に供給される有機ＥＬ液が微量であるため、塗布後の有機ＥＬ液は短時間で乾燥して硬化する。上述のように、マスキングテープ１は、側面１０３において有機ＥＬ液に対する高い吸収性を有し、塗布後の有機ＥＬ液を乾燥前に迅速に吸収することができるため、ノズル３７から有機ＥＬ液を吐出する塗布装置３、および、塗布装置３を備える塗布システム８における有機ＥＬ液の塗布に特に適している。
【００８４】
また、マスキングテープ１では、吸収性部材１３が基材１１および粘着剤層１２の側方に設けられることにより、吸収領域１０３２の下端をマスキングテープ１の下面エッジ１０５に近接させることができるとともに、吸収領域１０３２を基材１１と粘着剤層１２とに亘って大面積にて形成することができる。その結果、メニスカス９４の高さをより小さくすることができる。
【００８５】
次に、本発明の第２の実施の形態に係るマスキングテープについて説明する。図１８は、第２の実施の形態に係るマスキングテープ１ａを基板９の一部と共に長手方向に垂直に切断した断面図である。図１８に示すように、マスキングテープ１ａは、図３に示すマスキングテープ１の吸収性部材１３とは形状および配置が異なる吸収性部材１３ａを備える。その他の構成は図３と同様であり、以下の説明において同符号を付す。
【００８６】
図１８に示すように、マスキングテープ１ａでは、シート状の吸収性部材１３ａが基材１１と粘着剤層１２との間に設けられ、吸収性部材１３ａにより基材１１と粘着剤層１２とが接続される。基材１１および粘着剤層１２は、第１の実施の形態と同様に、有機ＥＬ液９３に対して実質的に非吸収性の材料により形成されており、吸収性部材１３ａは、基材１１および粘着剤層１２よりも有機ＥＬ液９３に対する吸収性が高い材料により形成されている。また、マスキングテープ１ａの両側面１０３では、粘着剤層１２の側方端面が非吸収領域１０３１となり、吸収性部材１３ａの側面１０３における露出領域が吸収領域１０３２となる。
【００８７】
マスキングテープ１ａが貼付された基板９に対する塗布装置３（図８参照）による有機ＥＬ液の塗布の流れは、第１の実施の形態と同様である。有機ＥＬ液の塗布では、第１の実施の形態と同様に、マスキングテープ１ａの側面１０３内に吸収領域１０３２が設けられているため、側面１０３に付着した有機ＥＬ液を塗布直後に迅速に吸収することができる。これにより、マスキングテープ１ａの側面１０３に形成されるメニスカスの高さを、非吸収領域１０３１の高さと同等程度まで小さくすることができる。マスキングテープ１ａは、特に、基材１１、吸収性部材１３ａおよび粘着剤層１２を厚さ方向に積層することにより容易に形成することができる。
【００８８】
次に、本発明の第３の実施の形態に係るマスキングテープについて説明する。図１９は、第３の実施の形態に係るマスキングテープ１ｂを基板９と共に長手方向に垂直に切断した断面図である。図１９に示すように、マスキングテープ１ｂは、図３に示すマスキングテープ１の両側の吸収性部材１３、および、有機ＥＬ液に対して非吸収性である基材１１に代えて、有機ＥＬ液に対して吸収性を有する基材１１ａを備える。その他の構成は図３と同様であり、以下の説明において同符号を付す。基材１１ａは、例えば、紙等の繊維質の材料により形成され、塗布装置３（図８参照）によりマスキングテープ１ｂに塗布された微量の有機ＥＬ液を乾燥する前に迅速に吸収する。
【００８９】
図１９に示すように、マスキングテープ１ｂの両側面１０３では、粘着剤層１２の側方端面が非吸収領域１０３１となり、基材１１ａの側方端面が吸収領域１０３２となる。塗布装置３による有機ＥＬ液の塗布では、第１の実施の形態と同様に、マスキングテープ１ｂの側面１０３に付着した有機ＥＬ液が、基材１１ａの吸収領域１０３２から塗布直後に迅速に吸収される。このため、マスキングテープ１ｂの側面１０３に形成されるメニスカスの高さを、非吸収領域１０３１の高さと同等程度まで小さくすることができる。マスキングテープ１ｂは、特に、基材１１ａおよび粘着剤層１２のみにより形成されているため、マスキングテープ１ｂの構造を簡素化することができる。
【００９０】
次に、本発明の第４の実施の形態に係るマスク部材について説明する。図２０は、第４の実施の形態に係る薄板状のマスク部材１ｃを基板９と共に示す平面図であり、図２１は、図２０中のＣ−Ｃの位置におけるマスク部材１ｃおよび基板９の断面図である。なお、図２１では、図示の都合上、マスク部材１ｃの厚さを幅に比べて実際よりも厚く描いている。
【００９１】
