【課題】面状が良好で異物数が極めて少なく、且つ、液晶表示装置に組み込んだときに発生する表示画面での画像ムラや湿度による視認性の変化を抑えることができるセルロースアシレートフィルムを提供する。
【解決手段】一般式（II）のラクトン系化合物を所定の置換度を有するセルロースアシレートに対して０．０１〜３質量％含有する組成物を、溶融流延することによってセルロースアシレートフィルムを製造する。
一般式（II）


（Ｒ¹〜Ｒ⁴は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキル基または炭素数６〜１５のアリール基を示す。）

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱安定性に優れたセルロースアシレートフィルムとその製造方法に関する。また、前記セルロースアシレートフィルムの製造に用いられるセルロースアシレート組成物、前記セルロースアシレートフィルムを用いた偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルムおよび液晶表示装置にも関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、液晶表示装置に使用されるセルロースアシレートフィルムを製造する際に、ジクロロメタンのような塩素系有機溶剤にセルロースアシレートを溶解し、これを基材上に流延、乾燥して製膜する溶液流延法が主に実施されている。塩素系有機溶剤の中でもジクロロメタンは、セルロースアシレートの良溶媒であるとともに、沸点が低く（約４０℃）、製膜工程や乾燥工程において乾燥させ易いという利点を有することから好ましく使用されている。一方、近年になり環境保全の観点から塩素系有機溶媒を始めとする有機溶媒の排出を抑えることが、強く求められるようになっている。このため、より厳密なクローズドシステムを採用して製造工程から有機溶媒が漏れ出さないように努めたり、製膜工程から有機溶媒が漏れても外気に出す前にガス吸収塔を通して有機溶媒を吸着させたり、火力により燃焼させたり、電子線ビームにより分解させたりするなどの処理を行って、殆ど有機溶媒を排出することがないように対策が講じられている。しかしながら、これらの対策を行っても完全な非排出には至らないため、さらなる改良が必要とされていた。
【０００３】
そこで、有機溶剤を用いない製膜法として、セルロースアシレートを溶融製膜する方法が開発されている（例えば、特許文献１および２参照）。この方法は、セルロースアシレートのエステル基の炭素鎖を長くすることで融点を下げ溶融製膜しやすくしたものである。具体的には、従来から用いられていたセルロースアセテートを、セルロースプロピオネートやセルロースブチレート等に変更することで溶融製膜を可能にしている。このようにして得られたセルロースアシレートフィルムは、基板として用いることによって湿度変化に伴う視野特性が変動しにくい位相差フィルム等を提供しうるという利点がある。さらに、セルロースアシレートを溶融する工程と流延する工程とを含むセルロースアシレートフィルムの製造方法として、水分３．０％以下のセルロースアシレートと、多価アルコールおよび１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤並びに多価カルボン酸および１価のアルコールからなるエステル系可塑剤の少なくとも１種を前記セルロースエステルに対し１〜３０質量％と、ヒンダードフェノール酸化防止剤およびヒンダードアミン光化合物の少なくとも１種を前記セルロースエステルに対し０．０１〜５質量％とを含む混合物を、１５０〜３００℃の温度で加熱溶融して流延することにより製造する溶融製膜法も開発されている（例えば、特許文献３参照）。この方法により製造されるセルロースアシレートフィルムは液晶表示装置に組み込むことによって、光学特性、寸法安定性等が改良できると記載されている。
【特許文献１】特表平６−５０１０４０号公報
【特許文献２】特開２０００−３５２６２０号公報
【特許文献３】特開２００６−１２３５１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、これらの文献の実施例の記載などにしたがって溶融製膜したセルロースアシレートフィルムは、面状が不良であることが判った。特に特許文献２および３の実施例に従って作製したセルロースアシレートフィルムは、面状の悪化が著しかった。また、このようにして得られたセルロースアシレートフィルムを用いて偏光板を作製し液晶表示装置に組み込むと、面状不良で異物数が多く、ヘイズが高いことによる輝度低下の問題などが発生し、その改良が必要なレベルであることも明らかになった。このような故障は、偏光板を１５インチ以上の大型液晶表示板に組み込んだ際に特に顕著であり、大きな課題であった。
【０００５】
これらの従来技術の課題を解決すべく、本発明は、溶融製膜したフィルムの面状の悪化を抑えて異物数を低減し、液晶表示装置に組み込んだときに発生する表示画面での画像ムラや経時での視認性の変化を抑制することができるセルロースアシレートフィルムを提供することを目的とする。また、本発明は、前記セルロースアシレートフィルムを製造する際に効果的に用いられるセルロースアシレート組成物を提供することも目的とする。さらに、本発明は、優れた耐久性を示す偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルム、および、液晶表示装置を提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、従来溶融製膜したセルロースアシレートの面状不良は、セルロースアシレートの組成や溶融製膜工程中の滞留（例えば濾過製膜中の滞留）、および、ペレット化から溶融製膜に至るまでの高温操作に起因するものと考え、この改良に取り組んだ。その結果、特定の置換度を有するセルロースアシレートと特定の構造を有するラクトン系化合物とを組み合わせて使用することにより、溶融製膜したセルロースアシレートフィルムの面状を格段に向上させることができることを見出した。また、上記のラクトン系化合物に加えて、分子量が５００以上であるフェノール系化合物と、分子量が５００以上である亜リン酸エステル系化合物およびチオエーテル系化合物からなる群より選択される少なくとも一種とを併用することにより、セルロースアシレート樹脂の成形加工時における面状をさらに相乗的に向上させうることも見出した。
【０００７】
また、意外なことに本発明にしたがってラクトン系化合物を使用することにより、溶融製膜したセルロースアシレートフィルムの異物数を顕著に低減させうることも見出した。
【０００８】
本発明は以上の知見に基づいて提供されたものであり、その構成は以下に記載される通りである。
【０００９】
（態様１）
下記式（Ｓ−１）〜（Ｓ−３）を満たすセルロースアシレート、および、下記一般式（II）で表され示されるラクトン系化合物の少なくとも一種を前記セルロースアシレートに対して０．０１〜３質量％含有するセルロースアシレート組成物。
式（Ｓ−１） ２．５≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（Ｓ−２） ０≦Ｘ≦２．２
式（Ｓ−３） ０．８≦Ｙ≦３．０
（式中、Ｘはセルロースの水酸基に対するアセチル基の置換度を表し、Ｙはセルロースの水酸基に対する炭素数３〜２２のアシル基の置換度の総和を表す。）
【００１０】
【化１】

（式中Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキル基または炭素数６〜１５のアリール基を示す。）
【００１１】
（態様２）
分子量が５００以上である亜リン酸エステル系化合物および分子量が５００以上であるチオエーテル系化合物からなる群より選択される少なくとも一種と、分子量が５００以上であるフェノール系化合物とを、前記セルロースアシレートに対して０．０１〜３質量％含有することを特徴とする（態様１）のセルロースアシレート組成物。
【００１２】
（態様３）
分子量が５００以上である可塑剤または紫外線吸収剤をセルロースアシレートに対して０．１〜２０質量％含有することを特徴とする（態様１）または（態様２）のセルロースアシレート組成物。
【００１３】
（態様４）
ペレット状であることを特徴とする（態様１〜３）のいずれかのセルロースアシレート組成物。
【００１４】
（態様５）
（態様１〜４）のいずれかのセルロースアシレート組成物を溶融して流延製膜する工程を含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。
【００１５】
（態様６）
（態様１〜３）のいずれかのセルロースアシレート組成物を１５０〜２４０℃で溶融してペレットを作製し、前記ペレットを溶融して１８０〜２４０℃でダイから押し出して流延製膜する工程を含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。
（態様７）
前記セルロースアシレート組成物を流延した後に、タッチロールを０．１〜１０ＭＰａで押圧することにより製膜する工程を含むことを特徴とする（態様５）または（態様６）のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
（態様８）
前記製膜後、少なくとも１方向に１％〜３００％延伸する工程を含むことを特徴とする（態様５〜７）のいずれかのセルロースアシレートフィルムの製造方法。
【００１６】
（態様９）
（態様５〜８）のいずれかの製造方法により製造されたセルロースアシレートフィルム。
【００１７】
（態様１０）
上記式（Ｓ−１）〜（Ｓ−３）を満たすセルロースアシレート、および、上記一般式（II）で示されるラクトン系化合物の少なくとも一種を前記セルロースアシレートに対して０．０１〜３質量％含有し、かつ、残留溶剤量が０．０１質量％以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
（態様１１）
前記セルロースアシレートフィルムが、分子量が５００以上である亜リン酸エステル系化合物および分子量が５００以上であるチオエーテル系化合物からなる群より選択される少なくとも一種と、分子量が５００以上であるフェノール系化合物とを、前記セルロースアシレートに対して０．０１〜３質量％含有することを特徴とする（態様１０）のセルロースアシレートフィルム。
【００１８】
（態様１２）
膜厚が２０μｍ〜３００μｍであることを特徴とする（態様９〜１１）のいずれかのセルロースアシレートフィルム。
（態様１３）
正面レターデーション（Ｒｅ）が０〜３００ｎｍであり、且つ、厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の絶対値が０〜７００ｎｍであることを特徴とする（態様９〜１２）のいずれかのセルロースアシレートフィルム。
（態様１４）
可視光の透過率が９０％以上であり、且つ、ヘイズが０．０１〜１．５％であることを特徴とする（態様９〜１３）のいずれかのセルロースアシレートフィルム。
【００１９】
（態様１５）
下記式（Ａ−１）および（Ａ−２）を満たすことを特徴とする（態様９〜１４）のいずれかのセルロースアシレートフィルム。
式（Ａ−１） ０≦｜Ｒｅ（７００）−Ｒｅ（４００）｜≦１５ｎｍ
式（Ａ−２） ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦３５ｎｍ
（式中、Ｒｅ（４００）およびＲｅ（７００）は、それぞれ前記セルロースアシレートフィルムの波長４００ｎｍおよび７００ｎｍにおける正面レターデーション（Ｒｅ）を表し、Ｒｔｈ（４００）およびＲｔｈ（７００）は、それぞれ前記セルロースアシレートフィルムの波長４００ｎｍおよび７００ｎｍにおける厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を表す。）
（態様１６）
厚みムラが０〜５μｍであることを特徴とする（態様９〜１５）のいずれかのセルロースアシレートフィルム。
【００２０】
（態様１７）
偏光子に、（態様９〜１６）のいずれかのセルロースアシレートフィルムを少なくとも１層積層したことを特徴とする偏光板。
（態様１８）
（態様９〜１６）のいずれかのセルロースアシレートフィルムを用いたことを特徴とする光学補償フィルム。
（態様１９）
（態様９〜１６）のいずれかのセルロースアシレートフィルムを用いたことを特徴とする反射防止フィルム。
（態様２０）
（態様９〜１６）のいずれかのセルロースアシレートフィルム、（態様１７）の偏光板、（態様１８）の光学補償フィルム、および、（態様１９）の反射防止フィルムからなる群より選択される少なくとも一つを用いたことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【００２１】
本発明のセルロースアシレートフィルムは、面状が良好で異物数が極めて少なく、且つ、液晶表示装置に組み込んだときに発生する表示画面での画像ムラや湿度による視認性の変化を抑えることができる。また、本発明のセルロースアシレートフィルムにより、経時での耐候性、特に高温環境下における優れた耐久性を有する偏光板、光学補償フィルムおよび反射防止フィルムを提供することができる。さらに、本発明のセルロースアシレートフィルムを組み込んで製造される液晶表示装置は、表示ムラや、湿度あるいは画像の色による光学特性の変化を抑制するこができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下において、本発明のセルロースアシレートフィルムとその製造方法および用途について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００２３】
《セルロースアシレート組成物》
本発明のセルロースアシレート組成物は、下記式（Ｓ−１）〜（Ｓ−３）を満たすセルロースアシレート、および、下記一般式（II）で示されるラクトン系化合物の少なくとも一種を前記セルロースアシレートに対して０．０１〜３質量％含有する。
式（Ｓ−１） ２．５≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（Ｓ−２） ０≦Ｘ≦２．２
式（Ｓ−３） ０．８≦Ｙ≦３．０
（式中、Ｘはセルロースの水酸基に対するアセチル基の置換度を表し、Ｙはセルロースの水酸基に対する炭素数３〜２２のアシル基の置換度の総和を表す。）
【００２４】
【化２】

（式中Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキル基または炭素数６〜１５のアリール基を示す。）
【００２５】
本発明のセルロースアシレート組成物は、上記のセルロースアシレートと上記の一般式（II）で示されるラクトン系化合物の他に、さらに必要に応じて可塑剤や紫外線吸収剤等を含んでいてもよい。以下において、本発明のセルロースアシレート組成物に含まれる各成分について詳しく説明する。
【００２６】
［セルロースアシレート］
まず、本発明に使用するセルロースアシレートについて説明する。本発明におけるセルロースアシレートは、下記の置換度を満たす。
式（Ｓ−１） ２．５≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（Ｓ−２） ０≦Ｘ≦２．２
式（Ｓ−３） ０．８≦Ｙ≦３．０
【００２７】
式中、Ｘはセルロースの水酸基に対するアセチル基の置換度を表し、Ｙはセルロースの水酸基に対する炭素数３〜２２のアシル基の置換度の総和を表す。
【００２８】
本明細書でいう「置換度」とは、セルロースの２位、３位および６位のぞれぞれの水酸基の水素原子が置換されている割合の合計を意味する。２位、３位および６位の全ての水酸基の水素原子がアシル基で置換された場合は置換度が３となる。本発明のセルローエステルの置換基Ｙで表される炭素数３〜２２のアシル基は、脂肪族アシル基でも芳香族アシル基のいずれであってもよい。本発明におけるセルロースアシレートのアシル基が脂肪族アシル基である場合、炭素数は３〜１８であることが好ましく、炭素数は３〜１２であることがさらに好ましく、炭素数は３〜８であることが特に好ましい。これらの脂肪族アシル基の例としては、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、あるいはアルキニルカルボニル基などを挙げることができる。アシル基が芳香族アシル基である場合、炭素数は６〜２２であることが好ましく、炭素数は６〜１８であることがさらに好ましく、炭素数は６〜１２であることが特に好ましい。これらのアシル基は、それぞれさらに置換基を有していてもよい。
【００２９】
好ましい前記アシル基の例としては、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、イソブチリル基、ピバロイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフタレンカルボニル基、フタロイル基、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、さらに好ましいものは、プロピオニル基、ブチリル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ピバロイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などである。
【００３０】
特にＹにおけるアシル基は、好ましくは炭素数が３〜６の脂肪族アシル基であり、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基およびヘキサノイル基からなる群より選択されるアシル基が好ましい。より好ましいＹにおけるアシル基としては、プロピオニル基およびブチリル基からなる群より選択されるアシル基である。本発明におけるセルロースアシレートのエステルを構成するＹにおけるアシル基は、単一種であってもよいし、複数種であってもよい。本発明においては、セルロースの２位、３位および６位それぞれの水酸基の置換度分布は特に限定されない。
【００３１】
本発明におけるセルロースアシレートは、下記式（Ｓ−４）〜（Ｓ−６）を満足するセルロースアシレートを用いることが好ましい。
式（Ｓ−４） ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（Ｓ−５） ０≦Ｘ≦２．０
式（Ｓ−６） １．０≦Ｙ≦３．０
【００３２】
本発明におけるセルロースアシレートは、下記式（Ｓ−７）〜（Ｓ−９）を満足するセルロースアシレートを用いることが特に好ましい。
式（Ｓ−７） ２．６５≦Ｘ＋Ｙ≦２．９７
式（Ｓ−８） ０．１≦Ｘ≦１．８
式（Ｓ−９） １．１≦Ｙ≦３．０
【００３３】
本発明で用いるセルロースアシレートを合成する際のセルロース原料としては、広葉樹パルプ、針葉樹パルプ、綿花リンター由来のものが好ましく用いられる。
【００３４】
本発明で用いるセルロースアシレートの合成方法については特開２００６−４５５００号公報の段落番号［００１８］〜［００３３］、特開２００６−４５５０１号公報の段落番号［００１４］〜［００３０］、特開２００６−４５５０２号公報の段落番号［００１８］〜［００２３］に詳細に記載している。また、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）７頁〜１２頁にも詳細に記載されている。これらの合成方法は好ましく用いることができる。また、本発明において好ましく使用されるセルロースアシレートの具体的手順については、後述する合成例１および合成例２を参照することができる。本発明のセルロースアシレート中の異物を最大限に低減するため、原料から除去することが好ましく、原料合成段階でろ過方法を用いて除去することができる。
【００３５】
（ろ過）
本発明におけるセルロースアシレート中の未反応物、難溶解性塩、その他の異物などを除去または削減する目的として、アシル化工程から再沈殿工程の間のいずれかにおいて、セルロースアシレートを含む反応溶液をろ過することが好ましい。ろ過に用いるフィルターの保留粒子サイズは、好ましくは０．１μｍ〜５０μｍであり、さらに好ましくは、０．５μｍ〜４０μｍであり、特に好ましくは、１μｍ〜３０μｍである。フィルターの保留粒子サイズが０．１μｍより小さいと、ろ過圧の上昇が著しく、実質的に工業的な生産が困難である。また、保留粒子サイズが４０μｍより大きいと、異物の除去が十分にできない場合がある。また、濾過は２回以上繰り返してもよい。
【００３６】
フィルターの材質は溶媒によって悪影響を受けないものであれば特に限定されないが、好ましい例としては、セルロース系フィルター、金属フィルター、金属焼結フィルター、セラミック焼結フィルター、テフロンフィルター（PTFEフィルター）、ポリエーテルサルホンフィルター、ポリプロピレンフィルター、ポリエチレンフィルター、ガラス繊維性フィルターなどを挙げることができ、これらを組み合わせて使用してもよい。中でもステンレス製の金属フィルター、金属焼結フィルターが好ましい。
【００３７】
フィルターの材質として、電荷的捕捉機能を有するフィルターもまた、好ましく用いることができる。電荷的捕捉機能を有するフィルターとは、電気的に荷電異物を捕捉除去する機能を有するフィルターであり、通常、濾材に電荷を付与したものが用いられる。このようなフィルターの例としては、特表平４−５０４３７９号公報、特開２０００−２１２２２６号公報などに記載されたものを選択することができる。
【００３８】
また、濾過助剤として、セライト、層状粘土鉱物（好ましくは、タルク、マイカ、カオリナイトなど）などをセルロースアシレート溶液に混合し、これを濾過するいわゆるケーク濾過を行う方法も好ましく用いることができる。
ろ過圧や取り扱い性の制御の目的から、ろ過に先立って適切な溶媒で希釈することも好ましい。
【００３９】
（重合度）
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの数平均重合度は好ましくは１１０〜３５０であり、より好ましくは１２０〜３００であり、さらに好ましくは１３０〜２５０である。数平均重合度は、本発明では後述のゲル浸透クロマトグラフィー （ＧＰＣ）を用いた方法で測定される。
本発明においては、セルロースアシレートのＧＰＣによる質量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ比が１．５〜５．５のものが好ましく用いられ、より好ましくは１．５〜５．０であり、さらに好ましくは１．５〜４．５であり、特に好ましくは１．５〜３．５のセルロースアシレートが好ましく用いられる。得られたセルロースアシレートは、その保存は環境による影響を受けにくくするために、低温暗所で保存する事が望ましい。さらに、保管用としてアルミニウムなどの防止素材で作製された防湿袋や、ＳＵＳ製ドラムあるいはコンテナに保存することがさらに好ましい。
【００４０】
これらのセルロースアシレートは１種類のみを用いてもよく、２種以上混合しても良い。また、セルロースアシレート以外の高分子成分を適宜混合したものでもよい。混合される高分子成分はセルロースアシレートと相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにしたときの透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましく、９２％以上であることがさらに好ましい。
【００４１】
［ラクトン系化合物］
本発明のセルロースアシレート組成物は、下記一般式（II）で示されるラクトン系化合物の少なくとも一種を含む。前記ラクトン系化合物は、前記セルロースアシレートの加熱溶融前または加熱溶融時に添加することが好ましい。本発明におけるラクトン系化合物の添加により、製膜したフィルム面状の改良および異物数の低減効果を得ることができる。
【００４２】
【化３】

