貼合せ基板製造装置の洗浄方法、貼合せ基板製造装置の洗浄用治具及び貼合せ基板製造装置の洗浄装置
【課題】 基板の吸着面を効率的に洗浄し、かつ安定した洗浄結果を得ることを可能とした貼合せ基板製造装置の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 基板を吸着保持する吸着面９ａを備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置して、吸着面９ａを洗浄する。
【解決手段】 基板を吸着保持する吸着面９ａを備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置して、吸着面９ａを洗浄する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶表示装置（Liquid Crystal Dispiay;LCD）等の２枚の基板を貼り合せたパネルを製造する貼合せ基板製造装置に関するものである。
近年、ＬＣＤ等の平面表示パネルは、大型化が進むとともに、低コスト化の要求が高まっている。そこで、２枚の基板を貼り合せる貼合せ基板製造装置においても、大型化及び生産性の向上が求められている。
【背景技術】
【０００２】
貼合せ基板製造装置は、処理室内に上基板と下基板を保持するチャックを備え、そのチャックに上基板及び下基板を真空チャックあるいは静電チャックにより吸着可能としている。そして、両チャックに上基板及び下基板を吸着した状態で処理室内を減圧し、その状態で両基板を加圧して貼り合せるようになっている。
【０００３】
上記のような貼合せ基板製造装置では、チャックの吸着面に付着する異物がチャックの吸着力を低下させ、貼合せ基板の製造時に基板の落下や貼り合せ精度の低下をもたらす原因となる。
【０００４】
そこで、作業者がチャックを貼合せ基板製造装置から定期的に取り外して、洗浄あるいは清掃を行っている。また、貼り合せ基板の大型化にともなって、大型化したチャックを洗浄する場合には、貼合せ基板製造装置から取り外すことなく、処理室内の吸着面を作業者の手作業により洗浄することも行われている。
【０００５】
関連する洗浄方法として、特許文献１には、レチクルの洗浄方法が開示され、特許文献２にはフロロカーボン系プラズマ生成用シリコン製電極の洗浄方法が開示され、特許文献３にはパスボックス、記録ヘッドの洗浄方法が開示されている。
【特許文献１】特開２００２−１２３９号公報
【特許文献２】特開２００２−２３１６９９号公報
【特許文献３】特開２００２−３６１１９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のように、作業者がチャックを取り外してその吸着面の洗浄を行う方法では、チャックを装置から取り外すために要する時間、洗浄後にチャックを装置に取り付ける時間及びチャックの取付位置を調整するための時間等が必要となり、生産性を低下させる原因となる。また、チャックを取り外して洗浄するための作業場所を確保する必要もある。
【０００７】
チャックを取り外すことなく洗浄する方法では、チャックの取り外し及び取り付けに要する時間は不要であり、作業場所を確保する必要もない。
しかし、作業者による手作業での洗浄は、洗浄結果にばらつきが発生し易いという問題点がある。
【０００８】
この発明の目的は、基板の吸着面を効率的に洗浄し、かつ安定した洗浄結果を得ることを可能とした貼合せ基板製造装置の洗浄方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的は、基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置して、前記吸着面を洗浄する貼合せ基板製造装置の洗浄方法により達成される。
また、上記目的は、基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面を前記洗浄用治具に満たした洗浄液に浸して洗浄する貼合せ基板製造装置の洗浄方法により達成される。
【００１０】
また、上記目的は、基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面に洗浄用気体を噴出して洗浄する貼合せ基板製造装置の洗浄方法により達成される。
【００１１】
また、上記目的は、基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面に粘着テープを押圧して該吸着面を洗浄する貼合せ基板製造装置の洗浄方法により達成される。
【００１２】
また、上記目的は、基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に設置して、前記吸着面を洗浄可能とした貼合せ基板製造装置の洗浄用治具入力より達成される。
また、上記目的は、貼合せ基板製造装置に設けた案内手段と、前記案内手段に沿って移動して、基板を吸着保持する吸着面を洗浄する治具とを備えた貼合せ基板製造装置の洗浄装置により達成される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、基板の吸着面を効率的に洗浄し、かつ安定した洗浄結果を得ることを可能とした貼合せ基板製造装置の洗浄方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
（第一の実施の形態）
図１は、この発明を具体化した第一の実施の形態を示す。この実施の形態は、処理室内に洗浄のための治具を設置して、主に上基板を保持する上保持部（静電チャック）を洗浄する洗浄装置を示す。
【００１５】
治具の外容器１は、上方を開口した箱状に形成され、その外容器１内には同じく上方を開口した内容器２が配設される。内容器２は外容器１に対し所定の間隙を隔てて設置されている。
【００１６】
前記外容器１の底面には、複数本の支持脚３が設けられ、貼合せ基板製造装置の処理室内で外容器１を支持可能となっている。また、各支持脚３は外容器１の設置位置を上下方向に調節可能としたアジャスター機能を備えている。
【００１７】
前記内容器２には、外容器１の外部に連通する供給管４が接続され、その供給管４を介して内容器２内に洗浄液５を供給可能となっている。また、内容器２には外容器１の外部に連通する排出管６が接続され、内容器２内の洗浄液５を排出可能となっている。前記排出管６は前記外容器１にも接続され、内容器２からオーバーフローした洗浄液５を排出可能となっている。