図２０に示すように、マスク部材１ｃは、平面視において基板９の非塗布領域９２と同形状の格子状であり、図２１に示すように、下面１０２にて基板９の非塗布領域９２に密着する。マスク部材１ｃと基板９の主面９０との密着は、例えば、静電気力を利用して行われる。マスク部材１ｃは、有機ＥＬ液に対して非吸収性の部材本体１４、および、格子状の部材本体１４の４つの開口１４０（図２０参照）の側面１０３ａに設けられるとともに有機ＥＬ液に対して吸収性を有する（すなわち、部材本体１４よりも有機ＥＬ液に対する吸収性が高い）吸収性部材１３ｂを備える。
【００９２】
マスク部材１ｃでは、下面１０２に平行な上面１０１のエッジ１０４から下面１０２のエッジ１０５（以下、「下面エッジ１０５」という。）へと上下に亘る一方の側面１０３ａにおいて、部材本体１４の側方端面が、有機ＥＬ液に対して非吸収性である非吸収領域１０３１となり、吸収性部材１３ｂの側面１０３ａにおける露出領域が有機ＥＬ液に対して吸収性を有する吸収領域１０３２となる。側面１０３ａでは、第１の実施の形態と同様に、非吸収領域１０３１がマスク部材１ｃの下面エッジ１０５に接するとともに下面エッジ１０５に沿って存在し、吸収領域１０３２が非吸収領域１０３１の上面１０１側に下面エッジ１０５から離れて配置される。
【００９３】
本実施の形態に係る塗布システムでは、図１に示す塗布システム８のテープ貼付装置２に代えて、マスク部材１ｃを、基板９上の非塗布領域９２と塗布領域９１との境界に、側面１０３ａ側の下面エッジ１０５を一致させつつ静電気力により非塗布領域９２に密着させるマスク部材密着装置が設けられる。また、テープ剥離装置４に代えて、マスク部材１ｃを有機ＥＬ液が塗布された基板９から剥離するマスク部材剥離装置が設けられる。
【００９４】
マスク部材１ｃが密着された基板９に対する塗布装置３による有機ＥＬ液の塗布では、第１の実施の形態と同様に、マスク部材１ｃの側面１０３ａに付着した有機ＥＬ液が、吸収性部材１３ｂの吸収領域１０３２から塗布直後に迅速に吸収される。このため、マスク部材１ｃの側面１０３ａに形成されるメニスカスの高さを、非吸収領域１０３１の高さと同等程度まで小さくすることができる。
【００９５】
塗布システム８では、１枚のマスク部材１ｃにより非塗布領域９２の全体を被覆することができるため、マスク部材１ｃの基板９に対する密着工程および剥離工程を迅速に行うことができる。また、マスク部材１ｃの基板９に対する密着や基板９からの剥離に際して、マスク部材１ｃの取り扱いを容易とすることができる。
【００９６】
一方、第１の実施の形態のように、基板９の非塗布領域９２を被覆するマスク部材としてマスキングテープ１を利用する場合、マスキングテープ１を様々な長さに切断して使用することができるため、非塗布領域９２が様々な大きさや形状を有するものであっても容易に対応することができ、非塗布領域９２を確実に被覆することができる。
【００９７】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
【００９８】
例えば、第１の実施の形態に係るマスキングテープ１では、吸収性部材１３の上側が基材１１の一部により覆われているが、吸収性部材１３は、その上面が基材上面１１１に一致するように、換言すれば、吸収性部材１３の上面がマスキングテープ１の上面において露出するように設けられてもよい。
【００９９】
また、マスキングテープ１では、必ずしも幅方向の両側の側面１０３に吸収領域１０３２が設けられる必要はなく、幅方向の一方側においてのみ、側面１０３に吸収領域１０３２が設けられてもよい。このようなマスキングテープは、例えば、当該一方側の下面エッジ１０５を、基板９の塗布領域９１と非塗布領域９２との境界に一致させるとともに、他方側の下面エッジ１０５を基板９の非塗布領域９２上の切断領域（すなわち、１枚の基板９から複数枚の有機ＥＬ表示装置用の基板を得る際に切断されるため製品として使用されない領域であり、隣接する塗布領域９１の間に位置する非塗布領域９２のほぼ中央に位置する。）に位置させて貼付される。
【０１００】
上記実施の形態に係る塗布システム８の塗布装置３では、塗布ヘッド３４に設けられるノズルの本数は３本には限定されず、また、必ずしも３種類の有機ＥＬ液が同時に塗布される必要もない。例えば、３本以上のノズルから同一種類の有機ＥＬ液が同時に吐出されて基板９に塗布されてもよい。この場合、隣接する２本のノズルの間の副走査方向に関する距離は、隔壁ピッチの３倍と等しくされる。
【０１０１】
