説明

非接触形状計測装置及び非接触形状計測方法

【課題】非測定物の見かけの形状をできるだけ歪ませることなく形状計測できると共に、長い物や連続的に移動する物であっても形状計測できる非接触形状計測装置を提供する。
【解決手段】非接触形状計測装置は、被測定物に対して、一方向に沿って光強度が周期的に変化する複数の位相パターンから一つの位相パターンを選択して位相シフトさせながら、前記選択した位相パターンを有する光を照射する照明装置と、選択した前記位相パターンごとに、前記被測定物からの光を画像信号として、前記一方向に垂直な方向に沿った1ラインごとに取り込むラインセンサカメラと、選択した前記位相パターンごとに得られた前記画像信号に基づいて、前記被測定物の各箇所の位相を算出し、前記位相に基づいて前記被測定物の各箇所の高低差を算出する演算部と、を備える。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、位相シフト法を用いた非接触形状計測装置及び非接触形状計測方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、位相シフト法による3次元計測では、被測定物を固定(静止)した状態に保ち、その被測定物の全体にわたって、位相シフトさせながら縞状パターンを投影して、被測定物全体による格子画像を撮影していた。これによって、被測定物全体の各箇所の投影した縞状パターンと撮影した格子画像との間の位相差を算出し、3次元計測していた。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0003】
1. 研究成果報告書「応力・ひずみ・形状・変形の高速高精度全視野計測の研究」和歌山大学システム工学部 光メカトロニクス学科 光波画像計測研究室、教授 森本吉春 他、2005年12月
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかし、従来の3次元計測装置では、一方向から測定物の全体を観測した場合には被測定物は、遠近による歪みが現れるため台形形状の画像となるという問題がある。また、その遠近による歪みは形状測定の精度にも影響を生じるという問題がある。
【0005】
さらに、被測定物の全体を同時に観測するため、被測定物を静止させて観測する必要があった。このため、長い物や連続的に移動する物は測定できなかった。
【0006】
そこで、本発明の目的は、非測定物の見かけの形状をできるだけ歪ませることなく形状計測できると共に、長い物や連続的に移動する物であっても形状計測できる非接触形状計測装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明に係る非接触形状計測装置は、被測定物に対して、一方向に沿って光強度が周期的に変化する複数の位相パターンから一つの位相パターンを選択して位相シフトさせながら、前記選択した位相パターンを有する光を照射する照明装置と、
選択した前記位相パターンごとに、前記被測定物からの光を画像信号として、前記一方向に垂直な方向に沿った1ラインごとに取り込むラインセンサカメラと、
選択した前記位相パターンごとに得られた前記画像信号に基づいて、前記被測定物の各箇所の位相を算出し、前記位相に基づいて前記被測定物の各箇所の高低差を算出する演算部と、
を備える。
【0008】
また、前記照明装置は、
ライン状に配置された複数のライン状光源と、
前記複数のライン状光源からの光を前記被測定物に照射する光学系と、
を備えてもよい。この場合、前記光学系によって、前記一方向に沿って光強度が周期的に変化する位相パターンを有する光を前記被測定物上に照射することができる。
【0009】
前記光学系は、前記一方向に沿って光透過率が周期的に変化する光学フィルタを含んでもよい。前記光学フィルタは、前記ライン状光源ごとに異なる光透過率の分布を有する複数の光学フィルタを含んでもよい。
【0010】
さらに、前記被測定物の面に平行な方向であって、前記光の光強度が周期的に変化する前記一方向に対して垂直な方向に配置された前記照明装置及び前記ラインセンサカメラに対して前記被測定物を相対移動させる搬送装置をさらに備えてもよい。
