有機半導体トランジスタ素子、その製造方法および半導体装置。
【課題】溶剤や樹脂に対する溶解性・相溶性に優れ高いキャリア移動度を有する電荷輸送性ポリエステルを用い動作が速く製造が容易な有機半導体トランジスタを提供する。
【解決手段】式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造を含む電荷輸送性ポリエーテルを含む有機半導体と、ゲート電極とを含む有機半導体トランジスタ素子。
〔Ａｒは芳香族基、Ｔは脂肪族基、ｍは０〜３の整数、Ｘは置換基を表す。〕
【解決手段】式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造を含む電荷輸送性ポリエーテルを含む有機半導体と、ゲート電極とを含む有機半導体トランジスタ素子。
〔Ａｒは芳香族基、Ｔは脂肪族基、ｍは０〜３の整数、Ｘは置換基を表す。〕
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機半導体を利用した有機半導体トランジスタ素子、これを用いた半導体装置および該有機半導体トランジスタ素子の製造方法に関するものであり、より詳細には、電子ペーパーあるいはデジタルペーパー、有機ＥＬ素子、電気泳動型表示素子、液晶素子等の表示素子の駆動回路、電子タグ、スマートカード等に用いる理論回路およびメモリー素子、ガスセンサー等の分野に好適に使用できる有機半導体トランジスタ素子、これを用いた半導体装置および該有機半導体トランジスタ素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタは、液晶表示素子等の表示用スイッチング素子として幅広く用いられている。従来、薄膜トランジスタは、アモルファスや多結晶のシリコンを用いて作製されている。しかし、このようなシリコンを用いた薄膜トランジスタの作製には、スパッタリング、ＣＶＤ装置、その他の真空系を用いた製造プロセスが用いられるが、大変高額である。さらには薄膜トランジスタを作製するために真空系の製造プロセスを繰り返し行い、半導体層等の各層を形成するため、薄膜トランジスタを用いた表示装置等の大型化は製造コストの大幅な増加を伴う問題点があった。
また、アモルファスや多結晶のシリコンを成膜するプロセスは非常に高い温度で行なわれ、基材として用いられる材料が限定されてしまう。従って、軽量でフレキシビリィがある樹脂基板等は使用できないという問題点があった。
【０００３】
一方、近年有機ＥＬ素子等に代表される有機半導体の研究が盛んに行なわれている。それとともにシリコン材料には無い軽量性、柔軟性という特徴を有する有機材料を回路に組み込もうとする研究が報告されるようになってきた。
このような薄膜トランジスタに用いる有機物としては、低分子化合物および高分子化合物が用いられる。低分子化合物としては、ペンタセン、テトラセン等のポリアセン化合物（例えば、特許文献１〜３参照）、銅フタロシアニン等のフタロシアニン化合物（例えば、特許文献４，５参照）が提案されている。
しかし、低分子化合物の場合、シリコンと同じ真空系を用いた製造プロセスを繰り返す必要があり、製造プロセス上の問題は依然解消されていない。
【０００４】
また、高分子化合物としては、セクシチオフェン等の芳香族オリゴマー（例えば、特許文献６参照）、ポリチオフェン、ポリチエニレンビニレン、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）等の高分子化合物（例えば、特許文献７〜１０、非特許文献１参照）が提案されている。
【０００５】
このような、高分子化合物は、可溶性が大きく、スピンコーティングやディプコーティングなど低コストの技術で成膜が可能であるので製造プロセスで有利であるが、キャリア移動度が低いという問題点があった。また、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）においては、可溶前駆体をスピンコート後、熱処理するため、主鎖共役系高分子中に欠陥が入りやすく電気特性を著しく低下させる問題点があった。
【特許文献１】特開平５−５５５６８号公報
【特許文献２】特開平１０−２７０７１２号公報
【特許文献３】特開２００１−９４１０７号公報
【特許文献４】特開平５−１９０８７７号公報
【特許文献５】特開２０００−１７４２７７号公報
【特許文献６】特開平８−２６４８０５号公報
【特許文献７】特開平８−２２８０３４号公報
【特許文献８】特開平８−２２８０３５号公報
【特許文献９】特開平１０−１２５９２４号公報
【特許文献１０】特開平１０−１９０００１号公報
【非特許文献１】Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．， Ｖｏｌ．７３，１０８（１９９８）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記問題点を解決することを課題とする。すなわち、溶剤や樹脂に対する溶解性及び相溶性に優れ、高いキャリア移動度を有する電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンを用い、動作速度が速く、且製造が容易な有機半導体トランジスタ素子およびその製造方法、並びに、前記有機半導体トランジスタ素子を用いた半導体装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題は以下の本発明により達成される。すなわち、本発明は、
＜１＞
ソース電極と、ドレイン電極と、前記ソース電極および前記ドレイン電極と導通可能に設けられた有機半導体と、該有機半導体に対して絶縁され且つ電場を印加することが可能なゲート電極とを少なくとも含む有機半導体トランジスタ素子において、
前記有機半導体が、少なくとも１種以上の下記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種を部分構造として含む繰り返し単位よりなる電荷輸送性ポリエーテルを１種以上含有することを特徴とする有機半導体トランジスタ素子である。
【化１】
〔一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）中、Ａｒは置換もしくは未置換の１価のベンゼン基、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の多核芳香族炭化水素、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の縮合芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の１価の複素環を表し、Ｔは炭素数１〜６の２価の直鎖状炭化水素基または炭素数２〜１０の２価の分枝鎖状炭化水素基を表し、ｍは０〜３の整数を表す。また、Ｘは、下記一般式（ＩＩ）で表される置換基を表す。〕
【化２】
〔一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１は、置換もしくは未置換の２価のベンゼン環、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の多核芳香族炭化水素、炭素数１〜５の２価のアルキル基、置換もしくは未置換の２価のシクロヘキサン、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の縮合多環芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の２価の複素環を表し、
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、水素原子、アルキル基、シアノ基、ハロゲン基、置換アミノ基、置換もしくは未置換のアリール基、または、置換もしくは未置換のアラルキル基を有し、それぞれ相違あるいは少なくとも二種以上が同一であってもよい。
また、ｑは１〜１０の整数を表し、ｒは０〜１０の整数を表し、ｕは０または１を表し、ｕとｒとの和は少なくとも１以上であり、ｒが０の場合は、Ａｒ１は置換または未置換のチエニレン基である。〕
【０００８】
＜２＞
前記有機半導体が、下記一般式（ＡＩＩＩ）で示される電荷輸送性ポリエーテルであることを特徴とする＜１＞に記載の有機半導体トランジスタ素子である。
【化３】
〔一般式（ＡＩＩＩ）において、Ａ１は前記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種以上を表し、ｐは５〜５０００の整数を表す。〕
【０００９】
＜３＞
＜１＞または＜２＞に記載の有機半導体トランジスタ素子を、溶媒中に溶解させた前記電荷輸送性ポリエーテルを少なくとも１種以上含む溶液を用いて製造する有機半導体トランジスタ素子の製造方法であって、
前記有機半導体が、前記溶液に外部刺激を付与して、前記溶液をノズルから液滴状に吐出させる方法を利用して形成されることを特徴とする有機半導体トランジスタ素子の製造方法である。
【００１０】
＜４＞
前記外部刺激が圧力であることを特徴とする＜３＞に記載の有機半導体トランジスタ素子の製造方法である。
【００１１】
＜５＞
溶媒中に溶解させた前記電荷輸送性ポリエーテルを少なくとも１種以上含む溶液を用い、前記溶媒を含んだ状態の塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記塗膜を乾燥させる乾燥工程とを少なくとも経ることにより＜１＞または＜２＞に記載の有機半導体トランジスタ素子を製造する有機半導体トランジスタ素子の製造方法であって、前記乾燥工程が、酸素濃度が１００ｐｐｍ以下、且つ、水分濃度が１００ｐｐｍ以下の環境下で実施されることを特徴とする有機半導体トランジスタ素子の製造方法である。
【００１２】
＜６＞
基板と、該基板上に設けられた１個以上の＜１＞または＜２＞に記載の有機半導体トランジスタ素子とを含む半導体装置である。
【００１３】
＜７＞
ソース電極と、ドレイン電極と、前記ソース電極および前記ドレイン電極と導通可能に設けられた有機半導体と、該有機半導体に対して絶縁され且つ電場を印加することが可能なゲート電極とを少なくとも含む有機半導体トランジスタ素子において、
前記有機半導体が、少なくとも１種以上の下記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種を部分構造として含む繰り返し単位よりなる電荷輸送性ポリウレタンを１種以上含有することを特徴とする有機半導体トランジスタ素子である。
【化４】
〔一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）中、Ａｒは置換もしくは未置換の１価のベンゼン基、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の多核芳香族炭化水素、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の縮合芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の１価の複素環を表し、Ｔは炭素数１〜６の２価の直鎖状炭化水素基または炭素数２〜１０の２価の分枝鎖状炭化水素基を表し、ｍは０〜３の整数を表す。また、Ｘは、下記一般式（ＩＩ）で表される置換基を表す。〕
【化５】
〔一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１は、置換もしくは未置換の２価のベンゼン環、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の多核芳香族炭化水素、炭素数１〜５の２価のアルキル基、置換もしくは未置換の２価のシクロヘキサン、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の縮合多環芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の２価の複素環を表し、
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、水素原子、アルキル基、シアノ基、ハロゲン基、置換アミノ基、置換もしくは未置換のアリール基、または、置換もしくは未置換のアラルキル基を有し、それぞれ相違あるいは少なくとも二種以上が同一であってもよい。
また、ｑは１〜１０の整数を表し、ｒは０〜１０の整数を表し、ｕは０または１を表し、ｕとｒとの和は少なくとも１以上であり、ｒが０の場合は、Ａｒ１は置換または未置換のチエニレン基である。〕
【００１４】
＜８＞
前記有機半導体が、下記一般式（ＢＩＩＩ−１）または（ＢＩＩＩ−２）で示される電荷輸送性ポリウレタンであることを特徴とする＜７＞に記載の有機半導体トランジスタ素子である。
【化６】
〔一般式（ＢＩＩＩ−１）および（ＢＩＩＩ−２）において、Ａ１は前記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種以上を表し、ＹおよびＺは２価のジイソシアネート、アルコールまたはアミン残基を表し、ｐは５〜５０００の整数を表す。〕
【００１５】
＜９＞
＜７＞または＜８＞に記載の有機半導体トランジスタ素子を、溶媒中に溶解させた前記電荷輸送性ポリウレタンを少なくとも１種以上含む溶液を用いて製造する有機半導体トランジスタ素子の製造方法であって、
前記有機半導体が、前記溶液に外部刺激を付与して、前記溶液をノズルから液滴状に吐出させる方法を利用して形成されることを特徴とする有機半導体トランジスタ素子の製造方法である。
【００１６】
＜１０＞
前記外部刺激が圧力であることを特徴とする＜９＞に記載の有機半導体トランジスタ素子の製造方法である。
【００１７】
＜１１＞
溶媒中に溶解させた前記電荷輸送性ポリウレタンを少なくとも１種以上含む溶液を用い、前記溶媒を含んだ状態の塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記塗膜を乾燥させる乾燥工程とを少なくとも経ることにより＜７＞または＜８＞に記載の有機半導体トランジスタ素子を製造する有機半導体トランジスタ素子の製造方法であって、前記乾燥工程が、酸素濃度が１００ｐｐｍ以下、且つ、水分濃度が１００ｐｐｍ以下の環境下で実施されることを特徴とする有機半導体トランジスタ素子の製造方法である。
【００１８】
＜１２＞
基板と、該基板上に設けられた１個以上の＜７＞または＜８＞に記載の有機半導体トランジスタ素子とを含む半導体装置である。
【発明の効果】
【００１９】
以上に説明したように本発明によれば、溶剤や樹脂に対する溶解性及び相溶性に優れ、高いキャリア移動度を有する電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンを用い、動作速度が速く、且製造が容易な有機半導体トランジスタ素子およびその製造方法、並びに、前記有機半導体トランジスタ素子を用いた半導体装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の有機半導体トランジスタ素子は、ソース電極と、ドレイン電極と、前記ソース電極および前記ドレイン電極と導通可能に設けられた有機半導体と、該有機半導体に対して絶縁され且つ電場を印加することが可能なゲート電極とを少なくとも含む有機半導体トランジスタ素子において、前記有機半導体が、少なくとも１種以上の下記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種を部分構造として含む繰り返し単位よりなる電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンを１種以上含有することを特徴とする。
この電荷輸送性ポリエーテルおよび電荷輸送性ポリウレタンは、動作時の熱安定性、溶剤や樹脂に対する溶解性及び相溶解性に優れる上にキャリア移動度が高く、さらに、本発明の有機半導体トランジスタ素子は、前記電荷輸送性ポリエーテルまたは前記電荷輸送性ポリウレタンを含有してなる有機半導体を有しているため、動作速度が速く且つ製造が容易である。
【００２１】
【化７】
【００２２】
式中、Ａｒは置換もしくは未置換の１価のベンゼン基、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の多核芳香族炭化水素、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の縮合芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の１価の複素環を表し、Ｔは炭素数１〜６の２価の直鎖状炭化水素基または炭素数２〜１０の２価の分枝鎖状炭化水素基を表し、ｍは０〜３の整数を表す。
また、Ｘは、下記一般式（ＩＩ）で表される置換基を表す。
【００２３】
【化８】
【００２４】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１は、置換もしくは未置換の２価のベンゼン環、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の多核芳香族炭化水素、炭素数１〜５の２価のアルキル基、置換もしくは未置換の２価のシクロヘキサン、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の縮合多環芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の２価の複素環を表し、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、水素原子、アルキル基、シアノ基、ハロゲン基、置換アミノ基、置換もしくは未置換のアリール基、または、置換もしくは未置換のアラルキル基を有し、それぞれ相違あるいは少なくとも二種以上が同一であってもよい。
また、ｑは１〜１０の整数を表し、ｒは０〜１０の整数を表し、ｕは０または１を表し、ｕとｒとの和は少なくとも１以上であり、ｒが０の場合は、Ａｒ１は置換または未置換のチエニレン基である。なお、ｒは１〜１０の範囲内であることが好ましく、ｒは１であることが特に好ましい。
【００２５】
一般式（Ｉ―１）、（Ｉ―２）および（ＩＩ）中において、ＡｒおよびＡｒ１を表す構造として選択される多核芳香族炭化水素及び縮合多環芳香族炭化水素は特に限定されない。なお、当該多核芳香族炭化水素及び縮合芳香族炭化水素とは、本発明においては、具体的には以下に定義されることを意味する。
すなわち、「多核芳香族炭化水素」とは、炭素と水素から構成される芳香環が２個以上存在し、環同士が炭素―炭素結合によって結合している炭化水素を表し、環同士が、ビニレン基あるいはエチニレン基を介して結合されているものも含む。具体的には、ビフェニル、ターフェニル等が挙げられる。
また、「縮合芳香族炭化水素」とは、炭素と水素から構成される芳香環が２個以上存在し、環同士が１対の炭素原子を共有している炭化水素を表す。具体的には、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、フルオレン等が挙げられる。
【００２６】
また、複素環は、その環骨格を構成する原子数（Ｎｒ）が、Ｎｒ＝５及び／又は６が好ましく用いられる。また、環骨格を構成する炭素原子以外の原子（異種原子）の種類及び数は特に限定されないが、例えば、硫黄原子、窒素原子、酸素原子等が好ましく用いられ、前記環骨格中には２種類以上及び／又は２個以上の異種原子が含まれてもよい。特に５員環構造をもつ複素環として、チオフェン、ピロール及びフラン、または、前記化合物の３位および４位の炭素を窒素で置き換えた複素環が好ましく用いられ、６員環構造を持つ複素環として、ピリジンが好ましく用いられる。
なお、上記の「多核芳香族炭化水素」や「縮合芳香族炭化水素」には、これら炭化水素基を構成する芳香環の少なくとも１つ以上を複素環に置換した炭化水素基も含まれる。
例えば、芳香環の一部を複素環に置換した多核芳香族炭化水素としては、ビフェニル基を構成する芳香環の少なくとも１つ以上をチオフェン等の複素環に置き換えたものや、ターフェニル基を構成するベンゼン環の少なくともひとつ以上をチオフェン等の複素環に置き換えたものなどが挙げられる。また、芳香環の少なくとも１つ以上を複素環に置換した縮合芳香族炭化水素としては、例えば、カルバゾール等が挙げられる。
