モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩の製造方法ならびにその使用
本発明は、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩の製造方法に関し、この方法は、ａ）ホスフィン酸源（Ｉ）を、触媒Ａの存在下でオレフィン（ＩＶ）と反応させて、アルキルホスホン酸、その塩またはエステル（ＩＩ）とし、ｂ）そのようにして生じたアルキルホスホン酸、その塩またはエステル（ＩＩ）を、触媒Ｂの存在下で式（Ｖ）のアセチレン化合物と反応させて、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩ）とし、ｃ）そのようにして生じたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩ）を、触媒Ｃの存在下で一酸化炭素および水素と反応させて、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩＩ）とし、ｄ）そのようにして生じたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩＩ）を触媒Ｄの存在下で反応させて、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＩＩＩ）とすることを特徴とする。上式で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は、同一かまたは異なり、互いに独立に、好ましくはＨ、Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アリール、Ｃ６〜Ｃ１８アラルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アルキルアリールであり、Ｘは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アリール、Ｃ６〜Ｃ１８アラルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アルキルアリール、Ｍｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋおよび／またはプロトン化窒素塩基を表し、触媒Ａ、Ｂ、ＣおよびＤは、遷移金属および／または遷移金属化合物および／または触媒系であり、この触媒系は、遷移金属および／または遷移金属化合物と、少なくとも一つの配位子とから構成される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩の製造方法ならびにその使用に関する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００２】
現在まで、商業的および工業的に入手可能で、特に高い空時収量を可能にする、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩の製造方法が欠如している。同様に、出発物質として妨害性のハロゲン化合物を用いずに十分有効であり、その上、最終生成物が容易に取得もしくは単離できる、または所期の反応条件で（例えばエステル交換反応など）狙い通り望み通りに製造できる方法が欠如している。
【課題を解決するための手段】
【０００３】
この課題は、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩の製造方法によって解決され、この方法は、
ａ）ホスフィン酸源（Ｉ）
【０００４】
【化１】
を、オレフィン（ＩＶ）
【０００５】
【化２】
と、触媒Ａの存在下で反応させて、アルキル亜ホスホン酸、その塩またはエステル（ＩＩ）
【０００６】
【化３】
とし、
ｂ）そのようにして生じたアルキル亜ホスホン酸、その塩またはエステル（ＩＩ）を、式（Ｖ）
【０００７】
【化４】
のアセチレン性化合物と、触媒Ｂの存在下で反応させて、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩ）
【０００８】
【化５】
とし、
ｃ）そのようにして生じたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩ）を、一酸化炭素および水素と、触媒Ｃの存在下で反応させて、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩＩ）
【０００９】
【化６】
とし、
ｄ）そのようにして生じたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩＩ）を、還元剤と、または触媒Ｄの存在下で水素と反応させて、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＩＩＩ）
【００１０】
【化７】
とすることを特徴とする。上式で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は、同一かまたは異なり、互いに独立にＨ、Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アリール、Ｃ６〜Ｃ１８アラルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アルキル−アリール、ＣＮ、ＣＨＯ、ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＮ、ＣＨ（ＯＨ）Ｃ２Ｈ５、ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ３、９−アントラセン、２−ピロリドン、（ＣＨ２）ｍＯＨ、（ＣＨ２）ｍＮＨ２、（ＣＨ２）ｍＮＣＳ、（ＣＨ２）ｍＮＣ（Ｓ）ＮＨ２、（ＣＨ２）ｍＳＨ、（ＣＨ２）ｍＳ−２−チアゾリン、（ＣＨ２）ｍＳｉＭｅ３、Ｃ（Ｏ）Ｒ７、（ＣＨ２）ｍＣ（Ｏ）Ｒ７、ＣＨ＝ＣＨＲ７および／またはＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（Ｏ）Ｒ７を意味し、Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ８アルキルまたはＣ６〜Ｃ１８アリールを表し、ｍは、０〜１０の整数を意味し、Ｘは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アリール、Ｃ６〜Ｃ１８アラルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アルキル−アリール、（ＣＨ２）ｋＯＨ、ＣＨ２−ＣＨＯＨ−ＣＨ２ＯＨ、（ＣＨ２）ｋＯ（ＣＨ２）ｋＨ、（ＣＨ２）ｋ−ＣＨ（ＯＨ）−（ＣＨ２）ｋＨ、（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋＨ、（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）ｋＨ、（ＣＨ２Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）ｋ（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋＨ、（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋ（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）Ｈ、（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋ−アルキル、（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）ｋ−アルキル、（ＣＨ２Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）ｋ（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋ−アルキル、（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋ（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）Ｏ−アルキル、（ＣＨ２）ｋ −ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）ｋＨ、（ＣＨ２）ｋＮＨ２および／または（ＣＨ２）ｋＮ［（ＣＨ２）ｋＨ］２（ただし、ｋは、０〜１０の整数を意味する）および／またはＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｈおよび／またはプロトン化窒素塩基を表し、触媒Ａ、Ｂ、ＣおよびＤは、遷移金属および／または遷移金属化合物および／または触媒系であり、この触媒系は、遷移金属および／または遷移金属化合物と、少なくとも一つの配位子とから構成される。
【００１１】
好ましくは、ステップｄ）により得られたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩またはエステル（ＩＩＩ）を、続いてステップｅ）においてＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｒ、Ｍｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの金属化合物および／またはプロトン化窒素塩基と反応させて、これらの金属および／または窒素化合物の対応するモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩（ＩＩＩ）とする。
【００１２】
好ましくは、ステップａ）により得られたアルキル亜ホスホン酸、その塩もしくはエステル（ＩＩ）、および／またはステップｂ）により得られたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩もしくはエステル（ＶＩ）、および／またはステップｃ）により得られたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩もしくはエステル（ＶＩＩ）、および／またはステップｄ）により得られたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩もしくはエステル（ＩＩＩ）、および／またはそのときどきに結果として得られたその反応溶液を、アルキレンオキシドまたはアルコールＭ−ＯＨおよび／またはＭ’−ＯＨでエステル化し、そのときどきに生じたアルキル亜ホスホン酸エステル（ＩＩ）、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸エステル（ＶＩ）、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸エステル（ＶＩＩ）および／またはモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸エステル（ＩＩＩ）をさらなる反応ステップｂ）、ｃ）、ｄ）またはｅ）に供する。
【００１３】
好ましくは、基Ｃ６〜Ｃ１８アリール、Ｃ６〜Ｃ１８アラルキルおよびＣ６〜Ｃ１８アルキル−アリールは、ＳＯ３Ｘ２、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、ＯＨ、ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ３ＳＯ３Ｘ２、ＰＯ３Ｘ２、ＮＨ２、ＮＯ２、ＯＣＨ３、ＳＨおよび／またはＯＣ（Ｏ）ＣＨ３で置換されている。
【００１４】
好ましくは、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は、同一かまたは異なり、互いに独立に、Ｈ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチルおよび／またはフェニルを意味する。
【００１５】
好ましくは、Ｘは、Ｈ、Ｃａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｅ、Ｆｅ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、エチレングリコール、プロピルグリコール、ブチルグリコール、ペンチルグリコール、ヘキシルグリコール、アリルおよび／またはグリセリンを意味する。
【００１６】
好ましくは、ｍ＝１〜１０であり、ｋ＝２〜１０である。
【００１７】
好ましくは、それぞれの触媒系Ａ、Ｂ、ＣおよびＤは、それぞれ遷移金属および／または遷移金属化合物と、少なくとも一つの配位子との反応により形成される。
【００１８】
好ましくは、遷移金属および／または遷移金属化合物は、第７および第８亜族のものである。
好ましくは、遷移金属および／または遷移金属化合物は、ロジウム、ニッケル、パラジウム、ルテニウムおよび／またはコバルトである。
【００１９】
好ましくは、アセチレン性化合物（Ｖ）は、アセチレン、メチルアセチレン、１−ブチン、１−ヘキシン、２−ヘキシン、１−オクチン、４−オクチン、１−ブチン−４−オール、２−ブチン−１−オール、３−ブチン−１−オール、５−ヘキシン−１−オール、１−オクチン−３−オール、１−ペンチン、フェニルアセチレン、トリメチルシリルアセチレンである。
【００２０】
好ましくは、一般式Ｍ−ＯＨのアルコールは、Ｃ１〜Ｃ１８の炭素鎖長を有する直鎖または分岐の飽和および不飽和一価有機アルコールであり、一般式Ｍ’−ＯＨのアルコールは、Ｃ１〜Ｃ１８の炭素鎖長を有する直鎖または分岐の飽和および不飽和多価有機アルコールである。
【００２１】
本発明は、また、さらなる合成のための中間生成物としての、バインダーとしての、エポキシ樹脂、ポリウレタン、不飽和ポリエステル樹脂の硬化時の架橋剤または促進剤としての、ポリマー安定化剤としての、農薬としての、ヒトおよび動物用の治療薬または治療薬中の添加剤としての、金属イオン封鎖剤としての、鉱物油添加剤としての、腐食防止剤としての、洗剤および洗浄剤用途における、ならびに電子工学用途における、請求項１〜１０の一つまたは複数に従って製造されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩の使用に関する。
【００２２】
本発明は、同様に、難燃剤としての、特にクリアコートおよび発泡塗料（Ｉｎｔｕｍｅｓｚｅｎｓｂｅｓｃｈｉｃｈｔｕｎｇｅｎ）用の難燃剤、木材および他のセルロース含有製品用の難燃剤としての、ポリマー用の反応型および／もしく非反応型難燃剤としての、難燃性ポリマー成形材料の製造のための、難燃性ポリマー成形体の製造のための、ならびに／または含浸によるポリエステルおよびセルロース純紡および混紡織布の難燃性加工のための、請求項１〜１０の一つまたは複数に従って製造されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩およびエステル（ＩＩＩ）の使用に関する。
【００２３】
本発明は、また、請求項１〜１０の一つまたは複数に従って製造された０．５〜４５重量％のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩またはエステル（ＩＩＩ）、０．５〜９５重量％の熱可塑性もしくは熱硬化性ポリマーまたはその混合物、０〜５５重量％の添加剤、および０〜５５重量％の充填材または強化材を含有する、難燃性の熱可塑性または熱硬化性ポリマー成形材料に関し、その際、成分の合計は１００重量％である。
【００２４】
その上最後に、本発明は、請求項１〜１０の一つまたは複数に従って製造された０．５〜４５重量％のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩またはエステル（ＩＩＩ）、０．５〜９５重量％の熱可塑性もしくは熱硬化性ポリマーまたはその混合物、０〜５５重量％の添加剤、および０〜５５重量％の充填材または強化材を含有する、難燃性の熱可塑性または熱硬化性ポリマー成形体、−フィルム、−糸および−繊維に関し、その際、成分の合計は１００重量％である。
【００２５】
全ての前記反応は、段階的に実施することもでき、また、そのときどきに結果として得られた反応溶液を様々な工程ステップに使用することもできる。
【００２６】
ステップｄ）後のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＩＩＩ）がエステルを含む場合、遊離のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸またはその塩を得るために、好ましくは酸性または塩基性加水分解を実施することができる。
【００２７】
好ましくは、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸は、３−（エチルヒドロキシホスフィニル）−１−ヒドロキシプロパン、３−（プロピルヒドロキシホスフィニル）−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｉ−プロピルヒドロキシホスフィニル）−１−ヒドロキシプロパン、３−（ブチルヒドロキシホスフィニル）−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｓｅｃ−ブチルヒドロキシホスフィニル）−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｉ−ブチルヒドロキシホスフィニル）−１−ヒドロキシプロパン、３−（２−フェニルエチルヒドロキシホスフィニル）−１−ヒドロキシプロパン、３−（エチルヒドロキシホスフィニル）−２−メチル−１−ヒドロキシプロパン、３−（プロピルヒドロキシホスフィニル）−２−メチル−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｉ−プロピルヒドロキシホスフィニル）−２−メチル−１−ヒドロキシプロパン、３−（ブチルヒドロキシホスフィニル）−２−メチル−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｓｅｃ−ブチルヒドロキシホスフィニル）−２−メチル−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｉ−ブチルヒドロキシホスフィニル）−２−メチル−１−ヒドロキシプロパン、３−（２−フェニルエチルヒドロキシホスフィニル）−２−メチル−１−ヒドロキシプロパン、３−（エチルヒドロキシホスフィニル）−３−フェニル−１−ヒドロキシプロパン、３−（プロピルヒドロキシホスフィニル）−３−フェニル−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｉ−プロピルヒドロキシホスフィニル）−３−フェニル−１−ヒドロキシプロパン、３−（ブチルヒドロキシホスフィニル）−３−フェニル−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｓｅｃ−ブチルヒドロキシホスフィニル）−３−フェニル−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｉ−ブチルヒドロキシホスフィニル）−３−フェニル−１−ヒドロキシプロパン、３−（２−フェニルエチルヒドロキシホスフィニル）−３−フェニル−１−ヒドロキシプロパンであり、エステルは、前記モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸のメチル−、エチル−；ｉ−プロピル−；ブチル−；フェニル−、２−ヒドロキシエチル−、２−ヒドロキシプロピル−、３−ヒドロキシプロピル−、４−ヒドロキシブチル−および／または２，３−ジヒドロキシプロピルエステルであり、塩は、前記モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸のアルミニウム（ＩＩＩ）−、カルシウム（ＩＩ）−、マグネシウム（ＩＩ）−、Ｃｅｒ（ＩＩＩ）−、Ｔｉ（ＩＶ）−および／または亜鉛（ＩＩ）塩である。
【００２８】
好ましくは、触媒Ａ用の遷移金属は、第７および第８亜族の元素（最近の命名法では、第７、第８、第９または第１０族の金属）、例えばレニウム、ルテニウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウムおよび白金である。
【００２９】
好ましくは、遷移金属源および遷移金属化合物源として、それらの金属塩が使用される。適切な塩は、陰イオンであるフッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、フッ素酸イオン、塩素酸イオン、臭素酸イオン、ヨウ素酸イオン、亜フッ素酸イオン、亜塩素酸イオン、亜臭素酸イオン、亜ヨウ素酸イオン、次亜フッ素酸イオン、次亜塩素酸イオン、次亜臭素酸イオン、次亜ヨウ素酸イオン、過フッ素酸イオン、過塩素酸イオン、過臭素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、シアン化物イオン、シアン酸イオン、硝酸イオン、窒化物イオン、亜硝酸イオン、酸化物イオン、水酸化物イオン、ホウ酸イオン、硫酸イオン、亜硫酸イオン、硫化物イオン、過硫酸イオン、チオ硫酸イオン、スルファミン酸イオン、リン酸イオン、亜リン酸イオン、次亜リン酸イオン、リン化物イオン、炭酸イオンおよびスルホン酸イオン、例えばメタンスルホン酸イオン、クロロスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、ナフチルスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、ｔ−ブチルスルホン酸イオン、２−ヒドロキシプロパンスルホン酸イオンおよびスルホン化されたイオン交換樹脂を含む鉱酸の塩；ならびに／または有機塩、例えばアセチルアセトナート、および炭素原子が２０個までのカルボン酸の塩、例えばギ酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、酪酸塩、シュウ酸塩、ステアリン酸塩およびクエン酸塩（炭素原子数が２０個までのハロゲン化カルボン酸の塩、例えばトリフルオロ酢酸塩、トリクロロ酢酸塩も含まれる）である。
【００３０】
さらなる遷移金属源および遷移金属化合物源は、遷移金属と、テトラフェニルホウ酸陰イオンおよびハロゲン化テトラフェニルホウ酸陰イオンとの、例えばペルフルオロフェニルホウ酸陰イオンとの塩を表す。
【００３１】
適切な塩には、一つまたは複数の遷移金属イオンと、互いに独立に、一つまたは複数のアルカリ金属−、アルカリ土類金属−、アンモニウム−、有機アンモニウム−、ホスホニウム−および有機ホスホニウムイオンと、互いに独立に、一つまたは複数の上記陰イオンとから成る複塩および錯塩も含まれる。適切な複塩は、例えばヘキサクロロパラジウム酸アンモニウムおよびテトラクロロパラジウム酸アンモニウムである。
【００３２】
好ましくは、遷移金属源は、元素としての遷移金属および／または０価状態の遷移金属化合物である。
【００３３】
好ましくは、遷移金属は、金属として用いられるか、またはさらなる金属との合金として使用され、ここで、ホウ素、ジルコニウム、タンタル、タングステン、レニウム、コバルト、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金および／または金が好ましい。その際、使用される合金中の遷移金属含量は、好ましくは４５〜９９．９５重量％である。
【００３４】
好ましくは、遷移金属は、微分散状態（粒径０．１ｍｍ〜１００μｍ）で使用される。
【００３５】
好ましくは、遷移金属は、金属酸化物上に、例えば酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化ニッケル、酸化バナジウム、酸化クロム、酸化マグネシウム、Ｃｅｌｉｔｅ（登録商標）、珪藻土上に、金属炭酸塩上に、例えば炭酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム上に、金属硫酸塩上に、例えば硫酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸ストロンチウム上に、金属リン酸塩上に、例えばリン酸アルミニウム、リン酸バナジウム上に、金属炭化物上に、例えば炭化ケイ素上に、金属アルミン酸塩上に、例えばアルミン酸カルシウム上に、金属ケイ酸塩上に、例えばケイ酸アルミニウム、白亜、ゼオライト、ベントナイト、モンモリロナイト、ヘクトライト上に、官能化ケイ酸塩、官能化シリカゲル、例えばＳｉｌｉａＢｏｎｄ（登録商標）、ＱｕａｄｒａＳｉｌ（商標）上に、官能化ポリシロキサン、例えばＤｅｌｏｘａｎ（登録商標）上に、金属窒化物上に、炭、活性炭、ムライト、ボーキサイト、アンチモナイト、灰重石、ペロブスカイト、ヒドロタルサイト、ヘテロポリ陰イオン上に、官能化および非官能化セルロース上に、キトサン、ケラチン、ヘテロポリ陰イオン上に、イオン交換樹脂、例えばＡｍｂｅｒｌｉｔｅ（商標）、Ａｍｂｅｒｊｅｔ（商標）、Ａｍｂｅｒｓｅｐ（商標）、Ｄｏｗｅｘ（登録商標）、Ｌｅｗａｔｉｔ（登録商標）、ＳｃａｖＮｅｔ（登録商標）上に、官能化ポリマー、例えばＣｈｅｌｅｘ（登録商標）、ＱｕａｄｒａＰｕｒｅ（商標）、Ｓｍｏｐｅｘ（登録商標）、ＰｏｌｙＯｒｇｓ（登録商標）上に、ポリマー結合型ホスファン、ホスファンオキシド、ホスフィン酸塩、ホスホン酸塩、リン酸塩、アミン、アンモニウム塩、アミド、チオアミド、尿素、チオ尿素、トリアジン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、チオール、チオールエーテル、チオールエステル、アルコール、アルコキシド、エーテル、エステル、カルボン酸、アセテート、アセタール、ペプチド、ヘタレン、ポリエチレンイミン／二酸化ケイ素および／またはデンドリマー上に担持させて使用される。
【００３６】
適切な金属塩源および／または遷移金属源は、好ましくはまた、それらの錯体化合物である。金属塩および／または遷移金属の錯体化合物は、金属塩または遷移金属と、一つまたは複数の錯化剤とから構成される。適切な錯化剤は、例えばオレフィン、ジオレフィン、ニトリル、ジニトリル、一酸化炭素、ホスフィン、ジホスフィン、亜リン酸エステル、ジ亜リン酸エステル、ジベンジリデンアセトン、シクロペンタジエニル、インデニルまたはスチレンである。適切な金属塩および／または遷移金属の錯体化合物は、上記担体物質に担持させることができる。
【００３７】
好ましくは、挙げられた、担持された遷移金属の含量は、担体物質の全質量に対して０．０１〜２０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％、特に０．２〜５重量％である。
【００３８】
適切な遷移金属源および遷移金属化合物源は、例えば、パラジウム、白金、ニッケル、ロジウム；アルミナ、シリカ、炭酸バリウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭および／または活性炭上のパラジウム、白金、ニッケルまたはロジウム；白金−パラジウム−金、アルミニウム−ニッケル、鉄−ニッケル、ランタノイド−ニッケル、ジルコニウム−ニッケル、白金−イリジウム、白金−ロジウム合金；Ｒａｎｅｙ（登録商標）ニッケル、ニッケル−亜鉛−鉄−酸化物；パラジウム（ＩＩ）、ニッケル（ＩＩ）、白金（ＩＩ）、および／またはロジウムの塩化物、臭化物、ヨウ化物、フッ化物、水素化物、酸化物、過酸化物、シアン化物、硫酸塩、硝酸塩、リン化物、ホウ化物、クロム酸化物、コバルト酸化物、炭酸水酸化物、シクロヘキサン酪酸塩、水酸化物、モリブデン酸塩、オクタン酸塩、シュウ酸塩、過塩素酸塩、フタロシアニン、５，９，１４，１８，２３，２７，３２，３６−オクタブトキシ−２，３−ナフタロシアニン、スルファミン酸塩、過塩素酸塩、チオシアン酸塩、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオン酸）塩、プロピオン酸塩、酢酸塩、ステアリン酸塩、２−エチルヘキサン酸塩、アセチルアセトナート、ヘキサフルオロアセチルアセトナート、テトラフルオロホウ酸塩、チオ硫酸塩、トリフルオロ酢酸塩、フタロシアニンテトラスルホン酸四ナトリウム塩、メチル、シクロペンタジエニル、メチルシクロペンタジエニル、エチルシクロペンタジエニル、ペンタメチルシクロペンタジエニル、２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−オクタエチル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン、５，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン、ビス（５−［［４−（ジメチルアミノ）フェニル］イミノ］−８（５Ｈ）−キノリノン）、２，１１，２０，２９−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，３−ナフタロシアニン、２，９，１６，２３−テトラフェノキシ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニン、５，１０，１５，２０−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン、ならびにそれらの１，４−ビス（ジフェニルホスフィン）ブタン−、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン−、２−（２’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）ビフェニル−、アセトニトリル−、ベンゾニトリル−、エチレンジアミン−、クロロホルム−、１，２−ビス（フェニルスルフィニル）エタン−、１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾリデン）（３−クロロピリジル）−、２’−（ジメチルアミノ）−２−ビフェニリル−、ジノルボルニルホスフィン−、２−（ジメチルアミノ−メチル）フェロセン−、アリル−、ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン−、（Ｎ−スクシンイミジル）ビス−（トリフェニル−ホスフィン）−、ジメチルフェニルホスフィン−、メチルジフェニルホスフィン−、１，１０−フェナントロリン−、１，５−シクロオクタジエン−、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン−、トリフェニルホスフィン−、トリ−ｏ−トリルホスフィン−、トリシクロヘキシルホスフィン−、トリブチルホスフィン−、トリエチルホスフィン−、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル−、１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾル−２−イリデン−、１，３−ビス（メシチル）イミダゾル−２−イリデン−、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン−、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン−、Ｎ−メチルイミダゾール−、２，２’−ビピリジン−、（ビシクロ［２．２．１］−ヘプタ−２，５−ジエン）−、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）−、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルイソシアニド）−、２−メトキシエチルエーテル−、エチレングリコールジメチルエーテル−、１，２−ジメトキシエタン−、ビス（１，３−ジアミノ−２−プロパノール）−、ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルエチレンジアミン）−、１，２−ジアミノシクロヘキサン−、ピリジン−、２，２’：６’，２”−テルピリジン−、ジエチルスルフィド−、エチレン−、アミン錯体；カリウム、ナトリウム、アンモニウムのヘキサクロロパラジウム（ＩＶ）酸塩、カリウム、ナトリウム、アンモニウムのテトラクロロパラジウム（ＩＩ）酸塩、ブロモ（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（Ｉ）二量体、（２−メチル−アリル）パラジウム（ＩＩ）クロリド二量体、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）、トリス（ジ−ベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、テトラキス−（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（０）、ビス［１，２−ビス（ジフェニルホスフィン）エタン］−パラジウム（０）、ビス（３，５，３’，５’−ジメトキシジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）、メソ−テトラフェニルテトラベンゾポルフィンパラジウム、テトラキス（メチルジフェニルホスフィン）パラジウム（０）、トリス（３，３’，３”−ホスフィニジン（ｐｈｏｐｈｉｎｉｄｙｎ）−トリス（ベンゼンスルホナト）パラジウム（０）九ナトリウム塩、１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−イミダゾル−２−イリデン（１，４−ナフトキノン）パラジウム（０）、１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）−イミダゾル−２−イリデン（１，４−ナフトキノン）パラジウム（０）、およびそれらのクロロホルム錯体；アリルニッケル（ＩＩ）クロリド二量体、硫酸ニッケル（ＩＩ）アンモニウム、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）、ビス（トリフェニルホスフィン）ジカルボニルニッケル（０）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（０）、テトラキス（亜リン酸トリフェニル）ニッケル（０）、ヘキサフルオロニッケル（ＩＶ）酸カリウム、テトラシアノニッケル（ＩＩ）酸カリウム、ニッケル（ＩＶ）パラ過ヨウ素酸カリウム、テトラブロモニッケル（ＩＩ）酸二リチウム、テトラシアノニッケル（ＩＩ）酸カリウム；塩化白金（ＩＶ）、酸化白金（ＩＶ）、硫化白金（ＩＶ）、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）酸カリウム、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）酸ナトリウム、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）酸アンモニウム、テトラクロロ白金（ＩＩ）酸カリウム、テトラクロロ白金（ＩＩ）酸アンモニウム、テトラシアノ白金（ＩＩ）酸カリウム、トリメチル（メチルシクロペンタジエニル）白金（ＩＶ）、シス−ジアンミンテトラクロロ白金（ＩＶ）、トリクロロ（エチレン）白金（ＩＩ）酸カリウム、ヘキサヒドロキシ白金（ＩＶ）酸ナトリウム、テトラアミン白金（ＩＩ）テトラクロロ白金（ＩＩ）酸、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）酸テトラブチルアンモニウム、エチレンビス（トリフェニルホスフィン）白金（０）、白金（０）−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、白金（０）−２，４，６，８−テトラメチル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン、テトラキス（トリフェニル−ホスフィン）白金（０）、白金オクタエチルポルフィリン、クロロ白金酸、カルボプラチン；クロロビス（エチレン）ロジウム二量体、ヘキサロジウムヘキサデカカルボニル、クロロ（１，５−シクロオクタジエン）ロジウム二量体、クロロ（ノルボマジエン（ｎｏｒｂｏｍａｄｉｅｎ））−ロジウム二量体、クロロ（１，５−ヘキサジエン）ロジウム二量体である。
【００３９】
好ましくは、配位子は、式（ＶＩＩＩ）のホスフィンである。
ＰＲ８３ （ＶＩＩＩ）
式中、基Ｒ８は、互いに独立に、水素、直鎖、分岐もしくは環状のＣ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ１〜Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル、Ｃ１〜Ｃ２０カルボキシラート、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、Ｃ１〜Ｃ２０アルキニルオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０アルコキシ−カルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ２０アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ２０アルキルスルフィニル、シリルおよび／もしくはその誘導体ならびに／または少なくとも一つのＲ９で置換されたフェニルまたは少なくとも一つのＲ９で置換されたナフチルを表す。Ｒ９は、互いに独立に、水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ＮＨ２、ニトロ、ヒドロキシ、シアノ、ホルミル、直鎖、分岐もしくは環状のＣ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ、ＨＮ（Ｃ１〜Ｃ２０アルキル）、Ｎ（Ｃ１〜Ｃ２０アルキル）２、−ＣＯ２−（Ｃ１〜Ｃ２０アルキル）、−ＣＯＮ（Ｃ１〜Ｃ２０アルキル）２、−ＯＣＯ（Ｃ１〜Ｃ２０アルキル）、ＮＨＣＯ（Ｃ１〜Ｃ２０アルキル）、Ｃ１〜Ｃ２０アシル、−ＳＯ３Ｍ、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ１０）Ｍ、−ＣＯ２Ｍ、−ＰＯ３Ｍ２、−ＡｓＯ３Ｍ２、−ＳｉＯ２Ｍ、−Ｃ（ＣＦ３）２ＯＭ（Ｍ＝Ｈ、Ｌｉ、ＮａまたはＫ）であり、Ｒ１０は、水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、直鎖、分岐もしくは環状のＣ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル、Ｃ１〜Ｃ２０カルボキシラート、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ２０アルケニルオキシ、Ｃ１〜Ｃ２０アルキニルオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ２０アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ２０アルキルスルフィニル、シリルおよび／もしくはその誘導体、アリール、Ｃ１〜Ｃ２０アリールアルキル、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル−アリール、フェニルならびに／またはビフェニルを意味する。好ましくは、基Ｒ８は全て同一である。