（式中Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキル基または炭素数６〜１５のアリール基を示す。）
【００４３】
一般式（II）中、炭素数１〜２０のアルキル基としては、直鎖または分岐状のアルキル基であってよい。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、２−エチルブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、オクタデシル基、エイコシル基などが挙げられる。
【００４４】
一般式（II）中、炭素数７〜２０のアラルキル基としては、ベンジル基、２，６−ジターシャリーブチル−４−メチルベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基および２−フェニルイソプロピル基などが挙げられる。
【００４５】
一般式（II）中、炭素数６〜１５のアリール基としては、フェニル基、トリル基およびナフチル基などが挙げられる。
【００４６】
一般式（II）において、Ｒ¹およびＲ²としては、水素原子と炭素数７〜２０のアリール基との組み合わせが好ましい。さらにその中でも、水素原子と炭素数８〜２０のアリール基との組み合わせが好ましく、水素原子と炭素数８〜１８のアリール基との組み合わせがより好ましく、水素原子と３，４−ジメチルフェニル基との組み合わせが特に好ましい。
【００４７】
一般式（II）において、Ｒ³およびＲ⁴としては、これらの中で炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、炭素数２〜２０のアルキル基がより好ましく、炭素数３〜２０のアルキル基がさらに好ましく、ｔｅｒｔ−ブチル基が特に好ましい。
【００４８】
本発明におけるラクトン系化合物は、前記セルロースアシレートに対して、０．０１〜３質量％含まれる。前記ラクトン系化合物の含有量が、０．０１質量％未満であると、面状改良および異物低減の効果が得られず、３質量％を超えると、セルロースアシレートのＴｇを低下させ、物性が低下するおそれがある。前記ラクトン系化合物の含有量は、セルロースアシレートに対して、好ましくは０．０２〜２質量％であり、より好ましくは０．０５〜１．０質量％である。前記ラクトン系化合物の使用量が上記範囲内であれば、セルロースアシレートに充分な成形耐熱性を付与し、色相に優れたセルロースアシレートフィルム（シート状物を含む）を得ることができる。
【００４９】
下記式（II）で表わされるラクトン系化合物としては、具体的には以下のような化合物（例示化合物（ａ）−１〜（ａ）−４９）が例示される。
【００５０】
【化４】