【００１８】
前記内容器２内には超音波振動子７が配設され、その超音波振動子７は外容器１の外方に設置される超音波発振器８により駆動されて、洗浄液５に超音波振動を付与可能となっている。
【００１９】
このように構成された治具で上保持部９を洗浄する場合には、貼合せ基板製造装置の処理室内に基板を搬入する搬送面あるいは貼合せ基板製造装置のメンテナンスを行うメンテナンス面から処理室内に治具を搬入する。そして、処理室内に設置後に支持脚３で高さ及び水平度の調整を行い、上保持部９の吸着面９ａが内容器２内に位置する状態とする。
【００２０】
この状態で内容器２内に例えば純水等の洗浄液５を満たして、上保持部９の吸着面９ａが洗浄液５内に浸る状態とする。そして、超音波振動子７を振動させると、上保持部９の吸着面９ａが洗浄液５で超音波洗浄される。
【００２１】
このとき、供給管４から内容器２内に洗浄液５を供給し続けて、洗浄液５を内容器２からオーバーフローさせる。すると、吸着面９ａから剥離したごみ等の異物は、オーバーフローした洗浄液５とともに排出管６から排出される。
【００２２】
吸着面９ａの洗浄が終了した後には、内容器２内の洗浄液５を排出し、治具を処理室外へ移送する。また、純水を染み込ませたクリーンウェスで吸着面９ａに付着する水分を除去し、さらに表面の水分を蒸発させるためにアセトン等の揮発性溶液を用いて、吸着面９ａを拭き上げる。その後、処理室を密封し、真空引きすることで不要な雰囲気を除去する。
【００２３】
上記のような治具を使用した洗浄装置では、次に示す作用効果を得ることができる。
（１）治具を処理室内に設置して上保持部９の吸着面９ａを洗浄することができる。従って、上保持部９を貼合せ基板製造装置の処理室内から取り外す必要はない。
（２）吸着面９ａの全面を内容器２内に浸して洗浄することができる。従って、上保持部９の吸着面９ａを一様にかつ速やかに洗浄することができる。
（３）超音波洗浄により、吸着面９ａを効率よく洗浄することができる。
（４）洗浄液５を内容器２からオーバーフローさせながら洗浄することができるので、吸着面９ａから洗い落とした異物の再付着を防止することができる。
（第二の実施の形態）
図２は、第二の実施の形態を示す。この実施の形態は、治具を上保持部９の吸着面９ａに沿って移動させながら吸着面９ａを洗浄するようにしたものである。
【００２４】
同図において、外容器１０内には内容器１１が配設され、内容器１１には洗浄液５を供給する供給管（図示しない）が接続される。また、外容器１０及び内容器１１には排出管（図示しない）が接続される。前記内容器２内には超音波振動子７が配設され、超音波発振器８で駆動される。
【００２５】
前記外容器１０及び内容器１１は、吸着面９ａの幅（図２において紙面に直交する方向）に対応する幅で形成される。
貼合せ基板製造装置の外側面には案内手段としてガイドレール１２が水平方向に延設され、外容器１０の両端部は処理室外まで延設され、かつ上方に延設されて支持腕部１３が形成されている。その支持腕部１３にはローラー１４が回転可能に支持され、そのローラー１４が前記ガイドレール１２上を移動可能となっている。
【００２６】
従って、外容器１はガイドレール１２上を転動するローラー１４により上保持部９の吸着面９ａに沿って移動可能である。また、内容器１１からオーバーフローする洗浄液５で吸着面９ａが洗浄されるようになっている。
【００２７】
支持腕部１３の中間部には、外容器１０と吸着面９ａとの間隔を調整可能とするアジャスター１５が設けられている。
上記のような治具を使用した洗浄装置では、前記第一の実施の形態の作用効果（１）（３）（４）に加えて、次に示す作用効果を得ることができる。
（１）上保持部９の吸着面９ａに沿って移動する治具で洗浄することができるので、外容器１０及び内容器１１を吸着面９ａより小さくすることができる。従って、治具のコストを低減することができる。
（第三の実施の形態）
図３は、第三の実施の形態を示す。この実施の形態は、気体を洗浄用媒体として使用する治具で吸着面９ａを洗浄する構成としたものである。
【００２８】
すなわち、外容器１６内には超音波振動子を備えた気体噴出部１７が配設され、その気体噴出部１７には外容器１６の外部から例えば空気が洗浄用気体として大気圧以上の所定の気圧で供給される。そして、気体噴出部１７から空気が上方に向かって噴出される。この空気は、ごみ等が濾過された清浄な空気である。
【００２９】
また、外容器１６には気体噴出部１７から噴出された空気を排出する排気管１８が接続されている。
前記外容器１６には、前記第二の実施の形態と同様な支持腕部１３及びローラー１４が設けられ、そのローラー１４がガイドレール１２上を転動可能である。従って、外容器１６は吸着面９ａに沿って移動可能である。
【００３０】
このように構成された治具では、吸着面９ａに沿って移動する外容器１６内で、気体噴出部１７から吸着面９ａに空気が噴出されて、吸着面９ａが洗浄される。従って、前記第二の実施の形態と同様な作用効果を得ることができる。
【００３１】
また、洗浄媒体を気体とすることにより、外容器１６の下方を開口するとともに、下基板を保持する下保持部の吸着面に沿って移動可能に支持し、気体噴出部１７から下方に向かって気体を噴出することにより、下保持部の吸着面を洗浄することも可能である。
（第四の実施の形態）
図４は、第四の実施の形態を示す。この実施の形態は、外容器２０を上下方向に開口するとともに、外容器２０内の気体噴出部２１を上下方向に回転可能とし、上保持部９の吸着面９ａと、下基板を保持する下保持部１９の吸着面１９ａを選択して洗浄可能とするものである。その他の構成は、前記第三の実施の形態と同様である。
【００３２】
このような構成とすることにより、第三の実施の形態で得られた作用効果に加えて、共通の治具で上保持部９の吸着面９ａ及び下保持部１９の吸着面１９ａを洗浄することができる。従って、吸着面９ａ，１９ａを洗浄する治具を共通化して、治具のコストを低減することができるので、洗浄コストを低減することができる。
（第五の実施の形態）
図５は、第五の実施の形態を示す。この実施の形態は、外容器２０内の気体噴出部２１から空気を上下両方に同時に噴出可能としたものであり、その他の構成は前記第四の実施の形態と同様である。
【００３３】
このような構成により、吸着面９ａ，１９ａを同時に洗浄することができるので、洗浄時間を短縮して、洗浄コストをさらに低減することができる。
（第六の実施の形態）
