【課題】Ｘ線フラットパネル検出器を用いたＸ線検査装置において、クラスタ状の欠陥についても補完処理を行い、しかも、その補完処理により擬似的な像が生じても、オペレータによる良／不良判定に誤りが生じることを防止することができ、ひいては長期にわたってＸ線フラットパネル検出器を使用することのできるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線フラットパネル検出器２の欠陥画素を抽出し、その欠陥画素の出力データを周囲の画素の出力データを用いて補完して表示器に表示する欠陥画素補完手段１３，１５を備えるとともに、その欠陥画素補完手段による補完の対象となった画素を、表示器１３の画面上で報知する補完対象画素報知手段を設けることで、欠陥画素の位置情報と、補完後の像の変化から、検査に影響を与えるか否かをユーザが判断できるようにする。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線受光面の大きさの互いに異なる複数のＸ線検出器を設け、被検査物の全体像の把握を可能とし、かつ、拡大断層像を高分解能のもとに得ることのできるＸ線ＣＴ装置でありながら、ＣＴ撮影範囲の設定を容易化することのできるＸ線ＣＴ装置を提供する。
【解決手段】一つのＸ線検出器２ａでＣＴ撮影した基準画像を表示するとともに、そのときの回転テーブル３，ｘｙテーブル５の位置を記憶しておき、他のＸ線検出器２ｂを選択した状態では、回転テーブル３，ｘｙテーブル５の位置と、基準画像の撮影時における回転テーブル３，ｘｙテーブル５の位置情報とから、当該他のＸ線検出器２ｂによる視野の位置と大きさに係る情報を、基準画像上に重畳表示することで、例えばＸ線受光面の小さいＸ線検出器２ｂを用いて被検査物Ｗの局部を高拡大率でＣＴ撮影する際に、被検査物Ｗ上のどの部位を撮影しようとしているのかを直感的に把握することを可能とする。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線検出器を移動する機構を簡素化し、Ｘ線検査を高速化する。
【解決手段】一実施の形態に従うＸ線検査装置は、Ｘ線を用いて撮像するためのＸ線検出器２３．１と、Ｘ線検出器を移動するためのＸ線検出器駆動部２２と、検査対象領域を透過したＸ線が、Ｘ線検出器に入射するようにＸ線を出力するＸ線源１０と、Ｘ線検査装置の動作を制御する演算部７０と、Ｘ線検出器２３．１による複数の撮像のための各位置が同一平面に存在し、かつ、各位置におけるＸ線検出器の向きが一定となるように、Ｘ線検出器駆動部２２を制御するセンサ駆動制御部とを含む。 （もっと読む）

【課題】検査装置で検出された半導体装置の欠陥に関する検査データに基づいて、欠陥の分類精度の向上が可能な観察条件決定支援装置を提供する。
【解決手段】検査装置４で検出された半導体装置の欠陥に関する検査データに基づいて、詳細観察装置５において予め設定した複数の観察条件で同一の欠陥を撮影した複数の欠陥画像を取得する詳細観察条件の詳細観察結果ＤＢ２６と、それぞれの欠陥画像に基づいて、複数の同一の欠陥の分類を行い、分類の結果として観察条件毎に同一の欠陥の属する第１カテゴリを決定する欠陥分類手段１２と、詳細観察装置５のユーザが同一の欠陥の分類を行い決定した第２カテゴリに、第１カテゴリが一致する比率に基づいて、複数の観察条件の中から半導体装置の製造時に使用する詳細観察条件決定・登録手段１５とを有する。 （もっと読む）

【課題】ウェハの評価の良い部分の領域や悪い部分の領域が分かる半導体検査装置のデータ処理方法とデータ表示方法と半導体検査装置を提供する。
【解決手段】電子ビームを用いた吸収電流測定方法を用いて、ウェハ２３のコンタクトホール界面状況を評価する半導体検査装置において、電子銃１０によって所定の電子ビームサイズでコンタクトホールを照射し、その際に測定される吸収電流値をコンタクトホールサイズで正規化した値をグラフ化し、そのグラフから任意の領域を指定して、表示装置１５０に表示されるウェハ上のマップにその測定点を表示する。 （もっと読む）

