バルク化学物質供給システム
【課題】改良されたバルク化学物質供給システムを提供する。
【解決手段】少なくとも１つのマニホールド・ボックスに接続されたバルク化学物質キャニスターを含み、各マニホールド・ボックスが少なくとも２つの流出ラインを有し、各流出ラインが二次キャニスターと接続している、バルク化学物質供給システム。代表的な実施例においては、バルク化学物質キャニスターは２００リットルの容量を有するが、これに限定されるものではない。また、キャニスターおよび輸送／格納カートから化学物質を供給するのに使用するための新規なマニホールドが開示される。
【解決手段】少なくとも１つのマニホールド・ボックスに接続されたバルク化学物質キャニスターを含み、各マニホールド・ボックスが少なくとも２つの流出ラインを有し、各流出ラインが二次キャニスターと接続している、バルク化学物質供給システム。代表的な実施例においては、バルク化学物質キャニスターは２００リットルの容量を有するが、これに限定されるものではない。また、キャニスターおよび輸送／格納カートから化学物質を供給するのに使用するための新規なマニホールドが開示される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化学気相成長（又はケミカル・ベイパー・デポディション：ＣＶＤ）装置のような製造プロセス・ツール（又は製造装置）へバルク送出キャニスター（bulk delivery canister）から、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）等の化学物質を供給（輸送又は送出）するためのマニホールド(manifold)及びシステム（又は機構）に関する。
【背景技術】
【０００２】
集積回路等の電子デバイスの製造方法は、周知である。そのような製造方法のある工程において、化学物質を用いるあるプロセス・ツール（又は製造装置）に、化学物質は供給され得る。例えば、ＴＥＯＳからアモルファス酸化ケイ素等の所定の材料の層を発生させるために、ＣＶＤ反応装置は通常使用される。歴史的に、ＴＥＯＳは、５又は１０ガロンの容量のキャニスター（canister、缶）を用いるバルク供給キャビネット（cabinet、容器）を経由して、ＣＶＤ反応装置に供給されていた。ＴＥＯＳの消費は、金属の層が増加したこと及び３００ｍｍプロセスのために、著しく増加した。寸法のより大きなウエハーに関するより複雑なプロセスも各々の層の経済性を圧迫した。２００リットルのキャニスターは、顧客にスケールの経済性を提供し得る。更に、より大きいバルク・キャニスターは、コンテナ交換の回数、労力、及び輸送（shipping）コストを低減させる。製造のためにＴＥＯＳの需要が増加するという観点から、複数のプロセス・ツールに化学物質の連続的なストリームを供給するシステム（又は機構）が必要とされている。同様に、現状の製造設備は、日常、各々のキャビネットでキャニスターをルーチン的に交換するので、また、その各々の交換の際にシステムの汚染を潜在的に生ずるために、汚染の発生する箇所を減ずることが望まれている。
【０００３】
歴史的に、高純度のＴＥＯＳ（及び添加物：ドーパント）は、アンプルと呼ばれる小容量の容器からＣＶＤ反応室へ供給されていた。近年、米国特許第５，４５，７６６号；第５，５６２，１３２号及び第５，６０７，００２号に記載されているようなステンレス鋼製のコンテナが開発された。本発明者は、物性が既知であって、急性毒性の無い物質用に設計された、これらの特許に開示されたマニホールド・システムが、他のより反応性（又は毒性）の高い化学物質に適用可能に変更することが必要であることを見出した。更に、本発明者は、システムのフェイルセイフ特性の向上に努めた。従って、本発明者は、上述の参照特許に記載されたような補充（refill：またはリフィルもしくは再充填）システムに使用するための、改良されたマニホールドに対する要求があると考えた。
【発明の概要】
【０００４】
本発明は、上述した一又はそれ以上の欠点及び要請に関する解決策を提供する。
【０００５】
一つの要旨において、本発明は、少なくとも１つのマニホールド・ボックスに接続されたバルク化学物質キャニスターであって、各々のマニホールド・ボックスは少なくとも２つの流出（output）ラインを有し、少なくとも１つの流出ラインは２次キャニスターに接続されている、バルク化学物質キャニスターを有して成るバルク化学物質供給（又は送出）システムである。
【０００６】
本発明のシステムは、複数のＣＶＤ反応器のような複数のプロセツ・ツールに、大量に高純度の液体化学物質を供給することを可能とすることができる。例として、図１及び図１Ａに示した本発明の一の態様において、４つのバルブを有するマニホールド・ボックスを含み、これらの各々は、４つのキャビネットに化学物質を供給し、４つのキャビネットが各々４つの流出ラインを有することによって、本発明のシステムは化学物質を６４のプロセス・ツールに供給し得る。しかし、マニホールド・ボックスからの流出ラインの数、バルク・キャビネットの数、及び２次キャビネットの数は広範に変更することができ、いかなる数の流出ラインも用いることができることは、理解されよう。化学物質のフィードを更に分岐するために、一又はそれ以上の追加のマニホールド・ボックスを直列に用いることができることも考えられる。
【０００７】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、マニホールド・ボックスは少なくとも２つの流出ラインを有し、オプションとして、少なくとも１つの流出ラインをプロセス・ツール又は２次キャニスターに接続してよい少なくとも１つのマニホールド・ボックスに接続されたバルク化学物質キャニスターを有して成る、バルク化学物質供給システムである。別の態様において、本発明は、少なくとも２つの流出ラインを有し、流出ラインの少なくとも１つがキャニスターに接続されているマニホールド・ボックスを有して成る、バルク化学物質供給システムである。更にもう１つの態様において、本発明は、少なくとも２つの流出ラインを有し、少なくとも１つの流出ラインがプロセス・ツールに接続されているマニホールド・ボックスを有して成る、バルク化学物質供給システムである。
【０００８】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、バルク・キャニスターによって化学物質を供給されるバルブ・マニホールド・ボックスから化学物質を供給される、２次キャニスターからプロセス・ツールに化学物質を供給することを含んで成る、電子デバイスの製造に用いられるプロセス・ツールに化学物質を供給する有用な方法である。１つの態様において、バルク・キャニスターは約２００リットルの容量を有し、２次キャニスターはバルク・キャニスターより小さな容量を有する。１つの態様において、化学物質はテトラエチルオルトシリケートである。１つの態様において、オプションとして、第２バルク・キャニスターが、バルク・キャニスターに接続されたマニホールドを介して、バルブ・マニホールド・ボックスに化学物質を直接又は間接的に供給する。
【０００９】
更に、もう１つの広範な要旨において、本発明は、第１バルク・キャニスターを提供し、少なくとも２つの流出口を各々が有する少なくとも２つのバルブ・マニホールド・ボックスに、第１バルク・キャニスターを接続する工程；プロセス・ツールに化学物質を供給するようになっている２次キャニスターに、各々の流出口を接続する工程を含んで成る、バルク化学物質供給システムの製造方法である。
【００１０】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、少なくとも２つの流出口を有する少なくとも１つのバルブ・マニホールド・ボックスに接続されたバルク・キャニスターを有して成り、流出口の少なくとも１つが２次キャニスターに接続されている、バルク化学物質供給システムである。
【００１１】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、バルク・キャニスターから化学物質を供給されるバルブ・マニホールド・ボックスから化学物質を供給される第２キャニスターから化学物質をプロセス・ツールに供給する工程を含んで成る、電子デバイスの製造方法である。更に、本発明は、本発明の製造方法に基づいて製造された電子デバイスである。
【００１２】
本明細書において用いる場合、”プロセス・ツール（又は製造装置）”とは、本発明のシステム（又は機構）によって提供される化学物質を、最終的に使用する製造装置をいう。従って、本発明のシステムは、使用する間に化学物質を必要とするいずれのプロセス・ツールにも化学物質を供給することができる。そのようなプロセス・ツールは、化学気相成長法、フォトリソグラフィー、及びエッチングの用途等の装置を含むことができる。これらのプロセス・ツールは、集積回路、メモリー回路、平面ディスプレイ、光ファイバーの製造、マルチチップ・モジュール（例えば、ＭＣＭ）等の電子デバイスの製造にしばしば用いられる。更に、本発明は、集積回路及びメモリー回路等の製造に用いられるＣＶＤ反応器のようなプロセス・ツールに、ＴＥＯＳのような化学物質を供給するために用いることができるが、本発明のシステムは、その他の方法にも用いることができるということが理解されよう。
【００１３】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、分配マニホールドに接続されたバルク化学物質キャニスターを収容するキャビネット；少なくとも１つの分配マニホールドに接続している少なくとも１つのマニホールド・ボックスを有して成り、マニホールド・ボックスは少なくとも２つの流出ラインを有し、少なくとも１つの流出ラインは、第２分配マニホールドに接続され、２次キャビネットに収容された２次キャニスターに接続されている、バルク化学物質供給システムである。
【００１４】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、バルク・キャニスターによって化学物質を供給されるバルブ・マニホールド・ボックスから化学物質を供給される、２次キャニスターからプロセス・ツールに化学物質を供給する工程を含んで成る、電子デバイスの製造に用いられるプロセス・ツールに化学物質を供給する有用な製造方法である。
【００１５】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、第１バルク・キャニスターを供給し、少なくとも２つの流出口を各々が有する少なくとも２つのバルブ・マニホールド・ボックスに第１バルク・キャニスターを接続する工程；プロセス・ツールに化学物質を供給するようになっている２次キャニスターに少なくとも１つの流出口を接続する工程を含んで成る、バルク化学物質供給システムの製造方法である。
【００１６】
更にもう１つの広範な要旨において、本発明は、バルク・キャニスターから化学物質を供給されるバルブ・マニホールド・ボックスから化学物質を供給される第２キャニスターからプロセス・ツールに化学物質を供給する工程を含んで成る、電子デバイスの製造方法である。
【００１７】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、（１）真空供給バルブ；（２）真空発生器；（３）圧力ベント（排気）・バルブ；（４）キャリアーガス遮断バルブ；（５）バイパス・バルブ；（６）プロセス・ライン遮断バルブ；（７）コントロール・バルブ；（８）キャニスター入口バルブ；（９）キャニスター出口バルブを含んで成り；真空供給バルブは、真空発生器に接続され；真空発生器は、圧力ベント・バルブ及びコントロール・バルブに接続され；キャリアーガス遮断バルブは、圧力ベント・バルブ及びバイパス・バルブに接続され；バイパス・バルブは、更に遮断バルブ及びキャニスター入口バルブに接続され；プロセス・ライン遮断バルブは、キャニスター出口バルブに接続され；キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブ及びキャニスター出口バルブに接続されている、化学物質を含むキャニスターの補充に用いるマニホールドである。
【００１８】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、真空発生器に接続された真空供給バルブ；真空発生器及びガス入口バルブに接続された圧力ベント・バルブ；真空発生器に接続されたコントロール・バルブを有して成り；キャリアーガス遮断バルブはバイパス・バルブも接続され、プロセス・ライン遮断バルブはキャニスター出口バルブ及びバイパス・バルブに接続され、またキャニスター入口バルブは、バイパス・バルブ、コントロール・バルブ、及びキャニスター出口バルブに接続されている、液体の化学物質を含む２つのキャニスターを補充可能に接続するのに有用なマニホールドである。
【００１９】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、キャニスターの取り付け具をマニホールドの取り付け具に接続して供給システムを構成する工程；及び供給システムをパージ（purge）する工程を含んで成り、マニホールドは、真空供給バルブ；真空発生器；圧力ベント・バルブ；キャリアーガス遮断バルブ；バイパス・バルブ；プロセス・ライン遮断バルブ；コントロール・バルブ；キャニスター入口バルブ；キャニスター出力バルブを有して成り；真空供給バルブは、真空発生器に接続され；真空発生器は、圧力ベント・バルブ及びコントロール・バルブに接続され；ガス入口バルブは、圧力ベント・バルブ及びバイパス・バルブに接続され；バイパス・バルブは、更にプロセス・ライン遮断バルブ及びキャニスター入口バルブに接続され；プロセス・ライン遮断バルブはキャニスター出口バルブに接続され；キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブ及びキャニスター出口バルブに接続されている、キャニスターをマニホールドに接続する方法である。
【００２０】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、真空供給バルブ、真空発生器、圧力ベント・バルブ、キャリアーガス遮断バルブ、バイパス・バルブ、プロセス・ライン遮断バルブ、コントロール・バルブ、及びキャニスター入口バルブを供給する工程；真空供給バルブは真空発生器に接続され、真空発生器は圧力ベント・バルブ及びコントロール・バルブに接続され、ガス入口バルブは圧力ベント・バルブ及びバイパス・バルブに接続され、バイパス・バルブは更にプロセス・ライン遮断バルブおよびキャニスター入口バルブに接続され、遮断バルブはキャニスター出口バルブに接続され、キャニスター入口バルブはコントロール・バルブ及びキャニスター出口バルブに接続されるようにバルブをラインと接続する工程を含んで成る、マニホールドの製造方法である。
【００２１】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、（１）真空供給バルブ；（２）真空発生器；（３）キャリアーガス遮断バルブ；（４）バイパス・バルブ；（５）プロセス・ライン遮断バルブ；（６）コントロール・バルブ；（７）キャニスター入口バルブ；（８）キャニスター出口バルブを有して成り；真空供給バルブは、真空発生器に接続され；真空発生器は、コントロール・バルブに接続され；キャリアーガス遮断バルブは、バイパス・バルブに接続され；バイパス・バルブは、更にプロセス・ライン遮断バルブ及びキャニスター入口バルブに接続され；プロセス・ライン遮断バルブは、キャニスター出口バルブに接続され；キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブ及びキャニスター出口バルブに接続されている、化学物質を含むキャニスターの補充（リフィル）に用いるマニホールドである。
【００２２】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、（１）真空供給バルブを供給する工程；（２）真空発生器を供給する工程；（３）キャリアーガス遮断バルブを供給する工程；（４）バイパス・バルブを供給する工程；（５）プロセス・ライン遮断バルブを供給する工程；（６）コントロール・バルブを供給する工程；（７）キャニスター入口バルブを供給する工程；（８）キャニスター出口バルブを供給する工程；真空供給バルブを真空発生器に接続する工程；真空発生器をコントロール・バルブに接続する工程；キャリアーガス遮断バルブをバイパス・バルブに接続する工程；バイパス・バルブを更にプロセス・ライン遮断バルブ及びキャニスター入口バルブに接続する工程；プロセス・ライン遮断バルブを更にキャニスター出口バルブに接続する工程；キャニスター入口バルブをコントロール・バルブ及びキャニスター出口バルブに接続する工程を含んで成る、化学物質を含むキャニスターの補充に用いるマニホールドの製造方法である。
【００２３】
本発明のマニホールドは、低蒸気圧の物質及び有毒な化学物質をパージする効果を向上させることができる。
【００２４】
本発明は以下の態様を含み得る。
（態様１） 少なくとも１つのマニホールド・ボックスに接続されたバルク化学物質キャニスターを有して成る、バルク化学物質の供給システムであって、各マニホールド・ボックスは、少なくとも２つの流出ラインを有し、少なくとも１つの流出ラインは２次キャニスターにつながる供給システム。
（態様２） 各２次キャニスターは、プロセス・ツールに化学物質を供給するようになっているラインにつながる態様１に記載のシステム。
（態様３） システムを通過する化学物質の流れをコントロールするプログラム可能なコントローラーを更に有して成る態様１に記載のシステム。
（態様４） 各２次キャニスターは、キャビネット内に収容され、２またはそれ以上のキャニスターが適宜キャビネット内に収容されていてよい態様１に記載のシステム。
（態様５） バルク・キャニスターは、少なくとも約２００リットルの容量を有する態様１に記載のシステム。
（態様６） バルク・キャニスターは、輸送カート内に収容されている態様１に記載のシステム。
（態様７） 少なくとも１つの２次キャニスターは、プロセス・ツールに接続される態様１に記載のシステム。
（態様８） システムは、微量金属を含まない、９９．９９９９％またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケートである化学物質を含む態様１に記載のシステム。
（態様９） システムは、微量金属を含まない、９９．９９９９％またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケート、トリエチルホスフェート、トリメチルフォスファイト、トリメチルボレート、チタニウムテトラクロライドまたはタンタル化合物である化学物質を含む態様１に記載のシステム。
（態様１０） 第１バルク・キャニスターが化学物質を供給しない時、少なくとも１つのバルブ・マニホールド・ボックスに化学物質を供給する第２バルク・キャニスターを更に有して成る態様１に記載のシステム。
（態様１１） バルク・キャニスターおよびマニホールド・ボックスにつながる第１供給マニホールドを更に有して成り、バルク・キャニスターおよび第１供給マニホールドはキャビネット内に収容されている態様１に記載のシステム。
（態様１２） バルク・キャニスターは、少なくとも１つのプロセス・ツール、２次キャニスターまたはこれらの組み合わせにも直接つながっている態様１に記載のシステム。
（態様１３） バルク・キャニスターは、キャビネット内に収容されている輸送および格納カート内に収容される態様１に記載のシステム。
（態様１４） 分配マニホールドに接続されるバルク化学物質キャニスターを収容するキャビネット；少なくとも１つの分配マニホールドにつながる少なくとも１つのマニホールド・ボックスを有して成り、マニホールド・ボックスは少なくとも２つの流出ラインを含み、少なくとも１つの流出ラインは、第２分配マニホールドに接続され、かつ、２次キャビネット内に収容される２次キャニスターに接続される、バルク化学物質供給システム。
（態様１５） 少なくとも１つの２次キャニスターは、プロセス・ツールに化学物質を供給するようになっているラインにつながる態様１４に記載のシステム。
（態様１６） システムを通過する化学物質の流れをコントロールするプログラム可能なコントローラーを更に有して成る態様１４に記載のシステム。
（態様１７） バルク・キャニスターは、少なくとも約２００リットルの容量を有する態様１４に記載のシステム。
（態様１８） バルク・キャニスターは、輸送カート内に収容されている態様１４に記載のシステム。
（態様１９） 少なくとも１つの２次キャニスターは、プロセス・ツールに接続されている態様１４に記載のシステム。
（態様２０） システムは、微量金属を含まない、９９．９９９９％またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケートである化学物質を含む態様１４に記載のシステム。
（態様２１） システムは、微量金属を含まない、９９．９９９９％またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケート、トリエチルホスフェート、トリメチルフォスファイト、トリメチルボレート、チタニウムテトラクロライドまたはタンタル化合物である化学物質を含む態様１４に記載のシステム。
（態様２２） 電子デバイスの製造に用いるプロセス・ツールに化学物質を供給するのに有用である方法であって、
バルク・キャニスターにより化学物質を供給するバルブ・マニホールド・ボックスから化学物質を供給する２次キャニスターからプロセス・ツールに化学物質を供給することを含む方法。
（態様２３） バルク・キャニスターは、約２００リットルの容量を有し、２次キャニスターはバルク・キャニスターより小さい容量を有する態様２２に記載の方法。
（態様２４） 化学物質は、テトラエチルオルトシリケートである態様２２に記載の方法。
（態様２５） 第２バルク・キャニスターが、バルブ・マニホールド・ボックスに化学物質を適宜供給する態様２３に記載の方法。
（態様２６） 第１バルク・キャニスターを供給し（または提供し、もしくは設け）、それぞれが少なくとも２つの出口（または流出口）を有する少なくとも２つのバルブ・マニホールド・ボックスに第１バルク・キャニスターを接続すること；
プロセス・ツールに化学物質を供給するようになっている２次キャニスターに少なくとも１つの出口を接続すること
を含むバルク化学物質を供給するシステムを製造する方法。
（態様２７） バルク・キャニスターから化学物質が供給されるバルブ・マニホールド・ボックスから化学物質が供給される第２キャニスターからプロセス・ツールに化学物質を供給することを含む、電子デバイスの製造方法。
（態様２８） 分配マニホールドを介してバルク・キャニスターからバルブマニホールド・ボックスに化学物質が供給され、第２分配マニホールドを介して第２キャニスターからプロセス・ツールに化学物質が供給される態様２７に記載の方法。
（態様２９） 化学物質は、微量金属を含まない、９９．９９９９％またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケート、トリエチルホスフェート、トリメチルフォスファイト、トリメチルボレート、チタニウムテトラクロライドまたはタンタル化合物である態様２７に記載の方法。
（態様３０） 化学物質は、微量金属を含まない、９９．９９９９％またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケート、トリエチルホスフェート、トリメチルフォスファイト、トリメチルボレート、チタニウムテトラクロライドまたはタンタル化合物である態様２８に記載の方法。
（態様３１） 態様２７に記載の方法により製造される電子デバイス。
（態様３２） 態様２８に記載の方法により製造される電子デバイス。
（態様３３） 態様２９に記載の方法により製造される電子デバイス。
（態様３４） 態様３０に記載の方法により製造される電子デバイス。
（態様３５） 化学物質を含むキャニスターの補充に使用するマニホールドであって、