図６は、第六の実施の形態を示す。この実施の形態の治具は、洗浄媒体として粘着テープを使用したものである。吸着面９ａの幅方向（図６において紙面に直交する方向）両端部に位置する枠体２２の基端部は回動軸２２ａにより支持腕部２３の下端部に回動可能に支持され、その支持腕部２３はローラー２４によりガイドレール１２に沿って移動可能に支持される。従って、枠体２２は吸着面９ａに沿って移動可能に支持される。
【００３４】
前記枠体２２の先端部間には押圧ローラー２５が回転可能に支持され、基端部には粘着テープ２６を送り出す送り出しローラー２７と、粘着テープ２６を巻き取る巻取りローラー２８が配設されている。そして、粘着テープ２６は押圧ローラー２５の回転にともなって、送り出しローラー２７から押圧ローラー２５を経て、巻取りローラー２８に巻き取られる。
【００３５】
前記枠体２２と支持腕部２３との間には、コイルスプリング２９が配設され、そのコイルスプリング２９の付勢力により、前記押圧ローラー２５が吸着面９ａに押圧される。
このように構成された治具では、枠体２２が吸着面９ａに沿って移動すると、押圧ローラー２５が吸着面９ａに押圧された状態で転動する。
【００３６】
このとき、押圧ローラー２５の転動にともなって、粘着テープ２６が送り出しローラー２７から送り出され、押圧ローラー２５を経て巻取りローラー２８に巻き取られる。そして、押圧ローラー２５により粘着テープ２６の粘着面が吸着面９ａに順次押圧されることにより、吸着面９ａに付着している異物が粘着テープ２６で剥ぎ取られる。
【００３７】
従って、上記のような治具により、吸着面９ａの清掃（洗浄）を行うことができるとともに、押圧ローラー２５をコイルスプリング２９の付勢力により吸着面９ａに押圧するので、吸着面９ａと枠体２２の間隔を厳密に調整する必要はない。
（第七の実施の形態）
図７は、第七の実施の形態を示す。この実施の形態は、粘着テープを使用した治具により、上保持部９及び下保持部１９の吸着面９ａ，１９ａを同時に洗浄するようにしたものである。
【００３８】
吸着面９ａ，１９ａの幅方向両端部において、一対の枠体３０ａ，３０ｂの中間部が支持腕部２３に対し回動軸３０ｃを介して回動可能に支持され、各枠体３０ａ，３０ｂにそれぞれ押圧ローラー２５、送り出しローラー２７及び巻取りローラー２８が設けられている。そして、粘着テープ２６が送り出しローラー２７から押圧ローラー２５を経て巻取りローラー２８に移動可能である。
【００３９】
前記枠体３０ａ，３０ｂの基端部はコイルスプリング３１により互いに遠ざかる方向に付勢されている。従って、枠体３０ａの押圧ローラー２５が吸着面９ａに押圧され、枠体３０ｂの押圧ローラー２５が吸着面１９ａに押圧される。
【００４０】
このような構成により、支持腕部２３をガイドレール１２に沿って移動させれば、枠体３０ａ，３０ｂの押圧ローラー２５が吸着面９ａ，１９ａに押圧された状態で転動する。従って、第六の実施の形態で得られた作用効果に加えて、吸着面９ａ，１９ａを同時に洗浄可能とする作用効果を得ることができる。
（第八の実施の形態）
図８は、第八の実施の形態を示す。粘着テープを使用した治具により、上保持部９及び下保持部１９の吸着面９ａ，１９ａを一組の粘着テープで洗浄可能としたものである。
【００４１】
吸着面９ａ，１９ａの幅方向両端部において、枠体３２の中間部が支持腕部２３に対し回動軸３２ａを介して回動可能に支持され、各枠体３２にそれぞれ押圧ローラー３３ａ，３３ｂ及び案内ローラー３４が設けられている。そして、押圧ローラー３３ａ，３３ｂ及び案内ローラー３４間で無端状の粘着テープ３６が移動可能に支持されている。
【００４２】
前記枠体３２の基端部は付勢装置３５を介して支持腕部２３に接続されている。この付勢装置３５は、支持腕部２３を支点として枠体３２を押す動作と、枠体３２を引く動作とを切換可能となっている。
【００４３】
そして、枠体３２が押されると、押圧ローラー３３ｂが吸着面１９ａに押圧され、枠体３２が引かれると、押圧ローラー３３ａが吸着面９ａに押圧される。
このように構成された治具では、押圧ローラー３３ａを吸着面９ａに押圧した状態で枠体３２をガイドレール１２に沿って移動させれば、押圧ローラー３３ａの転動にともなって、吸着面９ａが粘着テープ３６で洗浄される。
【００４４】
また、押圧ローラー３３ｂを吸着面１９ａに押圧した状態で枠体３２をガイドレール１２に沿って移動させれば、押圧ローラー３３ｂの転動にともなって、吸着面１９ａが粘着テープ３６で洗浄される。
【００４５】
このような構成により、第六の実施の形態で得られた作用効果に加えて、吸着面９ａ，１９ａを共通の治具で洗浄することができるとともに、吸着面９ａ，１９ａを一組の粘着テープ３６で洗浄することができる。従って、洗浄コストの低減を図ることができる。
【００４６】
上記実施の形態は、次に示すように変更してもよい。
・第一及び第二の実施の形態において、排出管６から排出された洗浄液５を濾過して、内容器２に循環させるようにしてもよい。
（付記１）
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置して、前記吸着面を洗浄することを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記２）
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面を前記洗浄用治具に満たした洗浄液に浸して洗浄することを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記３）
前記洗浄液を超音波振動させて洗浄することを特徴とする付記２記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記４）
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面に洗浄用気体を噴出して洗浄することを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記５）
前記洗浄用気体を上保持部及び下保持部の吸着面に噴出して洗浄することを特徴とする付記４記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。（５）
（付記６）
前記洗浄用気体を上保持部及び下保持部の吸着面に並行して噴出して洗浄することを特徴とする付記５記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記７）