【００４０】
適切なホスフィン（ＶＩＩＩ）は、例えば、トリメチル−、トリエチル−、トリプロピル−、トリイソプロピル−、トリブチル−、トリイソブチル−、トリイソペンチル−、トリヘキシル−、トリシクロヘキシル−、トリオクチル−、トリデシル−、トリフェニル−、ジフェニルメチル−、フェニルジメチル−、トリ（ｏ−トリル）−、トリ（ｐ−トリル）−、エチルジフェニル−、ジシクロヘキシルフェニル−、２−ピリジルジフェニル−、ビス（６−メチル−２ピリジル）−フェニル−、トリ−（ｐ−クロロフェニル）−、トリ−（ｐ−メトキシフェニル）−、ジフェニル（２−スルホナトフェニル）ホスフィン；ジフェニル（３−スルホナトフェニル）ホスフィン、ビス（４，６−ジメチル−３−スルホナトフェニル）（２，４−ジメチルフェニル）ホスフィン、ビス（３−スルホナト−フェニル）フェニルホスフィン、トリス（４，６−ジメチル−３−スルホナトフェニル）ホスフィン、トリス（２−スルホナトフェニル）ホスフィン、トリス（３−スルホナトフェニル）ホスフィンのカリウム、ナトリウムおよびアンモニウム塩；２−ビス（ジフェニルホスフィノエチル）トリメチル−アンモニウムヨージド、２’−ジシクロヘキシルホスフィノ−２，６−ジメトキシ−３−スルホナト−１，１’−ビフェニルナトリウム塩、亜リン酸トリメチルおよび／または亜リン酸トリフェニルである。
【００４１】
特に好ましくは、配位子は、下記一般式の二座配位子である。
Ｒ８２Ｍ”−Ｚ−Ｍ”Ｒ８２ （ＩＸ）
式中、Ｍ”は、互いに独立に、Ｎ、Ｐ、ＡｓまたはＳｂを表す。好ましくは、両方のＭ”は同一であり、特に好ましくは、Ｍ”はリン原子を表す。それぞれの基Ｒ８は、互いに独立に、式（ＶＩＩＩ）に記載された基を表す。特に、基Ｒ８は全て同一である。Ｚは、好ましくは、少なくとも１個の架橋原子を含む二価架橋基であり、この架橋基は、好ましくは２〜６個の架橋原子を含んでいる。
【００４２】
架橋原子は、Ｃ、Ｎ、Ｏ、ＳｉおよびＳ原子から選択することができる。好ましくは、Ｚは、少なくとも１個の炭素原子を含む有機架橋基である。好ましくは、Ｚは、１〜６個の架橋原子を含む有機架橋基であり、架橋原子のうち少なくとも２個は、非置換でも、置換されていてもよい炭素原子である。
【００４３】
好ましい基Ｚは、−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ３）２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｃ（Ｃ２Ｈ５）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ（ｎ−Ｐｒ）−ＣＨ、−ＣＨ２−ＣＨ（ｎ−Ｂｕ）−ＣＨ２−、非置換または置換された１，２−フェニル−、１，２−シクロヘキシル−、１，１’−または１，２−フェロセニル基、２，２’−（１，１’−ビフェニル）−、４，５−キサンテン−および／またはオキシジ−２，１−フェニレン基である。
【００４４】
適切な二座ホスフィン配位子（ＩＸ）は、例えば１，２−ビス（ジメチル−）、１，２−ビス（ジエチル−）、１，２−ビス（ジプロピル−）、１，２−ビス（ジイソプロピル−）、１，２−ビス（ジブチル−）、１，２−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−）、１，２−ビス（ジシクロヘキシル−）および１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン；１，３−ビス（ジシクロ−ヘキシル−）、１，３−ビス（ジイソプロピル−）、１，３−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−）および１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）−プロパン；１，４−ビス−（ジイソプロピル−）および１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン；１，５−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）ペンタン；１，２−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−）、１，２−ビス（ジ−フェニル−）、１，２−ビス（ジ−シクロヘキシル−）、１，２−ビス（ジシクロ−ペンチル−）、１，３−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−）、１，３−ビス（ジフェニル−）、１，３ビス（ジ−シクロヘキシル−）および１，３−ビス（ジシクロペンチルホスフィノ）ベンゼン；９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）キサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルキサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）キサンテン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−フェロセン、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス（ジフェニルホスフィン）、２，５−（ジ−イソプロピルホスホラノ）ベンゼン、２，３−Ｏ−イソプロプロピリデン（Ｉｓｏｐｒｏｐｒｏｐｙｌｉｄｅｎ）−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、２，２’−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビフェニル、２−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、２−（ジフェニルホスフィノ）−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、２−（ジフェニルホスフィノ）エチル−アミン、２−［２−（ジフェニルホスフィノ）エチル］ピリジン；１，２−ビス（ジ−４−スルホナトフェニルホスフィノ）−ベンゼン、（２，２’−ビス［［ビス（３−スルホナトフェニル）ホスフィノ］メチル］−４，４’，７，７’−テトラスルホナト−１，１’−ビナフチル、（２，２’−ビス［［ビス（３−スルホナトフェニル）ホスフィノ］メチル］−５，５’−テトラスルホナト−１，１’−ビフェニル、（２，２’−ビス［［ビス（３−スルホナトフェニル）ホスフィノ］メチル］−１，１’−ビナフチル、（２，２’−ビス［［ビス（３−スルホナトフェニル）ホスフィノ］−メチル］−１，１’−ビフェニル、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２，７−スルホナトキサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）−２，７−スルホナトキサンテン、１，２−ビス（ジ−４−スルホナトフェニルホスフィノ）−ベンゼン、メソ−テトラキス（４−スルホナトフェニル）ポルフィン、メソ−テトラキス（２，６−ジクロロ−３−スルホナトフェニル）ポルフィン、メソ−テトラキス（３−スルホナトメシチル）ポルフィン、テトラキス（４−カルボキシフェニル）ポルフィンおよび５，１１，１７，２３−スルホナト−２５，２６，２７，２８−テトラヒドロキシカリクス［４］アレンのカリウム、ナトリウムおよびアンモニウム塩である。
【００４５】
加えて、式（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）の配位子は、基Ｒ８および／または架橋基によって適切なポリマーまたは無機支持体に結合していてもよい。
【００４６】
触媒系は、１：０．０１〜１：１００、好ましくは１：０．０５〜１：１０、特に１：１〜１：４の遷移金属：配位子のモル比を有する。
【００４７】
好ましくは、反応は、工程段階ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）およびｅ）において任意選択で例えば窒素、酸素、アルゴン、二酸化炭素のようなさらなる気体成分を含有する雰囲気中で行われ、温度は−２０〜３４０℃、特に２０〜１８０℃であり、総圧は１〜１００ｂａｒである。
【００４８】
工程段階ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）およびｅ）による生成物および／または遷移金属および／または遷移金属化合物および／または触媒系および／または配位子および／または出発物質の単離は、任意選択で、蒸留または精留によって、結晶化または沈殿によって、濾過または遠心分離によって、吸着またはクロマトグラフィーまたは他の公知の方法によって行われる。
【００４９】
本発明によると、溶媒、助剤および場合により他の揮発性成分は、例えば蒸留、濾過および／または抽出によって分離される。
【００５０】
好ましくは、工程段階ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）およびｅ）における反応は、任意選択で吸収塔、スプレー塔、気泡塔、撹拌タンク、散水ろ床反応器、フローチューブ、ループ型反応器および／または捏和機中で行われる。
【００５１】
適切な混合装置は、例えばアンカー型撹拌機、パドル型撹拌機、ＭＩＧ撹拌機、プロペラ型撹拌機、インペラ式撹拌機、タービン型撹拌機、クロス撹拌機（Ｋｒｅｕｚ−Ｒｕｅｈｒｅｒ）、分散ディスク、キャビテーション（ガス化）撹拌機（Ｈｏｈｌ−（Ｂｅｇａｓｕｎｇｓ−）−Ｒｕｅｈｒｅｒ）、ローター−ステーター−ミキサー、スタティックミキサー、ベンチュリーノズルおよび／またはエアリフトポンプである。
【００５２】
その際に好ましくは、反応溶液／混合物は、１〜１００００００、好ましくは１００〜１０００００の回転レイノルズ数に相当する混合強度に供される。好ましくは、それぞれの反応パートナーなどの激しい混合は、０．０８０〜１０ｋＷ／ｍ３、好ましくは０．３０〜１．６５ｋＷ／ｍ３のエネルギー投入量で行われる。
【００５３】
好ましくは、反応中にそれぞれの触媒Ａ、Ｂ、ＣまたはＤは、均一系および／または不均一系で働く。したがって、それぞれ不均一系で働く触媒は、反応中に懸濁物として、または固相に結合して働く。
【００５４】
好ましくは、それぞれの触媒Ａ、Ｂ、ＣまたはＤは、反応前および／または反応開始時および／または反応中にその場で（ｉｎ ｓｉｔｕ）生成される。
【００５５】
好ましくは、それぞれの反応は、均一もしくは不均一混合物中の一相系として溶媒中で、および／または気相中で行われる。
【００５６】
多相系を用いる場合、相間移動触媒を追加的に使用することができる。
【００５７】
本発明による反応は、液相中、気相中、または超臨界相中でも実施することができる。その際に、それぞれの触媒Ａ、Ｂ、ＣまたはＤは、液体の場合には好ましくは均一系で、または懸濁物として使用され、気相または超臨界運転様式の間では、固定床配置が有利である。
【００５８】
適切な溶媒は、水、アルコール、例えばメタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−アミルアルコール、ｉ−アミルアルコール、ｔ−アミルアルコール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、ｎ−トリデカノール、ベンジルアルコールなどである。さらに、グリコール、例えばエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコールなど；脂肪族炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、および石油エーテル、石油ベンジン、ケロシン、石油、パラフィン油など；芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼンなど；ハロゲン炭化水素、例えば塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、四塩化炭素、テトラブロモエチレンなど；脂環式炭化水素、例えばシクロペンタン、シクロヘキサンおよびメチルシクロヘキサンなど；エーテル、例えばアニソール（メチルフェニルエーテル）、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジベンジルエーテル、ジエチルエーテル、ジオキサン、ジフェニルエーテル、メチルビニルエーテル、テトラヒドロフラン、トリイソプロピルエーテルなど；グリコールエーテル、例えばジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグリム）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥモノグリム）、エチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル（トリグリム）、トリエチレングリコールモノメチルエーテルなど；ケトン、例えばアセトン、ジイソブチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトンなど；メチルエチルケトン、メチル−ｉ−ブチルケトンなど；エステル、例えばギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピルおよび酢酸ｎ−ブチルなど；カルボン酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸などの単独または組合せが好ましい。
【００５９】
使用されたオレフィンおよびホスフィン酸源もまた、適切な溶媒である。これらは、高い空時収量という利点を与える。
【００６０】
好ましくは、反応は、オレフィンおよび／または溶媒の固有蒸気圧の下で実施される。
【００６１】
好ましくは、オレフィン（ＩＶ）のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、同一かまたは異なり、互いに独立に、Ｈ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチルおよび／またはフェニルを意味する。
【００６２】
好ましくは、イソチオシアン酸アリル、メタクリル酸アリル、２−アリルフェノール、Ｎ−アリルチオ尿素、２−（アリルチオ）−２−チアゾリン、アリルトリメチルシラン、酢酸アリル、アセト酢酸アリル、アリルアルコール、アリルアミン、アリルベンゼン、アリルシアニド、シアノ酢酸アリル、アリルアニソール、トランス−２−ペンテナール、シス−２−ペンテンニトリル、１−ペンテン−３−オール、４−ペンテン−１−オール、４−ペンテン−２−オール、トランス−２−ヘキセナール、トランス−２−ヘキセン−１−オール、シス−３−ヘキセン−１−オール、５−ヘキセン−１−オール、スチレン、メチルスチレン、４−メチルスチレン、酢酸ビニル、９−ビニルアントラセン、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジンおよび１−ビニル−２−ピロリドンなどの官能化オレフィンも使用される。
【００６３】
好ましくは、反応は、０．０１〜１００ｂａｒのオレフィン分圧で、特に好ましくは０．１〜１０ｂａｒのオレフィン分圧で行われる。
【００６４】
好ましくは、反応は、１：１００００〜１：０．００１のホスフィン酸：オレフィンのモル比で、特に好ましくは１：３０〜１：０．０１の比で行われる。
【００６５】
好ましくは、１：１〜１：０．０００００００１、特に好ましくは１：０．０１〜１：０．０００００１のホスフィン酸：触媒のモル比で行われる。
【００６６】
好ましくは、反応は、１：１００００〜１：０、特に好ましくは１：５０〜１：１のホスフィン酸：溶媒のモル比で行われる。
【００６７】
式（ＩＩ）の化合物を製造するための本発明の方法は、ホスフィン酸源を触媒の存在下でオレフィンと反応させ、生成物（ＩＩ）（アルキル亜ホスホン酸、その塩またはエステル）から触媒、遷移金属または遷移金属化合物、配位子、錯化剤、塩および副生成物を除去することを特徴とする。
【００６８】
本発明によると、触媒、触媒系、遷移金属および／または遷移金属化合物は、助剤１の添加、ならびに抽出および／または濾過による触媒、触媒系、遷移金属および／または遷移金属化合物の除去によって分離される。
【００６９】
本発明によると、配位子および／または錯化剤は、助剤２を用いた抽出および／または助剤２を用いた蒸留により分離される。
【００７０】
助剤１は、好ましくは、水および／または金属捕捉剤（金属捕集剤：Ｍｅｔａｌ Ｓｃａｖｅｎｇｅｒ）の群の少なくとも一つのメンバーである。好ましい金属捕捉剤は、金属酸化物、例えば酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化ニッケル、酸化バナジウム、酸化クロム、酸化マグネシウム、Ｃｅｌｉｔｅ（登録商標）、珪藻土；例えば炭酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウムのような金属炭酸塩；金属硫酸塩、例えば硫酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸ストロンチウム；金属リン酸塩、例えばリン酸アルミニウム、リン酸バナジウム；金属炭化物、例えば炭化ケイ素；金属アルミン酸塩、例えばアルミン酸カルシウム；金属ケイ酸塩、例えばケイ酸アルミニウム、白亜、ゼオライト、ベントナイト、モンモリロナイト、ヘクトライト；官能化ケイ酸塩、官能化シリカゲル、例えばＳｉｌｉａＢｏｎｄ（登録商標）、ＱｕａｄｒａＳｉｌ（商標）；官能化ポリシロキサン、例えばＤｅｌｏｘａｎ（登録商標）；金属窒化物、炭、活性炭、ムライト、ボーキサイト、アンチモナイト、灰重石、ペロフスカイト、ヒドロタルサイト、官能化および非官能化セルロース、キトサン、ケラチン、ヘテロポリアニオン、イオン交換体、例えばＡｍｂｅｒｌｉｔｅ（商標）、Ａｍｂｅｒｊｅｔ（商標）、Ａｍｂｅｒｓｅｐ（商標）、Ｄｏｗｅｘ（登録商標）、Ｌｅｗａｔｉｔ（登録商標）、ＳｃａｖＮｅｔ（登録商標）；官能化ポリマー、例えばＣｈｅｌｅｘ（登録商標）、ＱｕａｄｒａＰｕｒｅ（商標）、Ｓｍｏｐｅｘ（登録商標）、ＰｏｌｙＯｒｇｓ（登録商標）；ポリマー結合型ホスファン、ホスファンオキシド、ホスフィン酸塩、ホスホン酸塩、リン酸塩、アミン、アンモニウム塩、アミド、チオアミド、尿素、チオ尿素、トリアジン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、チオール、チオールエーテル、チオールエステル、アルコール、アルコキシド、エーテル、エステル、カルボン酸、アセテート、アセタール、ペプチド、ヘタレン、ポリエチレンイミン／二酸化ケイ素および／またはデンドリマーである。
【００７１】
好ましくは、助剤１は、助剤１に対して０．１〜４０重量％の金属負荷に対応する量で添加される。
【００７２】
好ましくは、助剤１は、２０〜９０℃の温度で使用される。
【００７３】
好ましくは、助剤１の滞留時間は、０．５〜３６０分である。
【００７４】
助剤２は、好ましくは工程段階ａ）で使用されるような本発明による前記溶媒であることが好ましい。
【００７５】
モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＩＩＩ）またはモノ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＶＩＩ）またはモノ官能ジアルキルホスフィン酸（ＶＩ）または、アルキル亜ホスホン酸誘導体（ＩＩ）、およびホスフィン酸源（Ｉ）から対応するエステルへのエステル化は、例えば生成した水を共沸蒸留によって取り除きながら高沸点アルコールと反応させることによって、またはエポキシド（アルキレンオキシド）と反応させることによって達成することができる。
【００７６】
その際、好ましくは、ステップａ）に従って、アルキル亜ホスホン酸（ＩＩ）は、一般式Ｍ−ＯＨおよび／もしくはＭ’−ＯＨのアルコールで直接エステル化されるか、または下記のようにアルキレンオキシドとの反応によって直接エステル化される。
【００７７】
好ましくは、Ｍ−ＯＨは、Ｃ１〜Ｃ１８の炭素鎖長を有する第一級、第二級または第三級アルコールである。特に好ましいのは、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アミルアルコールおよび／またはヘキサノールである。
【００７８】
好ましくは、Ｍ’−ＯＨは、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、トリスヒドロキシメチルエタン、トリスヒドロキシメチルプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、α−ナフトール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールおよび／またはＥＯ−ＰＯ−ブロックポリマーである。
【００７９】
Ｍ−ＯＨおよびＭ’−ＯＨとして、一価または多価不飽和Ｃ１〜Ｃ１８アルコール、例えばｎ−ブテン−２−オール−１、１，４−ブテンジオールおよびアリルアルコールも適切である。
【００８０】
Ｍ−ＯＨおよびＭ’−ＯＨとして、一価アルコールと、一つまたは複数分子のアルキレンオキシドとの、好ましくはエチレンオキシドおよび／または１，２−プロピレンオキシドとの反応生成物もまた適切である。好ましいのは、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ｎ−ブトキシエタノール、２−（２’−エチルヘキシルオキシ）−エタノール、２−ｎ−ドデコキシエタノール、メチルジグリコール、エチルジグリコール、イソプロピルジグリコール、脂肪アルコールポリグリコールエーテルおよびアリールポリグリコールエーテルである。
【００８１】
好ましくは、Ｍ−ＯＨおよびＭ’−ＯＨは、また、多価アルコールと、アルキレンオキシド分子一個または複数個との、好ましくはジグリコールおよびトリグリコールとの反応生成物、およびグリセリン、トリスヒドロキシメチルプロパンまたはペンタエリスリトールへの１〜６分子のエチレンオキシドまたはプロピレンオキシドの付加物である。
【００８２】
Ｍ−ＯＨおよびＭ’−ＯＨとして、水と、アルキレンオキシド分子一個または複数個との反応生成物も使用することができる。１００〜１０００ｇ／ｍｏｌ、特に好ましくは１５０〜３５０ｇ／ｍｏｌの平均グラム分子量を有する、様々な分子の大きさのポリエチレングリコールおよびポリ−１，２−プロピレングリコールが好ましい。
【００８３】
Ｍ−ＯＨおよびＭ’−ＯＨとして、エチレンオキシドと、ポリ−１，２−プロピレングリコールまたは脂肪アルコールプロピレングリコールとの反応生成物；同じく１，２−プロピレンオキシドと、ポリエチレングリコールまたは脂肪アルコールエトキシラートとの反応生成物も好ましい。１００〜１０００ｇ／ｍｏｌ、特に好ましくは１５０〜４５０ｇ／ｍｏｌの平均グラム分子量を有するそのような反応生成物が好ましい。
【００８４】
Ｍ−ＯＨおよびＭ’−ＯＨとして、アルキレンオキシドと、アンモニア、第一級または第二級アミン、硫化水素、メルカプタン、リン酸素酸およびＣ２〜Ｃ６−ジカルボン酸との反応生成物も使用可能である。エチレンオキシドと窒素化合物との適切な反応生成物は、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、ｎ−ブチルジエタノールアミン、ｎ−ドデシルジエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、ｎ−ブチルメチルエタノールアミン、ジ−ｎ−ブチルエタノールアミン、ｎ−ドデシルメチルエタノールアミン、テトラヒドロキシエチルエチレンジアミンまたはペンタヒドロキシエチルジエチレントリアミンである。
【００８５】
好ましいアルキレンオキシドは、エチレンオキシド、１，２−プロピレンオキシド、１，２−エポキシブタン、１，２−エポキシエチルベンゼン、（２，３−エポキシプロピル）ベンゼン、２，３−エポキシ−１−プロパノールおよび３，４−エポキシ−１−ブテンである。
【００８６】
適切な溶媒は、工程段階ａ）に挙げられた溶媒、および使用されたアルコールＭ−ＯＨ、Ｍ’−ＯＨおよびアルキレンオキシドである。これは、高い空時収量という利点を与える。
【００８７】
好ましくは、反応は、使用されるアルコールＭ−ＯＨ、Ｍ’−ＯＨおよびアルキレンオキシドならびに／または溶媒の固有蒸気圧で実施される。
【００８８】
好ましくは、反応は、使用されるアルコールＭ−ＯＨ、Ｍ’−ＯＨおよびアルキレンオキシドの分圧０．０１〜１００ｂａｒで、特に好ましくはアルコールの分圧０．１〜１０ｂａｒで行われる。
【００８９】
好ましくは、反応は、−２０〜３４０℃の温度、特に好ましくは２０〜１８０℃の温度で実施される。
【００９０】
好ましくは、反応は、１〜１００ｂａｒの総圧で行われる。
【００９１】
好ましくは、反応は、１００００：１〜０．００１：１、特に好ましくは１０００：１〜０．０１：１の比のアルコール成分またはアルキレンオキシド成分：ホスフィン酸源（Ｉ）またはアルキル亜ホスホン酸（ＩＩ）またはモノ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＶＩＩ）またはモノ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＶＩ）またはモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＩＩＩ）のモル比で行われる。
【００９２】
好ましくは、反応は、１：１００００〜１：０のホスフィン酸源（Ｉ）またはアルキルホスホン酸（ＩＩ）またはモノ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＶＩＩ）またはモノ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＶＩ）またはモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＩＩＩ）：溶媒のモル比で、特に好ましくは１：５０〜１：１のホスフィン酸：溶媒のモル比で行われる。
【００９３】
工程ステップｂ）に関して、アルキル亜ホスホン酸、その塩またはエステル（ＩＩ）をアセチレン化合物（Ｖ）と反応させてモノ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩およびエステル（ＶＩ）とするために使用されるような触媒Ｂは、好ましくは触媒Ａでありうる。
【００９４】
好ましくは、式（Ｖ）のアセチレン化合物において、Ｒ５およびＲ６は、互いに独立に、Ｈおよび／またはＣ１〜Ｃ６アルキル−、Ｃ６〜Ｃ１８アリール−および／またはＣ７〜Ｃ２０アルキルアリール（場合により置換されている）を意味する。
【００９５】
好ましくは、Ｒ５およびＲ６は、Ｈ、メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｉ−ヘキシル、フェニル、ナフチル、トリル、２−フェニルエチル、１−フェニルエチル、３−フェニル−プロピルおよび／または２−フェニルプロピルを意味する。
【００９６】
好ましくは、アセチレン化合物として、アセチレン、メチルアセチレン、１−ブチン、１−ヘキシン、２−ヘキシン、１−オクチン、４−オクチン、１−ブチン−４−オール、２−ブチン−１−オール、３−ブチン−１−オール、５−ヘキシン−１−オール、１−オクチン−３−オール、１−ペンチン、フェニルアセチレンおよび／またはトリメチルシリルアセチレンが使用される。
【００９７】
好ましくは、反応は、式（Ｘ）
【００９８】
【化８】
［式中、Ｒ１１およびＲ１２は、互いに独立に、場合により置換されているＣ２〜Ｃ２０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アリールまたはＣ８〜Ｃ２０アルカリールを意味する］のホスフィン酸の存在下で実施される。
【００９９】
好ましくは、Ｒ１１およびＲ１２は、互いに独立にメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、フェニル、ナフチル、トリルまたはキシリル（場合により置換されている）を意味する。
【０１００】
好ましくは、使用されるアルキル亜ホスホン酸（ＩＩ）に対するホスフィン酸（Ｘ）の割合は、０．０１〜１００ｍｏｌ％、特に好ましくは０．１〜１０ｍｏｌ％である。
【０１０１】
好ましくは、反応は、３０〜１２０℃、特に好ましくは５０〜９０℃の温度で行われる。好ましくは反応時間は、０．１〜２０時間である。
【０１０２】
好ましくは、反応は、アセチレン化合物（Ｖ）および／または溶媒の固有の蒸気圧下で実施される。
【０１０３】
工程段階ｂ）に適切な溶媒は、さらに前の工程段階ａ）で使用されるような溶媒である。
【０１０４】
好ましくは、反応は、０．０１〜１００ｂａｒ、特に好ましくは０．１〜１０ｂａｒのアセチレン化合物の分圧で行われる。
【０１０５】
好ましくは、アセチレン化合物（Ｖ）：アルキル亜ホスホン酸（ＩＩ）の比は、１００００：１〜０．００１：１、特に好ましくは３０：１〜０．０１：１である。
【０１０６】
好ましくは、反応は、１：１〜１：０．０００００００１のアルキル亜ホスホン酸：触媒のモル比で、特に好ましくは１：０．２５〜１：０．０００００１のアルキル亜ホスホン酸：触媒のモル比で行われる。好ましくは、反応は、１：１００００〜１：０のアルキル亜ホスホン酸：溶媒のモル比で、特に好ましくは１：５０〜１：１のアルキル亜ホスホン酸：溶媒のモル比で行われる。
【０１０７】
ステップｃ）に記載された反応は、触媒Ｃの存在下で一酸化炭素および水素によりモノ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＶＩ）をヒドロホルミル化することによって達成される。
【０１０８】
工程ステップｃ）に関して、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩ）を、一酸化炭素および水素と反応させてモノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩＩ）とするために使用されるような触媒Ｃは、好ましくは触媒Ａでありうる。
【０１０９】
好ましくは、触媒Ｃのための遷移金属は、ロジウムおよびコバルトである。
【０１１０】
触媒Ａの項に挙げられた遷移金属源および遷移金属化合物源に追加して、以下の遷移金属および遷移金属化合物も使用することができる。
コバルト、コバルト（Ｉ）および／またはコバルト（ＩＩ）および／またはコバルト（ＩＩＩ）および／またはコバルト（ＩＶ）の塩化物、臭化物、ヨウ化物、フッ化物、酸化物、水酸化物、シアン化物、硫化物、テルル化物、ホウ化物、硫酸塩、硝酸塩、プロピオン酸塩、酢酸塩、安息香酸塩、アセチルアセトナート、ベンゾイルアセトナート、ヘキサフルオロアセチルアセトナート、２−エチルヘキサン酸塩、カルボン酸塩、メトキシド、酒石酸塩、シクロヘキサン酪酸塩、Ｄ−グルコン酸塩、ギ酸塩、モリブデン酸塩、フタロシアニン、２，３−ナフタロシアニン、シュウ酸塩、過塩素酸塩、リン酸塩、セレン化物、ピロリン酸塩、シクロペンタジエニル、メチルシクロペンタジエニル、エチルシクロペンタジエニル、ペンタメチルシクロペンタジエニル、リン化物、ナフテン酸塩、２−メトキシエトキシド、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオン酸塩、２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオン酸塩、ヘキサフルオロ−２，４−ペンタジエノン酸塩、イソプロポキシド、ステアリン酸塩、スルファミン酸塩、クエン酸塩、シクロヘキサン酪酸塩、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルアセトアミジナート、チオフェン−２−カルボン酸塩、チオシアン酸塩、チオフェノラート、トリフルオロメタンスルホン酸塩、ヘキサフルオロリン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩、トリフレート、１−ブタンチオラート、チオ硫酸塩、トリフルオロ酢酸塩、過塩素酸塩、２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−オクタエチル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン、５，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン、５，１０，１５，２０−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィンおよびその１，４−ビス（ジフェニルホスフィン）ブタン−、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン−、２−（２’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）ビフェニル、ジノルボルニルホスフィン−、ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン−、（Ｎ−スクシンイミジル）ビス（トリフェニルホスフィン）−、ジメチルフェニルホスフィン−、メチルジフェニルホスフィン−、１，５−シクロオクタジエン−、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン−、トリフェニルホスフィン−、トリ−ｏ−トリルホスフィン−、トリシクロヘキシルホスフィン−、トリエチルホスフィン−、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル−、１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾル−２−イリデン−、１，３−ビス（メシチル）イミダゾル−２−イリデン−、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン−、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン−、２，２’−ビピリジン−、亜リン酸トリメチル−、エチレンジアミン−、カルボニル−、アミン錯体、酸化コバルトアルミニウム、サマリウムコバルト、酸化ビスマスコバルト亜鉛、酸化ニッケルコバルト、Ｒａｎｅｙ（登録商標）コバルト、アルミニウムニッケルコバルト、酸化コバルトチタン、酸化コバルト鉄、酸化リチウムコバルト（ＩＩＩ）、アルミニウムコバルトイソプロポキシド、ヘキサシアノコバルト（ＩＩ）酸鉄（ＩＩ）酸カリウム、ヘキサシアノコバルト（ＩＩ）酸カリウム、コバルトカルボニル、ジコバルトオクタカルボニル、テトラコバルトドデカカルボニル。
【０１１１】
触媒Ａの項に挙げられた配位子に追加して、以下の化合物も使用することができる：
亜リン酸ジフェニル−ｐ−、−ｍ−または−ｏ−トリル、亜リン酸ジ−ｐ−、−ｍ−または−ｏ−トリルフェニル、亜リン酸ｍ−トリル−ｏ−トリル−ｐ−トリル、亜リン酸ｏ−トリル−ｐ−または−ｍ−トリルフェニル、亜リン酸ジ−ｐ−トリル−ｍ−または−ｏ−トリル、亜リン酸ジ−ｍ−トリル−ｐ−または−ｏ−トリル、亜リン酸トリ−ｍ−、−ｐ−または−ｏ−トリル、亜リン酸ジ−ｏ−トリル−ｍ−または−ｐ−トリル；亜リン酸トリス（２−エチルヘキシル）、亜リン酸トリベンジル、亜リン酸トリラウリル、亜リン酸トリ−ｎ−ブチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリ−ｎｅｏ−ペンチル、亜リン酸トリ−ｉ−プロピル、亜リン酸トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）、亜リン酸トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）、亜リン酸ジエチルトリメチルシリル、亜リン酸ジイソデシルフェニル、亜リン酸ジメチルトリメチルシリル、亜リン酸トリイソデシル、亜リン酸トリス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）、亜リン酸トリス（２−クロロエチル、亜リン酸トリス（１，１，１，３，３，３ヘキサフルオロ−２−プロピル）、亜リン酸トリス（ノニルフェニル）、亜リン酸トリス（２，２，２−トリフルオロエチル）、亜リン酸トリス（トリメチルシリル）、亜リン酸２，２−ジメチルトリメチレン−フェニル、亜リン酸トリオクタデシル、亜リン酸トリメチロールプロパン（Ｔｒｉｉｍｅｔｈｙｌｏｌｐｒｏｐａｎ）、亜リン酸ベンジルジエチル、亜リン酸（Ｒ）−ビナフチルイソブチル、亜リン酸（Ｒ）−ビナフチルシクロペンチル、亜リン酸（Ｒ）−ビナフチルイソプロピル、亜リン酸トリス（２−トリル）、亜リン酸トリス（ノニルフェニル）および亜リン酸メチルジフェニル；（１１ａＲ）−（＋）−１０，１１，１２，１３−テトラヒドロ−ジインデノ［７，１−ｄｅ：１’，７’−ｆｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン（ｄｉｏｘａａｐｈｏｓｐｈｏｃｉｎ）−５−フェノキシ、４−エチル−２，６，７−トリオキサ−１−ホスファビシクロ［２．２．２］オクタン、（１１ｂＲ，１１’ｂＲ）−４，４’−（９，９−ジメチル−９Ｈ−キサンテン−４，５−ジイル）ビス−ジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、（１１ｂＲ，１１’ｂＲ）−４，４’−（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス−ジナフト［２，１−ｄ：，１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、（１１ｂＳ，１１’ｂＳ）−４，４’−（９，９−ジメチル−９Ｈ−キサンテン−４，５−ジイル）ビス−ジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、（１１ｂＳ，１１’ｂＳ）−４，４’−（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス−ジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、１，１’ビス［（１１ｂＲ）−および１，１’ビス［（１１ｂＳ）−ジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−４−イル］フェロセン；ホスホン酸ジメチルフェニル、ホスホン酸ジエチルメチル（Ｄｉｅｔｈｙｌｍｅｔｈｙｌｐ）およびホスホン酸ジエチルフェニルおよびホスホン酸ジイソプロピルフェニル；ホスフィン酸ジメチルフェニル、ホスフィン酸ジイソプロピルフェニル、ホスフィン酸エチルジフェニルおよびホスフィン酸メチルジフェニル。
【０１１２】
触媒Ａの項に挙げられた二座配位子に追加して、以下の化合物も使用することができる：