また、アルキル基は、炭素数１〜５のアルキル基が挙げられる。
【００２７】
ＡｒおよびＡｒ１のベンゼン環、多核芳香族炭化水素、縮合多環芳香族炭化水素および複素環の置換基としては、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、置換アミノ基、ハロゲン原子、シアノ基等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１〜１０のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。アルコキシル基としては、炭素数１〜１０のものが好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。アリール基としては、炭素数６〜２０のものが好ましく、例えば、フェニル基、トルイル基等が挙げられ、アラルキル基としては、炭素数７〜２０のものが好ましく、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられ、Ａｒ基が縮合多環芳香族炭化水素である場合には、チオフェンの側鎖に一価のビニル基あるいはエチニル基を有するものも好適である。置換アミノ基の置換基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられ、具体例は前述の通りである。
【００２８】
なお、一般式（Ｉ−１）や（１−２）に示す構造を有する電荷輸送性ポリエーテルや電荷輸送性ポリウレタンにおいて、Ｘ基として一般式（ＩＩ）に示すようなチエニレン基を導入することによって、従来よりもキャリア移動度の向上を図り易くなる上に、電荷輸送性ポリエーテルや電荷輸送性ポリウレタンを溶媒に溶かして使用する場合に、使用可能な溶媒の選択肢も広げることができる。
このような効果が得られる詳細な理由は不明であるが、Ｘ基として一般式（ＩＩ）に示すようなチエニレン基を導入することにより、分子の平面性が増加して分子間のパッキングが向上するため、キャリア移動度が向上するものと考えられる。これに加えて、使用しようとする溶媒に対する親和性の高い官能基を分子中に導入しやすくなるため、電荷輸送性ポリエーテルや電荷輸送性ポリウレタンの溶媒に対する溶解性の制御が容易になり、使用可能な溶媒の選択肢も広げることができるものと考えられる。
【００２９】
Ｔは、炭素数１〜６の２価の直鎖状炭化水素基または炭素数２〜１０の２価の分枝鎖状炭化水素基を示し、好ましくは炭素数が２〜６の２価の直鎖状炭化水素基および炭素数３〜７の２価の分枝鎖状炭化水素基より選択される。具体的な構造を以下に示す。
【００３０】
【化９】
【００３１】
次に、表１〜３３に一般式（Ｉ−１）で示される構造の具体例を示し、表３４〜６４に一般式（Ｉ−２）で示される構造の具体例を示す。なお、表１〜６４中、ｍの値は特に限定されず０〜３のいずれでもよい。
【００３２】
【表１】
【００３３】
【表２】
【００３４】
【表３】
【００３５】
【表４】
【００３６】
【表５】
【００３７】
【表６】
【００３８】
【表７】
【００３９】
【表８】
【００４０】
【表９】
【００４１】
【表１０】
【００４２】
【表１１】
【００４３】
【表１２】
【００４４】
【表１３】
【００４５】
【表１４】
【００４６】
【表１５】
【００４７】
【表１６】
【００４８】
【表１７】
【００４９】
【表１８】
【００５０】
【表１９】
【００５１】
【表２０】
【００５２】
【表２１】
【００５３】
【表２２】
【００５４】
【表２３】
【００５５】
【表２４】
【００５６】
【表２５】
【００５７】
【表２６】
【００５８】
【表２７】
【００５９】
【表２８】
【００６０】
【表２９】
【００６１】
【表３０】
【００６２】
【表３１】
【００６３】
【表３２】
【００６４】
【表３３】
【００６５】
【表３４】
【００６６】
【表３５】
【００６７】
【表３６】
【００６８】
【表３７】
【００６９】
【表３８】
【００７０】
【表３９】
【００７１】
【表４０】
【００７２】
【表４１】
【００７３】
【表４２】
【００７４】
【表４３】
【００７５】
【表４４】
【００７６】
【表４５】
【００７７】
【表４６】
【００７８】
【表４７】
【００７９】
【表４８】
【００８０】
【表４９】
【００８１】
【表５０】
【００８２】
【表５１】
【００８３】
【表５２】
【００８４】
【表５３】
【００８５】
【表５４】
【００８６】
【表５５】
【００８７】
【表５６】
【００８８】
【表５７】
【００８９】
【表５８】
【００９０】
【表５９】
【００９１】
【表６０】
【００９２】
【表６１】
【００９３】
【表６２】
【００９４】
【表６３】
【００９５】
【表６４】
【００９６】
一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも一種を部分構造として繰り返し単位よりなる電荷輸送性ポリエーテルとしては、下記一般式（ＡＩＩＩ）で示されるものが好適に使用される。
【００９７】
【化１０】
【００９８】
一般式（ＡＩＩＩ）において、Ａ１は前記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種以上を表し、一つのポリマー中に２種類以上の構造Ａ１が含まれてもよい。一般式（ＡＩＩＩ）中、ｐは５〜５０００の整数を表す。
【００９９】
本発明で用いられる一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも一種を部分構造として繰り返し単位よりなる電荷輸送性ポリエーテルの重量平均分子量Ｍｗは、５０００〜３０００００の範囲にあるものが好ましい。
以下、一般式（ＡＩＩＩ）で示される上記の電荷輸送性ポリエーテルの具体例を 表６５〜表６７に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。尚、表６５〜表６７における、モノマーの欄の番号は、前記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造の具体例である構造番号に対応しており、表中のｍは一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）中におけるｍを意味する。以下、各番号を付した具体例（化合物）、例えばＡ１５の番号を付した具体例は表示化合物（Ａ１５）という。
【０１００】
【表６５】
【０１０１】
【表６６】
【０１０２】
【表６７】
【０１０３】
本発明の上記ポリエーテルは、下記一般式（ＡＩＶ）で示されるヒドロキシル基を有する化合物を分子間で縮合させることによって、容易に製造することができる。ここで、下記一般式（ＡＩＶ）におけるはＡ１は、前記一般式（ＡＩＩＩ）におけるＡ１と同様である。
【０１０４】
【化１１】
【０１０５】
具体的には前記ポリエーテルは、例えば、以下のように合成することができる。
１）上記ポリエーテルは、上記一般式（ＡＩＶ）のうち２個のヒドロキシアルキル基を有する化合物（以下、「モノマー」と略す）を加熱脱水縮合する方法によって上記電荷輸送性ポリエーテルを合成することができる。この場合、無溶媒でモノマーを加熱溶融し、水の脱離による重合反応を促進させるため減圧下で反応させることが望ましい。また、溶媒を使用する場合は、水の除去のため、水と共沸する溶媒、例えば、トリクロロエタン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、１−クロロナフタレン等が有効であり、モノマー１当量に対して、１〜１００当量、好ましくは２〜５０当量の範囲で用いられる。反応温度は任意に設定できるが、重合中に生成する水を除去するために、溶媒の沸点で反応させるのが好ましい。重合が進まない場合には、反応系から溶媒を除去し、粘ちょう状態で加熱撹拌してもよい。
【０１０６】
２）上記ポリエーテルは、酸触媒として、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸等のプロトン酸、あるいは塩化亜鉛等のルイス酸を用い脱水縮合する方法によって合成することもできる。この場合、モノマー１当量に対して、酸触媒を１〜１／１００００〜１／１０当量、好ましくは１／１０００〜１／５０当量の範囲で用いる。重合中に生成する水を除去するために、水と共沸可能な溶剤を用いるのが好ましい。溶剤としては、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、１−クロロナフタレン等が有効であり、モノマー１当量に対して、１〜１００当量、好ましくは２〜５０当量の範囲で用いられる。反応温度は任意に設定できるが、重合中に生成する水を除去するために、溶剤の沸点で反応させることが好ましい。
【０１０７】
３）上記モノマーは、イソシアン化シクロヘキシル等のイソシアン化アルキル、シアンン化シクロヘキシル等のイソシアン化アルキル、シアン酸ｐ−トリルや２，２−ビス（４−シアナートフェニル）プロパン等のシアン酸エステル、ジクロロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、トリクロロアセトニトリル等の縮合剤を用いる方法によっても合成することができる。この場合、縮合剤は、モノマー１当量に対して、１／２〜１０当量、好ましくは１〜３当量の範囲で用いられる。溶剤として、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、１−クロロナフタレン等が有効であり、モノマー１当量に対して、１〜１００当量、好ましくは２〜５０当量の範囲で用いられる。反応温度は任意に設定できるが、室温から溶剤の沸点で反応させることが好ましい。上記１）、２）および３）の合成法のうち、異性化や副反応が起こりにくいことから、合成法１）または３）が好ましい。特に、合成法３）は反応条件がより穏和なことからより好ましい。
【０１０８】
反応終了後、溶剤を用いなかった場合は溶解可能な溶剤に溶解させる。溶剤を用いた場合には、そのまま、メタノール、エタノール等のアルコール類や、アセトン等の非共役系高分子が溶解しにくい貧溶剤中に滴下し、ポリエーテルを析出させ、ポリエーテルを分離した後、水や有機溶剤で十分に洗浄し、乾燥させる。さらに必要であれば、適当な有機溶剤に溶解させ、貧溶剤中に滴下し、モノマーを析出させる再沈澱処理を繰り返してもよい。再沈澱処理の際には、メカニカルスターラー等で、効率よく撹拌しながら行うことが好ましい。再沈澱処理の際にポリエーテルを溶解させる溶剤は、ポリエーテル１当量に対して、１〜１００当量、好ましくは２〜５０当量の範囲で用いられる。また、貧溶剤はポリエーテル１当量に対して、１〜１０００当量、好ましくは１０〜５００当量の範囲で用いられる。さらに、上記反応において、モノマーを２種以上、好ましくは２〜５種、さらに好ましくは２〜３種用いることにより、共重合ポリマーの合成も可能である。異種のモノマーを共重合することによって、電気特性、成膜性、溶解性および蛍光特性を制御することができる。
【０１０９】
ポリエーテルの重合度は、低すぎると成膜性に劣り、強固な膜が得られにくく、また、高すぎると溶剤への溶解度が低くなり、加工性が悪くなるため、ｐは５〜５０００の範囲に設定され、好ましくは１０〜３０００、より好ましくは１５〜１０００の範囲である。
また、ポリマーの末端は、モノマーと同様にヒドロキシル基、すなわち末端基が水素原子であってよいが、溶解性、成膜性、モビリティー等のポリマー物性に影響を及ぼす場合には、末端基を修飾し物性を制御することができる。例えば、末端のヒドロキシル基を、硫酸アルキル、ヨウ化アルキル等でアルキルエーテル化することができる。具体的な試薬としては、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル等から任意に選ぶことができ、末端のヒドロキシル基に対し１〜３当量、好ましくは１〜２当量の範囲で用いる。その際、塩基触媒を用いることができるが、塩基触媒として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、ナトリウム金属等から任意に選ぶことができ、末端のヒドロキシル基に対し〜３当量、好ましくは１〜２当量の範囲で用いる。
【０１１０】
反応温度は、０℃から使用する溶剤の沸点で行うことができる。また、その際用いる溶剤として、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の不活性溶剤から選んだ単独溶剤、あるいは２〜３種の混合溶剤が使用できる。
また、反応によっては、相間移動触媒としてテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムアイオダイド等の第４級アンモニウム塩を使用することもできる。また、末端のヒドロキシル基に酸ハロゲン化物を用いアシル化して、末端基をアシル基にすることもできる。酸ハロゲン化物は特に限定するものではないが、例えばアクリロイルクロリド、クロトノイルクロリド、メタクリロイルクロリド、ｎ−ブチルクロリド、２−フロイルクロリド、ベンゾイルクロリド、シクロヘキサンカルボニルクロリド、エナンチルクロリド、フェニルアセチルクロリド、ｏ−トルオイルクロリド、ｍ−トルオイルクロリド、ｐ−トルオイルクロリド等があげられ、末端のヒドロキシル基に対し１〜３当量、好ましくは１〜２当量の範囲で用いる。その際、塩基触媒を用いることができるが、塩基触媒としては、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン等から任意に選ぶことができ、酸クロリドに対し１〜３当量、好ましくは１〜２当量の範囲で用いる。その際用いる溶剤として、ベンゼン、トルエン、塩化メチルン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン等があげられる。反応は、０℃から溶剤の沸点で行うことができる。好ましくは、０℃から３０℃の範囲で行う。さらに、無水酢酸等の酸無水物を用いてもアシル化することができる。溶剤を用いる場合は、具体的には、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン等の不活性溶剤を使用することができる。反応は、０℃から溶剤の沸点で行うことができる。好ましくは、４０℃から溶剤の沸点で行えばよい。
【０１１１】
そのほか、モノイソシアネートを用い、末端にウレタン残基（−ＣＯＮＨ−Ｒ’）を導入することができる。具体的なモノイソシアネートとしては、イソシアン酸ベンジルエステル、イソシアン酸ｎ−ブチルエステル、イソシアン酸ｔ−ブチルエステル、イソシアン酸シクロヘキシルエステル、イソシアン酸２，６−ジメチルエステル、イソシアン酸エチルエステル、イソシアン酸イソプロピルエステル、イソシアン酸２−メトキシフェニルエステル、イソシアン酸４−メトキシフェニルエステル、イソシアン酸ｎ−オクタデシルエステル、イソシアン酸フェニルエステル、イソシアン酸ｉ−プロピルエステル、イソシアン酸ｍ−トリルエステル、イソシアン酸ｐ−トリルエステル、イソシアン酸１−ナフチルエステル等から任意に選ぶことができ、末端のヒドロキシル基に対し１〜３当量、好ましくは１〜２当量の範囲で用いる。その際用いる溶剤として、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等をあげることができる。反応温度は、０℃から使用溶剤の沸点で行うことができる。反応が進みにくい場合は、ジラウリン酸ジブチルスズ（ＩＩ）、オクチル酸スズ（ＩＩ）、ナフテン酸鉛等の金属化合物、あるいはトリエチルアミン、トリメチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン等の３級アミンを触媒として添加することもできる。
【０１１２】
一般式（Ｉ−１）及び（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種を部分構造として含む繰り返し単位よりなる電荷輸送性ポリウレタンとしては下記一般式（ＢＩＩＩ−１）および（ＢＩＩＩ−２）で示されるものが好適に用いられる。
【０１１３】
【化１２】
【０１１４】
一般式（ＢＩＩＩ−１）および（ＢＩＩＩ−２）中、Ａ１は前記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種以上を表し、ＹおよびＺは２価のジイソシアネート、アルコールまたはアミン残基を表し、ｐは５〜５０００の整数を表す。
一般式（ＢＩＩＩ−１）及び（ＢＩＩＩ−２）中、Ａ１は一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種を表し、一つのポリマー中に２種以上の構造Ａ１が含まれていてもよい。
【０１１５】
一般式（ＢＩＩＩ−１）及び（ＢＩＩＩ−２）中、ＹおよびＺは２価のジイソシアネート、アルコール、または、アミン残基を表す。ＹおよびＺは、具体的には下記の式（１）から（７）から選択された基が挙げられるが、これに限定するものではない。
【０１１６】
【化１３】
【０１１７】
式（１）から（７）中、Ｒ１８およびＲ１９は、それぞれ水素原子、炭素数１から４のアルキル基、炭素数１から４のアルコキシ基、置換もしくは未置換のフェニル基、置換もしくは未置換のアラルキル基、またはハロゲン原子を表し、ｄおよびｅはそれぞれ１から１０の整数を意味し、ｆおよびｇは、それぞれ０，１または２の整数を意味し、ｈおよびｉはそれぞれ０または１を意味し、Ｖは下記の式（８）〜（２８）から選択された基を表す。
【０１１８】
【化１４】
【０１１９】
式（８）〜（２８）中、Ｒ２０からＲ２１は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシル基、置換もしくは未置換のフェニル基、または置換もしくは未置換のアラルキル基、またはハロゲン原子を、ｂ、ｃは０〜１０の整数を意味する。また、Ｒ１９は式（７）に示されるＲ１９と同様である。
一般式（ＢＩＩＩ−１）または（ＢＩＩＩ−２）式中、重合度を表わすｐは５〜５０００の範囲であるが、好ましくは１０〜１,０００の範囲である。
本発明に用いられる電荷輸送性ポリウレタンの重量平均分子量Ｍｗは５,０００〜１,０００,０００の範囲であるが、１０,０００〜３００,０００の範囲にあるのが好ましい。
【０１２０】
下記表６８〜表７２に一般式（ＢＩＩＩ−１）および（ＢＩＩＩ−２）で表される電荷輸送性ポリウレタンの具体例を示すが、本発明はこれら具体例に限定されるものではない。
なお、表６８〜表７２において、モノマーの列のＡ１の欄の記号は、前記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造の具体例で示した構造番号に対応しており、表中のｍは一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）中におけるｍを意味する。また、表６８〜表７２中、Ｚの欄が「−」であるものは一般式（ＢＩＩＩ−１）で示される電荷輸送性ポリウレタンの具体例を示し、Ｙの欄が「−」であるものは一般式（ＢＩＩＩ−２）で示される電荷輸送性ポリウレタンの具体例を示す。以下、各番号を付した具体例、例えばＢ１５の番号を付した具体例は例示化合物（Ｂ１５）という。
【０１２１】
【表６８】
【０１２２】
【表６９】
【０１２３】
【表７０】
【０１２４】
【表７１】
【０１２５】
【表７２】
【０１２６】
本発明に用いられる電荷輸送性ポリウレタンは、下記構造式（ＢＩＶ−１）〜（ＢＩＶ−４）で示される電荷輸送性モノマーを、例えば、第４版実験化学講座第２８巻（丸善、１９９２）、新高分子実験学第２巻（共立出版、１９９５）等に記載された公知の方法で重合させることによって合成することができる。なお、構造式（ＢＩＶ−１）〜（ＢＩＶ−４）中、Ａ１、は、前記一般式（ＢＩＩＩ−１）または（ＢＩＩＩ−２）におけるＡ１と同様である。
【０１２７】
【化１５】
【０１２８】
