光学フィルタ及びその製造方法、並びにディスプレイ用光学フィルタ及びこれを備えたディスプレイ並びにプラズマディスプレイパネル
【課題】
防眩性及び透明性の双方に優れる光学フィルタを提供する。
【解決手段】
透明基板、その表面に設けられたメッシュ状の電磁波シールド層、及び電磁波シールド層の表面に形成されたハードコート層とを含む光学フィルタにおいて、ハードコート層が、メッシュ状の電磁波シールド層のメッシュ部分に対応する凸部領域、メッシュ間に対応する凹部領域からなり、凹部領域の中心における透明基板表面から表面までの高さと、この凹部領域と隣接する凸部領域の透明基板表面から表面までの高さとの差が０．１μｍを超えており、さらに凹部領域における透明基板表面からその表面までの高さの分布が、凹部領域の中心における透明基板表面からその表面までの高さから±０．１μｍの範囲内にあることを特徴とする光学フィルタ;及びその製造方法。
防眩性及び透明性の双方に優れる光学フィルタを提供する。
【解決手段】
透明基板、その表面に設けられたメッシュ状の電磁波シールド層、及び電磁波シールド層の表面に形成されたハードコート層とを含む光学フィルタにおいて、ハードコート層が、メッシュ状の電磁波シールド層のメッシュ部分に対応する凸部領域、メッシュ間に対応する凹部領域からなり、凹部領域の中心における透明基板表面から表面までの高さと、この凹部領域と隣接する凸部領域の透明基板表面から表面までの高さとの差が０．１μｍを超えており、さらに凹部領域における透明基板表面からその表面までの高さの分布が、凹部領域の中心における透明基板表面からその表面までの高さから±０．１μｍの範囲内にあることを特徴とする光学フィルタ;及びその製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、優れた防眩性及び透明性を有し、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の前面フィルタ等に有利に用いられる光学フィルタに関する。さらに、本発明は、この光学フィルタの製造方法、ディスプレイ用光学フィルタ及びこれを備えたディスプレイ並びにプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）及び表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイ等のディスプレイが、表示装置として広く普及している。近年では、ディスプレイは大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。
【０００３】
近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがある。このため、従来のディスプレイには、電磁波シールド層を有するディスプレイ用フィルタが設けられている。
【０００４】
電磁波シールド層を有するディスプレイ用フィルタとしては、例えば、（１）金属銀を含む透明導電薄層が設けられた透明フィルム、（２）金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュを設けた透明フィルム、（３）透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、（４）透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。
【０００５】
また、ディスプレイ表面に傷が付くとディスプレイに表示された画像の視認性が低下するため、ハードコート層を有するディスプレイ用フィルタなども知られている。さらに、従来のＰＤＰを初めとする大型ディスプレイにおいては、蛍光灯などの外部光源から照射された光線の反射により表示された画像が見え難いという問題があった。そこで、反射防止層を有するディスプレイ用フィルタ等も広く用いられている。
【０００６】
電磁波シールド層、ハードコート層及び反射防止層は、ディスプレイ用フィルタの用途に応じて積層して用いられる。例えば、特許文献１には、透明基板上に電磁波シールド層、ハードコート層及び反射防止層が、この順で積層されたディスプレイ用フィルタが開示されている。
【０００７】