【００５１】
【化５】

【００５２】
【化６】

【００５３】
【化７】

【００５４】
【化８】

【００５５】
【化９】

【００５６】
これらのラクトン系化合物として、市販品も利用でき、例えば、HP-136（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）を用いることもできる。また、これらラクトン系化合物は単独であるいは数種類混合して使用することができる。
【００５７】
［その他の成分］
（本発明における分子量５００以上の化合物）
本発明では、セルロースアシレートとラクトン系化合物の少なくとも一種とに、分子量５００以上のフェノール系化合物、亜リン酸エステル系化合物およびチオエーテル系化合物からなる群より選択される少なくとも一種（これらを「本発明における分子量５００以上の化合物」と称することがある。）をセルロースアシレート組成物に添加することが好ましく、分子量が５００以上である亜リン酸エステル系化合物および分子量が５００以上であるチオエーテル系化合物より選択される少なくとも一種と、分子量が５００以上であるフェノール系化合物とを用いることがさらに好ましい。これにより、セルロースアシレート樹脂の成形加工時における面状改良および異物低減の相乗効果が得られる。これらの化合物は、高温でも揮発しないことが必要であることから、分子量は５００以上であり、好ましくは５００〜３０００であり、さらに好ましくは５３０〜３０００であり、特に好ましくは６００〜２０００である。また、高温で揮発しにくいことが好ましいため、空気中で２２０℃において３０分間加熱した場合の質量減少量が２０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下であることがさらに好ましく、５質量％以下であることが特に好ましい。
【００５８】
本発明における分子量５００以上の化合物の使用量は、前記セルロースアシレートに対して０．０１〜３質量％であることが好ましく、０．０２〜２．５質量％がさらに好ましく、より好ましくは０．０３〜１．０質量％であり、特に好ましくは０．０４〜０．７質量％であり、最も好ましくは０．０５〜０．６質量％である。ラクトン系化合物の含有量と、本発明における分子量５００以上の化合物の含有総量との比率は特に限定されないが、好ましくは１／３０〜１／１（質量部）であり、より好ましくは１／２０〜１／１（質量部）であり、さらに好ましくは１／１５〜１／２（質量部）であり、特に好ましくは１／１０〜１／２（質量部）である。また、フェノール系化合物の含有量と、亜リン酸エステル系化合物またはチオエーテル系化合物との含有量の比率は特に限定されないが、好ましくは１／１０〜１０／１（質量部）であり、より好ましくは１／５〜５／１（質量部）であり、さらに好ましくは１／３〜３／１（質量部）であり、特に好ましくは１／３〜２／１（質量部）である。ラクトン系、フェノール系、亜リン酸エステル系、チオエーテル系、必要に応じてアミン系、それぞれの化合物の添加量は上記の範囲内であれば問題なく、特にそれぞれの量比に制限はない。本発明においては、ラクトン系化合物を使用すれば、亜リン酸エステル系やフェノール系を添加しても着色や加熱におけるセルロースアシレート分子量変化がほとんど起こらない。ただし、フェノール系が多すぎると、その色が樹脂組成物中で目立つようになり、また、亜リン酸エステル系が多すぎると、セルロースアシレートがゲル化したり、分解したりして好ましくない。
【００５９】
本発明においては、セルロースアシレート組成物中に、本発明における分子量５００以上の化合物の少なくとも一種を前記セルロースアシレートの加熱溶融前または加熱溶融時に添加することが好ましい。これらは、セルロースアシレート組成物の酸化防止、分解して発生した酸の捕捉、光または熱によるラジカル種基因の分解反応を抑制または禁止する等、解明できていない分解反応を含めて、着色や分子量低下に代表される変質や材料の分解による揮発成分の生成を抑制するために有用である。
【００６０】
（フェノール系化合物）
分子量５００以上のフェノール系化合物としては、公知の任意のフェノール系化合物を使用することができる。好ましいフェノール系化合物としては、ヒンダードフェノール系化合物が挙げられる。特に、ヒドロキシフェニル基に隣接する部位に置換基を有することが好ましく、その場合の置換基としては炭素数１〜２２の置換または無置換のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、tert−ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、２−エチルへキシル基、ノニル基、イソノニル基、ドデシル基、tert−ドデシル基、トリデシル基、tert−トリデシル基などを挙げることができる。これらの中でも、メチル基、エチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、tert−ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、２−エチルへキシル基がより好まし。さらに好ましくは、プロピオニル基、イソプロピオニル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、tert−ペンチル基である。
フェノール系化合物の具体例として例えば下記の化合物を挙げることができるが、本発明で用いることができるフェノール系化合物はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００６１】
（ＰＨ−１）
ｎ−オクタデシル−３−(３'，５'−ジ−tert−ブチル−４'−ヒドロキシフェニル) プロピオネート（分子量531）
（ＰＨ−２）
テトラキス−〔メチレン−３−（３’，５’−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン（分子量1178）
（ＰＨ−３）
トリス−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート（分子量784）
（ＰＨ−４）
トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕（分子量588）
（ＰＨ−５）
３，９−ビス−｛２−〔３−（３−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン（分子量741）
（ＰＨ−６）
１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン（分子量775）
（ＰＨ−７）
１，１，３−トリス（５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン（分子量545）
（ＰＨ−８）
１，６−ヘキサンジオール−ビス｛３−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝（分子量639）
（ＰＨ−９）
２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−tert−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン（分子量589）
（ＰＨ−１０）
１，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート〕（分子量643）
（ＰＨ−１１）
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマイド）（分子量637）
（ＰＨ−１２）
ビス（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸エチル）カルシウム（分子量695）
【００６２】
これらの素材は、市販品として容易に入手可能であり、下記のメーカーから販売されている。例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社から、Ｉｒｇａｎｏｘ １０７６、Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０、Ｉｒｇａｎｏｘ ３１１３、Ｉｒｇａｎｏｘ ２４５、Ｉｒｇａｎｏｘ １１３５、Ｉｒｇａｎｏｘ １３３０、Ｉｒｇａｎｏｘ ２５９、Ｉｒｇａｎｏｘ ５６５、Ｉｒｇａｎｏｘ １０３５、Ｉｒｇａｎｏｘ １０９８、Ｉｒｇａｎｏｘ １４２５ＷＬ、として入手することができる。また、旭電化工業（株）から、アデカスタブ ＡＯ−５０、アデカスタブ ＡＯ−６０、アデカスタブ ＡＯ−２０、アデカスタブ ＡＯ−７０、アデカスタブ ＡＯ−８０として入手できる。さらに、住友化学（株）から、スミライザーＢＰ−７６、スミライザーＢＰ−１０１、スミライザーＧＡ−８０、として入手できる。また、シプロ化成（株）からシーノックス３２６Ｍ、シーノックス３３６Ｂ、としても入手することが可能である。
【００６３】
（亜リン酸エステル系化合物）
次に、本発明においてセルロースアシレートに添加することができる分子量５００以上の亜リン酸エステル系化合物について説明する。
本発明において用いることができる分子量５００以上である亜リン酸エステル系化合物として、従来から公知の任意の亜リン酸エステル系化合物を用いることができる。本発明において用いることができる亜リン酸エステル系化合物として、特開２００４−１８２９７９号公報の［００２３］〜［００３９］に記載の化合物などを挙げることができる。亜リン酸エステル系化合物の具体例としては、特開昭５１−７０３１６号公報、特開平１０−３０６１７５号公報、特開昭５７−７８４３１号公報、特開昭５４−１５７１５９号公報、特開昭５５−１３７６５号公報に記載の化合物も挙げることができる。さらに、その他の化合物としては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）１７頁〜２２頁に詳細に記載されている素材も挙げることができる。
【００６４】
亜リン酸エステル系化合物は、フェノール系エステルを有することで、高温での安定性を保つことができるため、少なくとも一置換基は芳香族性エステル基であることが好ましい。また、亜リン酸エステル系化合物は、トリエステルであることが好ましく、リン酸、モノエステルやジエステルの不純物の混入がないことが望ましい。これらの不純物が存在する場合は、その含有量が１０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは５質量％以下であり、特には２質量％以下である。
亜リン酸エステル系化合物の好ましい具体例として下記の化合物を挙げることができるが、本発明で用いることができる亜リン酸エステル系化合物はこれらに限定されるものではない。
【００６５】
（ＰＦ-１）
トリスノニルフェニルフォスファイト（分子量689）
（ＰＦ-２）
トリス（２，４−ジ−tert−ブチルフェニル）フォスファイト（分子量647）
（ＰＦ-３）
ジステアリルペンタエリスリトールジフォスファイト（分子量733）
（ＰＦ-４）
ビス（２，４−ジ−tert−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールフォスファイト（分子量605）
（ＰＦ-５）
ビス（２，６−ジ−tert−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール ジフォスファイト（分子量633）
（ＰＦ-６）
２，２−メチレンビス（４，６−ジ−tert−ブチルフェニル）オクチルフォスファイト（分子量529）
（ＰＦ-７）
テトラキス（２，４−ジ−tert−ブチルフェニル）−４，４−ビフェニレン−ジ−フォスファイト（分子量517）
【００６６】
これらは、旭電化工業（株）からアデカスタブ１１７８、同２１１２、同ＰＥＰ−８、同ＰＥＰ−２４Ｇ、ＰＥＰ−３６Ｇ、同ＨＰ−１０として、またクラリアント社からＳａｎｄｏｓｔａｂ Ｐ−ＥＰＱとして市販されており、入手可能である。さらに、フェノールと亜リン酸エステルとを同一分子内に有する化合物も好ましく用いられる。前記フェノールと亜リン酸エステルとを同一分子内に有する化合物の具体例としては下記にものを挙げることができる。これらの化合物については、さらに特開平１０−２７３４９４号公報に詳細に記載されており、その化合物例を示すが本発明で用いることができる安定化剤はこれらに限定されるものではない。代表的な市販品として、住友化学（株）から、スミライザーＧＰを挙げることができる。
【００６７】
（ＦＦＰ−１）
２，１０−ジメチル−４，８−ジ−tert−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ］−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン（分子量６３２）
（ＦＦＰ−２）
２，４，８，１０−テトラ−tert−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ］ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン（分子量７０２）
【００６８】
（ＦＦＰ−３）
２，４，８，１０−テトラ−tert−ペンチル−６−［３−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ］−１２−メチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン（分子量７８７）
（ＦＦＰ−４）
２，１０−ジメチル−４，８−ジ−tert−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン（分子量６４６）
（ＦＦＰ−５）
２，４，８，１０−テトラ−tert−ペンチル−６−［３−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１２−メチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン（分子量８０１）
（ＦＦＰ−６）
２，４，８，１０−テトラ−tert−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン（分子量７１６）
（ＦＦＰ−７）
２，１０−ジメチル−４，８−ジ−tert−ブチル−６−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン（分子量６１８）
（ＦＦＰ−８）
２，４，８，１０−テトラ−tert−ブチル−６−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−１２−メチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン（分子量７１７）
（ＦＦＰ−９）
２，４，８，１０−テトラ−tert−ブチル−６−［３−（３−メチル−４−ヒドロキシ−５−tert−ブチルフェニル）プロポキシ］ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン（分子量６６０）
（ＦＦＰ−１０）
２，１０−ジメチル−４，８−ジ−tert−ブチル−６−［３−（３−メチル−４−ヒドロキシ−５−tert−ブチルフェニル）プロポキシ］−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン（分子量５９０）
（ＦＦＰ−１１）
２，４，８，１０−テトラ−tert−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ］−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン（分子量７１７）
（ＦＦＰ−１２）
２，１０−ジエチル−４，８−ジ−tert−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ］−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン（分子量６６１）
（ＦＦＰ−１３）
２，４，８，１０−テトラ−tert−ブチル−６−［２，２−ジメチル−３−（３−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン（分子量６８８）
（ＦＦＰ−１４）
６−〔３−（３−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラ−tert−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン（分子量６６０）
【００６９】
（チオエーテル系化合物）
次に、本発明においてセルロースアシレートに添加することができる分子量５００以上のチオエーテル系化合物について説明する。
チオエーテル系化合物としては、公知の分子量５００以上チオエーテル系化合物を任意に用いることができる。
チオエーテル系化合物の好ましい具体例として下記の化合物が挙げられるが、本発明で用いることができる好ましいはこれらに限定されるものではない。
【００７０】
（ＴＥ−１）
ジラウリル−３，３−チオジプロピオネート（分子量515）
（ＴＥ−２）
ジミリスチル−３，３−チオジプロピオネート（分子量571）
（ＴＥ−３）
ジステアリル−３，３−チオジプロピオネート（分子量683）
（ＴＥ−４）
ペンタエリスリトールテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）（分子量1162）
【００７１】
これらは、住友化学（株）からスミライザーＴＰＬ、同ＴＰＭ、同ＴＰＳ、同ＴＤＰとして市販されている。旭電化工業（株）から、アデカスタブＡＯ-412Ｓとしても入手可能である。
【００７２】
（その他の化合物）
本発明においては、分子量５００以上のフェノール系化合物、分子量５００以上の亜リン酸エステル系化合物、分子量５００以上のチオエーテル系化合物以外の、セルロースアシレートの溶融製膜に有用な化合物を併用しても構わない。そのような化合物として、例えばスズ系化合物が挙げられ、公知の任意のスズ系化合物を用いることができる。好ましいスズ系化合物の具体例としては、オクチル錫マレエートポリマー、モノステアリル錫トリス（イソオクチルチオグリコレート）、ジブチル錫ジラウレートが挙げられる。
【００７３】
また、アミン系化合物も利用することができ、その場合は公知の任意のアミン系化合物を用いることができる。好ましいアミン系化合物の具体例としては、２，２'−メチレンビス〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−［（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］〕、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシラート、フェニル−β−ナフチルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−sec−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−シクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペラジン、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジン）セバケイト、ビス［（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）２−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート等が挙げられる。これらは、旭電化からアデカスタブＬＡ−５７、同ＬＡ−５２、同ＬＡ−６７、同ＬＡ−６２、同ＬＡ−７７として、またチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社からＴＩＮＵＶＩＮ ７６５、同１４４として市販されている。
【００７４】
（酸捕捉剤）
セルロースアシレートは高温下では酸によっても分解が促進されるため、本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては酸捕捉剤を含有することが好ましい。
【００７５】
本発明において有用な酸捕捉剤としては、酸と反応して酸を不活性化する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でも米国特許第４，１３７，２０１号明細書に記載されているエポキシ基を有する化合物が好ましい。このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール１モル当たりに約８〜４０モルのエチレンオキシドなどの縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテルなど、金属エポキシ化合物（例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、および塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの）、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（即ち、４，４’−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン）、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル（特に、２〜２２この炭素原子の脂肪酸の４〜２個程度の炭素原子のアルキルのエステル（例えば、ブチルエポキシステアレート）など）、および種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリドなど（例えば、エポキシ化大豆油など）の組成物によって代表され例示され得るエポキシ化植物油および他の不飽和天然油（これらはときとしてエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に１２〜２２個の炭素原子を含有している）が含まれる。また、市販のエポキシ基含有エポキシド樹脂化合物として、ＥＰＯＮ ８１５Ｃも好ましく用いることができる。さらに上記以外に用いることが可能な酸捕捉剤としては、オキセタン化合物やオキサゾリン化合物、或いはアルカリ土類金属の有機酸塩やアセチルアセトナート錯体、特開平５−１９４７８８号公報の段落６８〜１０５に記載されているものが含まれる。
【００７６】
本発明において、セルロースアシレート組成物には、その他に必要に応じてさらに種々の添加剤を添加してもよい。添加剤の添加は、溶融物の調製前から調製後のいずれの段階で行ってもよい。本発明では、本発明における分子量５００以上の化合物以外の添加剤として、可塑剤、紫外線吸収剤（ＵＶ剤）、微粒子、光学調整剤、剥離剤、界面活性剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤などを用いることができる。
【００７７】
（可塑剤）
本発明では、セルロースアシレートに可塑剤を添加することが好ましい。可塑剤としては既知のいかなるものを用いてもよいが、リン酸エステル化合物、単糖または２〜１０個の単糖単位を含む炭水化物の誘導体（以下、「炭水化物系可塑剤」と称する。）、カルボン酸エステル化合物、アルキルフタリルアルキルグリコレート化合物、多価アルコールの脂肪酸エステル化合物などを用いることが好ましい。
【００７８】
本発明で用いられる可塑剤は、高温で揮発性が十分に低いことが好ましく、分子量は５００〜４,０００であることが好ましく、より好ましくは５３０〜３,５００であり、特に好ましくは５５０〜３,０００である。分子量が５００以上であると熱揮散性が大きく、また分子量を４０００以下とすることにより、より効果的な可塑効果が得られる。
また、揮発性の指標として加熱時の質量減少量を用いることができ、例えば、窒素雰囲気下、２４０℃で１時間保持したときの質量減少量が１５質量％以下であることが好ましい。より好ましくは１０質量％以下、さらに好ましくは５質量％以下、最も好ましくは３質量％以下である。これにより、本発明のセルロースアシレートフィルムの溶融製膜工程中の過酷な条件（局部の樹脂滞留およびセン断熱による高温）においても、可塑剤の熱揮散を大幅に低減することができる。
【００７９】
本発明において、可塑剤は単独で配合してもよいし、２種以上併用してもよい。可塑剤の添加量は、セルロースアシレート樹脂に対して０．５〜２５質量％であることが好ましい。添加量が０．５質量％以上であればより熱揮散性を抑えやすく、また添加量が２５質量％以下であればセルロースアシレートの熱変形温度を維持しやすい。好ましい添加量は１〜２０質量％であり、より好ましくは１〜１５質量％であり、さらに好ましくは１〜１０質量％である。
【００８０】
−リン酸エステル化合物−
本発明で用いることができるリン酸エステル系の可塑剤としては、特開２００２−３６３４２３号公報の［００２７］〜［００３４］、特開２００２−２６５８００号公報の［００２７］〜［００３４］、特開２００３−１５５２９２号公報の［００１４］〜［００４０］等に記載の揮発性し難いリン酸エステル化合物を好ましい例として挙げることができる。
【００８１】
リン酸エステル化合物（リン酸エステル系可塑剤）の具体例を以下に挙げるが、本発明で用いることができるリン酸エステル系可塑剤はこれらに限定されるものではない。これらの化合物は、旭電化工業（株）から、アデカスタブＦＰ−５００、アデカスタブＦＰ−６００、アデカスタブＦＰ−７００、アデカスタブＦＰ−２１００、アデカスタブＰＦＲ等として市販され、入手することができる。また、味の素化学（株）から、レオフォースＢＡＰＰとして入手することができる。
【００８２】
−炭水化合物系可塑剤−
本発明で用いることができる炭水化合物系可塑剤は、単糖あるいは２〜１０個の単糖単位を含む炭水化物の誘導体であるが、これらの単糖または多糖は、分子中の置換可能な基（例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基など）が置換されていることを特徴とする。置換基の例としては、エーテル基、エステル基、アミド基、イミド基などを挙げることができる。
【００８３】
炭水化物系可塑剤の好ましい例としては、以下のものを挙げることができる。ただし、本発明で用いることができる炭水化物系可塑剤は、これらに限定されるものではない。
マルトースオクタアセテート、セロビオースオクタアセテート、スクロースオクタアセテート、キシローステトラプロピオネート、グルコースペンタプロピオネート、フルクトースペンタプロピオネート、マンノースペンタプロピオネート、ガラクトースペンタプロピオネート、マルトースオクタプロピオネート、セロビオースオクタプロピオネート、スクロースオクタプロピオネート、キシローステトラベンゾエート、グルコースペンタベンゾエート、フルクトースペンタベンゾエート、マンノースペンタベンゾエート、ガラクトースペンタベンゾエート、マルトースオクタベンゾエート、セロビオースオクタベンゾエート、スクロースオクタベンゾエート、キシリトールペンタベンゾエート、ソルビトールヘキサベンゾエートなどが特に好ましい。
【００８４】
−その他の可塑剤−
その他の可塑剤としてはアルキルフタリルアルキルグリコレート類、カルボン酸エステル類、多価アルコールの脂肪酸エステル類などが挙げられる。２４０℃で１時間加熱した後、質量減少が１５％以内であるものが好ましい。これらの可塑剤としては、特開２０００−２６５８００号公報の［００１０］〜［００２１］に記載の化合物を用いるのが好ましい。また、具体的に用いることができる多価アルコール系可塑剤としては、セルロース脂肪酸エステルとの相溶性がよく、また熱可塑化効果が顕著に現れるグリセリンエステル、ジグリセリンエステルなどグリセリン系のエステル化合物やポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコール、ポリアルキレングリコールの水酸基にアシル基が結合した化合物などを挙げることができる。これらの可塑剤としては、特開２００６−４５５００号公報の［００３９］〜［００４４］に記載の化合物を用いるのが好ましい。
【００８５】
これらの可塑剤をセルロースアシレートに添加するタイミングは、溶融製膜される時点で添加されていれば特に限定されない。例えば、セルロースアシレートの合成時点で添加してもよいし、溶融前に予めセルロースアシレート中に混合してもよく、溶融製膜時にセルロースアシレートと混合しつつ製膜することも好ましい。セルロースアシレートの合成時に添加する場合は、セルロースアシレートの沈殿生成前後に添加してもよく、あるいはセルロースアシレートが溶液状態で分散されている時に添加してもよい。これにより、セルロースアシレートと添加剤を均一に混合することができる。
【００８６】
本発明において可塑剤をセルロースアシレート組成物に添加すれば、セルロースアシレートの結晶融解温度（Ｔｍ）と溶融粘度とを下げることができる。従って、溶融加工温度も下げることができ、高温溶融工程におけるセルロースアシレートフィルムの着色を防止する効果が得られる。溶融粘度を大幅に低減させることにより、溶融製膜工程中の樹脂の流動がスムースとなり、発生したダイラインをレベリング化することできる。また、濾過滞留時間を短縮することで熱劣化による着色を改善できる。
【００８７】
（紫外線吸収剤）
セルロースアシレートには、紫外線防止剤を添加してもよい。紫外線防止剤については、特開昭６０−２３５８５２号公報、特開平３−１９９２０１号公報、同５−１９０７０７３号公報、同５−１９４７８９号公報、同５−２７１４７１号公報、同６−１０７８５４号公報、同６−１１８２３３号公報、同６−１４８４３０号公報、同７−１１０５６号公報、同７−１１０５５号公報、同７−１１０５６号公報、同８−２９６１９号公報、同８−２３９５０９号公報、特開２０００−２０４１７３号公報等に記載がある。その添加量は、調製する溶融物（メルト）の０．０１〜２質量％であることが好ましく、０．０１〜１．５質量％であることがさらに好ましい。
【００８８】
これらの紫外線吸収剤として、以下の市販品も利用できる。ベンゾトリアゾール系としてはTINUBIN P（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、TINUBIN 234（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、TINUBIN 320（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、TINUBIN 326（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、TINUBIN 327（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、TINUBIN 328（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、スミソーブ340（住友化学社製）、アデカスタイプLA−31（旭電化工業社製）などがある。また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、シーソーブ100（シプロ化成社製）、シーソーブ101（シプロ化成社製）、シーソーブ101S（シプロ化成社製）、シーソーブ102（シプロ化成社製）、シーソーブ103（シプロ化成社製）、アデカスタイプLA−51（旭電化工業社製）、ケミソープ111（ケミプロ化成社製）、UVINUL D−49（BASF社製）などを挙げられる。また、オキザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤としては、TINUBIN 312（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）やTINUBIN 315（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）がある。さらにサリチル酸系紫外線吸収剤としては、シーソーブ201（シプロ化成社製）やシーソーブ202（シプロ化成社製）が上市されており、シアノアクリレート系紫外線吸収剤としてはシーソーブ501（シプロ化成社製）、UVINUL N−539（BASF社製）がある。
【００８９】
（微粒子）
本発明では、セルロースアシレート組成物に微粒子を添加することもできる。前記微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられ、いずれでもよい。本発明におけるセルロースアシレートに含まれる好ましい微粒子の平均一次粒子サイズは５ｎｍ〜３μｍであり、好ましくは５ｎｍ〜２．５μｍであり、特に好ましくは２０ｎｍ〜２．０μｍである。微粒子の添加量は、セルロースアシレートに対して、好ましくは０．００５〜１．０質量％であり、より好ましくは０．０１〜０．８質量％であり、さらに好ましくは０．０２〜０．４質量％である。
【００９０】
前記無機化合物としては、ＳｉＯ₂、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ₂、Ｖ₂Ｏ₅、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウム等が挙げられる。ＳｉＯ₂、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ₂、およびＶ₂Ｏ₅の少なくとも１種が好ましく、さらに好ましくはＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂である。
【００９１】
前記ＳｉＯ₂の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用できる。また、前記ＺｒＯ₂の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６およびＲ８１１（以上、日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用できる。またシーホスターＫＥ−Ｅ１０、同Ｅ３０、同Ｅ４０、同Ｅ５０、同Ｅ７０、同Ｅ１５０、同Ｗ１０、同Ｗ３０、同Ｗ５０、同Ｐ１０、同Ｐ３０、同Ｐ５０、同Ｐ１００、同Ｐ１５０、同Ｐ２５０（日本触媒（株）製品）なども使用される。また、シリカマイクロビーズＰ−４００、７００（触媒化成工業（株）製品）も利用できる。ＳＯ−Ｇ1、ＳＯ−Ｇ２、ＳＯ−Ｇ３、ＳＯ−Ｇ４、ＳＯ−Ｇ５、ＳＯ−Ｇ６、ＳＯ−Ｅ1、ＳＯ−Ｅ２、ＳＯ−Ｅ３、ＳＯ−Ｅ４、ＳＯ−Ｅ５、ＳＯ−Ｅ６、ＳＯ−Ｃ1、ＳＯ−Ｃ２、ＳＯ−Ｃ３、ＳＯ−Ｃ４、ＳＯ−Ｃ５、ＳＯ−Ｃ６、（（株）アドマテックス 製）として利用する事もできる。さらに、モリテックス（株）製シリカ粒子（水分散物を粉体化）８０５０、同８０７０、同８１００、同８１５０も利用できる。
【００９２】
次に、本発明で使用されうる有機化合物の微粒子としては、例えばシリコーン樹脂、フッ素樹脂およびアクリル樹脂等のポリマーが好ましく、シリコーン樹脂が特に好ましい。前記シリコーン樹脂としては、三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えばトスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０および同２４０（以上、東芝シリコーン（株）製）等の商品名を有する市販品を使用できる。
【００９３】
さらに、無機化合物からなる微粒子は、セルロースアシレートフィルム中で安定に存在させるために表面処理されているものを用いることが好ましい。無機微粒子は、表面処理を施してから用いることも好ましい。表面処理法としては、カップリング剤を使用する化学的表面処理と、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理とがあるが、本発明においてはカップリング剤を使用することが好ましい。前記カップリング剤としては、オルガノアルコキシ金属化合物（例えば、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等）が好ましく用いられる。微粒子として無機微粒子を用いた場合（特にＳｉＯ₂を用いた場合）ではシランカップリング剤による処理が特に有効である。前記シランカップリング剤としては下記一般式（１１）で表されるオルガノシラン化合物が使用可能である。前記カップリング剤の使用量は特に限定されないが、好ましくは無機微粒子に対して、０．００５〜５質量％使用することが推奨され、さらには０．０１〜３質量％が好ましい。
【００９４】
（離型剤）
本発明におけるセルロースアシレート組成物には、離型剤を添加することができる。離型剤としては、フッ素原子を有する化合物が好ましい。フッ素原子を有する化合物は、離型剤としての作用を発現でき、低分子量化合物であっても重合体であってもよい。重合体としては、特開２００１−２６９５６４号公報に記載の重合体を挙げることができる。フッ素原子を有する重合体として好ましいものは、フッ素化アルキル基含有エチレン性不飽和単量体を必須成分として含有してなる単量体を重合せしめた重合体である。前記重合体に係わるフッ素化アルキル基含有エチレン性不飽和単量体としては、分子中にエチレン性不飽和基とフッ素化アルキル基とを有する化合物であれば特に制限はない。またフッ素原子を有する界面活性剤も利用でき、特に非イオン性界面活性剤が好ましい。
【００９５】
（光学調整剤）
本発明におけるセルロースアシレート組成物には、光学調整剤を添加することができる。光学調整剤としてはレターデーション調整剤を挙げることができ、例えば、特開２００１−１６６１４４号公報、特開２００３−３４４６５５号公報、特開２００３−２４８１１７号公報、特開２００３−６６２３０号公報に記載のものを使用することができる。光学調整剤を添加することによって、面内のレターデーション（Ｒｅ）、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を制御することができる。光学調整剤の好ましい添加量は０〜１０質量％であり、より好ましくは０〜８質量％、さらに好ましくは０〜６質量％である。
【００９６】
（添加方法）
本発明で用いることができる各種添加剤をセルロースアシレート組成物に添加混合するタイミングは、各添加剤が溶融製膜される時点で添加されていれば特に限定されない。例えば、セルロースアシレートの合成時点で添加してもよいし、溶融前に予めセルロースアシレート中に混合させてもよく、溶融製膜時にセルロースアシレートと混合しつつ製膜することも好ましい。セルロースアシレートの合成時に添加する場合は、セルロースアシレートの沈殿生成前後に添加してもよく、セルロースアシレートが溶液状態で分散されている時に添加してもよい。これにより、セルロースアシレートと添加剤を均一に混合することができる。
【００９７】
なお、本発明では、予めセルロースアシレートに各種添加剤が所望量よりも高濃度で含まれているマスターペレット（セルロースアシレート主ペレット）を作製してもよい。その場合は、別に添加剤が低濃度のセルロースアシレートペレット（セルロースアシレート副ペレット）を作製しておくことが好ましい。その場合、マスターペレット中の添加剤量は特に規定されないが、好ましくはセルロースアシレートフィルム中の添加剤の最終濃度の１．１〜２０倍であり、より好ましくは２〜１５倍であり、さらに好ましくは２〜１０倍である。
【００９８】
本発明で用いることができる各種添加剤をセルロースアシレート組成物に添加混合する方法は特に制限されないが、例えば下記の方法を採用することができる。
セルロースアシレートを粉体として作製した後に、液状添加剤または固体状添加剤を混合する場合は、均一に混合することが重要である。添加剤が粉体の場合は、セルロースアシレート粉末に均一に混合するために、混合機器を利用することが有効である。また、添加剤が液状の場合は、攪拌付きのミキサーやニーダなど混合装置を利用することが有効であり、またはペレット作製工程中、二軸混練機のフィードに定量送液ポンプにより直接添加することもできる。
【００９９】
混合機器でセルロースアシレート組成物を混合する際には、添加剤やセルロースアシレートが安定であるように、湿度、温度や酸素濃度をコントロールすることが望ましい。この際、湿度や温度は低い方が好ましい。また、酸素濃度は低いことが好ましく、気体中の酸素濃度は１０容量％以下であることが好ましく、より好ましくは５容量％以下であり、さらに好ましくは２容量％以下であり、特に好ましくは１容量％以下である。酸素濃度を低下させる方法は特に限定されないが、不活性ガス（例えば、窒素、アルゴン、ヘリウムなど）や真空機器による脱気操作で達成できる。このようにして混合された添加剤含有セルロースアシレート組成物は、低酸素濃度を保持したまま溶融ペレット化あるいは溶融製膜されることが推奨される。なお、ペレット化工程で低い酸素濃度雰囲気下で溶融して作製された場合は、溶融製膜時の酸素濃度コントロールは不要な場合があり、工程への負荷が軽減される。
【０１００】
《セルロースアシレートフィルムの製造方法》
以下に、本発明のセルロースアシレートフィルムの製造方法について、詳細に記述する。なお、本発明のセルロースアシレートフィルムは、これらの方法により製造されたものに限定されるものではない。
【０１０１】
（１）ペレット化
本発明では、セルロースアシレートや化合物およびラクトン系化合物やその他の添加物を含むセルロースアシレート組成物を、溶融製膜に先立ち混合してペレット化しておくのが好ましい。ペレット化前にセルロースアシレートおよび添加物は事前に乾燥しておくことが好ましい。その場合の乾燥後の含水率としては、セルロースアシレート組成物が０．５質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．３質量％以下であり、特に好ましくは０．１質量％以下である。
【０１０２】
ベント式押出機を用いることで、これを代用することもできる。ペレット化は、上記セルロースアシレート組成物を２軸或いは１軸混練押出機を用い１８０℃〜２４０℃で溶融後、ヌードル状に押出したものを水中で固化し裁断することで作製することができる。水中に直接押出ながらカットするアンダーウオーターカット法でペレット化を行ってよい。好ましいペレットの大きさは断面積が１ｍｍ²〜３００ｍｍ²、長さが１ｍｍ〜３０ｍｍであり、より好ましくは断面積が２ｍｍ²〜１００ｍｍ²、長さが１．５ｍｍ〜１０ｍｍである。押出機の回転数は１０ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍが好ましく、より好ましくは３０ｒｐｍ〜５００ｒｐｍ以下である。ペレット化における押出滞留時間は通常１０秒間〜３０分間、好ましくは１０秒間〜３分間である。なおペレット化の際には、酸素を除去あるいは低減しておくことが好ましく、その場合は不活性ガス（例えば、窒素、ヘリウム、アルゴンなど）や減圧状態にしておくことで達成できる、好ましい酸素濃度としては１０容量％以下であり、より好ましくは５容量％以下であり、さらに好ましくは２容量％以下であり、特には０．５容量％以下である。
【０１０３】
なお、セルロースアシレート組成物への各化合物の添加方法については前述したように特に限定されないが、一般にはペレット化時に混入させることが好ましく推奨される。ただし、ペレット化時の溶融温度を低温状態にして、予めセルロースアシレートのみを溶融ペレット化したセルロースアシレートのマスターペレットに対して、化合物やその他の添加剤を高濃度に添加し溶融してペレット化した化合物添加マスターペレットを、溶融製膜時に所望の化合物添加量になるように、溶融押出し機に投入することも好ましい。
【０１０４】
（２）溶融製膜
次に溶融製膜について記述する。
【０１０５】
（乾燥）
溶融製膜に先立ちペレット中の水分を乾燥して含水率を０．１質量％以下、より好ましくは０．０１質量％以下にすることが好ましい。ペレット状の樹脂乾燥は通常用いられる何れの乾燥方法も用いることができる。例えば除湿エアーを循環する乾燥機、熱風乾燥機、真空乾燥機、超音波乾燥機、高周波乾燥機、赤外線乾燥機等が上げられる。このための乾燥温度は４０〜１８０℃が好ましく、さらに好ましくは６０〜１６０℃、特に好ましくは８０〜１４０℃である。乾燥風量は多いほど乾燥効率は上がるが、水分除去効率と経済性とを考慮すると１時間あたりに樹脂１００ｋｇを乾燥させるのに必要な風量としては好ましくは１０〜２００ｍ³／時間で有り、特に好ましくは５０〜１２５ｍ³／時間である。乾燥風の露点は好ましくは０〜−６０℃で有り、乾燥効率と経済性を考慮するとより好ましくは−２０〜−４０℃である。
【０１０６】
（溶融押出し）
乾燥したセルロースアシレートを押出機の供給口からシリンダー内に供給する。
押出機のスクリュー圧縮比は１．５〜４．５が好ましく、より好ましくは２．５〜４．０である。Ｌ（スクリュー長）／Ｄ（スクリュー径）は２０〜７０が好ましく、より好ましくは２４〜５０である。押出温度は１８０〜２４０℃が好ましく、より好ましくは１９０〜２４０℃であり、特に好ましくは２００〜２３５℃である。押出し機のバレルは３〜２０に分割したヒーターで加熱し溶融することが好ましい。
スクリューは、フルフライト、マドック、ダルメージ等何れのタイプを用いることが可能であるが、均一な可塑化と、滞留部分の発生防止およびせん断発熱による熱劣化を考慮し、適宜組み合わせて適正なスクリュー設計を行うことが必要である。樹脂の酸化防止のために、押出機内を不活性（窒素等）気流中、あるいはベント付き押出し機を用い真空排気しながら実施するのがより好ましい。
【０１０７】
（ろ過）
セルロースアシレート中の異物ろ過のためや異物によるギアポンプ損傷を避けるために、押し出し機出口にブレーカープレート式の濾過を行うことが好ましい。用いるフィルターのサイズは２０〜６００メッシュが好ましく、さらに好ましくは４０〜４００メッシュ、特に好ましくは５０〜３００メッシュである。
高精度濾過のために、ギアポンプ通過後にリーフ型ディスクフィルター型濾過装置を設けることが好ましい。濾過は、単段で行っても、多段で行っても良い。濾材の濾過精度は３〜１５μｍが好ましく、より好ましくは３〜１０μｍであり、特に好ましくは３〜５μｍである。濾材はステンレス鋼，スチールを用いることが好ましく、中でもステンレス鋼が望ましい。濾材は線材を編んだもの、金属焼結濾材が使用でき、特に後者が好ましい
【０１０８】
（ギアポンプ）
厚み精度向上（吐出量の変動減少）のために、押出機とダイスの間にギアポンプを設置するのが好ましい。これにより、ダイ部分の樹脂圧変動巾を±1％以内にできる。
ギアポンプによる定量供給性能を向上させるために、スクリューの回転数を変化させて、ギアポンプ前の圧力を一定に制御する方法も好ましい。３枚以上のギアを用いた高精度ギアポンプも有効である。ギアポンプ内の滞留部分が樹脂劣化の原因となるため、滞留の少ない構造が好ましい。また、軸受け部分に滞留して熱劣化した樹脂を軸のクリアランスから放出することにより、熱劣化ポリマーの混入を防止することも有効である。
押出機とギアポンプ、ギアポンプとダイ等とをつなぐアダプタの温度変動を小さくすることが押出圧力安定のために好ましい。このためにアルミ鋳込みヒーターを用いることがより好ましい。
【０１０９】
（ダイ）
ダイス内の溶融樹脂の滞留が少ない設計であれば、一般的に用いられるＴダイ、フィッシュテールダイ、ハンガーコートダイの何れのタイプでも構わない。又、Ｔダイの直前に樹脂温度の均一性アップのためのスタティックミキサーを入れることも問題ない。Ｔダイ出口部分のクリアランスは一般的にフィルム厚みの１．０〜２０．０倍が良く、さらに好ましくは３．０〜１５倍である。特に好ましくは５．０〜１０倍である。
ダイのクリアランスは４０〜５０ｍｍ間隔で調整可能であることが好ましく、より好ましくは２５ｍｍ間隔以下である。また、下流のフィルム厚みを計測してダイの厚み調整にフィードバックさせる方法も厚み変動の低減に有効である。機能層を外層に設けるため、多層製膜装置を用いて２種以上の構造を有するフィルムの製造も可能である。樹脂が供給口から押出機に入ってからダイスから出るまでの樹脂の好ましい滞留時間は２〜６０分間であり、より好ましくは２．５〜３０分間、さらに好ましくは２．５〜２０分間である。
【０１１０】
（キャスト）
ダイからシート上に押し出された溶融樹脂をキャスティングドラム上で冷却固化し、フィルムを得る。この時、静電印加法、エアナイフ法、エアーチャンバー法、バキュームノズル法、タッチロール法等の方法を用い密着を上げることが好ましい。またエッジピニング（フィルムの両端部のみを密着させる方法）も好ましい。
キャスティングドラムは１〜８本、より好ましくは２〜５本用い、徐冷する方法が好ましい。ロール直径は５０〜５０００ｍｍが好ましく、さらに好ましくは１５０〜１０００ｍｍである。複数本あるロールの間隔は、面間で０．３〜３００ｍｍが好ましく、さらに好ましくは３〜３０ｍｍである。キャスティングドラムは６０℃〜１６０℃が好ましく、さらに好ましくは８０℃〜１４０℃である。
この後、キャスティングドラムから剥ぎ取り、ニップロールを経た後巻き取る。このようにして得た未延伸フィルムの厚みは３０μｍ〜４００μｍが好ましく、より好ましくは５０μｍ〜２００μｍである。
【０１１１】