（１）真空供給バルブ；
（２）真空発生器；
（３）圧力ベント・バルブ；
（４）キャリヤーガス遮断バルブ；
（５）バイパス・バルブ；
（６）プロセス・ライン遮断バルブ；
（７）コントロール・バルブ；
（８）キャニスター入口バルブ；
（９）キャニスター出口バルブ
を有して成り、
真空供給バルブは真空発生器に接続され、
真空発生器は、圧力ベント・バルブおよびコントロール・バルブに接続され、
キャリヤーガス遮断バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され、
バイパス・バルブは、遮断バルブおよびキャニスター入口バルブに更に接続され、
プロセス・ライン遮断バルブは、キャニスター出口バルブにも接続され、
キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続されているマニホールド。
（態様３６） バルブは空気により作動する態様３５に記載のマニホールド。
（態様３７） バルブはステンレススチール配管により接続され、バルブはステンレススチール製である態様３５に記載のマニホールド。
（態様３８） キャリヤーガス遮断バルブは、不活性ガス源にも接続されている態様３５に記載のマニホールド。
（態様３９） キャニスター入口バルブおよびキャニスター出口バルブは空気により作動するバルブである態様３５に記載のマニホールド。
（態様４０） 真空供給バルブは真空発生器に接続されている態様３５に記載のマニホールド。
（態様４１） 液体化学物質を含む２つのキャニスターを再充填可能に接続するのに有用なマニホールドであって、
真空発生器に接続される真空供給バルブ、
真空発生器およびガス入口バルブに接続される圧力ベント・バルブ、
真空発生器に接続されるコントロール・バルブ、
キャリヤーガス遮断バルブはバイパス・バルブにも接続されており、
キャニスター出口バルブおよびバイパス・バルブに接続されるプロセス・ライン遮断バルブ、ならびに
バイパス・バルブ、コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続されるキャニスター入口バルブ
を含んで成るマニホールド。
（態様４２） バルブは空気により作動する態様４１に記載のマニホールド。
（態様４３） バルブはステンレススチール配管により接続され、バルブはステンレススチール製である態様４１に記載のマニホールド。
（態様４４） 真空供給バルブは真空源に接続される態様４１に記載のマニホールド。
（態様４５） キャリヤーガス遮断バルブは、不活性ガス源に更に接続される態様４１に記載のマニホールド。
（態様４６） 真空供給バルブは第２マニホールドに更に接続される態様４１に記載のマニホールド。
（態様４７） マニホールドは、圧力ベント・バルブ、真空発生器およびコントロール・バルブを接続する第１Ｔ字継手を含む態様４１に記載のマニホールド。
（態様４８） 第２Ｔ字管が、キャニスター入口バルブおよびキャニスター出口バルブに直接的にまたは間接的に接続される態様４１に記載のマニホールド。
（態様４９） マニホールドにキャニスターを接続する方法であって、
キャニスターの取付部品（または取付部）をマニホールドの取付部品（または取付部）に接続し、それによって供給システムを提供すること、および供給システムから空気および水を除去（またはパージ）することを含んで成り、マニホールドは、
真空供給バルブ；
真空発生器；
圧力ベント・バルブ；
キャリヤーガス遮断バルブ；
バイパス・バルブ；
プロセス・ライン遮断バルブ；
コントロール・バルブ；
キャニスター入口バルブ；
キャニスター出口バルブ
を含んで成り、
真空供給バルブは、真空発生器に接続され、
真空発生器は、圧力ベント・バルブおよびコントロール・バルブに接続され、
ガス入口バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され、
バイパス・バルブは、プロセス・ライン遮断バルブおよびキャニスター入口バルブに更に接続され、
プロセス・ライン遮断バルブは、キャニスター出口バルブにも接続され、
キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続される方法。
（態様５０） マニホールドを製造する方法であって、
真空供給バルブ、真空発生器、圧力ベント・バルブ、キャリヤーガス遮断バルブ、バイパス・バルブ、プロセス・ライン遮断バルブ、コントロール・バルブ、およびキャニスター入口バルブを供給（または提供し、もしくは設け）すること、
真空供給バルブは、真空発生器に接続され、真空発生器は、圧力ベント・バルブおよびコントロール・バルブに接続され、ガス入口バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され、バイパス・バルブは、プロセス・ライン遮断バルブおよびキャニスター入口バルブに更に接続され、遮断バルブは、キャニスター出口バルブにも接続され、キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続されるように、バルブをラインと接続すること
を含んで成る方法。
（態様５１） 化学物質を含むキャニスターをリフィルする場合に使用するマニホールドであって、
（１）真空供給バルブ；
（２）真空発生器；
（３）キャリヤーガス遮断バルブ；
（４）バイパス・バルブ；
（５）プロセス・ライン遮断バルブ；
（６）コントロール・バルブ；
（７）キャニスター入口バルブ；
（８）キャニスター出口バルブ
を有して成り；
真空供給バルブは、真空発生器に接続され；
真空発生器は、コントロール・バルブに接続され；
キャリヤーガス遮断バルブは、バイパス・バルブに接続され；
バイパス・バルブは、プロセス・ライン遮断バルブおよびキャニスター入口バルブに更に接続され；
プロセスライン遮断バルブは、キャニスター出口バルブにも接続され；
キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続される；
マニホールド。
（態様５２） 化学物質を含むキャニスターのリフィルに使用するマニホールドの製造方法であって、
（１）真空供給バルブを供給する（または提供する、もしくは設ける、以下本態様において同様）こと；
（２）真空発生器を供給すること；
（３）キャリヤーガス遮断バルブを供給すること；
（４）バイパス・バルブを供給すること；
（５）プロセス・ライン遮断バルブを供給すること；
（６）コントロール・バルブを供給すること；
（７）キャニスター入口バルブを供給すること；
（８）キャニスター出口バルブを供給すること；
真空供給バルブを真空発生器に接続すること；
真空発生器をコントロール・バルブに接続すること；
キャリヤーガス遮断バブルをバイパス・バルブに接続すること；
バイパス・バルブをプロセス・ライン遮断バルブおよびキャニスター入口バルブに更に接続すること；
遮断バルブをキャニスター出口バルブに更に接続すること；
キャニスター入口バルブをコントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続すること；
を含んで成る方法。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の代表的なバルク化学物質供給システムを図示する。
【図１Ａ】単一のバルク・キャニスター・キャビネットを用いる、本発明の代表的なバルク化学物質供給システムを例示する。
【図２Ａ】本発明に使用され得る代表的なバルブ・マニホールド・ボックスを例示する。
【図２Ｂ】本発明に使用され得る代表的なバルブ・マニホールド・ボックスを例示する。
【図２Ｃ】本発明に使用され得る代表的なバルブ・マニホールド・ボックスを例示する。
【図３】本発明の実施に使用され得、化学物質の漏出またはリークに対する閉じ込めを可能にする輸送カートを例示する。
【図４】本発明の実施に使用され得、化学物質の漏出またはリークに対する閉じ込めを可能にする輸送カートを例示する。
【図５】本発明の実施に使用され得、化学物質の漏出またはリークに対する閉じ込めを可能にする輸送カートを例示する。
【図６】バルク・キャビネットにて使用する代表的なマニホールドの概略図を例示する。
【図７Ａ】全ての電子部品を不活性ガスで覆われた領域に隔離することによって、危険（または有害）な、爆発の可能性のある環境において使用するのに適するように構成され得る、本発明のキャビネットを例示する。
【図７Ｂ】全ての電子部品を不活性ガスで覆われた領域に隔離することによって、危険（または有害）な、爆発の可能性のある環境において使用するのに適するように構成され得る、本発明のキャビネットを例示する。
【図８】本発明の代表的なマニホールドの構成を図示する。
【図９】キャニスターが作動しているときのマニホールドでの気体の流路を図示する。
【図１０】キャニスターのヘッド圧力を取り除くための減圧工程の間の、マニホールドでの流路を図示する。
【図１１】液体の排出の間の、マニホールドにおける気体の流れを図示する。
【図１２】サイクル・パージの間の、マニホールドにおける気体の流れを図示する。
【図１３】サイクル・パージの間の、マニホールドにおいて流れているパージを図示する。
【図１４】本発明のもう１つの代表的なマニホールドの構成を図示する。
【図１５】サイクル・パージの間の、図１４のマニホールドにおける気体の流れを図示する。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明のキャビネットにて使用し得る金属製キャニスター、化学物質補充システム、操作手順、構成要素、および開始（starting）マニホールド・システムなどの一般的な説明は、米国特許第５，４６５，７６６号；同第５，５６２，１３２号、同第５，５９０，６９５号、同第５，６０７，００２号、および同第５，７１１，３５４号に述べられており、これらの全ては引用することにより本明細書に組み込まれるが、これに限定されるものではない。
【００２７】
本発明の代表的なバルク供給システム１００を図１に示す。図面中の各バルブについて、白三角は、常に開状態であるラインを示し、黒三角は、開状態とされるまでは閉状態であることを示す。このシステムは、少なくとも１つのバルク・キャニスター・キャビネット１０１を含み、これは化学物質を、直接または間接的にマニホールド・ボックス１０８を介して２次（中間）キャビネットへ、そして、化学物質を使用するプロセス・ツール（または器具）へ最終的に供給するバルク・キャニスター（図示せず）を収容している。このシステムは、オプションとして、代表的には約２００リットルまたはそれ以上の容量を有する第２のバルク・キャニスター１０３を切除図に示すように保持する第２バルクキャビネット１０２を含んでよい。第２バルク・キャニスターは、第１バルク・キャニスター１０１を取り替える、補充する、修理する、あるいはその他の理由の場合に、化学物質をバルブ・マニホールド・ボックスに供給することができる。あるいは、第２バルク・キャビネット１０２は、通常の操作の間に第１キャビネット１０１を補充するのに用いてもよい。
【００２８】
キャビネット１０１、１０２は、図３〜５を参照して説明されるような構造を有し得る。キャビネット１０１または１０２は、各キャビネットにおいて同じでも、あるいは異なっていてよいマニホールド１０４を含み得る。第２キャニスターからのライン１０５は、キャビネット１０１の第１キャニスターのマニホールドと接続されていてよい。第２キャビネット１０２を使用する場合、第１キャビネット１０１を取り替える、または補充する間、システムが第２キャビネット１０２から化学物質を供給することができる機能のスイッチ（または切り替え）、例えばマニホールドのスイッチ（これは図６を参照して説明する）を用いてよい。第２バルク・キャニスター１０２へのスイッチングは、例えばＯｍｒｏｎ，Ｉｎｃなどの様々な市販ソースから入手可能なものなどの、当業者に周知のプロセス制御装置を用いるなどして自動化され得る。あるいは、例えば米国特許第５，４６５，７６６号および同第５，７１１，３５４号に記載されるようなＭＡＲＳ（商標）制御システムなどの、キャニスターの取り替えおよびパージ機能を管理し、システム・パラメータを制御および監視する、プログラム可能なコンピュータ制御システムを用いて、総合システム管理を制御してよい。コントローラは、パージ・シーケンスおよび通常の運転モードを管理することもできる。パージ・シーケンスは、終了後のバルク化学物質供給キャニスターを取り除く前に、あるいは新たなキャニスターを据え付けた後に、マニホールドとキャニスターとの接続ラインをパージするように機能する。運転モードの間、システムは化学物質をプロセス・ツールへ供給し、このことは、バルク化学物質供給キャニスターを据え付けた後に開始され得る。ある点においては、バルク・キャニスター・キャビネットにある単一のコントローラによって、二次キャビネットおよびバルブ・マニホールド・ボックスについてのコントローラの有無にかかわらず、該一次コントローラにデータを戻すように、総合システムを制御してよい。あるいは、各バルクおよび二次キャビネットならびに各バルブ・マニホールド・ボックスは、これらの機能を制御するように、別のコントローラを備えていてもよい。
【００２９】
ライン１０６は、キャビネット１０１内のマニホールドから、例えばバルブ・マニホールド・ボックス１０８などの１つまたはそれ以上のバルブ・マニホールド・ボックスにつながっている。いかなる数のマニホールド・ボックス１０８を用いてもよい。１つの実施態様においては、４個までのボックスが用いられる。各ボックス１０８は、本明細書において説明する、図２Ａ、２Ｂ、および２Ｃに図示するようなマニホールド１０９を含んでよい。バルブ・マニホールド・ボックス１０８は、分配マニホールドによって化学物質のストリームを、化学物質を使用するプロセス・ツールへ、あるいは１つまたはそれ以上のより小さなキャニスター１２３を収容する二次キャビネット１２０および１２５へつながる複数のライン１１２に分割するように機能する。各キャビネットは、所望のいかなる数のキャニスターを含んでいてよく、１つまたはそれ以上のキャニスターは、別々の分配マニホールドを通じてプロセス・ツールへ供給され得る、異なる化学物質を含んでいてよい。図１においては、二次キャビネット１２０は、２つのより小さなキャニスター１２３を収容し、他方、二次キャビネット１２５は、１つのより小さなキャニスター１２３を収容している。バルブ・マニホールド・ボックスにおけるマニホールドの詳細な構造は、化学物質のストリームをシステムとプロセス・ツールとでバランスさせて供給する限り、本発明の実施に重要ではない。バルブ・マニホールド・ボックスにおけるバルブの構造は、バルブ・マニホールド・ボックスの下流における構成要素を実用的なものとし、また、個々のラインの独立したパージおよびメンテナンスを可能とするように、変更してよい。オプションとして、マニホールド・ボックス１０８から二次キャビネット１２０へのラインを切断して、システムを設計およびプログラムして、補充用キャニスター１２３がメークアップ化学物質をもう１つのキャニスター１２３に供給（または送出）し、該他のキャニスターがプロセス・ツールに化学物質を供給するように切り替えるようにしてよい。化学物質をプロセス・ツールに主に供給するように構成されたキャニスター１２３の交換を容易にするために、補充用キャニスター１２３が化学物質をプロセス・ツールに供給できるように、マニホールドを構成し、コントローラをプログラムしてよい。しかし、代表的には、補充用または供給用キャニスターのいずれかを交換などする場合、マニホールド・ボックス１０８からの化学物質が切り替わり、プロセス・ツールへ直接的に供給されるように、システムが構成される。別法では、プロセス・ツールは、二次キャビネットを用いないでバルブ・マニホールド・ボックスから直接的に供給され得る。同様に、少なくとも１つのマニホールド・ボックスに化学物質を提供するのに加えて、バルク・キャビネットは、１つまたはそれ以上のプロセス・ツールに化学物質を直接的に供給することができる。バルブ・マニホールド・ボックスは、いかなる数の流出ラインを含んでいてよく、代表的には４個までの流出ラインが用いられる。図１および１Ａでは、４個の流出ラインを用いている。
【００３０】
図１Ａは、単一のバルク・キャニスター・キャビネット１０１を用いる、本発明の代表的なシステム１００を示す。図１Ａ中の符号は、図１中のものと対応している。図１と同様に、いかなる数のバルブ・マニホールド・ボックス１０８が含まれていてもよい。代表的には、４個までのバルブ・マニホールド・ボックス１０８が用いられる。同様に、用いられる二次キャビネット１２０および／または１２５の数は変更でき、代表的には４個までが用いられる。従って、バルブ・マニホールド・ボックス１０８は、別法では、所望の数の流出口を含むように構成され得る。所与のシステム１００においては、二次キャビネットは、キャビネット１２５に示すように１つのキャニスターを含んでもよく、またはキャビネット１２０に示すように２つのキャニスターを含んでもよく、あるいは、１つまたはそれ以上のキャビネット１２０が単一のキャニスターを保持し、１つまたはそれ以上のキャビネット１２５が２つのキャニスターを保持するシステムのような、キャビネットの組合せを用いてもよい。加えて、キャビネット１２０および１２５は、より多い、またはより少ない数のキャニスターを含むのに望ましいように改変してもよく、これは、キャニスターの数に制限はなく、別の構成において用いられ得る。また、キャビネット１０１におけるバルク・キャニスターの寸法、あるいはキャビネット１２０および１２５におけるキャニスターの寸法に制限はないが、一般的には、キャビネット１０１におけるキャニスターは、キャビネット１２０および１２５におけるキャニスター１２３よりも大きい。
【００３１】
本発明の実施に使用され得るバルブ・マニホールド・ボックス２００を図２Ａ、２Ｂ、および２Ｃに図示する。図２Ａにおいては、入口バルブ２１０は、図１の供給マニホールドからの出口ラインから化学物質を受け取る。入口バルブ２１０は、マニホールド・バルブを修理する必要がある場合にマニホールドの完全なパージを行うことができる、手動式または空気圧式バルブあるいは両用作動式（dual activator）バルブであってよい。バルブ・マニホールドは、オプションとして、２つまたはそれ以上のバルク・キャニスターなどの複数の供給源から化学物質を受け取ってよいことが考えられる。入口バルブと空気圧式アクティベータへの溶接接続を用いることにより、漏出検出に関する安全上の配慮を高め得る。入口バルブ２１０からのライン２１１は、２つまたはそれ以上の流出口（図２Ａには４個の流出口を図示する）の群へつながる。ライン２１１は、圧力ライン２２０からの気体、例えばヘリウムなどで加圧される。圧力ライン２２０には気体の供給源（図示せず）により気体が供給され、気体入口バルブ２２１に加圧した気体が供給され、その後、ライン２２２を通して流し、ライン２２０への流れを制御するレギュレーターバルブ２２３へ移送される。圧力ライン２２０はオプションであるが、実用的見地から典型的には用いられている。化学物質は、バルブ・マニホールド・ボックス２００の分流部（スプリッター・セクション）２３０において、２またはそれ以上の対の、適切にポーティングされた（ported、またはポート調節された）パージ・バルブ２３１および液体制御バルブ２３２を介して分流される。液体制御バルブ２３２を閉状態として、バルブのポーティングによって、パージ・バルブ２３１からのパージガスは、液体制御バルブ２３２のシート（seat）の頂部を横切って、中間キャビネットまたはプロセス・ツール（これはオプションとして、オンボード（on-board）の補充可能コンテナを用いてよい）に送る流出ラインに接続され得る流出口２３４に流れることができる。このパージングにより、一方の支流で液体をパージまたはドレン抜きし、他方、その他の支流をオン・ライン（または液体供給）のままとすることができる。出口バルブ２３３は、各流出ラインを経る化学物質の流出を調節する。バルブ・マニホールドは、６つの壁で作られる矩形ボックスの形態であり得るハウジング２４０に収容され得る。ハウジング２４０は、常套の方法を用いて、例えば溶接または適切な留め具の使用によって組み立てられる任意の適切な材料、例えばシートメタル（または板金）などから成っていてよい。前面の壁は、オプションとして、透明な材料、例えばＰｌｅｘｉｇｌａｓなどから成っていてよい。ハウジング２４０は、入口および出口ライン用に適切に寸法決められ、配置された穴を含んでよい。加えて、マニホールド・ボックスは、液体センサーおよびドレン排出口を含んでいてよく、この排出口から、マニホールド・ボックスの底部にて集められた液体化学物質を除去し得る。ボックスの底部は、漏出物（spill）を特定の位置で集め得るように、傾斜が付けられていてよい。センサーはコントローラに信号を供給することができ、よって、オペレータに警告し、マニホールド・ボックスへのラインがシャットダウンされるなどする。
【００３２】
図２Ｂは、バルブ・マニホールド・ボックス２００の第１側面図である。図２Ｂのバルブ・マニホールド・ボックスの入口側の側面図においては、バルブ・マニホールド・ボックスへの配管（またはパイピング）および／または接続について、より融通がきき、より簡単な変更を可能とするように、各端部には取り外し可能なプレートが備えられる。取り外し可能なプレートは、分割プレートであってよい。
【００３３】
図２Ｃは、バルブ・マニホールド・ボックス２００の第２側面図である。図２Ｃにおいては、出口側を示し、これもまた取り外し可能なプレートを用いており、この場合、１つまたはそれ以上のラインが所定の状態に既にある状態で、付加的なラインを加えるために、取り外しが簡単な分割プレートである。
【００３４】
例えば電子デバイス（例えば、集積回路）製造装置におけるような、常設の二次格納（containment、または閉じ込め）領域を有する代表的なバルク・キャビネットは、コンテナをキャビネット内へ持ち上げて入れることを必要とする。コンテナが５または１０ガロンの化学物質を保有するとき、コンテナをキャビネットへ手動で（代表的には８〜１２インチ）持ち上げるのは、非常に困難ではない。しかし、より大きなキャニスター、例えば２００リットルのキャニスターについては、そのような持ち上げは実行できない。以下に考慮する構成は、大きな２００リットルのキャニスターをキャビネットに配置する際に生じる課題および問題を軽減する。
【００３５】
バルク・キャニスター３０１は、図３〜５に図示するような輸送カート内に収容してよい。図３は、そのようなバルク供給システムを示す。このシステムは、バルク化学物質キャニスター３０１、移動式格納輸送カート３００、ならびにキャニスター３０１およびカート３００を収容するためのバルク化学物質キャビネット３５０を含む。実際には、キャニスター３０１は、適切な保持部がキャニスター３０１に存在する場合、天井クレーンなどを用いてこれを持ち上げることによって、カート３００に配置され得る。
【００３６】
キャニスターまたは貯蔵容器とも種々に呼ばれ得るキャニスター３０１は、広範に種々の寸法を有してよいが、２００リットルの寸法が、本発明の実施に使用するのに特に適切である。キャニスターは常套の構成を有してもよく、ならびに／あるいは特定の用途のために構成されていてよく、また概して、液体の化学物質を収容し、供給するようになっている。キャニスターは、代表的にはステンレス鋼から成り、ライナーを有しても、有さなくてもよい。キャニスター３０１は、ライン（図示せず）を接続でき、これにより、化学物質をキャニスターから高純度のままで供給することができる取り付け具（または継手部）３０３を含む。キャニスター３０１は、底部への内部ライン（図示せず）、ならびにキャニスター３０１中の化学物質のレベルを検出する１つまたはそれ以上のセンサー（１ダースまたは多くのセンサーを用い得る）を含んでよい。センサーは、不連続または連続式の液体センサーとすることができる。加えて、キャニスター３０１は、以下に説明するスコップ部（scoop）３８３を受容するように、垂直シース３０４に穴３０５を含む。用いる取り付け具３０３は広範に変更でき、バルブ・マニホールド３８０から出るラインの適切な取り付け具に適合しさえすればよいことを考慮すべきである。また、キャニスター３０１は、キャニスターに溶接され得るか、あるいは静置するときにキャニスターの重量によって所定の状態で保持されるように、キャニスター３０１の下方に単に配置され得るスリーブ３０２を含んでよい。スリーブ３０２は、フォークリフトのフォークを受け入れるように、適切に構成され得る。カートは、一旦配置されるとキャビネット内でカートをしっかりと留める固定デバイスを含んでよい。貯蔵または輸送の間に取り付け具を保護するために、蓋３０６を用いてもよい。