前記洗浄用気体を上保持部及び下保持部の吸着面に順次噴出して洗浄することを特徴とする付記５記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記８）
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面に粘着テープを押圧して該吸着面を洗浄することを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記９）
前記粘着テープを、上保持部及び下保持部の吸着面に押圧して、該吸着面を洗浄することを特徴とする付記８記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記１０）
前記粘着テープを、上保持部及び下保持部の吸着面に並行して押圧して、該吸着面を洗浄することを特徴とする付記９記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記１１）
前記粘着テープを、上保持部及び下保持部の吸着面に順次押圧して、該吸着面を洗浄することを特徴とする付記９記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記１２）
前記治具を前記吸着面に沿って移動させて該吸着面を洗浄することを特徴とする付記２乃至１１のいずれかに記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記１３）
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に設置して、前記吸着面を洗浄可能としたことを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄用治具。
（付記１４）
洗浄液を貯留可能とするとともに、基板を吸着保持する吸着面を前記洗浄液に浸すようにした内容器と、
前記洗浄液を超音波振動させる超音波振動子と
を備えたことを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄用治具。
（付記１５）
貼合せ基板製造装置に設けた案内手段と、
前記案内手段に沿って移動して、基板を吸着保持する吸着面を洗浄する治具と
を備えたことを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄装置。
（付記１６）
前記治具は、超音波振動する洗浄液で前記吸着面を洗浄することを特徴とする付記１５記載の貼合せ基板製造装置の洗浄装置。
（付記１７）
前記治具は、超音波振動する洗浄用気体で前記吸着面を洗浄することを特徴とする付記１５記載の貼合せ基板製造装置の洗浄装置。
（付記１８）
前記治具は、粘着テープで前記吸着面を洗浄することを特徴とする付記１５記載の貼合せ基板製造装置の洗浄装置。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】第一の実施の形態を示す概要図である。
【図２】第二の実施の形態を示す概要図である。
【図３】第三の実施の形態を示す概要図である。
【図４】第四の実施の形態を示す概要図である。
【図５】第五の実施の形態を示す概要図である。
【図６】第六の実施の形態を示す概要図である。
【図７】第七の実施の形態を示す概要図である。
【図８】第八の実施の形態を示す概要図である。
【符号の説明】
【００４８】
５ 洗浄液
７ 超音波振動子
９ａ，１９ａ 吸着面
１２ 案内手段（ガイドレール）
１７，２１ 気体噴出部
２６，３６ 粘着テープ
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶表示装置（Liquid Crystal Dispiay;LCD）等の２枚の基板を貼り合せたパネルを製造する貼合せ基板製造装置に関するものである。
近年、ＬＣＤ等の平面表示パネルは、大型化が進むとともに、低コスト化の要求が高まっている。そこで、２枚の基板を貼り合せる貼合せ基板製造装置においても、大型化及び生産性の向上が求められている。
【背景技術】
【０００２】
貼合せ基板製造装置は、処理室内に上基板と下基板を保持するチャックを備え、そのチャックに上基板及び下基板を真空チャックあるいは静電チャックにより吸着可能としている。そして、両チャックに上基板及び下基板を吸着した状態で処理室内を減圧し、その状態で両基板を加圧して貼り合せるようになっている。
【０００３】
上記のような貼合せ基板製造装置では、チャックの吸着面に付着する異物がチャックの吸着力を低下させ、貼合せ基板の製造時に基板の落下や貼り合せ精度の低下をもたらす原因となる。
【０００４】
そこで、作業者がチャックを貼合せ基板製造装置から定期的に取り外して、洗浄あるいは清掃を行っている。また、貼り合せ基板の大型化にともなって、大型化したチャックを洗浄する場合には、貼合せ基板製造装置から取り外すことなく、処理室内の吸着面を作業者の手作業により洗浄することも行われている。
【０００５】
関連する洗浄方法として、特許文献１には、レチクルの洗浄方法が開示され、特許文献２にはフロロカーボン系プラズマ生成用シリコン製電極の洗浄方法が開示され、特許文献３にはパスボックス、記録ヘッドの洗浄方法が開示されている。
【特許文献１】特開２００２−１２３９号公報
【特許文献２】特開２００２−２３１６９９号公報
【特許文献３】特開２００２−３６１１９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のように、作業者がチャックを取り外してその吸着面の洗浄を行う方法では、チャックを装置から取り外すために要する時間、洗浄後にチャックを装置に取り付ける時間及びチャックの取付位置を調整するための時間等が必要となり、生産性を低下させる原因となる。また、チャックを取り外して洗浄するための作業場所を確保する必要もある。
【０００７】
チャックを取り外すことなく洗浄する方法では、チャックの取り外し及び取り付けに要する時間は不要であり、作業場所を確保する必要もない。
しかし、作業者による手作業での洗浄は、洗浄結果にばらつきが発生し易いという問題点がある。
【０００８】
この発明の目的は、基板の吸着面を効率的に洗浄し、かつ安定した洗浄結果を得ることを可能とした貼合せ基板製造装置の洗浄方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的は、基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置して、前記吸着面を洗浄する貼合せ基板製造装置の洗浄方法により達成される。