１，２−ビス（ジアダマンチルホスフィノメチル）ベンゼン、１，２−ビス（ジ−３，５−ジメチルアダマンチル−ホスフィノメチル）ベンゼン、１，２−ビス（ジ−５−ｔｅｒｔ−ブチルアダマンチル（ａｄａｍａｎｔａｙｌ）ホスフィノ−メチル）ベンゼン、１，２−ビス（１−アダマンチルｔｅｒｔ−ブチル−ホスフィノメチル）ベンゼン、１−（ジ−ｔｅｒｔブチルホスフィノメチル）−および１−（ジアダマンチルホスフィノメチル）−２−（ホスファアダマンチルホスフィノ−メチル）ベンゼン、１，２−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ−メチル）−フェロセン、１，２−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノメチル）−フェロセン、１，２−ビス（ジイソブチルホスフィノメチル）フェロセン、１，２−ビス（ジシクロペンチル−ホスフィノメチル）フェロセン、１，２−ビス−（ジエチルホスフィノメチル）−フェロセン、１，２−ビス（ジイソプロピル−ホスフィノメチル）フェロセン、１，２−ビス（ジメチルホスフィノメチル）フェロセン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジフェノキシホスフィン）キサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジ−ｐ−メチルフェノキシホスフィン）キサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジ−ｏ−メチルフェノキシホスフィン）キサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジ−１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）キサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジフェノキシホスフィン）−２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−キサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジ−ｏ−メチルフェノキシホスフィン）−２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−キサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジ−ｐ−メチルフェノキシホスフィン）−２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−キサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジ−１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）−２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−キサンテン、１，１’−ビス（ジフェノキシホスフィン）フェロセン、１，１’−ビス（ジ−ｏ−メチルフェノキシ）フェロセン、１，１’−ビス（ジ−ｐ−メチルフェノキシホスフィン）フェロセン、１，１’−ビス（ジ−１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）フェロセン、２，２’−ビス（ジフェノキシホスフィン）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｏ−メチルフェノキシホスフィン）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−メチル−フェノキシホスフィン）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）−１，１’−ビナフチル、（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス（ジフェノキシホスフィン）、（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス（ジ−ｏ−メチルフェノキシホスフィン）、（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス（ジ−ｐ−メチルフェノキシホスフィン）、（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス（ジ−１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）、２，２’−ビス（ジフェノキシホスフィン）−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジ−ｏ−メチルフェノキシホスフィン）−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−メチルフェノキシホスフィン）−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジ−１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）−１，１’−ビフェニル、１，２−ビス（ジ−（１，３，５，７−テトラメチル−６，９，１０−トリオキサ−２−ホスファアダマンチルメチル）フェロセン、１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｕｔｏｘｙｃａｒｂｏｎｙ１））−（２Ｓ，４Ｓ）−２−［（ジフェニルホスフィノ）メチル］−４−（ジベンゾホスホリル）ピロリジン、１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２Ｓ，４Ｓ）−２−［（ジベンゾホスホリル）メチル］−４−（ジフェニルホスフィノ）ピロリジン、１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２Ｓ，４Ｓ）−４−（ジベンゾホスホリル）−２−［（ジベンゾホスホリル）メチル］−ピロリジン、ＢＩＮＡＰＨＯＳ、ケリファイト（Ｋｅｌｌｉｐｈｉｔ）、キラファイト（Ｃｈｉｒａｐｈｉｔ）、ビス−３，４−ジアゾホスホラン；ビス（ホスホラン）配位子、例えばビス（２，５−ｔｒａｎｓジアルキルホスホラン）、ビス（２，４−ｔｒａｎｓ−ジアルキルホスフェタン）、１，２−ビス（フェノキシホスフィン）エタン、１，２−ビス（３−メチルフェノキシホスフィン）エタン、１，２−ビス（２−メチルフェノキシホスフィン）エタン、１，２−ビス（１−メチルフェノキシホスフィン）エタン、１，２−ビス（１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）エタン、１，３−ビス（フェノキシホスフィン）プロパン、１，３−ビス（３−メチルフェノキシホスフィン）プロパン、１，３−ビス（２−メチルフェノキシホスフィン）プロパン、１，３−ビス（１−メチルフェノキシホスフィン）プロパン、１，３−ビス（１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）プロパン、１，４−ビス（フェノキシホスフィン）ブタン、１，４−ビス（３−メチルフェノキシホスフィン）ブタン、１，４−ビス（２−メチルフェノキシホスフィン）ブタン、１，４−ビス（１−メチルフェノキシホスフィン）ブタン、１，４−ビス（１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）ブタン。
【０１１３】
好ましくは、使用されるモノ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＶＩ）に対する触媒Ｃの割合は、０．００００１〜２０ｍｏｌ％、特に好ましくは０．００００１〜５ｍｏｌ％である。
【０１１４】
適切な溶媒は、先に工程段階ａ）で使用されたような溶媒である。
【０１１５】
ヒドロアルコキシカルボニル化のための好ましいアルコールＭ−ＯＨおよびＭ’−ＯＨは、例えばメタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−アミルアルコール、ｉ−アミルアルコール、ｔ−アミルアルコール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、ｎ−トリデカノール、ベンジルアルコールなどである。さらに、グリコール、例えばエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、トリスヒドロキシメチルエタン、トリスヒドロキシメチルプロパン、ペンタエリトリット、ソルビット、マンニット、α−ナフトール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールおよびＥＯ−ＰＯ−ブロックポリマー、ｎ−ブテン−２−オール−１、１，４−ブテンジオールおよびアリルアルコールも好ましい。
【０１１６】
好ましくは、反応は、３０〜２００℃、特に好ましくは５０〜１５０℃の温度で行われる。
【０１１７】
好ましくは、反応時間は、０．１〜２０時間である。
【０１１８】
工程ステップｃ）は、好ましくは０．０１〜１０００ｂａｒ、特に好ましくは０．１〜２５０ｂａｒ、特に０．８〜７５ｂａｒの絶対圧で実施される。
【０１１９】
好ましくは、反応は、溶媒の蒸気圧下で実施される。
【０１２０】
好ましくは、反応は、０．０２〜７００ｂａｒ、特に好ましくは０．２〜２００ｂａｒ、特に１〜５０ｂａｒの一酸化炭素および／または水素の分圧で行われる。
【０１２１】
好ましくは、水素および／または一酸化炭素：ジアルキルホスフィン酸（ＶＩ）の比は、１００００：１〜０．００１：１、特に好ましくは３０：１〜０．０１：１である。
【０１２２】
好ましくは、反応は、１：１〜１：０．０００００００１のジアルキルホスフィン酸：触媒のモル比で、特に好ましくは１：０．２〜１：０．０００００１のジアルキルホスフィン酸：触媒のモル比で行われる。
【０１２３】
好ましくは、反応は、１：１００００〜１：０のジアルキルホスフィン酸：溶媒のモル比で、特に好ましくは１：５０〜１：１のジアルキルホスフィン酸：溶媒のモル比で行われる。
【０１２４】
本発明のヒドロホルミル化は、液相中、気相中、または超臨界相中でも実施することができる。液体の場合、触媒は、好ましくは均一系で、または懸濁物として使用され、一方、気相または超臨界運転の場合は、固定床配置が有利である。
【０１２５】
１：１〜１：１５、特に好ましくは１：１〜１：１．２の一酸化炭素：水素の比が好ましい。
【０１２６】
好ましくは、一酸化炭素：水またはアルコールＭ−ＯＨもしくはＭ’−ＯＨの比は、１：１〜１：５０００、特に好ましくは１：１〜１：１０である。
【０１２７】
本発明のさらなる実施形態では、本発明の方法は、液相中で実施される。したがって、反応器内の圧力は、好ましくは、用いられる反応温度で反応体が液状の形態で存在するように調整される。さらに、その際にシアン化水素が液状の形態で使用されることが好ましい。
【０１２８】
ヒドロホルミル化のために、一つまたは複数の反応器を使用することができ、複数の反応器を使用する場合、反応器は、好ましくは直列に接続される。
【０１２９】
ステップｄ）に記載されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩およびエステル（ＩＩＩ）への転換は、還元剤による、または触媒Ｄと、場合によりアミンおよび助触媒との存在下で触媒的に水素による選択的水素化によって、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩およびエステル（ＶＩＩ）を水素化することにより達成される。
【０１３０】
好ましい還元剤は、金属水素化物、水素化ホウ素、水素化ホウ素金属塩、水素化アルミニウム、水素化アルミニウム金属塩である。好ましい還元剤の例は、デカボラン、ジボラン、水素化ジイソブチルアルミニウム、ジメチルスルフィドボラン、ジメチルスルフィドボラン、水素化銅、水素化アルミニウムリチウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化ホウ素ニッケル、水素化トリブチルスズ、水素化スズである。
【０１３１】
好ましくは、反応は、１：１０〜１：０．１のジアルキルホスフィン酸：還元剤のモル比で、特に好ましくは１：２〜１：０．２５のジアルキルホスフィン酸：還元剤のモル比で行われる。
【０１３２】
好ましい接触水素化は、触媒Ｄと、場合によりアミンおよび助触媒との存在下で、水素により行われる。
【０１３３】
工程ステップｄ）に関して、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩＩ）を水素ならびに場合によりアミンおよび助触媒と反応させてモノアミノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＩＩＩ）とするために使用されるのような触媒Ｄは、好ましくは触媒Ａでありうる。
【０１３４】
触媒Ａの項に挙げられた配位子および二座配位子に追加して、触媒Ｃの項に挙げられた化合物も使用することができる。
【０１３５】
好ましくは、使用されるモノ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＶＩＩ）に対する触媒Ｄの割合は、０．００００１〜２０ｍｏｌ％、特に好ましくは０．００００１〜１０ｍｏｌ％である。
【０１３６】
好ましくは、水素化反応は、アミンの存在下で行われる。好ましいアミンは、アンモニア、モノアミン、ジアミン、高級アミンである。
【０１３７】
好ましいモノアミンは、例えば式Ｒ’−ＮＨ２［式中、Ｒ’は、直鎖または分岐Ｃ１〜２０アルキルに対応する］のアミンである。メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ｉ−プロピルアミン、ブチルアミン、ｉ−ブチルアミン、ペンチルアミンおよび２−エチルヘキシルアミンが好ましい。
【０１３８】
好ましいジアミンは、例えば式Ｈ２Ｎ−Ｒ”−ＮＨ２［式中、Ｒ”は、直鎖または分岐Ｃ１〜２０アルキルに対応する］のアミンである。エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ジアミノブタン、ペンタメチレンジアミンおよびヘキサメチレンジアミンが好ましい。
【０１３９】
アンモニアをアミンとして使用する場合、アンモニアの分圧は、好ましくは０．０１〜１００ｂａｒ、特に好ましくは０．０５〜５０ｂａｒ、特に０．１〜２０ｂａｒである。
【０１４０】
好ましくは、反応混合物中のアンモニア濃度は、１〜３０重量％、特に好ましくは５〜２５重量％である。
【０１４１】
好ましくは、反応混合物中のモノアミンおよび／またはジアミン濃度は、１〜８０重量％、特に好ましくは５〜６０重量％である。
【０１４２】
好ましくは、水素化反応は、助触媒の存在下で実施され、その際、助触媒としてアルカリ金属およびアルカリ土類金属の水酸化物およびアルコラートが好ましい。好ましい助触媒の例は、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｍｇ（ＯＨ）２、Ｃａ（ＯＨ）２、Ｂａ（ＯＨ）２およびナトリウムメタノラートまたはカリウムメタノラート、ナトリウムエタノラートまたは酪酸ナトリウムであり、ＮａＯＨ、ＫＯＨが特に好ましい。
【０１４３】
助触媒：触媒の比は、好適には約０．００１：１〜０．５：１、好ましくは約０．０１：１〜０．２：１、特に好ましくは０．０４：１〜０．１：１である。
【０１４４】
好ましくは、まず助触媒の少なくとも一部分が、次にアミンが、触媒および／または触媒を含有する溶液／懸濁物に添加される。好ましくはまず、助触媒の少なくとも１０重量％、好ましくは２０重量％、特に好ましくは５０重量％が添加される。
【０１４５】
特に好ましくは、１００重量％の助触媒が添加される。
【０１４６】
特に好ましくは、遷移金属は、その０価状態で使用される。
【０１４７】
好ましくは、不均一系で働く触媒は、反応中に懸濁物として、または固相に結合して作用する。
【０１４８】
好ましくは、反応は、溶媒中で一相系として、均一もしくは不均一混合物中で、および／または気相中で行われる。
【０１４９】
適切な溶媒は、さらに前の工程段階ａ）で使用されるような溶媒である。
【０１５０】
好ましくは、反応は、１：１００００〜１：０のジアルキルホスフィン酸：溶媒のモル比で、特に好ましくは１：５０〜１：１のジアルキルホスフィン酸：溶媒のモル比で行われる。
【０１５１】
好ましくは、反応は、２０〜２００℃、特に好ましくは４０〜１５０℃、特に６０〜１００℃の温度で行われる。
【０１５２】
好ましくは、反応時間は、０．１〜２０時間である。
【０１５３】
好ましくは、反応は、水素および／または溶媒の分圧下で実施される。
【０１５４】
本発明の方法の工程ステップは、好ましくは０．１〜１００ｂａｒ、特に好ましくは０．５〜５０ｂａｒ、とりわけ１〜２０ｂａｒの水素分圧で実施される。
【０１５５】
好ましくは、反応は、１：１００００〜１：０のジアルキルホスフィン酸：溶媒のモル比で、特に好ましくは１：５０〜１：１のジアルキルホスフィン酸：溶媒のモル比で行われる。
【０１５６】
本発明の水素化は、液相中、気相中、または超臨界相中でも実施することができる。液体の場合、触媒は、好ましくは均一系または懸濁物として使用され、一方、気相または超臨界運転の場合は、固定床配置が有利である。
【０１５７】
モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸またはその塩（ＩＩＩ）を、次に反応させて、さらなる金属塩とすることができる。
【０１５８】
好ましくは、使用される工程段階ｅ）の金属化合物は、金属Ｍｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｒ、Ｍｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、特に好ましくはＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃｅ、Ｆｅの化合物である。
【０１５９】
工程段階ｅ）に適切な溶媒は、先に前記工程段階ａ）で使用されたような溶媒である。
【０１６０】
好ましくは、工程段階ｅ）における反応は、水性溶媒中で行われる。
【０１６１】
好ましくは、工程段階ｅ）において、工程段階ｄ）により得られたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび／またはアルカリ塩（ＩＩＩ）を、Ｍｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、ＣｅまたはＦｅの金属化合物と反応させて、これらの金属のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩（ＩＩＩ）とする。
【０１６２】
この反応は、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸／そのエステル／塩（ＩＩＩ）：金属のモル比が、８：１〜１：３（４価金属イオンまたは安定な４価の酸化状態を有する金属について）、６：１〜１：３（３価金属イオンまたは安定な３価の酸化状態を有する金属の場合）、４：１〜１：３（２価金属イオンまたは安定な２価の酸化状態を有する金属の場合）および３：１〜１：４（１価金属イオンまたは安定な１価の酸化状態を有する金属の場合）で行われる。
【０１６３】
好ましくは、工程段階ｄ）において、得られたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸エステル／塩（ＩＩＩ）を、対応するジアルキルホスフィン酸に変換し、工程段階ｅ）においてこれをＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、ＣｅまたはＦｅの金属化合物と反応させて、これらの金属のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩（ＩＩＩ）とする。
【０１６４】
好ましくは、工程段階ｄ）において得られたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸／エステル（ＩＩＩ）をジアルキルホスフィン酸アルカリ塩に転換し、工程段階ｅ）においてこれをＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、ＣｅまたはＦｅの金属化合物と反応させて、これらの金属のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩（ＩＩＩ）とする。
【０１６５】
好ましくは、工程段階ｅ）におけるＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、ＣｅまたはＦｅの金属化合物は、金属、金属酸化物、金属水酸化物、金属酸化物水酸化物、金属ホウ酸塩、金属炭酸塩、金属ヒドロキソ炭酸塩、金属ヒドロキソ炭酸塩水和物、混合金属ヒドロキソ炭酸塩、混合金属ヒドロキソ炭酸塩水和物、金属リン酸塩、金属硫酸塩、金属硫酸塩水和物、金属ヒドロキソ硫酸塩水和物、混合金属ヒドロキソ硫酸塩水和物、金属オキシ硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩、フッ化物、金属フッ化物水和物、金属塩化物、塩化物水和物、金属オキシ塩化物、金属臭化物、金属ヨウ化物、金属ヨウ化物水和物、金属カルボン酸誘導体および／または金属アルコキシドである。
【０１６６】
好ましくは、金属化合物は、塩化アルミニウム、水酸化アルミニウム、硝酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、硫酸チタニル、硝酸亜鉛、酸化亜鉛、水酸化亜鉛および／または硫酸亜鉛である。
【０１６７】
金属アルミニウム、そのフッ化物、ヒドロキシ塩化物、臭化物、ヨウ化物、硫化物、セレン化物；リン化物、次亜リン酸塩、アンチモン化物、窒化物；炭化物、ヘキサフルオロケイ酸塩；水素化物、カルシウム水素化物、ボロヒドリド；塩素酸塩；硫酸ナトリウムアルミニウム、硫酸アルミニウムカリウム、硫酸アルミニウムアンモニウム、硝酸塩、メタリン酸塩、リン酸塩、ケイ酸塩、マグネシウムケイ酸塩、炭酸塩、ヒドロタルシト、ナトリウム炭酸塩、ホウ酸塩；チオシアン酸塩；酸化物、酸化物水酸化物、それに対応する水和物および／または特にアルミニウム含量が９〜４０重量％のポリアルミニウムヒドロキシ化合物もまた適切である。
【０１６８】
モノカルボン酸、ジカルボン酸、オリゴカルボン酸、ポリカルボン酸のアルミニウム塩、例えば二酢酸アルミニウム、アセト酒石酸アルミニウム、ギ酸アルミニウム、乳酸アルミニウム、シュウ酸アルミニウム、酒石酸アルミニウム、オレイン酸アルミニウム、パルミチン酸アルミニウム、ステアリン酸アルミニウム、トリフルオロメタンスルホン酸アルミニウム、安息香酸アルミニウム、サリチル酸アルミニウム、アルミニウム８−オキシキノレートもまた適切である。
【０１６９】
同じく、元素状金属亜鉛、および例えばハロゲン化亜鉛（フッ化亜鉛、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛）のような亜鉛塩もまた適切である。
【０１７０】
亜鉛ホウ酸塩、炭酸塩、水酸化炭酸塩、ケイ酸塩、ヘキサフルオロケイ酸塩、スズ酸塩、水酸化スズ酸塩、マグネシウム−アルミニウム−水酸化炭酸塩；硝酸塩、亜硝酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩；硫酸塩、リン化物、セレン化物、テルル化物および第７主族のオキソ酸亜鉛塩（次亜ハロゲン酸塩、亜ハロゲン酸塩、ハロゲン酸塩、例えばヨウ素酸亜鉛、過ハロゲン酸塩、例えば過塩素酸亜鉛）；疑似ハロゲン化物（Ｐｓｅｕｄｏｈａｌｏｇｅｎｉｄ）の亜鉛塩（チオシアン酸亜鉛、シアン酸亜鉛、シアン化亜鉛）；亜鉛酸化物、過酸化物、水酸化物または混合酸化水酸化亜鉛もまた適切である。
【０１７１】
遷移金属オキソ酸の亜鉛塩（例えば水酸化クロム酸（ＶＩ）亜鉛、亜クロム酸塩、モリブデン酸塩、過マンガン酸塩、モリブデン酸塩）が好ましい。
【０１７２】
モノカルボン酸、ジカルボン酸、オリゴカルボン酸、ポリカルボン酸の亜鉛塩、例えばギ酸亜鉛、酢酸亜鉛、トリフルオロ酢酸亜鉛、プロピオン酸亜鉛、酪酸亜鉛、吉草酸亜鉛、カプリル酸亜鉛、オレイン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、シュウ酸亜鉛、酒石酸亜鉛、クエン酸亜鉛、安息香酸亜鉛、サリチル酸亜鉛、乳酸亜鉛、アクリル酸亜鉛、マレイン酸亜鉛、コハク酸亜鉛、アミノ酸（グリシン）の塩、酸性ヒドロキシ官能基の塩（亜鉛フェノラートなど）、亜鉛−ｐ−フェノールスルホン酸塩、アセチルアセトン酸塩、スズ酸塩、ジメチルジチオカルバミン酸塩、トリフルオルメタンスルホン酸塩もまた適切である。
【０１７３】
チタン化合物の場合、金属チタン、ならびにチタン（ＩＩＩ）および／または（ＩＶ）の塩化物、硝酸塩、硫酸塩、ギ酸塩、酢酸塩、臭化物、フッ化物、オキシ塩化物、オキシ硫酸塩、酸化物、ｎ−プロポキシド、ｎ−ブトキシド、イソプロポキシド、エトキシド、２−エチルヘキシルオキシドである。
【０１７４】
金属スズ、およびスズ塩（スズ（ＩＩ）および／または（ＩＶ）塩化物）；スズ酸化物およびスズ−アルコキシド、例えばスズ−（ＩＶ）−ｔｅｒｔ−ブトキシドもまた適切である。
セリウム（ＩＩＩ）フッ化物、塩化物、硝酸塩もまた適切である。
【０１７５】
ジルコニウム化合物の場合、金属ジルコニウム、およびジルコニウム塩、例えば塩化ジルコニウム、硫酸ジルコニウム、酢酸ジルコニル、塩化ジルコニルが好ましい。さらに、酸化ジルコニウムおよびジルコニウム（ＩＶ）ｔｅｒｔ−ブトキシドが好ましい。
【０１７６】
好ましくは、工程段階ｅ）における反応は、０．１〜７０重量％、好ましくは５〜４０重量％のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩の固体含量で行われる。
【０１７７】
好ましくは、工程段階ｅ）における反応は、２０〜２５０℃の温度、好ましくは８０〜１２０℃の温度で行われる。
【０１７８】
好ましくは、工程段階ｄ）における反応は、０．０１〜１０００ｂａｒ、好ましくは０．１〜１００ｂａｒの圧力で行われる。
【０１７９】
好ましくは、工程段階ｄ）における反応は、１×１０−７〜１×１０２時間の反応時間で行われる。
【０１８０】
好ましくは、工程段階ｄ）に従って濾過および／または遠心分離によって反応混合物から分離されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩（ＩＩＩ）を、乾燥させる。
【０１８１】
好ましくは、工程段階ｄ）により得られた生成物混合物を、さらに精製せずに金属化合物と反応させる。
【０１８２】
好ましい溶媒は、工程段階ａ）に挙げられた溶媒である。
【０１８３】
工程段階ｄ）および／またはｅ）における反応は段階ａ）、ｂ）および／またはｃ）に示された溶媒系中で行うことが好ましい。
【０１８４】
工程段階ｅ）における反応は、与えられた溶媒系を改変した溶媒系中で行うことが好ましい。このために、酸成分、可溶化剤、消泡剤などが添加される。
【０１８５】
この方法のさらなる実施形態では、工程段階ａ）、ｂ）、ｃ）および／またはｄ）により得られた生成物混合物が処理される。
【０１８６】
この方法のさらなる実施形態では、工程段階ｄ）により得られた生成物混合物を後処理し（ａｕｆｇｅａｒｂｅｉｔｅｔ）、続いて工程段階ｄ）により得られたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸および／またはその塩もしくはエステル（ＩＩＩ）を、工程段階ｅ）において金属化合物と反応させる。
【０１８７】
好ましくは、生成物混合物は、工程段階ｄ）により、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸および／またはその塩もしくはエステル（ＩＩＩ）を溶媒系の除去により、例えば蒸発により単離することによって処理される。
【０１８８】
好ましくは、金属Ｍｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、ＣｅまたはＦｅのモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩（ＩＩＩ）は、任意選択で０．０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜１重量％の残留水分含量、０．１〜２０００μｍ、好ましくは１０〜５００μｍの平均粒度、８０〜８００ｇ／ｌ、好ましくは２００〜７００ｇ／ｌの容積密度、０．５〜１０、好ましくは１〜５のフレングル（Ｐｆｒｅｎｇｌｅ）流動性を有する。
【０１８９】
特に好ましくは、この成形体、−フィルム、−糸および−繊維は、５〜３０重量％の、請求項１〜１０の一つまたは複数に従って製造されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸／そのエステル／塩、５〜９０重量％のポリマーまたはその混合物、５〜４０重量％の添加剤および５〜４０重量％充填材を含有し、その際、成分の合計は、常に１００重量％である。
【０１９０】
好ましくは、添加剤は、酸化防止剤、静電防止剤、発泡剤、さらなる難燃剤、熱安定化剤、耐衝撃性調節剤、工程助剤、滑剤、光保護剤、滴下防止剤（Ａｎｔｉｄｒｉｐｐｉｎｇｍｉｔｔｅｌ）、相溶化剤、補強材、充填材、種晶形成剤（Ｋｅｉｍｂｉｌｄｕｎｇｓｍｉｔｔｅｌ）、核形成剤、レーザーマーキング用添加剤、加水分解安定化剤、鎖伸長剤、色素、柔軟剤および／または可塑剤を含む。
【０１９１】
０．１〜９０重量％の低ハロゲン性モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩（ＩＩＩ）ならびに０．１〜５０重量％のさらなる添加剤、特に好ましくはジオールを含有する難燃剤が好ましい。
【０１９２】
好ましい添加剤は、また、アルミニウム三水和物、酸化アンチモン、臭化芳香族または脂環式炭化水素、フェノール、エーテル、クロルパラフィン、ヘキサクロロシクロペンタジエン付加物、赤リン、メラミン誘導体、シアヌル酸メラミン、ポリリン酸アンモニウムおよび水酸化マグネシウムである。好ましい添加剤は、また、さらなる難燃剤、特にジアルキルホスフィン酸塩である。
【０１９３】
本発明は特に、難燃剤としての、または熱可塑性ポリマー用、例えばポリエステル、ポリスチレンもしくはポリアミド用および熱硬化性ポリマー用、例えば不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタンもしくはアクリレート用の難燃剤を製造するための中間段階としての、本発明のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩（ＩＩＩ）の使用に関する。
【０１９４】
適切なポリエステルは、ジカルボン酸およびそのエステルおよびジオールから、ならびに／またはヒドロキシカルボン酸もしくは対応するラクトンから得られる。好ましくは、テレフタル酸およびエチレングリコール、プロパン−１，３−ジオールおよびブタン−１，３−ジオールが使用される。
【０１９５】
適切なポリエステルは、とりわけ、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（Ｃｅｌａｎｅｘ（登録商標）２５００、Ｃｅｌａｎｅｘ（登録商標）２００２、Ｆａ Ｃｅｌａｎｅｓｅ；Ｕｌｔｒａｄｕｒ（登録商標）、ＢＡＳＦ社）、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリヒドロキシベンゾエート、およびヒドロキシル末端基を有するポリエーテルから得られるブロック−ポリエーテルエステル；さらにポリカーボネートまたはＭＢＳ改変ポリエステルである。
【０１９６】
永続的な難燃性を有する合成直鎖ポリエステルは、本発明のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸およびそのエステルのジカルボン酸成分、ジオール成分から、またはリン含有鎖メンバー（Ｋｅｔｔｅｎｇｌｉｅｄｅｒ）として本発明の方法により製造されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸およびそのエステルから構成される。リン含有鎖メンバーは、ポリエステルのジカルボン酸成分の２〜２０％の重量％になる。好ましくは、結果としてのポリエステル中のリン含量は、０．１〜５重量％、特に好ましくは０．５〜３重量％である。
【０１９７】
以下のステップは、本発明により製造された化合物の添加によりまたは添加の下に実施することができる。
【０１９８】
好ましくは、遊離ジカルボン酸およびジオールから成形材料を製造するために、まずそれらを直接エステル化し、次に重縮合させる。
【０１９９】
好ましくは、ジカルボン酸エステル、特にジメチルエステルから出発し、まずそれらをエステル交換し、次にそのための通常の触媒を使用して重縮合させる。
【０２００】
好ましくは、ポリエステルを製造する場合に、普通の触媒以外に通常の添加剤（架橋剤、艶消し剤および安定化剤、核形成剤、着色剤および充填材など）を添加することができる。
【０２０１】
好ましくは、ポリエステル製造時のエステル化および／またはエステル交換は、１００〜３００℃、特に好ましくは１５０〜２５０℃の温度で実施される。
【０２０２】
好ましくは、ポリエステルを製造する場合の重縮合は、０．１〜１．５ｍｂａｒの圧力および１５０〜４５０℃、特に好ましくは２００〜３００℃の温度で実施される。
【０２０３】
本発明により製造された難燃性ポリエステル成形材料は、好ましくはポリエステル成形体に使用される。
【０２０４】
好ましいポリエステル成形体は、糸、繊維、フィルム、およびジカルボン酸成分として主にテレフタル酸と、ジオール成分として主にエチレングリコールとを含有する成形体である。
【０２０５】
好ましくは、結果として生じる、難燃性ポリエステルから製造された糸および繊維中のリン含量は、０．１〜１８、好ましくは０．５〜１５であり、フィルムでは０．２〜１５、好ましくは０．９〜１２重量％である。
【０２０６】
適切なポリスチレンは、ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）および／またはポリ−（α−メチルスチレン）である。
【０２０７】
好ましくは、適切なポリスチレンは、スチレンまたはα−メチルスチレンと、ジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン−ブタジエン、スチレン−アクリロニトリル、スチレン−メタクリル酸アルキル、スチレン−ブタジエン−アクリル酸アルキルおよび−メタクリル酸アルキル、スチレン−無水マレイン酸、スチレン−アクリロニトリル−アクリル酸メチル；スチレン−コポリマーおよび他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエン−ポリマーまたはエチレン−プロピレン−ジエン−ターポリマーからの高い耐衝撃性の混合物；ならびにスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン−ブタジエン−スチレン、スチレン−イソプレン−スチレン、スチレン−エチレン／ブチレン−スチレンまたはスチレン−エチレン／プロピレン−スチレンである。
【０２０８】
好ましくは、適切なポリスチレンは、また、スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンへのスチレン、ポリブタジエン−スチレン−またはポリブタジエン−アクリロニトリル−コポリマーへのスチレン、ポリブタジエンへのスチレンおよびアクリロニトリル（場合によりメタクリルニトリル）；ポリブタジエンへのスチレン、アクリロニトリルおよびメタクリル酸メチル；ポリブタジエンへのスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンへのスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマレイン酸イミド；ポリブタジエンへのスチレンおよびマレイン酸イミド、ポリブタジエンへのスチレンおよびアクリル酸アルキルまたはメタクリル酸アルキル、エチレン−プロピレン−ジエン−ターポリマーへのスチレンおよびアクリロニトリル、ポリアクリル酸アルキルまたはポリメタクリル酸アルキルへのスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート−ブタジエン−コポリマーへのスチレンおよびアクリロニトリルのグラフトコポリマー、ならびにその混合物、例えばいわゆるＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡまたはＡＥＳポリマーとして公知のものなどである。
【０２０９】
好ましくは、ポリマーは、ジアミンおよびジカルボン酸から、ならびに／またはアミノカルボン酸もしくは対応するラクタムから得られたポリアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド２，１２、ポリアミド４、ポリアミド４，６、ポリアミド６、ポリアミド６，６、ポリアミド６，９、ポリアミド６，１０、ポリアミド６，１２、ポリアミド６，６６、ポリアミド７，７、ポリアミド８，８、ポリアミド９，９、ポリアミド１０，９、ポリアミド１０，１０、ポリアミド１１、ポリアミド１２などである。そのようなポリアミドは、例えばＮｙｌｏｎ（登録商標）（ＤｕＰｏｎｔ社）、Ｕｌｔｒａｍｉｄ（登録商標）（ＢＡＳＦ社）、Ａｋｕｌｏｎ（登録商標）Ｋ１２２（ＤＳＭ社）、Ｚｙｔｅｌ（登録商標）７３０１（ＤｕＰｏｎｔ社）；Ｄｕｒｅｔｈａｎ（登録商標）Ｂ２９（Ｂａｙｅｒ社）およびＧｒｉｌｌａｍｉｄ（登録商標）（Ｅｍｓ Ｃｈｅｍｉｅ社）の商品名で知られている。
【０２１０】
ｍ−キシレン、ジアミンおよびアジピン酸からの芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンならびにイソフタル酸および／またはテレフタル酸ならびに場合により変性剤としてのエラストマーから製造されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；前記ポリアミドと、ポリオレフィン、オレフィン−コポリマー、アイオノマーまたは化学結合したもしくはグラフトされたエラストマーとのブロックコポリマー、またはポリエーテルとの、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールもしくはポリテトラメチレングリコールとのブロックコポリマーもまた適切である。さらになお、ＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性されたポリアミドまたはコポリアミド；および加工中に縮合されたポリアミド（「ＲＩＭ−ポリアミドシステム」）も適切である。
【０２１１】
請求項１〜１０の一つまたは複数に従って製造されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸／そのエステル／塩は、好ましくは成形材料に利用され、その成形材料は、さらにポリマー成形体の生産に使用される。
【０２１２】
特に好ましくは、難燃性成形材料は、請求項１〜１０の一つまたは複数に従って製造された、５〜３０重量％のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩またはエステル、５〜９０重量％のポリマーまたはその混合物、５〜４０重量％の添加剤および５〜４０重量％の充填材を含有し、その際、成分の合計は、常に１００重量％である。