具体的には、構造式（ＢＩＶ−１）または（ＢＩＶ−２）で示される電荷輸送性モノマーを用いる場合、電荷輸送性ポリウレタンは、次のようにして合成することができる。電荷輸送性モノマーが構造式（ＢＩＶ−１）で示される２価アルコールの場合には、ＯＣＮ−Ｙ−ＮＣＯで示されるジイソシアネート類と当量混合し、また、電荷輸送性モノマーが構造式（ＢＩＶ−２）で示されるジイソシアネート類の場合にはＨＯ−Ｙ−ＯＨで示される２価アルコール類と当量混合し、重付加する。触媒としてはジラウリル酸ジブチルスズ（ＩＩ）、二酢酸ジブチルスズ（ＩＩ）、ナフテン酸鉛等の有機金属化合物といった通常の重付加によるポリウレタン合成反応に用いるものが使用できる。また、芳香族系のジイソシアネートを電荷輸送性ポリウレタンの合成に用いる場合には、トリエチレンジアミン等の第３アミンを触媒として用いることができる。これら有機金属化合物と第３アミンは触媒として混合して用いてもよい。
【０１２９】
触媒の量は電荷輸送性モノマー１重量部に対して、１／１０,０００〜１／１０重量部、好ましくは１／１,０００〜１／５０重量部の範囲で用いられる。溶剤は電荷輸送性モノマージイソシアネート、もしくは２価アルコール類を溶解するものであれば、任意の溶剤を用いることができる。反応性の点から極性の低い溶剤やアルコールと水素結合を生じない溶剤を用いることが好ましく、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、１−クロロナフタレン等が有効である。溶剤の量は電荷輸送性モノマー１重量部に対して、１〜１００重量部、好ましくは２〜５０重量部の範囲で用いられる。反応温度は任意に設定できる。
【０１３０】
反応終了後は、反応溶液をそのまま、メタノール、エタノール等のアルコール類や、アセトン等のポリマーが溶解しにくい貧溶剤中に滴下し、電荷輸送性ポリウレタンを析出させ、電荷輸送性ポリウレタンを分離した後、水や有機溶剤で十分洗浄し、乾燥させる。更に、必要であれば適当な有機溶剤に溶解させ、貧溶剤中に滴下し、電荷輸送性ポリウレタンを析出させる再沈殿処理を繰り返してもよい。再沈殿処理の際には、メカニカルスターラー等で、効率よく撹拌しながら行うことが好ましい。再沈殿処理の際に電荷輸送性ポリウレタンを溶解させる溶剤は、電荷輸送性ポリウレタン1重量部に対して、１〜１００重量部、好ましくは２〜５０重量部の範囲で用いられる。また、貧溶剤は電荷輸送性ポリウレタン１重量部に対して、１〜１,０００重量部、好ましくは１０〜５００重量部の範囲で用いられる。
【０１３１】
構造式（ＢＩＶ−３）及び（ＢＩＶ−４）で示される電荷輸送性モノマーを用いる場合、電荷輸送性ポリウレタンは、次のようにして合成することができる。電荷輸送性モノマーが構造式（ＢＩＶ−３）で示されるビスクロロホルメートの場合には、Ｈ２Ｎ−Ｙ−ＮＨ２で示されるジアミン類と当量混合し、また、電荷輸送性モノマーが構造式（ＢＩＶ−４）で示されるジアミン類の場合には、ＣｌＯＣＯ−Ｙ−ＯＣＯＣｌで示されるビスクロロホルメート類と当量混合し、重縮合する。
溶剤としては塩化メチレン、ジクロロエタン、ジクロロエタン、トルクロロエタン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、トルエン、クロロベンゼン、１−クロロナフタレン等が有効であり、電荷輸送性モノマー１重量部に対して、１〜１００重量部、好ましくは２〜５０重量部の範囲で用いられる。反応温度は任意に設定できる。重合後は前述のように再沈殿処理により精製する。
【０１３２】
また、Ｈ２Ｎ−Ｙ−ＮＨ２で示されるジアミン類が塩基性度の高い場合には、界面重合法も用いることができる。すなわち、ジアミン類を水に加え、当量の酸を加えて溶解させた後、激しく攪拌しながらジアミン類と前述の構造式（ＢＩＶ−３）で示される電荷輸送性モノマー溶液を加えることによって重合できる。この際、水はジアミン類１重量部に対して、１〜１,０００重量部、好ましくは１０〜５００重量部の範囲で用いられる。電荷輸送性モノマーを溶解させる溶剤としては、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクトトエタン、トルエン、クロロベンゼン、１−クロロナフタレン等が有効である。反応温度は任意に設定でき、反応を促進させるために、アンモニウム塩、スルホニウム塩等の相間移動触媒を用いることが効果的である。相関移動触媒は、電荷輸送性モノマー１重量部に対して、０.１〜１０重量部、好ましくは０.２〜５重量部の範囲で用いられる。
【０１３３】
次に、本発明の有機半導体トランジスタ素子の構成について具体例を挙げて詳細に説明する。
本発明の有機半導体トランジスタ素子は、ソース電極と、ドレイン電極と、前記ソース電極および前記ドレイン電極と導通可能に設けられた有機半導体と、該有機半導体に対して絶縁され且つ電場を印加することが可能なゲート電極と、を少なくとも含む構成を有するものである。
ここで、前記有機半導体には上記に説明した少なくとも１種以上の電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンが含まれる。なお、本発明の有機半導体トランジスタ素子の形状は、必要に応じて、所望の形状とすることができるが、薄膜状であることが好ましい。
【０１３４】
以下、図を参照しつつ、本発明の有機半導体トランジスタ素子の構成についてより詳細に説明するが、これに限定されるわけではない。
図１〜図３は、本発明の有機半導体トランジスタ素子の構成の一例を示す模式断面図である。ここで、図１および２は、本発明の有機半導体トランジスタ素子が、電界効果トランジスタ（ＦＩｅｌｄ Ｅｆｆｅｃｔ ＴｒａｎｓＩｓｔｏｒ）構造を有している場合について示したものである。また、図３は、本発明の有機半導体トランジスタ素子が、静電誘導トランジスタ（ＳｔａｔＩｃ ＩｎｄｕｃｔＩｏｎ ＴｒａｎｓＩｔｏｒ）構造を有している場合について示したものである。
【０１３５】
図１〜３中、機能が共通する部材には同一の符号が付してあり、１が基板、２がソース電極、３がドレイン電極、４が有機半導体層、５がゲート電極、６が絶縁層を表す。以下、図１〜３に示す本発明の有機半導体トランジスタ素子の構成について順に説明する。
図１に示す本発明の有機半導体トランジスタ素子は、基板１上にゲート電極５、絶縁層６がこの順に設けられ、この絶縁層６上に、ソース電極２およびドレイン電極３とが離間した位置に設けられると共に、ソース電極２およびドレイン電極３を被覆するように有機半導体層４が設けられている。
【０１３６】
また、図２に示す本発明の有機半導体トランジスタ素子は、基板１状にゲート電極５、絶縁層６がこの順に設けられ、この絶縁層６上に、ソース電極２、および、このソース電極２の絶縁層６と接する側と反対側の面も覆うように有機半導体層４が設けられている。さらに、ドレイン電極３が、有機半導体層４の絶縁層６が設けられた側と反対側の面上で、ソース電極２に対して基板１の平面方向に離間した位置に設けられている。
さらに、図３に示す本発明の有機半導体トランジスタ素子は、基板１上にソース電極２、有機半導体層４、ドレイン電極３がこの順に積層され、複数のゲート電極５が、有機半導体層４中に設けられる（図３に示す例では、４つのゲート電極５が、基板１の平面方向と平行且つ等間隔に配置されている）。
【０１３７】
なお、ゲート電極５は、紙面に対して垂直方向に、ソース電極２及びドレイン電極３の双方と平行になるように配置され、各々のゲート電極５同士も相互に平行となるように設けられている。また、図３中、ゲート電極５と、有機半導体層４とは、両者の界面に設けられた不図示の絶縁層により絶縁されている。
図１〜図３に示すような有機半導体トランジスタ素子においては、ゲート電極５に印加される電圧によってソース電極２とドレイン電極３との間に流れる電流を制御することができる。
【０１３８】
なお、本発明の有機半導体トランジスタ素子を用いて、何らかの電子デバイスを作製する場合には、基板上に、１個以上の本発明の有機半導体トランジスタ素子を搭載した構成（半導体装置）として利用することができ、この半導体装置に、さらに他の素子や回路等を組み合わせることにより所望の電子デバイスを作製することができる。
【０１３９】
次に、有機半導体部分を除く、本発明の有機半導体素子や半導体装置を構成する各部材について詳細に説明する。
ソース電極、ドレイン電極およびゲート電極に用いられる電極材料としては、効率よく電荷注入することができる材料が用いられ、具体的には、金属、金属酸化物、導電性高分子等が使用される。
金属としてはマグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、クロム、タンタル、インジウム、パラジウム、リチウム、カルシウムおよびこれらの合金が挙げられる。金属酸化物としては、酸化リチウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化スズインジウム（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＮＥＳＡ）、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化インジウム亜鉛等の金属酸化膜があげられる。
【０１４０】
導電性高分子としては、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリチオフェン誘導体、ポリピロール、ポリピリジン、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸の錯体等があげられる。
また、電極に用いられる材料と有機半導体（層）に用いられる上述した高分子化合物とのイオン化ポテンシャルの差が大きいと電荷注入特性が悪くなるため、ドレイン電極および／またはソース電極に用いられる材料のイオン化ポテンシャルと、有機半導体（層）に用いられる高分子化合物とのイオン化ポテンシャルの差が１．０ｅＶ以内であることが好ましく、特に０．５ｅｖ以内であることがさらに好ましい。また、このような電極−高分子化合物間のイオン化ポテンシャルの差という観点からは、電極材料としては、特にＡｕを用いることが好ましい。
【０１４１】
電極の形成方法としては、上記の電極材料を蒸着法や、スパッタ等の公知の薄膜形成方法を用いて作製した薄膜を、公知のフォトリソグラフィー法やリフトオフ法を利用して形成したり、インクジェット等によりレジストを用いて所望のパターン（電極形状）にエッチングする方法や、アルミニウムなどの電極材料を直接熱転写する方法が利用できる。また、電極材料として導電性高分子を用いる場合には、これを溶媒に溶解させ、インクジェット等によりパターニングしても良い。
【０１４２】
各電極間や、ゲート電極と有機半導体（層）とを絶縁する絶縁部材としては、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化タンタル、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機物、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリススチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレンブタジエン共重合体、塩化ビニルデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂等の有機絶縁高分子等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０１４３】
基板としては、リン等を高濃度にドープしたシリコン単結晶やガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリススチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレンブタジエン共重合体、塩化ビニルデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂等のプラスチック基板等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０１４４】
特に、電子ペーパーまたはデジタルペーパーや携帯電子機器等の可撓性を求められる電子デバイス（以下、「可撓性電子デバイス」と称す）に用いられる電子回路に本発明の有機半導体トランジスタ素子を用いる場合、基板として可撓性がある基板を用いることが望ましい。特に基板として曲げ弾性率が１０００ＭＰａ以上、より好ましくは５０００ＭＰａ以上である基板を用いることにより可撓性がある表示素子の駆動回路や電子回路に適応させることができる。
【０１４５】
これは、本発明の有機半導体トランジスタ素子は、有機半導体部分が、上述したような高分子化合物を主成分として含むために十分な弾性を有しており、可撓性のある基板上に素子を形成しても、大きな変形や、変形の繰り返しに耐え、安定した性能を維持し続けることができるためである。一方、無機半導体トランジスタ素子では、半導体部分が無機材料からなるため、弾性に欠けているため、このような変形を前提とした使用は極めて困難である。さらに無機半導体トランジスタ素子を作製するプロセスは、高温を必要とするため基板にプラスチックを用いることが出来ないという不具合がある。また、有機半導体部分が低分子材料を主成分とするような有機半導体トランジスタ素子においても、高分子材料のような弾性には欠けているため、このような変形を前提とした使用は困難であるか、あるいは、信頼性に劣る。
【０１４６】
なお、本発明において、「可撓性電子デバイス」とは、〔１〕その使用態様が、上述した電子ペーパーやデジタルペーパー等のように、電源のオン／オフ状態に係わらず、平坦な状態から曲げたり、撓ませたり、屈曲させたりした状態としたり、あるいは、その逆の態様で使用することが可能であり、〔２〕その構成が、基板と、該基板上に１個以上設けられた有機半導体トランジスタ素子とを少なくとも含み、〔３〕上記〔１〕項に説明したような可撓性が、有機半導体トランジスタ素子が設けられた基板部分において少なくとも求められる電子デバイスを意味する。
【０１４７】
有機半導体部分を層状に形成する方法としては、特に液相成膜法を用いることが好ましく、例えば、スピンコート法、キャステング法、ディップ法、ダイコート法、ロールコート法、バーコート法、インクジェット法、および各印刷手法等が用いられるが、これに限定されるものではない。
しかしながら、塗布後のエッチングによるパターン形成が不要であるため、製造工程が簡略化でき、また、有機半導体トランジスタ素子を大面積の基板上に多数形成する上でも高い生産性を得ることができるインクジェット法を利用することが好ましい。
すなわち、インクジェットプリンターに利用されているインクジェット記録による画像形成技術を、有機半導体トランジスタ素子の有機半導体部分の形成に利用することができる。
【０１４８】
この場合、インクの代わりに、溶媒中に溶解させた電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンを少なくとも１種以上含む溶液（以下、インクジェット印刷にのみ利用する場合を「インクジェット用有機半導体溶液」と称し、インクジェット印刷に限定しない場合は単に「有機半導体溶液」と称す場合がある）を用いて、液滴吐出ヘッドのノズルから液滴状の有機半導体溶液を吐出させることによって、基板上の所望の位置に所望の膜厚・形状の有機半導体を形成することができる。
【０１４９】
また、液滴吐出ヘッドとしても、基本的な構成や原理は、インクジェットプリンターに用いられている記録ヘッドと同様のものが利用できる。すなわち、有機半導体溶液に圧力や熱等の外部刺激を付与することによって、インクジェット用有機半導体溶液をノズルから液滴状に吐出する方法（いわゆる圧電素子を用いたピエゾインクジェット方式、熱沸騰現象を利用した熱インクジェット方式等）が利用できる。
【０１５０】
しかしながら、本発明の有機半導体トランジスタ素子の製造に際しては、外部刺激は熱よりも圧力であることがより好ましい。外部刺激が熱である場合には、インクジェット用有機半導体溶液のノズルからの吐出から、基板上へ着弾した有機半導体溶液の溶媒の揮発による塗膜の形成（固化）というインクジェット印刷プロセスにおいて、インクジェット用有機半導体溶液の粘度が熱によって大きく変化してしまうため、レベリング性やパターニング精度の制御が困難になる場合がある。これに加えて、耐熱性に劣る電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンが利用できなくなり、材料選択肢が狭くなってしまう場合がある。
【０１５１】
また、インクジェット法を利用した本発明の有機半導体トランジスタ素子の製造に用いられる装置としては、上述した液滴吐出ヘッドの他に、必要に応じて、例えば、有機半導体トランジスタ素子を形成する対象である基板等の固定あるいは搬送手段や、液滴吐出ヘッドを基板平面方向に対して走査する液滴吐出ヘッド走査手段等を有していてもよい。
なお、インクジェット用有機半導体溶液は、上述したように電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンと、溶媒とを少なくとも含むものであればその組成や物性は特に限定されるものではないが、インクジェット用有機半導体溶液の粘度は、形成される膜厚によって異なるが、おおよそ２５℃において０．０１〜１０００ｃｐｓの範囲内であることが好ましく、１〜１００ｃｐｓの範囲内であることが好ましい。
【０１５２】
粘度が０．０１ｃｐｓ未満である場合には、基板上に着弾した有機半導体溶液が、基板平面方向に広がり易く、膜厚の制御が困難となったり、パターニング精度が劣化してしまう場合がある。また、粘度が１０００ｃｐｓを超える場合には、インクジェット用有機半導体溶液の粘性が高すぎるために吐出不良を起こしやすくなる場合がある。
なお、インクジェット用有機半導体溶液の粘度は、電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンや、必要に応じて添加されるその他の添加剤成分の含有量や、電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンの分子量等を制御することによって、所望の値に調整することができる。
【０１５３】
インクジェット用有機半導体溶液に用いられる溶媒としては、電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンを溶解できるものであれば特に限定されないが、例えば、有機溶媒、例えば、炭化水素系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、ハロゲン系溶媒、アルコール系溶媒等や、水、またこれらの混合溶媒等を挙げることができる。
ここで、前記炭化水素系溶媒としては、例えば、トルエン、ベンゼン、キシレン、ヘキサン、オクタン、ヘキサデカン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ラクトン、テトラリン、クメンなどが挙げられ、前記エステル系溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミルなどが挙げられ、前記エーテル系溶媒としては、例えば、ジブチルエーテル、ジベンジルエーテルなどが挙げられ、前記ハロゲン系溶媒としては、例えば、１，１−ジクロロエタン、１−フルオロエタン、２，２，２−トリフルオロエタン、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロパン、クロロホルム、四塩化炭素、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼンなどが挙げられ、前記アルコール系溶媒としては、メタノール、エタノール、Ｉ−プロピルアルコールなどが挙げられる。
【０１５４】
なお、上述したようなインクジェット法やその他の液相成膜法を利用して有機半導体トランジスタ素子を製造する場合、有機半導体部分は、有機半導体溶液を用い、溶媒を含んだ状態の塗膜を形成する塗膜形成工程と、この塗膜を乾燥させて有機半導体からなる膜を形成する乾燥工程とを少なくとも経ることによって形成される。
ここで、乾燥工程は、酸素濃度が１００ｐｐｍ以下、且つ、水分濃度が１００ｐｐｍ以下の環境下で実施されることが好ましい。酸素濃度や水分濃度が１００ｐｐｍを超えると雰囲気中に酸素分子や水分子として存在する酸素原子が、電荷輸送性ポリエーテルを劣化させてしまう場合があり、乾燥時の加熱処理温度が高いとこのような劣化がより起こりやすくなるためである。