【００３７】
圧力管理制御により、運転の間にヘリウムなどのための入口バルブを閉状態に維持し、体積が低下したときにだけ開状態とすることができるように、１つまたはそれ以上の圧力変換器（またはトランスデューサ）をキャニスターの予備の穴に加えてよい（冗長性（redundant）変換器を用い得る）。
【００３８】
図３に示すように、移動式カート（または「クレート（crate）」）３００は、ベース３１６へ取り付けられているホイール（ローラ）３１０を有しており、キャニスター３０１の寸法に応じて適当な寸法及び好適な耐久性を有するものとすることができる。ホイール３１０は、パーキングブレーキまたはデッドマンズ・ブレーキ（deadman's brake）を含むブレーキ（制動手段）を有することができる。カート３００は、例えば、フォークリフトのフォークを受け入れるためのスリーブ３１２を有することができ、スリーブ３１２はベース３１６の一部となっていても、またはベース３１６に取り付けられていてもよい。カート３００は、キャビネット３５０からカート３００を取り外す前に、液体漏出物（spill）の少なくとも一部、好ましくは大部分を除くことを容易にするためのドレン・ラインを有することができる。カート３００は、キャビネット３５０の中へ配置する場合に、カート３００の位置決め（又は配置）を容易に行うことができるように、キャビネット３５０内のガイド３６４と位置合わせされるガイド３１４を有することができる。ガイド３１４は、ベース３１６の一部であってもよいし、またはベース３１６へ取り付けられていてもよく、常套の方法を用いて（例えば、ねじもしくはボルトを用いて、または溶接によって）ベース３１６へ取り付けることもできる。別の態様では、ガイド３１４は、カート３００の１またはそれ以上の側面に取り付けられた例えばレールの形態であってもよく、相補的なガイドがキャビネットの側面の適当な位置に取り付けられている。もう１つの態様では、ガイドは、当業者にとって容易に理解することができるように、カートが正しく位置合わせされるとスナップ嵌めして位置決めするバネ付きのボールベアリング・トラックであってもよい。ベース３１６には４つの外側壁３１８も取り付けられている。一般に、ベースと側面とは互いに溶接されているか、または継ぎ目のない側壁が用いられる。ベースは、センサー３１７へ向かって傾斜していたり、溝が設けられていたりなどしていてもよい。同様に、ベースは、場合によって、少量の漏出物を集めるための小容量のトラフ（又は樋）を有することができ、それによってセンサ３１７のそのような少量の漏出物を検出する能力を向上させることもできる。位置合わせガイド３１９を用いて、カート３００内にキャニスター３０１を配置することもできる。カート３００は、空気よりも密度の高い蒸気の換気を行うための排気ダクトを有することができる。カート３００の操縦をする際にオペレータの助けとなるように、場合によってハンドル３２０をカート３００に取り付けることもできる。カート３００の頂部３３０には、キャニスター３０１の頂部を収容することができるように適当な寸法のホール（穴）３３４を有することができる。ホール３３４は、輸送及び移動する際にカート３００内にキャニスター３０１を固定することを助長するように、頂部３３０がぴったりと嵌まるような大きさとなっていることが好ましい。頂部３３０には、場合によって孔３３２が設けられていてよい。孔３３２は、キャニスター３０１の上側領域における漏れ（leak）をカート３００の下側領域へ排出する機能を有する。更に、取り付け具を周囲への暴露からシールする取外し可能な部材を使用することができ、そうすることは、使用するためにキャニスターをクリーンルームに配置する場合に有益である。このことによって、ダストなどがカート及びキャニスターにまたはそれらの内部に蓄積されることが防止される。更に、液体漏出物を検知するセンサ３１７を有することもできる。センサはコントローラに接続することができ、コントローラは漏出物を検知した場合にシステムをシャットダウンさせたり、またはオペレーターに信号で知らせたりすることができる。今日において工業的には、格納ユニットの容量はキャニスター３０１の容量の少なくとも１１０％であることが推奨される。従って、本発明の１つの態様では、カート３００は、カート３００が収容すべきキャニスター３０１の内部容量の少なくとも１１０％の容量を有するように構成されている。
【００３９】
キャビネット３５０は、３つの側面、ベース（底面）３６０、扉３９０及び頂面を有している。１又はそれ以上の支柱（ブレース）３６１をキャビネットに取り付け、キャビネットを設置する床にボルトで締め付けることなどによって、構造物を支えることもできる。別の態様では、キャビネットのベースを床へ直接取り付けるために、ブレース３６１に代えてキャビネットベースの孔を用いることもでき、それによってキャビネットの跡形を低減することができる。１又はそれ以上の扉を用いることもできる。２枚の扉を使用する場合には、戸当たり３６２を有することもある。キャビネットは、プロセス制御計器装備を取り付けるためのコンパーメント（又は「コントロール・ボックス」）３７０を有することもできる。別の態様では、プロセス制御計器装備をキャビネットの外側に取り付けることもある。プロセス制御計器装備は周知であって、種々の供給源、例えばオムロン社（Omron, Inc.）などから入手することができる。プロセス制御計器装備は、図４に示すようなタッチスクリーン３９３に接続することができる。
【００４０】
キャビネットは、所定の数のバルブ３８２（例えば、空気作動バルブ）、例えば米国特許第５，４６５，７６６号、同第５，５６２，１３２号、同第５，５９０，６９５号、同第５，６０７，００２号及び同第５，７１１，３５４号に開示されているようなバルブを有するバルブ・マニホールド３８０を有していてよく、これらの特許の全ては引用することによって本明細書に包含されるものと、又は本明細書に記載されているものとする。マニホールドは、マニホールド、ライン及び取り付け具（又は継手）内にパージされないデッド・レッグ（dead leg）が存在しないように構成することが有利であり得る。この点に関して、相互接続ラインにベンドがなく、また、曲がったラインもないように構成することが有利なこともある。一般に、システム内の圧力は、上流側の圧力が下流側の圧力よりも高くなるように調節される。バルク・キャニスター用のキャビネットにおける代表的なマニホールド及びシステム・ラインの構成を図６に示しているが、これに限定されるものではない。図３において、バルブ３８２はコントロール・ボックス３７０内に収容されているプロセス制御計器装備を用いて制御することができる。手動操作バルブ、空気作動バルブ又はその他の種々のバルブを含めて、これらに限定されず、多様な種類のバルブを使用することができるということを理解されたい。バルブマニホールドを閉鎖するためにマニホールド扉３８４を有することがある。スクープ（又は取り入れ口（scoop))３８３をキャビネット３５０内に設けて、そこからマニホールド・ラインを配設することもできる。スクープ３８３は、キャニスター３０１の穴３０５の中に嵌まり込むのに好適な寸法とすることができる。スクープ３８３を、適当な排出フロー（exhaust flow）が可能となるような寸法とすることもできる。スクープ３８３はこのようにキャビネット内における排出の流れ全体を含み、適当なバランスとなるように調節することができる。スクープ３８３は、マニホールド領域におけるすべての液体漏出物を、そのような漏出物を収容するようにカート３００の下方へ導く機能をも有し得る。図３には、通気開口下側部分を有するチューブ３８６も示されており、チューブは排気部（exhaust）の中に結合されており、それによってキャビネットを通る排気フローを調節し及びバランスさせることができる。キャビネットは排気出口３８１を有していてもよい。場合により、キャビネット３５０の後方側面にバンパー３９２を取り付けて、カート３０１のストッパとして作用させることができる。
【００４１】
図４は、図３のキャビネット３５０における扉３９０として使用するための２枚扉システムを示している。図４においては２枚扉システムを示しているが、それに替えて１又はそれ以上の枚数の扉を使用することもできる。図４において、左側の扉３９９及び右側の扉３９１は、キャビネット３５０の内側面が見えるように示されている。各扉は、それらをキャビネット３５０へ取り付けるためのバネ付きのヒンジ３９４、扉ロック手段３９５、及び排気口３９６を有している。更に、扉３９１はプロセス制御計器装備に接続されるタッチ・スクリーン３９３を有することもできる。タッチ・スクリーン３９３は、オペレーターにプロセスの構成を観察させたり、又は変更させたりすることを可能にする機能を有する。
【００４２】
図５は、キャビネット３５０内に収容されているカート３００内に設置された場合におけるキャニスター３０１を示している。従って、図５は、本発明のシステムの構成を示している。キャニスター３０１は例えばクレーンなどを用いてカート３００の中に配置され、その後カート３００には頂部３３０が取り付けられ、これによってキャニスター３０１が横方向に動いたり揺れたりすることは低減される。キャニスター３０１は、カート３００の中へ装着する前又は後のいずれの時点で充填してもよい。図５では、スクープ３８３を垂直方向のシース３０４における穴３０５の中を通して挿入し、ピッグテイル（pigtail）（即ち、マニホールド・ライン）を穴３０５の縁部による摩滅から保護することができるということも理解することができる。バネ付きのリフティング・デバイスを用いて、分離した場合にピッグテイルを自動的に持ち上げるようにすることもできる。取り扱う際に取り付け具３０３を保護する垂直方向のシース３０４が、孔が設けられたカート頂部３３０のホール３３４の中に嵌め込まれることも示されている。
【００４３】
キャニスター３０１は、キャニスター３０１を持ち上げて、カート３００の中へ移動させて設置することによってカート３００内に設置することができる。カート３００には高荷重に耐えられるホイール（ローラ）３１０が設けられているので、バルク・キャニスター３０１を収容しているカート３００は単に手で押すことによって好都合に移動させることができる。有利な態様では、カート３００は貯蔵及び供給キャビネット３５０の中に押して入れることができる。図３に示すように、キャビネット３５０及びカート３００には、オペレーターがカート３００をキャビネット３５０の中に設置する際に役立つガイド３１４及び３６４を有する構成となっている。本発明の利点は、漏出物が生じた場合に、移動式カート３００は漏出物を収容する機能を有しており、キャニスターを吊るための格子（grating）を格納リザーバ上で用いる常套のキャビネットに比べて、バルク・キャビネット内においてそのような格子を本発明は必要とはしないため、本発明におけるキャビネット３５０は寸法に関して小さくすることができるということである。尤も、２次キャビネットにはそのような常套の構成を用いることができる。更に、キャニスター３０１を設置する場合に、キャビネット内には格子もリザーバーも設けないので、常套のキャビネットのように配置のために上昇させたり持ち上げたりする必要はない。本発明のキャビネット及び移動式自己格納システムは、このように、より小さいスペースしか必要としないにも拘わらず、格納を行うことができる。本発明のシステムをクリーンルーム環境において使用する場合には、大きなキャニスターをキャビネットの中へ設置するためにフォークリフトを必要としないことが有利である。クリーンルーム・フォークリフトはまれで、高価であること、並びにキャニスターを内部に設置するキャビネットの領域に広い領域およびクリアランスを必要とするので、このことは特に有利である。
【００４４】
本発明のバルク供給システムを用いて移送することができる化学物質の種類は、プロセス・ツール及び所望する結果の種類に応じて幅広く変動し得る。代表的な化学物質には、テトラエチルオルトシリケート（「ＴＥＯＳ」）、トリエチルホスフェート、トリメチルホスファイト、トリメチルボレート、四塩化チタン、タンタル化合物など；塩素化された炭化水素、ケトン、例えばアセトン及びメチルエチルケトン、エステル、例えば酢酸エチル、炭化水素、グリコール、エーテル、ヘキサメチルジシラザン（「ＨＭＤＳ」）などの溶媒；液体中に分散された固体配合物（または化合物）、例えばバリウム／ストロンチウム／チタネートカクテル（混合物）などが含まれるが、これらに限定されるものではない。送出する化学物質が有機液体中に懸濁された固体である場合、有機液体が蒸発する時にライン内に固形物が蓄積されることを防止するように、マニホールドの構成は、すべてのラインにて液体フラッシュさせることができるようにすることができる。分散液を使用する場合、ライン内の圧力を下げたときにライン内に配合物が沈降（または析出）しないように、トリグリム又はテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などの液体溶媒によってラインをフラッシュする（洗い流す）ことが好ましい。化学物質についてのこれらの例は本発明について何らかの限定をしようとするものではない。化学物質には、種々の純度の化学物質、及びそれらの混合物を使用することができる。１つの態様では、１種の化学物質を使用する。所定の化学物質は、微量金属に関して、９９．９９９％又はそれ以上の純度を有することが有利である。
【００４５】
図６は、第２キャビネット１０２を含まない場合において、キャビネット１０１において用いるための、代表的なキャニスター、パージ・マニホールド、及びシステム供給マニホールドを示している。図６にはバルク・キャニスター６１０が示されており、これは２００リットルのキャニスターであってよい。気体源６３０から、ライン６３１、キャリヤー・ガス遮断バルブ６３２、キャニスター・バイパス・バルブ６３４、第２フローイング・パージバルブ（「ＦＰ２」バルブ）６３６、及びキャニスター入口バルブ６３８を通して正圧をかけることによって、バルク・キャニスター６１０は、ライン６１１、６１２及び６１３、並びにキャニスター出口バルブ６４０、プロセスライン遮断バルブ（ＰＬＩ）６４２、及びフィルター・アッセンブリ６２０を通して、４ポート・プロセス供給マニホールド６７０へ化学物質を供給し、そこで化学物質は４つのストリームに分けられ、出口バルブ６７２を通って排出される。出口バルブ６７２はラインを通して化学物質をバルブ・マニホールド・ボックス（図示せず）へ供給する。化学物質は、プロセス供給マニホールド６７０に入る前に、フィルター・アッセンブリ６２０を通過することによって不純物が除かれる。本発明の重要な特徴の１つは、フィルター隔離バルブ６２２Ａ及び６２２Ｂを、流れがフィルター・バイパス・バルブ６２４を通って導かれるように操作することによって、フィルター容器６２１の全体を取り外したり、交換したりできるということである。（閉じている）ＰＬＩ６４２と隔離バルブ６２２Ａとの間、並びにフィルター遮断後方バルブ（ＰＦＩ）６２６と隔離バルブ６２２Ｂとの間で適当な取り付け具（継手）を分離させた後、フィルター・アッセンブリを新たなアッセンブリと交換することができる。フィルター及び化学物質を含んでいる古いアッセンブリは、システムの停止時間をほとんど取らずに取り扱うことができる。このことは、煩雑で、誤りを犯しやすく、時間のかかるフィルター媒体自体の交換作業を避けることができるため、有利である。供給マニホールド６７０において、分配供給バルブ６７１は化学物質の出口バルブ６７２への流れを遮断する機能を果たす。マニホールドには、サンプリング・ポートが設けられていてもよい。マニホールドシステムは全体として、フローイングガスのパージ及び減圧（又は真空）サイクルを交互にさせることによってキャニスターを交換する前又はシャットダウンする前に清掃することができる。この点に関して、キャニスターの圧力を下げた後で、フローイングガス・パージサイクルはラインの液体ドレンによって完了させることができる。例えば、気体は、ソース６３０からＣＧＩ６３２、ＣＢＶ６３４、ＰＬＩ６４２、キャニスター出口バルブ６４０及びライン６１３を通して導くこともでき、そうすることによって液体をキャニスター内へ一掃することができる。所望する場合には、フィルター・アッセンブリをドレンすることもできるが、隔離バルブ６２２を閉じて、流れをフィルター・バイパス・バルブ６２４を通るように移動させ、キャニスター６１０を通りその中へ入るライン６１３を通る気体の流れによって液体ドレンを行うことが、より一般的である。液体ドレンを進める際に、キャニスター６１０からライン６５２を通して通気口６５４へ気体が放出されるように、ＦＰ２ ６３６及び第１フローイング・パージバルブ（ＦＰＩ）６５０は開いていると理解することができる。このことによってキャニスター６１０内に圧力がかかることが防止される。
【００４６】
ライン・ドレンの後で、減圧段階及びフローイング・ガス・パージを含むサイクル・パージを開始することができる。例えば、減圧供給バルブ（ＶＧＳ）６５６を開いて、減圧源６５７、例えばベンチュリ・ジェネレーターの中へ気体を入らせることができ、キャニスター入口バルブ６３８及びキャニスター出口バルブ６４０を閉じると、ライン６５２を通じてマニホールドシステムは減圧状態となる。別の態様では、真空ポンプを使用することができる。その後、（キャニスター入口及び出口バルブ６３８及び６４０は閉じた状態に保って、）ＶＧＳ６５６を閉じた後、所望するように気体源６３０からマニホールドの中へ気体を導入することによって、フローイング・パージ（flowing purge）を行うことができる。サイクル・パージを何回か繰り返して、キャニスター６１０を交換するために取り付け具を取り外す前に、ラインの中に化学物質が実質的に存在しないことを確実にする。
【００４７】
ライン６１３へ直接連結されてフローイング・パージ用の気体を供給するライン６２９を用いる代わりに、点線６２８のラインを用いることもできる。この別の態様の構成では、フィルター後方パージ・バルブ（ＰＦＰ）６２７を開いて、化学物質をキャニスター６１０の中へ圧入することによって、ライン・ドレンを行うことができる。この構成では、ＰＦＩ６２２Ｂは三方バルブであってよい。このようなアレンジメントによる利点は、ＰＦＩ６２９の下流側のシステム及びラインを湿潤状態にとどめることができるということである。
【００４８】
図１又は１Ａに示すシステムが第２バルク・キャビネット１０２を有する場合、第２バルク・キャニスターを接続するラインは、例えば、供給マニホールド６７０へフィードするライン６１３におけるポイント６８０にて連結することができる。この構成を用いる場合、キャニスター６１０を交換している場合、あるいはそれ以外にも保守や修理などのためにラインが機能していない場合等に、第２バルク・キャニスターがＰＦＩ ６２６の下流側で化学物質を供給することができるように、点線６２８で示すラインを用いて、ＰＦＰ ６２７を通してパージ用の気体を供給することが好ましい。
【００４９】
キャニスターの出口バルブ６４０はまた、第３のフローイング・パージバルブとして作用することが考えられる。したがって、ガスはライン６４１を経由してシステムをパージし、それにより、マニホールドにおいてデッド・レッグは実質的に存在しないこととなる。
【００５０】
図１のキャビネット１０１に含まれるシステムの１つの実施態様は、米国特許第５，７１１，３５４号明細書の図３６および３７に示されており、それらは引用により本明細書に組み込まれる。
【００５１】
本発明のキャビネットは、それが危険な爆発する可能性のある環境で使用するのに適したものとなるように構成できる。一般に、これは、不活性ガスで覆われる領域に全ての電子要素を隔離することにより達成される。このようにして、電子要素から発する火花は、実質的に酸素を有しない環境にあることとなり、そのことは、キャビネットに存在し得る蒸気に起因する爆発の可能性を著しく減少させる。このキャビネットの１つの非限定的な代表的な実施態様を図７Ａおよび７Ｂに示す。
【００５２】
図７Ａおよび７Ｂにおいて、表示されている符号は、図７Ａおよび７Ｂにおいて数字の後に文字「Ａ」が付加されていることを条件として、図３に関して先に説明した要素に対応している。図７Ａおよび７Ｂにおいて、コントロール・ボックス３７０Ａおよびタッチ・スクリーン３９３Ａは、キャビネット７００において隔離されている。コントロール・ボックス３７０Ａは、プロセス・コントロール回路（またはプロセス制御計器装置）のような電子計装（図示せず）を含んでいてよい。使用中、コントロール・ボックス３７０Ａおよびタッチ・スクリーン３９３Ａのハウジングは不活性ガスで満たされ、不活性ガスは１つまたは複数のパージ・ライン７７１で供給してよい。１つまたは複数のパージ・ライン７７１をタッチ・スクリーン３９３Ａのハウジングに接続してよい。追加の導管を用いて、パージ・ライン７７１に接続されていないコントロール・ボックスに不活性ガスが直接に流れるようにしてもよい。このようにして、単一のラインを用いて不活性ガスの覆い（blanket；またはブランケット）をタッチ・スクリーンおよびコントロール・ボックスの両方に提供するようにしてよい。１つまたは複数の圧力解放バルブ７７２を用いて最初のパージを行い、また、コントロール・ボックスおよびタッチ・スクリーンに用いられるハウジングから過剰の不活性ガスを排出させてもよい。所定の時期に最初の高圧パージを実施し、隔離された要素への不活性ガスを監視、計測する、パージ・コントロール・ユニット７７３が含まれていてよい。常套のパージ制御装置、例えば、エキスポ・セーフティ・システムズ（Expo Safety Systems）から入手できるものを採用してよい。
【００５３】
図７Ｂに示すように、タッチ・スクリーン３９３Ａは仮想線３９４Ａで示されるハウジング内に収容してよい。タッチ・スクリーンを完全に隔離するために、追加の要素を採用してよく、例えば、ガスケット材料３９４Ｂ、パージ・ガス・フィードのための開口部を有するプラスチック製（例えばアクリル製）スペーサー３９４Ｃ、タッチ・スクリーン・ウィンドウのガスケット材料３９４Ｅ、およびパージ・エンクロージャー・フレーム（purge enclosure frame）３９４Ｆによって所定位置に保持されるプラスチック製のウィンドウ（例えば、導電性のポリカーボネート製シート）３９４Ｄを使用してよい。タッチ・スクリーンがこの代表的な様式において更に隔離される場合、タッチ・スクリーンへは、例えば、磁石の棒および紐３９４Ｈを使用して操作される鋼製のボール３９４Ｇを用いてアクセスできる。
【００５４】