また、上記目的は、基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面を前記洗浄用治具に満たした洗浄液に浸して洗浄する貼合せ基板製造装置の洗浄方法により達成される。
【００１０】
また、上記目的は、基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面に洗浄用気体を噴出して洗浄する貼合せ基板製造装置の洗浄方法により達成される。
【００１１】
また、上記目的は、基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面に粘着テープを押圧して該吸着面を洗浄する貼合せ基板製造装置の洗浄方法により達成される。
【００１２】
また、上記目的は、基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に設置して、前記吸着面を洗浄可能とした貼合せ基板製造装置の洗浄用治具入力より達成される。
また、上記目的は、貼合せ基板製造装置に設けた案内手段と、前記案内手段に沿って移動して、基板を吸着保持する吸着面を洗浄する治具とを備えた貼合せ基板製造装置の洗浄装置により達成される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、基板の吸着面を効率的に洗浄し、かつ安定した洗浄結果を得ることを可能とした貼合せ基板製造装置の洗浄方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
（第一の実施の形態）
図１は、この発明を具体化した第一の実施の形態を示す。この実施の形態は、処理室内に洗浄のための治具を設置して、主に上基板を保持する上保持部（静電チャック）を洗浄する洗浄装置を示す。
【００１５】
治具の外容器１は、上方を開口した箱状に形成され、その外容器１内には同じく上方を開口した内容器２が配設される。内容器２は外容器１に対し所定の間隙を隔てて設置されている。
【００１６】
前記外容器１の底面には、複数本の支持脚３が設けられ、貼合せ基板製造装置の処理室内で外容器１を支持可能となっている。また、各支持脚３は外容器１の設置位置を上下方向に調節可能としたアジャスター機能を備えている。
【００１７】
前記内容器２には、外容器１の外部に連通する供給管４が接続され、その供給管４を介して内容器２内に洗浄液５を供給可能となっている。また、内容器２には外容器１の外部に連通する排出管６が接続され、内容器２内の洗浄液５を排出可能となっている。前記排出管６は前記外容器１にも接続され、内容器２からオーバーフローした洗浄液５を排出可能となっている。
【００１８】
前記内容器２内には超音波振動子７が配設され、その超音波振動子７は外容器１の外方に設置される超音波発振器８により駆動されて、洗浄液５に超音波振動を付与可能となっている。
【００１９】
このように構成された治具で上保持部９を洗浄する場合には、貼合せ基板製造装置の処理室内に基板を搬入する搬送面あるいは貼合せ基板製造装置のメンテナンスを行うメンテナンス面から処理室内に治具を搬入する。そして、処理室内に設置後に支持脚３で高さ及び水平度の調整を行い、上保持部９の吸着面９ａが内容器２内に位置する状態とする。
【００２０】
この状態で内容器２内に例えば純水等の洗浄液５を満たして、上保持部９の吸着面９ａが洗浄液５内に浸る状態とする。そして、超音波振動子７を振動させると、上保持部９の吸着面９ａが洗浄液５で超音波洗浄される。
【００２１】
このとき、供給管４から内容器２内に洗浄液５を供給し続けて、洗浄液５を内容器２からオーバーフローさせる。すると、吸着面９ａから剥離したごみ等の異物は、オーバーフローした洗浄液５とともに排出管６から排出される。
【００２２】
吸着面９ａの洗浄が終了した後には、内容器２内の洗浄液５を排出し、治具を処理室外へ移送する。また、純水を染み込ませたクリーンウェスで吸着面９ａに付着する水分を除去し、さらに表面の水分を蒸発させるためにアセトン等の揮発性溶液を用いて、吸着面９ａを拭き上げる。その後、処理室を密封し、真空引きすることで不要な雰囲気を除去する。
【００２３】
上記のような治具を使用した洗浄装置では、次に示す作用効果を得ることができる。
（１）治具を処理室内に設置して上保持部９の吸着面９ａを洗浄することができる。従って、上保持部９を貼合せ基板製造装置の処理室内から取り外す必要はない。
（２）吸着面９ａの全面を内容器２内に浸して洗浄することができる。従って、上保持部９の吸着面９ａを一様にかつ速やかに洗浄することができる。
（３）超音波洗浄により、吸着面９ａを効率よく洗浄することができる。
（４）洗浄液５を内容器２からオーバーフローさせながら洗浄することができるので、吸着面９ａから洗い落とした異物の再付着を防止することができる。
（第二の実施の形態）
図２は、第二の実施の形態を示す。この実施の形態は、治具を上保持部９の吸着面９ａに沿って移動させながら吸着面９ａを洗浄するようにしたものである。
【００２４】
同図において、外容器１０内には内容器１１が配設され、内容器１１には洗浄液５を供給する供給管（図示しない）が接続される。また、外容器１０及び内容器１１には排出管（図示しない）が接続される。前記内容器２内には超音波振動子７が配設され、超音波発振器８で駆動される。
【００２５】
前記外容器１０及び内容器１１は、吸着面９ａの幅（図２において紙面に直交する方向）に対応する幅で形成される。
貼合せ基板製造装置の外側面には案内手段としてガイドレール１２が水平方向に延設され、外容器１０の両端部は処理室外まで延設され、かつ上方に延設されて支持腕部１３が形成されている。その支持腕部１３にはローラー１４が回転可能に支持され、そのローラー１４が前記ガイドレール１２上を移動可能となっている。
【００２６】
従って、外容器１はガイドレール１２上を転動するローラー１４により上保持部９の吸着面９ａに沿って移動可能である。また、内容器１１からオーバーフローする洗浄液５で吸着面９ａが洗浄されるようになっている。
【００２７】
支持腕部１３の中間部には、外容器１０と吸着面９ａとの間隔を調整可能とするアジャスター１５が設けられている。
上記のような治具を使用した洗浄装置では、前記第一の実施の形態の作用効果（１）（３）（４）に加えて、次に示す作用効果を得ることができる。