【０２１３】
本発明は、また、請求項１〜１０の一つまたは複数に従って製造された、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩またはエステルを含有する難燃剤に関する。
【０２１４】
さらに、本発明は、本発明により製造された、金属Ｍｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、ＣｅまたはＦｅのモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩（ＩＩＩ）を含有するポリマー成形材料ならびにポリマー成形体、ポリマーフィルム、ポリマー糸およびポリマー繊維に関する。
【０２１５】
本発明を、以下の例により説明する。
【実施例】
【０２１６】
難燃性ポリマー成形材料および難燃性ポリマー成形体の製造、加工および試験
難燃性成分をポリマーペレットおよび場合により添加剤と混合し、二軸スクリュー押出機（Ｌｅｉｓｔｒｉｔｚ ＬＳＭ（登録商標）３０／３４型）に２３０〜２６０℃（ＰＢＴ−ＧＶ）または２６０〜２８０℃（ＰＡ６６−ＧＶ）の温度で導入する。均一化されたポリマーストランドを引き抜き、水浴中で冷却し、続いてペレット化した。
【０２１７】
十分に乾燥させた後で、成形材料を射出成形機（Ａａｒｂｕｒｇ Ａｌｌｒｏｕｎｄｅｒ型）で融解温度２４０〜２７０℃（ＰＢＴ−ＧＶ）または２６０〜２９０℃（ＰＡ６６−ＧＶ）で加工して検体とした。その検体をＵＬ９４（Ｕｎｄｅｒｗｒｉｔｅｒ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ）試験により難燃性（防炎性）について試験および分類する。
【０２１８】
厚さ１．５ｍｍの試料片を用いて、各混合物からの検体について燃焼性分類ＵＬ９４（Ｕｎｄｅｒｗｒｉｔｅｒ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ）を決定した。
【０２１９】
ＵＬ９４によれば以下の燃焼性分類が得られる。
Ｖ−０：残炎は１０秒を超えない、１０回接炎した場合の総残炎時間は５０秒を超えない、燃焼滴下物なし、試料の全焼なし、試料は接炎終了後３０秒を超えて赤熱せず
Ｖ−１：接炎終了後３０秒を超える残炎なし、１０回接炎した場合の総残炎時間は２５０秒を超えない、試料は接炎終了後６０秒を超えて赤熱せず、その他の基準はＶ−０と同様
Ｖ−２：燃焼滴下物による綿の着火、その他の基準はＶ−１と同様
分類不可能（ｎｋｌ）：燃焼性等級Ｖ−２を満たさず。
【０２２０】
さらに、いくつかの被験試料のＬＯＩ値を測定した。ＬＯＩ値（限界酸素指数）は、ＩＳＯ４５８９に従って測定する。ＩＳＯ４５８９によると、ＬＯＩは、酸素および窒素の混合物中でプラスチックの燃焼を支援する最低酸素濃度（体積パーセント）である。ＬＯＩ値が高いほど、被験材料は燃焼しにくい。
ＬＯＩ ２３ 可燃性
ＬＯＩ ２４〜２８ 準可燃性
ＬＯＩ ２９〜３５ 難燃性
ＬＯＩ ＞３６ 特に難燃性
【０２２１】
使用した化学物質および略語
ＶＥ−水 完全脱塩水
ＡＩＢＮ アゾ−ビス−（イソブチロニトリル）、（ＷＡＫＯ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ ＧｍｂＨ社）
ＴＨＦ テトラヒドロフラン
ＷａｋｏＶ６５ ２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル−バレロニトリル）、（ＷＡＫＯ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ ＧｍｂＨ社）
Ｄｅｌｏｘａｎ（登録商標） ＴＨＰ ＩＩ 金属捕捉剤（Ｅｖｏｎｉｋ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ ＡＧ社）
【０２２２】
例１
撹拌装置および高性能冷却器を備える三口フラスコに室温で１８８ｇの水を入れ、撹拌しながら窒素を通気させて脱気する。次に、そこに窒素下で０．２ｍｇの硫酸パラジウム（ＩＩ）および２．３ｍｇのトリス（３−スルホフェニル）−ホスフィン三ナトリウム塩を添加し、撹拌し、次に６６ｇの水に入った６６ｇのホスフィン酸を添加する。反応溶液を２ｌ容のビュッヒ（Ｂｕｅｃｈｉ）反応器に移し、撹拌しながら加圧下でエチレンを送り、反応混合物を８０℃に加熱する。２８ｇのエチレンが吸収された後で冷却し、遊離のエチレンを放出させる。反応混合物からロータリーエバポレーターで溶媒を除去する。残渣を１００ｇのＶＥ−水と混合し、室温で窒素雰囲気下で撹拌し、次に濾過し、濾液をトルエンで抽出し、続いてロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、得られたエチル亜ホスホン酸を回収する。そこで９２ｇ（理論値の９８％）のエチル亜ホスホン酸が得られる。
【０２２３】
例２
例１と同様に、９９ｇのホスフィン酸、３９６ｇのブタノール、４２ｇのエチレン、６．９ｍｇのトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、９．５ｍｇの４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−９，９−ジメチルキサンテンを反応させ、次に精製のために、Ｄｅｌｏｘａｎ（登録商標）ＴＨＰ ＩＩを充填したカラムに入れ、その後もう一度ｎ−ブタノールを添加する。生成した水を８０〜１１０℃の反応温度で共沸蒸留により取り除く。生成物（エチル亜ホスホン酸ブチルエステル）は、減圧蒸留により精製する。そこで１８９ｇ（理論値の８４％）のエチル亜ホスホン酸ブチルエステルが得られる。
【０２２４】
例３
例１と同様に、１９８ｇのホスフィン酸、１９８ｇの水、８４ｇのエチレン、６．１ｍｇの硫酸パラジウム（ＩＩ）、２５．８ｍｇの９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２，７−スルホナト−キサンテン二ナトリウム塩を反応させ、次に精製のために、Ｄｅｌｏｘａｎ（登録商標）ＴＨＰ ＩＩを充填したカラムに入れ、その後ｎ−ブタノールを添加する。生成した水を８０〜１１０℃の反応温度で共沸蒸留により取り除く。生成物は、減圧蒸留により精製する。そこで３７４ｇ（理論値の８３％）のエチル亜ホスホン酸ブチルエステルが得られる。
【０２２５】
例４
ガス導入管、温度計、強力撹拌装置およびガス燃焼付き還流冷却器を備える５００ｍｌの五口フラスコに９４ｇ（１ｍｏｌ）のエチル亜ホスホン酸（例１と同様に製造）を入れる。室温でエチレンオキシドを導入する。冷却しながら反応温度を７０℃に調整し、さらに１時間８０℃で後反応させる。エチレンオキシドの取り込みは６５．７ｇである。生成物の酸価は、１ｍｇ ＫＯＨ／ｇ未満である。無色透明の生成物として１２９ｇ（理論値の９４％）の（エチル亜ホスホン酸−２−ヒドロキシエチルエステル）が得られる。
【０２２６】
例５
撹拌装置および高性能冷却器を備える三口フラスコに室温で４００ｇのＴＨＦを入れ、撹拌しながら窒素を通気させて脱気する。次に、そこに窒素下で１．３５ｇ（６ｍｍｏｌ）の酢酸パラジウムおよび４．７２ｇ（１８ｍｍｏｌ）のトリフェニルホスフィンを添加し、撹拌し、次に３０ｇ（０．２ｍｏｌ）のエチル亜ホスホン酸ブチルエステル（例２と同様に製造）および１．９６ｇ（９ｍｍｏｌ）のジフェニルホスフィン酸を添加し、反応混合物を８０℃に加熱し、アセチレンを体積流量５ｌ／ｈで反応溶液に通気する。５時間の反応時間の後で、窒素を使って装置からアセチレンを排出させる。精製するために、Ｄｅｌｏｘａｎ（登録商標）ＴＨＰ ＩＩを詰めたカラムに反応溶液を入れ、ＴＨＦを真空中で取り除く。生成物（エチルビニルホスフィン酸ブチルエステル）を減圧蒸留により精製する。３２．７ｇ（理論値の９３％）のエチルビニルホスフィン酸ブチルエステルが無色の油として得られる。
【０２２７】
例６
撹拌装置および高性能冷却器を備える三口フラスコに室温で４００ｇの酢酸を入れ、撹拌しながら窒素を通気させて脱気する。次に、そこに窒素下で１．３５ｇ（６ｍｍｏｌ）の酢酸パラジウムおよび３．４７ｇ（６ｍｍｏｌ）のキサントホスを添加し、撹拌し、次に１９ｇ（０．２ｍｏｌ）のエチル亜ホスホン酸（例１と同様に製造）を添加し、反応混合物を８０℃に加熱し、アセチレンを体積流量５ｌ／ｈで反応溶液に通気する。５時間の反応時間の後で、窒素を使って装置からアセチレンを排出させる。精製するために、Ｄｅｌｏｘａｎ（登録商標）ＴＨＰ ＩＩを詰めたカラムに反応溶液を入れ、酢酸を真空中で取り除く。生成物（エチルビニルホスフィン酸）をクロマトグラフィーにより精製する。２０．９ｇ（理論値の８７％）のエチルビニルホスフィン酸が無色の油として得られる。
【０２２８】
例７
撹拌装置および高性能冷却器を備える三口フラスコに室温で４００ｇのトルエンを入れ、撹拌しながら窒素を通気させて脱気する。そこに窒素下で５．５５ｇ（６ｍｍｏｌ）のＲｈＣｌ（ＰＰｈ３）３を添加し、撹拌し、次に３０ｇ（０．２ｍｏｌ）のエチル亜ホスホン酸ブチルエステル（例３と同様に製造）および２０．４ｇ（０．２ｍｏｌ）のフェニルアセチレンを添加し、反応混合物を８０℃に加熱する。５時間の反応時間の後で、Ｄｅｌｏｘａｎ（登録商標）ＴＨＰ ＩＩを詰めたカラムに反応溶液を入れ、トルエンを真空中で取り除く。３７．６ｇ（理論値の９６％）のエチル−（１−フェニル−ビニル）ホスフィン酸ブチルエステルが無色の油として得られる。
【０２２９】
例８
撹拌装置および高性能冷却器を備える三口フラスコに室温で４００ｇのＴＨＦを入れ、撹拌しながら窒素を通気させて脱気する。次に、そこに窒素下で２．７５ｇ（１０ｍｍｏｌ）のビス（シクロオクタジエン）ニッケル（０）および８ｇ（４０ｍｍｏｌ）のメチルジフェニルホスフィンを添加し、撹拌し、次に３０ｇ（０．２ｍｏｌ）のエチル亜ホスホン酸ブチルエステル（例２と同様に製造）を添加し、室温でアセチレンを体積流量５ｌ／ｈで反応溶液に通気する。５時間の反応時間の後で、窒素を使って装置からアセチレンを排出させる。精製するために、Ｄｅｌｏｘａｎ（登録商標）ＴＨＰ ＩＩを詰めたカラムに反応溶液を入れ、ブタノールを真空中で取り除く。３３．４ｇ（理論値の９５％）のエチルビニルホスフィン酸ブチルエステルが無色の油として得られる。
【０２３０】
例９
３６０ｇ（３ｍｏｌ）の得られたエチルビニルホスフィン酸（例６と同様に製造）を８５℃で４００ｍｌのトルエンに溶解させ、８８８ｇ（１２ｍｏｌ）のブタノールと混合する。生成した水を約１００℃の反応温度で共沸蒸留により取り除く。生成物エチルビニルホスフィン酸ブチルエステルを、減圧蒸留により精製する。
【０２３１】
例１０
３６０ｇ（３．０ｍｏｌ）のエチルビニルホスフィン酸（例６と同様に製造）を８０℃で４００ｍｌのトルエンに溶解させ、３１５ｇ（３．５ｍｏｌ）の１，４−ブタンジオールと混合し、水分離器を備える蒸留装置中で約１００℃で４時間エステル化する。エステル化の終了後に、トルエンを真空中で分離する。５１８ｇ（理論値の９０％）のエチルビニルホスフィン酸−４−ヒドロキシブチルエステルが無色の油として得られる。
【０２３２】
例１１
３６０ｇ（３．０ｍｏｌ）のエチルビニルホスフィン酸（例６と同様に製造）を８５℃で４００ｍｌのトルエンに溶解させ、２４８ｇ（４ｍｏｌ）のエチレングリコールと混合し、水分離器を備える蒸留装置中で約１００℃で４時間エステル化する。エステル化の終了後にトルエンおよび過剰のエチルグリコールを真空中で分離する。４６２ｇ（理論値の９４％）のエチルビニルホスフィン酸−２−ヒドロキシエチルエステルが無色の油として得られる。
【０２３３】
例１２
ガラス製オートクレーブ中で１．１２ｇ（５ｍｍｏｌ）の酢酸パラジウム、３．９５ｇ（１０ｍｍｏｌ）の１，２−ビス［ジ（ｔｅｒｔブチル）ホスフィノメチル］ベンゼン、１７．６ｇ（０．１ｍｏｌ）のエチルビニルホスフィン酸ブチルエステル（例８と同様に製造）および１００ｍｌのテキサノールを１００℃で合成ガス混合物ＣＯ／Ｈ２（１：１）と１０ｂａｒで反応させた。４時間の反応時間の後で、オートクレーブの圧を抜き、溶媒を真空中で取り除き、生成物をクロマトグラフィーにより精製した。１５．２ｇ（理論値の７４％）のエチル−（２−ホルミルエチル）−ホスフィン酸ブチルエステルが無色の油として得られる。
【０２３４】
例１３
ガラス製オートクレーブ中で２５８ｍｇ（１ｍｍｏｌ）のロジウムビスカルボニルアセチルアセトナート、１０５ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）のトリフェニルホスフィン、２５．２ｇ（０．１ｍｏｌ）のエチル−（１−フェニル−ビニル）−ホスフィン酸ブチルエステル（例７と同様に製造）および１００ｍｌのテキサノールを１００℃で合成ガス混合物ＣＯ／Ｈ２（１：１）と１０ｂａｒで反応させた。４時間の反応時間の後で、オートクレーブの圧を抜き、溶媒を真空中で取り除き、生成物をクロマトグラフィーにより精製した。２５．１ｇ（理論値の８９％）のエチル−（１−フェニル−２−ホルミルエチル）−ホスフィン酸ブチルエステルが無色の油として得られる。
【０２３５】
例１４
ガラス製オートクレーブ中で１．０３ｇ（３ｍｍｏｌ）の２−エチルヘキサン酸コバルト、４．１２ｇ（６ｍｍｏｌ）の２，２’−ビス（ジフェノキシホスフィン）−１，１’−ビナフチル、１２．０ｇ（０．１ｍｏｌ）のエチルビニルホスフィン酸（例６と同様に製造）および１００ｍｌのテキサノールを１００℃で合成ガス混合物ＣＯ／Ｈ２（１：１）と１０ｂａｒで反応させた。４時間の反応時間の後で、オートクレーブの圧を抜き、溶媒を真空中で取り除き、生成物をクロマトグラフィーにより精製した。１３．１ｇ（理論値の８７％）のエチル−（２−ホルミルエチル）−ホスフィン酸が無色の油として得られる。
【０２３６】
例１５
温度計、還流冷却器、強力撹拌装置および滴下漏斗を備える１ｌの五口フラスコに４１２ｇ（２ｍｏｌ）のエチル−（２−ホルミルエチル）−ホスフィン酸ブチルエステル（例１３と同様に製造）を入れる。１６０℃で４時間５００ｍｌの水を加え、ブタノール−水混合物を蒸留する。固体残渣をアセトンから晶出させる。２９７ｇ（理論値の９９％）のエチル−（２−ホルミルエチル）−ホスフィン酸が油として得られる。
【０２３７】
例１６
ガラス製オートクレーブ中で２４０ｇのエタノール、６８ｇのアンモニア、５２ｇの水、６．４ｇのＲａｎｅｙ（登録商標）ニッケル（１．５重量％のクロムを添加）、５５．５ｇ（０．３７ｍｏｌ）のエチル−（２−ホルミルエチル）−ホスフィン酸（例１２と同様に製造）を、７０℃で水素と２５ｂａｒで反応させる。８時間の反応時間の後で、オートクレーブの圧を抜いた。精製のために反応溶液を濾過し、真空中で濃縮する。
得られた残渣を１５０ｇの水に取り込み、約３０ｇ（０．３７ｍｏｌ）の５０％水酸化ナトリウム溶液と混合し、続いて約１８．１ｇ（０．１９ｍｏｌ）の濃硫酸の添加により中和する。続いて、水を真空中で留去する。残渣をエタノールに取り込み、不溶性の塩を濾過して除く。濾液の溶媒は、真空中で分離する。生成物をクロマトグラフィーにより精製する。３７．１ｇ（理論値の６６％）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸が無色の油として得られる。
【０２３８】
例１７
ガラス製オートクレーブ中で２４０ｇのヘキサメチレンジアミン、５２ｇの水、６．４ｇのＲａｎｅｙ（登録商標）ニッケル（１．５重量％のクロムを添加）、０．１８ｇ（４ｍｍｏｌ）の水酸化カリウム、７５．１ｇ（０．３７ｍｏｌ）のエチル−（２−ホルミルエチル）ホスフィン酸ブチルエステル（例１２と同様に製造）を、５０℃で水素と２５ｂａｒで反応させる。８時間の反応時間の後で、オートクレーブの圧を抜いた。精製のために反応溶液を濾過し、Ｄｅｌｏｘａｎ（登録商標）ＴＨＰ ＩＩを詰めたカラムに入れ、真空中で濃縮する。生成物をクロマトグラフィーにより精製する。６３．９ｇ（理論値の８３％）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸ブチルエステルが無色油として得られる。
【０２３９】
例１８
撹拌装置、滴下漏斗および高性能冷却器を備える三口フラスコに、室温で１００ｍｌの無水ジエチルエーテル中の２．３ｇ（０．０６ｍｏｌ）の水素化アルミニウムリチウムを入れ、２８．２ｇ（０．１ｍｏｌ）のエチル−（１−フェニル−２−ホルミルエチル）−ホスフィン酸ブチルエステル（例１３と同様に製造）を１００ｍｌのジエチルエーテルに溶かした溶液を、ジエチルエーテルが適度に沸騰するように絶えず撹拌しながら滴加する。滴加の終了後に、還流下で１時間加熱し、続いて反応溶液を１．８ｇ（０．１ｍｏｌ）の水と混合する。不溶性の塩を濾過して除く。濾液の溶媒は、真空中で分離し、生成物をクロマトグラフィーにより精製する。２４．１ｇ（理論値の８５％）のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸ブチルエステルが無色の油として得られる。
【０２４０】
例１９
温度計、還流冷却器、強力撹拌装置および滴下漏斗を備える１ｌの五口フラスコに５６８ｇ（２ｍｏｌ）のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸ブチルエステル（例１３と同様に製造）を入れる。１６０℃で４時間５００ｍｌの水を加え、ブタノール−水混合物を蒸留する。固体残渣をアセトンから晶出させる。４５１ｇ（理論値の９９％）のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸が油として得られる。
【０２４１】
例２０
９１２ｇ（６ｍｏｌ）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸（例１６と同様に製造）を８６０ｇの水に溶解させ、温度計、還流冷却器、強力撹拌装置および滴下漏斗を備える５ｌ容の五口フラスコに入れ、約４８０ｇ（６ｍｏｌ）の５０％水酸化ナトリウム溶液で中和する。８５℃でＡｌ２（ＳＯ４）３・１４Ｈ２Ｏの４６％水溶液１２９１ｇの混合物を加える。続いて、得られた固体を濾過して除き、熱水で洗浄し、１３０℃の真空中で乾燥させる。収量：無色の塩として８６０ｇ（理論値の８９％）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸アルミニウム（ＩＩＩ）塩。
【０２４２】
例２１
２２８ｇ（１ｍｏｌ）のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）ホスフィン酸（例１９と同様に製造）および８５ｇのチタンテトラブトキシドを５００ｍｌのトルエン中で４０時間還流下で加熱する。生じたブタノールを部分量のトルエンで時々留去する。続いて発生した溶液を溶媒から除去する。２１５ｇ（理論値の９１％）のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸チタン塩が得られる。
【０２４３】
例２２
４５６ｇ（３ｍｏｌ）のエチル−３−ヒドロキシプロピルホスフィン酸（例１６と同様に製造）を８５℃で４００ｍｌのトルエンに溶解させ、８８８ｇ（１２ｍｏｌ）のブタノールを混合する。生成した水を約１００℃の反応温度で共沸蒸留により取り除く。減圧蒸留により精製して、５２４ｇ（理論値の８４％）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸ブチルエステルが得られる。
【０２４４】
例２３
６８４ｇ（３．０ｍｏｌ）のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸（例１９と同様に製造）を８０℃で４００ｍｌのトルエンに溶解させ、５９４ｇ（６．６ｍｏｌ）の１，４−ブタンジオールと混合し、水分離器を備える蒸留装置中で約１００℃で４時間エステル化する。エステル化の終了後にトルエンを真空中で分離する。６６６ｇ（理論値の７４％）のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸−４−ヒドロキシブチルエステルが無色の油として得られる。
【０２４５】
例２４
４１６ｇ（２ｍｏｌ）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸ブチルエステル（例１７と同様に製造）に１５５ｇ（２．５ｍｏｌ）のエチレングリコールおよび０．４ｇのシュウ酸チタンカリウムを加え、２００℃で２時間撹拌する。ゆっくりと真空にすることによって易揮発性画分を留去する。４３９ｇ（理論値の９８％）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸−２−ヒドロキシエチルエステルが得られる。
【０２４６】
例２５
ガス導入管、温度計、強力撹拌装置およびガス燃焼付き還流冷却器を備える５００ｍｌの五口フラスコに１５２ｇ（１ｍｏｌ）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸（例１９と同様に製造）を入れる。室温でエチレンオキシドを導入する。冷却下で７０℃の反応温度に調整し、８０℃でさらに１時間後反応させる。エチレンオキシドの取り込みは６４．８ｇである。生成物の酸価は、１ｍｇ ＫＯＨ／ｇ未満である。無色透明の液体である、１８６ｇ（理論値の９５％）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸−２−ヒドロキシエチルエステルが得られる。
【０２４７】
例２６
テレフタル酸、エチレングリコールおよびエチル−３−ヒドロキシプロピルホスフィン酸−２−ヒドロキシエチルエステル（例２４と同様に製造）を、１０００：６５０：７０の重量比で、酢酸亜鉛および酸化アンチモン（ＩＩＩ）の存在下で通常の条件で重合させる。１９．６ｇのエチル−３−ヒドロキシプロピルホスフィン酸−２−ヒドロキシエチルエステルに２９０ｇのテレフタル酸、１８２ｇのエチレングリコール、０．３４ｇの酢酸亜鉛を加え、２００℃で２時間加熱する。次に、０．２９ｇの無水リン酸三ナトリウムおよび０．１４ｇの酸化アンチモン（ＩＩＩ）を加え、２８０℃に加熱し、次に真空にする。得られた融解物（３５１ｇ、リン含量０．９％）から、ＩＳＯ４５８９−２による酸素指数（ＬＯＩ）の測定用および燃焼試験ＵＬ９４（Ｕｎｄｅｒｗｒｉｔｅｒ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ）用に厚さ１．６ｍｍの検体を射出する。このように製造された検体は、４０％ Ｏ２のＬＯＩをもたらし、ＵＬ９４による燃焼性分類Ｖ−０を満たした。エチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸−２−ヒドロキシエチルエステルを有さない、対応する検体は、わずか３１％ Ｏ２のＬＯＩをもたらし、ＵＬ９４による燃焼性分類Ｖ−２しか満たさなかった。したがって、エチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸−２−ヒドロキシエチルエステルを含有するポリエステル成形体は、明らかな難燃特性を示す。
【０２４８】
例２７
１９．２ｇのエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）ホスフィン酸（例１９と同様に製造）に７．６ｇの１，３−プロピレングリコールを加え、エステル化の際に生成した水を１６０℃で留去する。次に、３７８ｇのジメチルテレフタレート、１５２ｇの１，３−プロパンジオール、０．２２ｇのテトラブチルイタネート（Ｔｅｔｒａｂｕｔｙｌｉｔａｎａｔ）および０．０５ｇの酢酸リチウムを加え、次にその混合物を２時間撹拌しながら１３０〜１８０℃に加熱し、続いて減圧下で２７０℃に加熱する。このポリマー（４３３ｇ）は、０．６％のリンを含有し、ＬＯＩは３４である。
【０２４９】
例２８
１２．８ｇのエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸（例１６と同様に製造）に３６７ｇのジメチルテレフタレート、１７０ｇの１，４−ブタンジオール、０．２２ｇのテトラブチルイタネートおよび０．０５ｇの酢酸リチウムを加え、次にその混合物を２時間撹拌しながら１３０〜１８０℃に加熱し、続いて減圧下で２７０℃に加熱する。このポリマー（４２６ｇ）は、０．６％のリンを含有し、ＬＯＩは３４であり、未処理のポリブチレンテレフタレートのＬＯＩは２３である。
【０２５０】
例２９
還流冷却器、撹拌装置、温度計および窒素導入口を備える２５０ｍｌ容の五口フラスコ中で、０．５５ｍｏｌ／１００ｇのエポキシ価を有する１００ｇのビスフェノールＡ−ビスグリシドエーテル（Ｂｅｃｋｏｐｏｘ ＥＰ１４０、Ｓｏｌｕｔｉａ社）および２９．６ｇ（０．１３ｍｏｌ）のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）ホスフィン酸（例１９と類似の方法で製造）を撹拌しながら最高１５０℃に加熱する。３０分後に、透明な融解物が生じる。さらに１時間１５０℃で撹拌後に、融解物を冷却し、摩砕する。３．３重量％のリン含量を有する１１８．５ｇの白色粉末が得られる。
【０２５１】
例３０
撹拌装置、水分離器、温度計、還流冷却器および窒素導入口を備える２ｌのフラスコ中で、２９．４ｇの無水フタル酸、１９．６ｇの無水マレイン酸、２４．８ｇのプロピレングリコール、１５．５ｇのエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸−２−ヒドロキシエチルエステル（例２５と同様に製造）、２０ｇのキシレンおよび５０ｍｇのヒドロキノンを、撹拌および窒素導入下で１００℃に加熱する。発熱反応が開始した場合は、加熱を取り止める。反応が次第に弱まった後も、約１９０℃でさらに撹拌する。１４ｇの水が放出された後に、キシレンを留去し、ポリマー融解物を冷却する。２．３重量％のリン含量を有する、９１．５ｇの白色粉末が得られる。
【０２５２】
例３１
５０重量％のポリブチレンテレフタレート、２０重量％のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸アルミニウム（ＩＩＩ）塩（例２０と同様に製造）および３０重量％のガラス繊維の混合物を二軸スクリュー押出機（Ｌｅｉｓｔｒｉｔｚ ＬＳＭ３０／３４型）で２３０〜２６０℃の温度で混ぜ合わせてポリマー成形材料にする。均一化されたポリマーストランドを引き抜き、水浴中で冷却し、続いてペレット化した。乾燥させた後で、成形材料を射出成形機（Ａａｒｂｕｒｇ Ａｌｌｒｏｕｎｄｅｒ型）で２４０〜２７０℃でポリマー成形体に加工し、Ｖ−０のＵＬ−９４分類を決定する。
【０２５３】
例３２
５３重量％のポリアミド６．６、３０重量％のガラス繊維、１７重量％のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）ホスフィン酸チタン塩（例２１と同様に製造）の混合物を二軸スクリュー押出機（Ｌｅｉｓｔｒｉｔｚ ＬＳＭ３０／３４型）で混ぜ合わせてポリマー成形材料にする。均一化されたポリマーストランドを引き抜き、水浴中で冷却し、続いてペレット化し。乾燥させた後で、成形材料を射出成形機（Ａａｒｂｕｒｇ Ａｌｌｒｏｕｎｄｅｒ型）で２６０〜２９０℃でポリマー成形体に加工し、Ｖ−０のＵＬ−９４分類を得る。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩の製造方法ならびにその使用に関する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００２】
現在まで、商業的および工業的に入手可能で、特に高い空時収量を可能にする、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩の製造方法が欠如している。同様に、出発物質として妨害性のハロゲン化合物を用いずに十分有効であり、その上、最終生成物が容易に取得もしくは単離できる、または所期の反応条件で（例えばエステル交換反応など）狙い通り望み通りに製造できる方法が欠如している。
【課題を解決するための手段】
【０００３】
この課題は、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩の製造方法によって解決され、この方法は、
ａ）ホスフィン酸源（Ｉ）
【０００４】
【化１】
を、オレフィン（ＩＶ）
【０００５】
【化２】
と、触媒Ａの存在下で反応させて、アルキル亜ホスホン酸、その塩またはエステル（ＩＩ）
【０００６】
【化３】
とし、
ｂ）そのようにして生じたアルキル亜ホスホン酸、その塩またはエステル（ＩＩ）を、式（Ｖ）
【０００７】
【化４】
のアセチレン性化合物と、触媒Ｂの存在下で反応させて、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩ）
【０００８】
【化５】
とし、
ｃ）そのようにして生じたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩ）を、一酸化炭素および水素と、触媒Ｃの存在下で反応させて、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩＩ）
【０００９】
【化６】
とし、
ｄ）そのようにして生じたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩＩ）を、還元剤と、または触媒Ｄの存在下で水素と反応させて、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＩＩＩ）
【００１０】
【化７】
とすることを特徴とする。上式で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は、同一かまたは異なり、互いに独立にＨ、Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アリール、Ｃ６〜Ｃ１８アラルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アルキル−アリール、ＣＮ、ＣＨＯ、ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＮ、ＣＨ（ＯＨ）Ｃ２Ｈ５、ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ３、９−アントラセン、２−ピロリドン、（ＣＨ２）ｍＯＨ、（ＣＨ２）ｍＮＨ２、（ＣＨ２）ｍＮＣＳ、（ＣＨ２）ｍＮＣ（Ｓ）ＮＨ２、（ＣＨ２）ｍＳＨ、（ＣＨ２）ｍＳ−２−チアゾリン、（ＣＨ２）ｍＳｉＭｅ３、Ｃ（Ｏ）Ｒ７、（ＣＨ２）ｍＣ（Ｏ）Ｒ７、ＣＨ＝ＣＨＲ７および／またはＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（Ｏ）Ｒ７を意味し、Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ８アルキルまたはＣ６〜Ｃ１８アリールを表し、ｍは、０〜１０の整数を意味し、Ｘは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アリール、Ｃ６〜Ｃ１８アラルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アルキル−アリール、（ＣＨ２）ｋＯＨ、ＣＨ２−ＣＨＯＨ−ＣＨ２ＯＨ、（ＣＨ２）ｋＯ（ＣＨ２）ｋＨ、（ＣＨ２）ｋ−ＣＨ（ＯＨ）−（ＣＨ２）ｋＨ、（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋＨ、（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）ｋＨ、（ＣＨ２Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）ｋ（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋＨ、（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋ（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）Ｈ、（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋ−アルキル、（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）ｋ−アルキル、（ＣＨ２Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）ｋ（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋ−アルキル、（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋ（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）Ｏ−アルキル、（ＣＨ２）ｋ −ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）ｋＨ、（ＣＨ２）ｋＮＨ２および／または（ＣＨ２）ｋＮ［（ＣＨ２）ｋＨ］２（ただし、ｋは、０〜１０の整数を意味する）および／またはＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｈおよび／またはプロトン化窒素塩基を表し、触媒Ａ、Ｂ、ＣおよびＤは、遷移金属および／または遷移金属化合物および／または触媒系であり、この触媒系は、遷移金属および／または遷移金属化合物と、少なくとも一つの配位子とから構成される。
【００１１】
好ましくは、ステップｄ）により得られたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩またはエステル（ＩＩＩ）を、続いてステップｅ）においてＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｒ、Ｍｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの金属化合物および／またはプロトン化窒素塩基と反応させて、これらの金属および／または窒素化合物の対応するモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩（ＩＩＩ）とする。
【００１２】
好ましくは、ステップａ）により得られたアルキル亜ホスホン酸、その塩もしくはエステル（ＩＩ）、および／またはステップｂ）により得られたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩もしくはエステル（ＶＩ）、および／またはステップｃ）により得られたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩もしくはエステル（ＶＩＩ）、および／またはステップｄ）により得られたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩もしくはエステル（ＩＩＩ）、および／またはそのときどきに結果として得られたその反応溶液を、アルキレンオキシドまたはアルコールＭ−ＯＨおよび／またはＭ’−ＯＨでエステル化し、そのときどきに生じたアルキル亜ホスホン酸エステル（ＩＩ）、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸エステル（ＶＩ）、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸エステル（ＶＩＩ）および／またはモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸エステル（ＩＩＩ）をさらなる反応ステップｂ）、ｃ）、ｄ）またはｅ）に供する。
【００１３】
好ましくは、基Ｃ６〜Ｃ１８アリール、Ｃ６〜Ｃ１８アラルキルおよびＣ６〜Ｃ１８アルキル−アリールは、ＳＯ３Ｘ２、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、ＯＨ、ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ３ＳＯ３Ｘ２、ＰＯ３Ｘ２、ＮＨ２、ＮＯ２、ＯＣＨ３、ＳＨおよび／またはＯＣ（Ｏ）ＣＨ３で置換されている。
【００１４】
好ましくは、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は、同一かまたは異なり、互いに独立に、Ｈ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチルおよび／またはフェニルを意味する。
【００１５】
好ましくは、Ｘは、Ｈ、Ｃａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｅ、Ｆｅ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、エチレングリコール、プロピルグリコール、ブチルグリコール、ペンチルグリコール、ヘキシルグリコール、アリルおよび／またはグリセリンを意味する。
【００１６】
好ましくは、ｍ＝１〜１０であり、ｋ＝２〜１０である。
【００１７】
好ましくは、それぞれの触媒系Ａ、Ｂ、ＣおよびＤは、それぞれ遷移金属および／または遷移金属化合物と、少なくとも一つの配位子との反応により形成される。
【００１８】
好ましくは、遷移金属および／または遷移金属化合物は、第７および第８亜族のものである。
好ましくは、遷移金属および／または遷移金属化合物は、ロジウム、ニッケル、パラジウム、ルテニウムおよび／またはコバルトである。
【００１９】
好ましくは、アセチレン性化合物（Ｖ）は、アセチレン、メチルアセチレン、１−ブチン、１−ヘキシン、２−ヘキシン、１−オクチン、４−オクチン、１−ブチン−４−オール、２−ブチン−１−オール、３−ブチン−１−オール、５−ヘキシン−１−オール、１−オクチン−３−オール、１−ペンチン、フェニルアセチレン、トリメチルシリルアセチレンである。
【００２０】
好ましくは、一般式Ｍ−ＯＨのアルコールは、Ｃ１〜Ｃ１８の炭素鎖長を有する直鎖または分岐の飽和および不飽和一価有機アルコールであり、一般式Ｍ’−ＯＨのアルコールは、Ｃ１〜Ｃ１８の炭素鎖長を有する直鎖または分岐の飽和および不飽和多価有機アルコールである。
【００２１】
本発明は、また、さらなる合成のための中間生成物としての、バインダーとしての、エポキシ樹脂、ポリウレタン、不飽和ポリエステル樹脂の硬化時の架橋剤または促進剤としての、ポリマー安定化剤としての、農薬としての、ヒトおよび動物用の治療薬または治療薬中の添加剤としての、金属イオン封鎖剤としての、鉱物油添加剤としての、腐食防止剤としての、洗剤および洗浄剤用途における、ならびに電子工学用途における、請求項１〜１０の一つまたは複数に従って製造されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩の使用に関する。
【００２２】
本発明は、同様に、難燃剤としての、特にクリアコートおよび発泡塗料（Ｉｎｔｕｍｅｓｚｅｎｓｂｅｓｃｈｉｃｈｔｕｎｇｅｎ）用の難燃剤、木材および他のセルロース含有製品用の難燃剤としての、ポリマー用の反応型および／もしく非反応型難燃剤としての、難燃性ポリマー成形材料の製造のための、難燃性ポリマー成形体の製造のための、ならびに／または含浸によるポリエステルおよびセルロース純紡および混紡織布の難燃性加工のための、請求項１〜１０の一つまたは複数に従って製造されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩およびエステル（ＩＩＩ）の使用に関する。