【0011】
またさらに、前記ラインセンサカメラは、前記照明装置と、前記搬送装置の上の1ラインの観測位置と、の相対関係を一定に保って、前記搬送装置の上の前記観測位置を通過する前記被測定物からの画像信号を1ラインずつ取り込んでもよい。
【0012】
また、前記照明装置は、前記被測定物の面内の一つの方向に沿って、周期的に光強度が変化する位相パターンを有すると共に、前記一つの方向に垂直な、前記被測定物の面内の他の方向に沿って均一な光強度を有する光を前記被測定物に照射してもよい。
【0013】
さらに、前記照明装置は、前記一方向に沿って、前記一方向の位置に対して光強度が疑似余弦波状に変化する位相パターンを有する光を照射してもよい。
【0014】
またさらに、前記照明装置は、前記複数の位相パターンのうち、(2π/位相パターンの数)(ラジアン)ずつ位相シフトさせた位相パターンを有する光を照射してもよい。
【0015】
本発明に係る非接触形状計測方法は、被測定物に対して、一方向に沿って光強度が周期的に変化する複数の位相パターンから一つの位相パターンを選択して、前記選択した位相パターンを有する光を照射するステップと、
選択した前記位相パターンごとに、前記被測定物からの光を画像信号として、前記一方向に垂直な方向に沿った1ラインごとに取り込むステップと、
選択した前記位相パターンごとに得られた前記画像信号に基づいて、前記被測定物の各箇所の位相を算出し、前記位相に基づいて前記被測定物の各箇所の高低差を算出するステップと、
を含む。
【0016】
また、前記光を照射するステップは、
前記一方向と垂直な方向に沿ったライン状の光を発光させるステップと、
前記ライン状の光について、前記一方向に沿って光強度が周期的に変化する位相パターンを有する光に変換して、前記被測定物上に照射するステップと、
を含んでもよい。
【発明の効果】
【0017】
本発明の非接触形状計測装置及び非接触形状計測方法によれば、被測定物を連続搬送状態で形状計測することが可能であり、シート状の実質的にエンドレスに延在する被測定物の検査も可能である。また、照明装置としてライン状の光源を用いて、光学フィルタによって上記ライン状の光源の長手方向と垂直な方向に光強度が周期的に変化する位相パターンの光を照射することができる。これによって、必要な照明範囲を狭くできるため、照明むらを抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【0018】
【図1】本発明の実施の形態1に係る非接触形状計測装置の構成の一例を示す概略図である。
【図2】被測定物と、被測定物上に照明光が照射される範囲との関係を示す概略図である。
【図3】照明装置を構成するLEDランプの点灯と、被測定物に照射される所定の位相パターンを有する光との関係を示す概略図である。
【図4】照明装置の一例を示す概略図である。
【図5】照明装置において、点灯LEDの光量を照射面で擬似余弦波状に変換する為のフィルタの一例を示す図である。
【図6】照明の位相切り替えと、ラインセンサカメラとの関係を示す概略図である。
【図7】(a)〜(d)は、位相シフトが3相の場合にフレームメモリに取り込まれた画像の座標(i,j)と、3つの位相パターンによる画像信号(x,y)との関係を示す概略図である。
【図8】(a)は、位相切り替えスイッチが3相の場合のタイミングチャートであり、(b)は、位相切り替えスイッチが5相の場合のタイミングチャートである。
【図9】位相シフト法における、位相シフト量と輝度との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【0019】
本発明の実施の形態に係る非接触形状計測装置について添付図面を用いて以下に説明する。なお、図面において実質的に同一の部材は同一の符号を付している。
【0020】