【０１５５】
なお、酸素濃度は５０ｐｐｍ以下であることがより好ましく、１０ｐｐｍ以下であることが更に好ましい。また、水分濃度は５０ｐｐｍ以下であることがより好ましく、１０ｐｐｍ以下であることが更に好ましい。
【０１５６】
さらに水分や酸素による有機半導体トランジスタ素子の劣化を防ぐために保護層を設けてもよい。具体的な保護層の材料としては、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ等の金属、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物、ポリエチレン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂等の樹脂が挙げられる。保護層の形成には、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマ重合法、ＣＶＤ法、コーティング法が適用できる。
以上に説明したように本発明の有機半導体トランジスタ素子は、有機半導体部分に使用する高分子化合物の種類や、素子の構成等を適宜選択することにより、オン／オフ比を１０２〜１０５程度の範囲内で有機半導体トランジスタ素子の用途に応じて調整することができる。
【実施例】
【０１５７】
以下、本発明を、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。だだし、これら各実施例は、本発明を制限するものではない。
（実施例Ａ１）
ガラス基板上に真空蒸着により金を１００ｎｍの膜厚で成膜し、ゲート電極とした。次いで、ゲート電極上にスパッタリングによりＳｉＯ２を３００ｎｍの膜厚で絶縁層を形成し、更に、ソース電極およびドレイン電極として金属マスクを通して金を１５０ｎｍの膜厚で成膜した。なお、ソース電極およびドレイン電極の間隔は５０μｍである。
その後、ソース電極およびドレイン電極と導通可能なように、例示化合物（Ａ１）を５重量％含むジクロロエタン溶液を目開き０．１μｍのＰＴＦＥフィルターで濾過した有機半導体溶液を、ディップ法により厚さ０．１５μｍの薄膜を形成し、有機半導体トランジスタ素子を作製した。
なお、有機半導体薄膜は、予めソース電極とドレイン電極とが対向する領域と、この領域に接したソース電極およびドレイン電極の一部を除いてレジストによりマスキングした状態でディップ法により塗膜を形成し、続いて、この塗膜を酸素濃度が５ｐｐｍ、水分濃度が５ｐｐｍの不活性ガス雰囲気下で１３０℃に乾燥処理するプロセスを経て形成した。
【０１５８】
（実施例Ａ２）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ４）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１５９】
（実施例Ａ３）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ６）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６０】
（実施例Ａ４）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ９）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６１】
（実施例Ａ５）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ１４）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６２】
（実施例Ａ６）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）代わりに例示化合物（Ａ１７）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６３】
（実施例Ａ７）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ１８）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６４】
（実施例Ａ８）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ２１）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６５】
（実施例Ａ９）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ２５）いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６６】
（実施例Ａ１０）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ２８）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６７】
（実施例Ａ１１）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ３６）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６８】
（実施例Ａ１２）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ５９）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６９】
（実施例Ｂ１）
ガラス基板上に真空蒸着により金を１００ｎｍの膜厚で成膜し、ゲート電極とした。次いで、ゲート電極上にスパッタリングによりＳｉＯ２を３００ｎｍの膜厚で絶縁層を形成し、更に、ソース電極およびドレイン電極として金属マスクを通して金を１５０ｎｍの膜厚で成膜した。なお、ソース電極およびドレイン電極の間隔は５０μｍである。
その後、ソース電極およびドレイン電極と導通可能なように、例示化合物（Ｂ１）を５重量％含むジクロロエタン溶液を目開き０．１μｍのＰＴＦＥフィルターで濾過した有機半導体溶液を、ディップ法により厚さ０．１５μｍの薄膜を形成し、有機半導体トランジスタ素子を作製した。
なお、有機半導体薄膜は、予めソース電極とドレイン電極とが対向する領域と、この領域に接したソース電極およびドレイン電極の一部を除いてレジストによりマスキングした状態でディップ法により塗膜を形成し、続いて、この塗膜を酸素濃度が５ｐｐｍ、水分濃度が５ｐｐｍの不活性ガス雰囲気下で１３０℃に乾燥処理するプロセスを経て形成した。
【０１７０】
（実施例Ｂ２）
実施例Ｂ１で用いた例示化合物（Ｂ１）の代わりに例示化合物（Ｂ１２）を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１７１】
（実施例Ｂ３）
実施例Ｂ１で用いた例示化合物（Ｂ１）の代わりに例示化合物（Ｂ２０）を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１７２】
（実施例Ｂ４）
実施例Ｂ１で用いた例示化合物（Ｂ１）の代わりに例示化合物（Ｂ２２）を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１７３】
（実施例Ｂ５）
実施例Ｂ１で用いた例示化合物（Ｂ１）の代わりに例示化合物（Ｂ３１）を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１７４】
（実施例Ｂ６）
実施例Ｂ１で用いた例示化合物（Ｂ１）代わりに例示化合物（Ｂ３６）を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１７５】
（実施例Ｂ７）
実施例Ｂ１で用いた例示化合物（Ｂ１）の代わりに例示化合物（Ｂ４４）を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１７６】
（比較例１）
上記実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに下記構造式（Ｖ）で示される化合物を用い、ディップ法の代わりに蒸着法を利用して有機半導体薄膜を形成した他は実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１７７】
【化１６】
【０１７８】
（比較例２）
上記実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりにポリ［２−メトキシ−５−（２−エチルヘキシル）−１，４−フェニレンビニレン］を用い、ディップ法の代わりに蒸着法を利用して有機半導体薄膜を形成した他は実施例Ａ１と同様に有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１７９】
（比較例３）
上記実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに下記構造式（ＶＩ）で示される化合物(重量平均分子量３２０００)を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１８０】
【化１７】
【０１８１】
−評価−
実施例および比較例で得られた有機半導体トランジスタ素子を半導体パラメーターアナライザー（アジレントテクノロジー社製、４１５５Ｃ）を用いて、ゲート電圧を印加した時の電流−電圧特性を測定し、キャリア移動度（線形領域）とオン／オフ比を算出した。
【０１８２】
以上のように作製した有機半導体トランジスタ素子のオン／オフ比を、有機化合物層の形成に用いた電荷輸送性材料のキャリア移動度と共に表７３に示す。表７３からわかるように、いずれの実施例に示す有機半導体トランジスタ素子もゲート電極に印加する電圧（ゲート電圧）の変化に伴い、ソース電極・有機半導体層・ドレイン電極間を流れるドレイン‐ソース電流が変化するスイッチング特性を示し、良好なオンオフ比を示していた。
しかし、比較例では、有機半導体薄膜の形成に用いた電荷輸送性材料のキャリア移動度が低かったために、ｏｎ／ｏｆｆ比が、実施例の素子と比べて劣っていることがわかった。また、有機半導体薄膜の形成に際し、液相成膜法が利用できない／気相成膜法を利用しなければならない場合があった。
【０１８３】
また、表７３に示す溶解性の評価は、各実施例で用いた例示化合物および比較例で例示化合物の代わりに用いた材料をジクロロエタン、トルエン、キシレン各々に対して２重量％となるように添加して攪拌した後の溶液の状態を目視により観察することにより実施した。表７３中の溶解性に関する評価基準は以下の通りである。
○(良)：完全に溶解
△(やや良)：少量の沈殿物が発生
×(難)：ほとんど不溶で多量の沈殿物が発生
【０１８４】
【表７３】
【図面の簡単な説明】
【０１８５】
【図１】本発明の有機半導体トランジスタ素子の層構成の一例を示した概略構成図である。
【図２】本発明の有機半導体トランジスタ素子の層構成の一例を示した概略構成図である。
【図３】本発明の有機半導体トランジスタ素子の層構成の一例を示した概略構成図である。
【符号の説明】
【０１８６】
１ 基板
２ ソース電極
３ ドレイン電極
４ 有機半導体層
５ ゲート電極
６ 絶縁層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機半導体を利用した有機半導体トランジスタ素子、これを用いた半導体装置および該有機半導体トランジスタ素子の製造方法に関するものであり、より詳細には、電子ペーパーあるいはデジタルペーパー、有機ＥＬ素子、電気泳動型表示素子、液晶素子等の表示素子の駆動回路、電子タグ、スマートカード等に用いる理論回路およびメモリー素子、ガスセンサー等の分野に好適に使用できる有機半導体トランジスタ素子、これを用いた半導体装置および該有機半導体トランジスタ素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタは、液晶表示素子等の表示用スイッチング素子として幅広く用いられている。従来、薄膜トランジスタは、アモルファスや多結晶のシリコンを用いて作製されている。しかし、このようなシリコンを用いた薄膜トランジスタの作製には、スパッタリング、ＣＶＤ装置、その他の真空系を用いた製造プロセスが用いられるが、大変高額である。さらには薄膜トランジスタを作製するために真空系の製造プロセスを繰り返し行い、半導体層等の各層を形成するため、薄膜トランジスタを用いた表示装置等の大型化は製造コストの大幅な増加を伴う問題点があった。
また、アモルファスや多結晶のシリコンを成膜するプロセスは非常に高い温度で行なわれ、基材として用いられる材料が限定されてしまう。従って、軽量でフレキシビリィがある樹脂基板等は使用できないという問題点があった。
【０００３】
一方、近年有機ＥＬ素子等に代表される有機半導体の研究が盛んに行なわれている。それとともにシリコン材料には無い軽量性、柔軟性という特徴を有する有機材料を回路に組み込もうとする研究が報告されるようになってきた。
このような薄膜トランジスタに用いる有機物としては、低分子化合物および高分子化合物が用いられる。低分子化合物としては、ペンタセン、テトラセン等のポリアセン化合物（例えば、特許文献１〜３参照）、銅フタロシアニン等のフタロシアニン化合物（例えば、特許文献４，５参照）が提案されている。
しかし、低分子化合物の場合、シリコンと同じ真空系を用いた製造プロセスを繰り返す必要があり、製造プロセス上の問題は依然解消されていない。
【０００４】
また、高分子化合物としては、セクシチオフェン等の芳香族オリゴマー（例えば、特許文献６参照）、ポリチオフェン、ポリチエニレンビニレン、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）等の高分子化合物（例えば、特許文献７〜１０、非特許文献１参照）が提案されている。
【０００５】
このような、高分子化合物は、可溶性が大きく、スピンコーティングやディプコーティングなど低コストの技術で成膜が可能であるので製造プロセスで有利であるが、キャリア移動度が低いという問題点があった。また、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）においては、可溶前駆体をスピンコート後、熱処理するため、主鎖共役系高分子中に欠陥が入りやすく電気特性を著しく低下させる問題点があった。
【特許文献１】特開平５−５５５６８号公報
【特許文献２】特開平１０−２７０７１２号公報
【特許文献３】特開２００１−９４１０７号公報
【特許文献４】特開平５−１９０８７７号公報
【特許文献５】特開２０００−１７４２７７号公報
【特許文献６】特開平８−２６４８０５号公報
【特許文献７】特開平８−２２８０３４号公報
【特許文献８】特開平８−２２８０３５号公報
【特許文献９】特開平１０−１２５９２４号公報
【特許文献１０】特開平１０−１９０００１号公報
【非特許文献１】Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．， Ｖｏｌ．７３，１０８（１９９８）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記問題点を解決することを課題とする。すなわち、溶剤や樹脂に対する溶解性及び相溶性に優れ、高いキャリア移動度を有する電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンを用い、動作速度が速く、且製造が容易な有機半導体トランジスタ素子およびその製造方法、並びに、前記有機半導体トランジスタ素子を用いた半導体装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題は以下の本発明により達成される。すなわち、本発明は、
＜１＞
ソース電極と、ドレイン電極と、前記ソース電極および前記ドレイン電極と導通可能に設けられた有機半導体と、該有機半導体に対して絶縁され且つ電場を印加することが可能なゲート電極とを少なくとも含む有機半導体トランジスタ素子において、
前記有機半導体が、少なくとも１種以上の下記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種を部分構造として含む繰り返し単位よりなる電荷輸送性ポリエーテルを１種以上含有することを特徴とする有機半導体トランジスタ素子である。
【化１】
〔一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）中、Ａｒは置換もしくは未置換の１価のベンゼン基、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の多核芳香族炭化水素、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の縮合芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の１価の複素環を表し、Ｔは炭素数１〜６の２価の直鎖状炭化水素基または炭素数２〜１０の２価の分枝鎖状炭化水素基を表し、ｍは０〜３の整数を表す。また、Ｘは、下記一般式（ＩＩ）で表される置換基を表す。〕
【化２】
〔一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１は、置換もしくは未置換の２価のベンゼン環、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の多核芳香族炭化水素、炭素数１〜５の２価のアルキル基、置換もしくは未置換の２価のシクロヘキサン、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の縮合多環芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の２価の複素環を表し、
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、水素原子、アルキル基、シアノ基、ハロゲン基、置換アミノ基、置換もしくは未置換のアリール基、または、置換もしくは未置換のアラルキル基を有し、それぞれ相違あるいは少なくとも二種以上が同一であってもよい。
また、ｑは１〜１０の整数を表し、ｒは０〜１０の整数を表し、ｕは０または１を表し、ｕとｒとの和は少なくとも１以上であり、ｒが０の場合は、Ａｒ１は置換または未置換のチエニレン基である。〕
【０００８】
＜２＞
前記有機半導体が、下記一般式（ＡＩＩＩ）で示される電荷輸送性ポリエーテルであることを特徴とする＜１＞に記載の有機半導体トランジスタ素子である。
【化３】
〔一般式（ＡＩＩＩ）において、Ａ１は前記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種以上を表し、ｐは５〜５０００の整数を表す。〕
【０００９】
＜３＞
＜１＞または＜２＞に記載の有機半導体トランジスタ素子を、溶媒中に溶解させた前記電荷輸送性ポリエーテルを少なくとも１種以上含む溶液を用いて製造する有機半導体トランジスタ素子の製造方法であって、
前記有機半導体が、前記溶液に外部刺激を付与して、前記溶液をノズルから液滴状に吐出させる方法を利用して形成されることを特徴とする有機半導体トランジスタ素子の製造方法である。
【００１０】
＜４＞
前記外部刺激が圧力であることを特徴とする＜３＞に記載の有機半導体トランジスタ素子の製造方法である。
【００１１】
＜５＞
溶媒中に溶解させた前記電荷輸送性ポリエーテルを少なくとも１種以上含む溶液を用い、前記溶媒を含んだ状態の塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記塗膜を乾燥させる乾燥工程とを少なくとも経ることにより＜１＞または＜２＞に記載の有機半導体トランジスタ素子を製造する有機半導体トランジスタ素子の製造方法であって、前記乾燥工程が、酸素濃度が１００ｐｐｍ以下、且つ、水分濃度が１００ｐｐｍ以下の環境下で実施されることを特徴とする有機半導体トランジスタ素子の製造方法である。
【００１２】
＜６＞