【００２３】
本発明は、また、請求項１〜１０の一つまたは複数に従って製造された０．５〜４５重量％のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩またはエステル（ＩＩＩ）、０．５〜９５重量％の熱可塑性もしくは熱硬化性ポリマーまたはその混合物、０〜５５重量％の添加剤、および０〜５５重量％の充填材または強化材を含有する、難燃性の熱可塑性または熱硬化性ポリマー成形材料に関し、その際、成分の合計は１００重量％である。
【００２４】
その上最後に、本発明は、請求項１〜１０の一つまたは複数に従って製造された０．５〜４５重量％のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩またはエステル（ＩＩＩ）、０．５〜９５重量％の熱可塑性もしくは熱硬化性ポリマーまたはその混合物、０〜５５重量％の添加剤、および０〜５５重量％の充填材または強化材を含有する、難燃性の熱可塑性または熱硬化性ポリマー成形体、−フィルム、−糸および−繊維に関し、その際、成分の合計は１００重量％である。
【００２５】
全ての前記反応は、段階的に実施することもでき、また、そのときどきに結果として得られた反応溶液を様々な工程ステップに使用することもできる。
【００２６】
ステップｄ）後のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＩＩＩ）がエステルを含む場合、遊離のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸またはその塩を得るために、好ましくは酸性または塩基性加水分解を実施することができる。
【００２７】
好ましくは、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸は、３−（エチルヒドロキシホスフィニル）−１−ヒドロキシプロパン、３−（プロピルヒドロキシホスフィニル）−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｉ−プロピルヒドロキシホスフィニル）−１−ヒドロキシプロパン、３−（ブチルヒドロキシホスフィニル）−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｓｅｃ−ブチルヒドロキシホスフィニル）−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｉ−ブチルヒドロキシホスフィニル）−１−ヒドロキシプロパン、３−（２−フェニルエチルヒドロキシホスフィニル）−１−ヒドロキシプロパン、３−（エチルヒドロキシホスフィニル）−２−メチル−１−ヒドロキシプロパン、３−（プロピルヒドロキシホスフィニル）−２−メチル−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｉ−プロピルヒドロキシホスフィニル）−２−メチル−１−ヒドロキシプロパン、３−（ブチルヒドロキシホスフィニル）−２−メチル−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｓｅｃ−ブチルヒドロキシホスフィニル）−２−メチル−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｉ−ブチルヒドロキシホスフィニル）−２−メチル−１−ヒドロキシプロパン、３−（２−フェニルエチルヒドロキシホスフィニル）−２−メチル−１−ヒドロキシプロパン、３−（エチルヒドロキシホスフィニル）−３−フェニル−１−ヒドロキシプロパン、３−（プロピルヒドロキシホスフィニル）−３−フェニル−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｉ−プロピルヒドロキシホスフィニル）−３−フェニル−１−ヒドロキシプロパン、３−（ブチルヒドロキシホスフィニル）−３−フェニル−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｓｅｃ−ブチルヒドロキシホスフィニル）−３−フェニル−１−ヒドロキシプロパン、３−（ｉ−ブチルヒドロキシホスフィニル）−３−フェニル−１−ヒドロキシプロパン、３−（２−フェニルエチルヒドロキシホスフィニル）−３−フェニル−１−ヒドロキシプロパンであり、エステルは、前記モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸のメチル−、エチル−；ｉ−プロピル−；ブチル−；フェニル−、２−ヒドロキシエチル−、２−ヒドロキシプロピル−、３−ヒドロキシプロピル−、４−ヒドロキシブチル−および／または２，３−ジヒドロキシプロピルエステルであり、塩は、前記モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸のアルミニウム（ＩＩＩ）−、カルシウム（ＩＩ）−、マグネシウム（ＩＩ）−、Ｃｅｒ（ＩＩＩ）−、Ｔｉ（ＩＶ）−および／または亜鉛（ＩＩ）塩である。
【００２８】
好ましくは、触媒Ａ用の遷移金属は、第７および第８亜族の元素（最近の命名法では、第７、第８、第９または第１０族の金属）、例えばレニウム、ルテニウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウムおよび白金である。
【００２９】
好ましくは、遷移金属源および遷移金属化合物源として、それらの金属塩が使用される。適切な塩は、陰イオンであるフッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、フッ素酸イオン、塩素酸イオン、臭素酸イオン、ヨウ素酸イオン、亜フッ素酸イオン、亜塩素酸イオン、亜臭素酸イオン、亜ヨウ素酸イオン、次亜フッ素酸イオン、次亜塩素酸イオン、次亜臭素酸イオン、次亜ヨウ素酸イオン、過フッ素酸イオン、過塩素酸イオン、過臭素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、シアン化物イオン、シアン酸イオン、硝酸イオン、窒化物イオン、亜硝酸イオン、酸化物イオン、水酸化物イオン、ホウ酸イオン、硫酸イオン、亜硫酸イオン、硫化物イオン、過硫酸イオン、チオ硫酸イオン、スルファミン酸イオン、リン酸イオン、亜リン酸イオン、次亜リン酸イオン、リン化物イオン、炭酸イオンおよびスルホン酸イオン、例えばメタンスルホン酸イオン、クロロスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、ナフチルスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、ｔ−ブチルスルホン酸イオン、２−ヒドロキシプロパンスルホン酸イオンおよびスルホン化されたイオン交換樹脂を含む鉱酸の塩；ならびに／または有機塩、例えばアセチルアセトナート、および炭素原子が２０個までのカルボン酸の塩、例えばギ酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、酪酸塩、シュウ酸塩、ステアリン酸塩およびクエン酸塩（炭素原子数が２０個までのハロゲン化カルボン酸の塩、例えばトリフルオロ酢酸塩、トリクロロ酢酸塩も含まれる）である。
【００３０】
さらなる遷移金属源および遷移金属化合物源は、遷移金属と、テトラフェニルホウ酸陰イオンおよびハロゲン化テトラフェニルホウ酸陰イオンとの、例えばペルフルオロフェニルホウ酸陰イオンとの塩を表す。
【００３１】
適切な塩には、一つまたは複数の遷移金属イオンと、互いに独立に、一つまたは複数のアルカリ金属−、アルカリ土類金属−、アンモニウム−、有機アンモニウム−、ホスホニウム−および有機ホスホニウムイオンと、互いに独立に、一つまたは複数の上記陰イオンとから成る複塩および錯塩も含まれる。適切な複塩は、例えばヘキサクロロパラジウム酸アンモニウムおよびテトラクロロパラジウム酸アンモニウムである。
【００３２】
好ましくは、遷移金属源は、元素としての遷移金属および／または０価状態の遷移金属化合物である。
【００３３】
好ましくは、遷移金属は、金属として用いられるか、またはさらなる金属との合金として使用され、ここで、ホウ素、ジルコニウム、タンタル、タングステン、レニウム、コバルト、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金および／または金が好ましい。その際、使用される合金中の遷移金属含量は、好ましくは４５〜９９．９５重量％である。
【００３４】
好ましくは、遷移金属は、微分散状態（粒径０．１ｍｍ〜１００μｍ）で使用される。
【００３５】
好ましくは、遷移金属は、金属酸化物上に、例えば酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化ニッケル、酸化バナジウム、酸化クロム、酸化マグネシウム、Ｃｅｌｉｔｅ（登録商標）、珪藻土上に、金属炭酸塩上に、例えば炭酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム上に、金属硫酸塩上に、例えば硫酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸ストロンチウム上に、金属リン酸塩上に、例えばリン酸アルミニウム、リン酸バナジウム上に、金属炭化物上に、例えば炭化ケイ素上に、金属アルミン酸塩上に、例えばアルミン酸カルシウム上に、金属ケイ酸塩上に、例えばケイ酸アルミニウム、白亜、ゼオライト、ベントナイト、モンモリロナイト、ヘクトライト上に、官能化ケイ酸塩、官能化シリカゲル、例えばＳｉｌｉａＢｏｎｄ（登録商標）、ＱｕａｄｒａＳｉｌ（商標）上に、官能化ポリシロキサン、例えばＤｅｌｏｘａｎ（登録商標）上に、金属窒化物上に、炭、活性炭、ムライト、ボーキサイト、アンチモナイト、灰重石、ペロブスカイト、ヒドロタルサイト、ヘテロポリ陰イオン上に、官能化および非官能化セルロース上に、キトサン、ケラチン、ヘテロポリ陰イオン上に、イオン交換樹脂、例えばＡｍｂｅｒｌｉｔｅ（商標）、Ａｍｂｅｒｊｅｔ（商標）、Ａｍｂｅｒｓｅｐ（商標）、Ｄｏｗｅｘ（登録商標）、Ｌｅｗａｔｉｔ（登録商標）、ＳｃａｖＮｅｔ（登録商標）上に、官能化ポリマー、例えばＣｈｅｌｅｘ（登録商標）、ＱｕａｄｒａＰｕｒｅ（商標）、Ｓｍｏｐｅｘ（登録商標）、ＰｏｌｙＯｒｇｓ（登録商標）上に、ポリマー結合型ホスファン、ホスファンオキシド、ホスフィン酸塩、ホスホン酸塩、リン酸塩、アミン、アンモニウム塩、アミド、チオアミド、尿素、チオ尿素、トリアジン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、チオール、チオールエーテル、チオールエステル、アルコール、アルコキシド、エーテル、エステル、カルボン酸、アセテート、アセタール、ペプチド、ヘタレン、ポリエチレンイミン／二酸化ケイ素および／またはデンドリマー上に担持させて使用される。
【００３６】
適切な金属塩源および／または遷移金属源は、好ましくはまた、それらの錯体化合物である。金属塩および／または遷移金属の錯体化合物は、金属塩または遷移金属と、一つまたは複数の錯化剤とから構成される。適切な錯化剤は、例えばオレフィン、ジオレフィン、ニトリル、ジニトリル、一酸化炭素、ホスフィン、ジホスフィン、亜リン酸エステル、ジ亜リン酸エステル、ジベンジリデンアセトン、シクロペンタジエニル、インデニルまたはスチレンである。適切な金属塩および／または遷移金属の錯体化合物は、上記担体物質に担持させることができる。
【００３７】
好ましくは、挙げられた、担持された遷移金属の含量は、担体物質の全質量に対して０．０１〜２０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％、特に０．２〜５重量％である。
【００３８】
適切な遷移金属源および遷移金属化合物源は、例えば、パラジウム、白金、ニッケル、ロジウム；アルミナ、シリカ、炭酸バリウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭および／または活性炭上のパラジウム、白金、ニッケルまたはロジウム；白金−パラジウム−金、アルミニウム−ニッケル、鉄−ニッケル、ランタノイド−ニッケル、ジルコニウム−ニッケル、白金−イリジウム、白金−ロジウム合金；Ｒａｎｅｙ（登録商標）ニッケル、ニッケル−亜鉛−鉄−酸化物；パラジウム（ＩＩ）、ニッケル（ＩＩ）、白金（ＩＩ）、および／またはロジウムの塩化物、臭化物、ヨウ化物、フッ化物、水素化物、酸化物、過酸化物、シアン化物、硫酸塩、硝酸塩、リン化物、ホウ化物、クロム酸化物、コバルト酸化物、炭酸水酸化物、シクロヘキサン酪酸塩、水酸化物、モリブデン酸塩、オクタン酸塩、シュウ酸塩、過塩素酸塩、フタロシアニン、５，９，１４，１８，２３，２７，３２，３６−オクタブトキシ−２，３−ナフタロシアニン、スルファミン酸塩、過塩素酸塩、チオシアン酸塩、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオン酸）塩、プロピオン酸塩、酢酸塩、ステアリン酸塩、２−エチルヘキサン酸塩、アセチルアセトナート、ヘキサフルオロアセチルアセトナート、テトラフルオロホウ酸塩、チオ硫酸塩、トリフルオロ酢酸塩、フタロシアニンテトラスルホン酸四ナトリウム塩、メチル、シクロペンタジエニル、メチルシクロペンタジエニル、エチルシクロペンタジエニル、ペンタメチルシクロペンタジエニル、２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−オクタエチル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン、５，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン、ビス（５−［［４−（ジメチルアミノ）フェニル］イミノ］−８（５Ｈ）−キノリノン）、２，１１，２０，２９−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，３−ナフタロシアニン、２，９，１６，２３−テトラフェノキシ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニン、５，１０，１５，２０−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン、ならびにそれらの１，４−ビス（ジフェニルホスフィン）ブタン−、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン−、２−（２’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）ビフェニル−、アセトニトリル−、ベンゾニトリル−、エチレンジアミン−、クロロホルム−、１，２−ビス（フェニルスルフィニル）エタン−、１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾリデン）（３−クロロピリジル）−、２’−（ジメチルアミノ）−２−ビフェニリル−、ジノルボルニルホスフィン−、２−（ジメチルアミノ−メチル）フェロセン−、アリル−、ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン−、（Ｎ−スクシンイミジル）ビス−（トリフェニル−ホスフィン）−、ジメチルフェニルホスフィン−、メチルジフェニルホスフィン−、１，１０−フェナントロリン−、１，５−シクロオクタジエン−、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン−、トリフェニルホスフィン−、トリ−ｏ−トリルホスフィン−、トリシクロヘキシルホスフィン−、トリブチルホスフィン−、トリエチルホスフィン−、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル−、１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾル−２−イリデン−、１，３−ビス（メシチル）イミダゾル−２−イリデン−、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン−、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン−、Ｎ−メチルイミダゾール−、２，２’−ビピリジン−、（ビシクロ［２．２．１］−ヘプタ−２，５−ジエン）−、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）−、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルイソシアニド）−、２−メトキシエチルエーテル−、エチレングリコールジメチルエーテル−、１，２−ジメトキシエタン−、ビス（１，３−ジアミノ−２−プロパノール）−、ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルエチレンジアミン）−、１，２−ジアミノシクロヘキサン−、ピリジン−、２，２’：６’，２”−テルピリジン−、ジエチルスルフィド−、エチレン−、アミン錯体；カリウム、ナトリウム、アンモニウムのヘキサクロロパラジウム（ＩＶ）酸塩、カリウム、ナトリウム、アンモニウムのテトラクロロパラジウム（ＩＩ）酸塩、ブロモ（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（Ｉ）二量体、（２−メチル−アリル）パラジウム（ＩＩ）クロリド二量体、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）、トリス（ジ−ベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、テトラキス−（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（０）、ビス［１，２−ビス（ジフェニルホスフィン）エタン］−パラジウム（０）、ビス（３，５，３’，５’−ジメトキシジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）、メソ−テトラフェニルテトラベンゾポルフィンパラジウム、テトラキス（メチルジフェニルホスフィン）パラジウム（０）、トリス（３，３’，３”−ホスフィニジン（ｐｈｏｐｈｉｎｉｄｙｎ）−トリス（ベンゼンスルホナト）パラジウム（０）九ナトリウム塩、１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−イミダゾル−２−イリデン（１，４−ナフトキノン）パラジウム（０）、１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）−イミダゾル−２−イリデン（１，４−ナフトキノン）パラジウム（０）、およびそれらのクロロホルム錯体；アリルニッケル（ＩＩ）クロリド二量体、硫酸ニッケル（ＩＩ）アンモニウム、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）、ビス（トリフェニルホスフィン）ジカルボニルニッケル（０）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（０）、テトラキス（亜リン酸トリフェニル）ニッケル（０）、ヘキサフルオロニッケル（ＩＶ）酸カリウム、テトラシアノニッケル（ＩＩ）酸カリウム、ニッケル（ＩＶ）パラ過ヨウ素酸カリウム、テトラブロモニッケル（ＩＩ）酸二リチウム、テトラシアノニッケル（ＩＩ）酸カリウム；塩化白金（ＩＶ）、酸化白金（ＩＶ）、硫化白金（ＩＶ）、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）酸カリウム、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）酸ナトリウム、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）酸アンモニウム、テトラクロロ白金（ＩＩ）酸カリウム、テトラクロロ白金（ＩＩ）酸アンモニウム、テトラシアノ白金（ＩＩ）酸カリウム、トリメチル（メチルシクロペンタジエニル）白金（ＩＶ）、シス−ジアンミンテトラクロロ白金（ＩＶ）、トリクロロ（エチレン）白金（ＩＩ）酸カリウム、ヘキサヒドロキシ白金（ＩＶ）酸ナトリウム、テトラアミン白金（ＩＩ）テトラクロロ白金（ＩＩ）酸、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）酸テトラブチルアンモニウム、エチレンビス（トリフェニルホスフィン）白金（０）、白金（０）−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、白金（０）−２，４，６，８−テトラメチル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン、テトラキス（トリフェニル−ホスフィン）白金（０）、白金オクタエチルポルフィリン、クロロ白金酸、カルボプラチン；クロロビス（エチレン）ロジウム二量体、ヘキサロジウムヘキサデカカルボニル、クロロ（１，５−シクロオクタジエン）ロジウム二量体、クロロ（ノルボマジエン（ｎｏｒｂｏｍａｄｉｅｎ））−ロジウム二量体、クロロ（１，５−ヘキサジエン）ロジウム二量体である。
【００３９】
好ましくは、配位子は、式（ＶＩＩＩ）のホスフィンである。
ＰＲ８３ （ＶＩＩＩ）
式中、基Ｒ８は、互いに独立に、水素、直鎖、分岐もしくは環状のＣ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ１〜Ｃ２０アルキルアリール、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル、Ｃ１〜Ｃ２０カルボキシラート、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、Ｃ１〜Ｃ２０アルキニルオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０アルコキシ−カルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ２０アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ２０アルキルスルフィニル、シリルおよび／もしくはその誘導体ならびに／または少なくとも一つのＲ９で置換されたフェニルまたは少なくとも一つのＲ９で置換されたナフチルを表す。Ｒ９は、互いに独立に、水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ＮＨ２、ニトロ、ヒドロキシ、シアノ、ホルミル、直鎖、分岐もしくは環状のＣ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ、ＨＮ（Ｃ１〜Ｃ２０アルキル）、Ｎ（Ｃ１〜Ｃ２０アルキル）２、−ＣＯ２−（Ｃ１〜Ｃ２０アルキル）、−ＣＯＮ（Ｃ１〜Ｃ２０アルキル）２、−ＯＣＯ（Ｃ１〜Ｃ２０アルキル）、ＮＨＣＯ（Ｃ１〜Ｃ２０アルキル）、Ｃ１〜Ｃ２０アシル、−ＳＯ３Ｍ、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ１０）Ｍ、−ＣＯ２Ｍ、−ＰＯ３Ｍ２、−ＡｓＯ３Ｍ２、−ＳｉＯ２Ｍ、−Ｃ（ＣＦ３）２ＯＭ（Ｍ＝Ｈ、Ｌｉ、ＮａまたはＫ）であり、Ｒ１０は、水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、直鎖、分岐もしくは環状のＣ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル、Ｃ１〜Ｃ２０カルボキシラート、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ２０アルケニルオキシ、Ｃ１〜Ｃ２０アルキニルオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ２０アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ２０アルキルスルフィニル、シリルおよび／もしくはその誘導体、アリール、Ｃ１〜Ｃ２０アリールアルキル、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル−アリール、フェニルならびに／またはビフェニルを意味する。好ましくは、基Ｒ８は全て同一である。
【００４０】
適切なホスフィン（ＶＩＩＩ）は、例えば、トリメチル−、トリエチル−、トリプロピル−、トリイソプロピル−、トリブチル−、トリイソブチル−、トリイソペンチル−、トリヘキシル−、トリシクロヘキシル−、トリオクチル−、トリデシル−、トリフェニル−、ジフェニルメチル−、フェニルジメチル−、トリ（ｏ−トリル）−、トリ（ｐ−トリル）−、エチルジフェニル−、ジシクロヘキシルフェニル−、２−ピリジルジフェニル−、ビス（６−メチル−２ピリジル）−フェニル−、トリ−（ｐ−クロロフェニル）−、トリ−（ｐ−メトキシフェニル）−、ジフェニル（２−スルホナトフェニル）ホスフィン；ジフェニル（３−スルホナトフェニル）ホスフィン、ビス（４，６−ジメチル−３−スルホナトフェニル）（２，４−ジメチルフェニル）ホスフィン、ビス（３−スルホナト−フェニル）フェニルホスフィン、トリス（４，６−ジメチル−３−スルホナトフェニル）ホスフィン、トリス（２−スルホナトフェニル）ホスフィン、トリス（３−スルホナトフェニル）ホスフィンのカリウム、ナトリウムおよびアンモニウム塩；２−ビス（ジフェニルホスフィノエチル）トリメチル−アンモニウムヨージド、２’−ジシクロヘキシルホスフィノ−２，６−ジメトキシ−３−スルホナト−１，１’−ビフェニルナトリウム塩、亜リン酸トリメチルおよび／または亜リン酸トリフェニルである。
【００４１】
特に好ましくは、配位子は、下記一般式の二座配位子である。
Ｒ８２Ｍ”−Ｚ−Ｍ”Ｒ８２ （ＩＸ）
式中、Ｍ”は、互いに独立に、Ｎ、Ｐ、ＡｓまたはＳｂを表す。好ましくは、両方のＭ”は同一であり、特に好ましくは、Ｍ”はリン原子を表す。それぞれの基Ｒ８は、互いに独立に、式（ＶＩＩＩ）に記載された基を表す。特に、基Ｒ８は全て同一である。Ｚは、好ましくは、少なくとも１個の架橋原子を含む二価架橋基であり、この架橋基は、好ましくは２〜６個の架橋原子を含んでいる。
【００４２】
架橋原子は、Ｃ、Ｎ、Ｏ、ＳｉおよびＳ原子から選択することができる。好ましくは、Ｚは、少なくとも１個の炭素原子を含む有機架橋基である。好ましくは、Ｚは、１〜６個の架橋原子を含む有機架橋基であり、架橋原子のうち少なくとも２個は、非置換でも、置換されていてもよい炭素原子である。
【００４３】
好ましい基Ｚは、−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ３）２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｃ（Ｃ２Ｈ５）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ（ｎ−Ｐｒ）−ＣＨ、−ＣＨ２−ＣＨ（ｎ−Ｂｕ）−ＣＨ２−、非置換または置換された１，２−フェニル−、１，２−シクロヘキシル−、１，１’−または１，２−フェロセニル基、２，２’−（１，１’−ビフェニル）−、４，５−キサンテン−および／またはオキシジ−２，１−フェニレン基である。
【００４４】
適切な二座ホスフィン配位子（ＩＸ）は、例えば１，２−ビス（ジメチル−）、１，２−ビス（ジエチル−）、１，２−ビス（ジプロピル−）、１，２−ビス（ジイソプロピル−）、１，２−ビス（ジブチル−）、１，２−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−）、１，２−ビス（ジシクロヘキシル−）および１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン；１，３−ビス（ジシクロ−ヘキシル−）、１，３−ビス（ジイソプロピル−）、１，３−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−）および１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）−プロパン；１，４−ビス−（ジイソプロピル−）および１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン；１，５−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）ペンタン；１，２−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−）、１，２−ビス（ジ−フェニル−）、１，２−ビス（ジ−シクロヘキシル−）、１，２−ビス（ジシクロ−ペンチル−）、１，３−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−）、１，３−ビス（ジフェニル−）、１，３ビス（ジ−シクロヘキシル−）および１，３−ビス（ジシクロペンチルホスフィノ）ベンゼン；９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）キサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルキサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）キサンテン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−フェロセン、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス（ジフェニルホスフィン）、２，５−（ジ−イソプロピルホスホラノ）ベンゼン、２，３−Ｏ−イソプロプロピリデン（Ｉｓｏｐｒｏｐｒｏｐｙｌｉｄｅｎ）−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、２，２’−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビフェニル、２−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、２−（ジフェニルホスフィノ）−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、２−（ジフェニルホスフィノ）エチル−アミン、２−［２−（ジフェニルホスフィノ）エチル］ピリジン；１，２−ビス（ジ−４−スルホナトフェニルホスフィノ）−ベンゼン、（２，２’−ビス［［ビス（３−スルホナトフェニル）ホスフィノ］メチル］−４，４’，７，７’−テトラスルホナト−１，１’−ビナフチル、（２，２’−ビス［［ビス（３−スルホナトフェニル）ホスフィノ］メチル］−５，５’−テトラスルホナト−１，１’−ビフェニル、（２，２’−ビス［［ビス（３−スルホナトフェニル）ホスフィノ］メチル］−１，１’−ビナフチル、（２，２’−ビス［［ビス（３−スルホナトフェニル）ホスフィノ］−メチル］−１，１’−ビフェニル、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２，７−スルホナトキサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）−２，７−スルホナトキサンテン、１，２−ビス（ジ−４−スルホナトフェニルホスフィノ）−ベンゼン、メソ−テトラキス（４−スルホナトフェニル）ポルフィン、メソ−テトラキス（２，６−ジクロロ−３−スルホナトフェニル）ポルフィン、メソ−テトラキス（３−スルホナトメシチル）ポルフィン、テトラキス（４−カルボキシフェニル）ポルフィンおよび５，１１，１７，２３−スルホナト−２５，２６，２７，２８−テトラヒドロキシカリクス［４］アレンのカリウム、ナトリウムおよびアンモニウム塩である。
【００４５】
加えて、式（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）の配位子は、基Ｒ８および／または架橋基によって適切なポリマーまたは無機支持体に結合していてもよい。
【００４６】
触媒系は、１：０．０１〜１：１００、好ましくは１：０．０５〜１：１０、特に１：１〜１：４の遷移金属：配位子のモル比を有する。
【００４７】
好ましくは、反応は、工程段階ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）およびｅ）において任意選択で例えば窒素、酸素、アルゴン、二酸化炭素のようなさらなる気体成分を含有する雰囲気中で行われ、温度は−２０〜３４０℃、特に２０〜１８０℃であり、総圧は１〜１００ｂａｒである。
【００４８】
工程段階ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）およびｅ）による生成物および／または遷移金属および／または遷移金属化合物および／または触媒系および／または配位子および／または出発物質の単離は、任意選択で、蒸留または精留によって、結晶化または沈殿によって、濾過または遠心分離によって、吸着またはクロマトグラフィーまたは他の公知の方法によって行われる。
【００４９】
本発明によると、溶媒、助剤および場合により他の揮発性成分は、例えば蒸留、濾過および／または抽出によって分離される。
【００５０】
好ましくは、工程段階ａ）、ｂ）、ｃ）、ｄ）およびｅ）における反応は、任意選択で吸収塔、スプレー塔、気泡塔、撹拌タンク、散水ろ床反応器、フローチューブ、ループ型反応器および／または捏和機中で行われる。
【００５１】
適切な混合装置は、例えばアンカー型撹拌機、パドル型撹拌機、ＭＩＧ撹拌機、プロペラ型撹拌機、インペラ式撹拌機、タービン型撹拌機、クロス撹拌機（Ｋｒｅｕｚ−Ｒｕｅｈｒｅｒ）、分散ディスク、キャビテーション（ガス化）撹拌機（Ｈｏｈｌ−（Ｂｅｇａｓｕｎｇｓ−）−Ｒｕｅｈｒｅｒ）、ローター−ステーター−ミキサー、スタティックミキサー、ベンチュリーノズルおよび／またはエアリフトポンプである。
【００５２】
その際に好ましくは、反応溶液／混合物は、１〜１００００００、好ましくは１００〜１０００００の回転レイノルズ数に相当する混合強度に供される。好ましくは、それぞれの反応パートナーなどの激しい混合は、０．０８０〜１０ｋＷ／ｍ３、好ましくは０．３０〜１．６５ｋＷ／ｍ３のエネルギー投入量で行われる。
【００５３】
好ましくは、反応中にそれぞれの触媒Ａ、Ｂ、ＣまたはＤは、均一系および／または不均一系で働く。したがって、それぞれ不均一系で働く触媒は、反応中に懸濁物として、または固相に結合して働く。
【００５４】
好ましくは、それぞれの触媒Ａ、Ｂ、ＣまたはＤは、反応前および／または反応開始時および／または反応中にその場で（ｉｎ ｓｉｔｕ）生成される。
【００５５】
好ましくは、それぞれの反応は、均一もしくは不均一混合物中の一相系として溶媒中で、および／または気相中で行われる。
【００５６】
多相系を用いる場合、相間移動触媒を追加的に使用することができる。
【００５７】
本発明による反応は、液相中、気相中、または超臨界相中でも実施することができる。その際に、それぞれの触媒Ａ、Ｂ、ＣまたはＤは、液体の場合には好ましくは均一系で、または懸濁物として使用され、気相または超臨界運転様式の間では、固定床配置が有利である。
【００５８】
適切な溶媒は、水、アルコール、例えばメタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−アミルアルコール、ｉ−アミルアルコール、ｔ−アミルアルコール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、ｎ−トリデカノール、ベンジルアルコールなどである。さらに、グリコール、例えばエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコールなど；脂肪族炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、および石油エーテル、石油ベンジン、ケロシン、石油、パラフィン油など；芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼンなど；ハロゲン炭化水素、例えば塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、四塩化炭素、テトラブロモエチレンなど；脂環式炭化水素、例えばシクロペンタン、シクロヘキサンおよびメチルシクロヘキサンなど；エーテル、例えばアニソール（メチルフェニルエーテル）、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジベンジルエーテル、ジエチルエーテル、ジオキサン、ジフェニルエーテル、メチルビニルエーテル、テトラヒドロフラン、トリイソプロピルエーテルなど；グリコールエーテル、例えばジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグリム）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥモノグリム）、エチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル（トリグリム）、トリエチレングリコールモノメチルエーテルなど；ケトン、例えばアセトン、ジイソブチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトンなど；メチルエチルケトン、メチル−ｉ−ブチルケトンなど；エステル、例えばギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピルおよび酢酸ｎ−ブチルなど；カルボン酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸などの単独または組合せが好ましい。
【００５９】
使用されたオレフィンおよびホスフィン酸源もまた、適切な溶媒である。これらは、高い空時収量という利点を与える。
【００６０】
好ましくは、反応は、オレフィンおよび／または溶媒の固有蒸気圧の下で実施される。
【００６１】
好ましくは、オレフィン（ＩＶ）のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、同一かまたは異なり、互いに独立に、Ｈ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチルおよび／またはフェニルを意味する。
【００６２】
好ましくは、イソチオシアン酸アリル、メタクリル酸アリル、２−アリルフェノール、Ｎ−アリルチオ尿素、２−（アリルチオ）−２−チアゾリン、アリルトリメチルシラン、酢酸アリル、アセト酢酸アリル、アリルアルコール、アリルアミン、アリルベンゼン、アリルシアニド、シアノ酢酸アリル、アリルアニソール、トランス−２−ペンテナール、シス−２−ペンテンニトリル、１−ペンテン−３−オール、４−ペンテン−１−オール、４−ペンテン−２−オール、トランス−２−ヘキセナール、トランス−２−ヘキセン−１−オール、シス−３−ヘキセン−１−オール、５−ヘキセン−１−オール、スチレン、メチルスチレン、４−メチルスチレン、酢酸ビニル、９−ビニルアントラセン、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジンおよび１−ビニル−２−ピロリドンなどの官能化オレフィンも使用される。