図８には、この発明のマニホールド・システムが示されている。図８において、ベンチュリ（Venturi）真空発生装置のような真空源１４をライン１２を介して真空供給バルブ（「ＶＧＳ」）１０に接続してよい。ＶＧＳ１０は、真空源がベンチュリ真空発生装置である場合、不活性ガスライン１１を経由する真空源１４へのガス（例えば、窒素、ヘリウム、またはアルゴン）のフロー（または流れ）をコントロールするように機能する。真空源１４はまた、排気口に出て行く排気ライン１３に取り付けてよい。真空源１４は低圧排気（またはベント）バルブ（low pressure vent valve；「ＬＰＶ」）２０、キャリヤーガス遮断バルブ（carrier gas isolation valve；「ＣＧＩ」）３０、キャニスター・バイパス・バルブ（canister bypass valve；「ＣＢＶ」）４０、および制御バルブ（コントロール・バルブ、control valve；「ＣＰ３」）６０に接続してよい。ＣＧＩはまた、キャリヤーガス入口バルブと称してもよい。図８において、真空源１４はライン１５、Ｔ字管１８およびライン１７を介してＬＰＶ２０に接続し；ライン１５、Ｔ字管１８、ライン１６、Ｔ字管３５、およびライン３７を介してＣＧＩ３０に接続し；ライン１５、Ｔ字管１８、ライン１６、Ｔ字管３５、ライン３６、Ｔ字管４４、およびライン４３を介してＣＢＶ４０に接続してよい。ライン３７のチェック・バルブ（または逆止弁）３３は、マニホールドが所定の開放圧力を超えない限り、またそれまで閉じられている。したがって、真空源１４は一般に、ライン３７を介してＣＧＩ３０から遮断されている。一般に、チェック・バルブ３３は、マニホールドの圧力が前もって設定されたレベル、例えば１平方インチあたり約１００ポンドを超える場合に作動するようにセットしてよい。チェック・バルブは、システムの圧力が選択したレベルに達した場合に、ガスを排出する作用をする。ＬＰＶ２０の機能は、起動（スタートアップ）時およびキャニスターの切り替え時にマニホールドおよびキャニスターの通気および排気をコントロールすることである。また、真空ゲージ２２をＬＰＶ２０に接続してよい。真空ゲージ２２は、パージ・サイクルの間の真空を監視するように機能し得る。ライン２３はＬＰＶ２０をＣＧＩ３０に接続してよい。。ライン３１は、加圧された不活性ガスのフローを供給するレギュレーター３２にＣＧＩ３０を接続し得る。供給圧力ゲージ３６は、レギュレーター３２に接続され、レギュレーターの圧力と全操作の間の圧力を監視する。
【００５５】
図８において、ライン３４はＣＧＩ３０をＣＢＶ４０に接続してよい。ライン４１および４２は、ＣＢＶ４０をプロセス・ライン遮断バルブ（「ＰＬＩ」）５０および制御バルブ（「ＣＰ２」）７０に接続する。ＰＬＩ５０の機能は、マニホールドから出る化学物質の流れを制御することである。ＣＧＩ３０は、加圧されたガスのマニホールドへの供給をコントロールするように機能する。ＣＢＶ４０の機能は、ＰＬＩ５０およびライン７１への圧力または真空の供給をコントロールすることである。ライン５１は化学物質をシステムの外部にある装置または補充すべきもう１つのキャニスターのいずれに運んでもよい。ライン５２はＰＬＩ５０を制御バルブ（「ＣＰ１」）８０に繋ぐように作用してよい。ライン６２は制御バルブ６０を制御バルブ７０に接続してよい。制御バルブ７０から、ライン７１はＴ字管継手７２に接続してよく、Ｔ字管７２からはライン７３および７４がそれぞれ制御バルブ８０およびキャニスターの入口バルブ（「ＣＩ」）９０に延びている。ＣＩ９０はキャニスターの与圧および排気をコントロールするように機能する。制御バルブ８０はライン８１を介してキャニスターの出口バルブ（「ＣＯ」）１００に繋がっていてよい。ＣＯ１００は、化学物質が送り出されている間のキャニスター１１０からの化学物質の流れをコントロールし、また、キャニスターを交換する間のキャニスターの出口接合部のパージをコントロールするように機能する。ＣＩ９０およびＣＯ１００は、マニホールドを、一般には雄型および雌型のねじ継手のような取付部品と共に、供給キャニスターにある対応する構造物に連結する作用をする。マニホールドをキャニスター１１０に接続する取付部品（カプラー）は一般に、ＣＩ９０とＴ字管７２との間、およびＣＯ１００とＣＰ１ ８０との間に存在する。ＣＯ１００が両用作動式バルブ（またはデュアル・アクチベーター・バルブ）である場合、Ｔ字管７２は下方へずらされてＣＩ９０と直接に結合して、ラインが両用作動式バルブをＣＩ９０に直接に接続するようにする。
【００５６】
キャニスター１１０には、種々の化学物質が充填され得、一般には半導体製造に使用する高純度の化学物質を入れる。例えば、キャニスターはＴＥＯＳ、砒素化合物、チタン化合物、ホウ素化合物、銅化合物等を含んでよい。本発明の１つの態様において、キャニスター１１０は少なくとも部分的に、化学物質中の微量金属の量に基づく純度が少なくとも９９．９９９９％である化学物質で満たされる。
【００５７】
上述のラインは導管、配管材料、パイプ、通路等とも称されるものであり、これらは、例えばステンレス鋼製の管状材料のような、金属製の管状材料で構成してよい。各バルブは、常套の空気圧で作動するバルブ、例えば、ニュープロ（ＮＵＰＲＯ）６Ｌ−Ｍ２Ｄ−１１１−Ｐ−IIIガス量調節バルブであってよい。同様に、レギュレーターは、標準タイプのものであってよく、例えば、エー・ピー・テック（ＡＰ Ｔｅｃｈ）１８０６Ｓ ３ＰＷ Ｆ４−Ｆ４ Ｖ３レギュレーターであってよい。システムは、例えば、圧入バルブ（pressure fitting valve）の使用および溶接等、常套の方法を使用して組み立ててよい。バルブは、常套のプロセス制御装置、例えば、タッチ・スクリーンのコントロール・パネルに接続されるオムロン（Omron）のプログラム可能なコントローラ・ボックスを用いて制御してよい。別法として、バルブは、エプロム（ＥＰＲＯＭ）に属するソフトウェアとともに、コマンドシーケンスを実行する内蔵されたマイクロプロセッサを組み込んでいるＡＤＣＳ ＡＰＣ（商品名）コントローラを用いて、コントロールしてよい。コントロール・ユニットは、例えば、開放または閉鎖された空気圧式バルブへの加圧されたガスのフローをコントロールしてよい。
【００５８】
使用中、本発明のマニホールドは次のように操作してよい。キャニスター１１０から供給ポイントへ化学物質を押し出すために、マニホールドのバルブを適当に開閉して、加圧されたガスがシステムおよびキャニスターの中に入るようにする。図９において、ライン１２０は加圧されたガスがキャニスター１１０に入る経路を示し、ライン１１１は、浸漬管１２１を経由してキャニスター１１０から出る液体化学物質の経路を示している。したがって、供給源（図示せず）からの加圧されたガスは、レギュレーター３２によってライン３１中に放出される。ガスはその後、開いているＣＧＩ３０を通過し、それから、ライン３４、ＣＢＶ４０、ライン７１、ＣＩ９０を経由してキャニスター１１０の中に入る。入ったガスの圧力は液体化学物質を浸漬管中を上方に押し進め、ＣＯ１００、ライン８１、ＣＰ１ ８０、ライン５２、ＰＬＩ５０および排出ライン５１を経由させて、受入れポイントに移動させる。
【００５９】
供給キャニスター（化学物質で満たされたキャニスターである場合をも含む）を取り替えている間、ラインをパージして残留化学物質をマニホールドから取り除いてもよい。第１の工程は減圧であり、これはキャニスター１１０のヘッド圧を取り除くように機能する。減圧は幾つかの方法で実施できる。例えば、減圧させる２つの手順が図１０に示されている。実線１３０で示される１つの減圧方法においては、ＶＧＳ１０を開放し、ガスをライン１１からライン１２を経由させて真空源１４内に流し、ライン１３を経由して排出するフローによって真空が生じるようにする。真空源１４で生じる真空は、ライン１５、Ｔ字管１８、ライン１６、Ｔ字管３５、ライン３６、Ｔ字管４４、ライン６１で真空引きし、開いたＣＰ３ ６０、ライン６２、ＣＰ２ ７０、ライン７１、Ｔ字管７２、ライン７４、および開いたＣＩ９０を経由し、それによりキャニスター１１０の上部空間で真空引きする。別法として、減圧は、ＬＰＶ２０、ＣＰ２ ７０およびＣＩ９０を開き、実線１３５を経由して真空引きすることにより実施できる。
【００６０】
減圧後、液体を排出させて（またはドレン抜きして）、液体のライン（接合部）を清掃する。したがって、図１１において、ガスがレギュレーター３２を介してライン３１中に導入される。ＣＧＩ３０、ＣＢＶ４０、およびＣＯ１００は開いており、ガスがライン３４、４１、５２および８１を経由して流れ、液体の化学物質がキャニスター１１０に戻されるようになっている。ラインの排液の間のガスのフローは実線１４０によって示されている。
【００６１】
その後、サイクル・パージが実施される。サイクル・パージには、それぞれ図５および図６に示されるような、真空工程およびフローイング・パージ（流体を流すバージ）工程が含まれる。真空工程は種々の経路で実施してよく、図１２において実線１５０および１５５で示される経路を介するものを含む。したがって、１つの態様において、ＣＢＶ４０およびＬＰＶ２０は開いており、ＶＧＳ１０が開いていてガスがライン１１および１２を介して真空源１４に入る場合に、真空がライン１３を介して排出されるように引かれ、それにより、ライン１５、１７、２３、３４、４１、５２および８１で真空に引かれるようになっている。別法では、ＬＰＶ２０およびＣＰ２ ７０が開いていて、ライン１５、１７、２３、３４、４２、７１および７４で真空に引かれるようになっている。更に、ライン４２、７１および７４、ならびにライン４１、５２および８１で真空に引かれるように、ＬＰＶ２０、ＣＰ２ ７０およびＣＢＶ４０は全て開くことができる。交互に開放して、ライン４２／７１／７４および４１／５２／８１を間欠的に排気することが可能である。
【００６２】
図１３では、サイクル・パージのフローイング・パージが図示されている。図１３において、レギュレーター３２は加圧されたガスをライン３１中に導入している。図１３において実線１６０で示されるように、ＣＧＩ３０、ＣＢＶ４０、ＣＰ１ ８０、およびＣＰ３ ６０を開いた状態で（ＣＩ９０およびＣＯ１００は閉じられていることに留意）、ガスはライン３４、４１、５２、７３、７１、６２、６１、３６、１６、１５および１３を経由して流れ、それによりマニホールドをパージする。ライン２３および１７がパージされるように、ＬＰＶ２０は断続的に開いてよい。パージした後、マニホールドで正圧を維持している状態で、水分がマニホールドに入らないように、取付部品は一般に取りはずされる。例えば、取付部品を取りはずした後、ＣＧＩ３０、ＣＢＶ４０およびＣＰ２ ７０を開き、ガスがライン７４および８１から流れるようにしてよい。新しいキャニスターを設置した後、一般にパージ・サイクルを繰り返して、新しいキャニスターの取付部品および接合部内に存在し得る水に加え、マニホールドに入った可能性のある水またはその他の汚染物質を取り除く。
【００６３】
図１４において、この発明の別の態様を示す。当該態様は、ＬＰＶ２０、ライン１７および２３、ならびにゲージ２２が無いことを除いては、図８に示す態様と同様である。ＣＯ１００が両用作動式バルブ（またはデュアル・アクチベーター・バルブ）である場合には、ラインがデュアル・アクチベーターをＣＩ９０に直接に接続し、また、マニホールドにおいて潜在的なデッド・レッグの数が減るように、Ｔ字管７２を下方にずらして、ＣＩ９０と、また、デュアル・アクチベーターに直接に取り付けられている制御バルブ８０とに直接に接続することができる。図１４に示す態様において、ＣＢＶ４０へのライン４３は適宜取り除いてよい。図９に示されるフロー・スキームと同じものを採用して、図１４の構成に合うようにキャニスター１１０から化学物質を押し出してよい。図１４に示す構成の減圧は、図１０で線１３０として示されているフロー・スキームを使用して実施してよい。それから、図１１で実線１４０として示されている液体の排出を、図１４の構成に合わせて採用してよい。真空工程は、図１５において線１８０で示すように実施してよい。図１３のフローイング・パージを図１４の構成に合わせて用いてよい。本発明の態様は多くの利点を有し、その中には、バルブの数が減り、それによりマニホールドのコストが下がること、漏れの生じ得る箇所の数が減ること、ならびに所定のマニホールドでバルブが故障する可能性が小さくなることが含まれる。この態様はまた、システムにおけるデッド・レッグの数を減らし、その結果、フローイング・パージの効率がより良くなる。キャニスターを取り替えている間にラインから化学物質をより良く取り除くことができるために、この態様のマニホールドは、危険な化学物質、例えば砒素化合物とともに使用してよいシステムを提供する。同様に、このマニホールドの態様は、分散体、例えば、ダイグリムおよびトリグリムのような有機キャリヤ液体に分散した金属または固体配合物をより良く使用することを可能にする。分散体を用いる場合、ラインが減圧されるときにラインに配合物が沈殿しないように、ラインを、例えば、トリグリムまたはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）のような液体溶媒で洗い流すことが好ましい。更に、この発明のいずれの態様についても、ラインでの化学物質の蒸発を促進するためにマニホールドを加熱し得ることが考えられる。この場合、マニホールドを、バリアック（variac）等に繋がれた加熱テープで巻いて、加熱された雰囲気中で維持し得る。フローイング・パージの間、蒸発を容易にするために、加熱したアルゴン、窒素、またはその他の不活性ガスのような、加熱したガスを代わりに用いることができる。これらの方法の組み合わせもまた採用することができる。幾つかの種類の化学物質に関しては、１つまたは複数の配合物とラインで反応してより容易に排出される化合物を生成する、反応性化学物質でパージすることも可能である。
【００６４】
この発明のマニホールドは、マニホールドのラインが化学物質を含んでいるかどうかを決定するために、例えばライン１５に取り付けられたセンサーを含んでいてよい。同様に、サンプル・ポート（またはサンプル引出し口）がライン１５に含まれていてよく、そこでは、ラインからのガスのサンプルを取り出し、化学物質の存在を検査する分析装置を用いて検査することができる。
【００６５】
この発明の更なる修正および別の態様は、この明細書を考慮すれば当業者に明らかであろう。したがって、この明細書の説明は例示的なものにすぎないと解釈されるべきであり、本発明を実施する方法を当業者に教示するためのものである。ここで示され、説明された本発明の形態は、現時点で好ましい態様として取り扱うべきものであることが理解されるべきである。本発明のこの説明の利点を有するに至った後、当業者において明らかであるように、ここで図示され、説明された要素を、等価な要素で置き換えてもよく、本発明のある特徴は他の特徴の使用とは別に独立して利用してよい。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化学気相成長（又はケミカル・ベイパー・デポディション：ＣＶＤ）装置のような製造プロセス・ツール（又は製造装置）へバルク送出キャニスター（bulk delivery canister）から、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）等の化学物質を供給（輸送又は送出）するためのマニホールド(manifold)及びシステム（又は機構）に関する。
【背景技術】
【０００２】
集積回路等の電子デバイスの製造方法は、周知である。そのような製造方法のある工程において、化学物質を用いるあるプロセス・ツール（又は製造装置）に、化学物質は供給され得る。例えば、ＴＥＯＳからアモルファス酸化ケイ素等の所定の材料の層を発生させるために、ＣＶＤ反応装置は通常使用される。歴史的に、ＴＥＯＳは、５又は１０ガロンの容量のキャニスター（canister、缶）を用いるバルク供給キャビネット（cabinet、容器）を経由して、ＣＶＤ反応装置に供給されていた。ＴＥＯＳの消費は、金属の層が増加したこと及び３００ｍｍプロセスのために、著しく増加した。寸法のより大きなウエハーに関するより複雑なプロセスも各々の層の経済性を圧迫した。２００リットルのキャニスターは、顧客にスケールの経済性を提供し得る。更に、より大きいバルク・キャニスターは、コンテナ交換の回数、労力、及び輸送（shipping）コストを低減させる。製造のためにＴＥＯＳの需要が増加するという観点から、複数のプロセス・ツールに化学物質の連続的なストリームを供給するシステム（又は機構）が必要とされている。同様に、現状の製造設備は、日常、各々のキャビネットでキャニスターをルーチン的に交換するので、また、その各々の交換の際にシステムの汚染を潜在的に生ずるために、汚染の発生する箇所を減ずることが望まれている。
【０００３】
歴史的に、高純度のＴＥＯＳ（及び添加物：ドーパント）は、アンプルと呼ばれる小容量の容器からＣＶＤ反応室へ供給されていた。近年、米国特許第５，４５，７６６号；第５，５６２，１３２号及び第５，６０７，００２号に記載されているようなステンレス鋼製のコンテナが開発された。本発明者は、物性が既知であって、急性毒性の無い物質用に設計された、これらの特許に開示されたマニホールド・システムが、他のより反応性（又は毒性）の高い化学物質に適用可能に変更することが必要であることを見出した。更に、本発明者は、システムのフェイルセイフ特性の向上に努めた。従って、本発明者は、上述の参照特許に記載されたような補充（refill：またはリフィルもしくは再充填）システムに使用するための、改良されたマニホールドに対する要求があると考えた。
【発明の概要】
【０００４】
本発明は、上述した一又はそれ以上の欠点及び要請に関する解決策を提供する。
【０００５】
一つの要旨において、本発明は、少なくとも１つのマニホールド・ボックスに接続されたバルク化学物質キャニスターであって、各々のマニホールド・ボックスは少なくとも２つの流出（output）ラインを有し、少なくとも１つの流出ラインは２次キャニスターに接続されている、バルク化学物質キャニスターを有して成るバルク化学物質供給（又は送出）システムである。
【０００６】
本発明のシステムは、複数のＣＶＤ反応器のような複数のプロセツ・ツールに、大量に高純度の液体化学物質を供給することを可能とすることができる。例として、図１及び図１Ａに示した本発明の一の態様において、４つのバルブを有するマニホールド・ボックスを含み、これらの各々は、４つのキャビネットに化学物質を供給し、４つのキャビネットが各々４つの流出ラインを有することによって、本発明のシステムは化学物質を６４のプロセス・ツールに供給し得る。しかし、マニホールド・ボックスからの流出ラインの数、バルク・キャビネットの数、及び２次キャビネットの数は広範に変更することができ、いかなる数の流出ラインも用いることができることは、理解されよう。化学物質のフィードを更に分岐するために、一又はそれ以上の追加のマニホールド・ボックスを直列に用いることができることも考えられる。
【０００７】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、マニホールド・ボックスは少なくとも２つの流出ラインを有し、オプションとして、少なくとも１つの流出ラインをプロセス・ツール又は２次キャニスターに接続してよい少なくとも１つのマニホールド・ボックスに接続されたバルク化学物質キャニスターを有して成る、バルク化学物質供給システムである。別の態様において、本発明は、少なくとも２つの流出ラインを有し、流出ラインの少なくとも１つがキャニスターに接続されているマニホールド・ボックスを有して成る、バルク化学物質供給システムである。更にもう１つの態様において、本発明は、少なくとも２つの流出ラインを有し、少なくとも１つの流出ラインがプロセス・ツールに接続されているマニホールド・ボックスを有して成る、バルク化学物質供給システムである。
【０００８】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、バルク・キャニスターによって化学物質を供給されるバルブ・マニホールド・ボックスから化学物質を供給される、２次キャニスターからプロセス・ツールに化学物質を供給することを含んで成る、電子デバイスの製造に用いられるプロセス・ツールに化学物質を供給する有用な方法である。１つの態様において、バルク・キャニスターは約２００リットルの容量を有し、２次キャニスターはバルク・キャニスターより小さな容量を有する。１つの態様において、化学物質はテトラエチルオルトシリケートである。１つの態様において、オプションとして、第２バルク・キャニスターが、バルク・キャニスターに接続されたマニホールドを介して、バルブ・マニホールド・ボックスに化学物質を直接又は間接的に供給する。
【０００９】
更に、もう１つの広範な要旨において、本発明は、第１バルク・キャニスターを提供し、少なくとも２つの流出口を各々が有する少なくとも２つのバルブ・マニホールド・ボックスに、第１バルク・キャニスターを接続する工程；プロセス・ツールに化学物質を供給するようになっている２次キャニスターに、各々の流出口を接続する工程を含んで成る、バルク化学物質供給システムの製造方法である。
【００１０】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、少なくとも２つの流出口を有する少なくとも１つのバルブ・マニホールド・ボックスに接続されたバルク・キャニスターを有して成り、流出口の少なくとも１つが２次キャニスターに接続されている、バルク化学物質供給システムである。
【００１１】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、バルク・キャニスターから化学物質を供給されるバルブ・マニホールド・ボックスから化学物質を供給される第２キャニスターから化学物質をプロセス・ツールに供給する工程を含んで成る、電子デバイスの製造方法である。更に、本発明は、本発明の製造方法に基づいて製造された電子デバイスである。
【００１２】
本明細書において用いる場合、”プロセス・ツール（又は製造装置）”とは、本発明のシステム（又は機構）によって提供される化学物質を、最終的に使用する製造装置をいう。従って、本発明のシステムは、使用する間に化学物質を必要とするいずれのプロセス・ツールにも化学物質を供給することができる。そのようなプロセス・ツールは、化学気相成長法、フォトリソグラフィー、及びエッチングの用途等の装置を含むことができる。これらのプロセス・ツールは、集積回路、メモリー回路、平面ディスプレイ、光ファイバーの製造、マルチチップ・モジュール（例えば、ＭＣＭ）等の電子デバイスの製造にしばしば用いられる。更に、本発明は、集積回路及びメモリー回路等の製造に用いられるＣＶＤ反応器のようなプロセス・ツールに、ＴＥＯＳのような化学物質を供給するために用いることができるが、本発明のシステムは、その他の方法にも用いることができるということが理解されよう。
【００１３】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、分配マニホールドに接続されたバルク化学物質キャニスターを収容するキャビネット；少なくとも１つの分配マニホールドに接続している少なくとも１つのマニホールド・ボックスを有して成り、マニホールド・ボックスは少なくとも２つの流出ラインを有し、少なくとも１つの流出ラインは、第２分配マニホールドに接続され、２次キャビネットに収容された２次キャニスターに接続されている、バルク化学物質供給システムである。
【００１４】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、バルク・キャニスターによって化学物質を供給されるバルブ・マニホールド・ボックスから化学物質を供給される、２次キャニスターからプロセス・ツールに化学物質を供給する工程を含んで成る、電子デバイスの製造に用いられるプロセス・ツールに化学物質を供給する有用な製造方法である。
【００１５】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、第１バルク・キャニスターを供給し、少なくとも２つの流出口を各々が有する少なくとも２つのバルブ・マニホールド・ボックスに第１バルク・キャニスターを接続する工程；プロセス・ツールに化学物質を供給するようになっている２次キャニスターに少なくとも１つの流出口を接続する工程を含んで成る、バルク化学物質供給システムの製造方法である。
【００１６】
更にもう１つの広範な要旨において、本発明は、バルク・キャニスターから化学物質を供給されるバルブ・マニホールド・ボックスから化学物質を供給される第２キャニスターからプロセス・ツールに化学物質を供給する工程を含んで成る、電子デバイスの製造方法である。
