【課題】マガジンの移動機構を簡単化して製造コストを低減することができる液剤塗布装置及び液剤塗布方法を提供することを目的とする。
【解決手段】液剤塗布前の基板４を収容した基板供給用のマガジン５が設置される基板供給部Ｒ１、基板供給部Ｒ１に設置された基板供給用のマガジン５から取り出されて作業位置に移送された基板４に液剤Ｑを塗布する塗布ヘッド１４、液剤塗布後の基板４を収容する基板回収用のマガジン５が設置された基板回収部Ｒ２を備えた液剤塗布装置１において、基板供給部Ｒ１に設置された基板供給用のマガジン５を新たな基板供給用のマガジン５に交換する場合に、基板回収部Ｒ２から基板回収用のマガジン５を取り除いてその基板回収部Ｒ２にそれまで基板供給部Ｒ１に設置されていた基板供給用のマガジン５を次に使用する基板回収用のマガジン５として移動させた後、基板供給部Ｒ１に新たな基板供給用のマガジン５を設置する。 （もっと読む）

【課題】サイズの小型化を図り、面積生産性を向上させることができる液剤塗布装置及び液剤塗布方法を提供することを目的とする。
【解決手段】液剤Ｑが塗布される前の基板４を収容した基板供給用のマガジン５が設置される基板供給部Ｒ１、基板供給部Ｒ１に設置された基板供給用のマガジン５から取り出されて作業位置に移送された基板４に液剤Ｑを塗布する塗布ヘッド１４、塗布ヘッド１４により液剤Ｑが塗布された基板４を収容する基板回収用のマガジン５が設置された基板回収部Ｒ２を備えた液剤塗布装置１において、基板供給部Ｒ１と基板回収部Ｒ２が上下方向に並んで位置する。 （もっと読む）

【課題】全体工程時間を短縮できる基板処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態による基板処理装置は、基板を支持する基板支持ユニットと、前記基板に第１処理液を吐出するインクジェットノズルと、前記基板に第１処理液と異なる第２処理液を吐出するコーティングノズルと、前記基板支持ユニットに対して前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルとの位置が変更されるように前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルとを第１方向に直線移動させるジェントリーユニットと、を含む。 （もっと読む）

【課題】基材に形成される塗工域の始端縁の塗工膜厚みを中間域の塗工膜厚みに近似させると共に塗工域の始端縁の塗工膜厚みを幅方向に沿って均一する。
【解決手段】 基材Ｗを塗工切替用ロール３の進退で後退位置Ｂと塗工位置Ａとの間で移動させて、走行中の基材Ｗに塗工域Ｋと非塗工域Ｊとを交互に繰返すリバースロール方式の間欠塗工方法において、塗工操作は、前進で塗工位置Ａへ至った基材Ｗの走行を停止させ又は停止に近い状態まで減速させることで、基材Ｗの塗工面Ｗａと塗工ロール６の外周面６ａの間の塗工開始側の基材幅方向に形成される楔状の隙間に、塗工幅方向全域にわたって塗工液Ｑからなる連続した初期メニスカスＱａを形成し、その後に基材Ｗを走行させること。 （もっと読む）

【課題】放射線硬化可能なゲルインクのレベリング方法、装置、システムを提供する。
【解決手段】ＵＶ硬化可能なゲルインクの、基板に直接的なデジタル印刷のためのＵＶ硬化可能なゲルインクのレベリング方法は、基板に直接的にＵＶ硬化可能なゲルインクを噴射することと、ゲルインクの粘性を増加させるためにゲルインクを放射線にさらすことと、親水性接触ロールに犠牲解放流体を添加することと、接触ロールと加圧ロールとによって形成されたレベリングニップにおいてインクをレベリングすることとを含む。加圧ロールは、エラストマー材料と、疎水性表面とを備える。 （もっと読む）

【課題】 光学シートの背面にドットパターン印刷を施す際に、印刷面におけるスジの発生を抑制することにより、光学シートを用いた製品の品質向上を図ることができる光学シートの製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】 導光板を製造する際のドットパターン印刷において、インクジェットノズル５１から導光板の原板６０に対してインクを噴射する。このとき、原板６０の非印刷面を吸引吸着して反りを排除し、ジェットノズル５１と原板６０との距離であるギャップ距離Ｄが２．８ｍｍ以下に調整されている。 （もっと読む）

【課題】従来の処理装置では、処理効率を向上させることが困難である。
【解決手段】ワークＷを支持する２つのワークテーブル２５と、ワークテーブル２５のそれぞれを、２つのワークテーブル２５間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイドレール２３及びガイドレール２４と、前記共通経路において、ワークテーブル２５のそれぞれに支持されたワークＷに対向した状態で、対向するワークＷに対して描画処理を施す吐出ヘッド１９と、前記共通経路においてワークテーブル２５のそれぞれが吐出ヘッド１９に対向し得る領域である処理領域７３の外側に設けられ、ワークテーブル２５に支持されたワークＷの高さ位置を、処理領域７３の外側で検出する第１検出装置１４及び第２検出装置１５と、吐出ヘッド１９とワークＷとの間の隙間量を調整する昇降モーター１８と、を有する、ことを特徴とする処理装置。 （もっと読む）