また、特許文献２には、透明基板と、透明基板上に形成されて多数の光透過部を有するメッシュ状の電磁波シールド層と、電磁波シールド層と光透過部を被覆する透明樹脂からなる硬化塗膜とを有するディスプレイ用フィルタが開示されている。特許文献２のディスプレイ用フィルタでは、硬化塗膜のうちで電磁波シールド層により形成された隆起部の平均傾斜角度が１０°以下とすることが開示されている。このような硬化塗膜による平坦化層を形成することにより、電磁波シールド層の光の乱反射による光透過性の低下を防止することが開示されている。さらに、特許文献２では光透過性及び画像鮮明度が高いディスプレイ用フィルタを得るために、硬化塗膜の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）を０．０５〜７μｍ、特に０．１〜５μｍとするのが好ましく（段落「００５６」）、実施例においては表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が１．３〜４．３μｍである硬化塗膜を作製している。
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−１６３７５２号公報
【特許文献２】特開２００６−２１０５２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従来のディスプレイ用フィルタには、さらに防眩性を有することが望まれている。すなわち、ディスプレイを室内で使用する場合、蛍光灯等の照明が写り込んだりするために文字等の認識が難しくなる問題があるため、外部環境の映り込みを防ぐために高い防眩性をさらに有することが望まれている。
【００１０】
ディスプレイ用フィルタに防眩性を付与するためには、ディスプレイ用フィルタにおいて最表面に配置された層の表面に凹凸形状を付与することにより外光を拡散させる手段などが有用である。
【００１１】
しかしながら、高い防眩性を得るために、例えば、単にシリカなどの屈折率調整用微粒子の含有量を多くしてハードコート層の表面に凹凸形状を付与するなどの手段を用いると、反射防止層のヘイズが低下して、十分な透明性を確保できなくなる恐れがあった。
【００１２】
また、特許文献２のディスプレイ用フィルタでは、電磁波シールド層により形成された隆起部を有する硬化塗膜を有するが、比較的凹凸が大きく、十分な防眩性及び透明性を有するディスプレイ用フィルタを得るのは困難であった。
【００１３】
このように、ディスプレイ画像の視認性を向上させるためには透明性を低下させることなく高い防眩性を得ることが必要であるが、従来ではこれらを兼ね備えたディスプレイ用フィルタの実現は困難であった。
【００１４】
従って、本発明は、防眩性及び透明性の双方に優れた光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１５】
また本発明は、防眩性及び透明性の双方に優れたディスプレイ光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１６】
さらに本発明は、防眩性及び透明性の双方に優れたプラズマディスプレイ光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１７】
また本発明は、防眩性及び透明性の双方に優れたディスプレイを提供することを目的とする。
【００１８】
さらに本発明は、防眩性及び透明性の双方に優れたプラズマディスプレイを提供することを目的とする。
【００１９】
さらにまた、本発明は、防眩性及び透明性の双方に優れたディスプレイ用フィルタの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
ディスプレイ用フィルタの高い防眩性を得るには、上述の通り、ディスプレイ用フィルタの最表面に配置される層の表面に凹凸形状を付与する手段を用いるのが有効である。本発明者は、このような知見に鑑み種々の検討を行った結果、透明基板上にメッシュ状の電磁波シールド層を形成し、この電磁波シールド層を有する透明基板上に特定の凹凸を有するハードコート層を形成することにより、透明性を低下させることなく高い防眩性を有するディスプレイ用フィルタが得られることを見出した。
【００２１】
即ち、本発明は、
透明基板、その表面に設けられた多数の微細貫通孔を有する電磁波シールド層、及び電磁波シールド層の表面に形成されたハードコート層とを含む光学フィルタにおいて、
ハードコート層が、メッシュ状の電磁波シールド層のメッシュ部分に対応する凸部領域、メッシュ間に対応する凹部領域からなり、凹部領域の中心における透明基板表面から表面までの高さと、この凹部領域と隣接する凸部領域の透明基板表面から表面までの高さとの差が０．１μｍを超えており、さらに凹部領域における透明基板表面からその表面までの高さの分布が、凹部領域の中心における透明基板表面からその表面までの高さから±０．１μｍの範囲内にあることを特徴とする光学フィルタ；
にある。
【００２２】