【００１７】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、（１）真空供給バルブ；（２）真空発生器；（３）圧力ベント（排気）・バルブ；（４）キャリアーガス遮断バルブ；（５）バイパス・バルブ；（６）プロセス・ライン遮断バルブ；（７）コントロール・バルブ；（８）キャニスター入口バルブ；（９）キャニスター出口バルブを含んで成り；真空供給バルブは、真空発生器に接続され；真空発生器は、圧力ベント・バルブ及びコントロール・バルブに接続され；キャリアーガス遮断バルブは、圧力ベント・バルブ及びバイパス・バルブに接続され；バイパス・バルブは、更に遮断バルブ及びキャニスター入口バルブに接続され；プロセス・ライン遮断バルブは、キャニスター出口バルブに接続され；キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブ及びキャニスター出口バルブに接続されている、化学物質を含むキャニスターの補充に用いるマニホールドである。
【００１８】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、真空発生器に接続された真空供給バルブ；真空発生器及びガス入口バルブに接続された圧力ベント・バルブ；真空発生器に接続されたコントロール・バルブを有して成り；キャリアーガス遮断バルブはバイパス・バルブも接続され、プロセス・ライン遮断バルブはキャニスター出口バルブ及びバイパス・バルブに接続され、またキャニスター入口バルブは、バイパス・バルブ、コントロール・バルブ、及びキャニスター出口バルブに接続されている、液体の化学物質を含む２つのキャニスターを補充可能に接続するのに有用なマニホールドである。
【００１９】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、キャニスターの取り付け具をマニホールドの取り付け具に接続して供給システムを構成する工程；及び供給システムをパージ（purge）する工程を含んで成り、マニホールドは、真空供給バルブ；真空発生器；圧力ベント・バルブ；キャリアーガス遮断バルブ；バイパス・バルブ；プロセス・ライン遮断バルブ；コントロール・バルブ；キャニスター入口バルブ；キャニスター出力バルブを有して成り；真空供給バルブは、真空発生器に接続され；真空発生器は、圧力ベント・バルブ及びコントロール・バルブに接続され；ガス入口バルブは、圧力ベント・バルブ及びバイパス・バルブに接続され；バイパス・バルブは、更にプロセス・ライン遮断バルブ及びキャニスター入口バルブに接続され；プロセス・ライン遮断バルブはキャニスター出口バルブに接続され；キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブ及びキャニスター出口バルブに接続されている、キャニスターをマニホールドに接続する方法である。
【００２０】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、真空供給バルブ、真空発生器、圧力ベント・バルブ、キャリアーガス遮断バルブ、バイパス・バルブ、プロセス・ライン遮断バルブ、コントロール・バルブ、及びキャニスター入口バルブを供給する工程；真空供給バルブは真空発生器に接続され、真空発生器は圧力ベント・バルブ及びコントロール・バルブに接続され、ガス入口バルブは圧力ベント・バルブ及びバイパス・バルブに接続され、バイパス・バルブは更にプロセス・ライン遮断バルブおよびキャニスター入口バルブに接続され、遮断バルブはキャニスター出口バルブに接続され、キャニスター入口バルブはコントロール・バルブ及びキャニスター出口バルブに接続されるようにバルブをラインと接続する工程を含んで成る、マニホールドの製造方法である。
【００２１】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、（１）真空供給バルブ；（２）真空発生器；（３）キャリアーガス遮断バルブ；（４）バイパス・バルブ；（５）プロセス・ライン遮断バルブ；（６）コントロール・バルブ；（７）キャニスター入口バルブ；（８）キャニスター出口バルブを有して成り；真空供給バルブは、真空発生器に接続され；真空発生器は、コントロール・バルブに接続され；キャリアーガス遮断バルブは、バイパス・バルブに接続され；バイパス・バルブは、更にプロセス・ライン遮断バルブ及びキャニスター入口バルブに接続され；プロセス・ライン遮断バルブは、キャニスター出口バルブに接続され；キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブ及びキャニスター出口バルブに接続されている、化学物質を含むキャニスターの補充（リフィル）に用いるマニホールドである。
【００２２】
もう１つの広範な要旨において、本発明は、（１）真空供給バルブを供給する工程；（２）真空発生器を供給する工程；（３）キャリアーガス遮断バルブを供給する工程；（４）バイパス・バルブを供給する工程；（５）プロセス・ライン遮断バルブを供給する工程；（６）コントロール・バルブを供給する工程；（７）キャニスター入口バルブを供給する工程；（８）キャニスター出口バルブを供給する工程；真空供給バルブを真空発生器に接続する工程；真空発生器をコントロール・バルブに接続する工程；キャリアーガス遮断バルブをバイパス・バルブに接続する工程；バイパス・バルブを更にプロセス・ライン遮断バルブ及びキャニスター入口バルブに接続する工程；プロセス・ライン遮断バルブを更にキャニスター出口バルブに接続する工程；キャニスター入口バルブをコントロール・バルブ及びキャニスター出口バルブに接続する工程を含んで成る、化学物質を含むキャニスターの補充に用いるマニホールドの製造方法である。
【００２３】
本発明のマニホールドは、低蒸気圧の物質及び有毒な化学物質をパージする効果を向上させることができる。
【００２４】
本発明は以下の態様を含み得る。
（態様１） 少なくとも１つのマニホールド・ボックスに接続されたバルク化学物質キャニスターを有して成る、バルク化学物質の供給システムであって、各マニホールド・ボックスは、少なくとも２つの流出ラインを有し、少なくとも１つの流出ラインは２次キャニスターにつながる供給システム。
（態様２） 各２次キャニスターは、プロセス・ツールに化学物質を供給するようになっているラインにつながる態様１に記載のシステム。
（態様３） システムを通過する化学物質の流れをコントロールするプログラム可能なコントローラーを更に有して成る態様１に記載のシステム。
（態様４） 各２次キャニスターは、キャビネット内に収容され、２またはそれ以上のキャニスターが適宜キャビネット内に収容されていてよい態様１に記載のシステム。
（態様５） バルク・キャニスターは、少なくとも約２００リットルの容量を有する態様１に記載のシステム。
（態様６） バルク・キャニスターは、輸送カート内に収容されている態様１に記載のシステム。
（態様７） 少なくとも１つの２次キャニスターは、プロセス・ツールに接続される態様１に記載のシステム。
（態様８） システムは、微量金属を含まない、９９．９９９９％またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケートである化学物質を含む態様１に記載のシステム。
（態様９） システムは、微量金属を含まない、９９．９９９９％またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケート、トリエチルホスフェート、トリメチルフォスファイト、トリメチルボレート、チタニウムテトラクロライドまたはタンタル化合物である化学物質を含む態様１に記載のシステム。
（態様１０） 第１バルク・キャニスターが化学物質を供給しない時、少なくとも１つのバルブ・マニホールド・ボックスに化学物質を供給する第２バルク・キャニスターを更に有して成る態様１に記載のシステム。
（態様１１） バルク・キャニスターおよびマニホールド・ボックスにつながる第１供給マニホールドを更に有して成り、バルク・キャニスターおよび第１供給マニホールドはキャビネット内に収容されている態様１に記載のシステム。
（態様１２） バルク・キャニスターは、少なくとも１つのプロセス・ツール、２次キャニスターまたはこれらの組み合わせにも直接つながっている態様１に記載のシステム。
（態様１３） バルク・キャニスターは、キャビネット内に収容されている輸送および格納カート内に収容される態様１に記載のシステム。
（態様１４） 分配マニホールドに接続されるバルク化学物質キャニスターを収容するキャビネット；少なくとも１つの分配マニホールドにつながる少なくとも１つのマニホールド・ボックスを有して成り、マニホールド・ボックスは少なくとも２つの流出ラインを含み、少なくとも１つの流出ラインは、第２分配マニホールドに接続され、かつ、２次キャビネット内に収容される２次キャニスターに接続される、バルク化学物質供給システム。
（態様１５） 少なくとも１つの２次キャニスターは、プロセス・ツールに化学物質を供給するようになっているラインにつながる態様１４に記載のシステム。
（態様１６） システムを通過する化学物質の流れをコントロールするプログラム可能なコントローラーを更に有して成る態様１４に記載のシステム。
（態様１７） バルク・キャニスターは、少なくとも約２００リットルの容量を有する態様１４に記載のシステム。
（態様１８） バルク・キャニスターは、輸送カート内に収容されている態様１４に記載のシステム。
（態様１９） 少なくとも１つの２次キャニスターは、プロセス・ツールに接続されている態様１４に記載のシステム。
（態様２０） システムは、微量金属を含まない、９９．９９９９％またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケートである化学物質を含む態様１４に記載のシステム。
（態様２１） システムは、微量金属を含まない、９９．９９９９％またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケート、トリエチルホスフェート、トリメチルフォスファイト、トリメチルボレート、チタニウムテトラクロライドまたはタンタル化合物である化学物質を含む態様１４に記載のシステム。
（態様２２） 電子デバイスの製造に用いるプロセス・ツールに化学物質を供給するのに有用である方法であって、
バルク・キャニスターにより化学物質を供給するバルブ・マニホールド・ボックスから化学物質を供給する２次キャニスターからプロセス・ツールに化学物質を供給することを含む方法。
（態様２３） バルク・キャニスターは、約２００リットルの容量を有し、２次キャニスターはバルク・キャニスターより小さい容量を有する態様２２に記載の方法。
（態様２４） 化学物質は、テトラエチルオルトシリケートである態様２２に記載の方法。
（態様２５） 第２バルク・キャニスターが、バルブ・マニホールド・ボックスに化学物質を適宜供給する態様２３に記載の方法。
（態様２６） 第１バルク・キャニスターを供給し（または提供し、もしくは設け）、それぞれが少なくとも２つの出口（または流出口）を有する少なくとも２つのバルブ・マニホールド・ボックスに第１バルク・キャニスターを接続すること；
プロセス・ツールに化学物質を供給するようになっている２次キャニスターに少なくとも１つの出口を接続すること
を含むバルク化学物質を供給するシステムを製造する方法。
（態様２７） バルク・キャニスターから化学物質が供給されるバルブ・マニホールド・ボックスから化学物質が供給される第２キャニスターからプロセス・ツールに化学物質を供給することを含む、電子デバイスの製造方法。
（態様２８） 分配マニホールドを介してバルク・キャニスターからバルブマニホールド・ボックスに化学物質が供給され、第２分配マニホールドを介して第２キャニスターからプロセス・ツールに化学物質が供給される態様２７に記載の方法。
（態様２９） 化学物質は、微量金属を含まない、９９．９９９９％またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケート、トリエチルホスフェート、トリメチルフォスファイト、トリメチルボレート、チタニウムテトラクロライドまたはタンタル化合物である態様２７に記載の方法。
（態様３０） 化学物質は、微量金属を含まない、９９．９９９９％またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケート、トリエチルホスフェート、トリメチルフォスファイト、トリメチルボレート、チタニウムテトラクロライドまたはタンタル化合物である態様２８に記載の方法。
（態様３１） 態様２７に記載の方法により製造される電子デバイス。
（態様３２） 態様２８に記載の方法により製造される電子デバイス。
（態様３３） 態様２９に記載の方法により製造される電子デバイス。
（態様３４） 態様３０に記載の方法により製造される電子デバイス。
（態様３５） 化学物質を含むキャニスターの補充に使用するマニホールドであって、
（１）真空供給バルブ；
（２）真空発生器；
（３）圧力ベント・バルブ；
（４）キャリヤーガス遮断バルブ；
（５）バイパス・バルブ；
（６）プロセス・ライン遮断バルブ；
（７）コントロール・バルブ；
（８）キャニスター入口バルブ；
（９）キャニスター出口バルブ
を有して成り、
真空供給バルブは真空発生器に接続され、
真空発生器は、圧力ベント・バルブおよびコントロール・バルブに接続され、
キャリヤーガス遮断バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され、
バイパス・バルブは、遮断バルブおよびキャニスター入口バルブに更に接続され、
プロセス・ライン遮断バルブは、キャニスター出口バルブにも接続され、
キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続されているマニホールド。
（態様３６） バルブは空気により作動する態様３５に記載のマニホールド。
（態様３７） バルブはステンレススチール配管により接続され、バルブはステンレススチール製である態様３５に記載のマニホールド。
（態様３８） キャリヤーガス遮断バルブは、不活性ガス源にも接続されている態様３５に記載のマニホールド。
（態様３９） キャニスター入口バルブおよびキャニスター出口バルブは空気により作動するバルブである態様３５に記載のマニホールド。
（態様４０） 真空供給バルブは真空発生器に接続されている態様３５に記載のマニホールド。
（態様４１） 液体化学物質を含む２つのキャニスターを再充填可能に接続するのに有用なマニホールドであって、
真空発生器に接続される真空供給バルブ、
真空発生器およびガス入口バルブに接続される圧力ベント・バルブ、
真空発生器に接続されるコントロール・バルブ、
キャリヤーガス遮断バルブはバイパス・バルブにも接続されており、
キャニスター出口バルブおよびバイパス・バルブに接続されるプロセス・ライン遮断バルブ、ならびに
バイパス・バルブ、コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続されるキャニスター入口バルブ
を含んで成るマニホールド。
（態様４２） バルブは空気により作動する態様４１に記載のマニホールド。
（態様４３） バルブはステンレススチール配管により接続され、バルブはステンレススチール製である態様４１に記載のマニホールド。
（態様４４） 真空供給バルブは真空源に接続される態様４１に記載のマニホールド。
（態様４５） キャリヤーガス遮断バルブは、不活性ガス源に更に接続される態様４１に記載のマニホールド。
（態様４６） 真空供給バルブは第２マニホールドに更に接続される態様４１に記載のマニホールド。
（態様４７） マニホールドは、圧力ベント・バルブ、真空発生器およびコントロール・バルブを接続する第１Ｔ字継手を含む態様４１に記載のマニホールド。
（態様４８） 第２Ｔ字管が、キャニスター入口バルブおよびキャニスター出口バルブに直接的にまたは間接的に接続される態様４１に記載のマニホールド。
（態様４９） マニホールドにキャニスターを接続する方法であって、
キャニスターの取付部品（または取付部）をマニホールドの取付部品（または取付部）に接続し、それによって供給システムを提供すること、および供給システムから空気および水を除去（またはパージ）することを含んで成り、マニホールドは、
真空供給バルブ；
真空発生器；
圧力ベント・バルブ；
キャリヤーガス遮断バルブ；
バイパス・バルブ；
プロセス・ライン遮断バルブ；
コントロール・バルブ；
キャニスター入口バルブ；
キャニスター出口バルブ
を含んで成り、
真空供給バルブは、真空発生器に接続され、
真空発生器は、圧力ベント・バルブおよびコントロール・バルブに接続され、
ガス入口バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され、
バイパス・バルブは、プロセス・ライン遮断バルブおよびキャニスター入口バルブに更に接続され、
プロセス・ライン遮断バルブは、キャニスター出口バルブにも接続され、
キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続される方法。
（態様５０） マニホールドを製造する方法であって、
真空供給バルブ、真空発生器、圧力ベント・バルブ、キャリヤーガス遮断バルブ、バイパス・バルブ、プロセス・ライン遮断バルブ、コントロール・バルブ、およびキャニスター入口バルブを供給（または提供し、もしくは設け）すること、
真空供給バルブは、真空発生器に接続され、真空発生器は、圧力ベント・バルブおよびコントロール・バルブに接続され、ガス入口バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され、バイパス・バルブは、プロセス・ライン遮断バルブおよびキャニスター入口バルブに更に接続され、遮断バルブは、キャニスター出口バルブにも接続され、キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続されるように、バルブをラインと接続すること
を含んで成る方法。
（態様５１） 化学物質を含むキャニスターをリフィルする場合に使用するマニホールドであって、
（１）真空供給バルブ；
（２）真空発生器；
（３）キャリヤーガス遮断バルブ；
（４）バイパス・バルブ；
（５）プロセス・ライン遮断バルブ；
（６）コントロール・バルブ；
（７）キャニスター入口バルブ；
（８）キャニスター出口バルブ
を有して成り；
真空供給バルブは、真空発生器に接続され；
真空発生器は、コントロール・バルブに接続され；
キャリヤーガス遮断バルブは、バイパス・バルブに接続され；
バイパス・バルブは、プロセス・ライン遮断バルブおよびキャニスター入口バルブに更に接続され；
プロセスライン遮断バルブは、キャニスター出口バルブにも接続され；
キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続される；
マニホールド。
（態様５２） 化学物質を含むキャニスターのリフィルに使用するマニホールドの製造方法であって、
（１）真空供給バルブを供給する（または提供する、もしくは設ける、以下本態様において同様）こと；
（２）真空発生器を供給すること；
（３）キャリヤーガス遮断バルブを供給すること；
（４）バイパス・バルブを供給すること；
（５）プロセス・ライン遮断バルブを供給すること；
（６）コントロール・バルブを供給すること；
（７）キャニスター入口バルブを供給すること；
（８）キャニスター出口バルブを供給すること；
真空供給バルブを真空発生器に接続すること；
真空発生器をコントロール・バルブに接続すること；
キャリヤーガス遮断バブルをバイパス・バルブに接続すること；
バイパス・バルブをプロセス・ライン遮断バルブおよびキャニスター入口バルブに更に接続すること；
遮断バルブをキャニスター出口バルブに更に接続すること；
キャニスター入口バルブをコントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続すること；
を含んで成る方法。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の代表的なバルク化学物質供給システムを図示する。
【図１Ａ】単一のバルク・キャニスター・キャビネットを用いる、本発明の代表的なバルク化学物質供給システムを例示する。
【図２Ａ】本発明に使用され得る代表的なバルブ・マニホールド・ボックスを例示する。
【図２Ｂ】本発明に使用され得る代表的なバルブ・マニホールド・ボックスを例示する。
【図２Ｃ】本発明に使用され得る代表的なバルブ・マニホールド・ボックスを例示する。
【図３】本発明の実施に使用され得、化学物質の漏出またはリークに対する閉じ込めを可能にする輸送カートを例示する。
【図４】本発明の実施に使用され得、化学物質の漏出またはリークに対する閉じ込めを可能にする輸送カートを例示する。
【図５】本発明の実施に使用され得、化学物質の漏出またはリークに対する閉じ込めを可能にする輸送カートを例示する。
【図６】バルク・キャビネットにて使用する代表的なマニホールドの概略図を例示する。
【図７Ａ】全ての電子部品を不活性ガスで覆われた領域に隔離することによって、危険（または有害）な、爆発の可能性のある環境において使用するのに適するように構成され得る、本発明のキャビネットを例示する。
【図７Ｂ】全ての電子部品を不活性ガスで覆われた領域に隔離することによって、危険（または有害）な、爆発の可能性のある環境において使用するのに適するように構成され得る、本発明のキャビネットを例示する。
【図８】本発明の代表的なマニホールドの構成を図示する。
【図９】キャニスターが作動しているときのマニホールドでの気体の流路を図示する。
【図１０】キャニスターのヘッド圧力を取り除くための減圧工程の間の、マニホールドでの流路を図示する。
【図１１】液体の排出の間の、マニホールドにおける気体の流れを図示する。
【図１２】サイクル・パージの間の、マニホールドにおける気体の流れを図示する。
【図１３】サイクル・パージの間の、マニホールドにおいて流れているパージを図示する。
【図１４】本発明のもう１つの代表的なマニホールドの構成を図示する。
【図１５】サイクル・パージの間の、図１４のマニホールドにおける気体の流れを図示する。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明のキャビネットにて使用し得る金属製キャニスター、化学物質補充システム、操作手順、構成要素、および開始（starting）マニホールド・システムなどの一般的な説明は、米国特許第５，４６５，７６６号；同第５，５６２，１３２号、同第５，５９０，６９５号、同第５，６０７，００２号、および同第５，７１１，３５４号に述べられており、これらの全ては引用することにより本明細書に組み込まれるが、これに限定されるものではない。
【００２７】
本発明の代表的なバルク供給システム１００を図１に示す。図面中の各バルブについて、白三角は、常に開状態であるラインを示し、黒三角は、開状態とされるまでは閉状態であることを示す。このシステムは、少なくとも１つのバルク・キャニスター・キャビネット１０１を含み、これは化学物質を、直接または間接的にマニホールド・ボックス１０８を介して２次（中間）キャビネットへ、そして、化学物質を使用するプロセス・ツール（または器具）へ最終的に供給するバルク・キャニスター（図示せず）を収容している。このシステムは、オプションとして、代表的には約２００リットルまたはそれ以上の容量を有する第２のバルク・キャニスター１０３を切除図に示すように保持する第２バルクキャビネット１０２を含んでよい。第２バルク・キャニスターは、第１バルク・キャニスター１０１を取り替える、補充する、修理する、あるいはその他の理由の場合に、化学物質をバルブ・マニホールド・ボックスに供給することができる。あるいは、第２バルク・キャビネット１０２は、通常の操作の間に第１キャビネット１０１を補充するのに用いてもよい。
【００２８】