マスキングテープ１，１ａ，１ｂおよびマスク部材１ｃは、上述の有機ＥＬ液の塗布以外に、有機ＥＬ表示装置用の基板９に対して正孔輸送材料を含む流動性材料（以下、「正孔輸送液」という。）を塗布する際に、非塗布領域９２に対する正孔輸送液の付着防止に利用されてもよい。ここで、「正孔輸送材料」とは、有機ＥＬ表示装置の正孔輸送層を形成する材料であり、「正孔輸送層」とは、有機ＥＬ材料により形成された有機ＥＬ層へと正孔を輸送する狭義の正孔輸送層のみを意味するのではなく、正孔の注入を行う正孔注入層も含む。
【０１０２】
正孔輸送液は通常、正孔輸送材料を水に溶かした（あるいは、混入した）流動性材料である。このような水系の流動性材料を基板９に塗布する場合、マスキングテープ１，１ａおよびマスク部材１ｃに設けられる吸収性部材は、吸水性ポリマー（例えば、ＳＡＰ(Super Absorbent Polymer)）等、水に対する高い吸収性を有する材料により形成される。
【０１０３】
また、マスキングテープ１，１ａ，１ｂおよびマスク部材１ｃは、必ずしも有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料を画素形成材料として含む流動性材料の塗布の際にのみ利用されるわけではなく、例えば、液晶表示装置やプラズマ表示装置等の平面表示装置用の基板に対し、着色材料や蛍光材料等の他の種類の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する場合やその他の流動性材料を塗布する場合に利用されてもよい。さらには、有機薄膜太陽電池用基板や半導体ウエハ、光ディスク用基板等の様々な基板に対する流動性材料の塗布の際に利用されてもよい。
【０１０４】
上記実施の形態では、ノズルから基板に向けて流動性材料を連続的に吐出して塗布する方法について説明したが、マスキングテープ１，１ａ，１ｂおよびマスク部材１ｃは、これ以外の塗布方法（例えば、インクジェット法やスピンコート法）により流動性材料を基板に塗布する際にも利用されてよい。
【図面の簡単な説明】
【０１０５】
【図１】第１の実施の形態に係る塗布システムの構成を示す図である。
【図２】基板の平面図である。
【図３】基板の断面図である。
【図４】テープ貼付装置の平面図である。
【図５】テープ貼付装置の正面図である。
【図６】テープ貼付装置の左側面図である。
【図７．Ａ】テープ貼付ヘッドを拡大して示す左側面図である。
【図７．Ｂ】テープ貼付ヘッドの一部を拡大して示す左側面図である。
【図８】塗布装置の平面図である。
【図９】塗布装置の正面図である。
【図１０】有機ＥＬ液の塗布の流れを示す図である。
【図１１】マスキングテープおよび基板の平面図である。
【図１２】マスキングテープおよび基板の断面図である。
【図１３】テープ剥離装置の平面図である。
【図１４．Ａ】テープ剥離ヘッドを拡大して示す左側面図である。
【図１４．Ｂ】テープ剥離ヘッドの一部を拡大して示す左側面図である。
【図１５】基板の断面図である。
【図１６．Ａ】マスキングテープおよび基板の一部を示す断面図である。
【図１６．Ｂ】マスキングテープおよび基板の一部を示す断面図である。
【図１６．Ｃ】基板の一部を示す断面図である。
【図１７．Ａ】比較例のマスキングテープおよび基板の一部を示す断面図である。
【図１７．Ｂ】比較例の基板の一部を示す断面図である。
【図１８】第２の実施の形態に係るマスキングテープの断面図である。
【図１９】第３の実施の形態に係るマスキングテープの断面図である。
【図２０】第４の実施の形態に係るマスク部材および基板の平面図である。
【図２１】マスク部材および基板の一部を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１０６】
１，１ａ，１ｂ マスキングテープ
１ｃ マスク部材
２ テープ貼付装置
３ 塗布装置
４ テープ剥離装置
６ 搬送ロボット
８ 塗布システム
９ 基板
１１，１１ａ 基材
１２ 粘着剤層
１３，１３ａ，１３ｂ 吸収性部材
３１ 基板保持部
３２ 基板移動機構
３５ ヘッド移動機構
３７ ノズル
９０ 主面
９１ 塗布領域
９２ 非塗布領域
９３ 有機ＥＬ液
１０１ 上面
１０２ 下面
１０３，１０３ａ 側面
１０４ 上面エッジ
１０５ 下面エッジ
１１１ 基材上面
１２２ 粘着剤層下面
１０３１ 非吸収領域
１０３２ 吸収領域
Ｓ１１〜Ｓ１４ ステップ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の主面上の非塗布領域に密着して前記非塗布領域に対する流動性材料の付着を防止するテープ状または薄板状のマスク部材であって、