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ペレットをダイから押し出した後、タッチロールによって製膜するいわゆるタッチロール法を用いることが好ましく、ペレットをダイから押し出した後、タッチロールによって０．１〜１０ＭＰａの押圧で製膜することがさらに好ましい。また、いわゆるタッチロール法を用いる場合、タッチロール表面は、ゴム、テフロン等の樹脂でもよく、金属ロールでも良い。さらに、金属ロールの厚みを薄くすることでタッチしたときの圧力によりロール表面が若干くぼみ、圧着面積が広くなりフレキシブルロールと呼ばれる様なロールを用いることも可能である。この厚みは０．１ｍｍ〜７ｍｍが好ましく、より好ましくは０．２ｍｍ〜５．５ｍｍ、さらに好ましくは０．２ｍｍ〜４ｍｍである。タッチロール温度は６０℃〜１６０℃が好ましく、より好ましくは８０℃〜１４０℃である。タッチロールの押圧は上述の通り０．１〜１０ＭＰａが好ましく、より好ましくは０．２〜８ＭＰａ、さらに好ましくは０．３〜５ＭＰａである。ここで云う「押圧」とは、タッチロールをキャスティングロールに押付ける力（Ｆ：単位Ｎ）を、タッチロールとキャスティングロールとの接触面積（Ａ：単位ｍ²）で割った値（Ｆ／Ａ：単位Ｐａ）を指す。タッチロールを用いた製膜法は、例えば特開平１１−３１４２６３号公報、特開２００２−３６３３２号公報、特開平１１−２３５７４７号公報、国際公開ＷＯ９７／２８９５０号公報、特開２００４−２１６７１７号公報、特開２００３−１４５６０９号公報に記載のものを利用できる。
【０１１２】
（巻き取り）
巻き取り前にフィルムの両端をトリミングすることが好ましい。トリミングされた部分はフィルム用原料として再利用してもよい。トリミングカッターはロータリーカッター、シャー刃、ナイフ等何れを用いても構わない。材質についても、炭素鋼、ステンレス鋼、セラミックを用いることができる。
好ましい巻き取り張力は１ｋｇ/ｍ幅〜５０ｋｇ/幅、より好ましくは３ｋｇ/ｍ幅〜２０ｋｇ/幅である。巻き取り張力は、一定の巻き取り張力で巻き取っても良いが、巻取り径に応じてテーパーをつけ巻取ることがより好ましい。
またニップロール間のドロー比率を調整し、ライン途中でフィルムに規定以上の張力がかからない様にすることが必要である。
巻き取り前に、少なくとも片面にラミフィルムを付けても良い。
【０１１３】
（回収）
製膜した未延伸フィルムや延伸フィルムを製品サイズに合わせるためのトリミング工程や、製膜条件調整時には屑フィルムが発生する。発生量は投入原料の５〜３０％程度に達するため、屑フィルムを粉砕し、新原料と混合あるいは単独で再利用することは、コスト面および環境面から極めて重要である。粉砕、乾燥処理したフィルムは気送配管により原料タンクに供給され、バージン原料と混合し、ホッパーへ供給しても良い。また、粉砕フィルムとバージン原料を別々に計量し、押出機機に供給しても良い。粉砕フィルム原料とバージン原料の混合割合は重量比で１：９９〜７０：３０が好ましく、更に好ましくは５：９５〜５０：５０である。これにより、粉砕フィルムとバージン原料の嵩密度が異なっても押出機への供給安定性が良好で好ましい。但しリペレット化した場合は、フィルム物性に問題がなければ、上記範囲である必要はなく、任意の配合比率で混合することが可能である。
【０１１４】
本発明において好ましく採用することができる溶融製膜を実施するための装置概略図を図１に示す。図１は、本発明におけるセルロースアシレートペレットを用いて溶融製膜を実施するための装置の例を示した概略図である。図１中、１０１は混練押出機、１０２はギアポンプ、１０３は濾過部、１０４はダイ、１０５はタッチロール、１０６はキャスティング冷却ドラム、１０７はセルロースアシレート、１０８は縦延伸工程部、１０９は横延伸工程部、１１０は巻取工程部を示す。延伸については後述する。未延伸フィルムを製膜する場合は、キャスティング冷却ドラム１０６を通過した後、縦延伸工程部１０８および横延伸工程部１０９を通過させず巻取ることができる。
【０１１５】
《未延伸セルロースアシレートフィルムの特性》
（光学特性）
次に、本発明のセルロースアシレートフィルムの好ましい光学特性について説明する。
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。詳細な測定方法は後述する。
【０１１６】
本発明のセルロースアシレートフィルムの正面レターデーション（Ｒｅ）は０〜３００ｎｍであり、且つ、厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の絶対値が０〜７００ｎｍであることが好ましい。さらには、Ｒｅが０〜２５０ｎｍであり、Ｒｔｈの絶対値が０〜４００ｎｍであることがより好ましく、特にはＲｅが０〜２００ｎｍであり、Ｒｔｈの絶対値が０〜３５０ｎｍであることが好ましい。特に、本発明のセルロースアシレートフィルムは偏光板保護膜としての利用が有効であり、その場合は、Ｒｅが０〜２０ｎｍであり、Ｒｔｈが０〜６０ｎｍであることが好ましく、Ｒｅが０〜１０ｎｍ、Ｒｔｈが０〜４０ｎｍであることがより好ましく、Ｒｅが０〜５ｎｍ、Ｒｔｈが０〜２０ｎｍであることが特に好ましい。
【０１１７】
本発明のセルロースアシレートフィルムは、湿度変化に伴う光学特性変動の問題を改良することができるものであり、２５℃における相対湿度１０％の光学特性と８０％の光学特性との差が小さいことを一つの特徴としている。湿度変化による光学特性変動は、ＲｅとＲｔｈとの湿度変化による変化量の絶対値で評価することができる。すなわち、Ｒｅの湿度変化（ｎｍ）は、Ｒｅ（相対湿度８０％）とＲｅ（相対湿度１０％）との差の絶対値であり、Ｒｔｈの湿度変化（ｎｍ）は、Ｒｔｈ（相対湿度８０％）とＲｔｈ（相対湿度１０％）との差の絶対値で表わされる。本発明のセルロースアシレートフィルムは、Ｒｅの湿度変化が１０ｎｍ以下であることが好ましく、さらには５ｎｍ以下を実現することができ、さらに１ｎｍ以下も実現することができる。また、Ｒｔｈ湿度変化は、２５ｎｍ以下であることが好ましく、さらには２０ｎｍ以下を実現することができ、さらに１５ｎｍ以下も実現することができる。従来のセルローストリアセテートフィルムに比較すると、本発明のセルロースアシレートフィルムは湿度変化量が２/３〜１/２に抑えられている。
【０１１８】
本発明のセルロースアシレートフィルムは、波長に対する光学特性の挙動をコントロールすることも可能である。すなわち、波長４００ｎｍおよび７００ｎｍにおけるそれぞれのＲｅ（４００）、Ｒｅ（７００）の差の絶対値が０〜１５ｎｍであることが好ましく、Ｒｔｈ（４００）、Ｒｔｈ（７００）の差の絶対値が０〜３５ｎｍであることが好ましい。このことを式で表わすと、本発明のセルロースアシレートフィルムは、下記式（Ａ−１）および（Ａ−２）を満たすことが好ましい。
式（Ａ−１） ０≦｜Ｒｅ（７００）−Ｒｅ（４００）｜≦１５ｎｍ
式（Ａ−２） ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦３５ｎｍ
（式中、Ｒｅ（４００）およびＲｅ（７００）は、波長４００ｎｍおよび７００ｎｍにおける正面レターデーション（Ｒｅ）を表し、Ｒｔｈ（４００）およびＲｔｈ（７００）は、波長４００ｎｍおよび７００ｎｍにおける厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を表す。）
【０１１９】
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＲｅムラとＲｔｈムラとを抑えることができる。ここでいうＲｅムラ、Ｒｔｈムラは、セルロースアシレートフィルムの長さ方向１０ｍ、２５０ｍ、４５０ｍのそれぞれの領域において、幅方向に端部から２０ｃｍごとに７個所ずつサンプリングして、合計２１サンプルを用意し、これらのサンプルを２５℃、相対湿度６０％に３時間調湿して、同一環境下でＲｅ、Ｒｔｈを測定し、得られた数値の最大値と最小値の差を計算することにより得られる。本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＲｅムラとＲｔｈムラがそれぞれ３．０ｎｍ未満であることが好ましく、１．０ｎｍ未満であることがより好ましく、０．８ｎｍ以下であることがより好ましく、０．６ｎｍ以下であることがさらに好ましい。なお、上記の２１カ所のサンプルを採取することができない場合は、これに準じた方法によりＲｅムラとＲｔｈムラを計算する。
【０１２０】
また、本発明のセルロースアシレートフィルムでは、２５℃・相対湿度６０％環境下で波長５９０ｎｍにおける面内方向の固有複屈折が０〜０．００１であることが好ましく、厚さ方向の固有複屈折の絶対値が０〜０．００３であることが好ましい。より好ましくは、面内方向の固有複屈折が０〜０．０００８であり、厚さ方向の固有複屈折の絶対値が０〜０．００２５である。さらに好ましくは、面内方向の固有複屈折が０〜０．０００６であり、厚さ方向の固有複屈折の絶対値が０〜０．００１である。
【０１２１】
（軸ズレ）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、光学遅相軸が流延方向あるいは幅方向に対して平行あるいは直角であることが好ましい。特に延伸処理を施した場合には、流延方向に延伸した場合は０°に近いほど好ましい。具体的には、０±３°がより好ましく、さらに好ましくは０±１．５°であり、特に好ましくは０±０．５°である。幅方向に延伸した場合は、９０±３°あるいは−９０±３°が好ましく、より好ましくは９０±１.５°あるいは−９０±１．５°、さらに好ましくは９０±０．５°あるいは−９０±０．５°である。
【０１２２】
（弾性率、破断進度、熱寸法変化、透水率、平衡含水率）
本発明のセルロースアシレートフィルムの弾性率は、１．５ｋＮ／mm²〜３．５ｋＮ／mm²であることが好ましく、より好ましくは１．８ｋＮ／mm²〜２．６ｋＮ／mm²である。破断伸度は３％〜３００％が好ましい。Ｔｇは９５℃〜１４５℃が好ましい。８０℃１日での熱寸法変化は縦、横両方向とも０％〜±１％が好ましく、さらに好ましくは０％〜±０．３％である。４０℃／相対湿度９０％での透水率は３００ｇ／m²・日〜１０００ｇ／m²・日が好ましく、さらに好ましくは５００ｇ／m²・日〜８００ｇ／m²・日である。２５℃／相対湿度８０％での平衡含水率は１質量％〜４質量％が好ましく、さらに好ましくは１．５質量％〜２．５質量％である。
【０１２３】
（残留溶剤量）
本発明のセルロースアシレートフィルムには、残留溶剤が含まれていないか、含まれていても極めて少ない。残留溶剤量は０．０１質量％以下であることが好ましく、ゼロであることが最も好ましい。特に、溶融製膜による本発明の製造方法では、製膜時に溶剤を使用しないため、製造されるセルロースアシレートフィルムにも溶剤が含まれない点で極めて好ましい。
【０１２４】
（膜厚とムラ）
本発明のセルロースアシレートフィルムの膜厚は、２０〜３００μｍであることが好ましく、より好ましくは３０μｍ〜２００μｍ、さらに好ましくは３０μｍ〜１５０μｍ、特に好ましくは４０〜１２０μｍである。従って、延伸することを前提としたときの未延伸フィルムの膜厚は、延伸倍率により予め厚めの原反押し出し膜厚としておくことが好ましい。本発明のセルロースアシレートフィルムの厚みムラは、厚さ方向、幅方向いずれも０〜５μｍが好ましく、より好ましくは０〜３μｍ、さらに好ましくは０〜２μｍである。また製膜方向（長手方向）と、フィルムのＲｅの遅相軸とのなす角度θは０°、＋９０°もしくは−９０°に近いほど好ましい。
【０１２５】
（キシミ値）
本発明では、セルロースアシレートフィルムに微粒子あるいは滑り剤を添加することでキシミ値を軽減し搬送性を改良することができる。本発明において、セルロースアシレートフィルムの動的および静的キシミ値は共に、０．２〜１．５であることが好ましく、より好ましくは０．２〜１．３であり、さらに好ましくは０．２５６〜１．０である。微粒子の存在状態が粗大である場合は、そのキシミ値が小さくなる場合と大きくなる場合があり、共に搬送性は好ましくないばかりか、傷つきの発生を伴い推奨されない。キシミ値の測定方法については、後述する。
【０１２６】
（算術平均粗さ）
微粒子を含有するセルロースアシレートフィルムは、その表面の粗さが適度な範囲内にある。表面粗さの程度は、一般に用いられている算術平均粗さ（Ｒａ）で表される。本発明のセルロースアシレートフィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）は、１ｎｍ〜５００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１ｎｍ〜２５０ｎｍであり、特に好ましくは１ｎｍ〜２００ｎｍである。算術平均粗さ（Ｒａ）の測定は、一般に使用されている接触式あるいは非接触式表面粗さ測定機で求めることができる。
【０１２７】
（透過率）
本発明のセルロースアシレートフィルムの透過率は、好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９１％以上であり、特に好ましくは９２％以上である。透過率は、フィルム試料を２０ｍｍ×７０ｍｍに切り出して、２５℃・相対湿度６０％で透明度測定器（ＡＫＡ光電管比色計、ＫＯＴＡＫＩ製作所社製）で可視光（６１５ｎｍ）の透過率を測定することにより得られる。
【０１２８】
（ヘイズ）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ヘイズが０〜１.５％の範囲であることが好ましく、より好ましくは０〜１.２％であり、さらに好ましくは０〜０．８％であり、特に好ましくは０．０１〜０．５％である。ヘイズは、フィルム試料を４０ｍｍ×８０ｍｍに切り出して、２５℃・相対湿度６０％においてヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）を用いてＪＩＳ Ｋ−６７１４に従って測定する。
【０１２９】
《延伸と延伸セルロースアシレートフィルムとの物性》
（延伸）
本発明においては、フィルム特性をコントロールするために、延伸工程を行ってフィルムを延伸することも好ましい。例えば、未延伸フィルムを延伸し、Ｒｅ，Ｒｔｈを制御することができる。この時、延伸温度は（Ｔｇ〜Ｔｇ＋５０℃）が好ましく、さらに好ましくは（Ｔｇ＋５℃）〜（Ｔｇ＋２０℃）である。好ましい延伸倍率は少なくとも一方に１％〜３００％、より好ましくは３％〜２００％である。一方の延伸倍率を他方より大きくして延伸するほうがより好ましく、小さい方の延伸倍率は１％〜３０％が好ましく、より好ましくは３％〜２０％であり、大きいほうの延伸倍率は３０％〜３００％が好ましく、より好ましくは４０％〜１５０％である。これらの延伸は１段で実施しても、多段で実施してもよい。ここでいう延伸倍率は、以下の式を用いて求めたものである。
延伸倍率（％）＝１００×｛（延伸後の長さ）−（延伸前の長さ）｝／（延伸前の長さ）
このような延伸はニップロール、テンター等を用いて実施することができる。また、特開２０００−３７７７２号公報、特開２００１−１１３５９１号公報、特開２００２−１０３４４５号公報に記載の同時２軸延伸法を用いてもよい。
【０１３０】
延伸後のセルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈは下式を満足することが好ましい。
Ｒｔｈ≧Ｒｅ
２００≧Ｒｅ≧０
５００≧Ｒｔｈ≧３０
また、延伸後のセルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈは下式を満足することがより好ましい。
Ｒｔｈ≧Ｒｅ×１．２
１００≧Ｒｅ≧２０
３５０≧Ｒｔｈ≧８０
【０１３１】
また、製膜方向（長手方向）と遅相軸とのなす角度θは、縦延伸の場合は、０±３°が好ましく、より好ましくは０±１°である。横延伸の場合は、９０±３°あるいは−９０±３°が好ましく、より好ましくは９０±１°あるいは−９０±１°である。延伸後のセルロースアシレートフィルムの厚みは１５μｍ〜２００μｍが好ましく、より好ましくは４０μｍ〜１４０μｍである。厚みむらは長手方向、幅方向いずれも０％〜３％が好ましく、さらに好ましくは０％〜１％である。
【０１３２】
（物性）
延伸セルロースアシレートフィルムの物性は以下の範囲が好ましい。
引張り弾性率は１．５ｋＮ／ｍｍ²以上３．０ｋＮ／ｍｍ²未満が好ましく、より好ましくは１．８ｋＮ／ｍｍ²〜２．６ｋＮ／ｍｍ²である。
破断伸度は３％〜１００％が好ましく、より好ましくは８％〜５０％である。
Ｔｇは９５℃〜１４５℃が好ましく、より好ましくは１０５℃〜１３５℃である。
８０℃に１日静置した後の熱寸法変化は縦、横両方向とも０％〜±１％が好ましく、さらに好ましくは０％〜±０．３％である。
４０℃、相対湿度９０％での透水率は３００ｇ／ｍ²・日〜１０００ｇ／ｍ²・日が好ましく、さらに好ましくは５００ｇ／ｍ²・日〜８００ｇ／ｍ²・日である。
２５℃、相対湿度８０％での平衡含水率は１質量％〜４質量％が好ましく、さらに好ましくは１．５質量％〜２．５質量％である。
ヘイズは０％〜３％が好ましく、より好ましくは０％〜１％以下である。全光透過率は９０％〜１００％が好ましい。
【０１３３】
（面状）
本発明のセルロースアシレートフィルムにおいて、その長手方向に形成されるダイラインの深さは５００ｎｍ以下、幅は０．２ｍｍ以上、より好ましくは、深さ１００ｎｍ以下、幅０．３ｍｍ以上、さらに好ましくは、深さ５０ｎｍ以下、幅０．５ｍｍ以上である。ダイラインの高さ、深さは、三次元構造解析顕微鏡（Ｚｙｇｏ社製 ＮｅｗＶｉｅｗ ６０００型）を用いてフィルムの凹凸を測定した。
また、上記ダイラインの本数は、幅方向に対して、５本／１０ｃｍ以下、より好ましくは、３本／１０ｃｍ以下、さらに好ましくは１本／１０ｃｍ以下である。ダイラインの数は、該フィルム（製膜全幅×長手方向３０ｃｍ）を白色スクリーンの前に１０ｍｍの間隔を空け平行に設置し、このフィルムの中央部から３２．５度の方向に１ｍ離して設置したスライド投影機（例えばキャビン工業（株）製Color CabinIII）から投光し、スクリーンに投影された製膜方向（ＭＤ）に平行なスジ（光の明暗）の内、３ｍｍ幅以下のものの本数を全幅に亘って数え、幅１０ｃｍあたりの本数を求めた。
また、本発明のセルロースアシレートフィルムに含まれる、最大径５０μｍ以上の異物は、０個／３ｍ長×全幅であり、最大径２０〜５０μｍ以下の異物は３０個／３ｍ長×全幅以下である。さらに、該フィルムをクロスニコル状態に配置された２枚の偏光板の間に配置し、一方の偏光板側から光を当てて他方の偏光板の側から観測するに当って、最大径２０〜５０μｍ異物のうち輝点となる数は、１５個／３ｍ長×全幅以下であり、より好ましくは１０個／３ｍ長×全幅以下、さらに好ましくは５個／ｃｍ²以下である。なお、異物の数、大きさの測定は、製膜フィルムを、３ｍ長×全幅でサンプリングし、光学顕微鏡を用いてその数と大きさを測定することができる。
ダイライン、フィルム中に含まれる異物の数が上記範囲であると、高輝度のバックライトユニットを有する液晶表示ユニットに組み込む場合にも光漏れなどがなく良好な表示状態とすることができる。
【０１３４】
《セルロースアシレートフィルムの機能化》
次に、本発明のセルロースアシレートフィルムにさらに機能を付与する場合の好ましい態様を記述する。
【０１３５】
（表面処理）
セルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいう「グロー放電処理」とは、プラズマ励起性気体存在下でフィルム表面にプラズマ処理を施す処理である。
前記グロー放電処理とは、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒ（０．１３〜２７００Ｐａ）の低圧ガス下でおこる低温プラズマ処理を含む。また、大気圧下でのプラズマ処理も好ましいグロー放電処理である。前記プラズマ励起性気体とは、上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などが挙げられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。
【０１３６】
次に、本発明のセルロースアシレートフィルムの表面処理として好ましく用いられるアルカリ鹸化処理を具体的に説明する。アルカリ鹸化処理は、鹸化液に浸漬してもよく（浸漬法）、鹸化液を塗布してもよい（塗布方法）。浸漬法の場合は、ＮａＯＨやＫＯＨ等の水酸化イオンの濃度が０．３ｍｏｌ／Ｌ〜４．０ｍｏｌ／Ｌの水溶液を２０℃〜９０℃に加温した槽を０．１分〜１０分通過させたあと、中和、水洗、乾燥することで達成できる。
【０１３７】
塗布方法の場合、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法およびＥ型塗布法を用いることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液の透明支持体に対して塗布するために濡れ性がよく、また鹸化液溶媒によって透明支持体表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒間〜５分間が好ましく、５秒間〜５分間がさらに好ましく、２０秒間〜３分間が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。また、塗布式鹸化処理と後述の配向膜解塗設を、連続して行うことができ、工程数を減少できる。これらの鹸化方法は、具体的には、例えば、特開２００２−８２２２６号公報、国際公開第０２／４６８０９号パンフレットに記載されている。
【０１３８】
これらの方法で得られた固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社、１９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができ、接触角法を用いることが好ましい。本発明のセルロースアシレートフィルム表面の水に対する接触角（２５℃／相対湿度６０％）は、４５°以下であることが好ましく、１０〜４５°であることがさらに好ましく、１０〜４０°が特に好ましく、１０〜３０°が最も好ましい。
【０１３９】
本発明のセルロースアシレートフィルムに機能性層を接着させる方法として、表面活性化処理をしたのち、直接セルロースアシレートフィルム上に機能層を塗布して接着力を得る方法と、一旦何らかの表面処理をした後、あるいは表面処理なしで、下塗層（接着層）を設けこの上に機能層を塗布する方法とがある。前記下塗層の構成としても種々の工夫が行われており、例えば、１層の下塗り層を一層で構成する単層法や、第１層として支持体（セルロースアシレートフィルム）によく接着する層（下塗第１層）を設け、その上に第２層として機能層とよく接着する下塗り第２層を塗布する所謂重層法がある。この層は上記表面処理をした後、塗設してもよく、表面処理なしで塗設してもよい。下塗層についての詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁に記載されている。
【０１４０】
これらの表面処理、下塗り工程は、製膜工程の最後に組み込むこともでき、単独で実施することもでき、後述の機能層付与工程の中で実施することもできる。
【０１４１】
《本発明のセルロースアシレートフィルムの利用》
本発明のセルロースアシレートフィルムには、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３２頁〜４５頁に詳細に記載されている機能性層を組み合わせ、各種光学フィルムを形成することが好ましい。中でも好ましいのが、偏光膜の付与（偏光板）、光学補償層の付与（光学補償シート）、反射防止層の付与（反射防止フィルム）である。
【０１４２】
（１）偏光板の作製
本発明の偏光板は、偏光子に、本発明のセルロースアシレートフィルムを少なくとも１層積層して構成される。
【０１４３】
（偏光子）
本発明における偏光子は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）と二色性分子とから構成することが好ましい。また、特開平１１−２４８９３７号公報に記載されているようにＰＶＡやポリ塩化ビニルを脱水、脱塩素することによりポリエン構造を生成し、これを配向させたポリビニレン系偏光子も使用することができる。また、Optiva Inc.に代表される塗布型偏光子も利用できる。
【０１４４】
前記ＰＶＡは、ポリ酢酸ビニルをケン化したポリマー素材であるが、例えば不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のような酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性ＰＶＡも用いることができる。
【０１４５】
前記ＰＶＡのケン化度は特に限定されないが、溶解性等の観点から８０〜１００ｍｏｌ％が好ましく、９０〜１００ｍｏｌ％が特に好ましい。またＰＶＡの重合度は特に限定されないが、１０００〜１００００が好ましく、１５００〜５０００が特に好ましい。 ＰＶＡのシンジオタクティシティーは特許２９７８２１９号公報に記載されているように耐久性を改良するため５５％以上が好ましいが、特許第３３１７４９４号公報に記載されている４５〜５２．５％も好ましく用いることができる。
【０１４６】
前記ＰＶＡをフィルム化した後、二色性分子を導入して染色、延伸することによって偏光子を得ることができる。詳細な偏光子作製方法は特開２００５−１３８３７５号公報の段落番号［００７５］〜［００８２］、特開２００６−２０２６号公報の段落番号［０１３８］〜［０１４１］、特開２００６−４５５００号公報の段落番号［００９９］〜［０１０８］に記載するものが好ましく用いることができる。
【０１４７】
（偏光板）
本発明の偏光板においては、偏光子とセルロースアシレートフィルム（保護フィルム）との接着処理は、特に限定されるものではないが、例えば、ビニルアルコール系ポリマーからなる接着剤、あるいは、ホウ酸やホウ砂、グルタルアルデヒドやメラミン、シュウ酸などのビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤から少なくともなる接着剤などを介して行うことができる。特に、ポリビニルアルコール系フィルムとの接着性が最も良好である点で、ポリビニルアルコール系接着剤を用いることが好ましい。かかる接着層は、水溶液の塗布乾燥層などとして形成しうるが、その水溶液の調製に際しては必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒も配合することができる。詳細な偏光板の作製方法および偏光板特性は特開２００５−１２８５２０号公報の段落番号［０００８］〜［００２０］、特開２００５−２６６２２２号公報の段落番号［０００７］〜［００１３］、特開２００５−１３８３７５号公報の段落番号［００８３］〜［０１１３］、特開２００６−２０２６の段落番号［０１４２］〜［０１４５］、特開２００６−４５５００の段落番号［０１０９］〜［０１１１］に記載するものが好ましく用いることができる。
【０１４８】
一般に液晶表示装置は、二枚の偏光板の間に液晶セルが設けられ、また、一般に液晶セルは、２枚の基板の間に液晶注入される。従って、通常の液晶表示装置では、４枚の偏光板保護フィルムを有する。本発明のセルロースアシレートフィルムは、４枚の偏光板保護フィルムのいずれに用いてもよい。偏光板の保護フィルムは第１保護フィルム、偏光子、第２保護フィルムから積層してなる偏光板において、二枚偏光板を直交する際に第２保護フィルムが内側（液晶セル側）に配置する。液晶表示装置の視野角依存性、経時変化、黒表示時の光漏れおよび色味変化をより改善するために、本発明のセルロースアシレートフィルムは、液晶表示装置における偏光子と液晶層（液晶セル）との間に配置される第２保護フィルムとして、特に有利に用いることができる。
【０１４９】
また、液晶セルの上面（視認側）に配置する上偏光板の第１保護フィルムが本発明の溶融製膜されたセルロースアシレートフィルム、または溶液流延製膜したトリアセチルセルロースフィルムから選ばれ、表面にハードコート層、防眩層、反射防止層の少なくとも一層を設け、偏光板の第１保護フィルムとして視認側配置することが好ましく用いられる。液晶セルの下面（奥側）に配置する下偏光板の第１保護フィルムが本発明の溶融製膜されたセルロースアシレートフィルム、または溶液流延製膜したトリアセチルセルロースフィルムから選ばれ、偏光板の第１保護フィルムとしてバックライトユニット側に配置することが好ましく用いられる。
【０１５０】
（２）光学補償フィルムの作製
本発明の光学補償フィルムは、例えば本発明のセルロースアシレートフィルムを基材に用い、前記基材上に光学異方性層を有する。
前記光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するためのものであり、セルロースアシレートフィルムの上に配向膜を形成し、さらに光学異方性層を付与することで形成される。
【０１５１】
（配向膜）
前記表面処理したセルロースアシレートフィルム上に配向膜を設ける。この膜は、液晶性分子の配向方向を規定する機能を有する。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光子上に転写して本発明の偏光板を作製することも可能である。詳細な配向膜の作製方法および材料は特開２００６−２０２６号公報の段落番号［０１４８］〜［０１５９］、特開２００６−４５５００号公報の段落番号［０１１４］〜［０１２７］、特開２００６−４５５０１号公報の段落番号［００８０］〜［００８５］に記載されるものを好ましく用いることができる。このようにして得た配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。
【０１５２】
次に、配向膜の上に光学異方性層の液晶性分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させる。
【０１５３】
光学異方性層に用いる液晶性分子には、棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子が含まれる。棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。
【０１５４】
（棒状液晶性分子）
棒状液晶性分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
【０１５５】
なお、棒状液晶性分子には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性分子を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性分子として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性分子は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
【０１５６】
棒状液晶性分子については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
【０１５７】
棒状液晶性分子の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
棒状液晶性分子は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、ラジカル重合性不飽基あるいはカチオン重合性基が好ましく、具体的には、例えば特開２００２−６２４２７号公報明細書中の段落番号［００６４］〜［００８６］記載の重合性基、重合性液晶化合物が挙げられる。
【０１５８】
（円盤状液晶性分子）
円盤状（ディスコティック）液晶性分子には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
【０１５９】
円盤状液晶性分子としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造である液晶性を示す化合物も含まれる。分子または分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。円盤状液晶性分子から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物が円盤状液晶性分子である必要はなく、例えば、低分子の円盤状液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。円盤状液晶性分子の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、円盤状液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
【０１６０】
円盤状液晶性分子を重合により固定するためには、円盤状液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状コアと重合性基とは、連結基を介して結合する化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことができる。例えば、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１５１］〜［０１６８］記載の化合物等が挙げられる。
【０１６１】
ハイブリッド配向では、円盤状液晶性分子の長軸（円盤面）と偏光板の面との角度が、光学異方性層の深さ方向でかつ偏光板の面からの距離の増加と共に増加または減少している。円盤状液晶性分子の長軸と偏光板の面との角度は、距離の増加と共に減少することが好ましい。さらに、円盤状液晶性分子の長軸と偏光板の面との角度の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加および減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。円盤状液晶性分子の長軸と偏光板の面との角度は、角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していればよい。さらに、円盤状液晶性分子の長軸と偏光板の面との角度は連続的に変化することが好ましい。
【０１６２】
偏光板側の円盤状液晶性分子の長軸の平均方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法の選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）の円盤状液晶性分子の長軸（円盤面）方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマーおよびポリマーなどを挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、前記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。
【０１６３】
（光学異方性層の他の組成物）
前記の液晶性分子と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶分子の配向性等を向上することができる。液晶性分子と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。
【０１６４】
前記界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物が挙げられる。
【０１６５】
前記重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、前記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。前記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【０１６６】
円盤状液晶性分子とともに使用するポリマーは、円盤状液晶性分子に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。
【０１６７】
前記ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性分子の配向を阻害しないように、前記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
円盤状液晶性分子のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。
【０１６８】
（光学異方性層の形成）
光学異方性層は、液晶性分子および必要に応じて後述の重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成することができる。
【０１６９】
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【０１７０】
塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。
【０１７１】
（液晶性分子の配向状態の固定）
配向させた液晶性分子を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤とを用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。
【０１７２】
前記光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【０１７３】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
【０１７４】
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ² 〜５０Ｊ／ｃｍ²の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ² の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ² の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。保護子を光学異方性層の上に設けてもよい。
【０１７５】
この光学補償フィルムと偏光板とを組み合わせることも好ましい。具体的には、前記のような光学異方性層用塗布液を偏光板の表面に塗布することにより光学異方性層を形成する。その結果、偏光板と光学異方性層との間にポリマーフィルムを使用することなく、偏光板の寸度変化にともなう応力（歪み×断面積×弾性率）が小さい薄い偏光板が作製される。本発明に従う偏光板を大型の液晶表示装置に取り付けると、光漏れなどの問題を生じることなく、表示品位の高い画像を表示することができる。
【０１７６】
偏光板と光学補償層との傾斜角度は、ＬＣＤを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる２枚の偏光板の透過軸と液晶セルとの縦または横方向のなす角度にあわせるように延伸することが好ましい。通常の傾斜角度は４５°である。しかし、最近は、透過型、反射型および半透過型ＬＣＤにおいて必ずしも４５°でない装置が開発されており、延伸方向はＬＣＤの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。
【０１７７】
（３）反射防止フィルム
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ハードコート層、防眩層、反射防止層へ好ましく適用することができる。本発明の反射防止フィルムでは、例えば本発明のセルロースアシレートフィルムを基材に用いる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、本発明のセルロースアシレートフィルムの片面または両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れかあるいは全てを付与することができる。このようなハードコート層、防眩層、反射防止層としての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５号、２００１年３月１５日発行、発明協会）５４頁〜５７頁、特開２００５−１７８１９４号公報の段落番号［０１３７］〜［０１６７］、特開２００５−３２５２５８号公報の段落番号［０１３６］〜［０１５４］、特開２００６−４５５００号公報の段落番号［０１５３］〜［０１７５］、特開２００６−４５５０１号公報の段落番号［００９５］〜［０１０３］に詳細に記載されている。これらの作製方法は好ましく用いることができる。
【０１７８】
《液晶表示装置》
本発明のセルロースアシレートフィルム、並びに、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた本発明の偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルムは、様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。以下にこれらのフィルムが用いられる各液晶モードについて説明する。これらのモードのうち、本発明のセルロースアシレートフィルム、偏光板および光学補償フィルムは特にＴＮ、ＳＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳモードの液晶表示装置に好ましく用いられる。これらの液晶表示装置は、透過型、反射型および半透過型のいずれでもよい。
【０１７９】
（ＴＮモード液晶表示装置）
カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の位相差板の支持体として用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置とについては、古くからよく知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号および特開平９−２６５７２号の各公報の他、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。
【０１８０】
（ＳＴＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示 装置の位相差板の支持体として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０°の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。
【０１８１】
（ＯＣＢモード液晶表示装置）
棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。
ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
【０１８２】
（ＶＡモード液晶表示装置）
電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向しているのが特徴であり、ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償板や光学補償板の支持体として用いてもよい。または偏光板の保護フィルムとして特に有利に用いられる。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。
【０１８３】
（ＩＰＳモード液晶表示装置）
電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に面内に水平に配向しているのが特徴であり、これが電圧印加の有無で液晶の配向方向を変えることでスイッチングするのが特徴である。具体的には特開２００４−３６５９４１号公報、特開２００４−１２７３１号公報、特開２００４−２１５６２０号公報、特開２００２−２２１７２６号公報、特開２００２−５５３４１号公報、特開２００３−１９５３３３号公報に記載のものなどを使用できる。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償板や光学補償板の支持体として用いてもよい。または偏光板の保護フィルムとして特に有利に用いられる。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。これらの態様において本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。
【０１８４】
（反射型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の位相差板としても有利に用いられる。これらの表示モードは古くからよく知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、国際公開第９８／４８３２０号パンフレット、特許第３０２２４７７号公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、国際公開第００／６５３８４号パンフレットに記載がある。
【０１８５】
（その他の液晶表示装置）
本発明の透明ポリマーフィルムは、ＡＳＭ（Axially Symmetric Aligned Microcell）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置とについては、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Ｋｕｍｅ ｅｔ ａｌ．， ＳＩＤ ９８ Ｄｉｇｅｓｔ １０８９ （１９９８））に記載がある。
【０１８６】
《測定方法および評価方法》
以下において、セルロースアシレートとセルロースアシレートフィルムの測定方法と評価方法ついて記載する。本出願に記載される測定値は、以下に記載される方法により測定されたものである。
【０１８７】
（セルロースアシレートの置換度）
アシル基の置換度は、ＡＳＴＭ Ｄ−８１７−９１に準じた方法、セルロースアシレートを完全に加水分解し、遊離したカルボン酸またはその塩をガスクロマトグラフィーあるいは高速液体クロマトグラフィーで定量する方法、¹Ｈ−ＮＭＲあるいは¹³Ｃ−ＮＭＲによる方法などを単独または組み合わせることにより決定した。
【０１８８】
（セルロースアシレートの分子量）
セルロースアシレート樹脂をＴＨＦに溶解し０．５質量％のサンプル溶液を調製した。これを、ＧＰＣを用いて下記の条件下で測定し、重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）を求めた。なお、検量線はポリスチレン（ＴＳＫ標準ポリスレン：分子量1050、5970、18100、37900、190000、706000）を用いて作成した。Ｍｗ、Ｍｎを上記方法で決定した置換度から求めた１セグメントあたりの分子量で割った値をそれぞれＤＰｗおよびＤＰｎとした。
カラム：TSK GEL Super HZ4000、TSK GEL Super HZ2000、
TSK GEL Super HZM−M、TSK Guard Column Super HZ−L、
カラム温度：４０℃
溶離液：ＴＨＦ
流量：１ｍｌ／分
検出器：ＲＩ
【０１８９】
（残留硫酸量）
セルロースアシレートの硫酸根の含有量は、ＡＳＴＭ Ｄ−８１７−９６、酸化分解・電量滴定法などにより測定し、その量は、硫黄原子の含有量で定義した。
【０１９０】
（残留金属量）
セルロースアシレートを灰化後、ＩＣＰ−ＭＳ分析法で定量した。
【０１９１】
（Ｔｇの測定）
ＤＳＣの測定パンに試料を２０ｍｇ入れた。これを窒素気流中で、１０℃／分で３０℃〜２５０℃まで昇温した後、３０℃まで−１０℃／分で冷却した。この後、再度３０℃〜２５０℃まで昇温してベースラインが低温側から偏奇し始める温度をＴｇとした。
【０１９２】
（ＲｅとＲｔｈの測定）
本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈは各々、波長５９０ｎｍにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。ＲｅはＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲ（王子計測機器（株）製）において、特に断りがない限り波長５９０ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが一軸または二軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈは算出される。
Ｒｔｈは前記Ｒｅを、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長５９０ｎｍの光を入射させて全部で１１点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。
また、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。
なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレタデーション値を測定し、その値と平均屈折率および入力された膜厚値を基に、以下の式（ｂ）および式（ｃ）よりＲｔｈを算出することもできる。
【０１９３】
【数１】