キャビネット１０１、１０２は、図３〜５を参照して説明されるような構造を有し得る。キャビネット１０１または１０２は、各キャビネットにおいて同じでも、あるいは異なっていてよいマニホールド１０４を含み得る。第２キャニスターからのライン１０５は、キャビネット１０１の第１キャニスターのマニホールドと接続されていてよい。第２キャビネット１０２を使用する場合、第１キャビネット１０１を取り替える、または補充する間、システムが第２キャビネット１０２から化学物質を供給することができる機能のスイッチ（または切り替え）、例えばマニホールドのスイッチ（これは図６を参照して説明する）を用いてよい。第２バルク・キャニスター１０２へのスイッチングは、例えばＯｍｒｏｎ，Ｉｎｃなどの様々な市販ソースから入手可能なものなどの、当業者に周知のプロセス制御装置を用いるなどして自動化され得る。あるいは、例えば米国特許第５，４６５，７６６号および同第５，７１１，３５４号に記載されるようなＭＡＲＳ（商標）制御システムなどの、キャニスターの取り替えおよびパージ機能を管理し、システム・パラメータを制御および監視する、プログラム可能なコンピュータ制御システムを用いて、総合システム管理を制御してよい。コントローラは、パージ・シーケンスおよび通常の運転モードを管理することもできる。パージ・シーケンスは、終了後のバルク化学物質供給キャニスターを取り除く前に、あるいは新たなキャニスターを据え付けた後に、マニホールドとキャニスターとの接続ラインをパージするように機能する。運転モードの間、システムは化学物質をプロセス・ツールへ供給し、このことは、バルク化学物質供給キャニスターを据え付けた後に開始され得る。ある点においては、バルク・キャニスター・キャビネットにある単一のコントローラによって、二次キャビネットおよびバルブ・マニホールド・ボックスについてのコントローラの有無にかかわらず、該一次コントローラにデータを戻すように、総合システムを制御してよい。あるいは、各バルクおよび二次キャビネットならびに各バルブ・マニホールド・ボックスは、これらの機能を制御するように、別のコントローラを備えていてもよい。
【００２９】
ライン１０６は、キャビネット１０１内のマニホールドから、例えばバルブ・マニホールド・ボックス１０８などの１つまたはそれ以上のバルブ・マニホールド・ボックスにつながっている。いかなる数のマニホールド・ボックス１０８を用いてもよい。１つの実施態様においては、４個までのボックスが用いられる。各ボックス１０８は、本明細書において説明する、図２Ａ、２Ｂ、および２Ｃに図示するようなマニホールド１０９を含んでよい。バルブ・マニホールド・ボックス１０８は、分配マニホールドによって化学物質のストリームを、化学物質を使用するプロセス・ツールへ、あるいは１つまたはそれ以上のより小さなキャニスター１２３を収容する二次キャビネット１２０および１２５へつながる複数のライン１１２に分割するように機能する。各キャビネットは、所望のいかなる数のキャニスターを含んでいてよく、１つまたはそれ以上のキャニスターは、別々の分配マニホールドを通じてプロセス・ツールへ供給され得る、異なる化学物質を含んでいてよい。図１においては、二次キャビネット１２０は、２つのより小さなキャニスター１２３を収容し、他方、二次キャビネット１２５は、１つのより小さなキャニスター１２３を収容している。バルブ・マニホールド・ボックスにおけるマニホールドの詳細な構造は、化学物質のストリームをシステムとプロセス・ツールとでバランスさせて供給する限り、本発明の実施に重要ではない。バルブ・マニホールド・ボックスにおけるバルブの構造は、バルブ・マニホールド・ボックスの下流における構成要素を実用的なものとし、また、個々のラインの独立したパージおよびメンテナンスを可能とするように、変更してよい。オプションとして、マニホールド・ボックス１０８から二次キャビネット１２０へのラインを切断して、システムを設計およびプログラムして、補充用キャニスター１２３がメークアップ化学物質をもう１つのキャニスター１２３に供給（または送出）し、該他のキャニスターがプロセス・ツールに化学物質を供給するように切り替えるようにしてよい。化学物質をプロセス・ツールに主に供給するように構成されたキャニスター１２３の交換を容易にするために、補充用キャニスター１２３が化学物質をプロセス・ツールに供給できるように、マニホールドを構成し、コントローラをプログラムしてよい。しかし、代表的には、補充用または供給用キャニスターのいずれかを交換などする場合、マニホールド・ボックス１０８からの化学物質が切り替わり、プロセス・ツールへ直接的に供給されるように、システムが構成される。別法では、プロセス・ツールは、二次キャビネットを用いないでバルブ・マニホールド・ボックスから直接的に供給され得る。同様に、少なくとも１つのマニホールド・ボックスに化学物質を提供するのに加えて、バルク・キャビネットは、１つまたはそれ以上のプロセス・ツールに化学物質を直接的に供給することができる。バルブ・マニホールド・ボックスは、いかなる数の流出ラインを含んでいてよく、代表的には４個までの流出ラインが用いられる。図１および１Ａでは、４個の流出ラインを用いている。
【００３０】
図１Ａは、単一のバルク・キャニスター・キャビネット１０１を用いる、本発明の代表的なシステム１００を示す。図１Ａ中の符号は、図１中のものと対応している。図１と同様に、いかなる数のバルブ・マニホールド・ボックス１０８が含まれていてもよい。代表的には、４個までのバルブ・マニホールド・ボックス１０８が用いられる。同様に、用いられる二次キャビネット１２０および／または１２５の数は変更でき、代表的には４個までが用いられる。従って、バルブ・マニホールド・ボックス１０８は、別法では、所望の数の流出口を含むように構成され得る。所与のシステム１００においては、二次キャビネットは、キャビネット１２５に示すように１つのキャニスターを含んでもよく、またはキャビネット１２０に示すように２つのキャニスターを含んでもよく、あるいは、１つまたはそれ以上のキャビネット１２０が単一のキャニスターを保持し、１つまたはそれ以上のキャビネット１２５が２つのキャニスターを保持するシステムのような、キャビネットの組合せを用いてもよい。加えて、キャビネット１２０および１２５は、より多い、またはより少ない数のキャニスターを含むのに望ましいように改変してもよく、これは、キャニスターの数に制限はなく、別の構成において用いられ得る。また、キャビネット１０１におけるバルク・キャニスターの寸法、あるいはキャビネット１２０および１２５におけるキャニスターの寸法に制限はないが、一般的には、キャビネット１０１におけるキャニスターは、キャビネット１２０および１２５におけるキャニスター１２３よりも大きい。
【００３１】
本発明の実施に使用され得るバルブ・マニホールド・ボックス２００を図２Ａ、２Ｂ、および２Ｃに図示する。図２Ａにおいては、入口バルブ２１０は、図１の供給マニホールドからの出口ラインから化学物質を受け取る。入口バルブ２１０は、マニホールド・バルブを修理する必要がある場合にマニホールドの完全なパージを行うことができる、手動式または空気圧式バルブあるいは両用作動式（dual activator）バルブであってよい。バルブ・マニホールドは、オプションとして、２つまたはそれ以上のバルク・キャニスターなどの複数の供給源から化学物質を受け取ってよいことが考えられる。入口バルブと空気圧式アクティベータへの溶接接続を用いることにより、漏出検出に関する安全上の配慮を高め得る。入口バルブ２１０からのライン２１１は、２つまたはそれ以上の流出口（図２Ａには４個の流出口を図示する）の群へつながる。ライン２１１は、圧力ライン２２０からの気体、例えばヘリウムなどで加圧される。圧力ライン２２０には気体の供給源（図示せず）により気体が供給され、気体入口バルブ２２１に加圧した気体が供給され、その後、ライン２２２を通して流し、ライン２２０への流れを制御するレギュレーターバルブ２２３へ移送される。圧力ライン２２０はオプションであるが、実用的見地から典型的には用いられている。化学物質は、バルブ・マニホールド・ボックス２００の分流部（スプリッター・セクション）２３０において、２またはそれ以上の対の、適切にポーティングされた（ported、またはポート調節された）パージ・バルブ２３１および液体制御バルブ２３２を介して分流される。液体制御バルブ２３２を閉状態として、バルブのポーティングによって、パージ・バルブ２３１からのパージガスは、液体制御バルブ２３２のシート（seat）の頂部を横切って、中間キャビネットまたはプロセス・ツール（これはオプションとして、オンボード（on-board）の補充可能コンテナを用いてよい）に送る流出ラインに接続され得る流出口２３４に流れることができる。このパージングにより、一方の支流で液体をパージまたはドレン抜きし、他方、その他の支流をオン・ライン（または液体供給）のままとすることができる。出口バルブ２３３は、各流出ラインを経る化学物質の流出を調節する。バルブ・マニホールドは、６つの壁で作られる矩形ボックスの形態であり得るハウジング２４０に収容され得る。ハウジング２４０は、常套の方法を用いて、例えば溶接または適切な留め具の使用によって組み立てられる任意の適切な材料、例えばシートメタル（または板金）などから成っていてよい。前面の壁は、オプションとして、透明な材料、例えばＰｌｅｘｉｇｌａｓなどから成っていてよい。ハウジング２４０は、入口および出口ライン用に適切に寸法決められ、配置された穴を含んでよい。加えて、マニホールド・ボックスは、液体センサーおよびドレン排出口を含んでいてよく、この排出口から、マニホールド・ボックスの底部にて集められた液体化学物質を除去し得る。ボックスの底部は、漏出物（spill）を特定の位置で集め得るように、傾斜が付けられていてよい。センサーはコントローラに信号を供給することができ、よって、オペレータに警告し、マニホールド・ボックスへのラインがシャットダウンされるなどする。
【００３２】
図２Ｂは、バルブ・マニホールド・ボックス２００の第１側面図である。図２Ｂのバルブ・マニホールド・ボックスの入口側の側面図においては、バルブ・マニホールド・ボックスへの配管（またはパイピング）および／または接続について、より融通がきき、より簡単な変更を可能とするように、各端部には取り外し可能なプレートが備えられる。取り外し可能なプレートは、分割プレートであってよい。
【００３３】
図２Ｃは、バルブ・マニホールド・ボックス２００の第２側面図である。図２Ｃにおいては、出口側を示し、これもまた取り外し可能なプレートを用いており、この場合、１つまたはそれ以上のラインが所定の状態に既にある状態で、付加的なラインを加えるために、取り外しが簡単な分割プレートである。
【００３４】
例えば電子デバイス（例えば、集積回路）製造装置におけるような、常設の二次格納（containment、または閉じ込め）領域を有する代表的なバルク・キャビネットは、コンテナをキャビネット内へ持ち上げて入れることを必要とする。コンテナが５または１０ガロンの化学物質を保有するとき、コンテナをキャビネットへ手動で（代表的には８〜１２インチ）持ち上げるのは、非常に困難ではない。しかし、より大きなキャニスター、例えば２００リットルのキャニスターについては、そのような持ち上げは実行できない。以下に考慮する構成は、大きな２００リットルのキャニスターをキャビネットに配置する際に生じる課題および問題を軽減する。
【００３５】
バルク・キャニスター３０１は、図３〜５に図示するような輸送カート内に収容してよい。図３は、そのようなバルク供給システムを示す。このシステムは、バルク化学物質キャニスター３０１、移動式格納輸送カート３００、ならびにキャニスター３０１およびカート３００を収容するためのバルク化学物質キャビネット３５０を含む。実際には、キャニスター３０１は、適切な保持部がキャニスター３０１に存在する場合、天井クレーンなどを用いてこれを持ち上げることによって、カート３００に配置され得る。
【００３６】
キャニスターまたは貯蔵容器とも種々に呼ばれ得るキャニスター３０１は、広範に種々の寸法を有してよいが、２００リットルの寸法が、本発明の実施に使用するのに特に適切である。キャニスターは常套の構成を有してもよく、ならびに／あるいは特定の用途のために構成されていてよく、また概して、液体の化学物質を収容し、供給するようになっている。キャニスターは、代表的にはステンレス鋼から成り、ライナーを有しても、有さなくてもよい。キャニスター３０１は、ライン（図示せず）を接続でき、これにより、化学物質をキャニスターから高純度のままで供給することができる取り付け具（または継手部）３０３を含む。キャニスター３０１は、底部への内部ライン（図示せず）、ならびにキャニスター３０１中の化学物質のレベルを検出する１つまたはそれ以上のセンサー（１ダースまたは多くのセンサーを用い得る）を含んでよい。センサーは、不連続または連続式の液体センサーとすることができる。加えて、キャニスター３０１は、以下に説明するスコップ部（scoop）３８３を受容するように、垂直シース３０４に穴３０５を含む。用いる取り付け具３０３は広範に変更でき、バルブ・マニホールド３８０から出るラインの適切な取り付け具に適合しさえすればよいことを考慮すべきである。また、キャニスター３０１は、キャニスターに溶接され得るか、あるいは静置するときにキャニスターの重量によって所定の状態で保持されるように、キャニスター３０１の下方に単に配置され得るスリーブ３０２を含んでよい。スリーブ３０２は、フォークリフトのフォークを受け入れるように、適切に構成され得る。カートは、一旦配置されるとキャビネット内でカートをしっかりと留める固定デバイスを含んでよい。貯蔵または輸送の間に取り付け具を保護するために、蓋３０６を用いてもよい。
【００３７】
圧力管理制御により、運転の間にヘリウムなどのための入口バルブを閉状態に維持し、体積が低下したときにだけ開状態とすることができるように、１つまたはそれ以上の圧力変換器（またはトランスデューサ）をキャニスターの予備の穴に加えてよい（冗長性（redundant）変換器を用い得る）。
【００３８】
図３に示すように、移動式カート（または「クレート（crate）」）３００は、ベース３１６へ取り付けられているホイール（ローラ）３１０を有しており、キャニスター３０１の寸法に応じて適当な寸法及び好適な耐久性を有するものとすることができる。ホイール３１０は、パーキングブレーキまたはデッドマンズ・ブレーキ（deadman's brake）を含むブレーキ（制動手段）を有することができる。カート３００は、例えば、フォークリフトのフォークを受け入れるためのスリーブ３１２を有することができ、スリーブ３１２はベース３１６の一部となっていても、またはベース３１６に取り付けられていてもよい。カート３００は、キャビネット３５０からカート３００を取り外す前に、液体漏出物（spill）の少なくとも一部、好ましくは大部分を除くことを容易にするためのドレン・ラインを有することができる。カート３００は、キャビネット３５０の中へ配置する場合に、カート３００の位置決め（又は配置）を容易に行うことができるように、キャビネット３５０内のガイド３６４と位置合わせされるガイド３１４を有することができる。ガイド３１４は、ベース３１６の一部であってもよいし、またはベース３１６へ取り付けられていてもよく、常套の方法を用いて（例えば、ねじもしくはボルトを用いて、または溶接によって）ベース３１６へ取り付けることもできる。別の態様では、ガイド３１４は、カート３００の１またはそれ以上の側面に取り付けられた例えばレールの形態であってもよく、相補的なガイドがキャビネットの側面の適当な位置に取り付けられている。もう１つの態様では、ガイドは、当業者にとって容易に理解することができるように、カートが正しく位置合わせされるとスナップ嵌めして位置決めするバネ付きのボールベアリング・トラックであってもよい。ベース３１６には４つの外側壁３１８も取り付けられている。一般に、ベースと側面とは互いに溶接されているか、または継ぎ目のない側壁が用いられる。ベースは、センサー３１７へ向かって傾斜していたり、溝が設けられていたりなどしていてもよい。同様に、ベースは、場合によって、少量の漏出物を集めるための小容量のトラフ（又は樋）を有することができ、それによってセンサ３１７のそのような少量の漏出物を検出する能力を向上させることもできる。位置合わせガイド３１９を用いて、カート３００内にキャニスター３０１を配置することもできる。カート３００は、空気よりも密度の高い蒸気の換気を行うための排気ダクトを有することができる。カート３００の操縦をする際にオペレータの助けとなるように、場合によってハンドル３２０をカート３００に取り付けることもできる。カート３００の頂部３３０には、キャニスター３０１の頂部を収容することができるように適当な寸法のホール（穴）３３４を有することができる。ホール３３４は、輸送及び移動する際にカート３００内にキャニスター３０１を固定することを助長するように、頂部３３０がぴったりと嵌まるような大きさとなっていることが好ましい。頂部３３０には、場合によって孔３３２が設けられていてよい。孔３３２は、キャニスター３０１の上側領域における漏れ（leak）をカート３００の下側領域へ排出する機能を有する。更に、取り付け具を周囲への暴露からシールする取外し可能な部材を使用することができ、そうすることは、使用するためにキャニスターをクリーンルームに配置する場合に有益である。このことによって、ダストなどがカート及びキャニスターにまたはそれらの内部に蓄積されることが防止される。更に、液体漏出物を検知するセンサ３１７を有することもできる。センサはコントローラに接続することができ、コントローラは漏出物を検知した場合にシステムをシャットダウンさせたり、またはオペレーターに信号で知らせたりすることができる。今日において工業的には、格納ユニットの容量はキャニスター３０１の容量の少なくとも１１０％であることが推奨される。従って、本発明の１つの態様では、カート３００は、カート３００が収容すべきキャニスター３０１の内部容量の少なくとも１１０％の容量を有するように構成されている。
【００３９】
キャビネット３５０は、３つの側面、ベース（底面）３６０、扉３９０及び頂面を有している。１又はそれ以上の支柱（ブレース）３６１をキャビネットに取り付け、キャビネットを設置する床にボルトで締め付けることなどによって、構造物を支えることもできる。別の態様では、キャビネットのベースを床へ直接取り付けるために、ブレース３６１に代えてキャビネットベースの孔を用いることもでき、それによってキャビネットの跡形を低減することができる。１又はそれ以上の扉を用いることもできる。２枚の扉を使用する場合には、戸当たり３６２を有することもある。キャビネットは、プロセス制御計器装備を取り付けるためのコンパーメント（又は「コントロール・ボックス」）３７０を有することもできる。別の態様では、プロセス制御計器装備をキャビネットの外側に取り付けることもある。プロセス制御計器装備は周知であって、種々の供給源、例えばオムロン社（Omron, Inc.）などから入手することができる。プロセス制御計器装備は、図４に示すようなタッチスクリーン３９３に接続することができる。
【００４０】
キャビネットは、所定の数のバルブ３８２（例えば、空気作動バルブ）、例えば米国特許第５，４６５，７６６号、同第５，５６２，１３２号、同第５，５９０，６９５号、同第５，６０７，００２号及び同第５，７１１，３５４号に開示されているようなバルブを有するバルブ・マニホールド３８０を有していてよく、これらの特許の全ては引用することによって本明細書に包含されるものと、又は本明細書に記載されているものとする。マニホールドは、マニホールド、ライン及び取り付け具（又は継手）内にパージされないデッド・レッグ（dead leg）が存在しないように構成することが有利であり得る。この点に関して、相互接続ラインにベンドがなく、また、曲がったラインもないように構成することが有利なこともある。一般に、システム内の圧力は、上流側の圧力が下流側の圧力よりも高くなるように調節される。バルク・キャニスター用のキャビネットにおける代表的なマニホールド及びシステム・ラインの構成を図６に示しているが、これに限定されるものではない。図３において、バルブ３８２はコントロール・ボックス３７０内に収容されているプロセス制御計器装備を用いて制御することができる。手動操作バルブ、空気作動バルブ又はその他の種々のバルブを含めて、これらに限定されず、多様な種類のバルブを使用することができるということを理解されたい。バルブマニホールドを閉鎖するためにマニホールド扉３８４を有することがある。スクープ（又は取り入れ口（scoop))３８３をキャビネット３５０内に設けて、そこからマニホールド・ラインを配設することもできる。スクープ３８３は、キャニスター３０１の穴３０５の中に嵌まり込むのに好適な寸法とすることができる。スクープ３８３を、適当な排出フロー（exhaust flow）が可能となるような寸法とすることもできる。スクープ３８３はこのようにキャビネット内における排出の流れ全体を含み、適当なバランスとなるように調節することができる。スクープ３８３は、マニホールド領域におけるすべての液体漏出物を、そのような漏出物を収容するようにカート３００の下方へ導く機能をも有し得る。図３には、通気開口下側部分を有するチューブ３８６も示されており、チューブは排気部（exhaust）の中に結合されており、それによってキャビネットを通る排気フローを調節し及びバランスさせることができる。キャビネットは排気出口３８１を有していてもよい。場合により、キャビネット３５０の後方側面にバンパー３９２を取り付けて、カート３０１のストッパとして作用させることができる。
【００４１】
図４は、図３のキャビネット３５０における扉３９０として使用するための２枚扉システムを示している。図４においては２枚扉システムを示しているが、それに替えて１又はそれ以上の枚数の扉を使用することもできる。図４において、左側の扉３９９及び右側の扉３９１は、キャビネット３５０の内側面が見えるように示されている。各扉は、それらをキャビネット３５０へ取り付けるためのバネ付きのヒンジ３９４、扉ロック手段３９５、及び排気口３９６を有している。更に、扉３９１はプロセス制御計器装備に接続されるタッチ・スクリーン３９３を有することもできる。タッチ・スクリーン３９３は、オペレーターにプロセスの構成を観察させたり、又は変更させたりすることを可能にする機能を有する。
【００４２】
図５は、キャビネット３５０内に収容されているカート３００内に設置された場合におけるキャニスター３０１を示している。従って、図５は、本発明のシステムの構成を示している。キャニスター３０１は例えばクレーンなどを用いてカート３００の中に配置され、その後カート３００には頂部３３０が取り付けられ、これによってキャニスター３０１が横方向に動いたり揺れたりすることは低減される。キャニスター３０１は、カート３００の中へ装着する前又は後のいずれの時点で充填してもよい。図５では、スクープ３８３を垂直方向のシース３０４における穴３０５の中を通して挿入し、ピッグテイル（pigtail）（即ち、マニホールド・ライン）を穴３０５の縁部による摩滅から保護することができるということも理解することができる。バネ付きのリフティング・デバイスを用いて、分離した場合にピッグテイルを自動的に持ち上げるようにすることもできる。取り扱う際に取り付け具３０３を保護する垂直方向のシース３０４が、孔が設けられたカート頂部３３０のホール３３４の中に嵌め込まれることも示されている。
【００４３】
キャニスター３０１は、キャニスター３０１を持ち上げて、カート３００の中へ移動させて設置することによってカート３００内に設置することができる。カート３００には高荷重に耐えられるホイール（ローラ）３１０が設けられているので、バルク・キャニスター３０１を収容しているカート３００は単に手で押すことによって好都合に移動させることができる。有利な態様では、カート３００は貯蔵及び供給キャビネット３５０の中に押して入れることができる。図３に示すように、キャビネット３５０及びカート３００には、オペレーターがカート３００をキャビネット３５０の中に設置する際に役立つガイド３１４及び３６４を有する構成となっている。本発明の利点は、漏出物が生じた場合に、移動式カート３００は漏出物を収容する機能を有しており、キャニスターを吊るための格子（grating）を格納リザーバ上で用いる常套のキャビネットに比べて、バルク・キャビネット内においてそのような格子を本発明は必要とはしないため、本発明におけるキャビネット３５０は寸法に関して小さくすることができるということである。尤も、２次キャビネットにはそのような常套の構成を用いることができる。更に、キャニスター３０１を設置する場合に、キャビネット内には格子もリザーバーも設けないので、常套のキャビネットのように配置のために上昇させたり持ち上げたりする必要はない。本発明のキャビネット及び移動式自己格納システムは、このように、より小さいスペースしか必要としないにも拘わらず、格納を行うことができる。本発明のシステムをクリーンルーム環境において使用する場合には、大きなキャニスターをキャビネットの中へ設置するためにフォークリフトを必要としないことが有利である。クリーンルーム・フォークリフトはまれで、高価であること、並びにキャニスターを内部に設置するキャビネットの領域に広い領域およびクリアランスを必要とするので、このことは特に有利である。