【００６３】
好ましくは、反応は、０．０１〜１００ｂａｒのオレフィン分圧で、特に好ましくは０．１〜１０ｂａｒのオレフィン分圧で行われる。
【００６４】
好ましくは、反応は、１：１００００〜１：０．００１のホスフィン酸：オレフィンのモル比で、特に好ましくは１：３０〜１：０．０１の比で行われる。
【００６５】
好ましくは、１：１〜１：０．０００００００１、特に好ましくは１：０．０１〜１：０．０００００１のホスフィン酸：触媒のモル比で行われる。
【００６６】
好ましくは、反応は、１：１００００〜１：０、特に好ましくは１：５０〜１：１のホスフィン酸：溶媒のモル比で行われる。
【００６７】
式（ＩＩ）の化合物を製造するための本発明の方法は、ホスフィン酸源を触媒の存在下でオレフィンと反応させ、生成物（ＩＩ）（アルキル亜ホスホン酸、その塩またはエステル）から触媒、遷移金属または遷移金属化合物、配位子、錯化剤、塩および副生成物を除去することを特徴とする。
【００６８】
本発明によると、触媒、触媒系、遷移金属および／または遷移金属化合物は、助剤１の添加、ならびに抽出および／または濾過による触媒、触媒系、遷移金属および／または遷移金属化合物の除去によって分離される。
【００６９】
本発明によると、配位子および／または錯化剤は、助剤２を用いた抽出および／または助剤２を用いた蒸留により分離される。
【００７０】
助剤１は、好ましくは、水および／または金属捕捉剤（金属捕集剤：Ｍｅｔａｌ Ｓｃａｖｅｎｇｅｒ）の群の少なくとも一つのメンバーである。好ましい金属捕捉剤は、金属酸化物、例えば酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化ニッケル、酸化バナジウム、酸化クロム、酸化マグネシウム、Ｃｅｌｉｔｅ（登録商標）、珪藻土；例えば炭酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウムのような金属炭酸塩；金属硫酸塩、例えば硫酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸ストロンチウム；金属リン酸塩、例えばリン酸アルミニウム、リン酸バナジウム；金属炭化物、例えば炭化ケイ素；金属アルミン酸塩、例えばアルミン酸カルシウム；金属ケイ酸塩、例えばケイ酸アルミニウム、白亜、ゼオライト、ベントナイト、モンモリロナイト、ヘクトライト；官能化ケイ酸塩、官能化シリカゲル、例えばＳｉｌｉａＢｏｎｄ（登録商標）、ＱｕａｄｒａＳｉｌ（商標）；官能化ポリシロキサン、例えばＤｅｌｏｘａｎ（登録商標）；金属窒化物、炭、活性炭、ムライト、ボーキサイト、アンチモナイト、灰重石、ペロフスカイト、ヒドロタルサイト、官能化および非官能化セルロース、キトサン、ケラチン、ヘテロポリアニオン、イオン交換体、例えばＡｍｂｅｒｌｉｔｅ（商標）、Ａｍｂｅｒｊｅｔ（商標）、Ａｍｂｅｒｓｅｐ（商標）、Ｄｏｗｅｘ（登録商標）、Ｌｅｗａｔｉｔ（登録商標）、ＳｃａｖＮｅｔ（登録商標）；官能化ポリマー、例えばＣｈｅｌｅｘ（登録商標）、ＱｕａｄｒａＰｕｒｅ（商標）、Ｓｍｏｐｅｘ（登録商標）、ＰｏｌｙＯｒｇｓ（登録商標）；ポリマー結合型ホスファン、ホスファンオキシド、ホスフィン酸塩、ホスホン酸塩、リン酸塩、アミン、アンモニウム塩、アミド、チオアミド、尿素、チオ尿素、トリアジン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、チオール、チオールエーテル、チオールエステル、アルコール、アルコキシド、エーテル、エステル、カルボン酸、アセテート、アセタール、ペプチド、ヘタレン、ポリエチレンイミン／二酸化ケイ素および／またはデンドリマーである。
【００７１】
好ましくは、助剤１は、助剤１に対して０．１〜４０重量％の金属負荷に対応する量で添加される。
【００７２】
好ましくは、助剤１は、２０〜９０℃の温度で使用される。
【００７３】
好ましくは、助剤１の滞留時間は、０．５〜３６０分である。
【００７４】
助剤２は、好ましくは工程段階ａ）で使用されるような本発明による前記溶媒であることが好ましい。
【００７５】
モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＩＩＩ）またはモノ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＶＩＩ）またはモノ官能ジアルキルホスフィン酸（ＶＩ）または、アルキル亜ホスホン酸誘導体（ＩＩ）、およびホスフィン酸源（Ｉ）から対応するエステルへのエステル化は、例えば生成した水を共沸蒸留によって取り除きながら高沸点アルコールと反応させることによって、またはエポキシド（アルキレンオキシド）と反応させることによって達成することができる。
【００７６】
その際、好ましくは、ステップａ）に従って、アルキル亜ホスホン酸（ＩＩ）は、一般式Ｍ−ＯＨおよび／もしくはＭ’−ＯＨのアルコールで直接エステル化されるか、または下記のようにアルキレンオキシドとの反応によって直接エステル化される。
【００７７】
好ましくは、Ｍ−ＯＨは、Ｃ１〜Ｃ１８の炭素鎖長を有する第一級、第二級または第三級アルコールである。特に好ましいのは、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アミルアルコールおよび／またはヘキサノールである。
【００７８】
好ましくは、Ｍ’−ＯＨは、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、トリスヒドロキシメチルエタン、トリスヒドロキシメチルプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、α−ナフトール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールおよび／またはＥＯ−ＰＯ−ブロックポリマーである。
【００７９】
Ｍ−ＯＨおよびＭ’−ＯＨとして、一価または多価不飽和Ｃ１〜Ｃ１８アルコール、例えばｎ−ブテン−２−オール−１、１，４−ブテンジオールおよびアリルアルコールも適切である。
【００８０】
Ｍ−ＯＨおよびＭ’−ＯＨとして、一価アルコールと、一つまたは複数分子のアルキレンオキシドとの、好ましくはエチレンオキシドおよび／または１，２−プロピレンオキシドとの反応生成物もまた適切である。好ましいのは、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ｎ−ブトキシエタノール、２−（２’−エチルヘキシルオキシ）−エタノール、２−ｎ−ドデコキシエタノール、メチルジグリコール、エチルジグリコール、イソプロピルジグリコール、脂肪アルコールポリグリコールエーテルおよびアリールポリグリコールエーテルである。
【００８１】
好ましくは、Ｍ−ＯＨおよびＭ’−ＯＨは、また、多価アルコールと、アルキレンオキシド分子一個または複数個との、好ましくはジグリコールおよびトリグリコールとの反応生成物、およびグリセリン、トリスヒドロキシメチルプロパンまたはペンタエリスリトールへの１〜６分子のエチレンオキシドまたはプロピレンオキシドの付加物である。
【００８２】
Ｍ−ＯＨおよびＭ’−ＯＨとして、水と、アルキレンオキシド分子一個または複数個との反応生成物も使用することができる。１００〜１０００ｇ／ｍｏｌ、特に好ましくは１５０〜３５０ｇ／ｍｏｌの平均グラム分子量を有する、様々な分子の大きさのポリエチレングリコールおよびポリ−１，２−プロピレングリコールが好ましい。
【００８３】
Ｍ−ＯＨおよびＭ’−ＯＨとして、エチレンオキシドと、ポリ−１，２−プロピレングリコールまたは脂肪アルコールプロピレングリコールとの反応生成物；同じく１，２−プロピレンオキシドと、ポリエチレングリコールまたは脂肪アルコールエトキシラートとの反応生成物も好ましい。１００〜１０００ｇ／ｍｏｌ、特に好ましくは１５０〜４５０ｇ／ｍｏｌの平均グラム分子量を有するそのような反応生成物が好ましい。
【００８４】
Ｍ−ＯＨおよびＭ’−ＯＨとして、アルキレンオキシドと、アンモニア、第一級または第二級アミン、硫化水素、メルカプタン、リン酸素酸およびＣ２〜Ｃ６−ジカルボン酸との反応生成物も使用可能である。エチレンオキシドと窒素化合物との適切な反応生成物は、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、ｎ−ブチルジエタノールアミン、ｎ−ドデシルジエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、ｎ−ブチルメチルエタノールアミン、ジ−ｎ−ブチルエタノールアミン、ｎ−ドデシルメチルエタノールアミン、テトラヒドロキシエチルエチレンジアミンまたはペンタヒドロキシエチルジエチレントリアミンである。
【００８５】
好ましいアルキレンオキシドは、エチレンオキシド、１，２−プロピレンオキシド、１，２−エポキシブタン、１，２−エポキシエチルベンゼン、（２，３−エポキシプロピル）ベンゼン、２，３−エポキシ−１−プロパノールおよび３，４−エポキシ−１−ブテンである。
【００８６】
適切な溶媒は、工程段階ａ）に挙げられた溶媒、および使用されたアルコールＭ−ＯＨ、Ｍ’−ＯＨおよびアルキレンオキシドである。これは、高い空時収量という利点を与える。
【００８７】
好ましくは、反応は、使用されるアルコールＭ−ＯＨ、Ｍ’−ＯＨおよびアルキレンオキシドならびに／または溶媒の固有蒸気圧で実施される。
【００８８】
好ましくは、反応は、使用されるアルコールＭ−ＯＨ、Ｍ’−ＯＨおよびアルキレンオキシドの分圧０．０１〜１００ｂａｒで、特に好ましくはアルコールの分圧０．１〜１０ｂａｒで行われる。
【００８９】
好ましくは、反応は、−２０〜３４０℃の温度、特に好ましくは２０〜１８０℃の温度で実施される。
【００９０】
好ましくは、反応は、１〜１００ｂａｒの総圧で行われる。
【００９１】
好ましくは、反応は、１００００：１〜０．００１：１、特に好ましくは１０００：１〜０．０１：１の比のアルコール成分またはアルキレンオキシド成分：ホスフィン酸源（Ｉ）またはアルキル亜ホスホン酸（ＩＩ）またはモノ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＶＩＩ）またはモノ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＶＩ）またはモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＩＩＩ）のモル比で行われる。
【００９２】
好ましくは、反応は、１：１００００〜１：０のホスフィン酸源（Ｉ）またはアルキルホスホン酸（ＩＩ）またはモノ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＶＩＩ）またはモノ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＶＩ）またはモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＩＩＩ）：溶媒のモル比で、特に好ましくは１：５０〜１：１のホスフィン酸：溶媒のモル比で行われる。
【００９３】
工程ステップｂ）に関して、アルキル亜ホスホン酸、その塩またはエステル（ＩＩ）をアセチレン化合物（Ｖ）と反応させてモノ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩およびエステル（ＶＩ）とするために使用されるような触媒Ｂは、好ましくは触媒Ａでありうる。
【００９４】
好ましくは、式（Ｖ）のアセチレン化合物において、Ｒ５およびＲ６は、互いに独立に、Ｈおよび／またはＣ１〜Ｃ６アルキル−、Ｃ６〜Ｃ１８アリール−および／またはＣ７〜Ｃ２０アルキルアリール（場合により置換されている）を意味する。
【００９５】
好ましくは、Ｒ５およびＲ６は、Ｈ、メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｉ−ヘキシル、フェニル、ナフチル、トリル、２−フェニルエチル、１−フェニルエチル、３−フェニル−プロピルおよび／または２−フェニルプロピルを意味する。
【００９６】
好ましくは、アセチレン化合物として、アセチレン、メチルアセチレン、１−ブチン、１−ヘキシン、２−ヘキシン、１−オクチン、４−オクチン、１−ブチン−４−オール、２−ブチン−１−オール、３−ブチン−１−オール、５−ヘキシン−１−オール、１−オクチン−３−オール、１−ペンチン、フェニルアセチレンおよび／またはトリメチルシリルアセチレンが使用される。
【００９７】
好ましくは、反応は、式（Ｘ）
【００９８】
【化８】
［式中、Ｒ１１およびＲ１２は、互いに独立に、場合により置換されているＣ２〜Ｃ２０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アリールまたはＣ８〜Ｃ２０アルカリールを意味する］のホスフィン酸の存在下で実施される。
【００９９】
好ましくは、Ｒ１１およびＲ１２は、互いに独立にメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、フェニル、ナフチル、トリルまたはキシリル（場合により置換されている）を意味する。
【０１００】
好ましくは、使用されるアルキル亜ホスホン酸（ＩＩ）に対するホスフィン酸（Ｘ）の割合は、０．０１〜１００ｍｏｌ％、特に好ましくは０．１〜１０ｍｏｌ％である。
【０１０１】
好ましくは、反応は、３０〜１２０℃、特に好ましくは５０〜９０℃の温度で行われる。好ましくは反応時間は、０．１〜２０時間である。
【０１０２】
好ましくは、反応は、アセチレン化合物（Ｖ）および／または溶媒の固有の蒸気圧下で実施される。
【０１０３】
工程段階ｂ）に適切な溶媒は、さらに前の工程段階ａ）で使用されるような溶媒である。
【０１０４】
好ましくは、反応は、０．０１〜１００ｂａｒ、特に好ましくは０．１〜１０ｂａｒのアセチレン化合物の分圧で行われる。
【０１０５】
好ましくは、アセチレン化合物（Ｖ）：アルキル亜ホスホン酸（ＩＩ）の比は、１００００：１〜０．００１：１、特に好ましくは３０：１〜０．０１：１である。
【０１０６】
好ましくは、反応は、１：１〜１：０．０００００００１のアルキル亜ホスホン酸：触媒のモル比で、特に好ましくは１：０．２５〜１：０．０００００１のアルキル亜ホスホン酸：触媒のモル比で行われる。好ましくは、反応は、１：１００００〜１：０のアルキル亜ホスホン酸：溶媒のモル比で、特に好ましくは１：５０〜１：１のアルキル亜ホスホン酸：溶媒のモル比で行われる。
【０１０７】
ステップｃ）に記載された反応は、触媒Ｃの存在下で一酸化炭素および水素によりモノ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＶＩ）をヒドロホルミル化することによって達成される。
【０１０８】
工程ステップｃ）に関して、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩ）を、一酸化炭素および水素と反応させてモノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩＩ）とするために使用されるような触媒Ｃは、好ましくは触媒Ａでありうる。
【０１０９】
好ましくは、触媒Ｃのための遷移金属は、ロジウムおよびコバルトである。
【０１１０】
触媒Ａの項に挙げられた遷移金属源および遷移金属化合物源に追加して、以下の遷移金属および遷移金属化合物も使用することができる。
コバルト、コバルト（Ｉ）および／またはコバルト（ＩＩ）および／またはコバルト（ＩＩＩ）および／またはコバルト（ＩＶ）の塩化物、臭化物、ヨウ化物、フッ化物、酸化物、水酸化物、シアン化物、硫化物、テルル化物、ホウ化物、硫酸塩、硝酸塩、プロピオン酸塩、酢酸塩、安息香酸塩、アセチルアセトナート、ベンゾイルアセトナート、ヘキサフルオロアセチルアセトナート、２−エチルヘキサン酸塩、カルボン酸塩、メトキシド、酒石酸塩、シクロヘキサン酪酸塩、Ｄ−グルコン酸塩、ギ酸塩、モリブデン酸塩、フタロシアニン、２，３−ナフタロシアニン、シュウ酸塩、過塩素酸塩、リン酸塩、セレン化物、ピロリン酸塩、シクロペンタジエニル、メチルシクロペンタジエニル、エチルシクロペンタジエニル、ペンタメチルシクロペンタジエニル、リン化物、ナフテン酸塩、２−メトキシエトキシド、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオン酸塩、２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオン酸塩、ヘキサフルオロ−２，４−ペンタジエノン酸塩、イソプロポキシド、ステアリン酸塩、スルファミン酸塩、クエン酸塩、シクロヘキサン酪酸塩、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルアセトアミジナート、チオフェン−２−カルボン酸塩、チオシアン酸塩、チオフェノラート、トリフルオロメタンスルホン酸塩、ヘキサフルオロリン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩、トリフレート、１−ブタンチオラート、チオ硫酸塩、トリフルオロ酢酸塩、過塩素酸塩、２，３，７，８，１２，１３，１７，１８−オクタエチル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン、５，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン、５，１０，１５，２０−テトラキス（ペンタフルオロフェニル）−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィンおよびその１，４−ビス（ジフェニルホスフィン）ブタン−、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン−、２−（２’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）ビフェニル、ジノルボルニルホスフィン−、ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン−、（Ｎ−スクシンイミジル）ビス（トリフェニルホスフィン）−、ジメチルフェニルホスフィン−、メチルジフェニルホスフィン−、１，５−シクロオクタジエン−、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン−、トリフェニルホスフィン−、トリ−ｏ−トリルホスフィン−、トリシクロヘキシルホスフィン−、トリエチルホスフィン−、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル−、１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾル−２−イリデン−、１，３−ビス（メシチル）イミダゾル−２−イリデン−、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン−、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン−、２，２’−ビピリジン−、亜リン酸トリメチル−、エチレンジアミン−、カルボニル−、アミン錯体、酸化コバルトアルミニウム、サマリウムコバルト、酸化ビスマスコバルト亜鉛、酸化ニッケルコバルト、Ｒａｎｅｙ（登録商標）コバルト、アルミニウムニッケルコバルト、酸化コバルトチタン、酸化コバルト鉄、酸化リチウムコバルト（ＩＩＩ）、アルミニウムコバルトイソプロポキシド、ヘキサシアノコバルト（ＩＩ）酸鉄（ＩＩ）酸カリウム、ヘキサシアノコバルト（ＩＩ）酸カリウム、コバルトカルボニル、ジコバルトオクタカルボニル、テトラコバルトドデカカルボニル。
【０１１１】
触媒Ａの項に挙げられた配位子に追加して、以下の化合物も使用することができる：
亜リン酸ジフェニル−ｐ−、−ｍ−または−ｏ−トリル、亜リン酸ジ−ｐ−、−ｍ−または−ｏ−トリルフェニル、亜リン酸ｍ−トリル−ｏ−トリル−ｐ−トリル、亜リン酸ｏ−トリル−ｐ−または−ｍ−トリルフェニル、亜リン酸ジ−ｐ−トリル−ｍ−または−ｏ−トリル、亜リン酸ジ−ｍ−トリル−ｐ−または−ｏ−トリル、亜リン酸トリ−ｍ−、−ｐ−または−ｏ−トリル、亜リン酸ジ−ｏ−トリル−ｍ−または−ｐ−トリル；亜リン酸トリス（２−エチルヘキシル）、亜リン酸トリベンジル、亜リン酸トリラウリル、亜リン酸トリ−ｎ−ブチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリ−ｎｅｏ−ペンチル、亜リン酸トリ−ｉ−プロピル、亜リン酸トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）、亜リン酸トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）、亜リン酸ジエチルトリメチルシリル、亜リン酸ジイソデシルフェニル、亜リン酸ジメチルトリメチルシリル、亜リン酸トリイソデシル、亜リン酸トリス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）、亜リン酸トリス（２−クロロエチル、亜リン酸トリス（１，１，１，３，３，３ヘキサフルオロ−２−プロピル）、亜リン酸トリス（ノニルフェニル）、亜リン酸トリス（２，２，２−トリフルオロエチル）、亜リン酸トリス（トリメチルシリル）、亜リン酸２，２−ジメチルトリメチレン−フェニル、亜リン酸トリオクタデシル、亜リン酸トリメチロールプロパン（Ｔｒｉｉｍｅｔｈｙｌｏｌｐｒｏｐａｎ）、亜リン酸ベンジルジエチル、亜リン酸（Ｒ）−ビナフチルイソブチル、亜リン酸（Ｒ）−ビナフチルシクロペンチル、亜リン酸（Ｒ）−ビナフチルイソプロピル、亜リン酸トリス（２−トリル）、亜リン酸トリス（ノニルフェニル）および亜リン酸メチルジフェニル；（１１ａＲ）−（＋）−１０，１１，１２，１３−テトラヒドロ−ジインデノ［７，１−ｄｅ：１’，７’−ｆｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン（ｄｉｏｘａａｐｈｏｓｐｈｏｃｉｎ）−５−フェノキシ、４−エチル−２，６，７−トリオキサ−１−ホスファビシクロ［２．２．２］オクタン、（１１ｂＲ，１１’ｂＲ）−４，４’−（９，９−ジメチル−９Ｈ−キサンテン−４，５−ジイル）ビス−ジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、（１１ｂＲ，１１’ｂＲ）−４，４’−（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス−ジナフト［２，１−ｄ：，１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、（１１ｂＳ，１１’ｂＳ）−４，４’−（９，９−ジメチル−９Ｈ−キサンテン−４，５−ジイル）ビス−ジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、（１１ｂＳ，１１’ｂＳ）−４，４’−（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス−ジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、１，１’ビス［（１１ｂＲ）−および１，１’ビス［（１１ｂＳ）−ジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−４−イル］フェロセン；ホスホン酸ジメチルフェニル、ホスホン酸ジエチルメチル（Ｄｉｅｔｈｙｌｍｅｔｈｙｌｐ）およびホスホン酸ジエチルフェニルおよびホスホン酸ジイソプロピルフェニル；ホスフィン酸ジメチルフェニル、ホスフィン酸ジイソプロピルフェニル、ホスフィン酸エチルジフェニルおよびホスフィン酸メチルジフェニル。
【０１１２】
触媒Ａの項に挙げられた二座配位子に追加して、以下の化合物も使用することができる：
１，２−ビス（ジアダマンチルホスフィノメチル）ベンゼン、１，２−ビス（ジ−３，５−ジメチルアダマンチル−ホスフィノメチル）ベンゼン、１，２−ビス（ジ−５−ｔｅｒｔ−ブチルアダマンチル（ａｄａｍａｎｔａｙｌ）ホスフィノ−メチル）ベンゼン、１，２−ビス（１−アダマンチルｔｅｒｔ−ブチル−ホスフィノメチル）ベンゼン、１−（ジ−ｔｅｒｔブチルホスフィノメチル）−および１−（ジアダマンチルホスフィノメチル）−２−（ホスファアダマンチルホスフィノ−メチル）ベンゼン、１，２−ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ−メチル）−フェロセン、１，２−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノメチル）−フェロセン、１，２−ビス（ジイソブチルホスフィノメチル）フェロセン、１，２−ビス（ジシクロペンチル−ホスフィノメチル）フェロセン、１，２−ビス−（ジエチルホスフィノメチル）−フェロセン、１，２−ビス（ジイソプロピル−ホスフィノメチル）フェロセン、１，２−ビス（ジメチルホスフィノメチル）フェロセン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジフェノキシホスフィン）キサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジ−ｐ−メチルフェノキシホスフィン）キサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジ−ｏ−メチルフェノキシホスフィン）キサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジ−１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）キサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジフェノキシホスフィン）−２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−キサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジ−ｏ−メチルフェノキシホスフィン）−２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−キサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジ−ｐ−メチルフェノキシホスフィン）−２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−キサンテン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジ−１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）−２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−キサンテン、１，１’−ビス（ジフェノキシホスフィン）フェロセン、１，１’−ビス（ジ−ｏ−メチルフェノキシ）フェロセン、１，１’−ビス（ジ−ｐ−メチルフェノキシホスフィン）フェロセン、１，１’−ビス（ジ−１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）フェロセン、２，２’−ビス（ジフェノキシホスフィン）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｏ−メチルフェノキシホスフィン）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−メチル−フェノキシホスフィン）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（ジ−１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）−１，１’−ビナフチル、（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス（ジフェノキシホスフィン）、（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス（ジ−ｏ−メチルフェノキシホスフィン）、（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス（ジ−ｐ−メチルフェノキシホスフィン）、（オキシジ−２，１−フェニレン）ビス（ジ−１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）、２，２’−ビス（ジフェノキシホスフィン）−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジ−ｏ−メチルフェノキシホスフィン）−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジ−ｐ−メチルフェノキシホスフィン）−１，１’−ビフェニル、２，２’−ビス（ジ−１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）−１，１’−ビフェニル、１，２−ビス（ジ−（１，３，５，７−テトラメチル−６，９，１０−トリオキサ−２−ホスファアダマンチルメチル）フェロセン、１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｕｔｏｘｙｃａｒｂｏｎｙ１））−（２Ｓ，４Ｓ）−２−［（ジフェニルホスフィノ）メチル］−４−（ジベンゾホスホリル）ピロリジン、１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２Ｓ，４Ｓ）−２−［（ジベンゾホスホリル）メチル］−４−（ジフェニルホスフィノ）ピロリジン、１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（２Ｓ，４Ｓ）−４−（ジベンゾホスホリル）−２−［（ジベンゾホスホリル）メチル］−ピロリジン、ＢＩＮＡＰＨＯＳ、ケリファイト（Ｋｅｌｌｉｐｈｉｔ）、キラファイト（Ｃｈｉｒａｐｈｉｔ）、ビス−３，４−ジアゾホスホラン；ビス（ホスホラン）配位子、例えばビス（２，５−ｔｒａｎｓジアルキルホスホラン）、ビス（２，４−ｔｒａｎｓ−ジアルキルホスフェタン）、１，２−ビス（フェノキシホスフィン）エタン、１，２−ビス（３−メチルフェノキシホスフィン）エタン、１，２−ビス（２−メチルフェノキシホスフィン）エタン、１，２−ビス（１−メチルフェノキシホスフィン）エタン、１，２−ビス（１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）エタン、１，３−ビス（フェノキシホスフィン）プロパン、１，３−ビス（３−メチルフェノキシホスフィン）プロパン、１，３−ビス（２−メチルフェノキシホスフィン）プロパン、１，３−ビス（１−メチルフェノキシホスフィン）プロパン、１，３−ビス（１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）プロパン、１，４−ビス（フェノキシホスフィン）ブタン、１，４−ビス（３−メチルフェノキシホスフィン）ブタン、１，４−ビス（２−メチルフェノキシホスフィン）ブタン、１，４−ビス（１−メチルフェノキシホスフィン）ブタン、１，４−ビス（１，３，５−トリメチルフェノキシホスフィン）ブタン。
【０１１３】
好ましくは、使用されるモノ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＶＩ）に対する触媒Ｃの割合は、０．００００１〜２０ｍｏｌ％、特に好ましくは０．００００１〜５ｍｏｌ％である。
【０１１４】
適切な溶媒は、先に工程段階ａ）で使用されたような溶媒である。
【０１１５】
ヒドロアルコキシカルボニル化のための好ましいアルコールＭ−ＯＨおよびＭ’−ＯＨは、例えばメタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−アミルアルコール、ｉ−アミルアルコール、ｔ−アミルアルコール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、ｎ−トリデカノール、ベンジルアルコールなどである。さらに、グリコール、例えばエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、トリスヒドロキシメチルエタン、トリスヒドロキシメチルプロパン、ペンタエリトリット、ソルビット、マンニット、α−ナフトール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールおよびＥＯ−ＰＯ−ブロックポリマー、ｎ−ブテン−２−オール−１、１，４−ブテンジオールおよびアリルアルコールも好ましい。
【０１１６】
好ましくは、反応は、３０〜２００℃、特に好ましくは５０〜１５０℃の温度で行われる。
【０１１７】
好ましくは、反応時間は、０．１〜２０時間である。
【０１１８】
工程ステップｃ）は、好ましくは０．０１〜１０００ｂａｒ、特に好ましくは０．１〜２５０ｂａｒ、特に０．８〜７５ｂａｒの絶対圧で実施される。
【０１１９】
好ましくは、反応は、溶媒の蒸気圧下で実施される。
【０１２０】
好ましくは、反応は、０．０２〜７００ｂａｒ、特に好ましくは０．２〜２００ｂａｒ、特に１〜５０ｂａｒの一酸化炭素および／または水素の分圧で行われる。
【０１２１】
好ましくは、水素および／または一酸化炭素：ジアルキルホスフィン酸（ＶＩ）の比は、１００００：１〜０．００１：１、特に好ましくは３０：１〜０．０１：１である。
【０１２２】
好ましくは、反応は、１：１〜１：０．０００００００１のジアルキルホスフィン酸：触媒のモル比で、特に好ましくは１：０．２〜１：０．０００００１のジアルキルホスフィン酸：触媒のモル比で行われる。
【０１２３】
好ましくは、反応は、１：１００００〜１：０のジアルキルホスフィン酸：溶媒のモル比で、特に好ましくは１：５０〜１：１のジアルキルホスフィン酸：溶媒のモル比で行われる。
【０１２４】
本発明のヒドロホルミル化は、液相中、気相中、または超臨界相中でも実施することができる。液体の場合、触媒は、好ましくは均一系で、または懸濁物として使用され、一方、気相または超臨界運転の場合は、固定床配置が有利である。
【０１２５】
１：１〜１：１５、特に好ましくは１：１〜１：１．２の一酸化炭素：水素の比が好ましい。
【０１２６】
好ましくは、一酸化炭素：水またはアルコールＭ−ＯＨもしくはＭ’−ＯＨの比は、１：１〜１：５０００、特に好ましくは１：１〜１：１０である。
【０１２７】
本発明のさらなる実施形態では、本発明の方法は、液相中で実施される。したがって、反応器内の圧力は、好ましくは、用いられる反応温度で反応体が液状の形態で存在するように調整される。さらに、その際にシアン化水素が液状の形態で使用されることが好ましい。
【０１２８】
ヒドロホルミル化のために、一つまたは複数の反応器を使用することができ、複数の反応器を使用する場合、反応器は、好ましくは直列に接続される。
【０１２９】
ステップｄ）に記載されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩およびエステル（ＩＩＩ）への転換は、還元剤による、または触媒Ｄと、場合によりアミンおよび助触媒との存在下で触媒的に水素による選択的水素化によって、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩およびエステル（ＶＩＩ）を水素化することにより達成される。
【０１３０】
好ましい還元剤は、金属水素化物、水素化ホウ素、水素化ホウ素金属塩、水素化アルミニウム、水素化アルミニウム金属塩である。好ましい還元剤の例は、デカボラン、ジボラン、水素化ジイソブチルアルミニウム、ジメチルスルフィドボラン、ジメチルスルフィドボラン、水素化銅、水素化アルミニウムリチウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化ホウ素ニッケル、水素化トリブチルスズ、水素化スズである。
【０１３１】
好ましくは、反応は、１：１０〜１：０．１のジアルキルホスフィン酸：還元剤のモル比で、特に好ましくは１：２〜１：０．２５のジアルキルホスフィン酸：還元剤のモル比で行われる。
【０１３２】
好ましい接触水素化は、触媒Ｄと、場合によりアミンおよび助触媒との存在下で、水素により行われる。
【０１３３】
工程ステップｄ）に関して、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩＩ）を水素ならびに場合によりアミンおよび助触媒と反応させてモノアミノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＩＩＩ）とするために使用されるのような触媒Ｄは、好ましくは触媒Ａでありうる。
【０１３４】
触媒Ａの項に挙げられた配位子および二座配位子に追加して、触媒Ｃの項に挙げられた化合物も使用することができる。
【０１３５】
好ましくは、使用されるモノ官能化ジアルキルホスフィン酸（ＶＩＩ）に対する触媒Ｄの割合は、０．００００１〜２０ｍｏｌ％、特に好ましくは０．００００１〜１０ｍｏｌ％である。
【０１３６】
好ましくは、水素化反応は、アミンの存在下で行われる。好ましいアミンは、アンモニア、モノアミン、ジアミン、高級アミンである。
【０１３７】
好ましいモノアミンは、例えば式Ｒ’−ＮＨ２［式中、Ｒ’は、直鎖または分岐Ｃ１〜２０アルキルに対応する］のアミンである。メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ｉ−プロピルアミン、ブチルアミン、ｉ−ブチルアミン、ペンチルアミンおよび２−エチルヘキシルアミンが好ましい。
【０１３８】
好ましいジアミンは、例えば式Ｈ２Ｎ−Ｒ”−ＮＨ２［式中、Ｒ”は、直鎖または分岐Ｃ１〜２０アルキルに対応する］のアミンである。エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ジアミノブタン、ペンタメチレンジアミンおよびヘキサメチレンジアミンが好ましい。
【０１３９】
アンモニアをアミンとして使用する場合、アンモニアの分圧は、好ましくは０．０１〜１００ｂａｒ、特に好ましくは０．０５〜５０ｂａｒ、特に０．１〜２０ｂａｒである。
【０１４０】
好ましくは、反応混合物中のアンモニア濃度は、１〜３０重量％、特に好ましくは５〜２５重量％である。
【０１４１】
好ましくは、反応混合物中のモノアミンおよび／またはジアミン濃度は、１〜８０重量％、特に好ましくは５〜６０重量％である。
【０１４２】
好ましくは、水素化反応は、助触媒の存在下で実施され、その際、助触媒としてアルカリ金属およびアルカリ土類金属の水酸化物およびアルコラートが好ましい。好ましい助触媒の例は、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｍｇ（ＯＨ）２、Ｃａ（ＯＨ）２、Ｂａ（ＯＨ）２およびナトリウムメタノラートまたはカリウムメタノラート、ナトリウムエタノラートまたは酪酸ナトリウムであり、ＮａＯＨ、ＫＯＨが特に好ましい。
【０１４３】
助触媒：触媒の比は、好適には約０．００１：１〜０．５：１、好ましくは約０．０１：１〜０．２：１、特に好ましくは０．０４：１〜０．１：１である。
【０１４４】
好ましくは、まず助触媒の少なくとも一部分が、次にアミンが、触媒および／または触媒を含有する溶液／懸濁物に添加される。好ましくはまず、助触媒の少なくとも１０重量％、好ましくは２０重量％、特に好ましくは５０重量％が添加される。