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1に係る非接触形状計測装置の構成を示す概略図である。この非接触形状計測装置は、被測定物3に、一方向に光強度が周期的に変化する位相パターンを有する光を位相シフトさせながら照射する照明装置1と、被測定物3からの光を画像信号として、上記一方向に垂直な方向に沿った1ラインずつ取り込むラインセンサカメラ2と、被測定物3を移動させる搬送装置4と、各装置を制御すると共に、ラインセンサカメラ2で得られた画像信号から位相画像を得て、その位相画像に基づいて被測定物3の形状を算出するコンピュータ5とを備える。コンピュータ5は、ラインセンサカメラ2で取り込んだ画像信号を記憶するフレームメモリ6と、ラインセンサカメラ2を制御するカメラコントローラ7aと、照明装置1を制御する照明コントローラ7bとを備える。なお、カメラコントローラ7aと、照明コントローラ7bとを制御部7として一つとしてもよい。また、搬送装置4の回転ローラの回転に連動してパルス信号を発生するエンコーダ9と、エンコーダ9からのパルス信号によってタイミング信号を発生させるタイミングコントローラ10とを備える。
【0021】
次に、この非接触形状計測装置の動作について説明する。
まず、搬送装置4の回転ローラが矢印の方向に回転すると、被測定物3は図1における左側から右側に向かって(y方向)に移動する。また、回転ローラに取り付けられたエンコーダ9は回転ローラと共に回転し、パルス信号を発生する。このパルス信号はタイミングコントローラ10を経てコンピュータ5に導かれる。また、上記パルス信号は、コンピュータ5の制御部7の中のカメラコントローラ7を経由してラインセンサカメラ2にトリガ信号(図8)として供給される。カメラ2は、トリガ信号1回ごとに画像信号1ライン分をフレームメモリ6に取り込む。一方、同じトリガ信号によってコンピュータ5の制御部7の中の照明コントローラ7bを経由して点灯のタイミング信号を生成し、照明装置1の複数ラインのうちの所定のライン1本のみを点灯する。
【0022】
図8の(a)は、照明コントローラ7bの位相切り替えスイッチSW8で3相を選択した場合を示す。この場合、ライン状LEDランプ1aから1cまで順番に繰り返し点灯される。図8の(b)は、位相切り替えスイッチSW8で5相を選択した場合を示す。この場合、ライン状LEDランプ1aから1eまで順番に繰り返し点灯される。なお、位相切り替えスイッチSW8で4相を選択した場合には、図示していないが、3相、5相の場合と同様に、ライン状LEDランプ1aから1dまで順番に繰り返し点灯される。
なお、システム構成の都合でエンコーダ9の取り付けができない場合、エンコーダ9のパルス信号に代えて、外部で発振回路等によって生成したタイミング信号を使用してもよい。
【0023】
<照明装置>
次に、本発明の実施の形態1に係る非接触形状計測装置の照明装置1の構成について、図3から図5を用いて説明する。
図3は、照射面を下にして、被測定物3を照射している場合について、LEDランプ1a〜1eの配置方向に平行であって、照射面に対して垂直な方向から見た照明装置1の断面図である。
図4は、照明装置1を構成する位相1用ライン状LEDランプ1a、位相2用ライン状LEDランプ1b、位相3用ライン状LEDランプ1c、位相4用ライン状LEDランプ1d、位相5用ライン状LEDランプ1eをライン状に5列並べた状態を照射面から見た状態を示す概略図である。
図5は、LEDランプ1a〜1eのそれぞれに対応する各々の光学フィルタ1fa〜1feのうち、光学フィルタ1fcのy方向に沿った透過率特性を示す概略図である。
【0024】
照明装置1は、位相シフトを5相とする場合、LEDランプ1a〜1eに加えて、光学フィルタ1fと、被測定物3上に投光するためのレンズ1gが取り付けられている。フィルタ1fは、各ライン状のLED1a〜1eに対応した位置に配置されている。上記光学フィルタ1fと、レンズ1gとによって、被測定物3に照射した光の強度(明るさ)は、図の奥から手前(x方向)に沿ってほぼ均一な明るさであって、図の右から左(y方向)に沿って、y方向の位置に対して光強度が疑似余弦波状に変化する。図4では、位相3用ライン状LED1cが点灯している状態のy方向に沿った光強度の変化を示しており、LEDランプ1cに代わってLEDランプ1a又は1eが点灯した場合には、1点鎖線又は点線のように光強度の波がシフトする。この場合、位相が5相なので、例えば、位相シフト量2π/5ごとに位相シフトさせた5種類の位相パターンから選択した一つの位相パターンを有する光を照射することができる。