【００４４】
本発明のバルク供給システムを用いて移送することができる化学物質の種類は、プロセス・ツール及び所望する結果の種類に応じて幅広く変動し得る。代表的な化学物質には、テトラエチルオルトシリケート（「ＴＥＯＳ」）、トリエチルホスフェート、トリメチルホスファイト、トリメチルボレート、四塩化チタン、タンタル化合物など；塩素化された炭化水素、ケトン、例えばアセトン及びメチルエチルケトン、エステル、例えば酢酸エチル、炭化水素、グリコール、エーテル、ヘキサメチルジシラザン（「ＨＭＤＳ」）などの溶媒；液体中に分散された固体配合物（または化合物）、例えばバリウム／ストロンチウム／チタネートカクテル（混合物）などが含まれるが、これらに限定されるものではない。送出する化学物質が有機液体中に懸濁された固体である場合、有機液体が蒸発する時にライン内に固形物が蓄積されることを防止するように、マニホールドの構成は、すべてのラインにて液体フラッシュさせることができるようにすることができる。分散液を使用する場合、ライン内の圧力を下げたときにライン内に配合物が沈降（または析出）しないように、トリグリム又はテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などの液体溶媒によってラインをフラッシュする（洗い流す）ことが好ましい。化学物質についてのこれらの例は本発明について何らかの限定をしようとするものではない。化学物質には、種々の純度の化学物質、及びそれらの混合物を使用することができる。１つの態様では、１種の化学物質を使用する。所定の化学物質は、微量金属に関して、９９．９９９％又はそれ以上の純度を有することが有利である。
【００４５】
図６は、第２キャビネット１０２を含まない場合において、キャビネット１０１において用いるための、代表的なキャニスター、パージ・マニホールド、及びシステム供給マニホールドを示している。図６にはバルク・キャニスター６１０が示されており、これは２００リットルのキャニスターであってよい。気体源６３０から、ライン６３１、キャリヤー・ガス遮断バルブ６３２、キャニスター・バイパス・バルブ６３４、第２フローイング・パージバルブ（「ＦＰ２」バルブ）６３６、及びキャニスター入口バルブ６３８を通して正圧をかけることによって、バルク・キャニスター６１０は、ライン６１１、６１２及び６１３、並びにキャニスター出口バルブ６４０、プロセスライン遮断バルブ（ＰＬＩ）６４２、及びフィルター・アッセンブリ６２０を通して、４ポート・プロセス供給マニホールド６７０へ化学物質を供給し、そこで化学物質は４つのストリームに分けられ、出口バルブ６７２を通って排出される。出口バルブ６７２はラインを通して化学物質をバルブ・マニホールド・ボックス（図示せず）へ供給する。化学物質は、プロセス供給マニホールド６７０に入る前に、フィルター・アッセンブリ６２０を通過することによって不純物が除かれる。本発明の重要な特徴の１つは、フィルター隔離バルブ６２２Ａ及び６２２Ｂを、流れがフィルター・バイパス・バルブ６２４を通って導かれるように操作することによって、フィルター容器６２１の全体を取り外したり、交換したりできるということである。（閉じている）ＰＬＩ６４２と隔離バルブ６２２Ａとの間、並びにフィルター遮断後方バルブ（ＰＦＩ）６２６と隔離バルブ６２２Ｂとの間で適当な取り付け具（継手）を分離させた後、フィルター・アッセンブリを新たなアッセンブリと交換することができる。フィルター及び化学物質を含んでいる古いアッセンブリは、システムの停止時間をほとんど取らずに取り扱うことができる。このことは、煩雑で、誤りを犯しやすく、時間のかかるフィルター媒体自体の交換作業を避けることができるため、有利である。供給マニホールド６７０において、分配供給バルブ６７１は化学物質の出口バルブ６７２への流れを遮断する機能を果たす。マニホールドには、サンプリング・ポートが設けられていてもよい。マニホールドシステムは全体として、フローイングガスのパージ及び減圧（又は真空）サイクルを交互にさせることによってキャニスターを交換する前又はシャットダウンする前に清掃することができる。この点に関して、キャニスターの圧力を下げた後で、フローイングガス・パージサイクルはラインの液体ドレンによって完了させることができる。例えば、気体は、ソース６３０からＣＧＩ６３２、ＣＢＶ６３４、ＰＬＩ６４２、キャニスター出口バルブ６４０及びライン６１３を通して導くこともでき、そうすることによって液体をキャニスター内へ一掃することができる。所望する場合には、フィルター・アッセンブリをドレンすることもできるが、隔離バルブ６２２を閉じて、流れをフィルター・バイパス・バルブ６２４を通るように移動させ、キャニスター６１０を通りその中へ入るライン６１３を通る気体の流れによって液体ドレンを行うことが、より一般的である。液体ドレンを進める際に、キャニスター６１０からライン６５２を通して通気口６５４へ気体が放出されるように、ＦＰ２ ６３６及び第１フローイング・パージバルブ（ＦＰＩ）６５０は開いていると理解することができる。このことによってキャニスター６１０内に圧力がかかることが防止される。
【００４６】
ライン・ドレンの後で、減圧段階及びフローイング・ガス・パージを含むサイクル・パージを開始することができる。例えば、減圧供給バルブ（ＶＧＳ）６５６を開いて、減圧源６５７、例えばベンチュリ・ジェネレーターの中へ気体を入らせることができ、キャニスター入口バルブ６３８及びキャニスター出口バルブ６４０を閉じると、ライン６５２を通じてマニホールドシステムは減圧状態となる。別の態様では、真空ポンプを使用することができる。その後、（キャニスター入口及び出口バルブ６３８及び６４０は閉じた状態に保って、）ＶＧＳ６５６を閉じた後、所望するように気体源６３０からマニホールドの中へ気体を導入することによって、フローイング・パージ（flowing purge）を行うことができる。サイクル・パージを何回か繰り返して、キャニスター６１０を交換するために取り付け具を取り外す前に、ラインの中に化学物質が実質的に存在しないことを確実にする。
【００４７】
ライン６１３へ直接連結されてフローイング・パージ用の気体を供給するライン６２９を用いる代わりに、点線６２８のラインを用いることもできる。この別の態様の構成では、フィルター後方パージ・バルブ（ＰＦＰ）６２７を開いて、化学物質をキャニスター６１０の中へ圧入することによって、ライン・ドレンを行うことができる。この構成では、ＰＦＩ６２２Ｂは三方バルブであってよい。このようなアレンジメントによる利点は、ＰＦＩ６２９の下流側のシステム及びラインを湿潤状態にとどめることができるということである。
【００４８】
図１又は１Ａに示すシステムが第２バルク・キャビネット１０２を有する場合、第２バルク・キャニスターを接続するラインは、例えば、供給マニホールド６７０へフィードするライン６１３におけるポイント６８０にて連結することができる。この構成を用いる場合、キャニスター６１０を交換している場合、あるいはそれ以外にも保守や修理などのためにラインが機能していない場合等に、第２バルク・キャニスターがＰＦＩ ６２６の下流側で化学物質を供給することができるように、点線６２８で示すラインを用いて、ＰＦＰ ６２７を通してパージ用の気体を供給することが好ましい。
【００４９】
キャニスターの出口バルブ６４０はまた、第３のフローイング・パージバルブとして作用することが考えられる。したがって、ガスはライン６４１を経由してシステムをパージし、それにより、マニホールドにおいてデッド・レッグは実質的に存在しないこととなる。
【００５０】
図１のキャビネット１０１に含まれるシステムの１つの実施態様は、米国特許第５，７１１，３５４号明細書の図３６および３７に示されており、それらは引用により本明細書に組み込まれる。
【００５１】
本発明のキャビネットは、それが危険な爆発する可能性のある環境で使用するのに適したものとなるように構成できる。一般に、これは、不活性ガスで覆われる領域に全ての電子要素を隔離することにより達成される。このようにして、電子要素から発する火花は、実質的に酸素を有しない環境にあることとなり、そのことは、キャビネットに存在し得る蒸気に起因する爆発の可能性を著しく減少させる。このキャビネットの１つの非限定的な代表的な実施態様を図７Ａおよび７Ｂに示す。
【００５２】
図７Ａおよび７Ｂにおいて、表示されている符号は、図７Ａおよび７Ｂにおいて数字の後に文字「Ａ」が付加されていることを条件として、図３に関して先に説明した要素に対応している。図７Ａおよび７Ｂにおいて、コントロール・ボックス３７０Ａおよびタッチ・スクリーン３９３Ａは、キャビネット７００において隔離されている。コントロール・ボックス３７０Ａは、プロセス・コントロール回路（またはプロセス制御計器装置）のような電子計装（図示せず）を含んでいてよい。使用中、コントロール・ボックス３７０Ａおよびタッチ・スクリーン３９３Ａのハウジングは不活性ガスで満たされ、不活性ガスは１つまたは複数のパージ・ライン７７１で供給してよい。１つまたは複数のパージ・ライン７７１をタッチ・スクリーン３９３Ａのハウジングに接続してよい。追加の導管を用いて、パージ・ライン７７１に接続されていないコントロール・ボックスに不活性ガスが直接に流れるようにしてもよい。このようにして、単一のラインを用いて不活性ガスの覆い（blanket；またはブランケット）をタッチ・スクリーンおよびコントロール・ボックスの両方に提供するようにしてよい。１つまたは複数の圧力解放バルブ７７２を用いて最初のパージを行い、また、コントロール・ボックスおよびタッチ・スクリーンに用いられるハウジングから過剰の不活性ガスを排出させてもよい。所定の時期に最初の高圧パージを実施し、隔離された要素への不活性ガスを監視、計測する、パージ・コントロール・ユニット７７３が含まれていてよい。常套のパージ制御装置、例えば、エキスポ・セーフティ・システムズ（Expo Safety Systems）から入手できるものを採用してよい。
【００５３】
図７Ｂに示すように、タッチ・スクリーン３９３Ａは仮想線３９４Ａで示されるハウジング内に収容してよい。タッチ・スクリーンを完全に隔離するために、追加の要素を採用してよく、例えば、ガスケット材料３９４Ｂ、パージ・ガス・フィードのための開口部を有するプラスチック製（例えばアクリル製）スペーサー３９４Ｃ、タッチ・スクリーン・ウィンドウのガスケット材料３９４Ｅ、およびパージ・エンクロージャー・フレーム（purge enclosure frame）３９４Ｆによって所定位置に保持されるプラスチック製のウィンドウ（例えば、導電性のポリカーボネート製シート）３９４Ｄを使用してよい。タッチ・スクリーンがこの代表的な様式において更に隔離される場合、タッチ・スクリーンへは、例えば、磁石の棒および紐３９４Ｈを使用して操作される鋼製のボール３９４Ｇを用いてアクセスできる。
【００５４】
図８には、この発明のマニホールド・システムが示されている。図８において、ベンチュリ（Venturi）真空発生装置のような真空源１４をライン１２を介して真空供給バルブ（「ＶＧＳ」）１０に接続してよい。ＶＧＳ１０は、真空源がベンチュリ真空発生装置である場合、不活性ガスライン１１を経由する真空源１４へのガス（例えば、窒素、ヘリウム、またはアルゴン）のフロー（または流れ）をコントロールするように機能する。真空源１４はまた、排気口に出て行く排気ライン１３に取り付けてよい。真空源１４は低圧排気（またはベント）バルブ（low pressure vent valve；「ＬＰＶ」）２０、キャリヤーガス遮断バルブ（carrier gas isolation valve；「ＣＧＩ」）３０、キャニスター・バイパス・バルブ（canister bypass valve；「ＣＢＶ」）４０、および制御バルブ（コントロール・バルブ、control valve；「ＣＰ３」）６０に接続してよい。ＣＧＩはまた、キャリヤーガス入口バルブと称してもよい。図８において、真空源１４はライン１５、Ｔ字管１８およびライン１７を介してＬＰＶ２０に接続し；ライン１５、Ｔ字管１８、ライン１６、Ｔ字管３５、およびライン３７を介してＣＧＩ３０に接続し；ライン１５、Ｔ字管１８、ライン１６、Ｔ字管３５、ライン３６、Ｔ字管４４、およびライン４３を介してＣＢＶ４０に接続してよい。ライン３７のチェック・バルブ（または逆止弁）３３は、マニホールドが所定の開放圧力を超えない限り、またそれまで閉じられている。したがって、真空源１４は一般に、ライン３７を介してＣＧＩ３０から遮断されている。一般に、チェック・バルブ３３は、マニホールドの圧力が前もって設定されたレベル、例えば１平方インチあたり約１００ポンドを超える場合に作動するようにセットしてよい。チェック・バルブは、システムの圧力が選択したレベルに達した場合に、ガスを排出する作用をする。ＬＰＶ２０の機能は、起動（スタートアップ）時およびキャニスターの切り替え時にマニホールドおよびキャニスターの通気および排気をコントロールすることである。また、真空ゲージ２２をＬＰＶ２０に接続してよい。真空ゲージ２２は、パージ・サイクルの間の真空を監視するように機能し得る。ライン２３はＬＰＶ２０をＣＧＩ３０に接続してよい。。ライン３１は、加圧された不活性ガスのフローを供給するレギュレーター３２にＣＧＩ３０を接続し得る。供給圧力ゲージ３６は、レギュレーター３２に接続され、レギュレーターの圧力と全操作の間の圧力を監視する。
【００５５】
図８において、ライン３４はＣＧＩ３０をＣＢＶ４０に接続してよい。ライン４１および４２は、ＣＢＶ４０をプロセス・ライン遮断バルブ（「ＰＬＩ」）５０および制御バルブ（「ＣＰ２」）７０に接続する。ＰＬＩ５０の機能は、マニホールドから出る化学物質の流れを制御することである。ＣＧＩ３０は、加圧されたガスのマニホールドへの供給をコントロールするように機能する。ＣＢＶ４０の機能は、ＰＬＩ５０およびライン７１への圧力または真空の供給をコントロールすることである。ライン５１は化学物質をシステムの外部にある装置または補充すべきもう１つのキャニスターのいずれに運んでもよい。ライン５２はＰＬＩ５０を制御バルブ（「ＣＰ１」）８０に繋ぐように作用してよい。ライン６２は制御バルブ６０を制御バルブ７０に接続してよい。制御バルブ７０から、ライン７１はＴ字管継手７２に接続してよく、Ｔ字管７２からはライン７３および７４がそれぞれ制御バルブ８０およびキャニスターの入口バルブ（「ＣＩ」）９０に延びている。ＣＩ９０はキャニスターの与圧および排気をコントロールするように機能する。制御バルブ８０はライン８１を介してキャニスターの出口バルブ（「ＣＯ」）１００に繋がっていてよい。ＣＯ１００は、化学物質が送り出されている間のキャニスター１１０からの化学物質の流れをコントロールし、また、キャニスターを交換する間のキャニスターの出口接合部のパージをコントロールするように機能する。ＣＩ９０およびＣＯ１００は、マニホールドを、一般には雄型および雌型のねじ継手のような取付部品と共に、供給キャニスターにある対応する構造物に連結する作用をする。マニホールドをキャニスター１１０に接続する取付部品（カプラー）は一般に、ＣＩ９０とＴ字管７２との間、およびＣＯ１００とＣＰ１ ８０との間に存在する。ＣＯ１００が両用作動式バルブ（またはデュアル・アクチベーター・バルブ）である場合、Ｔ字管７２は下方へずらされてＣＩ９０と直接に結合して、ラインが両用作動式バルブをＣＩ９０に直接に接続するようにする。
【００５６】
キャニスター１１０には、種々の化学物質が充填され得、一般には半導体製造に使用する高純度の化学物質を入れる。例えば、キャニスターはＴＥＯＳ、砒素化合物、チタン化合物、ホウ素化合物、銅化合物等を含んでよい。本発明の１つの態様において、キャニスター１１０は少なくとも部分的に、化学物質中の微量金属の量に基づく純度が少なくとも９９．９９９９％である化学物質で満たされる。
【００５７】
上述のラインは導管、配管材料、パイプ、通路等とも称されるものであり、これらは、例えばステンレス鋼製の管状材料のような、金属製の管状材料で構成してよい。各バルブは、常套の空気圧で作動するバルブ、例えば、ニュープロ（ＮＵＰＲＯ）６Ｌ−Ｍ２Ｄ−１１１−Ｐ−IIIガス量調節バルブであってよい。同様に、レギュレーターは、標準タイプのものであってよく、例えば、エー・ピー・テック（ＡＰ Ｔｅｃｈ）１８０６Ｓ ３ＰＷ Ｆ４−Ｆ４ Ｖ３レギュレーターであってよい。システムは、例えば、圧入バルブ（pressure fitting valve）の使用および溶接等、常套の方法を使用して組み立ててよい。バルブは、常套のプロセス制御装置、例えば、タッチ・スクリーンのコントロール・パネルに接続されるオムロン（Omron）のプログラム可能なコントローラ・ボックスを用いて制御してよい。別法として、バルブは、エプロム（ＥＰＲＯＭ）に属するソフトウェアとともに、コマンドシーケンスを実行する内蔵されたマイクロプロセッサを組み込んでいるＡＤＣＳ ＡＰＣ（商品名）コントローラを用いて、コントロールしてよい。コントロール・ユニットは、例えば、開放または閉鎖された空気圧式バルブへの加圧されたガスのフローをコントロールしてよい。
【００５８】
使用中、本発明のマニホールドは次のように操作してよい。キャニスター１１０から供給ポイントへ化学物質を押し出すために、マニホールドのバルブを適当に開閉して、加圧されたガスがシステムおよびキャニスターの中に入るようにする。図９において、ライン１２０は加圧されたガスがキャニスター１１０に入る経路を示し、ライン１１１は、浸漬管１２１を経由してキャニスター１１０から出る液体化学物質の経路を示している。したがって、供給源（図示せず）からの加圧されたガスは、レギュレーター３２によってライン３１中に放出される。ガスはその後、開いているＣＧＩ３０を通過し、それから、ライン３４、ＣＢＶ４０、ライン７１、ＣＩ９０を経由してキャニスター１１０の中に入る。入ったガスの圧力は液体化学物質を浸漬管中を上方に押し進め、ＣＯ１００、ライン８１、ＣＰ１ ８０、ライン５２、ＰＬＩ５０および排出ライン５１を経由させて、受入れポイントに移動させる。
【００５９】
供給キャニスター（化学物質で満たされたキャニスターである場合をも含む）を取り替えている間、ラインをパージして残留化学物質をマニホールドから取り除いてもよい。第１の工程は減圧であり、これはキャニスター１１０のヘッド圧を取り除くように機能する。減圧は幾つかの方法で実施できる。例えば、減圧させる２つの手順が図１０に示されている。実線１３０で示される１つの減圧方法においては、ＶＧＳ１０を開放し、ガスをライン１１からライン１２を経由させて真空源１４内に流し、ライン１３を経由して排出するフローによって真空が生じるようにする。真空源１４で生じる真空は、ライン１５、Ｔ字管１８、ライン１６、Ｔ字管３５、ライン３６、Ｔ字管４４、ライン６１で真空引きし、開いたＣＰ３ ６０、ライン６２、ＣＰ２ ７０、ライン７１、Ｔ字管７２、ライン７４、および開いたＣＩ９０を経由し、それによりキャニスター１１０の上部空間で真空引きする。別法として、減圧は、ＬＰＶ２０、ＣＰ２ ７０およびＣＩ９０を開き、実線１３５を経由して真空引きすることにより実施できる。
【００６０】
減圧後、液体を排出させて（またはドレン抜きして）、液体のライン（接合部）を清掃する。したがって、図１１において、ガスがレギュレーター３２を介してライン３１中に導入される。ＣＧＩ３０、ＣＢＶ４０、およびＣＯ１００は開いており、ガスがライン３４、４１、５２および８１を経由して流れ、液体の化学物質がキャニスター１１０に戻されるようになっている。ラインの排液の間のガスのフローは実線１４０によって示されている。
【００６１】
その後、サイクル・パージが実施される。サイクル・パージには、それぞれ図５および図６に示されるような、真空工程およびフローイング・パージ（流体を流すバージ）工程が含まれる。真空工程は種々の経路で実施してよく、図１２において実線１５０および１５５で示される経路を介するものを含む。したがって、１つの態様において、ＣＢＶ４０およびＬＰＶ２０は開いており、ＶＧＳ１０が開いていてガスがライン１１および１２を介して真空源１４に入る場合に、真空がライン１３を介して排出されるように引かれ、それにより、ライン１５、１７、２３、３４、４１、５２および８１で真空に引かれるようになっている。別法では、ＬＰＶ２０およびＣＰ２ ７０が開いていて、ライン１５、１７、２３、３４、４２、７１および７４で真空に引かれるようになっている。更に、ライン４２、７１および７４、ならびにライン４１、５２および８１で真空に引かれるように、ＬＰＶ２０、ＣＰ２ ７０およびＣＢＶ４０は全て開くことができる。交互に開放して、ライン４２／７１／７４および４１／５２／８１を間欠的に排気することが可能である。
【００６２】
図１３では、サイクル・パージのフローイング・パージが図示されている。図１３において、レギュレーター３２は加圧されたガスをライン３１中に導入している。図１３において実線１６０で示されるように、ＣＧＩ３０、ＣＢＶ４０、ＣＰ１ ８０、およびＣＰ３ ６０を開いた状態で（ＣＩ９０およびＣＯ１００は閉じられていることに留意）、ガスはライン３４、４１、５２、７３、７１、６２、６１、３６、１６、１５および１３を経由して流れ、それによりマニホールドをパージする。ライン２３および１７がパージされるように、ＬＰＶ２０は断続的に開いてよい。パージした後、マニホールドで正圧を維持している状態で、水分がマニホールドに入らないように、取付部品は一般に取りはずされる。例えば、取付部品を取りはずした後、ＣＧＩ３０、ＣＢＶ４０およびＣＰ２ ７０を開き、ガスがライン７４および８１から流れるようにしてよい。新しいキャニスターを設置した後、一般にパージ・サイクルを繰り返して、新しいキャニスターの取付部品および接合部内に存在し得る水に加え、マニホールドに入った可能性のある水またはその他の汚染物質を取り除く。
【００６３】
図１４において、この発明の別の態様を示す。当該態様は、ＬＰＶ２０、ライン１７および２３、ならびにゲージ２２が無いことを除いては、図８に示す態様と同様である。ＣＯ１００が両用作動式バルブ（またはデュアル・アクチベーター・バルブ）である場合には、ラインがデュアル・アクチベーターをＣＩ９０に直接に接続し、また、マニホールドにおいて潜在的なデッド・レッグの数が減るように、Ｔ字管７２を下方にずらして、ＣＩ９０と、また、デュアル・アクチベーターに直接に取り付けられている制御バルブ８０とに直接に接続することができる。図１４に示す態様において、ＣＢＶ４０へのライン４３は適宜取り除いてよい。図９に示されるフロー・スキームと同じものを採用して、図１４の構成に合うようにキャニスター１１０から化学物質を押し出してよい。図１４に示す構成の減圧は、図１０で線１３０として示されているフロー・スキームを使用して実施してよい。それから、図１１で実線１４０として示されている液体の排出を、図１４の構成に合わせて採用してよい。真空工程は、図１５において線１８０で示すように実施してよい。図１３のフローイング・パージを図１４の構成に合わせて用いてよい。本発明の態様は多くの利点を有し、その中には、バルブの数が減り、それによりマニホールドのコストが下がること、漏れの生じ得る箇所の数が減ること、ならびに所定のマニホールドでバルブが故障する可能性が小さくなることが含まれる。この態様はまた、システムにおけるデッド・レッグの数を減らし、その結果、フローイング・パージの効率がより良くなる。キャニスターを取り替えている間にラインから化学物質をより良く取り除くことができるために、この態様のマニホールドは、危険な化学物質、例えば砒素化合物とともに使用してよいシステムを提供する。同様に、このマニホールドの態様は、分散体、例えば、ダイグリムおよびトリグリムのような有機キャリヤ液体に分散した金属または固体配合物をより良く使用することを可能にする。分散体を用いる場合、ラインが減圧されるときにラインに配合物が沈殿しないように、ラインを、例えば、トリグリムまたはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）のような液体溶媒で洗い流すことが好ましい。更に、この発明のいずれの態様についても、ラインでの化学物質の蒸発を促進するためにマニホールドを加熱し得ることが考えられる。この場合、マニホールドを、バリアック（variac）等に繋がれた加熱テープで巻いて、加熱された雰囲気中で維持し得る。フローイング・パージの間、蒸発を容易にするために、加熱したアルゴン、窒素、またはその他の不活性ガスのような、加熱したガスを代わりに用いることができる。これらの方法の組み合わせもまた採用することができる。幾つかの種類の化学物質に関しては、１つまたは複数の配合物とラインで反応してより容易に排出される化合物を生成する、反応性化学物質でパージすることも可能である。