［式中、Ｒｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレタ−デーション値をあらわす。また、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘおよびｎｙに直交する方向の屈折率を表す。］
式（ｃ）： Ｒｔｈ＝(（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ)×ｄ
【０１９４】
測定されるフィルムが一軸や二軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈは算出される。
Ｒｔｈは前記Ｒｅを、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長５９０ｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。
これら平均屈折率と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）がさらに算出される。
【０１９５】
（湿度に伴うＲｅおよびＲｔｈ変動）
セルロースアシレートフィルムを、２５℃・相対湿度１０％で上記と同様に測定しＲｅ（相対湿度１０％）、Ｒｔｈ（相対湿度１０％）を求めた。さらにこれらの試料を２５℃・相対湿度８０％で同様に測定し、Ｒｅ（相対湿度８０％）、Ｒｔｈ（相対湿度８０％）を求めた。各試料について、下記式に従い湿度Ｒｅ変動、湿度Ｒｔｈ変動を求めた。
・湿度Ｒｅ変動（％／相対湿度％）＝［１００×｛Ｒｅ（相対湿度８０％）とＲｅ（相対湿度１０％）の差の絶対値｝／Ｒｅ（相対湿度６０％）］／７０
・湿度Ｒｔｈ変動（％／相対湿度％）＝［１００×｛Ｒｔｈ（相対湿度８０％）とＲｔｈ（相対湿度１０％）の差の絶対値｝／Ｒｔｈ（相対湿度６０％）］／７０
【０１９６】
（Ｒｅムラ，Ｒｔｈムラ）
セルロースアシレートフィルムの長さ方向１０ｍ、２５０ｍ、４５０ｍのそれぞれの領域において、幅方向に端部から２０ｃｍごとに７個所ずつサンプリングして、合計２１サンプルを用意した。これらのサンプルを２５℃、相対湿度６０％に３時間調湿し、同一環境下でＲｅ、Ｒｔｈを測定し、得られた数値の最大値と最小値の差を、それぞれＲｅムラ，Ｒｔｈムラとして評価した。数値が小さいほど、光学特性のバラツキが小さくて優れていることを示す。
【０１９７】
（軸ズレ）
セルロースアシレートフィルムを７０ｍｍ×１００ｍｍに切り出して、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）製）を用いて軸ズレ角度を測定した。セルロースアシレートフィルムの幅方向に全幅にわたって等間隔で２０点測定し、絶対値の平均値を求めた。また、遅相軸角度（軸ズレ）のレンジとは、幅方向全域にわたって等間隔に２０点測定し、軸ズレの絶対値の大きいほうから４点の平均と小さいほうから４点の平均の差をとったものである。
【０１９８】
（ダイスジ）
セルロースアシレートフィルムの流延方向（長さ方向）にスジ状に発生するダイスジの評価を、反射光源のもとで目視で観察することにより行った。評価基準は、以下のとおりとした。
Ａ： ダイスジは見られなかった。
Ｂ： ダイスジが微かに見られた。
Ｃ： はっきりと認められるダイスジがあった。
Ｄ： ダイスジが全面に著しく発生した。
【０１９９】
（面状）
セルロースアシレートフィルムを全幅×流れ方向３０ｃｍに切り出して、異物およびダイラインの数は、該フィルムを白色スクリーンの前に１０ｍｍの間隔を空け平行に設置し、このフィルムの中央部から３２．５度の方向に１ｍ離して設置したスライド投影機（例えばキャビン工業（株）製Color CabinIII）から投光し、スクリーンに投影された製膜方向（ＭＤ）に平行なスジ（光の明暗）の内、３ｍｍ幅以下のものの本数を全幅に亘って数え、幅１０ｃｍあたりの本数を求めた。評価基準は、以下のとおりとした。
Ａ： ダイズジが０本/１０ｃｍ以下であった。
Ｂ： ダイズジが２本/１０ｃｍ以下であった。
Ｃ： ダイズジが５本/１０ｃｍ以下であった。
Ｄ： ダイズジ５本/１０ｃｍよりも多かった。
【０２００】
（異物）
セルロースアシレートフィルムを全幅×流れ方向３ｍ長でサンプリングし、反射光源のもとで膜中異物を目視にて検出した後、光学顕微鏡を用いてその数と大きさを測定することができる。評価基準は、以下のとおりとした。
Ａ： 最大径２０〜５０μｍ異物のうち輝点となる数が、５個／３ｍ長×全幅以下であった。
Ｂ： 最大径２０〜５０μｍ異物のうち輝点となる数が、１５個／３ｍ長×全幅以下であった。
Ｃ： 最大径２０〜５０μｍ異物のうち輝点となる数が、３０個／３ｍ長×全幅以下であった。
Ｄ： 最大径２０〜５０μｍ異物のうち輝点となる数が、３０個／３ｍ長×全幅を超えていた。
【０２０１】
（輝点異物の測定）
直交状態（クロスニコル）に二枚の偏光板を配置して透過光を遮断し、二枚の偏光板の間にセルロースアシレートフィルムを置いた。この際、偏光板はガラス製保護板のものを使用した。セルロースアシレートフィルムを挟んだ偏光板に片側から光を照射し、反対側から光学顕微鏡（５０倍）で１ｃｍ²当たりの直径に応じた輝点数をカウントした。
【０２０２】
（残留溶剤量）
セルロースアシレートフィルムを７ｍｍ×３５ｍｍに切り出して、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ−１８Ａ、島津製作所（株）製）を用いてベース残留溶剤量を測定した。
【０２０３】
（傷つき）
セルロースアシレートフィルムを目視で観察し、以下の評価基準に従って傷つきを評価した。
Ａ： 傷つきは全く認められなかった。
Ｂ： 傷つきがわずかに認められた。
Ｃ： 傷つきがかなり認められた。
Ｄ： 傷つきが著しく認められた。
【０２０４】
（ヘイズ）
セルロースアシレートフィルムを４０ｍｍ×８０ｍｍに切り出して、２５℃・相対湿度６０％でヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機社製）を用いてＪＩＳ Ｋ−６７１４に従って測定した。
【０２０５】
（透過率）
セルロースアシレートフィルムを２０ｍｍ×７０ｍｍに切り出して、２５℃・相対湿度６０％で透明度測定器（ＡＫＡ光電管比色計、ＫＯＴＡＫＩ製作所）を用いて可視光（６１５ｎｍ）の透過率を測定した。
【０２０６】
（着色増加分）
セルロースアシレートフィルムを２５℃、相対湿度６０％で４時間調湿した。その後、直径５ｃｍに裁断して直径５ｃｍのアルミニウムトレイにすばやく入れ、空気雰囲気中のイナートオーブンにおいて２４０℃で１時間加熱した。冷却後のサンプル０．２ｇをメチレンクロライドで全容が１０ｍｌとなるように溶解して２質量％の溶液を作製し、その４００ｎｍにおける吸光度を測定した。加熱前のサンプルについても２質量％のメチレンクロライド溶液を作製して４００ｎｍにおける吸光度を測定し、加熱前後の吸光度の増加分を着色増加分として評価した。数値が小さいほど、熱安定性が良好なフィルムであることを示す。
【０２０７】
（アルカリ加水分解性）
セルロースアシレートフィルムを１００ｍｍ×１００ｍｍに切り出して、自動アルカリ鹸化処理装置（新東科学（株）製）にて、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液にて６０℃で３分間鹸化した。これを４分間水洗した後、０．０１ｍｏｌ／Ｌ希硝酸にて３０℃で４分間中和し、４分間水洗した。その後、１００℃で３分間乾燥し、さらに自然乾燥を１時間行って、下記の目視基準と鹸化処理前後のヘイズ値からアルカリ加水分解性を評価した（２５℃・相対湿度６０％）。
Ａ： 白化は全く認められなかった。
Ｂ： 白化がわずかに認められた。
Ｃ： 白化がかなり認められた。
Ｄ： 白化が著しく認められた。
【０２０８】
（カール値）
セルロースアシレートフィルムを３５ｍｍ×３ｍｍに切り出して、カール調湿槽（ＨＥＩＤＯＮ（Ｎｏ．ＹＧ５３−１６８）、新東科学（株）製）にて相対湿度２５％、５５％、８５％で２４時間調湿し、曲率半径をカール板で測定した。またウェットでのカールは、水温２５℃の水中に３０分静置した後に、そのカール値を測定した。
【０２０９】
（キシミ値）
セルロースアシレートフィルムを１００ｍｍ×２００ｍｍおよび７５ｍｍ×１００ｍｍに切り出して、２５℃・相対湿度６０％の条件下で２時間調湿し、テンシロン引張試験機（ＲＴＡ−１００，オリエンテック（株）製）にて、大きいフィルム試料を台の上に固定し、２００ｇのおもりをつけた小さいフィルム試料を載せた。次いで、おもりを水平方向に引っ張り、動きだした時の力、動いているときの力を測定し、静摩擦係数、動摩擦係数をそれぞれ算出して、靜的キシミ値および動的キシミ値とした。
Ｆ＝μ×Ｗ （Ｆ：キシミ値、μ：摩擦係数、Ｗ：おもりの重さ（ｋｇｆ））
【０２１０】
（含水率）
セルロースアシレートフィルムを７ｍｍ×３５ｍｍに切り出して、水分測定器と試料乾燥装置（ＣＡ−０３、ＶＡ−０５、共に三菱化学（株））とを用いてカールフィッシャー法で測定した。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出した。
【０２１１】
（熱収縮率）
セルロースアシレートフィルムを３０ｍｍ×１２０ｍｍに切り出して、９０℃・相対湿度５％で２４時間、１２０時間経時させ、自動ピンゲージ（新東科学（株）製）にて、両端に６ｍｍφの穴を１００ｍｍ間隔に開けて、間隔の原寸（Ｌ１）を最小目盛り１／１０００ｍｍまで測定した。さらに９０℃・相対湿度５％にて２４時間、１２０時間熱処理してパンチ間隔の寸法（Ｌ２）を測定した。熱収縮率を｛（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌ１｝×１００により求めた。
【０２１２】
（透湿係数）
セルロースアシレートフィルム（７０ｍｍφ）を２５℃・相対湿度９０％および４０℃・相対湿度９０％でそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置（ＫＫ−７０９００７、東洋精機（株）製）を用いて、ＪＩＳ Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量（ｇ／ｍ²）を算出した。そして、透湿度を、調湿後質量−調湿前質量を計算することにより求めた。さらに強制的評価として、６０℃・相対湿度９５％にて２４時間調室後に測定し、透湿係数とした。
【０２１３】
（弾性率）
東洋ボールドウィン製の万能引っ張り試験機ＳＴＭ Ｔ５０ＢＰを用いて、２３℃、相対湿度７０％雰囲気中、引っ張り速度１０％／分で０．５％伸びにおける応力を測定し、弾性率を求めた。
【０２１４】
（抗張力、伸長率）
試料１５ｍｍ×２５０ｍｍを、２３℃、相対湿度６５％、２時間調湿し、テンシロン引張試験機（ＲＴＡ−１００、オリエンテック（株））にてＩＳＯ１１８４−１９８３に従って、初期試料長１００ｍｍ、引張速度２００±５ｍｍ／分で弾性率を引張初期の応力と伸びより算出し、抗張力、伸張力、破断伸度を評価した。
【実施例】
【０２１５】
以下に実施例と比較例とを挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０２１６】
［合成例１］
（セルロースアセテートプロピオネートの合成）
攪拌装置および冷却装置を付けた反応容器に、セルロース（リンター）８０質量部、酢酸３３質量部を取り、６０℃で４時間処理してセルロースを活性化した。無水酢酸３３質量部、プロピオン酸５１８質量部、プロピオン酸無水物５３６質量部、硫酸４質量部を混合し、−２０℃に冷却してから反応容器に添加した。
【０２１７】
反応の最高温度が３５℃になるようにエステル化を実施し、反応液の粘度が８４０ｃＰとなった時点を反応の終点とした。終点での反応混合物の温度は１５℃になるように調節した。水１３３質量部、酢酸１３３質量部の混合物を−５℃に冷却した反応停止剤を、反応混合物の温度が２３℃を超えないように添加した。
【０２１８】
反応混合物の温度を６０℃とし、２時間攪拌して部分加水分解を行った。反応混合物を酢酸水溶液と混合することにより得られた高分子化合物の再沈殿を実施し、７０〜８０℃の温水での洗浄を繰り返した。脱液の後、０．００１２質量％の水酸化カルシウム水溶液に浸漬し、３０分攪拌を行った後に再度脱液を行った。７０℃で乾燥を行い、セルロースアセテートプロピオネートを得た。
【０２１９】
得られたセルロースアセテートプロピオネートは、アセチル置換度０．４２、プロピオニル置換度２．４０、全アシル置換度２．８２、数平均分子量５０２００（数平均重合度ＤＰｎ＝１５９）、重量平均分子量１２５９００（重量平均重合度ＤＰｗ＝３９８）、残存硫酸量５５ｐｐｍ、マグネシウム含有量１０ｐｐｍ、カルシウム含有量５５ｐｐｍ、ナトリウム含有量１ｐｐｍ、カリウム含有量は検出限界以下、鉄含有量３ｐｐｍであった。含水率が０．１質量％、ジクロロメタン溶液中６質量％の粘度１４０ｍＰａ・ｓ、平均粒子サイズ１．２ｍｍで標準偏差０．３ｍｍ、嵩比重０．２１、真比重１．２２である粉体であった。本試料のジクロロメタン溶液からキャストしたフィルムを偏光顕微鏡で観察した結果、不溶解物は認められなかった。
【０２２０】
［合成例２］ セルロースアセテートプロピオネートの合成
セルロース （広葉樹パルプ）１０質量部に酢酸０．１質量部、プロピオン酸２．７質量部を噴霧した後、１時間室温で保存した。別途、無水酢酸１．２質量部、プロピオン酸無水物６１質量部、硫酸０．７質量部の混合物を調整し、−１０℃に冷却後に、前記前処理を行ったセルロースと反応容器内で混合した。
３０分経過後、外設温度を３０℃まで上昇させ、４時間反応させた。反応容器に２５％含水酢酸４６質量部を添加し、内温を６０℃に上昇させて、２時間攪拌した。酢酸マグネシウム４水和物と酢酸と水とを等重量ずつ混合した溶液を６．２質量部添加し、３０分間攪拌した（中和工程）。反応液を金属焼結フィルター（保留粒子径４０μｍ、１０μｍの２段で実施）にて加圧ろ過して異物を除去した。７５％含水酢酸に濾過後の反応液を混合してセルロースアセテートプロピオネートを沈殿させた後、７０℃の温水にて、洗浄液のｐＨが６〜７になるまで洗浄を行った。更に、０．００１％水酸化カルシウム水溶液中で０．５時間攪拌する処理を行った後に濾過した。得られたセルロースアセテートプロピオネートは、７０℃で乾燥させた。¹Ｈ−ＮＭＲの測定から得られたセルロースアセテートプロピオネートはアセチル化度０．１５、プロピオニル化度２．６２、全アシル置換度２．７７、数平均分子量５４５００（数平均重合度ＤＰｎ＝１７３）、質量平均分子量１３２０００（質量平均重合度ＤＰｗ＝４１９）、残存硫酸量４５ｐｐｍ、マグネシウム含有量８ｐｐｍ、カルシウム含有量４６ｐｐｍ、ナトリウム含有量１ｐｐｍ、カリウム含有量１ｐｐｍ、鉄含有量２ｐｐｍであった。本試料のジクロロメタン溶液からキャストしたフィルムを偏光顕微鏡で観察した結果、偏光子を直行させた場合も平行にした場合も、異物はほとんど認められなかった。本原料を用いて製膜したフィルムは表３に記載した。
【０２２１】
［合成例３］
（セルロースアセテートブチレートの合成）
攪拌装置および冷却装置を付けた反応容器に、セルロース（木材パルプ）２００質量部、酢酸１００質量部を取り、６０℃で４時間処理することによりセルロースを活性化した。酢酸１６１質量部、無水酢酸４４９質量部、酪酸７４２質量部、酪酸無水物１３４９質量部、硫酸１４質量部を混合し、−２０℃に冷却してから反応容器に添加した。
【０２２２】
反応の最高温度が３０℃になるようにエステル化を実施し、反応液の粘度が１０５０ｃＰ（１０５０ｍＰａ・ｓ）となった時点を反応の終点とした。終点での反応混合物の温度は１０℃になるように調節した。水２９７質量部、酢酸５５８質量部の混合物を−５℃に冷却した反応停止剤を、反応混合物の温度が２３℃を超えないように添加した。
【０２２３】
反応混合物の温度を６０℃とし、２時間３０分攪拌して部分加水分解を行った。反応混合物を酢酸水溶液と混合することにより得られた高分子化合物の再沈殿を実施し、７０〜８０℃の温水での洗浄を繰り返した。脱液の後、０．００２５質量％の水酸化カルシウム水溶液に浸漬し、３０分攪拌を行った後に再度脱液を行った。７０℃で乾燥を行い、セルロースアセテートブチレートを得た。
【０２２４】
得られたセルロースアセテートブチレートは、アセチル置換度１．５１、ブチリル置換度１．１９、全アシル置換度２．７０、数平均分子量５５,６００（数平均重合度ＤＰｎ＝１８１）、重量平均分子量１３９,０００（重量平均重合度ＤＰｗ＝４５１）、残存硫酸量５０ｐｐｍ、マグネシウム含有量８ｐｐｍ、カルシウム含有量６５ｐｐｍ、ナトリウム含有量２ｐｐｍ、カリウム含有量は２ｐｐｍ、鉄含有量３ｐｐｍであった。本試料のジクロロメタン溶液からキャストしたフィルムを偏光顕微鏡で観察した結果、不溶解物は認められなかった。本原料を用いて製膜したフィルムは表３に記載した。
【０２２５】
［合成例４］
（他のセルロースアシレートの合成）
他のセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートについても、目的とする置換度ならびに重合度により、前記合成例１〜３の方法から、アシル化剤の組成、アシル化の反応温度および時間、部分加水分解の温度および時間を変化させることにより、同様に合成した。本原料を用いて製膜したフィルムは表３に記載した。
【０２２６】
［合成例５］
（セルロース混合エステルの合成）
セルロースにアシル化剤（酢酸、無水酢酸、プロピオン酸、プロピオン酸無水物、酪酸、酪酸無水物から、目的とするアシル置換度に応じて単独または複数を組み合わせて選択した）、ならびに触媒としての硫酸を混合し、反応温度を４０℃以下に保ちながらアシル化を実施した。原料となるセルロースが消失してアシル化が完了した後、さらに４０℃以下で加熱を続けて、所望の重合度に調整した。酢酸水溶液を添加して残存する酸無水物を加水分解した後、６０℃以下で加熱を行うことで部分加水分解を行い、所望の全置換度に調整した。残存する硫酸を過剰量の酢酸マグネシウムにより中和した。酢酸水溶液から再沈殿を行い、さらに、水での洗浄を繰り返すことにより、表３に記載のアシル基の種類と置換度を有するセルロースアシレートを作製した。
【０２２７】
［実施例１］
（１）セルロースアシレートペレットの調製
セルロースアシレートとして、セルロースアシレートＡ（合成例１）を用いた。また６位の水酸基に対するアセチル基の置換度は０．１５、６位の水酸基に対するプロピオニル基の置換度は０．７９であり全アセチル中の３３．３％であった。セルロースアシレートＡを、メチレンクロライド／メタノール＝９０／１０（質量比）を用いてガラス板上に溶液製膜して、８０μｍの厚さのフィルムを得てその基本特性を調べた。結果、セルロースアシレートＡのみからなるフィルムのイエローインデックスは０．８２であり、ヘイズは０．１、透過率は９３．８％であり、Ｔｇ（ガラス転移温度；ＤＳＣにより測定）は１３７℃であった。
【０２２８】
このセルロースアシレートＡを１０５℃で５時間乾燥し、含水率を０．０７質量％にした。次いで、乾燥したセルロースアシレートＡに、紫外線吸収剤（商品名：アデカスタブＬＡ−３１、旭電化工業（株）製）をセルロースアシレートに対して１．０質量％添加した。また、平均一次粒子サイズが１．２μｍのシリカ粒子（０．９〜１．５μｍの粒子の質量存在比率が９５％以上であって、１．５μｍ以上の粒子の質量存在比率が１．０％以下である）を、セルロースアシレートに対して０．０５質量％添加した。さらに化合物を下記表１に従って添加した。各化合物の添加量はセルロースアシレート１００質量部に対し、使用する化合物の質量部である。
【０２２９】
【表１】