【0025】
なお、上記照明装置1では位相シフトを5相とし、5つのLEDランプ1a〜1eを設けた例を示したが、これに限られない。例えば、位相シフトを何相とするかに応じてLEDランプの数を適宜変更するか、あるいは複数のLEDランプから点灯するLEDランプを選択すればよい。また、位相シフトを何相とするかに応じて、光学フィルタ1f、レンズ1gを適宜変更して、点灯させるLEDごとの位相シフト量を変更する必要がある。
なお、図3及び図5では照明範囲のy方向の所定の幅にわたって光強度が三つの山を有する位相パターンを示しているが、これに限られず一つの周期の幅は適宜選択できる。例えば、同一の幅にわたって光強度が一つ山、又は、二つ山の周期を有する位相パターンとしてもよい。ただし、位相シフトさせる一組の位相パターンのそれぞれの位相パターンは同一の幅の周期を有する。
【0026】
この照明装置1によれば、ライン状の光源としてLEDランプ1a〜1eを用いると共に、それぞれのLEDランプ1a〜1eに対応する光学フィルタ1fa〜1feを用いて、上記ライン状の光源の長手方向と垂直な方向に光強度が周期的に変化する位相パターンの光を照射することができる。これによって、必要な照明範囲を狭くできるため、照明むらを抑えることができる。また、LEDランプ1a〜1eのそれぞれに対応する光学フィルタ1fa〜1feを用いることによって、各LEDランプを順に点灯させて、位相シフトさせた位相パターンを有する光を照射することができる。
【0027】
<ラインセンサカメラ>
この非接触形状計測装置では、ラインセンサカメラ2を用いて、上記ライン状の光源の長手方向と平行な方向に沿った1ラインごとの画像信号を取り込む。この場合、照明装置1と、画像信号を取り込む被測定物3の1ラインと、ラインセンサカメラ2との位置関係を固定して、上記ライン状の光源の長手方向と垂直な方向に被測定物3を移動させながら形状計測する。これによって、被測定物3の見かけの形状をできるだけ歪ませることなく形状計測できる。また、被測定物3が長い物や連続的に移動する物であっても形状計測できる。
【0028】
<画像信号の処理>
次いで、位相シフトさせて得られた複数枚の画像信号の処理について説明する。
<画像の座標と各位相パターンによる画像信号との関係>
図7(a)は、位相切り替えスイッチ8aが3相を選択した場合のフレームメモリ内に格納される画像信号の座標と位相パターンとの関係を示す概念図である。図7(a)では、画像の同一座標(i,j)についての各位相パターンごとの画像信号をy方向で並べて記録している。この場合、画像信号の座標(x、y)のうちx値はiと一致する。一方、y値は、例えば、3相の場合、3つの位相パターンの位相1、位相2、位相3のそれぞれについて、3j+0、3j+1、3j+2の3つのy値を当てている。図7(b)、(c)、(d)では、3つの位相パターンの位相1、位相2、位相3のそれぞれに対する画像信号を画像信号の座標(x、y)のそれぞれと、その画素値Img(x、y)とは、以下のように対応する。
(i、3j+0) a=Img(i、3j+0)
(i、3j+1) b=Img(i、3j+1)
(i、3j+2) c=Img(i、3j+2)
【0029】
この場合、上述したように照明装置1と、画像信号を取り込む被測定物3の1ラインと、ラインセンサカメラ2との位置関係を一定とする。被測定物3を上記ライン状の光源の長手方向と垂直な方向に被測定物3を移動させながら形状計測することによって、元の被測定物3の形状を歪ませることなく画像を得ることができる。例えば、矩形形状の被測定物3の場合、1回の撮像で全体の形状を観測した場合には、遠近法による歪みが現れるため台形形状の画像となるが、本発明の実施の形態に係る非接触形状計測装置の場合には歪みを生じることなく矩形状の画像が得られる。
【0030】
なお、4相の場合、画素信号の座標(x、y)についての各画素値Img(x、y)は、以下のように対応する。
(i、4j+0) a=Img(i、4j+0)
(i、4j+1) b=Img(i、4j+1)
(i、4j+2) c=Img(i、4j+2)
(i、4j+3) d=Img(i、4j+3)