基板に密着する下面と、
前記下面とは反対側の上面と、
前記上面のエッジから前記下面のエッジへと上下に亘る側面と、
を備え、
前記側面が、
前記下面の前記エッジに接するとともに前記下面の前記エッジに沿って存在し、前記基板に塗布される流動性材料に対して非吸収性である非吸収領域と、
前記非吸収領域の前記上面側において前記流動性材料に対して吸収性を有する吸収領域と、
を備えることを特徴とするマスク部材。
【請求項２】
請求項１に記載のマスク部材であって、
前記上面が、テープ状の基材上の一の主面であり、
前記基材の前記一の主面とは反対側の面上に粘着剤層が形成されており、
前記下面が、前記粘着材層の前記基材とは反対側の面であることを特徴とするマスク部材。
【請求項３】
請求項２に記載のマスク部材であって、
前記非吸収領域が、前記流動性材料に対して非吸収性である前記粘着剤層の側方端面であり、
前記吸収領域が、前記流動性材料に対して吸収性を有する前記基材の側方端面であることを特徴とするマスク部材。
【請求項４】
請求項２に記載のマスク部材であって、
前記基材および前記粘着剤層よりも前記流動性材料に対する吸収性が高い吸収性部材が前記側面内に設けられ、
前記非吸収領域が、前記流動性材料に対して非吸収性である前記粘着剤層の側方端面であり、
前記吸収領域が、前記吸収性部材の前記側面における露出領域であることを特徴とするマスク部材。
【請求項５】
請求項２に記載のマスク部材であって、
前記基材および前記粘着剤層よりも前記流動性材料に対する吸収性が高いシート状の吸収性部材が、前記基材と前記粘着剤層との間に設けられ、
前記非吸収領域が、前記流動性材料に対して非吸収性である前記粘着剤層の側方端面であり、
前記吸収領域が、前記吸収性部材の前記側面における露出領域であることを特徴とするマスク部材。
【請求項６】
請求項４または５に記載のマスク部材であって、
前記基材が、前記流動性材料に対して非吸収性であることを特徴とするマスク部材。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載のマスク部材であって、
前記側面とは反対側に、前記側面と同様の非吸収領域および吸収領域を備えるもう１つの側面をさらに備えることを特徴とするマスク部材。
【請求項８】
基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
請求項１ないし７のいずれかに記載のマスク部材が、基板上の非塗布領域と塗布領域との境界に前記下面の前記エッジを一致させつつ前記非塗布領域に密着している前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板に向けて流動性材料を連続的に吐出するノズルと、
前記ノズルを前記基板の主面に平行であって前記エッジと交差する主走査方向に前記基板に対して相対的に移動することにより、前記基板上の前記マスク部材を含む領域に前記流動性材料を塗布する主走査機構と、
前記基板の前記主面に平行であって前記主走査方向に垂直な副走査方向に前記ノズルを前記基板に対して相対的に移動する副走査機構と、
を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項９】
請求項８に記載の塗布装置であって、
前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含むことを特徴とする塗布装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の塗布装置であって、
前記画素形成材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料であることを特徴とする塗布装置。
【請求項１１】
基板に流動性材料を塗布する塗布システムであって、
請求項１ないし７のいずれかに記載のマスク部材を、基板上の非塗布領域と塗布領域との境界に前記下面の前記エッジを一致させつつ前記非塗布領域に密着させるマスク部材密着装置と、
請求項８ないし１０のいずれかに記載の塗布装置と、
流動性材料が塗布された基板から前記マスク部材を剥離するマスク部材剥離装置と、
前記マスク部材密着装置、前記塗布装置および前記マスク部材剥離装置へと順に基板を搬送する基板搬送機構と、
を備えることを特徴とする塗布システム。
【請求項１２】
基板に流動性材料を塗布する塗布方法であって、