【課題】電子部品の搭載された基板は樹脂系のコーティング剤を塗布することによって基盤遮蔽層を形成し、錆や腐食が生じないように覆われていた。しかし電極の為のホールや端子部分にコーティング剤を塗布すると不良品の発生になった。
【解決手段】ディスプレイ上でコーティング禁止エリアを設定し、制御部によってノズルパスを演算し、効率よく塗布作業するようにプログラミングするとともに、マスキング作業を不要にしたので簡単に塗布作業ができるようになった。 （もっと読む）

【課題】メニスカスに負担を掛けずに増粘液体を空吐出する。
【解決手段】加圧液室と、前記加圧液室に連通するノズルと、前記加圧液室に圧力を発生させる電気機械変換素子を有する液体吐出ヘッドに、複数の駆動パルスから成る空吐出駆動波形を印加して空吐出動作を行う液体吐出ヘッドの制御方法であって、前記駆動パルスの駆動パルス間隔Ｐ１〜Ｐ５を前記加圧液室の固有振動周期の整数倍にして、前記駆動パルス間隔Ｐ１〜Ｐ５が長い順に所定数連続した駆動パルスで空吐出駆動波形を生成する工程と、生成した駆動波形を前記電気機械変換素子に印加する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ロール転写にて間欠シートを作成する連続的な塗布の場合、精密な間隙の設定が必要で無い間欠シート製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】第二ロール２の表面に塗料６から塗膜７を形成した後に、間欠ロール４に設置された間欠ヘッド５により塗膜７を間欠的に除去し、第三ロール３の表面に沿って走行させるシート８の表面に塗膜７を転写してシート８表面に間欠的に塗膜７を形成して、間欠シート１２を作成する。 （もっと読む）

【課題】基板の浮上量の変動を抑制することが可能な塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】第一気体供給経路及び第一吸引経路のうち少なくとも一方の経路の一部分には大気開放が可能な大気開放部が設けられているので、噴出される気体の流量及び吸引される気体の流量のうち少なくとも一方の変化を緩和することが可能となる。これにより、基板の浮上量の変動を抑制することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】塗布対象物に溶液を均一に塗布することができる塗布装置、ならびに塗布対象物への溶液の塗布によって均一な薄膜を形成することができる薄膜製造方法を実現する。
【解決手段】吐出部から吐出されている溶液が塗布対象物の上に塗布されて、塗布対象物の上に皮膜が形成される。この皮膜が形成される工程において、吐出部から吐出されている溶液が塗布対象物に塗布される前または吐出部から吐出されている溶液が塗布対象物に塗布され始める際に帯電によって吐出部に蓄積されている電気量が低減される。 （もっと読む）

【課題】粘度変化が生じる液体材料を高精度に塗布すること。
【解決手段】液体材料を吐出するノズル６と、液体材料をノズル６から吐出するためのポンプと、液体材料が通過する経路における液体材料の粘度を算出するための熱式流量センサ９と、算出した粘度に基づいて液体材料をノズル６から吐出させるための吐出圧力を設定し、設定された吐出圧力に基づいてポンプを制御するメインコントローラ８と、を備えた塗布装置であって、液体材料の粘度変化に合わせ、吐出圧力を調整することにより、高精度な塗布が実現可能となる。 （もっと読む）

【課題】塗布対象物に所望の塗布量で液滴を塗布し、塗布製品の品質を向上させる。
【解決手段】液滴塗布装置１は、塗布対象物Ｗを支持するステージ２と、複数のノズルが並ぶノズル列を有するインクジェット式の塗布ヘッド４と、その塗布ヘッド４とステージ２とを塗布対象物Ｗの塗布面Ｗａに沿ってノズル列に交差する第１の方向に相対移動させる移動装置３と、塗布面Ｗａ上における液滴の塗布位置を示す情報を含む塗布パターンを設定するパターン設定部８ｂと、その塗布パターンに基づいて移動装置３及び塗布ヘッド４を制御し、ステージ２上の塗布対象物Ｗの塗布面Ｗａに液滴を塗布する制御部８ａとを備える。制御部８ａは、前述の塗布パターンが複数のノズルの中で近接して位置するノズルから液滴を同時に吐出させる塗布パターンであったとき、当該近接して位置するノズル同士において液滴の吐出タイミングをずらすようにノズルからの液滴の吐出を制御する。 （もっと読む）

【課題】内容物の漏れ出しを防ぎつつ、より少ない糊材で加工部の周囲を密閉する。
【解決手段】加工部が形成された板部と、板部に接合されるフラップとを備えるブランクに糊材を塗布する糊材の塗布方法は、所定方向に搬送されるブランクに対して糊材を吐出し、加工部を挟んで対向し、互いに平行に並んで延びる複数の糊材の単位パターン６１からなる一対の第一列６２を形成する第一列形成工程と、搬送されるブランクに対して糊材を吐出し、第一列の一方の端部どうしを接続するように延びる複数の単位パターンからなる第二列６３を形成する第一列形成工程とを備え、第一列は、板部上に形成される第一領域６２Ａと、フラップ上に形成される第二領域６２Ｂとを有し、フラップが折線で折り曲げられて板部に重なると、第二領域の単位パターンが第一領域の単位パターン間に配置され、第一列と第二列とが連続した接着領域を形成して加工部周囲の三方を囲む。 （もっと読む）