【０２３０】
（２）ろ過・ペレット化
これら添加物を添加した混合物をヘンシェルミキサー（（株）三井三池製作所製）で撹拌・混合し、均一なセルロースアシレート組成物を得た。このセルロースアシレート組成物を用いて、押し出し機（工程はすべて、窒素気流で満たされている）によりペレットを作製した。すなわち、２軸混練押し出し機のホッパーにセルロースアシレート組成物を投入し、さらに１８０〜２２０℃でスクリュー回転数３００ｒｐｍ、滞留時間４０秒で混練して融解し、ろ過部を通してペレットを作製した。ろ過は、ダイ直前に設置された口径１０μｍの焼結金属フィルターを用いて加圧ろ過することにより行った。
【０２３１】
さらに、ろ過済みのメルトを押し出し部の直径が２．５ｍｍであるノズルから押し出して、３秒以内に７０℃〜９０℃の温水浴中に直径３ｍｍのストランド状に２００ｋｇ／時間でダイから押し出し、３０秒浸漬した後（ストランド固化）、１０℃〜３０℃の水中を３０秒間通過させて温度を下げ、直径３ｍｍ、長さ２〜６ｍｍ（大部分は３ｍｍ）に裁断してペレットを得た。得られたセルロースアシレートペレットを、窒素雰囲気下で、１０５℃で３時間乾燥し、しかる後に窒素雰囲気下でアルミニウムを有するラミネートフィルムからなる防湿袋に袋詰めして、さらに窒素雰囲気下の倉庫で湿度や酸素を遮断して保管した。得られたペレットは、透明かつ均質な組成であった。
【０２３２】
（３）溶融製膜
つぎに上記で作製したセルロースアシレートペレットを、含水率を０．０１質量％以下にまで乾燥した後、９５℃になるように調整したホッパーに投入し、上流側溶融温度１９５℃、中間溶融温度２１０℃、表１に示す下流側溶融温度、Ｔ−ダイ温度２３５℃に調整した溶融押出し機で溶融した。なお、これに用いたスクリューの直径は６０ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３２、圧縮比８であった。溶融押出機から押出された樹脂はギアポンプで一定量計量され送り出されるが、この時ギアポンプ前の樹脂圧力が１０ＭＰａの一定圧力で制御できるように、押出機の回転数を変更させた。ギアポンプから送り出されたメルト樹脂は濾過精度５μｍｍのリーフディスクフィルターにて濾過し、スタティックミキサーを経由してスリット間隔０．８ｍｍ、２３０℃のハンガーコートダイから、ガラス転移温度のＴｇ−５℃、Ｔｇ、Ｔｇ−１０℃の設定した３連のキャストロール上に押し出し、最上流側の第１キャストロールにＴｇ−７℃のタッチロールを接触させ、前記表１に示すタッチロールの押圧でキャスティング固化し、未延伸フィルムを製膜した。（このＴgはＤＳＣを用いて上記方法で測定した）。なお、タッチロールは特開平１１−２３５７４７号公報の実施例１に記載のもの（二重抑えロールと記載のあるもの）を用い、Ｔｇ−７℃に調温した（但し薄肉金属外筒厚みは３ｍｍとした）。
固化したメルトをキャスティングドラムから剥ぎ取り、巻き取り直前に両端（全幅の各５％）をトリミングした後、両端に幅１０ｍｍ、高さ５０μｍの厚みだし加工（ナーリング）をつけた後、３０ｍ／分で幅１．５ｍ、長さ３０００ｍの未延伸フィルム（試料１−１〜１−２８）を得た。各フィルムの膜厚は、下記表２に記載されるとおりである。また、残留溶剤量はゼロであった。さらにトリミングした端部は破砕した後、バージン原料と混合して（バージン：破砕＝６０：４０（質量比））製膜原料として使用した。
【０２３３】
（４）評価
各セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈ、Ｒｅムラ、Ｒｔｈムラ、ダイスジ、面状、異物数を測定・評価した結果を下記表２にまとめて記載した。
【０２３４】
【表２】