基板と、該基板上に設けられた１個以上の＜１＞または＜２＞に記載の有機半導体トランジスタ素子とを含む半導体装置である。
【００１３】
＜７＞
ソース電極と、ドレイン電極と、前記ソース電極および前記ドレイン電極と導通可能に設けられた有機半導体と、該有機半導体に対して絶縁され且つ電場を印加することが可能なゲート電極とを少なくとも含む有機半導体トランジスタ素子において、
前記有機半導体が、少なくとも１種以上の下記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種を部分構造として含む繰り返し単位よりなる電荷輸送性ポリウレタンを１種以上含有することを特徴とする有機半導体トランジスタ素子である。
【化４】
〔一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）中、Ａｒは置換もしくは未置換の１価のベンゼン基、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の多核芳香族炭化水素、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の縮合芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の１価の複素環を表し、Ｔは炭素数１〜６の２価の直鎖状炭化水素基または炭素数２〜１０の２価の分枝鎖状炭化水素基を表し、ｍは０〜３の整数を表す。また、Ｘは、下記一般式（ＩＩ）で表される置換基を表す。〕
【化５】
〔一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１は、置換もしくは未置換の２価のベンゼン環、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の多核芳香族炭化水素、炭素数１〜５の２価のアルキル基、置換もしくは未置換の２価のシクロヘキサン、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の縮合多環芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の２価の複素環を表し、
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、水素原子、アルキル基、シアノ基、ハロゲン基、置換アミノ基、置換もしくは未置換のアリール基、または、置換もしくは未置換のアラルキル基を有し、それぞれ相違あるいは少なくとも二種以上が同一であってもよい。
また、ｑは１〜１０の整数を表し、ｒは０〜１０の整数を表し、ｕは０または１を表し、ｕとｒとの和は少なくとも１以上であり、ｒが０の場合は、Ａｒ１は置換または未置換のチエニレン基である。〕
【００１４】
＜８＞
前記有機半導体が、下記一般式（ＢＩＩＩ−１）または（ＢＩＩＩ−２）で示される電荷輸送性ポリウレタンであることを特徴とする＜７＞に記載の有機半導体トランジスタ素子である。
【化６】
〔一般式（ＢＩＩＩ−１）および（ＢＩＩＩ−２）において、Ａ１は前記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種以上を表し、ＹおよびＺは２価のジイソシアネート、アルコールまたはアミン残基を表し、ｐは５〜５０００の整数を表す。〕
【００１５】
＜９＞
＜７＞または＜８＞に記載の有機半導体トランジスタ素子を、溶媒中に溶解させた前記電荷輸送性ポリウレタンを少なくとも１種以上含む溶液を用いて製造する有機半導体トランジスタ素子の製造方法であって、
前記有機半導体が、前記溶液に外部刺激を付与して、前記溶液をノズルから液滴状に吐出させる方法を利用して形成されることを特徴とする有機半導体トランジスタ素子の製造方法である。
【００１６】
＜１０＞
前記外部刺激が圧力であることを特徴とする＜９＞に記載の有機半導体トランジスタ素子の製造方法である。
【００１７】
＜１１＞
溶媒中に溶解させた前記電荷輸送性ポリウレタンを少なくとも１種以上含む溶液を用い、前記溶媒を含んだ状態の塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記塗膜を乾燥させる乾燥工程とを少なくとも経ることにより＜７＞または＜８＞に記載の有機半導体トランジスタ素子を製造する有機半導体トランジスタ素子の製造方法であって、前記乾燥工程が、酸素濃度が１００ｐｐｍ以下、且つ、水分濃度が１００ｐｐｍ以下の環境下で実施されることを特徴とする有機半導体トランジスタ素子の製造方法である。
【００１８】
＜１２＞
基板と、該基板上に設けられた１個以上の＜７＞または＜８＞に記載の有機半導体トランジスタ素子とを含む半導体装置である。
【発明の効果】
【００１９】
以上に説明したように本発明によれば、溶剤や樹脂に対する溶解性及び相溶性に優れ、高いキャリア移動度を有する電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンを用い、動作速度が速く、且製造が容易な有機半導体トランジスタ素子およびその製造方法、並びに、前記有機半導体トランジスタ素子を用いた半導体装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の有機半導体トランジスタ素子は、ソース電極と、ドレイン電極と、前記ソース電極および前記ドレイン電極と導通可能に設けられた有機半導体と、該有機半導体に対して絶縁され且つ電場を印加することが可能なゲート電極とを少なくとも含む有機半導体トランジスタ素子において、前記有機半導体が、少なくとも１種以上の下記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種を部分構造として含む繰り返し単位よりなる電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンを１種以上含有することを特徴とする。
この電荷輸送性ポリエーテルおよび電荷輸送性ポリウレタンは、動作時の熱安定性、溶剤や樹脂に対する溶解性及び相溶解性に優れる上にキャリア移動度が高く、さらに、本発明の有機半導体トランジスタ素子は、前記電荷輸送性ポリエーテルまたは前記電荷輸送性ポリウレタンを含有してなる有機半導体を有しているため、動作速度が速く且つ製造が容易である。
【００２１】
【化７】
【００２２】
式中、Ａｒは置換もしくは未置換の１価のベンゼン基、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の多核芳香族炭化水素、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の縮合芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の１価の複素環を表し、Ｔは炭素数１〜６の２価の直鎖状炭化水素基または炭素数２〜１０の２価の分枝鎖状炭化水素基を表し、ｍは０〜３の整数を表す。
また、Ｘは、下記一般式（ＩＩ）で表される置換基を表す。
【００２３】
【化８】
【００２４】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１は、置換もしくは未置換の２価のベンゼン環、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の多核芳香族炭化水素、炭素数１〜５の２価のアルキル基、置換もしくは未置換の２価のシクロヘキサン、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の縮合多環芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の２価の複素環を表し、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、水素原子、アルキル基、シアノ基、ハロゲン基、置換アミノ基、置換もしくは未置換のアリール基、または、置換もしくは未置換のアラルキル基を有し、それぞれ相違あるいは少なくとも二種以上が同一であってもよい。
また、ｑは１〜１０の整数を表し、ｒは０〜１０の整数を表し、ｕは０または１を表し、ｕとｒとの和は少なくとも１以上であり、ｒが０の場合は、Ａｒ１は置換または未置換のチエニレン基である。なお、ｒは１〜１０の範囲内であることが好ましく、ｒは１であることが特に好ましい。
【００２５】
一般式（Ｉ―１）、（Ｉ―２）および（ＩＩ）中において、ＡｒおよびＡｒ１を表す構造として選択される多核芳香族炭化水素及び縮合多環芳香族炭化水素は特に限定されない。なお、当該多核芳香族炭化水素及び縮合芳香族炭化水素とは、本発明においては、具体的には以下に定義されることを意味する。
すなわち、「多核芳香族炭化水素」とは、炭素と水素から構成される芳香環が２個以上存在し、環同士が炭素―炭素結合によって結合している炭化水素を表し、環同士が、ビニレン基あるいはエチニレン基を介して結合されているものも含む。具体的には、ビフェニル、ターフェニル等が挙げられる。
また、「縮合芳香族炭化水素」とは、炭素と水素から構成される芳香環が２個以上存在し、環同士が１対の炭素原子を共有している炭化水素を表す。具体的には、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、フルオレン等が挙げられる。
【００２６】
また、複素環は、その環骨格を構成する原子数（Ｎｒ）が、Ｎｒ＝５及び／又は６が好ましく用いられる。また、環骨格を構成する炭素原子以外の原子（異種原子）の種類及び数は特に限定されないが、例えば、硫黄原子、窒素原子、酸素原子等が好ましく用いられ、前記環骨格中には２種類以上及び／又は２個以上の異種原子が含まれてもよい。特に５員環構造をもつ複素環として、チオフェン、ピロール及びフラン、または、前記化合物の３位および４位の炭素を窒素で置き換えた複素環が好ましく用いられ、６員環構造を持つ複素環として、ピリジンが好ましく用いられる。
なお、上記の「多核芳香族炭化水素」や「縮合芳香族炭化水素」には、これら炭化水素基を構成する芳香環の少なくとも１つ以上を複素環に置換した炭化水素基も含まれる。
例えば、芳香環の一部を複素環に置換した多核芳香族炭化水素としては、ビフェニル基を構成する芳香環の少なくとも１つ以上をチオフェン等の複素環に置き換えたものや、ターフェニル基を構成するベンゼン環の少なくともひとつ以上をチオフェン等の複素環に置き換えたものなどが挙げられる。また、芳香環の少なくとも１つ以上を複素環に置換した縮合芳香族炭化水素としては、例えば、カルバゾール等が挙げられる。
また、アルキル基は、炭素数１〜５のアルキル基が挙げられる。
【００２７】
ＡｒおよびＡｒ１のベンゼン環、多核芳香族炭化水素、縮合多環芳香族炭化水素および複素環の置換基としては、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、置換アミノ基、ハロゲン原子、シアノ基等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１〜１０のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。アルコキシル基としては、炭素数１〜１０のものが好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。アリール基としては、炭素数６〜２０のものが好ましく、例えば、フェニル基、トルイル基等が挙げられ、アラルキル基としては、炭素数７〜２０のものが好ましく、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられ、Ａｒ基が縮合多環芳香族炭化水素である場合には、チオフェンの側鎖に一価のビニル基あるいはエチニル基を有するものも好適である。置換アミノ基の置換基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられ、具体例は前述の通りである。
【００２８】
なお、一般式（Ｉ−１）や（１−２）に示す構造を有する電荷輸送性ポリエーテルや電荷輸送性ポリウレタンにおいて、Ｘ基として一般式（ＩＩ）に示すようなチエニレン基を導入することによって、従来よりもキャリア移動度の向上を図り易くなる上に、電荷輸送性ポリエーテルや電荷輸送性ポリウレタンを溶媒に溶かして使用する場合に、使用可能な溶媒の選択肢も広げることができる。
このような効果が得られる詳細な理由は不明であるが、Ｘ基として一般式（ＩＩ）に示すようなチエニレン基を導入することにより、分子の平面性が増加して分子間のパッキングが向上するため、キャリア移動度が向上するものと考えられる。これに加えて、使用しようとする溶媒に対する親和性の高い官能基を分子中に導入しやすくなるため、電荷輸送性ポリエーテルや電荷輸送性ポリウレタンの溶媒に対する溶解性の制御が容易になり、使用可能な溶媒の選択肢も広げることができるものと考えられる。
【００２９】
Ｔは、炭素数１〜６の２価の直鎖状炭化水素基または炭素数２〜１０の２価の分枝鎖状炭化水素基を示し、好ましくは炭素数が２〜６の２価の直鎖状炭化水素基および炭素数３〜７の２価の分枝鎖状炭化水素基より選択される。具体的な構造を以下に示す。
【００３０】
【化９】
【００３１】
次に、表１〜３３に一般式（Ｉ−１）で示される構造の具体例を示し、表３４〜６４に一般式（Ｉ−２）で示される構造の具体例を示す。なお、表１〜６４中、ｍの値は特に限定されず０〜３のいずれでもよい。
【００３２】
【表１】
【００３３】
【表２】
【００３４】
【表３】
【００３５】
【表４】
【００３６】
【表５】
【００３７】
【表６】
【００３８】
【表７】
【００３９】
【表８】
【００４０】
【表９】
【００４１】
【表１０】
【００４２】
【表１１】
【００４３】
【表１２】
【００４４】
【表１３】
【００４５】
【表１４】
【００４６】
【表１５】
【００４７】
【表１６】
【００４８】
【表１７】
【００４９】
【表１８】
【００５０】
【表１９】
【００５１】
【表２０】
【００５２】
【表２１】
【００５３】
【表２２】
【００５４】
【表２３】
【００５５】
【表２４】
【００５６】
【表２５】
【００５７】
【表２６】
【００５８】
【表２７】
【００５９】
【表２８】
【００６０】
【表２９】
【００６１】
【表３０】
【００６２】
【表３１】
【００６３】
【表３２】
【００６４】
【表３３】
【００６５】
【表３４】
【００６６】
【表３５】
【００６７】
【表３６】
【００６８】
【表３７】
【００６９】
【表３８】
【００７０】
【表３９】
【００７１】
【表４０】
【００７２】
【表４１】
【００７３】
【表４２】
【００７４】
【表４３】
【００７５】
【表４４】
【００７６】
【表４５】
【００７７】
【表４６】
【００７８】
【表４７】
【００７９】
【表４８】
【００８０】
【表４９】
【００８１】
【表５０】
【００８２】
【表５１】
【００８３】
【表５２】
【００８４】
【表５３】
【００８５】
【表５４】
【００８６】
【表５５】
【００８７】
【表５６】
【００８８】
【表５７】
【００８９】
【表５８】
【００９０】
【表５９】
【００９１】
【表６０】
【００９２】
【表６１】
【００９３】
【表６２】
【００９４】
【表６３】
【００９５】
【表６４】
【００９６】
一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも一種を部分構造として繰り返し単位よりなる電荷輸送性ポリエーテルとしては、下記一般式（ＡＩＩＩ）で示されるものが好適に使用される。
【００９７】
【化１０】
【００９８】
一般式（ＡＩＩＩ）において、Ａ１は前記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種以上を表し、一つのポリマー中に２種類以上の構造Ａ１が含まれてもよい。一般式（ＡＩＩＩ）中、ｐは５〜５０００の整数を表す。
【００９９】
本発明で用いられる一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも一種を部分構造として繰り返し単位よりなる電荷輸送性ポリエーテルの重量平均分子量Ｍｗは、５０００〜３０００００の範囲にあるものが好ましい。
以下、一般式（ＡＩＩＩ）で示される上記の電荷輸送性ポリエーテルの具体例を 表６５〜表６７に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。尚、表６５〜表６７における、モノマーの欄の番号は、前記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造の具体例である構造番号に対応しており、表中のｍは一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）中におけるｍを意味する。以下、各番号を付した具体例（化合物）、例えばＡ１５の番号を付した具体例は表示化合物（Ａ１５）という。
【０１００】
【表６５】
【０１０１】
【表６６】
【０１０２】
【表６７】
【０１０３】
本発明の上記ポリエーテルは、下記一般式（ＡＩＶ）で示されるヒドロキシル基を有する化合物を分子間で縮合させることによって、容易に製造することができる。ここで、下記一般式（ＡＩＶ）におけるはＡ１は、前記一般式（ＡＩＩＩ）におけるＡ１と同様である。
【０１０４】
【化１１】
【０１０５】
具体的には前記ポリエーテルは、例えば、以下のように合成することができる。
１）上記ポリエーテルは、上記一般式（ＡＩＶ）のうち２個のヒドロキシアルキル基を有する化合物（以下、「モノマー」と略す）を加熱脱水縮合する方法によって上記電荷輸送性ポリエーテルを合成することができる。この場合、無溶媒でモノマーを加熱溶融し、水の脱離による重合反応を促進させるため減圧下で反応させることが望ましい。また、溶媒を使用する場合は、水の除去のため、水と共沸する溶媒、例えば、トリクロロエタン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、１−クロロナフタレン等が有効であり、モノマー１当量に対して、１〜１００当量、好ましくは２〜５０当量の範囲で用いられる。反応温度は任意に設定できるが、重合中に生成する水を除去するために、溶媒の沸点で反応させるのが好ましい。重合が進まない場合には、反応系から溶媒を除去し、粘ちょう状態で加熱撹拌してもよい。
【０１０６】
２）上記ポリエーテルは、酸触媒として、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸等のプロトン酸、あるいは塩化亜鉛等のルイス酸を用い脱水縮合する方法によって合成することもできる。この場合、モノマー１当量に対して、酸触媒を１〜１／１００００〜１／１０当量、好ましくは１／１０００〜１／５０当量の範囲で用いる。重合中に生成する水を除去するために、水と共沸可能な溶剤を用いるのが好ましい。溶剤としては、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、１−クロロナフタレン等が有効であり、モノマー１当量に対して、１〜１００当量、好ましくは２〜５０当量の範囲で用いられる。反応温度は任意に設定できるが、重合中に生成する水を除去するために、溶剤の沸点で反応させることが好ましい。
【０１０７】
３）上記モノマーは、イソシアン化シクロヘキシル等のイソシアン化アルキル、シアンン化シクロヘキシル等のイソシアン化アルキル、シアン酸ｐ−トリルや２，２−ビス（４−シアナートフェニル）プロパン等のシアン酸エステル、ジクロロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、トリクロロアセトニトリル等の縮合剤を用いる方法によっても合成することができる。この場合、縮合剤は、モノマー１当量に対して、１／２〜１０当量、好ましくは１〜３当量の範囲で用いられる。溶剤として、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、１−クロロナフタレン等が有効であり、モノマー１当量に対して、１〜１００当量、好ましくは２〜５０当量の範囲で用いられる。反応温度は任意に設定できるが、室温から溶剤の沸点で反応させることが好ましい。上記１）、２）および３）の合成法のうち、異性化や副反応が起こりにくいことから、合成法１）または３）が好ましい。特に、合成法３）は反応条件がより穏和なことからより好ましい。