上記凸部領域と凹部領域の各領域の透明基板表面から表面までの高さは、表面粗さ計（商品名：サーフコム４８０Ａ；東京精密（株）製）を用いてＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１ に従って測定することによる得た断面曲線から求められる。なお、測定長さは２ｍｍで行った。
【００２３】
本発明の光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
（１）凸部領域と凹部領域との各領域の透明基板表面から表面までの高さの差が、０．３〜１．５μｍの範囲（特に０．５〜０．９μｍ）である。凸部領域の形状が頂部面積が底部面積より小さいことが好ましく、特に面積比が１／２〜１／１００であることが好ましい。透明性を維持しながら防眩層性を確保することができ容易である。
（２）電磁波シールド層のメッシュ間距離に対する該メッシュ間に対応する凹部領域の幅の比が、０．５〜１．０の範囲にある。透明性を維持しながら防眩層性を確保することができより容易である。
（３）凹部領域と隣接する凸部領域の高さが、凸部領域に隣接する両側の凹部領域の中心を通る線上において定められる。製造が容易である。
上記のように、凸部領域と凹部領域との各領域の位置は、凸部領域と凹部領域が、メッシュの各格子及び各格子間に対応しているため、上記凹部領域の中心位置は、メッシュの形状を基に決定すると容易である。
（４）ハードコート層が、硬化性樹脂中に０．０１〜１μｍの平均粒径を有する微粒子が分散した層の硬化層からなる。また、ハードコート層における微粒子の含有量が前記硬化性樹脂１００質量部に対して５〜９００質量部、特に２００〜８００質量部であることが好ましい。本発明の特定の表面形状のハードコート層が得られ易い。
（５）硬化性樹脂が、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを、硬化性樹脂の全量に対して少なくとも１５質量％含む。本発明の特定の表面形状のハードコート層が得られ易い。
（６）前記微粒子が、ＩＴＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、ＬａＯ2及びＨｏ2Ｏ3よりなる群から選択される少なくとも一種の金属酸化物粒子である。特にＴｉＯ2が好ましい。
（７）前記ハードコート層の厚さが、３〜１０μｍである。
（８）ヘイズが１０％以下である。
（９）透明基板がプラスチックフィルムである。
（１０）ハードコート層上にさらに低屈折率層（ハードコート層より低い屈折率を有する層）が設けられている。反射防止特性が向上する。
（１１）透明基板のハードコート層が設けられていない表面に、近赤外線吸収層が設けられている。近赤外線吸収層上に、さらに透明粘着剤層が設けられていることが好ましい。
（１２）ディスプレイパネル用フィルタである。
（１３）プラズマディスプレイパネル用フィルタである。
【００２４】
また、本発明は、上記光学フィルタが、透明粘着層によりガラス板の貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタにもある。
【００２５】
さらに本発明は、上記の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイにもある。
【００２６】
また本発明は、上記の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。
【００２７】
本発明の光学フィルタは、下記の製造方法：即ち
透明基板及びその表面に設けられたメッシュ状電磁波シールド層を有する積層体の当該電磁波シールド層の表面上に、硬化性樹脂を含むハードコート層形成用インクを塗布、硬化させることにより、ハードコート層を形成する工程を含み、
形成されたハードコート層が、メッシュ状の電磁波シールド層のメッシュ部分に対応する凸部領域、メッシュ間に対応する凹部領域からなり、凹部領域の中心における透明基板表面から表面までの高さと、この凹部領域と隣接する凸部領域の透明基板表面から表面までの高さとの差が０．１μｍを超えており、さらに凹部領域における透明基板表面からその表面までの高さの分布が、凹部領域の中心における透明基板表面からその表面までの高さから±０．１μｍの範囲内にあることを特徴とする光学フィルタの製造方法；
により有利に得られる。
【００２８】
本発明の製造方法の好適態様は以下の通りである。
（１）ハードコート層形成用インクの粘度が、２５℃において５０〜２０００ｃＰである。本発明の特定の表面形状のハードコート層が得られ易い。