【課題】石膏ボード中に含まれるアスベスト含有量を精度良く、安価にまた短時間に測定可能なアスベスト分析方法及び分析試料作製方法を提供する。
【解決手段】分析対象試料である石膏ボードに水及び炭酸塩を加え、石膏ボードの主成分である硫酸カルシウムと炭酸塩とを反応させ、硫酸カルシウムを炭酸カルシウムにした後、この懸濁溶液に強酸を加え、炭酸カルシウムを溶解させ、その後この水溶液をろ過し固形分を分離し、この固形分を乾燥しＸ線回折測定用試料を得る。このＸ線回折測定用試料をＸ線回折装置で分析しアスベスト含有量を測定する。 （もっと読む）

【課題】
半導体装置製造プロセスで形成されるパターンの検査前に実行されるプリチャージの最適な条件を簡易に設定できるようにし、プリチャージの良否を自動判定し、その後の動作にフィードバックするようにして、検査結果の信頼性の低下を防ぎ、常に安定した検査ができるようにする。
【解決手段】
電子ビームを照射する前に、電子ビームを発生させる電子源とは別の第二の電子源から電子を発生させて基板の表面に帯電を形成させる帯電形成手段と、該帯電形成手段により基板の表面に帯電が形成された状態で、基板に流れる電流の値を計測する電流計測手段と、該電流計測手段により計測された電流の値が予め定められた目標値になるように帯電形成手段により形成される帯電を調整する調整手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】低Ｓ／Ｎ比の画像から対象粒子像を高精度かつ短時間で検出し得る画像処理システムを提供する。
【解決手段】画像処理システム１は、全体画像から複数の部分画像を抽出する部分画像抽出部１１と、対象粒子像を模した参照粒子像の画像データが格納されている画像記憶部１６１と、各部分画像について当該各部分画像と参照粒子像との間の類似度分布のピークを検出するピーク検出部１２と、各部分画像内の所定の基準位置からピークの位置に至る位置設定ベクトルを算出するベクトル算出部１３と、位置設定ベクトルにより指定された位置にピークの位置を設定して２次元ピーク分布を生成するピーク分布生成部１４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】多連製品に関しても、適正内容量からの過不足を容易に検出することが可能なＸ線検査装置を得る。
【解決手段】Ｘ線検査装置１は、物品５０にＸ線を照射するＸ線照射部７と、物品５０を透過したＸ線を検出するＸ線検出部８と、Ｘ線検出部８の検出結果から得られるＸ線透過画像に基づいて、輝度ごとの画素数を示すヒストグラムを作成するヒストグラム作成部９２と、良品に関するヒストグラムにおけるピークの個数と、検査対象の物品５０に関するヒストグラムにおけるピークの個数との比較結果に基づいて、検査対象の物品５０の良／不良を判定する判定部９４とを備える。 （もっと読む）

【課題】物品供給装置からＸ線検査装置の搬送コンベアへの物品供給量を適正に制御することにより、正確な異物検査を実行することが可能なＸ線検査装置を得る。
【解決手段】Ｘ線検査装置１は、検査対象である物品５０にＸ線を照射するＸ線照射部７と、物品５０を透過したＸ線を検出するＸ線検出部８と、上流の物品供給装置１２から供給された物品５０を、Ｘ線照射部７とＸ線検出部８との間のＸ線照射経路１００を通過するように搬送する搬送コンベア６と、Ｘ線検出部８の検出結果（データＳ１）から求めた物品５０の厚みに基づいて、物品供給装置１２から搬送コンベア６への物品供給量を制御するコンピュータ９とを備える。 （もっと読む）