【０２３５】
ラクトン系化合物、フェノール系化合物、亜リン酸エステル系化合物、チオエーテル系化合物をいずれも含まない試料１−１は、Ｒｅムラ、Ｒｔｈムラ、ダイスジおよび透過率が著しく悪いものであった。
また、ラクトン系化合物を添加せず、分子量５００以上のフェノール系化合物か、分子量５００以上の亜リン酸エステル系化合物およびチオエーテル系化合物からなる群より選択される化合物のいずれか一方のみを含有する比較試料１−２〜試料１−７は、Ｒｅムラ、Ｒｔｈムラ、ダイスジ、面状、異物数および透過率が不十分であった。
【０２３６】
これに対して本発明の試料１−８〜１−２７は、Ｒｅムラ、Ｒｔｈムラ、ダイスジ、面状、異物数および透過率の全てが満足しうるレベルであり、本発明により優れたセルロースアシレートフィルムを得ることができた。さらに本発明の試料１−８〜１−２７は、透過率が９１．９％以上であり、ヘイズが全て０.３％以下であり優れたものであった。また、Ｒｅの湿度依存性｛２５℃におけるＲｅ（相対湿度８０％）とＲｅ（相対湿度１０％）との差｝はすべて５ｎｍ以下であり、Ｒｔｈの湿度依存性｛２５℃におけるＲｔｈ（相対湿度８０％）とＲｔｈ（相対湿度１０％）との差｝はすべて２０ｎｍ以下であり優れたものであった。波長分散特性は｜Ｒｅ（７００）−Ｒｅ（４００）｜が８ｎｍ以内であり、｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜が３０ｎｍ以内であった。フィルムの縦横平均熱収縮（８０℃／相対湿度９０％／４８時間）は−０．０６％であり、熱収縮が生じ難いフィルムであった。本発明の試料１−８〜試料１−２７は、着色増加分も０．０２％以下であり、試料１−１〜１−７が０．１５〜０．５であるのに対して非常に優れていることを確認した。さらに、本発明の試料１−８〜１−２７は溶融製膜前後セルロースアシレートの分子量を測定したところ、分子量の変化は認められなかった。
【０２３７】
特許文献２（特開２０００−３５２６２０号公報）の実施例に挙げられている溶融温度である２４５℃で溶融製膜した比較試料１−２８は、ダイスジが著しく悪く、面状および異物数の悪化を伴い実用に適さないフィルムであった。また、特許文献３（特開２００６−１２３５１３号公報）の実施例に挙げられている熱化合物 ＩＲＧＮＡＮＯＸ１０１０（同ＰＨ−２（ＡＯ６０））を用いた比較試料１−２および１−３は、本発明の試料と比べ、ダイスジ、面状および異物数が著しく悪く、透過率および着色の大幅な悪化を伴い実用に適さないフィルムであった。なお、本発明の代表的な試料１−１３で使用しているフェノール系化合物ＰＨ−２および亜リン酸エステル系化合物ＰＦ−５は、窒素中で２２０℃において３０分間加熱した場合の質量減少は共に２０質量％以下であった。これに対し試料１−２４および試料１−２５で使用した分子量５００未満のフェノール系化合物（ＡＦ−１）および亜リン酸エステル系化合物（ＰＡ−１）は、窒素中で２２０℃において３０分間加熱した場合の質量減少は２０質量％超３０質量％以下となる素材であった。
【０２３８】
ここで本発明のフィルム試料の代表として試料１−１３は、傾斜幅は１９．４ｎｍ、限界波長は３８９．２ｎｍ、吸収端は３７６．１ｎｍ、３８０ｎｍの吸収は１．１％であり、軸ズレ（分子配向軸）は０．１２°、弾性率は長手方向が２．９５ＧＰａ、幅方向が２．９４ＧＰａ、抗張力は長手方向が１１９ＭＰａ、幅方向が１０８ＭＰａ、伸長率は長手方向が６２％，幅方向が６７％であり、アルカリ加水分解性はＡであり、カール値は相対湿度２５％で−０．３，ウェットでは１．０であった。また、含水率は１．７質量％であり、熱収縮率は長手方向が−０．０５％であり幅方向が−０．０７％であった。キシミ値も０．５７であり、算術平均粗さは１５０ｎｍであり、傷つきもＡランクであり、ハンドリング性も問題なかった。また、塗布後の接着も見られず、透湿係数（５５０ｇ/ｍ²・日）も良好であった。その他の本発明の試料も試料１−１３とほぼ同等の特性値を示すものであった。
【０２３９】
［実施例２］
実施例１の本発明の試料１−１３におけるセルロースアシレート合成例１をセルロースアシレート（下記表３に示す）に変更した以外は、実施例１の試料１−１３と全く同様にして、本発明の試料２−１〜２−１２を作製した。未延伸の本発明試料フィルムを、下記表３に示す縦および横の延伸倍率で、Ｔｇ＋１５℃にて３００％／分間で下記倍率に延伸した。
【０２４０】
【表３】