（２）硬化性樹脂（又は硬化樹脂形成材料）として、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを、硬化性樹脂の全量に対して少なくとも１５質量％含む。本発明の特定の表面形状のハードコート層が得られ易い。
（３）ハードコート層形成用インクが、０．０１〜１μｍの平均粒径を有する微粒子をさらに含む。微粒子の含有量が硬化性樹脂１００質量部に対して５〜９００質量部、特に２００〜８００質量部であることが好ましい。本発明の特定の表面形状のハードコート層が得られ易い。
【００２９】
前記本発明の光学フィルタの好適態様を上記製造方法にも適用することができる。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、電磁波シールド層上に特定の表面の凹凸形状を有するハードコート層を形成することにより、簡易な構成で防眩性及び透明性の双方に優れたディスプレイに好適な光学フィルタを得ることができる。従って、本発明の光学フィルタは、ディスプレイに表示された画像の視認性に優れ、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイなどの光学物品の表面に貼付されるディスプレイ用フィルタとして有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
まず、本発明の光学フィルタについて図１を用いて説明する。図１は、本発明の光学フィルタの概略断面図である。
【００３２】
本発明の光学フィルタは、透明基板１１、透明基板１１上に形成されたメッシュ状の電磁波シールド層１２、さらに電磁波シールド層１２を有する表面に設けられたハードコート層１３から構成されている。
【００３３】
ハードコート層１３は、その表面が突き出ている凸部領域Ｂとその表面が凹んでいる凹部領域Ａとからなり、それぞれの長さがＢＬ及びＡＬである。これらの長さは一般にメッシュに対して平行方向のものである。またハードコート層１３の凸部領域Ｂはメッシュ状の電磁波シールド層のメッシュ部分に対応する領域であり、凹部領域Ａはメッシュ間に対応する領域である。電磁波シールド層１２のメッシュ間距離はＶで表され、このメッシュ間距離Ｖに対応する凹部領域の幅がＡＬということができる。
【００３４】
図２に、図１の光学フィルタの部分平面図を示す。上記のように、凸部領域Ｂは、メッシュ状の電磁波シールド層１２のメッシュ部分の位置に対応するように形成され、凹部領域Ａはメッシュ間の位置に対応するように形成されている。従って、凸部領域Ｂのほぼ中央部にメッシュ１２が設けられている。
【００３５】
図２に示すように、凹部領域はほぼ正方形とした場合（実際は、各種多角形、円形、楕円形等の種々の形状があり得る）、１個の凹部領域Ａの面積はＡＬ2であり、その周囲の凸部領域Ｂの面積は［｛（ＡＬ＋ＢＬ）2−ＡＬ2｝＝２ＡＬ・ＢＬ＋ＢＬ2］であり、これから凹部領域の凸部領域に対する面積比（［２ＡＬ・ＢＬ＋ＢＬ2］／ＡＬ2）が得られる。
【００３６】
本発明では、凹部領域Ｂの中心における透明基板表面から表面までの高さと、この凹部領域Ｂと隣接する凸部領域Ａの透明基板表面から表面までの高さ（凸部領域Ａの全領域の高さ）との差が０．１μｍを超えている。
【００３７】
図１に示すように、凸部領域Ｂの中心における透明基板表面からその表面までの高さＢＨは、凸部領域Ｂの中心においては電磁波シールド層及びハードコート層の合計の層厚に相当する。また凹部領域Ａの中心における透明基板表面からその表面までの高さＡＨは、ハードコート層１３の層厚に相当する。本発明では、凹部領域Ａの中心における透明基板表面からその表面までの高さＡＨと、凹部領域に隣接する凸部領域Ａの透明基板表面からその表面までの高さＢＨとの差（ＢＨ−ＡＨ）が、０．１μｍを超えていることが必要である。これにより良好な防眩性が得られると考えられる。一般に、凹部領域と隣接する凸部領域の高さは、図２に示すように、凹部領域に隣接する両側の凹部領域の中心を通る線上において定められる。このような凸部領域Ｂと凹部領域との各領域の位置は、メッシュの各格子及び各格子間に対応しているため、上記凹部領域の中心位置は、メッシュの形状を基に決定すると容易である。
【００３８】