（１）上保持部９の吸着面９ａに沿って移動する治具で洗浄することができるので、外容器１０及び内容器１１を吸着面９ａより小さくすることができる。従って、治具のコストを低減することができる。
（第三の実施の形態）
図３は、第三の実施の形態を示す。この実施の形態は、気体を洗浄用媒体として使用する治具で吸着面９ａを洗浄する構成としたものである。
【００２８】
すなわち、外容器１６内には超音波振動子を備えた気体噴出部１７が配設され、その気体噴出部１７には外容器１６の外部から例えば空気が洗浄用気体として大気圧以上の所定の気圧で供給される。そして、気体噴出部１７から空気が上方に向かって噴出される。この空気は、ごみ等が濾過された清浄な空気である。
【００２９】
また、外容器１６には気体噴出部１７から噴出された空気を排出する排気管１８が接続されている。
前記外容器１６には、前記第二の実施の形態と同様な支持腕部１３及びローラー１４が設けられ、そのローラー１４がガイドレール１２上を転動可能である。従って、外容器１６は吸着面９ａに沿って移動可能である。
【００３０】
このように構成された治具では、吸着面９ａに沿って移動する外容器１６内で、気体噴出部１７から吸着面９ａに空気が噴出されて、吸着面９ａが洗浄される。従って、前記第二の実施の形態と同様な作用効果を得ることができる。
【００３１】
また、洗浄媒体を気体とすることにより、外容器１６の下方を開口するとともに、下基板を保持する下保持部の吸着面に沿って移動可能に支持し、気体噴出部１７から下方に向かって気体を噴出することにより、下保持部の吸着面を洗浄することも可能である。
（第四の実施の形態）
図４は、第四の実施の形態を示す。この実施の形態は、外容器２０を上下方向に開口するとともに、外容器２０内の気体噴出部２１を上下方向に回転可能とし、上保持部９の吸着面９ａと、下基板を保持する下保持部１９の吸着面１９ａを選択して洗浄可能とするものである。その他の構成は、前記第三の実施の形態と同様である。
【００３２】
このような構成とすることにより、第三の実施の形態で得られた作用効果に加えて、共通の治具で上保持部９の吸着面９ａ及び下保持部１９の吸着面１９ａを洗浄することができる。従って、吸着面９ａ，１９ａを洗浄する治具を共通化して、治具のコストを低減することができるので、洗浄コストを低減することができる。
（第五の実施の形態）
図５は、第五の実施の形態を示す。この実施の形態は、外容器２０内の気体噴出部２１から空気を上下両方に同時に噴出可能としたものであり、その他の構成は前記第四の実施の形態と同様である。
【００３３】
このような構成により、吸着面９ａ，１９ａを同時に洗浄することができるので、洗浄時間を短縮して、洗浄コストをさらに低減することができる。
（第六の実施の形態）
図６は、第六の実施の形態を示す。この実施の形態の治具は、洗浄媒体として粘着テープを使用したものである。吸着面９ａの幅方向（図６において紙面に直交する方向）両端部に位置する枠体２２の基端部は回動軸２２ａにより支持腕部２３の下端部に回動可能に支持され、その支持腕部２３はローラー２４によりガイドレール１２に沿って移動可能に支持される。従って、枠体２２は吸着面９ａに沿って移動可能に支持される。
【００３４】
前記枠体２２の先端部間には押圧ローラー２５が回転可能に支持され、基端部には粘着テープ２６を送り出す送り出しローラー２７と、粘着テープ２６を巻き取る巻取りローラー２８が配設されている。そして、粘着テープ２６は押圧ローラー２５の回転にともなって、送り出しローラー２７から押圧ローラー２５を経て、巻取りローラー２８に巻き取られる。
【００３５】
前記枠体２２と支持腕部２３との間には、コイルスプリング２９が配設され、そのコイルスプリング２９の付勢力により、前記押圧ローラー２５が吸着面９ａに押圧される。
このように構成された治具では、枠体２２が吸着面９ａに沿って移動すると、押圧ローラー２５が吸着面９ａに押圧された状態で転動する。
【００３６】
このとき、押圧ローラー２５の転動にともなって、粘着テープ２６が送り出しローラー２７から送り出され、押圧ローラー２５を経て巻取りローラー２８に巻き取られる。そして、押圧ローラー２５により粘着テープ２６の粘着面が吸着面９ａに順次押圧されることにより、吸着面９ａに付着している異物が粘着テープ２６で剥ぎ取られる。
【００３７】
従って、上記のような治具により、吸着面９ａの清掃（洗浄）を行うことができるとともに、押圧ローラー２５をコイルスプリング２９の付勢力により吸着面９ａに押圧するので、吸着面９ａと枠体２２の間隔を厳密に調整する必要はない。
（第七の実施の形態）
図７は、第七の実施の形態を示す。この実施の形態は、粘着テープを使用した治具により、上保持部９及び下保持部１９の吸着面９ａ，１９ａを同時に洗浄するようにしたものである。
【００３８】
吸着面９ａ，１９ａの幅方向両端部において、一対の枠体３０ａ，３０ｂの中間部が支持腕部２３に対し回動軸３０ｃを介して回動可能に支持され、各枠体３０ａ，３０ｂにそれぞれ押圧ローラー２５、送り出しローラー２７及び巻取りローラー２８が設けられている。そして、粘着テープ２６が送り出しローラー２７から押圧ローラー２５を経て巻取りローラー２８に移動可能である。
【００３９】
前記枠体３０ａ，３０ｂの基端部はコイルスプリング３１により互いに遠ざかる方向に付勢されている。従って、枠体３０ａの押圧ローラー２５が吸着面９ａに押圧され、枠体３０ｂの押圧ローラー２５が吸着面１９ａに押圧される。
【００４０】
このような構成により、支持腕部２３をガイドレール１２に沿って移動させれば、枠体３０ａ，３０ｂの押圧ローラー２５が吸着面９ａ，１９ａに押圧された状態で転動する。従って、第六の実施の形態で得られた作用効果に加えて、吸着面９ａ，１９ａを同時に洗浄可能とする作用効果を得ることができる。
（第八の実施の形態）
図８は、第八の実施の形態を示す。粘着テープを使用した治具により、上保持部９及び下保持部１９の吸着面９ａ，１９ａを一組の粘着テープで洗浄可能としたものである。
【００４１】
吸着面９ａ，１９ａの幅方向両端部において、枠体３２の中間部が支持腕部２３に対し回動軸３２ａを介して回動可能に支持され、各枠体３２にそれぞれ押圧ローラー３３ａ，３３ｂ及び案内ローラー３４が設けられている。そして、押圧ローラー３３ａ，３３ｂ及び案内ローラー３４間で無端状の粘着テープ３６が移動可能に支持されている。
【００４２】