【課題】塗料の無駄、及び空調のためのエネルギーを抑えながら、携帯端末用筐体の塗装を可能にするための、携帯端末用筐体の塗装システム及びそれを用いた携帯端末用筐体の塗装方法を提供すること。
【解決手段】搬送ライン２の途上に、インクジェット方式でワークを塗装するインクジェット装置７と、霧化塗料をワークに向けて噴射してワークを塗装する塗装ブース８と、ワークに吐着した塗料を硬化するＵＶ硬化装置１２を配設し、搬送ライン２上を搬送されているワークについて、平面部分をインクジェット装置７内においてインクジェット方式で塗装し、側面部分を塗装ブース８内において塗料噴射手段１１で塗装し、インクジェット方式によりワークの平面部分に吐着されたインクと塗料噴射手段１１によってワークの側面部分に吐着された塗料をＵＶ硬化装置１２内においてＵＶ照射によって硬化することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】インクジェット方式を用いて高粘度の機能性液を高周波で連続吐出させる際のロバスト性が維持された好ましい液体吐出が実現される、機能性液体吐出装置及び機能性液体吐出方法並びにインプリントシステムを提供する。
【解決手段】５mPa・s以上２０mPa・s以下の粘度の光硬化性樹脂液体を基板(20)上に吐出させるノズル(23)を具備し、圧力室(32)内部の液体を加圧する圧電素子(38)が設けられたヘッド(24)と、基板を搬送させる搬送部(22)と、を備え、圧力室を静定状態から膨張させる引き波形(102)及び膨張させた圧力室を収縮させる押し波形(106)を有し、光硬化性樹脂液体の粘度ηとヘッドの共振周期Ｔ_ｃとの関係が、（２／Ｔ_ｃ）≦γ_１≦（η／１０）、γ_２≦γ_１を満たす引き波形の傾きγ_１、押し波形の傾きγ_２を有する駆動電圧を生成し、該駆動電圧を用いてヘッドから基板上に光硬化性樹脂液体を吐出させる。 （もっと読む）

【課題】スリット状の吐出口から被処理基板に対して処理液を吐出し、塗布膜を形成する塗布膜形成方法において、ノズル吐出口のビード量およびノズル吐出口からの吐出圧力の変化に拘わらず、現場オペレータの熟練度に依存することなく、安定した膜厚形成を行うことができ、基板に形成される塗布膜の有効面積を広範囲なものとする。
【解決手段】経過時間Ｔｓにおける推定膜厚Ｔｈは、式（１）により規定され、前記式（１）の推定膜厚Ｔｈに目標膜厚を代入し、基板Ｇの相対的移動速度Ｖを変数とすることにより、時間Ｔｓごとに前記基板の相対的移動速度Ｖを求めるステップと、前記時間Ｔｓごとに求められた前記基板の相対的移動速度Ｖに従い、ノズル吐出口に対する前記基板の相対的移動速度を制御するステップとを含む。
Ｔｈ＝（ΔＢ＋Ｑ）・β／（Ｔｓ・Ｖ・Ｌ） ・・・（１） （もっと読む）

【課題】
ディスペンサ自体を減圧下にさらすことなく、減圧雰囲気下で液状材料をディスペンスしてボイドを抑制する。
【解決手段】
ステージ２０上に対象物１０が設置された後、ステージ２０上にチャンバ３０が設置される。チャンバ３０は、液状材料５０を格納したキャピラリ３３を有する。チャンバ３０とステージ２０との間に第１の密封空間４０が形成される。また、蓋材６０がチャンバ３０上に設置され、チャンバの吐出部３３に格納された液状材料５０と蓋材６０との間に、第２の密封空間４５が形成される。さらに、第１の密封空間４０を減圧することにより、吐出部３３から対象物１０上に液状材料５０が吐出される。その後、チャンバ３０内は大気に開放され、仮に発生していた場合であってもボイドの縮小が達成される。 （もっと読む）

【課題】基板に塗布液を塗布して所定のパターンを形成するパターン形成技術において、異形基板に効率よくパターン形成を行うことのできる技術を提供する。
【解決手段】基板に対する走査移動方向に直交する方向（Ｙ方向）に沿って、塗布液を吐出する吐出ノズル５２３を列状に並べた第１ノズル体５２と、ボールねじ機構７４０によりＹ方向位置を変更可能な１対の吐出ノズル７２３を有する第２ノズル体７２とを有する。第１ノズル体５２からの塗布液の吐出により互いに平行で同一長さの複数のパターンを形成する一方、これとは長さの異なるパターンについては、第１ノズル体５２とは独立したタイミングで塗布制御される第２ノズル体７２により行う。 （もっと読む）