【０１０８】
反応終了後、溶剤を用いなかった場合は溶解可能な溶剤に溶解させる。溶剤を用いた場合には、そのまま、メタノール、エタノール等のアルコール類や、アセトン等の非共役系高分子が溶解しにくい貧溶剤中に滴下し、ポリエーテルを析出させ、ポリエーテルを分離した後、水や有機溶剤で十分に洗浄し、乾燥させる。さらに必要であれば、適当な有機溶剤に溶解させ、貧溶剤中に滴下し、モノマーを析出させる再沈澱処理を繰り返してもよい。再沈澱処理の際には、メカニカルスターラー等で、効率よく撹拌しながら行うことが好ましい。再沈澱処理の際にポリエーテルを溶解させる溶剤は、ポリエーテル１当量に対して、１〜１００当量、好ましくは２〜５０当量の範囲で用いられる。また、貧溶剤はポリエーテル１当量に対して、１〜１０００当量、好ましくは１０〜５００当量の範囲で用いられる。さらに、上記反応において、モノマーを２種以上、好ましくは２〜５種、さらに好ましくは２〜３種用いることにより、共重合ポリマーの合成も可能である。異種のモノマーを共重合することによって、電気特性、成膜性、溶解性および蛍光特性を制御することができる。
【０１０９】
ポリエーテルの重合度は、低すぎると成膜性に劣り、強固な膜が得られにくく、また、高すぎると溶剤への溶解度が低くなり、加工性が悪くなるため、ｐは５〜５０００の範囲に設定され、好ましくは１０〜３０００、より好ましくは１５〜１０００の範囲である。
また、ポリマーの末端は、モノマーと同様にヒドロキシル基、すなわち末端基が水素原子であってよいが、溶解性、成膜性、モビリティー等のポリマー物性に影響を及ぼす場合には、末端基を修飾し物性を制御することができる。例えば、末端のヒドロキシル基を、硫酸アルキル、ヨウ化アルキル等でアルキルエーテル化することができる。具体的な試薬としては、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル等から任意に選ぶことができ、末端のヒドロキシル基に対し１〜３当量、好ましくは１〜２当量の範囲で用いる。その際、塩基触媒を用いることができるが、塩基触媒として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、ナトリウム金属等から任意に選ぶことができ、末端のヒドロキシル基に対し〜３当量、好ましくは１〜２当量の範囲で用いる。
【０１１０】
反応温度は、０℃から使用する溶剤の沸点で行うことができる。また、その際用いる溶剤として、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の不活性溶剤から選んだ単独溶剤、あるいは２〜３種の混合溶剤が使用できる。
また、反応によっては、相間移動触媒としてテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムアイオダイド等の第４級アンモニウム塩を使用することもできる。また、末端のヒドロキシル基に酸ハロゲン化物を用いアシル化して、末端基をアシル基にすることもできる。酸ハロゲン化物は特に限定するものではないが、例えばアクリロイルクロリド、クロトノイルクロリド、メタクリロイルクロリド、ｎ−ブチルクロリド、２−フロイルクロリド、ベンゾイルクロリド、シクロヘキサンカルボニルクロリド、エナンチルクロリド、フェニルアセチルクロリド、ｏ−トルオイルクロリド、ｍ−トルオイルクロリド、ｐ−トルオイルクロリド等があげられ、末端のヒドロキシル基に対し１〜３当量、好ましくは１〜２当量の範囲で用いる。その際、塩基触媒を用いることができるが、塩基触媒としては、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン等から任意に選ぶことができ、酸クロリドに対し１〜３当量、好ましくは１〜２当量の範囲で用いる。その際用いる溶剤として、ベンゼン、トルエン、塩化メチルン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン等があげられる。反応は、０℃から溶剤の沸点で行うことができる。好ましくは、０℃から３０℃の範囲で行う。さらに、無水酢酸等の酸無水物を用いてもアシル化することができる。溶剤を用いる場合は、具体的には、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン等の不活性溶剤を使用することができる。反応は、０℃から溶剤の沸点で行うことができる。好ましくは、４０℃から溶剤の沸点で行えばよい。
【０１１１】
そのほか、モノイソシアネートを用い、末端にウレタン残基（−ＣＯＮＨ−Ｒ’）を導入することができる。具体的なモノイソシアネートとしては、イソシアン酸ベンジルエステル、イソシアン酸ｎ−ブチルエステル、イソシアン酸ｔ−ブチルエステル、イソシアン酸シクロヘキシルエステル、イソシアン酸２，６−ジメチルエステル、イソシアン酸エチルエステル、イソシアン酸イソプロピルエステル、イソシアン酸２−メトキシフェニルエステル、イソシアン酸４−メトキシフェニルエステル、イソシアン酸ｎ−オクタデシルエステル、イソシアン酸フェニルエステル、イソシアン酸ｉ−プロピルエステル、イソシアン酸ｍ−トリルエステル、イソシアン酸ｐ−トリルエステル、イソシアン酸１−ナフチルエステル等から任意に選ぶことができ、末端のヒドロキシル基に対し１〜３当量、好ましくは１〜２当量の範囲で用いる。その際用いる溶剤として、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等をあげることができる。反応温度は、０℃から使用溶剤の沸点で行うことができる。反応が進みにくい場合は、ジラウリン酸ジブチルスズ（ＩＩ）、オクチル酸スズ（ＩＩ）、ナフテン酸鉛等の金属化合物、あるいはトリエチルアミン、トリメチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン等の３級アミンを触媒として添加することもできる。
【０１１２】
一般式（Ｉ−１）及び（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種を部分構造として含む繰り返し単位よりなる電荷輸送性ポリウレタンとしては下記一般式（ＢＩＩＩ−１）および（ＢＩＩＩ−２）で示されるものが好適に用いられる。
【０１１３】
【化１２】
【０１１４】
一般式（ＢＩＩＩ−１）および（ＢＩＩＩ−２）中、Ａ１は前記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種以上を表し、ＹおよびＺは２価のジイソシアネート、アルコールまたはアミン残基を表し、ｐは５〜５０００の整数を表す。
一般式（ＢＩＩＩ−１）及び（ＢＩＩＩ−２）中、Ａ１は一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種を表し、一つのポリマー中に２種以上の構造Ａ１が含まれていてもよい。
【０１１５】
一般式（ＢＩＩＩ−１）及び（ＢＩＩＩ−２）中、ＹおよびＺは２価のジイソシアネート、アルコール、または、アミン残基を表す。ＹおよびＺは、具体的には下記の式（１）から（７）から選択された基が挙げられるが、これに限定するものではない。
【０１１６】
【化１３】
【０１１７】
式（１）から（７）中、Ｒ１８およびＲ１９は、それぞれ水素原子、炭素数１から４のアルキル基、炭素数１から４のアルコキシ基、置換もしくは未置換のフェニル基、置換もしくは未置換のアラルキル基、またはハロゲン原子を表し、ｄおよびｅはそれぞれ１から１０の整数を意味し、ｆおよびｇは、それぞれ０，１または２の整数を意味し、ｈおよびｉはそれぞれ０または１を意味し、Ｖは下記の式（８）〜（２８）から選択された基を表す。
【０１１８】
【化１４】
【０１１９】
式（８）〜（２８）中、Ｒ２０からＲ２１は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシル基、置換もしくは未置換のフェニル基、または置換もしくは未置換のアラルキル基、またはハロゲン原子を、ｂ、ｃは０〜１０の整数を意味する。また、Ｒ１９は式（７）に示されるＲ１９と同様である。
一般式（ＢＩＩＩ−１）または（ＢＩＩＩ−２）式中、重合度を表わすｐは５〜５０００の範囲であるが、好ましくは１０〜１,０００の範囲である。
本発明に用いられる電荷輸送性ポリウレタンの重量平均分子量Ｍｗは５,０００〜１,０００,０００の範囲であるが、１０,０００〜３００,０００の範囲にあるのが好ましい。
【０１２０】
下記表６８〜表７２に一般式（ＢＩＩＩ−１）および（ＢＩＩＩ−２）で表される電荷輸送性ポリウレタンの具体例を示すが、本発明はこれら具体例に限定されるものではない。
なお、表６８〜表７２において、モノマーの列のＡ１の欄の記号は、前記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造の具体例で示した構造番号に対応しており、表中のｍは一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）中におけるｍを意味する。また、表６８〜表７２中、Ｚの欄が「−」であるものは一般式（ＢＩＩＩ−１）で示される電荷輸送性ポリウレタンの具体例を示し、Ｙの欄が「−」であるものは一般式（ＢＩＩＩ−２）で示される電荷輸送性ポリウレタンの具体例を示す。以下、各番号を付した具体例、例えばＢ１５の番号を付した具体例は例示化合物（Ｂ１５）という。
【０１２１】
【表６８】
【０１２２】
【表６９】
【０１２３】
【表７０】
【０１２４】
【表７１】
【０１２５】
【表７２】
【０１２６】
本発明に用いられる電荷輸送性ポリウレタンは、下記構造式（ＢＩＶ−１）〜（ＢＩＶ−４）で示される電荷輸送性モノマーを、例えば、第４版実験化学講座第２８巻（丸善、１９９２）、新高分子実験学第２巻（共立出版、１９９５）等に記載された公知の方法で重合させることによって合成することができる。なお、構造式（ＢＩＶ−１）〜（ＢＩＶ−４）中、Ａ１、は、前記一般式（ＢＩＩＩ−１）または（ＢＩＩＩ−２）におけるＡ１と同様である。
【０１２７】
【化１５】
【０１２８】
具体的には、構造式（ＢＩＶ−１）または（ＢＩＶ−２）で示される電荷輸送性モノマーを用いる場合、電荷輸送性ポリウレタンは、次のようにして合成することができる。電荷輸送性モノマーが構造式（ＢＩＶ−１）で示される２価アルコールの場合には、ＯＣＮ−Ｙ−ＮＣＯで示されるジイソシアネート類と当量混合し、また、電荷輸送性モノマーが構造式（ＢＩＶ−２）で示されるジイソシアネート類の場合にはＨＯ−Ｙ−ＯＨで示される２価アルコール類と当量混合し、重付加する。触媒としてはジラウリル酸ジブチルスズ（ＩＩ）、二酢酸ジブチルスズ（ＩＩ）、ナフテン酸鉛等の有機金属化合物といった通常の重付加によるポリウレタン合成反応に用いるものが使用できる。また、芳香族系のジイソシアネートを電荷輸送性ポリウレタンの合成に用いる場合には、トリエチレンジアミン等の第３アミンを触媒として用いることができる。これら有機金属化合物と第３アミンは触媒として混合して用いてもよい。
【０１２９】
触媒の量は電荷輸送性モノマー１重量部に対して、１／１０,０００〜１／１０重量部、好ましくは１／１,０００〜１／５０重量部の範囲で用いられる。溶剤は電荷輸送性モノマージイソシアネート、もしくは２価アルコール類を溶解するものであれば、任意の溶剤を用いることができる。反応性の点から極性の低い溶剤やアルコールと水素結合を生じない溶剤を用いることが好ましく、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、１−クロロナフタレン等が有効である。溶剤の量は電荷輸送性モノマー１重量部に対して、１〜１００重量部、好ましくは２〜５０重量部の範囲で用いられる。反応温度は任意に設定できる。
【０１３０】
反応終了後は、反応溶液をそのまま、メタノール、エタノール等のアルコール類や、アセトン等のポリマーが溶解しにくい貧溶剤中に滴下し、電荷輸送性ポリウレタンを析出させ、電荷輸送性ポリウレタンを分離した後、水や有機溶剤で十分洗浄し、乾燥させる。更に、必要であれば適当な有機溶剤に溶解させ、貧溶剤中に滴下し、電荷輸送性ポリウレタンを析出させる再沈殿処理を繰り返してもよい。再沈殿処理の際には、メカニカルスターラー等で、効率よく撹拌しながら行うことが好ましい。再沈殿処理の際に電荷輸送性ポリウレタンを溶解させる溶剤は、電荷輸送性ポリウレタン1重量部に対して、１〜１００重量部、好ましくは２〜５０重量部の範囲で用いられる。また、貧溶剤は電荷輸送性ポリウレタン１重量部に対して、１〜１,０００重量部、好ましくは１０〜５００重量部の範囲で用いられる。
【０１３１】
構造式（ＢＩＶ−３）及び（ＢＩＶ−４）で示される電荷輸送性モノマーを用いる場合、電荷輸送性ポリウレタンは、次のようにして合成することができる。電荷輸送性モノマーが構造式（ＢＩＶ−３）で示されるビスクロロホルメートの場合には、Ｈ２Ｎ−Ｙ−ＮＨ２で示されるジアミン類と当量混合し、また、電荷輸送性モノマーが構造式（ＢＩＶ−４）で示されるジアミン類の場合には、ＣｌＯＣＯ−Ｙ−ＯＣＯＣｌで示されるビスクロロホルメート類と当量混合し、重縮合する。
溶剤としては塩化メチレン、ジクロロエタン、ジクロロエタン、トルクロロエタン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、トルエン、クロロベンゼン、１−クロロナフタレン等が有効であり、電荷輸送性モノマー１重量部に対して、１〜１００重量部、好ましくは２〜５０重量部の範囲で用いられる。反応温度は任意に設定できる。重合後は前述のように再沈殿処理により精製する。
【０１３２】
また、Ｈ２Ｎ−Ｙ−ＮＨ２で示されるジアミン類が塩基性度の高い場合には、界面重合法も用いることができる。すなわち、ジアミン類を水に加え、当量の酸を加えて溶解させた後、激しく攪拌しながらジアミン類と前述の構造式（ＢＩＶ−３）で示される電荷輸送性モノマー溶液を加えることによって重合できる。この際、水はジアミン類１重量部に対して、１〜１,０００重量部、好ましくは１０〜５００重量部の範囲で用いられる。電荷輸送性モノマーを溶解させる溶剤としては、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクトトエタン、トルエン、クロロベンゼン、１−クロロナフタレン等が有効である。反応温度は任意に設定でき、反応を促進させるために、アンモニウム塩、スルホニウム塩等の相間移動触媒を用いることが効果的である。相関移動触媒は、電荷輸送性モノマー１重量部に対して、０.１〜１０重量部、好ましくは０.２〜５重量部の範囲で用いられる。
【０１３３】
次に、本発明の有機半導体トランジスタ素子の構成について具体例を挙げて詳細に説明する。
本発明の有機半導体トランジスタ素子は、ソース電極と、ドレイン電極と、前記ソース電極および前記ドレイン電極と導通可能に設けられた有機半導体と、該有機半導体に対して絶縁され且つ電場を印加することが可能なゲート電極と、を少なくとも含む構成を有するものである。
ここで、前記有機半導体には上記に説明した少なくとも１種以上の電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンが含まれる。なお、本発明の有機半導体トランジスタ素子の形状は、必要に応じて、所望の形状とすることができるが、薄膜状であることが好ましい。
【０１３４】
以下、図を参照しつつ、本発明の有機半導体トランジスタ素子の構成についてより詳細に説明するが、これに限定されるわけではない。
図１〜図３は、本発明の有機半導体トランジスタ素子の構成の一例を示す模式断面図である。ここで、図１および２は、本発明の有機半導体トランジスタ素子が、電界効果トランジスタ（ＦＩｅｌｄ Ｅｆｆｅｃｔ ＴｒａｎｓＩｓｔｏｒ）構造を有している場合について示したものである。また、図３は、本発明の有機半導体トランジスタ素子が、静電誘導トランジスタ（ＳｔａｔＩｃ ＩｎｄｕｃｔＩｏｎ ＴｒａｎｓＩｔｏｒ）構造を有している場合について示したものである。
【０１３５】
図１〜３中、機能が共通する部材には同一の符号が付してあり、１が基板、２がソース電極、３がドレイン電極、４が有機半導体層、５がゲート電極、６が絶縁層を表す。以下、図１〜３に示す本発明の有機半導体トランジスタ素子の構成について順に説明する。
図１に示す本発明の有機半導体トランジスタ素子は、基板１上にゲート電極５、絶縁層６がこの順に設けられ、この絶縁層６上に、ソース電極２およびドレイン電極３とが離間した位置に設けられると共に、ソース電極２およびドレイン電極３を被覆するように有機半導体層４が設けられている。
【０１３６】
また、図２に示す本発明の有機半導体トランジスタ素子は、基板１状にゲート電極５、絶縁層６がこの順に設けられ、この絶縁層６上に、ソース電極２、および、このソース電極２の絶縁層６と接する側と反対側の面も覆うように有機半導体層４が設けられている。さらに、ドレイン電極３が、有機半導体層４の絶縁層６が設けられた側と反対側の面上で、ソース電極２に対して基板１の平面方向に離間した位置に設けられている。
さらに、図３に示す本発明の有機半導体トランジスタ素子は、基板１上にソース電極２、有機半導体層４、ドレイン電極３がこの順に積層され、複数のゲート電極５が、有機半導体層４中に設けられる（図３に示す例では、４つのゲート電極５が、基板１の平面方向と平行且つ等間隔に配置されている）。
【０１３７】
なお、ゲート電極５は、紙面に対して垂直方向に、ソース電極２及びドレイン電極３の双方と平行になるように配置され、各々のゲート電極５同士も相互に平行となるように設けられている。また、図３中、ゲート電極５と、有機半導体層４とは、両者の界面に設けられた不図示の絶縁層により絶縁されている。
図１〜図３に示すような有機半導体トランジスタ素子においては、ゲート電極５に印加される電圧によってソース電極２とドレイン電極３との間に流れる電流を制御することができる。
【０１３８】
なお、本発明の有機半導体トランジスタ素子を用いて、何らかの電子デバイスを作製する場合には、基板上に、１個以上の本発明の有機半導体トランジスタ素子を搭載した構成（半導体装置）として利用することができ、この半導体装置に、さらに他の素子や回路等を組み合わせることにより所望の電子デバイスを作製することができる。
【０１３９】
次に、有機半導体部分を除く、本発明の有機半導体素子や半導体装置を構成する各部材について詳細に説明する。
ソース電極、ドレイン電極およびゲート電極に用いられる電極材料としては、効率よく電荷注入することができる材料が用いられ、具体的には、金属、金属酸化物、導電性高分子等が使用される。
金属としてはマグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、クロム、タンタル、インジウム、パラジウム、リチウム、カルシウムおよびこれらの合金が挙げられる。金属酸化物としては、酸化リチウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化スズインジウム（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＮＥＳＡ）、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化インジウム亜鉛等の金属酸化膜があげられる。
【０１４０】
導電性高分子としては、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリチオフェン誘導体、ポリピロール、ポリピリジン、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸の錯体等があげられる。
また、電極に用いられる材料と有機半導体（層）に用いられる上述した高分子化合物とのイオン化ポテンシャルの差が大きいと電荷注入特性が悪くなるため、ドレイン電極および／またはソース電極に用いられる材料のイオン化ポテンシャルと、有機半導体（層）に用いられる高分子化合物とのイオン化ポテンシャルの差が１．０ｅＶ以内であることが好ましく、特に０．５ｅｖ以内であることがさらに好ましい。また、このような電極−高分子化合物間のイオン化ポテンシャルの差という観点からは、電極材料としては、特にＡｕを用いることが好ましい。