【０１４５】
特に好ましくは、１００重量％の助触媒が添加される。
【０１４６】
特に好ましくは、遷移金属は、その０価状態で使用される。
【０１４７】
好ましくは、不均一系で働く触媒は、反応中に懸濁物として、または固相に結合して作用する。
【０１４８】
好ましくは、反応は、溶媒中で一相系として、均一もしくは不均一混合物中で、および／または気相中で行われる。
【０１４９】
適切な溶媒は、さらに前の工程段階ａ）で使用されるような溶媒である。
【０１５０】
好ましくは、反応は、１：１００００〜１：０のジアルキルホスフィン酸：溶媒のモル比で、特に好ましくは１：５０〜１：１のジアルキルホスフィン酸：溶媒のモル比で行われる。
【０１５１】
好ましくは、反応は、２０〜２００℃、特に好ましくは４０〜１５０℃、特に６０〜１００℃の温度で行われる。
【０１５２】
好ましくは、反応時間は、０．１〜２０時間である。
【０１５３】
好ましくは、反応は、水素および／または溶媒の分圧下で実施される。
【０１５４】
本発明の方法の工程ステップは、好ましくは０．１〜１００ｂａｒ、特に好ましくは０．５〜５０ｂａｒ、とりわけ１〜２０ｂａｒの水素分圧で実施される。
【０１５５】
好ましくは、反応は、１：１００００〜１：０のジアルキルホスフィン酸：溶媒のモル比で、特に好ましくは１：５０〜１：１のジアルキルホスフィン酸：溶媒のモル比で行われる。
【０１５６】
本発明の水素化は、液相中、気相中、または超臨界相中でも実施することができる。液体の場合、触媒は、好ましくは均一系または懸濁物として使用され、一方、気相または超臨界運転の場合は、固定床配置が有利である。
【０１５７】
モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸またはその塩（ＩＩＩ）を、次に反応させて、さらなる金属塩とすることができる。
【０１５８】
好ましくは、使用される工程段階ｅ）の金属化合物は、金属Ｍｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｒ、Ｍｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、特に好ましくはＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃｅ、Ｆｅの化合物である。
【０１５９】
工程段階ｅ）に適切な溶媒は、先に前記工程段階ａ）で使用されたような溶媒である。
【０１６０】
好ましくは、工程段階ｅ）における反応は、水性溶媒中で行われる。
【０１６１】
好ましくは、工程段階ｅ）において、工程段階ｄ）により得られたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび／またはアルカリ塩（ＩＩＩ）を、Ｍｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、ＣｅまたはＦｅの金属化合物と反応させて、これらの金属のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩（ＩＩＩ）とする。
【０１６２】
この反応は、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸／そのエステル／塩（ＩＩＩ）：金属のモル比が、８：１〜１：３（４価金属イオンまたは安定な４価の酸化状態を有する金属について）、６：１〜１：３（３価金属イオンまたは安定な３価の酸化状態を有する金属の場合）、４：１〜１：３（２価金属イオンまたは安定な２価の酸化状態を有する金属の場合）および３：１〜１：４（１価金属イオンまたは安定な１価の酸化状態を有する金属の場合）で行われる。
【０１６３】
好ましくは、工程段階ｄ）において、得られたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸エステル／塩（ＩＩＩ）を、対応するジアルキルホスフィン酸に変換し、工程段階ｅ）においてこれをＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、ＣｅまたはＦｅの金属化合物と反応させて、これらの金属のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩（ＩＩＩ）とする。
【０１６４】
好ましくは、工程段階ｄ）において得られたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸／エステル（ＩＩＩ）をジアルキルホスフィン酸アルカリ塩に転換し、工程段階ｅ）においてこれをＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、ＣｅまたはＦｅの金属化合物と反応させて、これらの金属のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩（ＩＩＩ）とする。
【０１６５】
好ましくは、工程段階ｅ）におけるＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、ＣｅまたはＦｅの金属化合物は、金属、金属酸化物、金属水酸化物、金属酸化物水酸化物、金属ホウ酸塩、金属炭酸塩、金属ヒドロキソ炭酸塩、金属ヒドロキソ炭酸塩水和物、混合金属ヒドロキソ炭酸塩、混合金属ヒドロキソ炭酸塩水和物、金属リン酸塩、金属硫酸塩、金属硫酸塩水和物、金属ヒドロキソ硫酸塩水和物、混合金属ヒドロキソ硫酸塩水和物、金属オキシ硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩、フッ化物、金属フッ化物水和物、金属塩化物、塩化物水和物、金属オキシ塩化物、金属臭化物、金属ヨウ化物、金属ヨウ化物水和物、金属カルボン酸誘導体および／または金属アルコキシドである。
【０１６６】
好ましくは、金属化合物は、塩化アルミニウム、水酸化アルミニウム、硝酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、硫酸チタニル、硝酸亜鉛、酸化亜鉛、水酸化亜鉛および／または硫酸亜鉛である。
【０１６７】
金属アルミニウム、そのフッ化物、ヒドロキシ塩化物、臭化物、ヨウ化物、硫化物、セレン化物；リン化物、次亜リン酸塩、アンチモン化物、窒化物；炭化物、ヘキサフルオロケイ酸塩；水素化物、カルシウム水素化物、ボロヒドリド；塩素酸塩；硫酸ナトリウムアルミニウム、硫酸アルミニウムカリウム、硫酸アルミニウムアンモニウム、硝酸塩、メタリン酸塩、リン酸塩、ケイ酸塩、マグネシウムケイ酸塩、炭酸塩、ヒドロタルシト、ナトリウム炭酸塩、ホウ酸塩；チオシアン酸塩；酸化物、酸化物水酸化物、それに対応する水和物および／または特にアルミニウム含量が９〜４０重量％のポリアルミニウムヒドロキシ化合物もまた適切である。
【０１６８】
モノカルボン酸、ジカルボン酸、オリゴカルボン酸、ポリカルボン酸のアルミニウム塩、例えば二酢酸アルミニウム、アセト酒石酸アルミニウム、ギ酸アルミニウム、乳酸アルミニウム、シュウ酸アルミニウム、酒石酸アルミニウム、オレイン酸アルミニウム、パルミチン酸アルミニウム、ステアリン酸アルミニウム、トリフルオロメタンスルホン酸アルミニウム、安息香酸アルミニウム、サリチル酸アルミニウム、アルミニウム８−オキシキノレートもまた適切である。
【０１６９】
同じく、元素状金属亜鉛、および例えばハロゲン化亜鉛（フッ化亜鉛、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛）のような亜鉛塩もまた適切である。
【０１７０】
亜鉛ホウ酸塩、炭酸塩、水酸化炭酸塩、ケイ酸塩、ヘキサフルオロケイ酸塩、スズ酸塩、水酸化スズ酸塩、マグネシウム−アルミニウム−水酸化炭酸塩；硝酸塩、亜硝酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩；硫酸塩、リン化物、セレン化物、テルル化物および第７主族のオキソ酸亜鉛塩（次亜ハロゲン酸塩、亜ハロゲン酸塩、ハロゲン酸塩、例えばヨウ素酸亜鉛、過ハロゲン酸塩、例えば過塩素酸亜鉛）；疑似ハロゲン化物（Ｐｓｅｕｄｏｈａｌｏｇｅｎｉｄ）の亜鉛塩（チオシアン酸亜鉛、シアン酸亜鉛、シアン化亜鉛）；亜鉛酸化物、過酸化物、水酸化物または混合酸化水酸化亜鉛もまた適切である。
【０１７１】
遷移金属オキソ酸の亜鉛塩（例えば水酸化クロム酸（ＶＩ）亜鉛、亜クロム酸塩、モリブデン酸塩、過マンガン酸塩、モリブデン酸塩）が好ましい。
【０１７２】
モノカルボン酸、ジカルボン酸、オリゴカルボン酸、ポリカルボン酸の亜鉛塩、例えばギ酸亜鉛、酢酸亜鉛、トリフルオロ酢酸亜鉛、プロピオン酸亜鉛、酪酸亜鉛、吉草酸亜鉛、カプリル酸亜鉛、オレイン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、シュウ酸亜鉛、酒石酸亜鉛、クエン酸亜鉛、安息香酸亜鉛、サリチル酸亜鉛、乳酸亜鉛、アクリル酸亜鉛、マレイン酸亜鉛、コハク酸亜鉛、アミノ酸（グリシン）の塩、酸性ヒドロキシ官能基の塩（亜鉛フェノラートなど）、亜鉛−ｐ−フェノールスルホン酸塩、アセチルアセトン酸塩、スズ酸塩、ジメチルジチオカルバミン酸塩、トリフルオルメタンスルホン酸塩もまた適切である。
【０１７３】
チタン化合物の場合、金属チタン、ならびにチタン（ＩＩＩ）および／または（ＩＶ）の塩化物、硝酸塩、硫酸塩、ギ酸塩、酢酸塩、臭化物、フッ化物、オキシ塩化物、オキシ硫酸塩、酸化物、ｎ−プロポキシド、ｎ−ブトキシド、イソプロポキシド、エトキシド、２−エチルヘキシルオキシドである。
【０１７４】
金属スズ、およびスズ塩（スズ（ＩＩ）および／または（ＩＶ）塩化物）；スズ酸化物およびスズ−アルコキシド、例えばスズ−（ＩＶ）−ｔｅｒｔ−ブトキシドもまた適切である。
セリウム（ＩＩＩ）フッ化物、塩化物、硝酸塩もまた適切である。
【０１７５】
ジルコニウム化合物の場合、金属ジルコニウム、およびジルコニウム塩、例えば塩化ジルコニウム、硫酸ジルコニウム、酢酸ジルコニル、塩化ジルコニルが好ましい。さらに、酸化ジルコニウムおよびジルコニウム（ＩＶ）ｔｅｒｔ−ブトキシドが好ましい。
【０１７６】
好ましくは、工程段階ｅ）における反応は、０．１〜７０重量％、好ましくは５〜４０重量％のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩の固体含量で行われる。
【０１７７】
好ましくは、工程段階ｅ）における反応は、２０〜２５０℃の温度、好ましくは８０〜１２０℃の温度で行われる。
【０１７８】
好ましくは、工程段階ｄ）における反応は、０．０１〜１０００ｂａｒ、好ましくは０．１〜１００ｂａｒの圧力で行われる。
【０１７９】
好ましくは、工程段階ｄ）における反応は、１×１０−７〜１×１０２時間の反応時間で行われる。
【０１８０】
好ましくは、工程段階ｄ）に従って濾過および／または遠心分離によって反応混合物から分離されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩（ＩＩＩ）を、乾燥させる。
【０１８１】
好ましくは、工程段階ｄ）により得られた生成物混合物を、さらに精製せずに金属化合物と反応させる。
【０１８２】
好ましい溶媒は、工程段階ａ）に挙げられた溶媒である。
【０１８３】
工程段階ｄ）および／またはｅ）における反応は段階ａ）、ｂ）および／またはｃ）に示された溶媒系中で行うことが好ましい。
【０１８４】
工程段階ｅ）における反応は、与えられた溶媒系を改変した溶媒系中で行うことが好ましい。このために、酸成分、可溶化剤、消泡剤などが添加される。
【０１８５】
この方法のさらなる実施形態では、工程段階ａ）、ｂ）、ｃ）および／またはｄ）により得られた生成物混合物が処理される。
【０１８６】
この方法のさらなる実施形態では、工程段階ｄ）により得られた生成物混合物を後処理し（ａｕｆｇｅａｒｂｅｉｔｅｔ）、続いて工程段階ｄ）により得られたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸および／またはその塩もしくはエステル（ＩＩＩ）を、工程段階ｅ）において金属化合物と反応させる。
【０１８７】
好ましくは、生成物混合物は、工程段階ｄ）により、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸および／またはその塩もしくはエステル（ＩＩＩ）を溶媒系の除去により、例えば蒸発により単離することによって処理される。
【０１８８】
好ましくは、金属Ｍｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、ＣｅまたはＦｅのモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩（ＩＩＩ）は、任意選択で０．０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜１重量％の残留水分含量、０．１〜２０００μｍ、好ましくは１０〜５００μｍの平均粒度、８０〜８００ｇ／ｌ、好ましくは２００〜７００ｇ／ｌの容積密度、０．５〜１０、好ましくは１〜５のフレングル（Ｐｆｒｅｎｇｌｅ）流動性を有する。
【０１８９】
特に好ましくは、この成形体、−フィルム、−糸および−繊維は、５〜３０重量％の、請求項１〜１０の一つまたは複数に従って製造されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸／そのエステル／塩、５〜９０重量％のポリマーまたはその混合物、５〜４０重量％の添加剤および５〜４０重量％充填材を含有し、その際、成分の合計は、常に１００重量％である。
【０１９０】
好ましくは、添加剤は、酸化防止剤、静電防止剤、発泡剤、さらなる難燃剤、熱安定化剤、耐衝撃性調節剤、工程助剤、滑剤、光保護剤、滴下防止剤（Ａｎｔｉｄｒｉｐｐｉｎｇｍｉｔｔｅｌ）、相溶化剤、補強材、充填材、種晶形成剤（Ｋｅｉｍｂｉｌｄｕｎｇｓｍｉｔｔｅｌ）、核形成剤、レーザーマーキング用添加剤、加水分解安定化剤、鎖伸長剤、色素、柔軟剤および／または可塑剤を含む。
【０１９１】
０．１〜９０重量％の低ハロゲン性モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩（ＩＩＩ）ならびに０．１〜５０重量％のさらなる添加剤、特に好ましくはジオールを含有する難燃剤が好ましい。
【０１９２】
好ましい添加剤は、また、アルミニウム三水和物、酸化アンチモン、臭化芳香族または脂環式炭化水素、フェノール、エーテル、クロルパラフィン、ヘキサクロロシクロペンタジエン付加物、赤リン、メラミン誘導体、シアヌル酸メラミン、ポリリン酸アンモニウムおよび水酸化マグネシウムである。好ましい添加剤は、また、さらなる難燃剤、特にジアルキルホスフィン酸塩である。
【０１９３】
本発明は特に、難燃剤としての、または熱可塑性ポリマー用、例えばポリエステル、ポリスチレンもしくはポリアミド用および熱硬化性ポリマー用、例えば不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタンもしくはアクリレート用の難燃剤を製造するための中間段階としての、本発明のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩（ＩＩＩ）の使用に関する。
【０１９４】
適切なポリエステルは、ジカルボン酸およびそのエステルおよびジオールから、ならびに／またはヒドロキシカルボン酸もしくは対応するラクトンから得られる。好ましくは、テレフタル酸およびエチレングリコール、プロパン−１，３−ジオールおよびブタン−１，３−ジオールが使用される。
【０１９５】
適切なポリエステルは、とりわけ、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（Ｃｅｌａｎｅｘ（登録商標）２５００、Ｃｅｌａｎｅｘ（登録商標）２００２、Ｆａ Ｃｅｌａｎｅｓｅ；Ｕｌｔｒａｄｕｒ（登録商標）、ＢＡＳＦ社）、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリヒドロキシベンゾエート、およびヒドロキシル末端基を有するポリエーテルから得られるブロック−ポリエーテルエステル；さらにポリカーボネートまたはＭＢＳ改変ポリエステルである。
【０１９６】
永続的な難燃性を有する合成直鎖ポリエステルは、本発明のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸およびそのエステルのジカルボン酸成分、ジオール成分から、またはリン含有鎖メンバー（Ｋｅｔｔｅｎｇｌｉｅｄｅｒ）として本発明の方法により製造されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸およびそのエステルから構成される。リン含有鎖メンバーは、ポリエステルのジカルボン酸成分の２〜２０％の重量％になる。好ましくは、結果としてのポリエステル中のリン含量は、０．１〜５重量％、特に好ましくは０．５〜３重量％である。
【０１９７】
以下のステップは、本発明により製造された化合物の添加によりまたは添加の下に実施することができる。
【０１９８】
好ましくは、遊離ジカルボン酸およびジオールから成形材料を製造するために、まずそれらを直接エステル化し、次に重縮合させる。
【０１９９】
好ましくは、ジカルボン酸エステル、特にジメチルエステルから出発し、まずそれらをエステル交換し、次にそのための通常の触媒を使用して重縮合させる。
【０２００】
好ましくは、ポリエステルを製造する場合に、普通の触媒以外に通常の添加剤（架橋剤、艶消し剤および安定化剤、核形成剤、着色剤および充填材など）を添加することができる。
【０２０１】
好ましくは、ポリエステル製造時のエステル化および／またはエステル交換は、１００〜３００℃、特に好ましくは１５０〜２５０℃の温度で実施される。
【０２０２】
好ましくは、ポリエステルを製造する場合の重縮合は、０．１〜１．５ｍｂａｒの圧力および１５０〜４５０℃、特に好ましくは２００〜３００℃の温度で実施される。
【０２０３】
本発明により製造された難燃性ポリエステル成形材料は、好ましくはポリエステル成形体に使用される。
【０２０４】
好ましいポリエステル成形体は、糸、繊維、フィルム、およびジカルボン酸成分として主にテレフタル酸と、ジオール成分として主にエチレングリコールとを含有する成形体である。
【０２０５】
好ましくは、結果として生じる、難燃性ポリエステルから製造された糸および繊維中のリン含量は、０．１〜１８、好ましくは０．５〜１５であり、フィルムでは０．２〜１５、好ましくは０．９〜１２重量％である。
【０２０６】
適切なポリスチレンは、ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）および／またはポリ−（α−メチルスチレン）である。
【０２０７】
好ましくは、適切なポリスチレンは、スチレンまたはα−メチルスチレンと、ジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン−ブタジエン、スチレン−アクリロニトリル、スチレン−メタクリル酸アルキル、スチレン−ブタジエン−アクリル酸アルキルおよび−メタクリル酸アルキル、スチレン−無水マレイン酸、スチレン−アクリロニトリル−アクリル酸メチル；スチレン−コポリマーおよび他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエン−ポリマーまたはエチレン−プロピレン−ジエン−ターポリマーからの高い耐衝撃性の混合物；ならびにスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン−ブタジエン−スチレン、スチレン−イソプレン−スチレン、スチレン−エチレン／ブチレン−スチレンまたはスチレン−エチレン／プロピレン−スチレンである。
【０２０８】
好ましくは、適切なポリスチレンは、また、スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンへのスチレン、ポリブタジエン−スチレン−またはポリブタジエン−アクリロニトリル−コポリマーへのスチレン、ポリブタジエンへのスチレンおよびアクリロニトリル（場合によりメタクリルニトリル）；ポリブタジエンへのスチレン、アクリロニトリルおよびメタクリル酸メチル；ポリブタジエンへのスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンへのスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマレイン酸イミド；ポリブタジエンへのスチレンおよびマレイン酸イミド、ポリブタジエンへのスチレンおよびアクリル酸アルキルまたはメタクリル酸アルキル、エチレン−プロピレン−ジエン−ターポリマーへのスチレンおよびアクリロニトリル、ポリアクリル酸アルキルまたはポリメタクリル酸アルキルへのスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート−ブタジエン−コポリマーへのスチレンおよびアクリロニトリルのグラフトコポリマー、ならびにその混合物、例えばいわゆるＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡまたはＡＥＳポリマーとして公知のものなどである。
【０２０９】
好ましくは、ポリマーは、ジアミンおよびジカルボン酸から、ならびに／またはアミノカルボン酸もしくは対応するラクタムから得られたポリアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド２，１２、ポリアミド４、ポリアミド４，６、ポリアミド６、ポリアミド６，６、ポリアミド６，９、ポリアミド６，１０、ポリアミド６，１２、ポリアミド６，６６、ポリアミド７，７、ポリアミド８，８、ポリアミド９，９、ポリアミド１０，９、ポリアミド１０，１０、ポリアミド１１、ポリアミド１２などである。そのようなポリアミドは、例えばＮｙｌｏｎ（登録商標）（ＤｕＰｏｎｔ社）、Ｕｌｔｒａｍｉｄ（登録商標）（ＢＡＳＦ社）、Ａｋｕｌｏｎ（登録商標）Ｋ１２２（ＤＳＭ社）、Ｚｙｔｅｌ（登録商標）７３０１（ＤｕＰｏｎｔ社）；Ｄｕｒｅｔｈａｎ（登録商標）Ｂ２９（Ｂａｙｅｒ社）およびＧｒｉｌｌａｍｉｄ（登録商標）（Ｅｍｓ Ｃｈｅｍｉｅ社）の商品名で知られている。
【０２１０】
ｍ−キシレン、ジアミンおよびアジピン酸からの芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンならびにイソフタル酸および／またはテレフタル酸ならびに場合により変性剤としてのエラストマーから製造されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；前記ポリアミドと、ポリオレフィン、オレフィン−コポリマー、アイオノマーまたは化学結合したもしくはグラフトされたエラストマーとのブロックコポリマー、またはポリエーテルとの、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールもしくはポリテトラメチレングリコールとのブロックコポリマーもまた適切である。さらになお、ＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性されたポリアミドまたはコポリアミド；および加工中に縮合されたポリアミド（「ＲＩＭ−ポリアミドシステム」）も適切である。
【０２１１】
請求項１〜１０の一つまたは複数に従って製造されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸／そのエステル／塩は、好ましくは成形材料に利用され、その成形材料は、さらにポリマー成形体の生産に使用される。
【０２１２】
特に好ましくは、難燃性成形材料は、請求項１〜１０の一つまたは複数に従って製造された、５〜３０重量％のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩またはエステル、５〜９０重量％のポリマーまたはその混合物、５〜４０重量％の添加剤および５〜４０重量％の充填材を含有し、その際、成分の合計は、常に１００重量％である。
【０２１３】
本発明は、また、請求項１〜１０の一つまたは複数に従って製造された、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩またはエステルを含有する難燃剤に関する。
【０２１４】
さらに、本発明は、本発明により製造された、金属Ｍｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、ＣｅまたはＦｅのモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩（ＩＩＩ）を含有するポリマー成形材料ならびにポリマー成形体、ポリマーフィルム、ポリマー糸およびポリマー繊維に関する。
【０２１５】
本発明を、以下の例により説明する。
【実施例】
【０２１６】
難燃性ポリマー成形材料および難燃性ポリマー成形体の製造、加工および試験
難燃性成分をポリマーペレットおよび場合により添加剤と混合し、二軸スクリュー押出機（Ｌｅｉｓｔｒｉｔｚ ＬＳＭ（登録商標）３０／３４型）に２３０〜２６０℃（ＰＢＴ−ＧＶ）または２６０〜２８０℃（ＰＡ６６−ＧＶ）の温度で導入する。均一化されたポリマーストランドを引き抜き、水浴中で冷却し、続いてペレット化した。
【０２１７】
十分に乾燥させた後で、成形材料を射出成形機（Ａａｒｂｕｒｇ Ａｌｌｒｏｕｎｄｅｒ型）で融解温度２４０〜２７０℃（ＰＢＴ−ＧＶ）または２６０〜２９０℃（ＰＡ６６−ＧＶ）で加工して検体とした。その検体をＵＬ９４（Ｕｎｄｅｒｗｒｉｔｅｒ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ）試験により難燃性（防炎性）について試験および分類する。
【０２１８】
厚さ１．５ｍｍの試料片を用いて、各混合物からの検体について燃焼性分類ＵＬ９４（Ｕｎｄｅｒｗｒｉｔｅｒ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ）を決定した。
【０２１９】
ＵＬ９４によれば以下の燃焼性分類が得られる。
Ｖ−０：残炎は１０秒を超えない、１０回接炎した場合の総残炎時間は５０秒を超えない、燃焼滴下物なし、試料の全焼なし、試料は接炎終了後３０秒を超えて赤熱せず
Ｖ−１：接炎終了後３０秒を超える残炎なし、１０回接炎した場合の総残炎時間は２５０秒を超えない、試料は接炎終了後６０秒を超えて赤熱せず、その他の基準はＶ−０と同様
Ｖ−２：燃焼滴下物による綿の着火、その他の基準はＶ−１と同様
分類不可能（ｎｋｌ）：燃焼性等級Ｖ−２を満たさず。
【０２２０】
さらに、いくつかの被験試料のＬＯＩ値を測定した。ＬＯＩ値（限界酸素指数）は、ＩＳＯ４５８９に従って測定する。ＩＳＯ４５８９によると、ＬＯＩは、酸素および窒素の混合物中でプラスチックの燃焼を支援する最低酸素濃度（体積パーセント）である。ＬＯＩ値が高いほど、被験材料は燃焼しにくい。
ＬＯＩ ２３ 可燃性
ＬＯＩ ２４〜２８ 準可燃性
ＬＯＩ ２９〜３５ 難燃性
ＬＯＩ ＞３６ 特に難燃性
【０２２１】
使用した化学物質および略語
ＶＥ−水 完全脱塩水
ＡＩＢＮ アゾ−ビス−（イソブチロニトリル）、（ＷＡＫＯ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ ＧｍｂＨ社）
ＴＨＦ テトラヒドロフラン
ＷａｋｏＶ６５ ２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル−バレロニトリル）、（ＷＡＫＯ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ ＧｍｂＨ社）
Ｄｅｌｏｘａｎ（登録商標） ＴＨＰ ＩＩ 金属捕捉剤（Ｅｖｏｎｉｋ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ ＡＧ社）
【０２２２】
例１
撹拌装置および高性能冷却器を備える三口フラスコに室温で１８８ｇの水を入れ、撹拌しながら窒素を通気させて脱気する。次に、そこに窒素下で０．２ｍｇの硫酸パラジウム（ＩＩ）および２．３ｍｇのトリス（３−スルホフェニル）−ホスフィン三ナトリウム塩を添加し、撹拌し、次に６６ｇの水に入った６６ｇのホスフィン酸を添加する。反応溶液を２ｌ容のビュッヒ（Ｂｕｅｃｈｉ）反応器に移し、撹拌しながら加圧下でエチレンを送り、反応混合物を８０℃に加熱する。２８ｇのエチレンが吸収された後で冷却し、遊離のエチレンを放出させる。反応混合物からロータリーエバポレーターで溶媒を除去する。残渣を１００ｇのＶＥ−水と混合し、室温で窒素雰囲気下で撹拌し、次に濾過し、濾液をトルエンで抽出し、続いてロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、得られたエチル亜ホスホン酸を回収する。そこで９２ｇ（理論値の９８％）のエチル亜ホスホン酸が得られる。
【０２２３】
例２
例１と同様に、９９ｇのホスフィン酸、３９６ｇのブタノール、４２ｇのエチレン、６．９ｍｇのトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、９．５ｍｇの４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−９，９−ジメチルキサンテンを反応させ、次に精製のために、Ｄｅｌｏｘａｎ（登録商標）ＴＨＰ ＩＩを充填したカラムに入れ、その後もう一度ｎ−ブタノールを添加する。生成した水を８０〜１１０℃の反応温度で共沸蒸留により取り除く。生成物（エチル亜ホスホン酸ブチルエステル）は、減圧蒸留により精製する。そこで１８９ｇ（理論値の８４％）のエチル亜ホスホン酸ブチルエステルが得られる。
【０２２４】
例３
例１と同様に、１９８ｇのホスフィン酸、１９８ｇの水、８４ｇのエチレン、６．１ｍｇの硫酸パラジウム（ＩＩ）、２５．８ｍｇの９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２，７−スルホナト−キサンテン二ナトリウム塩を反応させ、次に精製のために、Ｄｅｌｏｘａｎ（登録商標）ＴＨＰ ＩＩを充填したカラムに入れ、その後ｎ−ブタノールを添加する。生成した水を８０〜１１０℃の反応温度で共沸蒸留により取り除く。生成物は、減圧蒸留により精製する。そこで３７４ｇ（理論値の８３％）のエチル亜ホスホン酸ブチルエステルが得られる。
【０２２５】
例４
ガス導入管、温度計、強力撹拌装置およびガス燃焼付き還流冷却器を備える５００ｍｌの五口フラスコに９４ｇ（１ｍｏｌ）のエチル亜ホスホン酸（例１と同様に製造）を入れる。室温でエチレンオキシドを導入する。冷却しながら反応温度を７０℃に調整し、さらに１時間８０℃で後反応させる。エチレンオキシドの取り込みは６５．７ｇである。生成物の酸価は、１ｍｇ ＫＯＨ／ｇ未満である。無色透明の生成物として１２９ｇ（理論値の９４％）の（エチル亜ホスホン酸−２−ヒドロキシエチルエステル）が得られる。
【０２２６】
例５
撹拌装置および高性能冷却器を備える三口フラスコに室温で４００ｇのＴＨＦを入れ、撹拌しながら窒素を通気させて脱気する。次に、そこに窒素下で１．３５ｇ（６ｍｍｏｌ）の酢酸パラジウムおよび４．７２ｇ（１８ｍｍｏｌ）のトリフェニルホスフィンを添加し、撹拌し、次に３０ｇ（０．２ｍｏｌ）のエチル亜ホスホン酸ブチルエステル（例２と同様に製造）および１．９６ｇ（９ｍｍｏｌ）のジフェニルホスフィン酸を添加し、反応混合物を８０℃に加熱し、アセチレンを体積流量５ｌ／ｈで反応溶液に通気する。５時間の反応時間の後で、窒素を使って装置からアセチレンを排出させる。精製するために、Ｄｅｌｏｘａｎ（登録商標）ＴＨＰ ＩＩを詰めたカラムに反応溶液を入れ、ＴＨＦを真空中で取り除く。生成物（エチルビニルホスフィン酸ブチルエステル）を減圧蒸留により精製する。３２．７ｇ（理論値の９３％）のエチルビニルホスフィン酸ブチルエステルが無色の油として得られる。
【０２２７】
例６
撹拌装置および高性能冷却器を備える三口フラスコに室温で４００ｇの酢酸を入れ、撹拌しながら窒素を通気させて脱気する。次に、そこに窒素下で１．３５ｇ（６ｍｍｏｌ）の酢酸パラジウムおよび３．４７ｇ（６ｍｍｏｌ）のキサントホスを添加し、撹拌し、次に１９ｇ（０．２ｍｏｌ）のエチル亜ホスホン酸（例１と同様に製造）を添加し、反応混合物を８０℃に加熱し、アセチレンを体積流量５ｌ／ｈで反応溶液に通気する。５時間の反応時間の後で、窒素を使って装置からアセチレンを排出させる。精製するために、Ｄｅｌｏｘａｎ（登録商標）ＴＨＰ ＩＩを詰めたカラムに反応溶液を入れ、酢酸を真空中で取り除く。生成物（エチルビニルホスフィン酸）をクロマトグラフィーにより精製する。２０．９ｇ（理論値の８７％）のエチルビニルホスフィン酸が無色の油として得られる。
【０２２８】
例７
撹拌装置および高性能冷却器を備える三口フラスコに室温で４００ｇのトルエンを入れ、撹拌しながら窒素を通気させて脱気する。そこに窒素下で５．５５ｇ（６ｍｍｏｌ）のＲｈＣｌ（ＰＰｈ３）３を添加し、撹拌し、次に３０ｇ（０．２ｍｏｌ）のエチル亜ホスホン酸ブチルエステル（例３と同様に製造）および２０．４ｇ（０．２ｍｏｌ）のフェニルアセチレンを添加し、反応混合物を８０℃に加熱する。５時間の反応時間の後で、Ｄｅｌｏｘａｎ（登録商標）ＴＨＰ ＩＩを詰めたカラムに反応溶液を入れ、トルエンを真空中で取り除く。３７．６ｇ（理論値の９６％）のエチル−（１−フェニル−ビニル）ホスフィン酸ブチルエステルが無色の油として得られる。
【０２２９】
例８
撹拌装置および高性能冷却器を備える三口フラスコに室温で４００ｇのＴＨＦを入れ、撹拌しながら窒素を通気させて脱気する。次に、そこに窒素下で２．７５ｇ（１０ｍｍｏｌ）のビス（シクロオクタジエン）ニッケル（０）および８ｇ（４０ｍｍｏｌ）のメチルジフェニルホスフィンを添加し、撹拌し、次に３０ｇ（０．２ｍｏｌ）のエチル亜ホスホン酸ブチルエステル（例２と同様に製造）を添加し、室温でアセチレンを体積流量５ｌ／ｈで反応溶液に通気する。５時間の反応時間の後で、窒素を使って装置からアセチレンを排出させる。精製するために、Ｄｅｌｏｘａｎ（登録商標）ＴＨＰ ＩＩを詰めたカラムに反応溶液を入れ、ブタノールを真空中で取り除く。３３．４ｇ（理論値の９５％）のエチルビニルホスフィン酸ブチルエステルが無色の油として得られる。
【０２３０】
例９
３６０ｇ（３ｍｏｌ）の得られたエチルビニルホスフィン酸（例６と同様に製造）を８５℃で４００ｍｌのトルエンに溶解させ、８８８ｇ（１２ｍｏｌ）のブタノールと混合する。生成した水を約１００℃の反応温度で共沸蒸留により取り除く。生成物エチルビニルホスフィン酸ブチルエステルを、減圧蒸留により精製する。
【０２３１】
例１０
３６０ｇ（３．０ｍｏｌ）のエチルビニルホスフィン酸（例６と同様に製造）を８０℃で４００ｍｌのトルエンに溶解させ、３１５ｇ（３．５ｍｏｌ）の１，４−ブタンジオールと混合し、水分離器を備える蒸留装置中で約１００℃で４時間エステル化する。エステル化の終了後に、トルエンを真空中で分離する。５１８ｇ（理論値の９０％）のエチルビニルホスフィン酸−４−ヒドロキシブチルエステルが無色の油として得られる。
【０２３２】
例１１
３６０ｇ（３．０ｍｏｌ）のエチルビニルホスフィン酸（例６と同様に製造）を８５℃で４００ｍｌのトルエンに溶解させ、２４８ｇ（４ｍｏｌ）のエチレングリコールと混合し、水分離器を備える蒸留装置中で約１００℃で４時間エステル化する。エステル化の終了後にトルエンおよび過剰のエチルグリコールを真空中で分離する。４６２ｇ（理論値の９４％）のエチルビニルホスフィン酸−２−ヒドロキシエチルエステルが無色の油として得られる。
【０２３３】
例１２
ガラス製オートクレーブ中で１．１２ｇ（５ｍｍｏｌ）の酢酸パラジウム、３．９５ｇ（１０ｍｍｏｌ）の１，２−ビス［ジ（ｔｅｒｔブチル）ホスフィノメチル］ベンゼン、１７．６ｇ（０．１ｍｏｌ）のエチルビニルホスフィン酸ブチルエステル（例８と同様に製造）および１００ｍｌのテキサノールを１００℃で合成ガス混合物ＣＯ／Ｈ２（１：１）と１０ｂａｒで反応させた。４時間の反応時間の後で、オートクレーブの圧を抜き、溶媒を真空中で取り除き、生成物をクロマトグラフィーにより精製した。１５．２ｇ（理論値の７４％）のエチル−（２−ホルミルエチル）−ホスフィン酸ブチルエステルが無色の油として得られる。
【０２３４】
例１３
ガラス製オートクレーブ中で２５８ｍｇ（１ｍｍｏｌ）のロジウムビスカルボニルアセチルアセトナート、１０５ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）のトリフェニルホスフィン、２５．２ｇ（０．１ｍｏｌ）のエチル−（１−フェニル−ビニル）−ホスフィン酸ブチルエステル（例７と同様に製造）および１００ｍｌのテキサノールを１００℃で合成ガス混合物ＣＯ／Ｈ２（１：１）と１０ｂａｒで反応させた。４時間の反応時間の後で、オートクレーブの圧を抜き、溶媒を真空中で取り除き、生成物をクロマトグラフィーにより精製した。２５．１ｇ（理論値の８９％）のエチル−（１−フェニル−２−ホルミルエチル）−ホスフィン酸ブチルエステルが無色の油として得られる。
【０２３５】
例１４
ガラス製オートクレーブ中で１．０３ｇ（３ｍｍｏｌ）の２−エチルヘキサン酸コバルト、４．１２ｇ（６ｍｍｏｌ）の２，２’−ビス（ジフェノキシホスフィン）−１，１’−ビナフチル、１２．０ｇ（０．１ｍｏｌ）のエチルビニルホスフィン酸（例６と同様に製造）および１００ｍｌのテキサノールを１００℃で合成ガス混合物ＣＯ／Ｈ２（１：１）と１０ｂａｒで反応させた。４時間の反応時間の後で、オートクレーブの圧を抜き、溶媒を真空中で取り除き、生成物をクロマトグラフィーにより精製した。１３．１ｇ（理論値の８７％）のエチル−（２−ホルミルエチル）−ホスフィン酸が無色の油として得られる。
【０２３６】
例１５
温度計、還流冷却器、強力撹拌装置および滴下漏斗を備える１ｌの五口フラスコに４１２ｇ（２ｍｏｌ）のエチル−（２−ホルミルエチル）−ホスフィン酸ブチルエステル（例１３と同様に製造）を入れる。１６０℃で４時間５００ｍｌの水を加え、ブタノール−水混合物を蒸留する。固体残渣をアセトンから晶出させる。２９７ｇ（理論値の９９％）のエチル−（２−ホルミルエチル）−ホスフィン酸が油として得られる。
【０２３７】
例１６
ガラス製オートクレーブ中で２４０ｇのエタノール、６８ｇのアンモニア、５２ｇの水、６．４ｇのＲａｎｅｙ（登録商標）ニッケル（１．５重量％のクロムを添加）、５５．５ｇ（０．３７ｍｏｌ）のエチル−（２−ホルミルエチル）−ホスフィン酸（例１２と同様に製造）を、７０℃で水素と２５ｂａｒで反応させる。８時間の反応時間の後で、オートクレーブの圧を抜いた。精製のために反応溶液を濾過し、真空中で濃縮する。
得られた残渣を１５０ｇの水に取り込み、約３０ｇ（０．３７ｍｏｌ）の５０％水酸化ナトリウム溶液と混合し、続いて約１８．１ｇ（０．１９ｍｏｌ）の濃硫酸の添加により中和する。続いて、水を真空中で留去する。残渣をエタノールに取り込み、不溶性の塩を濾過して除く。濾液の溶媒は、真空中で分離する。生成物をクロマトグラフィーにより精製する。３７．１ｇ（理論値の６６％）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸が無色の油として得られる。
【０２３８】
例１７