前記枠体３２の基端部は付勢装置３５を介して支持腕部２３に接続されている。この付勢装置３５は、支持腕部２３を支点として枠体３２を押す動作と、枠体３２を引く動作とを切換可能となっている。
【００４３】
そして、枠体３２が押されると、押圧ローラー３３ｂが吸着面１９ａに押圧され、枠体３２が引かれると、押圧ローラー３３ａが吸着面９ａに押圧される。
このように構成された治具では、押圧ローラー３３ａを吸着面９ａに押圧した状態で枠体３２をガイドレール１２に沿って移動させれば、押圧ローラー３３ａの転動にともなって、吸着面９ａが粘着テープ３６で洗浄される。
【００４４】
また、押圧ローラー３３ｂを吸着面１９ａに押圧した状態で枠体３２をガイドレール１２に沿って移動させれば、押圧ローラー３３ｂの転動にともなって、吸着面１９ａが粘着テープ３６で洗浄される。
【００４５】
このような構成により、第六の実施の形態で得られた作用効果に加えて、吸着面９ａ，１９ａを共通の治具で洗浄することができるとともに、吸着面９ａ，１９ａを一組の粘着テープ３６で洗浄することができる。従って、洗浄コストの低減を図ることができる。
【００４６】
上記実施の形態は、次に示すように変更してもよい。
・第一及び第二の実施の形態において、排出管６から排出された洗浄液５を濾過して、内容器２に循環させるようにしてもよい。
（付記１）
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置して、前記吸着面を洗浄することを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記２）
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面を前記洗浄用治具に満たした洗浄液に浸して洗浄することを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記３）
前記洗浄液を超音波振動させて洗浄することを特徴とする付記２記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記４）
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面に洗浄用気体を噴出して洗浄することを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記５）
前記洗浄用気体を上保持部及び下保持部の吸着面に噴出して洗浄することを特徴とする付記４記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。（５）
（付記６）
前記洗浄用気体を上保持部及び下保持部の吸着面に並行して噴出して洗浄することを特徴とする付記５記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記７）
前記洗浄用気体を上保持部及び下保持部の吸着面に順次噴出して洗浄することを特徴とする付記５記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記８）
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面に粘着テープを押圧して該吸着面を洗浄することを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記９）
前記粘着テープを、上保持部及び下保持部の吸着面に押圧して、該吸着面を洗浄することを特徴とする付記８記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記１０）
前記粘着テープを、上保持部及び下保持部の吸着面に並行して押圧して、該吸着面を洗浄することを特徴とする付記９記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記１１）
前記粘着テープを、上保持部及び下保持部の吸着面に順次押圧して、該吸着面を洗浄することを特徴とする付記９記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記１２）
前記治具を前記吸着面に沿って移動させて該吸着面を洗浄することを特徴とする付記２乃至１１のいずれかに記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
（付記１３）
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に設置して、前記吸着面を洗浄可能としたことを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄用治具。
（付記１４）
洗浄液を貯留可能とするとともに、基板を吸着保持する吸着面を前記洗浄液に浸すようにした内容器と、
前記洗浄液を超音波振動させる超音波振動子と
を備えたことを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄用治具。
（付記１５）
貼合せ基板製造装置に設けた案内手段と、
前記案内手段に沿って移動して、基板を吸着保持する吸着面を洗浄する治具と
を備えたことを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄装置。
（付記１６）
前記治具は、超音波振動する洗浄液で前記吸着面を洗浄することを特徴とする付記１５記載の貼合せ基板製造装置の洗浄装置。
（付記１７）
前記治具は、超音波振動する洗浄用気体で前記吸着面を洗浄することを特徴とする付記１５記載の貼合せ基板製造装置の洗浄装置。
（付記１８）
前記治具は、粘着テープで前記吸着面を洗浄することを特徴とする付記１５記載の貼合せ基板製造装置の洗浄装置。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】第一の実施の形態を示す概要図である。
【図２】第二の実施の形態を示す概要図である。
【図３】第三の実施の形態を示す概要図である。
【図４】第四の実施の形態を示す概要図である。
【図５】第五の実施の形態を示す概要図である。
【図６】第六の実施の形態を示す概要図である。
【図７】第七の実施の形態を示す概要図である。
【図８】第八の実施の形態を示す概要図である。
【符号の説明】
【００４８】
５ 洗浄液
７ 超音波振動子
９ａ，１９ａ 吸着面
１２ 案内手段（ガイドレール）
１７，２１ 気体噴出部