【0031】
また、5相の場合、画素信号の座標(x、y)についての各画素値Img(x、y)は、以下のように対応する。
(i、5j+0) a=Img(i、5j+0)
(i、5j+1) b=Img(i、5j+1)
(i、5j+2) c=Img(i、5j+2)
(i、5j+3) d=Img(i、5j+3)
(i、5j+4) e=Img(i、5j+4)
【0032】
また、6相以上の場合も同様の関係を得ることが出来る。
【0033】
<4つの位相パターンの場合の位相の算出>
各位相パターン間で位相シフト量π/2を有する4つの位相パターンを用いた場合に計算が容易となる。この場合には、光強度が余弦波状に周期的に変化する場合の振幅β、定数γ、位相φを用いて、各画素値a,b,c,dを表すと、以下の関係が得られる。
【0034】
【数1】

【0035】
上記数式(1)に基づいて、c−a及びd−bを計算すると、それぞれ下記の数式(2)、(3)が得られる。
【0036】
【数2】

【0037】
これらの数式(2)及び(3)に基づいて、数式(4)が導かれ、この関係式より位相φを求めることができる(数式(5))。
【0038】
【数3】

【0039】
【数4】

【0040】
なお、3相の場合には、以下の数式(6)によって位相φを求めることができる。
【0041】
【数5】

【0042】
また、5相の場合には、以下の数式(7)によって位相φを求めることができる。
【0043】
【数6】

【0044】
また、6相以上の場合には、三次元工学2「光三次元・産業への応用」編者 吉澤徹 2008年6月11日初版や「Fringe Analysis」 Y. Surrel1 National Institute of Metrology CNAM 292, rue St-Martin 75141 Paris Cedex 03 - France October 1, 1998にその計算方法が示されている。
【0045】
以上によって、各箇所の位相φを算出できる。
なお、上記式(5)〜(7)で算出される位相φは、−2π〜2πの範囲であるが、実際には±2πn(nは整数)の任意量を含む可能性があるので、位相接続を行う必要がある。この位相接続については、各点での高低差が連続しているという条件によって通常の方法で行えばよい。
【0046】
<位相φによる高低差hの算出>
各箇所の高低差hは、算出された位相φと定数kとの積として下記の関係式(8)で表される。なお、定数kは、被測定物に対して照明装置1のライン状LEDランプとラインセンサカメラ2とのなす角度αとLEDランプのライン間隔等で決まる。
h=k×φ (8)
【0047】
上記関係式(8)によって各箇所の高低差を算出できる。
【0048】
(効果)
本発明の実施の形態1に係る非接触形状計測装置によれば、被測定物を連続搬送状態で形状計測することが可能である。例えば、シート状の実質的にエンドレスに延在する被測定物についても検査可能である。また、照明装置としてライン状の一方向に光強度が周期的に変化する位相パターンの光を照射するライン状光源を用いるので、必要な照明範囲を狭くできるため、照明むらを抑えることができる。さらに、高速なコンピュータや演算装置を用いることでリアルタイムに形状計測を行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【0049】
本発明の非接触形状計測装置は、被測定物を連続搬送している状態での形状計測に利用できる。また、シート状の実質的にエンドレスに延在する被測定物の検査に用いることもできる。
【符号の説明】
【0050】
1 照明装置
1a 位相1用LEDランプ
1b 位相2用LEDランプ
1c 位相3用LEDランプ
1d 位相4用LEDランプ
1e 位相5用LEDランプ
1f、1fa、1fb、1fc、1fd、1fe 光学フィルタ
1g レンズ
2 ラインセンサカメラ
3 被測定物
3a、3b、3c 突起物
3d 照明範囲
4 搬送装置
5 コンピュータ
6 フレームメモリ
7 制御部
7a カメラコントローラ
7b 照明コントローラ
8 位相切り替えスイッチ
9 ロータリエンコーダ
10 タイミングコントローラ