【０２４１】
本発明の試料２−１〜２−１２は、ダイスジ、面状、異物数も良好であり、光学特性（Ｒｅムラ、Ｒｔｈムラ）の全てで優れたものであった。以上から本発明においてはセルロースアシレートの重合度および置換基の実用許容幅が広いことが確認された。
【０２４２】
［実施例３］
（１）セルロースアシレートフィルムの鹸化
前記表１〜表３の未延伸セルロースアシレートフィルム、延伸セルロースアシレートフィルムに対して下記の手順で浸漬鹸化を行った。下記の手順で塗布鹸化を行った場合も同様の結果が得られた。
【０２４３】
（１−１）浸漬鹸化
鹸化液として６０℃に調温した２．０ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液を用いて、その中にセルロースアシレートフィルムを２分間浸漬した。その後、０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、水洗浴を通した。
【０２４４】
（１−２）塗布鹸化
イソプロパノール２０質量部に水８０質量部を加え、これにＫＯＨを２．０ｍｏｌ／Ｌとなるように溶解し、６０℃に調温したものを鹸化液として用いた。この鹸化液を６０℃のセルロースアシレートフィルム上に１０ｇ／ｍ²で塗布し、１分間鹸化した。この後、５０℃の温水を１０Ｌ／ｍ²・分で１分間スプレーして洗浄した。
【０２４５】
（２）偏光子の作製
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸し厚み２０μｍの偏光子を調製した。
【０２４６】
（３）貼り合わせ
このようにして得た偏光子と、前記鹸化処理した未延伸および延伸セルロースアシレートフィルムならびに鹸化処理した未延伸トリアセテートフィルム（富士写真フイルム（株）製、フジタック）とを、ＰＶＡ（（株）クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）３質量％水溶液を接着剤として、偏光子の延伸方向とセルロースアシレートとの製膜流れ方向（長手方法）に下記に示す組み合わせで張り合わせ、下記構成の偏光板を得た。
偏光板Ａ：未延伸セルロースアシレートフィルム／偏光子／フジタック（ＴＤ８０ＵＬ）
偏光板Ｂ：未延伸セルロースアシレートフィルム／偏光子／未延伸セルロースアシレートフィルム
偏光板Ｃ：未延伸セルロースアシレートフィルム／偏光子／延伸セルロースアシレートフィルム
偏光板Ｄ：延伸セルロースアシレートフィルム／偏光子／フジタック（ＴＤ８０ＵＬ）
【０２４７】
（４）評価
得られた偏光板を、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置に、２５℃・相対湿度６０％下で取り付けた後、これを２５℃・相対湿度１０％の中に持ち込み、目視で色調変化の大小を１０段階評価（大きいものほど変化が大きい）で評価し、表示ムラの発生している領域を目視で評価し、表示ムラが発生している割合（％）を求めた。その結果、本発明試料１−８〜試料１−２７、および試料２−１〜試料２−１２のセルロースアシレートフィルムは色調変化が１〜４のレベルであり、表示ムラは５％以下であり、非常に優れたものであった。一方、本発明外の比較試料１−１〜１−７および１−２８では、色調変化が７〜１０であり、表示ムラは３０％以上であり、視認性が劣ることが分かった。また、特開２００２−８６５５４号公報の実施例１に従い、テンターを用い延伸軸が吸収軸に対して４５°の角度となるように延伸した偏光板についても同様に本発明のセルロースアシレートフィルムを用い作製したが、前記同様良好な結果が得られた。
【０２４８】
［実施例５］
特開２００２−２６５６３６号公報記載の実施例１４におけるセルローストリアセテートフィルム試料１４０１の代わりに、実施例１において作製した本発明のセルロースアシレートフィルム試料１−１３を用いた。そして、特開２００２−２６５６３６号公報記載の実施例１４と全く同様にして、光学異方性層、偏光板試料を作製してＴＮ型液晶セルを作製した。得られた液晶セルは、優れた視野角特性を有するものであった。
【０２４９】
［実施例６］
（ＶＡパネルへの実装）
本発明の実施例４で作製した偏光板を、視認側偏光板は２６”ワイドのサイズで偏光子の吸収軸が長辺となるように、バックライト側偏光板は偏光子の吸収軸が短辺となるように長方形に打抜いた。ＶＡモードの液晶ＴＶ（ソニー（株）製、ＫＤＬ−Ｌ２６ＲＸ２）の、表裏の偏光板を剥し、表と裏側とに本発明のセルロースアシレートフィルムを使用して作製した偏光板を貼り付け、液晶表示装置を作製した。偏光板貼り付け後、５０℃、５ｋｇ／ｃｍ²で２０分間保持し、接着させた。この際、視認側の偏光板の吸収軸をパネル水平方向に、バックライト側の偏光板の吸収軸をパネル鉛直方向となり、粘着材面が液晶セル側となるように配置した。プロテクトフィルムを剥した後、測定機（ＥＬＤＩＭ社製、ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ １６０Ｄ）を用いて、黒表示および白表示の輝度測定から視野角（コントラスト比が１０以上の範囲）を算出した。いずれの偏光板を使用した場合も、全方位で極角８０°以上の良好な視野角特性が得られた。さらに、耐久試験による光漏れ、表示ムラおよび偏光板剥がれテストを実施し、本発明の試料１−８〜試料１−２７、および試料２−１〜試料２−１２のセルロースアシレートフィルムを用いたものは問題ないことを確認した。耐久性テスト条件は以下の通りである。
１）６０℃・相対湿度９０％の環境に２００時間保持し、２５℃・相対湿度６０％環境に取り出し２４時間後に液晶表示装置を黒表示させ、光漏れ強度および偏光板の液晶パネルからの剥がれの有無を評価した。
２）８０℃、相対湿度１０％以下の環境に２００時間保持し、２５℃・相対湿度６０％環境に取り出し１時間後に液晶表示装置を黒表示させ、光漏れ強度および偏光板の液晶パネルからの剥がれの有無を評価した。
【０２５０】
［実施例７］
本発明の試料を所望の光学特性を示す光学異方性フィルムに作製し、以下の異なる液晶モードの市販モニターあるいはテレビの位相差膜を剥ぎ取り、本発明の光学補償フィルムを貼り付けてその視野角特性を調べたところ、優れた広い視野角特性および色味を得て、本発明のセルロースアシレートが有用であることを確認した。
【０２５１】
（ＴＮモード）
視認側偏光板、バックライト側偏光板共に、１７”のサイズで打抜き後の偏光板の長辺に対して吸収軸が４５°長辺となるように、長方形に打抜いた。ＴＮモードの液晶モニター（サムソン社製、ＳｙｎｃＭａｓｔｅｒ １７２Ｘ）の表裏の偏光板および位相差板を剥し、表と裏側とに、本発明のセルロースアシレートからなる偏光板を組合せで貼り付け、液晶表示装置を作製した。偏光板貼り付け後、５０℃、５ｋｇ／ｃｍ²で２０分間保持し、接着させた。この際、偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。
【０２５２】
（ＩＰＳパネル）
本発明の偏光板を、視認側偏光板は３２”ワイドのサイズで偏光子の吸収軸が長辺となるように、バックライト側偏光板は偏光子の吸収軸が短辺となるように長方形に打抜いた。ＩＰＳモードの液晶ＴＶ（日立製作所（株）製、Ｗ３２−Ｌ５０００）の表裏の偏光板および位相差板を剥し、表と裏側とに本発明のセルロースアシレートから作製された偏光板を組合せて貼り付け、液晶表示装置を作製した。偏光板貼り付け後、５０℃、５ｋｇ／ｃｍ²で２０分間保持し、接着させた。この際、視認側の偏光板の吸収軸をパネル水平方向に、バックライト側の偏光板の吸収軸をパネル鉛直方向となり、粘着層表面が液晶セル側となるように配置した。
【０２５３】
［実施例８］
実施例１の本発明のセルロースアシレートフィルム試料１−１３における（１）セルロースアシレートペレットの調製において、可塑剤としてＦＰ７００(旭電化株)をセルロースアシレートに対して５質量％添加する以外は、セルロースアシレートフィルム試料１−１３と全く同様にして、本発明のセルロースアシレートフィルム試料３−１を作製した。
得られたセルロースアシレートフィルムは製膜時の発煙も見られず、ダイスジ、面状、異物数、光学特性（Ｒｅムラ、Ｒｔｈムラ）の全ての点で優れたものであった。特に、セルロースアシレートフィルム試料３−１は含水率が１．７％であり、未添加が２．２％であるのに対して優れていることが確認された。従って、可塑剤がセルロースアシレートフィルムの物理特性を改良するのに有効であることが確認された。
【０２５４】
［実施例９］
（低反射フィルムの作製）
本発明のセルロースアシレートフィルムを用いて、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の実施例４７に従って低反射フィルムを作製したところ、良好な光学性能を有するものであった。
【０２５５】
［実施例１０］
光学補償フィルムの作製
本発明のセルロースアシレートフィルムに、特開平１１−３１６３７８号公報の実施例１に従い、液晶層を塗布したところ、良好な光学補償フィルムが得られた。
【０２５６】
［実施例１１］
実施例１において作製した本発明のセルロースアシレートフィルム試料１−１３を、特開２００２−２６５６３６号公報記載の実施例１３におけるセルローストリアセテートフィルム試料１３０１の代わりに用いた。そして、特開２００２−２６５６３６号公報記載の実施例１３と全く同様にして、光学異方性層、偏光板試料を作製してベンド配向液晶セルを作製した。得られた液晶セルは、優れた視野角特性を有するものであった。
【産業上の利用可能性】
【０２５７】
本発明によれば、面状が良好で異物数が極めて少なく、且つ、液晶表示装置に組み込んだときに発生する表示画面での画像ムラや湿度による視認性の変化を抑えることができるセルロースアシレートを提供することができる。また、本発明のセルロースアシレートフィルムにより、経時での耐候性、特に高温環境下における優れた耐久性を有する光学用途のフィルムを提供することができる。本発明のセルロースアシレートフィルムを組み込んで製造される液晶表示装置は、表示ムラや、湿度あるいは画像の色による光学特性の変化を抑制することができる。以上より、本発明のセルロースアシレートフィルムは産業上の利用可能性が非常に高い。
【図面の簡単な説明】
【０２５８】
【図１】本発明におけるセルロースアシレートペレットを用いて溶融製膜を実施するための装置の例を示した概略図である。
【符号の説明】
【０２５９】
１０１ 混練押出機
１０２ ギアポンプ
１０３ 濾過部
１０４ ダイ
１０５ タッチロール
１０６ キャスティング冷却ドラム
１０７ セルロースアシレート
１０８ 縦延伸工程部
１０９ 横延伸工程部
１１０ 巻取工程部

【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｓ−１）〜（Ｓ−３）を満たすセルロースアシレート、および、下記一般式（II）で表され示されるラクトン系化合物の少なくとも一種を前記セルロースアシレートに対して０．０１〜３質量％含有するセルロースアシレート組成物。
式（Ｓ−１） ２．５≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（Ｓ−２） ０≦Ｘ≦２．２
式（Ｓ−３） ０．８≦Ｙ≦３．０
（式中、Ｘはセルロースの水酸基に対するアセチル基の置換度を表し、Ｙはセルロースの水酸基に対する炭素数３〜２２のアシル基の置換度の総和を表す。）
【化１】

（式中Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキル基または炭素数６〜１５のアリール基を示す。）
【請求項２】
分子量が５００以上である亜リン酸エステル系化合物および分子量が５００以上であるチオエーテル系化合物からなる群より選択される少なくとも一種と、分子量が５００以上であるフェノール系化合物とを、前記セルロースアシレートに対して０．０１〜３質量％含有することを特徴とする請求項１に記載のセルロースアシレート組成物。
【請求項３】
ペレット状であることを特徴とする請求項１または２に記載のセルロースアシレート組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のセルロースアシレート組成物を溶融して流延製膜する工程を含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。
【請求項５】
請求項１または２に記載のセルロースアシレート組成物を１５０〜２４０℃で溶融してペレットを作製し、前記ペレットを溶融して１８０〜２４０℃でダイから押し出して流延製膜する工程を含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。
【請求項６】
前記セルロースアシレート組成物を流延した後に、タッチロールを０．１〜１０ＭＰａで押圧することにより製膜する工程を含むことを特徴とする請求項４または５に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
【請求項７】
前記製膜後、少なくとも１方向に１％〜３００％延伸する工程を含むことを特徴とする請求項４〜６のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムの製造方法。
【請求項８】
請求項４〜７のいずれか１項に記載の製造方法により製造されたセルロースアシレートフィルム。
【請求項９】
下記式（Ｓ−１）〜（Ｓ−３）を満たすセルロースアシレート、および、下記一般式（II）で示されるラクトン系化合物の少なくとも一種を前記セルロースアシレートに対して０．０１〜３質量％含有し、かつ、残留溶剤量が０．０１質量％以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
式（Ｓ−１） ２．５≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（Ｓ−２） ０≦Ｘ≦２．２
式（Ｓ−３） ０．８≦Ｙ≦３．０
（式中、Ｘはセルロースの水酸基に対するアセチル基の置換度を表し、Ｙはセルロースの水酸基に対する炭素数３〜２２のアシル基の置換度の総和を表す。）
【化２】

（式中Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキル基または炭素数６〜１５のアリール基を示す。）
【請求項１０】
前記セルロースアシレートフィルムが、分子量が５００以上である亜リン酸エステル系化合物および分子量が５００以上であるチオエーテル系化合物からなる群より選択される少なくとも一種と、分子量が５００以上であるフェノール系化合物とを、前記セルロースアシレートに対して０．０１〜３質量％含有することを特徴とする請求項９に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項１１】
膜厚が２０μｍ〜３００μｍであることを特徴とする請求項８〜１０のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項１２】
正面レターデーション（Ｒｅ）が０〜３００ｎｍであり、且つ、厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の絶対値が０〜７００ｎｍであることを特徴とする請求項８〜１１のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項１３】
偏光子に、請求項８〜１２のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムを少なくとも１層積層したことを特徴とする偏光板。
【請求項１４】
請求項８〜１２のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムを用いたことを特徴とする光学補償フィルム。
【請求項１５】
請求項８〜１２のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムを用いたことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１６】
請求項８〜１２のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム、請求項１３に記載の偏光板、請求項１４に記載の光学補償フィルム、および、請求項１５に記載の反射防止フィルムからなる群より選択される少なくとも一つを用いたことを特徴とする液晶表示装置。

【図１】

【公開番号】特開２００８−１３６２８（Ｐ２００８−１３６２８Ａ）
【公開日】平成２０年１月２４日（２００８．１．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−１８４６９８（Ｐ２００６−１８４６９８）
【出願日】平成１８年７月４日（２００６．７．４）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．テフロン
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】