【００６４】
この発明のマニホールドは、マニホールドのラインが化学物質を含んでいるかどうかを決定するために、例えばライン１５に取り付けられたセンサーを含んでいてよい。同様に、サンプル・ポート（またはサンプル引出し口）がライン１５に含まれていてよく、そこでは、ラインからのガスのサンプルを取り出し、化学物質の存在を検査する分析装置を用いて検査することができる。
【００６５】
この発明の更なる修正および別の態様は、この明細書を考慮すれば当業者に明らかであろう。したがって、この明細書の説明は例示的なものにすぎないと解釈されるべきであり、本発明を実施する方法を当業者に教示するためのものである。ここで示され、説明された本発明の形態は、現時点で好ましい態様として取り扱うべきものであることが理解されるべきである。本発明のこの説明の利点を有するに至った後、当業者において明らかであるように、ここで図示され、説明された要素を、等価な要素で置き換えてもよく、本発明のある特徴は他の特徴の使用とは別に独立して利用してよい。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バルク・キャニスターから化学物質が供給されるバルブ・マニホールド・ボックスから化学物質が供給される第２キャニスターからプロセス・ツールに化学物質を供給することを含む、電子デバイスの製造方法。
【請求項２】
プロセス・ツールに化学物質を供給するように構成されたバルク化学物質供給システムであって、該システムはリフィル・キャニスターおよび他のキャニスターを含んで成り、
第１操作モードにおいて、該リフィル・キャニスターは、該他のキャニスターに化学物質を供給するように構成されており、かつ該他のキャニスターは、該プロセス・ツールに化学物質を供給するように構成されており、および
第２操作モードにおいて、該リフィル・キャニスターは、該他のキャニスターを通じることなく、該プロセス・ツールに化学物質を送給するように構成されている、システム。
【請求項３】
プロセス・ツールに化学物質を、リフィル・キャニスターからおよび他のキャニスターから交互に供給するのに有用な方法であって：
第１操作モードにおいて、該リフィル・キャニスターから該他のキャニスターに、そして該他のキャニスターから該プロセス・ツールに化学物質を供給すること；および
第２操作モードにおいて、該リフィル・キャニスターから、該他のキャニスターを通じることなく直接にプロセス・ツールに化学物質を供給すること
を含む方法。
【請求項４】
化学物質を含むキャニスターの補充に使用するマニホールドであって、該マニホールドは、
（ａ）真空供給バルブ；
（ｂ）真空源；
（ｃ）圧力ベント・バルブ；
（ｄ）キャリヤーガス遮断バルブ；
（ｅ）キャニスター・バイパス・バルブ；
（ｆ）プロセス・ライン遮断バルブ；
（ｇ）第１コントロール・バルブ；
（ｈ）キャニスター入口バルブ；
（ｉ）キャニスター出口バルブ；
（ｊ）第２コントロール・バルブ；および
（ｋ）第３コントロール・バルブ
を含んで成り、
真空供給バルブは真空源に接続され、
真空源は、圧力ベント・バルブおよび第１コントロール・バルブに接続され、
第１コントロール・バルブは第２コントロール・バルブにつながり、
キャリヤーガス遮断バルブは、圧力ベント・バルブおよびキャニスター・バイパス・バルブに接続され、
キャニスター・バイパス・バルブは、キャリヤーガス遮断バルブおよび第２コントロール・バルブに更に接続され、
プロセス・ライン遮断バルブは、第３コントロール・バルブにも接続され、
キャニスター入口バルブは、第２コントロール・バルブおよび第３コントロール・バルブに接続され、および
キャニスター出口バルブは、第３コントロール・バルブに更に接続される、マニホールド。
【請求項５】
化学物質を含むキャニスターの補充に使用するマニホールドであって、該マニホールドは、
（ａ）真空供給バルブ；
（ｂ）真空源；
（ｃ）圧力ベント・バルブ；
（ｄ）ガス入口バルブ；
（ｅ）バイパス・バルブ；
（ｆ）遮断バルブ；
（ｇ）第１コントロール・バルブ；
（ｈ）キャニスター入口バルブ；
（ｉ）キャニスター出口バルブ；
（ｊ）第２コントロール・バルブ；および
（ｋ）第３コントロール・バルブ
を含んで成り、
真空供給バルブは真空源に接続され、
真空源は、圧力ベント・バルブおよび第１コントロール・バルブに接続され、
第１コントロール・バルブは第２コントロール・バルブにつながり、
ガス入口バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され、
バイパス・バルブは、遮断バルブおよび第２コントロール・バルブに更に接続され、
遮断バルブは、第３コントロール・バルブにも接続され、
キャニスター入口バルブは、第２コントロール・バルブおよび第３コントロール・バルブに接続され、および
キャニスター出口バルブは、第３コントロール・バルブに更に接続される、マニホールド。
【請求項６】
液体化学物質を含む２つのキャニスターを再充填可能に接続するのに有用なマニホールドであって、該マニホールドは、
真空源に接続される真空供給バルブ；
真空源およびガス入口バルブに接続される圧力ベント・バルブ；および
真空源に接続される第１コントロール・バルブ
を含んで成り、
ガス入口バルブは、バイパス・バルブにも接続され、
第２コントロール・バルブが、第１コントロール・バルブおよびバイパス・バルブならびにキャニスター入口バルブに接続され、
遮断バルブが、（ａ）第３コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブを含んで成るデュアル・アクチベーター・バルブに、および（ｂ）バイパス・バルブに接続され、および
キャニスター入口バルブは、デュアル・アクチベーター・バルブに接続される、マニホールド。
【請求項７】
真空供給バルブ、真空源、圧力ベント・バルブ、ガス入口バルブ、バイパス・バルブ、遮断バルブ、第１コントロール・バルブ、キャニスター入口バルブ、キャニスター出口バルブ、第２コントロール・バルブおよび第３コントロール・バルブを含んで成るマニホールドを製造する方法であって、
真空供給バルブは真空源に接続されるように、真空源は、圧力ベント・バルブおよび第１コントロール・バルブに接続されるように、第１コントロール・バルブは第２コントロール・バルブにつながるように、ガス遮断バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続されるように、バイパス・バルブは、遮断バルブおよび第２コントロール・バルブに更に接続されるように、遮断バルブは、第３コントロール・バルブにも接続されるように、キャニスター入口バルブは、第２コントロール・バルブおよび第３コントロール・バルブに接続されるように、およびキャニスター出口バルブは、第３コントロール・バルブに更に接続されるように、バルブをラインと接続することを含む方法。
【請求項８】
少なくとも１つのマニホールド・ボックスに接続されるバルク化学物質キャニスターを含んで成る、バルク化学物質供給システムであって、各マニホールド・ボックスは、少なくとも２つの流出ラインを有し、少なくとも１つの流出ラインは２次キャニスターにつながり、バルク化学物質キャニスターは、キャビネット内に収容される輸送および格納カート内に収容され、２次キャニスターはバルク・キャニスターより小さい容量を有し、第１供給マニホールドがバルク・キャニスターおよびマニホールド・ボックスにつながり、バルク・キャニスターおよび第１供給マニホールドがキャビネットに収容される、システム。
【請求項９】
半導体製造に使用するために化学物質をマニホールドからデバイスに提供するのに有用な方法であって、以下の工程（ｉ）および（ｉｉ）を含む方法：
（ｉ）キャニスターの取付部をマニホールドの取付部に接続し、これによって供給システムを提供することであって、該マニホールドは、
真空供給バルブ；
真空源；
圧力ベント・バルブ；
ガス入口バルブ；
キャニスター・バイパス・バルブ；
プロセスライン遮断バルブ；
第１コントロール・バルブ；
キャニスター入口バルブ；
キャニスター出口バルブ；
第２コントロール・バルブ；および
第３コントロール・バルブ
を含んで成り、
真空供給バルブは真空源に接続され、真空源は、圧力ベント・バルブおよび第１コントロール・バルブに接続され、第１コントロール・バルブは第２コントロール・バルブにつながり、ガス入口バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され、バイパス・バルブは、遮断バルブおよび第２コントロール・バルブに更に接続され、遮断バルブは、第３コントロール・バルブにも接続され、キャニスター入口バルブは、第２コントロール・バルブおよび第３コントロール・バルブに接続され、およびキャニスター出口バルブは、第３コントロール・バルブに更に接続され、キャニスター内の浸漬管がキャニスター出口バルブにつながり、ラインがプロセスライン遮断バルブをデバイスにつなげ、およびバルブ間の接続部がラインを含んで成ること；および
（ｉｉ）キャニスター内の圧力により化学物質の流れが生じて、化学物質が浸漬管を通ってキャニスターから出て、キャニスター出口バルブ、第３コントロール・バルブ、プロセスライン遮断バルブおよびラインを通ってデバイスへと流れるように、キャニスター内へ加圧ガスをキャニスター入口バルブを通じて導入すること。
【請求項１０】
１〜４つのマニホールド・ボックスに接続される第１バルク化学物質キャニスターを含んで成る、バルク化学物質供給システムであって、各マニホールド・ボックスは、少なくとも２つの流出ラインを有し、少なくとも１つの流出ラインは２次キャニスターにつながり、バルク・キャニスターが、キャビネット内に収容される輸送および格納カート内に収容され、２次キャニスターはバルク・キャニスターより小さい容量を有し、第１供給マニホールドがバルク・キャニスターおよびマニホールド・ボックスにつながり、バルク・キャニスターおよび第１供給マニホールドがキャビネットに収容されることを特徴とする、システム。
【請求項１１】
化学物質を含むキャニスターの補充に使用するためのマニホールドシステムであって、第１マニホールドを含んで成り、該第１マニホールドは、
真空供給バルブ；
真空源；
キャリヤーガス遮断バルブ；
キャニスター・バイパス・バルブ；
プロセス・ライン遮断バルブ；
第１コントロール・バルブ；
キャニスター入口バルブ；
キャニスター出口バルブ；
第２コントロール・バルブ；および
第３コントロール・バルブ
を含んで成り、
真空供給バルブは真空源に接続され、
真空源は第１コントロール・バルブに接続され、
第１コントロール・バルブは第２コントロール・バルブに接続され、
キャリヤーガス遮断バルブはキャニスター・バイパス・バルブに接続され、
キャニスター・バイパス・バルブは、キャリヤーガス遮断バルブおよび第２コントロール・バルブに更に接続され、
プロセス・ライン遮断バルブは第３コントロール・バルブに接続され、
キャニスター入口バルブは、第２コントロール・バルブおよび第３コントロール・バルブに接続され、および
キャニスター出口バルブは、第３コントロール・バルブに接続される、マニホールドシステム。
【請求項１】
バルク・キャニスターから化学物質が供給されるバルブ・マニホールド・ボックスから化学物質が供給される第２キャニスターからプロセス・ツールに化学物質を供給することを含む、電子デバイスの製造方法。
【請求項２】
プロセス・ツールに化学物質を供給するように構成されたバルク化学物質供給システムであって、該システムはリフィル・キャニスターおよび他のキャニスターを含んで成り、
第１操作モードにおいて、該リフィル・キャニスターは、該他のキャニスターに化学物質を供給するように構成されており、かつ該他のキャニスターは、該プロセス・ツールに化学物質を供給するように構成されており、および
第２操作モードにおいて、該リフィル・キャニスターは、該他のキャニスターを通じることなく、該プロセス・ツールに化学物質を送給するように構成されている、システム。
【請求項３】
プロセス・ツールに化学物質を、リフィル・キャニスターからおよび他のキャニスターから交互に供給するのに有用な方法であって：
第１操作モードにおいて、該リフィル・キャニスターから該他のキャニスターに、そして該他のキャニスターから該プロセス・ツールに化学物質を供給すること；および
第２操作モードにおいて、該リフィル・キャニスターから、該他のキャニスターを通じることなく直接にプロセス・ツールに化学物質を供給すること
を含む方法。
【請求項４】
化学物質を含むキャニスターの補充に使用するマニホールドであって、該マニホールドは、
（ａ）真空供給バルブ；
（ｂ）真空源；
（ｃ）圧力ベント・バルブ；
（ｄ）キャリヤーガス遮断バルブ；
（ｅ）キャニスター・バイパス・バルブ；
（ｆ）プロセス・ライン遮断バルブ；
（ｇ）第１コントロール・バルブ；
（ｈ）キャニスター入口バルブ；
（ｉ）キャニスター出口バルブ；
（ｊ）第２コントロール・バルブ；および
（ｋ）第３コントロール・バルブ
を含んで成り、
真空供給バルブは真空源に接続され、
真空源は、圧力ベント・バルブおよび第１コントロール・バルブに接続され、
第１コントロール・バルブは第２コントロール・バルブにつながり、
キャリヤーガス遮断バルブは、圧力ベント・バルブおよびキャニスター・バイパス・バルブに接続され、
キャニスター・バイパス・バルブは、キャリヤーガス遮断バルブおよび第２コントロール・バルブに更に接続され、
プロセス・ライン遮断バルブは、第３コントロール・バルブにも接続され、
キャニスター入口バルブは、第２コントロール・バルブおよび第３コントロール・バルブに接続され、および
キャニスター出口バルブは、第３コントロール・バルブに更に接続される、マニホールド。
【請求項５】
化学物質を含むキャニスターの補充に使用するマニホールドであって、該マニホールドは、
（ａ）真空供給バルブ；
（ｂ）真空源；
（ｃ）圧力ベント・バルブ；
（ｄ）ガス入口バルブ；
（ｅ）バイパス・バルブ；
（ｆ）遮断バルブ；
（ｇ）第１コントロール・バルブ；
（ｈ）キャニスター入口バルブ；
（ｉ）キャニスター出口バルブ；
（ｊ）第２コントロール・バルブ；および
（ｋ）第３コントロール・バルブ
を含んで成り、
真空供給バルブは真空源に接続され、
真空源は、圧力ベント・バルブおよび第１コントロール・バルブに接続され、
第１コントロール・バルブは第２コントロール・バルブにつながり、
ガス入口バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され、
バイパス・バルブは、遮断バルブおよび第２コントロール・バルブに更に接続され、
遮断バルブは、第３コントロール・バルブにも接続され、
キャニスター入口バルブは、第２コントロール・バルブおよび第３コントロール・バルブに接続され、および
キャニスター出口バルブは、第３コントロール・バルブに更に接続される、マニホールド。
【請求項６】
液体化学物質を含む２つのキャニスターを再充填可能に接続するのに有用なマニホールドであって、該マニホールドは、
真空源に接続される真空供給バルブ；
真空源およびガス入口バルブに接続される圧力ベント・バルブ；および
真空源に接続される第１コントロール・バルブ
を含んで成り、
ガス入口バルブは、バイパス・バルブにも接続され、
第２コントロール・バルブが、第１コントロール・バルブおよびバイパス・バルブならびにキャニスター入口バルブに接続され、
遮断バルブが、（ａ）第３コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブを含んで成るデュアル・アクチベーター・バルブに、および（ｂ）バイパス・バルブに接続され、および
キャニスター入口バルブは、デュアル・アクチベーター・バルブに接続される、マニホールド。
【請求項７】
真空供給バルブ、真空源、圧力ベント・バルブ、ガス入口バルブ、バイパス・バルブ、遮断バルブ、第１コントロール・バルブ、キャニスター入口バルブ、キャニスター出口バルブ、第２コントロール・バルブおよび第３コントロール・バルブを含んで成るマニホールドを製造する方法であって、
真空供給バルブは真空源に接続されるように、真空源は、圧力ベント・バルブおよび第１コントロール・バルブに接続されるように、第１コントロール・バルブは第２コントロール・バルブにつながるように、ガス遮断バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続されるように、バイパス・バルブは、遮断バルブおよび第２コントロール・バルブに更に接続されるように、遮断バルブは、第３コントロール・バルブにも接続されるように、キャニスター入口バルブは、第２コントロール・バルブおよび第３コントロール・バルブに接続されるように、およびキャニスター出口バルブは、第３コントロール・バルブに更に接続されるように、バルブをラインと接続することを含む方法。
【請求項８】
少なくとも１つのマニホールド・ボックスに接続されるバルク化学物質キャニスターを含んで成る、バルク化学物質供給システムであって、各マニホールド・ボックスは、少なくとも２つの流出ラインを有し、少なくとも１つの流出ラインは２次キャニスターにつながり、バルク化学物質キャニスターは、キャビネット内に収容される輸送および格納カート内に収容され、２次キャニスターはバルク・キャニスターより小さい容量を有し、第１供給マニホールドがバルク・キャニスターおよびマニホールド・ボックスにつながり、バルク・キャニスターおよび第１供給マニホールドがキャビネットに収容される、システム。
【請求項９】
半導体製造に使用するために化学物質をマニホールドからデバイスに提供するのに有用な方法であって、以下の工程（ｉ）および（ｉｉ）を含む方法：
（ｉ）キャニスターの取付部をマニホールドの取付部に接続し、これによって供給システムを提供することであって、該マニホールドは、
真空供給バルブ；
真空源；
圧力ベント・バルブ；
ガス入口バルブ；
キャニスター・バイパス・バルブ；
プロセスライン遮断バルブ；
第１コントロール・バルブ；
キャニスター入口バルブ；
キャニスター出口バルブ；
第２コントロール・バルブ；および
第３コントロール・バルブ
を含んで成り、
真空供給バルブは真空源に接続され、真空源は、圧力ベント・バルブおよび第１コントロール・バルブに接続され、第１コントロール・バルブは第２コントロール・バルブにつながり、ガス入口バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され、バイパス・バルブは、遮断バルブおよび第２コントロール・バルブに更に接続され、遮断バルブは、第３コントロール・バルブにも接続され、キャニスター入口バルブは、第２コントロール・バルブおよび第３コントロール・バルブに接続され、およびキャニスター出口バルブは、第３コントロール・バルブに更に接続され、キャニスター内の浸漬管がキャニスター出口バルブにつながり、ラインがプロセスライン遮断バルブをデバイスにつなげ、およびバルブ間の接続部がラインを含んで成ること；および
（ｉｉ）キャニスター内の圧力により化学物質の流れが生じて、化学物質が浸漬管を通ってキャニスターから出て、キャニスター出口バルブ、第３コントロール・バルブ、プロセスライン遮断バルブおよびラインを通ってデバイスへと流れるように、キャニスター内へ加圧ガスをキャニスター入口バルブを通じて導入すること。
【請求項１０】
１〜４つのマニホールド・ボックスに接続される第１バルク化学物質キャニスターを含んで成る、バルク化学物質供給システムであって、各マニホールド・ボックスは、少なくとも２つの流出ラインを有し、少なくとも１つの流出ラインは２次キャニスターにつながり、バルク・キャニスターが、キャビネット内に収容される輸送および格納カート内に収容され、２次キャニスターはバルク・キャニスターより小さい容量を有し、第１供給マニホールドがバルク・キャニスターおよびマニホールド・ボックスにつながり、バルク・キャニスターおよび第１供給マニホールドがキャビネットに収容されることを特徴とする、システム。
【請求項１１】
化学物質を含むキャニスターの補充に使用するためのマニホールドシステムであって、第１マニホールドを含んで成り、該第１マニホールドは、
真空供給バルブ；
真空源；
キャリヤーガス遮断バルブ；
キャニスター・バイパス・バルブ；
プロセス・ライン遮断バルブ；
第１コントロール・バルブ；
キャニスター入口バルブ；
キャニスター出口バルブ；
第２コントロール・バルブ；および
第３コントロール・バルブ
を含んで成り、
真空供給バルブは真空源に接続され、
真空源は第１コントロール・バルブに接続され、
第１コントロール・バルブは第２コントロール・バルブに接続され、
キャリヤーガス遮断バルブはキャニスター・バイパス・バルブに接続され、
キャニスター・バイパス・バルブは、キャリヤーガス遮断バルブおよび第２コントロール・バルブに更に接続され、
プロセス・ライン遮断バルブは第３コントロール・バルブに接続され、
キャニスター入口バルブは、第２コントロール・バルブおよび第３コントロール・バルブに接続され、および
キャニスター出口バルブは、第３コントロール・バルブに接続される、マニホールドシステム。
【図１】
【図１Ａ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図２Ｃ】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１Ａ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図２Ｃ】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【公開番号】特開２００９−１３５５２１（Ｐ２００９−１３５５２１Ａ）
【公開日】平成２１年６月１８日（２００９．６．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−３９３８５（Ｐ２００９−３９３８５）
【出願日】平成２１年２月２３日（２００９．２．２３）
【分割の表示】特願２０００−５０１８３０（Ｐ２０００−５０１８３０）の分割
【原出願日】平成１０年７月１０日（１９９８．７．１０）
【出願人】（５０００５１９９３）アドバンスト テクノロジー マテリアルズ，インコーポレイテッド (12)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年６月１８日（２００９．６．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月２３日（２００９．２．２３）
【分割の表示】特願２０００−５０１８３０（Ｐ２０００−５０１８３０）の分割
【原出願日】平成１０年７月１０日（１９９８．７．１０）
【出願人】（５０００５１９９３）アドバンスト テクノロジー マテリアルズ，インコーポレイテッド (12)
【Ｆターム（参考）】
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