ａ）請求項１ないし７のいずれかに記載のマスク部材が、基板上の非塗布領域と塗布領域との境界に前記下面の前記エッジを一致させつつ前記非塗布領域に密着している前記基板に向けて、ノズルから流動性材料を連続的に吐出しつつ前記ノズルを前記基板の主面に平行であって前記エッジと交差する主走査方向に相対的に移動することにより、前記基板上の前記マスク部材を含む領域に前記流動性材料を塗布する工程と、
ｂ）前記ノズルを前記基板の前記主面に平行であって前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動する工程と、
ｃ）前記ａ）工程および前記ｂ）工程を繰り返す工程と、
を備えることを特徴とする塗布方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の塗布方法であって、
前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含むことを特徴とする塗布方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の塗布方法であって、
前記画素形成材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料であることを特徴とする塗布方法。
【請求項１】
基板の主面上の非塗布領域に密着して前記非塗布領域に対する流動性材料の付着を防止するテープ状または薄板状のマスク部材であって、
基板に密着する下面と、
前記下面とは反対側の上面と、
前記上面のエッジから前記下面のエッジへと上下に亘る側面と、
を備え、
前記側面が、
前記下面の前記エッジに接するとともに前記下面の前記エッジに沿って存在し、前記基板に塗布される流動性材料に対して非吸収性である非吸収領域と、
前記非吸収領域の前記上面側において前記流動性材料に対して吸収性を有する吸収領域と、
を備えることを特徴とするマスク部材。
【請求項２】
請求項１に記載のマスク部材であって、
前記上面が、テープ状の基材上の一の主面であり、
前記基材の前記一の主面とは反対側の面上に粘着剤層が形成されており、
前記下面が、前記粘着材層の前記基材とは反対側の面であることを特徴とするマスク部材。
【請求項３】
請求項２に記載のマスク部材であって、
前記非吸収領域が、前記流動性材料に対して非吸収性である前記粘着剤層の側方端面であり、
前記吸収領域が、前記流動性材料に対して吸収性を有する前記基材の側方端面であることを特徴とするマスク部材。
【請求項４】
請求項２に記載のマスク部材であって、
前記基材および前記粘着剤層よりも前記流動性材料に対する吸収性が高い吸収性部材が前記側面内に設けられ、
前記非吸収領域が、前記流動性材料に対して非吸収性である前記粘着剤層の側方端面であり、
前記吸収領域が、前記吸収性部材の前記側面における露出領域であることを特徴とするマスク部材。
【請求項５】
請求項２に記載のマスク部材であって、
前記基材および前記粘着剤層よりも前記流動性材料に対する吸収性が高いシート状の吸収性部材が、前記基材と前記粘着剤層との間に設けられ、
前記非吸収領域が、前記流動性材料に対して非吸収性である前記粘着剤層の側方端面であり、
前記吸収領域が、前記吸収性部材の前記側面における露出領域であることを特徴とするマスク部材。
【請求項６】
請求項４または５に記載のマスク部材であって、
前記基材が、前記流動性材料に対して非吸収性であることを特徴とするマスク部材。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載のマスク部材であって、
前記側面とは反対側に、前記側面と同様の非吸収領域および吸収領域を備えるもう１つの側面をさらに備えることを特徴とするマスク部材。
【請求項８】
基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
請求項１ないし７のいずれかに記載のマスク部材が、基板上の非塗布領域と塗布領域との境界に前記下面の前記エッジを一致させつつ前記非塗布領域に密着している前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板に向けて流動性材料を連続的に吐出するノズルと、
前記ノズルを前記基板の主面に平行であって前記エッジと交差する主走査方向に前記基板に対して相対的に移動することにより、前記基板上の前記マスク部材を含む領域に前記流動性材料を塗布する主走査機構と、
前記基板の前記主面に平行であって前記主走査方向に垂直な副走査方向に前記ノズルを前記基板に対して相対的に移動する副走査機構と、