２６，３６ 粘着テープ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置して、前記吸着面を洗浄することを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
【請求項２】
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面を前記洗浄用治具に満たした洗浄液に浸して洗浄することを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
【請求項３】
前記洗浄液を超音波振動させて洗浄することを特徴とする請求項２記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
【請求項４】
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面に洗浄用気体を噴出して洗浄することを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
【請求項５】
前記洗浄用気体を上保持部及び下保持部の吸着面に噴出して洗浄することを特徴とする請求項４記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
【請求項６】
前記洗浄用気体を上保持部及び下保持部の吸着面に並行して噴出して洗浄することを特徴とする請求項５記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
【請求項７】
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面に粘着テープを押圧して該吸着面を洗浄することを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
【請求項８】
前記粘着テープを、上保持部及び下保持部の吸着面に押圧して、該吸着面を洗浄することを特徴とする請求項７記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
【請求項９】
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に設置して、前記吸着面を洗浄可能としたことを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄用治具。
【請求項１０】
貼合せ基板製造装置に設けた案内手段と、
前記案内手段に沿って移動して、基板を吸着保持する吸着面を洗浄する治具と
を備えたことを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄装置。
【請求項１】
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置して、前記吸着面を洗浄することを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
【請求項２】
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面を前記洗浄用治具に満たした洗浄液に浸して洗浄することを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
【請求項３】
前記洗浄液を超音波振動させて洗浄することを特徴とする請求項２記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
【請求項４】
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面に洗浄用気体を噴出して洗浄することを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
【請求項５】
前記洗浄用気体を上保持部及び下保持部の吸着面に噴出して洗浄することを特徴とする請求項４記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
【請求項６】
前記洗浄用気体を上保持部及び下保持部の吸着面に並行して噴出して洗浄することを特徴とする請求項５記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
【請求項７】
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に洗浄用治具を設置し、前記吸着面に粘着テープを押圧して該吸着面を洗浄することを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
【請求項８】
前記粘着テープを、上保持部及び下保持部の吸着面に押圧して、該吸着面を洗浄することを特徴とする請求項７記載の貼合せ基板製造装置の洗浄方法。
【請求項９】
基板を吸着保持する吸着面を備えた処理室の内部に設置して、前記吸着面を洗浄可能としたことを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄用治具。
【請求項１０】
貼合せ基板製造装置に設けた案内手段と、
前記案内手段に沿って移動して、基板を吸着保持する吸着面を洗浄する治具と
を備えたことを特徴とする貼合せ基板製造装置の洗浄装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２００６−２７８７６５（Ｐ２００６−２７８７６５Ａ）
【公開日】平成１８年１０月１２日（２００６．１０．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−９６１６４（Ｐ２００５−９６１６４）
【出願日】平成１７年３月２９日（２００５．３．２９）
【出願人】（０００００５２２３）富士通株式会社 (25,993)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１０月１２日（２００６．１０．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年３月２９日（２００５．３．２９）
【出願人】（０００００５２２３）富士通株式会社 (25,993)
【Ｆターム（参考）】
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