【課題】微量の元素の分析を効率よく行う。
【解決手段】Ｘ線検出器１１〜１Ｎの出力パルスは、それぞれパルス時刻検出回路（時刻検出部）２１〜２Ｎに入力される。パルス時刻検出回路２１〜２Ｎは共通のクロックで動作し、それぞれＸ線検出器１１〜１Ｎの出力パルスが入力された到着時刻をそれぞれ認識する（出力Ａ_１〜Ａ_Ｎ）。Ｎ個のＸ線検出器１１〜１Ｎからの独立した出力パルスにおいて、ほぼ同時、すなわち、到着（出力）時刻の時間差が予め設定されたある一定の短い間隔（例えば１００ｎｓ）内である２つの出力パルスが出力パルス組として取り出される。この出力パルス組の抽出は、ＯＲ回路、時間差判定回路、抽出回路からなるパルス組抽出部でなされる。 （もっと読む）

【課題】層界面領域に達する前に、照射面の層界面領域への近接を検出することが可能な電子分光分析方法を提供する。
【解決手段】試料に電子を励起させる励起線を照射し、試料から放出され、第１の層の構成元素に由来する第１の電子の信号強度を測定し、試料から第１の電子とともに放出され、第２の層の構成元素に由来する第２の電子の信号強度であって、前記第２の層が前記試料の表面を形成しているときに測定される運動エネルギーである第１の運動エネルギー（Ｅｋ（Ｓｉ２ｓ）、Ｅｋ（Ｓｉ２ｐ））よりも低い第２の運動エネルギー（Ｅｋ（１）、Ｅｋ（２）、Ｅｋ（３））を有する第２の電子の信号強度を測定し、第２の電子の信号強度の変化度合いが所定のレベルに達したときは、試料の分析条件を変更する。 （もっと読む）

【課題】遮蔽手段の異常状態を安価な構成で且つ確実に検知することができるＸ線検査装置を提供すること。
【解決手段】検査空間２２内の被検査物ＷにＸ線を照射するＸ線発生器９と、被検査物Ｗを透過するＸ線を検出して透過量に応じた濃度データを出力するＸ線検出器１０と、Ｘ線発生器９が発生するＸ線が検査空間２２の外部に漏えいすることを防止する遮蔽カーテン１６と、を備え、Ｘ線検出器１０から出力される濃度データに基づいて被検査物Ｗの検査を行うＸ線検査装置１において、遮蔽カーテン１６を通して検査空間２２内に侵入した光の照度を測定する照度センサ１３と、照度センサ１３が、予め定めた値以上の照度を予め定めた時間以上連続して測定したとき、遮蔽カーテン１６が異常状態であると判定する判定部１７とを備えた。 （もっと読む）

【課題】 過去の測定結果情報との比較により、容易な変化点管理を行うことが可能な蛍光Ｘ線分析装置を提供すること。
【解決手段】 被測定物２０５を特定する特定情報を入力する入力部２０１と、被測定物の測定部位画像を取得する撮像部２１０と、蛍光Ｘ線の測定後においては、少なくとも、被測定物の分析結果を表示する表示部２０８と、特定情報に対応づけられた過去の測定情報を蓄積したデータベース２０９と、を備え、測定情報は、被測定物の測定部位画像と分析結果とを含み、表示部は、蛍光Ｘ線の測定条件設定時においては、少なくとも、撮像部で得られる被測定物の測定部位画像と、データベースに蓄積されている測定情報のうち入力部で入力された特定情報に対応する測定情報に含まれる被測定物の過去の測定時の測定部位画像と、を同時に表示可能である、蛍光Ｘ線分析装置。 （もっと読む）