ガラス製オートクレーブ中で２４０ｇのヘキサメチレンジアミン、５２ｇの水、６．４ｇのＲａｎｅｙ（登録商標）ニッケル（１．５重量％のクロムを添加）、０．１８ｇ（４ｍｍｏｌ）の水酸化カリウム、７５．１ｇ（０．３７ｍｏｌ）のエチル−（２−ホルミルエチル）ホスフィン酸ブチルエステル（例１２と同様に製造）を、５０℃で水素と２５ｂａｒで反応させる。８時間の反応時間の後で、オートクレーブの圧を抜いた。精製のために反応溶液を濾過し、Ｄｅｌｏｘａｎ（登録商標）ＴＨＰ ＩＩを詰めたカラムに入れ、真空中で濃縮する。生成物をクロマトグラフィーにより精製する。６３．９ｇ（理論値の８３％）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸ブチルエステルが無色油として得られる。
【０２３９】
例１８
撹拌装置、滴下漏斗および高性能冷却器を備える三口フラスコに、室温で１００ｍｌの無水ジエチルエーテル中の２．３ｇ（０．０６ｍｏｌ）の水素化アルミニウムリチウムを入れ、２８．２ｇ（０．１ｍｏｌ）のエチル−（１−フェニル−２−ホルミルエチル）−ホスフィン酸ブチルエステル（例１３と同様に製造）を１００ｍｌのジエチルエーテルに溶かした溶液を、ジエチルエーテルが適度に沸騰するように絶えず撹拌しながら滴加する。滴加の終了後に、還流下で１時間加熱し、続いて反応溶液を１．８ｇ（０．１ｍｏｌ）の水と混合する。不溶性の塩を濾過して除く。濾液の溶媒は、真空中で分離し、生成物をクロマトグラフィーにより精製する。２４．１ｇ（理論値の８５％）のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸ブチルエステルが無色の油として得られる。
【０２４０】
例１９
温度計、還流冷却器、強力撹拌装置および滴下漏斗を備える１ｌの五口フラスコに５６８ｇ（２ｍｏｌ）のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸ブチルエステル（例１３と同様に製造）を入れる。１６０℃で４時間５００ｍｌの水を加え、ブタノール−水混合物を蒸留する。固体残渣をアセトンから晶出させる。４５１ｇ（理論値の９９％）のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸が油として得られる。
【０２４１】
例２０
９１２ｇ（６ｍｏｌ）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸（例１６と同様に製造）を８６０ｇの水に溶解させ、温度計、還流冷却器、強力撹拌装置および滴下漏斗を備える５ｌ容の五口フラスコに入れ、約４８０ｇ（６ｍｏｌ）の５０％水酸化ナトリウム溶液で中和する。８５℃でＡｌ２（ＳＯ４）３・１４Ｈ２Ｏの４６％水溶液１２９１ｇの混合物を加える。続いて、得られた固体を濾過して除き、熱水で洗浄し、１３０℃の真空中で乾燥させる。収量：無色の塩として８６０ｇ（理論値の８９％）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸アルミニウム（ＩＩＩ）塩。
【０２４２】
例２１
２２８ｇ（１ｍｏｌ）のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）ホスフィン酸（例１９と同様に製造）および８５ｇのチタンテトラブトキシドを５００ｍｌのトルエン中で４０時間還流下で加熱する。生じたブタノールを部分量のトルエンで時々留去する。続いて発生した溶液を溶媒から除去する。２１５ｇ（理論値の９１％）のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸チタン塩が得られる。
【０２４３】
例２２
４５６ｇ（３ｍｏｌ）のエチル−３−ヒドロキシプロピルホスフィン酸（例１６と同様に製造）を８５℃で４００ｍｌのトルエンに溶解させ、８８８ｇ（１２ｍｏｌ）のブタノールを混合する。生成した水を約１００℃の反応温度で共沸蒸留により取り除く。減圧蒸留により精製して、５２４ｇ（理論値の８４％）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸ブチルエステルが得られる。
【０２４４】
例２３
６８４ｇ（３．０ｍｏｌ）のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸（例１９と同様に製造）を８０℃で４００ｍｌのトルエンに溶解させ、５９４ｇ（６．６ｍｏｌ）の１，４−ブタンジオールと混合し、水分離器を備える蒸留装置中で約１００℃で４時間エステル化する。エステル化の終了後にトルエンを真空中で分離する。６６６ｇ（理論値の７４％）のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸−４−ヒドロキシブチルエステルが無色の油として得られる。
【０２４５】
例２４
４１６ｇ（２ｍｏｌ）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸ブチルエステル（例１７と同様に製造）に１５５ｇ（２．５ｍｏｌ）のエチレングリコールおよび０．４ｇのシュウ酸チタンカリウムを加え、２００℃で２時間撹拌する。ゆっくりと真空にすることによって易揮発性画分を留去する。４３９ｇ（理論値の９８％）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸−２−ヒドロキシエチルエステルが得られる。
【０２４６】
例２５
ガス導入管、温度計、強力撹拌装置およびガス燃焼付き還流冷却器を備える５００ｍｌの五口フラスコに１５２ｇ（１ｍｏｌ）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸（例１９と同様に製造）を入れる。室温でエチレンオキシドを導入する。冷却下で７０℃の反応温度に調整し、８０℃でさらに１時間後反応させる。エチレンオキシドの取り込みは６４．８ｇである。生成物の酸価は、１ｍｇ ＫＯＨ／ｇ未満である。無色透明の液体である、１８６ｇ（理論値の９５％）のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸−２−ヒドロキシエチルエステルが得られる。
【０２４７】
例２６
テレフタル酸、エチレングリコールおよびエチル−３−ヒドロキシプロピルホスフィン酸−２−ヒドロキシエチルエステル（例２４と同様に製造）を、１０００：６５０：７０の重量比で、酢酸亜鉛および酸化アンチモン（ＩＩＩ）の存在下で通常の条件で重合させる。１９．６ｇのエチル−３−ヒドロキシプロピルホスフィン酸−２−ヒドロキシエチルエステルに２９０ｇのテレフタル酸、１８２ｇのエチレングリコール、０．３４ｇの酢酸亜鉛を加え、２００℃で２時間加熱する。次に、０．２９ｇの無水リン酸三ナトリウムおよび０．１４ｇの酸化アンチモン（ＩＩＩ）を加え、２８０℃に加熱し、次に真空にする。得られた融解物（３５１ｇ、リン含量０．９％）から、ＩＳＯ４５８９−２による酸素指数（ＬＯＩ）の測定用および燃焼試験ＵＬ９４（Ｕｎｄｅｒｗｒｉｔｅｒ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ）用に厚さ１．６ｍｍの検体を射出する。このように製造された検体は、４０％ Ｏ２のＬＯＩをもたらし、ＵＬ９４による燃焼性分類Ｖ−０を満たした。エチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸−２−ヒドロキシエチルエステルを有さない、対応する検体は、わずか３１％ Ｏ２のＬＯＩをもたらし、ＵＬ９４による燃焼性分類Ｖ−２しか満たさなかった。したがって、エチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸−２−ヒドロキシエチルエステルを含有するポリエステル成形体は、明らかな難燃特性を示す。
【０２４８】
例２７
１９．２ｇのエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）ホスフィン酸（例１９と同様に製造）に７．６ｇの１，３−プロピレングリコールを加え、エステル化の際に生成した水を１６０℃で留去する。次に、３７８ｇのジメチルテレフタレート、１５２ｇの１，３−プロパンジオール、０．２２ｇのテトラブチルイタネート（Ｔｅｔｒａｂｕｔｙｌｉｔａｎａｔ）および０．０５ｇの酢酸リチウムを加え、次にその混合物を２時間撹拌しながら１３０〜１８０℃に加熱し、続いて減圧下で２７０℃に加熱する。このポリマー（４３３ｇ）は、０．６％のリンを含有し、ＬＯＩは３４である。
【０２４９】
例２８
１２．８ｇのエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸（例１６と同様に製造）に３６７ｇのジメチルテレフタレート、１７０ｇの１，４−ブタンジオール、０．２２ｇのテトラブチルイタネートおよび０．０５ｇの酢酸リチウムを加え、次にその混合物を２時間撹拌しながら１３０〜１８０℃に加熱し、続いて減圧下で２７０℃に加熱する。このポリマー（４２６ｇ）は、０．６％のリンを含有し、ＬＯＩは３４であり、未処理のポリブチレンテレフタレートのＬＯＩは２３である。
【０２５０】
例２９
還流冷却器、撹拌装置、温度計および窒素導入口を備える２５０ｍｌ容の五口フラスコ中で、０．５５ｍｏｌ／１００ｇのエポキシ価を有する１００ｇのビスフェノールＡ−ビスグリシドエーテル（Ｂｅｃｋｏｐｏｘ ＥＰ１４０、Ｓｏｌｕｔｉａ社）および２９．６ｇ（０．１３ｍｏｌ）のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）ホスフィン酸（例１９と類似の方法で製造）を撹拌しながら最高１５０℃に加熱する。３０分後に、透明な融解物が生じる。さらに１時間１５０℃で撹拌後に、融解物を冷却し、摩砕する。３．３重量％のリン含量を有する１１８．５ｇの白色粉末が得られる。
【０２５１】
例３０
撹拌装置、水分離器、温度計、還流冷却器および窒素導入口を備える２ｌのフラスコ中で、２９．４ｇの無水フタル酸、１９．６ｇの無水マレイン酸、２４．８ｇのプロピレングリコール、１５．５ｇのエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸−２−ヒドロキシエチルエステル（例２５と同様に製造）、２０ｇのキシレンおよび５０ｍｇのヒドロキノンを、撹拌および窒素導入下で１００℃に加熱する。発熱反応が開始した場合は、加熱を取り止める。反応が次第に弱まった後も、約１９０℃でさらに撹拌する。１４ｇの水が放出された後に、キシレンを留去し、ポリマー融解物を冷却する。２．３重量％のリン含量を有する、９１．５ｇの白色粉末が得られる。
【０２５２】
例３１
５０重量％のポリブチレンテレフタレート、２０重量％のエチル−（３−ヒドロキシプロピル）−ホスフィン酸アルミニウム（ＩＩＩ）塩（例２０と同様に製造）および３０重量％のガラス繊維の混合物を二軸スクリュー押出機（Ｌｅｉｓｔｒｉｔｚ ＬＳＭ３０／３４型）で２３０〜２６０℃の温度で混ぜ合わせてポリマー成形材料にする。均一化されたポリマーストランドを引き抜き、水浴中で冷却し、続いてペレット化した。乾燥させた後で、成形材料を射出成形機（Ａａｒｂｕｒｇ Ａｌｌｒｏｕｎｄｅｒ型）で２４０〜２７０℃でポリマー成形体に加工し、Ｖ−０のＵＬ−９４分類を決定する。
【０２５３】
例３２
５３重量％のポリアミド６．６、３０重量％のガラス繊維、１７重量％のエチル−（１−フェニル−３−ヒドロキシプロピル）ホスフィン酸チタン塩（例２１と同様に製造）の混合物を二軸スクリュー押出機（Ｌｅｉｓｔｒｉｔｚ ＬＳＭ３０／３４型）で混ぜ合わせてポリマー成形材料にする。均一化されたポリマーストランドを引き抜き、水浴中で冷却し、続いてペレット化し。乾燥させた後で、成形材料を射出成形機（Ａａｒｂｕｒｇ Ａｌｌｒｏｕｎｄｅｒ型）で２６０〜２９０℃でポリマー成形体に加工し、Ｖ−０のＵＬ−９４分類を得る。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩の製造方法において、
ａ）ホスフィン酸源（Ｉ）
【化１】
を、オレフィン（ＩＶ）
【化２】
と、触媒Ａの存在下で反応させて、アルキル亜ホスホン酸、その塩またはエステル（ＩＩ）
【化３】
とし、
ｂ）そのようにして生じたアルキル亜ホスホン酸、その塩またはエステル（ＩＩ）を、式（Ｖ）
【化４】
のアセチレン性化合物と、触媒Ｂの存在下で反応させて、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩ）
【化５】
とし、そして
ｃ）そのようにして生じたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩ）を、一酸化炭素および水素と、触媒Ｃの存在下で反応させて、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩＩ）
【化６】
とし、
ｄ）そのようにして生じたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩＩ）を、還元剤と、または触媒Ｄの存在下で水素と反応させて、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＩＩＩ）
【化７】
とすることを特徴とする製造方法［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は、同一かまたは異なり、互いに独立に、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アリール、Ｃ６〜Ｃ１８アラルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アルキル−アリール、ＣＮ、ＣＨＯ、ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＮ、ＣＨ（ＯＨ）Ｃ２Ｈ５、ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ３、９−アントラセン、２−ピロリドン、（ＣＨ２）ｍＯＨ、（ＣＨ２）ｍＮＨ２、（ＣＨ２）ｍＮＣＳ、（ＣＨ２）ｍＮＣ（Ｓ）ＮＨ２、（ＣＨ２）ｍＳＨ、（ＣＨ２）ｍＳ−２−チアゾリン、（ＣＨ２）ｍＳｉＭｅ３、Ｃ（Ｏ）Ｒ７、（ＣＨ２）ｍＣ（Ｏ）Ｒ７、ＣＨ＝ＣＨＲ７および／またはＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（Ｏ）Ｒ７を意味し、Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ８アルキルまたはＣ６〜Ｃ１８アリールを表し、ｍは、０〜１０の整数を意味し、Ｘは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アリール、Ｃ６〜Ｃ１８アラルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アルキル−アリール、（ＣＨ２）ｋＯＨ、ＣＨ２−ＣＨＯＨ−ＣＨ２ＯＨ、（ＣＨ２）ｋＯ（ＣＨ２）ｋＨ、（ＣＨ２）ｋ−ＣＨ（ＯＨ）−（ＣＨ２）ｋＨ、（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋＨ、（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）ｋＨ、（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）ｋ（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋＨ、（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋ（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）Ｈ、（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋ−アルキル、（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）ｋ−アルキル、（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）ｋ（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋ−アルキル、（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋ（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）Ｏ−アルキル、（ＣＨ２）ｋ−ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）ｋＨ、（ＣＨ２）ｋＮＨ２および／または（ＣＨ２）ｋＮ［（ＣＨ２）ｋＨ］２（ここで、ｋは、０〜１０の整数を意味する）および／またはＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｈおよび／またはプロトン化窒素塩基を表し、触媒Ａ、Ｂ、ＣおよびＤは、遷移金属および／または遷移金属化合物および／または触媒系であり、前記触媒系は、遷移金属および／または遷移金属化合物と、少なくとも一つの配位子とから構成される］。
【請求項２】
ステップｄ）により得られたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩またはエステル（ＩＩＩ）を、続いてステップｅ）においてＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｒ、Ｍｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの金属化合物および／またはプロトン化窒素塩基と反応させ、これらの金属および／または窒素化合物の対応するモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩（ＩＩＩ）とすることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ステップａ）により得られたアルキル亜ホスホン酸、その塩もしくはエステル（ＩＩ）、および／またはステップｂ）により得られたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩もしくはエステル（ＶＩ）、および／またはステップｃ）により得られたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩もしくはエステル（ＶＩＩ）、および／またはステップｄ）により得られたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩もしくはエステル（ＩＩＩ）、および／またはそのときどきに結果として得られたその反応溶液を、アルキレンオキシドまたはアルコールＭ−ＯＨおよび／もしくはＭ’−ＯＨでエステル化し、そのときどきに生じたアルキル亜ホスホン酸エステル（ＩＩ）、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸エステル（ＶＩ）、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸エステル（ＶＩＩ）および／またはモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸エステル（ＩＩＩ）をさらなる反応ステップｂ）、ｃ）、ｄ）またはｅ）に供することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
基Ｃ６〜Ｃ１８アリール、Ｃ６〜Ｃ１８アラルキルおよびＣ６〜Ｃ１８アルキル−アリールが、ＳＯ３Ｘ２、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、ＯＨ、ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ３ＳＯ３Ｘ２、ＰＯ３Ｘ２、ＮＨ２、ＮＯ２、ＯＣＨ３、ＳＨおよび／またはＯＣ（Ｏ）ＣＨ３で置換されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一つに記載の方法。
【請求項５】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６が、同一であるかまたは異なり、互いに独立にＨ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチルおよび／またはフェニルを意味することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一つに記載の方法。
【請求項６】
Ｘが、Ｈ、Ｃａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｅ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、エチレングリコール、プロピルグリコール、ブチルグリコール、ペンチルグリコール、ヘキシルグリコール、アリルおよび／またはグリセリンを意味することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一つに記載の方法。
【請求項７】
前記遷移金属および／または遷移金属化合物が、第７および第８亜族のものであることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一つに記載の方法。
【請求項８】
前記遷移金属および／または遷移金属化合物が、ロジウム、ニッケル、パラジウム、白金、ルテニウムであることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一つに記載の方法。
【請求項９】
アセチレン性化合物が、アセチレン、メチル−アセチレン、１−ブチン、１−ヘキシン、２−ヘキシン、１−オクチン、４−オクチン、１−ブチン−４−オール、２−ブチン−１−オール、３−ブチン−１−オール、５−ヘキシン−１−オール、１−オクチン−３−オール、１−ペンチン、フェニルアセチレン、トリメチルシリルアセチレンであることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１０】
一般式Ｍ−ＯＨのアルコールが、Ｃ１〜Ｃ１８の炭素鎖長を有する直鎖または分岐の飽和および不飽和一価有機アルコールであり、一般式Ｍ’−ＯＨのアルコールが、Ｃ１〜Ｃ１８の炭素鎖長を有する直鎖または分岐の飽和および不飽和多価有機アルコールであることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１１】
さらなる合成のための中間生成物としての、バインダーとしての、エポキシ樹脂、ポリウレタンおよび不飽和ポリエステル樹脂の硬化時の架橋剤または促進剤としての、ポリマー安定化剤としての、農薬としての、ヒトおよび動物用の治療薬または治療薬における添加剤としての、金属イオン封鎖剤としての、鉱物油添加剤としての、腐食防止剤としての、洗剤および洗浄剤用途における、ならびに電子工学用途における、請求項１〜１０のいずれか一つに従って製造されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩の使用。
【請求項１２】
難燃剤としての、特にクリアコートおよび発泡塗料（Ｉｎｔｕｍｅｓｚｅｎｚｂｅｓｃｈｉｃｈｔｕｎｇｅｎ）用の難燃剤、木材および他のセルロース含有製品用の難燃剤としての、ポリマー用の反応型および／もしく非反応型難燃剤としての、難燃性ポリマー成形材料の製造のための、難燃性ポリマー成形体の製造のための、ならびに／または含浸によるポリエステルおよびセルロース純紡および混紡織布の難燃性加工のための、請求項１〜１０のいずれか一つに従って製造されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩およびエステルの使用。
【請求項１３】
請求項１〜１０のいずれか一つに従って製造された０．５〜４５重量％のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩またはエステル、０．５〜９５重量％の熱可塑性または熱硬化性ポリマーまたはその混合物、０〜５５重量％の添加剤、および０〜５５重量％の充填材または強化材を含有し、上記成分の合計が１００重量％である、難燃性熱可塑性または熱硬化性ポリマー成形材料。
【請求項１４】
請求項１〜１０のいずれか一つに従って製造された０．５〜４５重量％のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩またはエステル、０．５〜９５重量％の熱可塑性または熱硬化性ポリマーまたはその混合物、０〜５５重量％の添加剤、および０〜５５重量％の充填材または強化材を含有し、上記成分の合計が１００重量％である、難燃性熱可塑性または熱硬化性ポリマー成形体、ポリマーフィルム、ポリマー糸およびポリマー繊維。
【請求項１】
モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩の製造方法において、
ａ）ホスフィン酸源（Ｉ）
【化１】
を、オレフィン（ＩＶ）
【化２】
と、触媒Ａの存在下で反応させて、アルキル亜ホスホン酸、その塩またはエステル（ＩＩ）
【化３】
とし、
ｂ）そのようにして生じたアルキル亜ホスホン酸、その塩またはエステル（ＩＩ）を、式（Ｖ）
【化４】
のアセチレン性化合物と、触媒Ｂの存在下で反応させて、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩ）
【化５】
とし、そして
ｃ）そのようにして生じたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩ）を、一酸化炭素および水素と、触媒Ｃの存在下で反応させて、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩＩ）
【化６】
とし、
ｄ）そのようにして生じたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩＩ）を、還元剤と、または触媒Ｄの存在下で水素と反応させて、モノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＩＩＩ）
【化７】
とすることを特徴とする製造方法［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は、同一かまたは異なり、互いに独立に、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アリール、Ｃ６〜Ｃ１８アラルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アルキル−アリール、ＣＮ、ＣＨＯ、ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＮ、ＣＨ（ＯＨ）Ｃ２Ｈ５、ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ３、９−アントラセン、２−ピロリドン、（ＣＨ２）ｍＯＨ、（ＣＨ２）ｍＮＨ２、（ＣＨ２）ｍＮＣＳ、（ＣＨ２）ｍＮＣ（Ｓ）ＮＨ２、（ＣＨ２）ｍＳＨ、（ＣＨ２）ｍＳ−２−チアゾリン、（ＣＨ２）ｍＳｉＭｅ３、Ｃ（Ｏ）Ｒ７、（ＣＨ２）ｍＣ（Ｏ）Ｒ７、ＣＨ＝ＣＨＲ７および／またはＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（Ｏ）Ｒ７を意味し、Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ８アルキルまたはＣ６〜Ｃ１８アリールを表し、ｍは、０〜１０の整数を意味し、Ｘは、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アリール、Ｃ６〜Ｃ１８アラルキル、Ｃ６〜Ｃ１８アルキル−アリール、（ＣＨ２）ｋＯＨ、ＣＨ２−ＣＨＯＨ−ＣＨ２ＯＨ、（ＣＨ２）ｋＯ（ＣＨ２）ｋＨ、（ＣＨ２）ｋ−ＣＨ（ＯＨ）−（ＣＨ２）ｋＨ、（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋＨ、（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）ｋＨ、（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）ｋ（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋＨ、（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋ（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）Ｈ、（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋ−アルキル、（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）ｋ−アルキル、（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）ｋ（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋ−アルキル、（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｋ（ＣＨ２−Ｃ［ＣＨ３］ＨＯ）Ｏ−アルキル、（ＣＨ２）ｋ−ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）ｋＨ、（ＣＨ２）ｋＮＨ２および／または（ＣＨ２）ｋＮ［（ＣＨ２）ｋＨ］２（ここで、ｋは、０〜１０の整数を意味する）および／またはＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｈおよび／またはプロトン化窒素塩基を表し、触媒Ａ、Ｂ、ＣおよびＤは、遷移金属および／または遷移金属化合物および／または触媒系であり、前記触媒系は、遷移金属および／または遷移金属化合物と、少なくとも一つの配位子とから構成される］。
【請求項２】
ステップｄ）により得られたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩またはエステル（ＩＩＩ）を、続いてステップｅ）においてＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｒ、Ｍｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの金属化合物および／またはプロトン化窒素塩基と反応させ、これらの金属および／または窒素化合物の対応するモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸塩（ＩＩＩ）とすることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ステップａ）により得られたアルキル亜ホスホン酸、その塩もしくはエステル（ＩＩ）、および／またはステップｂ）により得られたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩もしくはエステル（ＶＩ）、および／またはステップｃ）により得られたモノ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩もしくはエステル（ＶＩＩ）、および／またはステップｄ）により得られたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩もしくはエステル（ＩＩＩ）、および／またはそのときどきに結果として得られたその反応溶液を、アルキレンオキシドまたはアルコールＭ−ＯＨおよび／もしくはＭ’−ＯＨでエステル化し、そのときどきに生じたアルキル亜ホスホン酸エステル（ＩＩ）、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸エステル（ＶＩ）、モノ官能化ジアルキルホスフィン酸エステル（ＶＩＩ）および／またはモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸エステル（ＩＩＩ）をさらなる反応ステップｂ）、ｃ）、ｄ）またはｅ）に供することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
基Ｃ６〜Ｃ１８アリール、Ｃ６〜Ｃ１８アラルキルおよびＣ６〜Ｃ１８アルキル−アリールが、ＳＯ３Ｘ２、−Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、ＯＨ、ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ３ＳＯ３Ｘ２、ＰＯ３Ｘ２、ＮＨ２、ＮＯ２、ＯＣＨ３、ＳＨおよび／またはＯＣ（Ｏ）ＣＨ３で置換されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一つに記載の方法。
【請求項５】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６が、同一であるかまたは異なり、互いに独立にＨ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチルおよび／またはフェニルを意味することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一つに記載の方法。
【請求項６】
Ｘが、Ｈ、Ｃａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｅ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、エチレングリコール、プロピルグリコール、ブチルグリコール、ペンチルグリコール、ヘキシルグリコール、アリルおよび／またはグリセリンを意味することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一つに記載の方法。
【請求項７】
前記遷移金属および／または遷移金属化合物が、第７および第８亜族のものであることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一つに記載の方法。
【請求項８】
前記遷移金属および／または遷移金属化合物が、ロジウム、ニッケル、パラジウム、白金、ルテニウムであることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一つに記載の方法。
【請求項９】
アセチレン性化合物が、アセチレン、メチル−アセチレン、１−ブチン、１−ヘキシン、２−ヘキシン、１−オクチン、４−オクチン、１−ブチン−４−オール、２−ブチン−１−オール、３−ブチン−１−オール、５−ヘキシン−１−オール、１−オクチン−３−オール、１−ペンチン、フェニルアセチレン、トリメチルシリルアセチレンであることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１０】
一般式Ｍ−ＯＨのアルコールが、Ｃ１〜Ｃ１８の炭素鎖長を有する直鎖または分岐の飽和および不飽和一価有機アルコールであり、一般式Ｍ’−ＯＨのアルコールが、Ｃ１〜Ｃ１８の炭素鎖長を有する直鎖または分岐の飽和および不飽和多価有機アルコールであることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１１】
さらなる合成のための中間生成物としての、バインダーとしての、エポキシ樹脂、ポリウレタンおよび不飽和ポリエステル樹脂の硬化時の架橋剤または促進剤としての、ポリマー安定化剤としての、農薬としての、ヒトおよび動物用の治療薬または治療薬における添加剤としての、金属イオン封鎖剤としての、鉱物油添加剤としての、腐食防止剤としての、洗剤および洗浄剤用途における、ならびに電子工学用途における、請求項１〜１０のいずれか一つに従って製造されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩の使用。
【請求項１２】
難燃剤としての、特にクリアコートおよび発泡塗料（Ｉｎｔｕｍｅｓｚｅｎｚｂｅｓｃｈｉｃｈｔｕｎｇｅｎ）用の難燃剤、木材および他のセルロース含有製品用の難燃剤としての、ポリマー用の反応型および／もしく非反応型難燃剤としての、難燃性ポリマー成形材料の製造のための、難燃性ポリマー成形体の製造のための、ならびに／または含浸によるポリエステルおよびセルロース純紡および混紡織布の難燃性加工のための、請求項１〜１０のいずれか一つに従って製造されたモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩およびエステルの使用。
【請求項１３】
請求項１〜１０のいずれか一つに従って製造された０．５〜４５重量％のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩またはエステル、０．５〜９５重量％の熱可塑性または熱硬化性ポリマーまたはその混合物、０〜５５重量％の添加剤、および０〜５５重量％の充填材または強化材を含有し、上記成分の合計が１００重量％である、難燃性熱可塑性または熱硬化性ポリマー成形材料。
【請求項１４】
請求項１〜１０のいずれか一つに従って製造された０．５〜４５重量％のモノヒドロキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、その塩またはエステル、０．５〜９５重量％の熱可塑性または熱硬化性ポリマーまたはその混合物、０〜５５重量％の添加剤、および０〜５５重量％の充填材または強化材を含有し、上記成分の合計が１００重量％である、難燃性熱可塑性または熱硬化性ポリマー成形体、ポリマーフィルム、ポリマー糸およびポリマー繊維。
【公表番号】特表２０１２−５０７４８０（Ｐ２０１２−５０７４８０Ａ）
【公表日】平成２４年３月２９日（２０１２．３．２９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５３３５７２（Ｐ２０１１−５３３５７２）
【出願日】平成２１年１０月６日（２００９．１０．６）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００９／００７１２９
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／０５１８８９
【国際公開日】平成２２年５月１４日（２０１０．５．１４）
【出願人】（３９８０５６２０７）クラリアント・ファイナンス・（ビーブイアイ）・リミテッド (182)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２４年３月２９日（２０１２．３．２９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１０月６日（２００９．１０．６）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００９／００７１２９
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／０５１８８９
【国際公開日】平成２２年５月１４日（２０１０．５．１４）
【出願人】（３９８０５６２０７）クラリアント・ファイナンス・（ビーブイアイ）・リミテッド (182)
【Ｆターム（参考）】
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