【０１４１】
電極の形成方法としては、上記の電極材料を蒸着法や、スパッタ等の公知の薄膜形成方法を用いて作製した薄膜を、公知のフォトリソグラフィー法やリフトオフ法を利用して形成したり、インクジェット等によりレジストを用いて所望のパターン（電極形状）にエッチングする方法や、アルミニウムなどの電極材料を直接熱転写する方法が利用できる。また、電極材料として導電性高分子を用いる場合には、これを溶媒に溶解させ、インクジェット等によりパターニングしても良い。
【０１４２】
各電極間や、ゲート電極と有機半導体（層）とを絶縁する絶縁部材としては、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化タンタル、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機物、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリススチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレンブタジエン共重合体、塩化ビニルデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂等の有機絶縁高分子等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０１４３】
基板としては、リン等を高濃度にドープしたシリコン単結晶やガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリススチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレンブタジエン共重合体、塩化ビニルデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂等のプラスチック基板等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０１４４】
特に、電子ペーパーまたはデジタルペーパーや携帯電子機器等の可撓性を求められる電子デバイス（以下、「可撓性電子デバイス」と称す）に用いられる電子回路に本発明の有機半導体トランジスタ素子を用いる場合、基板として可撓性がある基板を用いることが望ましい。特に基板として曲げ弾性率が１０００ＭＰａ以上、より好ましくは５０００ＭＰａ以上である基板を用いることにより可撓性がある表示素子の駆動回路や電子回路に適応させることができる。
【０１４５】
これは、本発明の有機半導体トランジスタ素子は、有機半導体部分が、上述したような高分子化合物を主成分として含むために十分な弾性を有しており、可撓性のある基板上に素子を形成しても、大きな変形や、変形の繰り返しに耐え、安定した性能を維持し続けることができるためである。一方、無機半導体トランジスタ素子では、半導体部分が無機材料からなるため、弾性に欠けているため、このような変形を前提とした使用は極めて困難である。さらに無機半導体トランジスタ素子を作製するプロセスは、高温を必要とするため基板にプラスチックを用いることが出来ないという不具合がある。また、有機半導体部分が低分子材料を主成分とするような有機半導体トランジスタ素子においても、高分子材料のような弾性には欠けているため、このような変形を前提とした使用は困難であるか、あるいは、信頼性に劣る。
【０１４６】
なお、本発明において、「可撓性電子デバイス」とは、〔１〕その使用態様が、上述した電子ペーパーやデジタルペーパー等のように、電源のオン／オフ状態に係わらず、平坦な状態から曲げたり、撓ませたり、屈曲させたりした状態としたり、あるいは、その逆の態様で使用することが可能であり、〔２〕その構成が、基板と、該基板上に１個以上設けられた有機半導体トランジスタ素子とを少なくとも含み、〔３〕上記〔１〕項に説明したような可撓性が、有機半導体トランジスタ素子が設けられた基板部分において少なくとも求められる電子デバイスを意味する。
【０１４７】
有機半導体部分を層状に形成する方法としては、特に液相成膜法を用いることが好ましく、例えば、スピンコート法、キャステング法、ディップ法、ダイコート法、ロールコート法、バーコート法、インクジェット法、および各印刷手法等が用いられるが、これに限定されるものではない。
しかしながら、塗布後のエッチングによるパターン形成が不要であるため、製造工程が簡略化でき、また、有機半導体トランジスタ素子を大面積の基板上に多数形成する上でも高い生産性を得ることができるインクジェット法を利用することが好ましい。
すなわち、インクジェットプリンターに利用されているインクジェット記録による画像形成技術を、有機半導体トランジスタ素子の有機半導体部分の形成に利用することができる。
【０１４８】
この場合、インクの代わりに、溶媒中に溶解させた電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンを少なくとも１種以上含む溶液（以下、インクジェット印刷にのみ利用する場合を「インクジェット用有機半導体溶液」と称し、インクジェット印刷に限定しない場合は単に「有機半導体溶液」と称す場合がある）を用いて、液滴吐出ヘッドのノズルから液滴状の有機半導体溶液を吐出させることによって、基板上の所望の位置に所望の膜厚・形状の有機半導体を形成することができる。
【０１４９】
また、液滴吐出ヘッドとしても、基本的な構成や原理は、インクジェットプリンターに用いられている記録ヘッドと同様のものが利用できる。すなわち、有機半導体溶液に圧力や熱等の外部刺激を付与することによって、インクジェット用有機半導体溶液をノズルから液滴状に吐出する方法（いわゆる圧電素子を用いたピエゾインクジェット方式、熱沸騰現象を利用した熱インクジェット方式等）が利用できる。
【０１５０】
しかしながら、本発明の有機半導体トランジスタ素子の製造に際しては、外部刺激は熱よりも圧力であることがより好ましい。外部刺激が熱である場合には、インクジェット用有機半導体溶液のノズルからの吐出から、基板上へ着弾した有機半導体溶液の溶媒の揮発による塗膜の形成（固化）というインクジェット印刷プロセスにおいて、インクジェット用有機半導体溶液の粘度が熱によって大きく変化してしまうため、レベリング性やパターニング精度の制御が困難になる場合がある。これに加えて、耐熱性に劣る電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンが利用できなくなり、材料選択肢が狭くなってしまう場合がある。
【０１５１】
また、インクジェット法を利用した本発明の有機半導体トランジスタ素子の製造に用いられる装置としては、上述した液滴吐出ヘッドの他に、必要に応じて、例えば、有機半導体トランジスタ素子を形成する対象である基板等の固定あるいは搬送手段や、液滴吐出ヘッドを基板平面方向に対して走査する液滴吐出ヘッド走査手段等を有していてもよい。
なお、インクジェット用有機半導体溶液は、上述したように電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンと、溶媒とを少なくとも含むものであればその組成や物性は特に限定されるものではないが、インクジェット用有機半導体溶液の粘度は、形成される膜厚によって異なるが、おおよそ２５℃において０．０１〜１０００ｃｐｓの範囲内であることが好ましく、１〜１００ｃｐｓの範囲内であることが好ましい。
【０１５２】
粘度が０．０１ｃｐｓ未満である場合には、基板上に着弾した有機半導体溶液が、基板平面方向に広がり易く、膜厚の制御が困難となったり、パターニング精度が劣化してしまう場合がある。また、粘度が１０００ｃｐｓを超える場合には、インクジェット用有機半導体溶液の粘性が高すぎるために吐出不良を起こしやすくなる場合がある。
なお、インクジェット用有機半導体溶液の粘度は、電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンや、必要に応じて添加されるその他の添加剤成分の含有量や、電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンの分子量等を制御することによって、所望の値に調整することができる。
【０１５３】
インクジェット用有機半導体溶液に用いられる溶媒としては、電荷輸送性ポリエーテルまたは電荷輸送性ポリウレタンを溶解できるものであれば特に限定されないが、例えば、有機溶媒、例えば、炭化水素系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、ハロゲン系溶媒、アルコール系溶媒等や、水、またこれらの混合溶媒等を挙げることができる。
ここで、前記炭化水素系溶媒としては、例えば、トルエン、ベンゼン、キシレン、ヘキサン、オクタン、ヘキサデカン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ラクトン、テトラリン、クメンなどが挙げられ、前記エステル系溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミルなどが挙げられ、前記エーテル系溶媒としては、例えば、ジブチルエーテル、ジベンジルエーテルなどが挙げられ、前記ハロゲン系溶媒としては、例えば、１，１−ジクロロエタン、１−フルオロエタン、２，２，２−トリフルオロエタン、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロパン、クロロホルム、四塩化炭素、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼンなどが挙げられ、前記アルコール系溶媒としては、メタノール、エタノール、Ｉ−プロピルアルコールなどが挙げられる。
【０１５４】
なお、上述したようなインクジェット法やその他の液相成膜法を利用して有機半導体トランジスタ素子を製造する場合、有機半導体部分は、有機半導体溶液を用い、溶媒を含んだ状態の塗膜を形成する塗膜形成工程と、この塗膜を乾燥させて有機半導体からなる膜を形成する乾燥工程とを少なくとも経ることによって形成される。
ここで、乾燥工程は、酸素濃度が１００ｐｐｍ以下、且つ、水分濃度が１００ｐｐｍ以下の環境下で実施されることが好ましい。酸素濃度や水分濃度が１００ｐｐｍを超えると雰囲気中に酸素分子や水分子として存在する酸素原子が、電荷輸送性ポリエーテルを劣化させてしまう場合があり、乾燥時の加熱処理温度が高いとこのような劣化がより起こりやすくなるためである。
【０１５５】
なお、酸素濃度は５０ｐｐｍ以下であることがより好ましく、１０ｐｐｍ以下であることが更に好ましい。また、水分濃度は５０ｐｐｍ以下であることがより好ましく、１０ｐｐｍ以下であることが更に好ましい。
【０１５６】
さらに水分や酸素による有機半導体トランジスタ素子の劣化を防ぐために保護層を設けてもよい。具体的な保護層の材料としては、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ等の金属、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物、ポリエチレン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂等の樹脂が挙げられる。保護層の形成には、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマ重合法、ＣＶＤ法、コーティング法が適用できる。
以上に説明したように本発明の有機半導体トランジスタ素子は、有機半導体部分に使用する高分子化合物の種類や、素子の構成等を適宜選択することにより、オン／オフ比を１０２〜１０５程度の範囲内で有機半導体トランジスタ素子の用途に応じて調整することができる。
【実施例】
【０１５７】
以下、本発明を、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。だだし、これら各実施例は、本発明を制限するものではない。
（実施例Ａ１）
ガラス基板上に真空蒸着により金を１００ｎｍの膜厚で成膜し、ゲート電極とした。次いで、ゲート電極上にスパッタリングによりＳｉＯ２を３００ｎｍの膜厚で絶縁層を形成し、更に、ソース電極およびドレイン電極として金属マスクを通して金を１５０ｎｍの膜厚で成膜した。なお、ソース電極およびドレイン電極の間隔は５０μｍである。
その後、ソース電極およびドレイン電極と導通可能なように、例示化合物（Ａ１）を５重量％含むジクロロエタン溶液を目開き０．１μｍのＰＴＦＥフィルターで濾過した有機半導体溶液を、ディップ法により厚さ０．１５μｍの薄膜を形成し、有機半導体トランジスタ素子を作製した。
なお、有機半導体薄膜は、予めソース電極とドレイン電極とが対向する領域と、この領域に接したソース電極およびドレイン電極の一部を除いてレジストによりマスキングした状態でディップ法により塗膜を形成し、続いて、この塗膜を酸素濃度が５ｐｐｍ、水分濃度が５ｐｐｍの不活性ガス雰囲気下で１３０℃に乾燥処理するプロセスを経て形成した。
【０１５８】
（実施例Ａ２）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ４）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１５９】
（実施例Ａ３）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ６）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６０】
（実施例Ａ４）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ９）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６１】
（実施例Ａ５）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ１４）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６２】
（実施例Ａ６）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）代わりに例示化合物（Ａ１７）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６３】
（実施例Ａ７）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ１８）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６４】
（実施例Ａ８）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ２１）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６５】
（実施例Ａ９）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ２５）いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６６】
（実施例Ａ１０）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ２８）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６７】
（実施例Ａ１１）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ３６）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６８】
（実施例Ａ１２）
実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに例示化合物（Ａ５９）を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１６９】
（実施例Ｂ１）
ガラス基板上に真空蒸着により金を１００ｎｍの膜厚で成膜し、ゲート電極とした。次いで、ゲート電極上にスパッタリングによりＳｉＯ２を３００ｎｍの膜厚で絶縁層を形成し、更に、ソース電極およびドレイン電極として金属マスクを通して金を１５０ｎｍの膜厚で成膜した。なお、ソース電極およびドレイン電極の間隔は５０μｍである。
その後、ソース電極およびドレイン電極と導通可能なように、例示化合物（Ｂ１）を５重量％含むジクロロエタン溶液を目開き０．１μｍのＰＴＦＥフィルターで濾過した有機半導体溶液を、ディップ法により厚さ０．１５μｍの薄膜を形成し、有機半導体トランジスタ素子を作製した。
なお、有機半導体薄膜は、予めソース電極とドレイン電極とが対向する領域と、この領域に接したソース電極およびドレイン電極の一部を除いてレジストによりマスキングした状態でディップ法により塗膜を形成し、続いて、この塗膜を酸素濃度が５ｐｐｍ、水分濃度が５ｐｐｍの不活性ガス雰囲気下で１３０℃に乾燥処理するプロセスを経て形成した。
【０１７０】
（実施例Ｂ２）
実施例Ｂ１で用いた例示化合物（Ｂ１）の代わりに例示化合物（Ｂ１２）を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１７１】
（実施例Ｂ３）
実施例Ｂ１で用いた例示化合物（Ｂ１）の代わりに例示化合物（Ｂ２０）を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１７２】
（実施例Ｂ４）
実施例Ｂ１で用いた例示化合物（Ｂ１）の代わりに例示化合物（Ｂ２２）を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１７３】
（実施例Ｂ５）
実施例Ｂ１で用いた例示化合物（Ｂ１）の代わりに例示化合物（Ｂ３１）を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１７４】
（実施例Ｂ６）
実施例Ｂ１で用いた例示化合物（Ｂ１）代わりに例示化合物（Ｂ３６）を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１７５】
（実施例Ｂ７）
実施例Ｂ１で用いた例示化合物（Ｂ１）の代わりに例示化合物（Ｂ４４）を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１７６】
（比較例１）
上記実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに下記構造式（Ｖ）で示される化合物を用い、ディップ法の代わりに蒸着法を利用して有機半導体薄膜を形成した他は実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１７７】
【化１６】
【０１７８】
（比較例２）
上記実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりにポリ［２−メトキシ−５−（２−エチルヘキシル）−１，４−フェニレンビニレン］を用い、ディップ法の代わりに蒸着法を利用して有機半導体薄膜を形成した他は実施例Ａ１と同様に有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１７９】
（比較例３）
上記実施例Ａ１で用いた例示化合物（Ａ１）の代わりに下記構造式（ＶＩ）で示される化合物(重量平均分子量３２０００)を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして有機半導体トランジスタ素子を作製した。
【０１８０】
【化１７】
【０１８１】
−評価−
実施例および比較例で得られた有機半導体トランジスタ素子を半導体パラメーターアナライザー（アジレントテクノロジー社製、４１５５Ｃ）を用いて、ゲート電圧を印加した時の電流−電圧特性を測定し、キャリア移動度（線形領域）とオン／オフ比を算出した。
【０１８２】