【課題】伝熱管の破損の有無及び破損箇所を高精度且つ短時間に検出できること。
【解決手段】蒸気発生器１０における伝熱管１１の破損の有無を確認するために、伝熱管の外管と内管の隙間を流れるＨｅガスが、伝熱管の破損箇所から漏出したことを検出するガス漏出第１検出器１６、ガス漏出第２検出器１８と、伝熱管の破損箇所を特定するために、伝熱管１１を挟んで対向配置された中性子発生装置３３と中性子検出イメージセンサ３４とを有し、中性子発生装置３３から放出された中性子が、外管と内管の隙間を流れて破損箇所から漏出したＨｅ３ガスにより吸収され、そのときの中性子の影を中性子検出イメージセンサ３４が２次元画像として検出するものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、試料表面の粒子の蛍光Ｘ線スペクトルに基づいて粒子径を測定する粒子径測定装置、粒子径測定方法及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】Ｘ線源１３からウェハ３表面にＸ線ビームが照射され、ウェハ３表面が走査されてウェハ３表面の各粒子の蛍光Ｘ線スペクトルが測定される。測定された蛍光Ｘ線スペクトル及び標準スペクトルデータベース２８１に格納されている標準スペクトルデータに基づいて粒子に含まれる元素が同定される。測定された蛍光Ｘ線スペクトルから、同定元素の蛍光Ｘ線スペクトルが抽出され、面積分強度が算出される。検量線データベース２８２から同定元素に対応する検量線を読み出して面積分強度と対応する粒子径が特定される。 （もっと読む）

【課題】空間内の脅威物質の存在を迅速かつ正確に決定するために、あらゆる利用可能な検出器デバイスから放射線のサインデータを分析する手法を提供すること。
【解決手段】関心のある１つ以上の物質の存在に関して、実質的に囲まれた空間を調べる検出器によって生成されるスペクトルデータを分析する方法であって、検出器の検出経路内にあると予想される物質を複数の物質群のうちの１つに分類することと、各物質群に対する、代表的なエネルギー対断面積の曲線を記述するデータを選択することと、関心のある物質に対するスペクトルデータを生成するために、物質群のうちの１つ以上と各関心のある物質の相互作用を計算することと、スペクトルデータのライブラリを生成することと、空間内の脅威物質の存在を決定するために、検出器によって生成されたスペクトルデータをスペクトルデータのライブラリと比較して分析することとを包含する、方法。 （もっと読む）

【課題】製造プロセスが変動しても、また、試料から検査対象領域を撮像した撮像画像に周期性が少なくても、良好かつ迅速に欠陥検出できる欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】試料１１上の検査対象領域の撮像画像３１を撮像する撮像手段１３と、撮像画像３１から欠陥候補４１ａ〜５０ａを検出する欠陥候補検出手段１４と、検査対象領域における欠陥のないパターン情報３３を格納する格納手段１５と、欠陥のないパターン情報３３から擬似欠陥候補４１ｂ〜４９ｂを検出する擬似欠陥候補検出手段１６と、欠陥候補４１ａ〜５０ａと擬似欠陥候補４１ｂ〜４９ｂとを位置的に対応付けし、対応付けができなかった欠陥候補５０ａを欠陥３７として登録する欠陥候補限定手段１７とを有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、セル検査を用いて、基板表面に存在する欠陥を容易かつ高精度に検出することができる基板表面の検査方法及び検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 表面に複数の材料を含む基板１０上の欠陥３２を検査する基板表面の検査方法であって、
前記複数の材料のうち少なくとも２種類の材料のコントラストが所定範囲内となるようにランディングエネルギーが設定された電子ビームを、前記基板の表面に照射する電子ビーム照射工程と、
前記基板から発生した電子を検出し、前記２種類の材料からなるパターンが消去された又は薄くなった状態で前記基板の表面画像を取得する工程と、
取得された該表面画像において、背景画像と区別できるコントラストを有する対象物の像を、前記欠陥３２として検出する工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マイクロリトグラフィーのための物体の検査を可能にし、短い全長を有する反射型顕微鏡を提供する。
【解決手段】物体平面内での物体を検査する反射型Ｘ線顕微鏡であって、物体は、波長＜１００ｎｍ、特に、＜３０ｎｍの光線で照明され、像平面に拡大して結像され、第１鏡と第２鏡とを含み、物体平面から像平面までの光路内に配置される第１副系とを備える。反射型Ｘ線顕微鏡が光路内で第１副系に後置されて少なくとも第３鏡を有する第２副系を含むことにより特徴付けられる。 （もっと読む）