11 画像信号の座標

【特許請求の範囲】
【請求項1】
被測定物に対して、一方向に沿って光強度が周期的に変化する複数の位相パターンから一つの位相パターンを選択して位相シフトさせながら、前記選択した位相パターンを有する光を照射する照明装置と、
選択した前記位相パターンごとに、前記被測定物からの光を画像信号として、前記一方向に垂直な方向に沿った1ラインごとに取り込むラインセンサカメラと、
選択した前記位相パターンごとに得られた前記画像信号に基づいて、前記被測定物の各箇所の位相を算出し、前記位相に基づいて前記被測定物の各箇所の高低差を算出する演算部と、
を備えた非接触形状計測装置。
【請求項2】
前記照明装置は、
ライン状に配置された複数のライン状光源と、
前記複数のライン状光源からの光を前記被測定物に照射する光学系と、
を備え、
前記光学系によって、前記一方向に沿って光強度が周期的に変化する位相パターンを有する光を前記被測定物上に照射する、請求項1に記載の非接触形状計測装置。
【請求項3】
前記光学系は、前記一方向に沿って光透過率が周期的に変化する光学フィルタを含む、請求項2に記載の非接触形状計測装置。
【請求項4】
前記光学フィルタは、前記ライン状光源ごとに異なる光透過率の分布を有する複数の光学フィルタを含む、請求項3に記載の非接触形状計測装置。
【請求項5】
前記被測定物の面に平行な方向であって、前記光の光強度が周期的に変化する前記一方向に対して垂直な方向に配置された前記照明装置及び前記ラインセンサカメラに対して前記被測定物を相対移動させる搬送装置をさらに備える、請求項4に記載の非接触形状計測装置。
【請求項6】
前記ラインセンサカメラは、前記照明装置と、前記搬送装置の上の1ラインの観測位置と、の相対関係を一定に保って、前記搬送装置の上の前記観測位置を通過する前記被測定物からの画像信号を1ラインずつ取り込む、請求項5に記載の非接触形状計測装置。
【請求項7】
前記照明装置は、前記被測定物の面内の一つの方向に沿って、周期的に光強度が変化する位相パターンを有すると共に、前記一つの方向に垂直な、前記被測定物の面内の他の方向に沿って均一な光強度を有する光を前記被測定物に照射する、請求項1に記載の非接触形状計測装置。
【請求項8】
前記照明装置は、前記一方向に沿って、前記一方向の位置に対して光強度が疑似余弦波状に変化する位相パターンを有する光を照射する、請求項1に記載の非接触形状計測装置。
【請求項9】
前記照明装置は、前記複数の位相パターンのうち、(2π/位相パターンの数)(ラジアン)ずつ位相シフトさせた位相パターンを有する光を照射する、請求項1に記載の非接触形状計測装置。
【請求項10】
被測定物に対して、一方向に沿って光強度が周期的に変化する複数の位相パターンから一つの位相パターンを選択して、前記選択した位相パターンを有する光を照射するステップと、
選択した前記位相パターンごとに、前記被測定物からの光を画像信号として、前記一方向に垂直な方向に沿った1ラインごとに取り込むステップと、
選択した前記位相パターンごとに得られた前記画像信号に基づいて、前記被測定物の各箇所の位相を算出し、前記位相に基づいて前記被測定物の各箇所の高低差を算出するステップと、
を含む、非接触形状計測方法。
【請求項11】
前記光を照射するステップは、
前記一方向と垂直な方向に沿ったライン状の光を発光させるステップと、
前記ライン状の光について、前記一方向に沿って光強度が周期的に変化する位相パターンを有する光に変換して、前記被測定物上に照射するステップと、
を含む、請求項10に記載の非接触形状計測方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【公開番号】特開2010−164424(P2010−164424A)
【公開日】平成22年7月29日(2010.7.29)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−6879(P2009−6879)
【出願日】平成21年1月15日(2009.1.15)
【出願人】(000001096)倉敷紡績株式会社 (296)
【出願人】(509016232)株式会社ジェムコ (2)
【Fターム(参考)】