以上のように作製した有機半導体トランジスタ素子のオン／オフ比を、有機化合物層の形成に用いた電荷輸送性材料のキャリア移動度と共に表７３に示す。表７３からわかるように、いずれの実施例に示す有機半導体トランジスタ素子もゲート電極に印加する電圧（ゲート電圧）の変化に伴い、ソース電極・有機半導体層・ドレイン電極間を流れるドレイン‐ソース電流が変化するスイッチング特性を示し、良好なオンオフ比を示していた。
しかし、比較例では、有機半導体薄膜の形成に用いた電荷輸送性材料のキャリア移動度が低かったために、ｏｎ／ｏｆｆ比が、実施例の素子と比べて劣っていることがわかった。また、有機半導体薄膜の形成に際し、液相成膜法が利用できない／気相成膜法を利用しなければならない場合があった。
【０１８３】
また、表７３に示す溶解性の評価は、各実施例で用いた例示化合物および比較例で例示化合物の代わりに用いた材料をジクロロエタン、トルエン、キシレン各々に対して２重量％となるように添加して攪拌した後の溶液の状態を目視により観察することにより実施した。表７３中の溶解性に関する評価基準は以下の通りである。
○(良)：完全に溶解
△(やや良)：少量の沈殿物が発生
×(難)：ほとんど不溶で多量の沈殿物が発生
【０１８４】
【表７３】
【図面の簡単な説明】
【０１８５】
【図１】本発明の有機半導体トランジスタ素子の層構成の一例を示した概略構成図である。
【図２】本発明の有機半導体トランジスタ素子の層構成の一例を示した概略構成図である。
【図３】本発明の有機半導体トランジスタ素子の層構成の一例を示した概略構成図である。
【符号の説明】
【０１８６】
１ 基板
２ ソース電極
３ ドレイン電極
４ 有機半導体層
５ ゲート電極
６ 絶縁層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ソース電極と、ドレイン電極と、前記ソース電極および前記ドレイン電極と導通可能に設けられた有機半導体と、該有機半導体に対して絶縁され且つ電場を印加することが可能なゲート電極とを少なくとも含む有機半導体トランジスタ素子において、
前記有機半導体が、少なくとも１種以上の下記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種を部分構造として含む繰り返し単位よりなる電荷輸送性ポリエーテルを１種以上含有することを特徴とする有機半導体トランジスタ素子。
【化１】
〔一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）中、Ａｒは置換もしくは未置換の１価のベンゼン基、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の多核芳香族炭化水素、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の縮合芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の１価の複素環を表し、Ｔは炭素数１〜６の２価の直鎖状炭化水素基または炭素数２〜１０の２価の分枝鎖状炭化水素基を表し、ｍは０〜３の整数を表す。また、Ｘは、下記一般式（ＩＩ）で表される置換基を表す。〕
【化２】
〔一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１は、置換もしくは未置換の２価のベンゼン環、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の多核芳香族炭化水素、炭素数１〜５の２価のアルキル基、置換もしくは未置換の２価のシクロヘキサン、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の縮合多環芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の２価の複素環を表し、
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、水素原子、アルキル基、シアノ基、ハロゲン基、置換アミノ基、置換もしくは未置換のアリール基、または、置換もしくは未置換のアラルキル基を有し、それぞれ相違あるいは少なくとも二種以上が同一であってもよい。
また、ｑは１〜１０の整数を表し、ｒは０〜１０の整数を表し、ｕは０または１を表し、ｕとｒとの和は少なくとも１以上であり、ｒが０の場合は、Ａｒ１は置換または未置換のチエニレン基である。〕
【請求項２】
前記有機半導体が、下記一般式（ＡＩＩＩ）で示される電荷輸送性ポリエーテルであることを特徴とする請求項１に記載の有機半導体トランジスタ素子。
【化３】
〔一般式（ＡＩＩＩ）において、Ａ１は前記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種以上を表し、ｐは５〜５０００の整数を表す。〕
【請求項３】
請求項１または２に記載の有機半導体トランジスタ素子を、溶媒中に溶解させた前記電荷輸送性ポリエーテルを少なくとも１種以上含む溶液を用いて製造する有機半導体トランジスタ素子の製造方法であって、
前記有機半導体が、前記溶液に外部刺激を付与して、前記溶液をノズルから液滴状に吐出させる方法を利用して形成されることを特徴とする有機半導体トランジスタ素子の製造方法。
【請求項４】
前記外部刺激が圧力であることを特徴とする請求項３に記載の有機半導体トランジスタ素子の製造方法。
【請求項５】
溶媒中に溶解させた前記電荷輸送性ポリエーテルを少なくとも１種以上含む溶液を用い、前記溶媒を含んだ状態の塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記塗膜を乾燥させる乾燥工程とを少なくとも経ることにより請求項１または２に記載の有機半導体トランジスタ素子を製造する有機半導体トランジスタ素子の製造方法であって、前記乾燥工程が、酸素濃度が１００ｐｐｍ以下、且つ、水分濃度が１００ｐｐｍ以下の環境下で実施されることを特徴とする有機半導体トランジスタ素子の製造方法。
【請求項６】
基板と、該基板上に設けられた１個以上の請求項１または２に記載の有機半導体トランジスタ素子とを含む半導体装置。
【請求項７】
ソース電極と、ドレイン電極と、前記ソース電極および前記ドレイン電極と導通可能に設けられた有機半導体と、該有機半導体に対して絶縁され且つ電場を印加することが可能なゲート電極とを少なくとも含む有機半導体トランジスタ素子において、
前記有機半導体が、少なくとも１種以上の下記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種を部分構造として含む繰り返し単位よりなる電荷輸送性ポリウレタンを１種以上含有することを特徴とする有機半導体トランジスタ素子。
【化４】
〔一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）中、Ａｒは置換もしくは未置換の１価のベンゼン基、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の多核芳香族炭化水素、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の縮合芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の１価の複素環を表し、Ｔは炭素数１〜６の２価の直鎖状炭化水素基または炭素数２〜１０の２価の分枝鎖状炭化水素基を表し、ｍは０〜３の整数を表す。また、Ｘは、下記一般式（ＩＩ）で表される置換基を表す。〕
【化５】
〔一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１は、置換もしくは未置換の２価のベンゼン環、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の多核芳香族炭化水素、炭素数１〜５の２価のアルキル基、置換もしくは未置換の２価のシクロヘキサン、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の縮合多環芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の２価の複素環を表し、
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、水素原子、アルキル基、シアノ基、ハロゲン基、置換アミノ基、置換もしくは未置換のアリール基、または、置換もしくは未置換のアラルキル基を有し、それぞれ相違あるいは少なくとも二種以上が同一であってもよい。
また、ｑは１〜１０の整数を表し、ｒは０〜１０の整数を表し、ｕは０または１を表し、ｕとｒとの和は少なくとも１以上であり、ｒが０の場合は、Ａｒ１は置換または未置換のチエニレン基である。〕
【請求項８】
前記有機半導体が、下記一般式（ＢＩＩＩ−１）または（ＢＩＩＩ−２）で示される電荷輸送性ポリウレタンであることを特徴とする請求項７に記載の有機半導体トランジスタ素子。
【化６】
〔一般式（ＢＩＩＩ−１）および（ＢＩＩＩ−２）において、Ａ１は前記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種以上を表し、ＹおよびＺは２価のジイソシアネート、アルコールまたはアミン残基を表し、ｐは５〜５０００の整数を表す。〕
【請求項９】
請求項７または８に記載の有機半導体トランジスタ素子を、溶媒中に溶解させた前記電荷輸送性ポリウレタンを少なくとも１種以上含む溶液を用いて製造する有機半導体トランジスタ素子の製造方法であって、
前記有機半導体が、前記溶液に外部刺激を付与して、前記溶液をノズルから液滴状に吐出させる方法を利用して形成されることを特徴とする有機半導体トランジスタ素子の製造方法。
【請求項１０】
前記外部刺激が圧力であることを特徴とする請求項９に記載の有機半導体トランジスタ素子の製造方法。
【請求項１１】
溶媒中に溶解させた前記電荷輸送性ポリウレタンを少なくとも１種以上含む溶液を用い、前記溶媒を含んだ状態の塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記塗膜を乾燥させる乾燥工程とを少なくとも経ることにより請求項７または８に記載の有機半導体トランジスタ素子を製造する有機半導体トランジスタ素子の製造方法であって、前記乾燥工程が、酸素濃度が１００ｐｐｍ以下、且つ、水分濃度が１００ｐｐｍ以下の環境下で実施されることを特徴とする有機半導体トランジスタ素子の製造方法。
【請求項１２】
基板と、該基板上に設けられた１個以上の請求項７または８に記載の有機半導体トランジスタ素子とを含む半導体装置。
【請求項１】
ソース電極と、ドレイン電極と、前記ソース電極および前記ドレイン電極と導通可能に設けられた有機半導体と、該有機半導体に対して絶縁され且つ電場を印加することが可能なゲート電極とを少なくとも含む有機半導体トランジスタ素子において、
前記有機半導体が、少なくとも１種以上の下記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種を部分構造として含む繰り返し単位よりなる電荷輸送性ポリエーテルを１種以上含有することを特徴とする有機半導体トランジスタ素子。
【化１】
〔一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）中、Ａｒは置換もしくは未置換の１価のベンゼン基、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の多核芳香族炭化水素、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の縮合芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の１価の複素環を表し、Ｔは炭素数１〜６の２価の直鎖状炭化水素基または炭素数２〜１０の２価の分枝鎖状炭化水素基を表し、ｍは０〜３の整数を表す。また、Ｘは、下記一般式（ＩＩ）で表される置換基を表す。〕
【化２】
〔一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１は、置換もしくは未置換の２価のベンゼン環、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の多核芳香族炭化水素、炭素数１〜５の２価のアルキル基、置換もしくは未置換の２価のシクロヘキサン、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の縮合多環芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の２価の複素環を表し、
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、水素原子、アルキル基、シアノ基、ハロゲン基、置換アミノ基、置換もしくは未置換のアリール基、または、置換もしくは未置換のアラルキル基を有し、それぞれ相違あるいは少なくとも二種以上が同一であってもよい。
また、ｑは１〜１０の整数を表し、ｒは０〜１０の整数を表し、ｕは０または１を表し、ｕとｒとの和は少なくとも１以上であり、ｒが０の場合は、Ａｒ１は置換または未置換のチエニレン基である。〕
【請求項２】
前記有機半導体が、下記一般式（ＡＩＩＩ）で示される電荷輸送性ポリエーテルであることを特徴とする請求項１に記載の有機半導体トランジスタ素子。
【化３】
〔一般式（ＡＩＩＩ）において、Ａ１は前記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種以上を表し、ｐは５〜５０００の整数を表す。〕
【請求項３】
請求項１または２に記載の有機半導体トランジスタ素子を、溶媒中に溶解させた前記電荷輸送性ポリエーテルを少なくとも１種以上含む溶液を用いて製造する有機半導体トランジスタ素子の製造方法であって、
前記有機半導体が、前記溶液に外部刺激を付与して、前記溶液をノズルから液滴状に吐出させる方法を利用して形成されることを特徴とする有機半導体トランジスタ素子の製造方法。
【請求項４】
前記外部刺激が圧力であることを特徴とする請求項３に記載の有機半導体トランジスタ素子の製造方法。
【請求項５】
溶媒中に溶解させた前記電荷輸送性ポリエーテルを少なくとも１種以上含む溶液を用い、前記溶媒を含んだ状態の塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記塗膜を乾燥させる乾燥工程とを少なくとも経ることにより請求項１または２に記載の有機半導体トランジスタ素子を製造する有機半導体トランジスタ素子の製造方法であって、前記乾燥工程が、酸素濃度が１００ｐｐｍ以下、且つ、水分濃度が１００ｐｐｍ以下の環境下で実施されることを特徴とする有機半導体トランジスタ素子の製造方法。
【請求項６】
基板と、該基板上に設けられた１個以上の請求項１または２に記載の有機半導体トランジスタ素子とを含む半導体装置。
【請求項７】
ソース電極と、ドレイン電極と、前記ソース電極および前記ドレイン電極と導通可能に設けられた有機半導体と、該有機半導体に対して絶縁され且つ電場を印加することが可能なゲート電極とを少なくとも含む有機半導体トランジスタ素子において、
前記有機半導体が、少なくとも１種以上の下記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種を部分構造として含む繰り返し単位よりなる電荷輸送性ポリウレタンを１種以上含有することを特徴とする有機半導体トランジスタ素子。
【化４】
〔一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）中、Ａｒは置換もしくは未置換の１価のベンゼン基、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の多核芳香族炭化水素、置換もしくは未置換の芳香環数２〜１０の１価の縮合芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の１価の複素環を表し、Ｔは炭素数１〜６の２価の直鎖状炭化水素基または炭素数２〜１０の２価の分枝鎖状炭化水素基を表し、ｍは０〜３の整数を表す。また、Ｘは、下記一般式（ＩＩ）で表される置換基を表す。〕
【化５】
〔一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１は、置換もしくは未置換の２価のベンゼン環、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の多核芳香族炭化水素、炭素数１〜５の２価のアルキル基、置換もしくは未置換の２価のシクロヘキサン、置換もしくは未置換の芳香族数２〜１０の２価の縮合多環芳香族炭化水素、または、置換もしくは未置換の２価の複素環を表し、
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、水素原子、アルキル基、シアノ基、ハロゲン基、置換アミノ基、置換もしくは未置換のアリール基、または、置換もしくは未置換のアラルキル基を有し、それぞれ相違あるいは少なくとも二種以上が同一であってもよい。
また、ｑは１〜１０の整数を表し、ｒは０〜１０の整数を表し、ｕは０または１を表し、ｕとｒとの和は少なくとも１以上であり、ｒが０の場合は、Ａｒ１は置換または未置換のチエニレン基である。〕
【請求項８】
前記有機半導体が、下記一般式（ＢＩＩＩ−１）または（ＢＩＩＩ−２）で示される電荷輸送性ポリウレタンであることを特徴とする請求項７に記載の有機半導体トランジスタ素子。
【化６】
〔一般式（ＢＩＩＩ−１）および（ＢＩＩＩ−２）において、Ａ１は前記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される構造から選択された少なくとも１種以上を表し、ＹおよびＺは２価のジイソシアネート、アルコールまたはアミン残基を表し、ｐは５〜５０００の整数を表す。〕
【請求項９】
請求項７または８に記載の有機半導体トランジスタ素子を、溶媒中に溶解させた前記電荷輸送性ポリウレタンを少なくとも１種以上含む溶液を用いて製造する有機半導体トランジスタ素子の製造方法であって、
前記有機半導体が、前記溶液に外部刺激を付与して、前記溶液をノズルから液滴状に吐出させる方法を利用して形成されることを特徴とする有機半導体トランジスタ素子の製造方法。
【請求項１０】
前記外部刺激が圧力であることを特徴とする請求項９に記載の有機半導体トランジスタ素子の製造方法。
【請求項１１】
溶媒中に溶解させた前記電荷輸送性ポリウレタンを少なくとも１種以上含む溶液を用い、前記溶媒を含んだ状態の塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記塗膜を乾燥させる乾燥工程とを少なくとも経ることにより請求項７または８に記載の有機半導体トランジスタ素子を製造する有機半導体トランジスタ素子の製造方法であって、前記乾燥工程が、酸素濃度が１００ｐｐｍ以下、且つ、水分濃度が１００ｐｐｍ以下の環境下で実施されることを特徴とする有機半導体トランジスタ素子の製造方法。
【請求項１２】
基板と、該基板上に設けられた１個以上の請求項７または８に記載の有機半導体トランジスタ素子とを含む半導体装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２００７−１４２２８８（Ｐ２００７−１４２２８８Ａ）
【公開日】平成１９年６月７日（２００７．６．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３３６３８６（Ｐ２００５−３３６３８６）
【出願日】平成１７年１１月２１日（２００５．１１．２１）
【出願人】（０００００５４９６）富士ゼロックス株式会社 (21,908)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年６月７日（２００７．６．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１１月２１日（２００５．１１．２１）
【出願人】（０００００５４９６）富士ゼロックス株式会社 (21,908)
【Ｆターム（参考）】
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