を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項９】
請求項８に記載の塗布装置であって、
前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含むことを特徴とする塗布装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の塗布装置であって、
前記画素形成材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料であることを特徴とする塗布装置。
【請求項１１】
基板に流動性材料を塗布する塗布システムであって、
請求項１ないし７のいずれかに記載のマスク部材を、基板上の非塗布領域と塗布領域との境界に前記下面の前記エッジを一致させつつ前記非塗布領域に密着させるマスク部材密着装置と、
請求項８ないし１０のいずれかに記載の塗布装置と、
流動性材料が塗布された基板から前記マスク部材を剥離するマスク部材剥離装置と、
前記マスク部材密着装置、前記塗布装置および前記マスク部材剥離装置へと順に基板を搬送する基板搬送機構と、
を備えることを特徴とする塗布システム。
【請求項１２】
基板に流動性材料を塗布する塗布方法であって、
ａ）請求項１ないし７のいずれかに記載のマスク部材が、基板上の非塗布領域と塗布領域との境界に前記下面の前記エッジを一致させつつ前記非塗布領域に密着している前記基板に向けて、ノズルから流動性材料を連続的に吐出しつつ前記ノズルを前記基板の主面に平行であって前記エッジと交差する主走査方向に相対的に移動することにより、前記基板上の前記マスク部材を含む領域に前記流動性材料を塗布する工程と、
ｂ）前記ノズルを前記基板の前記主面に平行であって前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動する工程と、
ｃ）前記ａ）工程および前記ｂ）工程を繰り返す工程と、
を備えることを特徴とする塗布方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の塗布方法であって、
前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含むことを特徴とする塗布方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の塗布方法であって、
前記画素形成材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料であることを特徴とする塗布方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７．Ａ】
【図７．Ｂ】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４．Ａ】
【図１４．Ｂ】
【図１５】
【図１６．Ａ】
【図１６．Ｂ】
【図１６．Ｃ】
【図１７．Ａ】
【図１７．Ｂ】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７．Ａ】
【図７．Ｂ】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４．Ａ】
【図１４．Ｂ】
【図１５】
【図１６．Ａ】
【図１６．Ｂ】
【図１６．Ｃ】
【図１７．Ａ】
【図１７．Ｂ】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【公開番号】特開２００８−６７８（Ｐ２００８−６７８Ａ）
【公開日】平成２０年１月１０日（２００８．１．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−１７２３５９（Ｐ２００６−１７２３５９）
【出願日】平成１８年６月２２日（２００６．６．２２）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１月１０日（２００８．１．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年６月２２日（２００６．６．２２）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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