即ち、凹部領域Ａにおける透明基板表面からその表面までの高さの分布（実際に存在するバラツキのある高さ）が、その中心高さＡＨから上下に０．１μｍ以内であれば、凹部領域Ａであり、上に０．１μｍを超えた場合は凸部領域Ｂとなる。高さＢＨ及び中心高さＡＨは、一般に各領域の下記の測定方法により得られる断面曲線より求められる。逆に言うと、凸部領域Ｂを形成するためには、上記凹部領域Ａにおける透明基板表面からその表面までの高さの分布（バラツキ）は、凹部領域の透明基板表面からその表面までの中心高さから±０．１μｍの範囲にあることが必要である。このような構成にすることにより、即ち、凸部領域Ｂを上記のように設け、凹部領域Ａにおける高さの分布を上記のように限定することにより、防眩性及び透明性を、高い水準で維持することができる。このように、本発明のハードコート層の表面形状は、凹凸はあるものの防眩性が得られる範囲である程度小さく抑えられており、一方、凹部領域の表面の高さは、透明基板表面からその表面までの中心高さからのバラツキは小さく（即ち０．１μｍ以内）されているので、高度な透明性を維持することができると考えられる。
【００３９】
さらに、高度な防眩層性を得るために、凸部領域Ｂの透明基板表面からその表面までの高さの分布は、凹部領域Ａの透明基板表面からその表面までの中心高さから０．２５μｍ以上、特に０．３μｍ以上であることが好ましい。これにより優れた防眩性が得られる。
【００４０】
上記凸部領域と凹部領域の各領域の透明基板表面から表面までの高さ、凹部領域の高さ分布及び凹部領域の幅は、表面粗さ計（商品名：サーフコム４８０Ａ；東京精密（株）製）を用いてＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１ に従って測定することによる得た断面曲線から求められる。なお、測定長さは２ｍｍで行った。
【００４１】
実際に測定する場合、凸部領域と凹部領域との各領域の位置は、凸部領域と凹部領域が、メッシュ状電磁波シールド層の各格子及び各格子間に対応しているため、メッシュの形状を基に決定すると容易である。即ち、凸部領域の中心位置はメッシュの格子の中心位置、凹部領域の中心位置は格子間の中心位置に対応するので、上記測定は、一般に、図２の線Ｘに沿って行われる。線Ｘは、格子に平行に且つ格子間の中心位置に通って引かれている。この線Ｘ上で、凹部領域の中心高さより２μｍを超えた領域が、凸部領域の領域に当たる。
【００４２】
凸部領域Ｂと凹部領域Ａとの透明基板表面から各領域表面までの上記高さの差（ＢＨ−ＡＨ）が、０．３〜１．５μｍの範囲、特に０．５〜０．９μｍであることが好ましい。防眩性及び透明性を、さらに高い水準で維持することができる。また凸部領域Ｂの形状が頂部面積が底部面積より小さいことが好ましく、特に面積比が１／２〜１／１００であることが好ましい。透明性を維持しながら防眩層性を確保することができ容易である。
【００４３】
高さの差（ＢＨ−ＡＨ）が小さすぎると、蛍光灯等の外光が明確に視認され防眩層性が不十分となり、高さの差（ＢＨ−ＡＨ）が大きすぎるとディスプレイ（好ましくはプラズマディスプレイ）からの放射される画像がフィルタ表面の凸部で大きく乱反射し、明瞭な画像が得られ難い。
【００４４】
また、本発明では、電磁波シールド層１２のメッシュ間距離（図１のＶ）に対するこのメッシュ間に対応する凹部領域の幅（図１及び図２のＡＬ）の比が、０．５〜１．０の範囲にあることが好ましい。即ち、本発明では、凹部領域がメッシュ間の長さよりほぼ半分以上の範囲において、平坦な領域を確保している。これにより透明性を維持しながら防眩層性を確保することができより容易である。このような凹部領域の幅（ＡＬ）は、上記の凹部領域を決定する場合のＸ線上で測定することが好ましい。またメッシュ間距離（図１のＶ）は、Ｘ線における断面を走査型電子顕微鏡で測定することにより得られる。
【００４５】
前述のように、凹部領域Ａの透明基板表面からその表面までの高さの分布が、凹部領域の透明基板表面からその表面までの中心高さから±０．１μｍの範囲にあるが、前記透明基板表面からその表面までの高さの分布が、凹部領域の透明基板表面からその表面までの中心高さから上記範囲を超えた場合、ディスプレイ（好ましくはプラズマディスプレイ）からの放射される画像がフィルタ表面の凸部で大きく乱反射し、明瞭な画像が得られ難い。
【００４６】
凹部領域の凸部領域に対する面積比（凹部領域が略正方形の場合、前記の［２ＡＬ・ＢＬ＋ＢＬ2］／ＡＬ2に当たる）が、０．０１〜１００００であり、５〜４００が好ましい。後者とすることによりディプレイ用光学フィルタに好適となる。
【００４７】
電磁波シールド層１２は、図１、２に示したように、メッシュ状の電磁波シールド層である。
【００４８】
以下、本発明の光学フィルタに使用される材料について詳細に説明する。
【００４９】
透明基板は、その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性が優れているので好ましい。
【００５０】
透明基板の厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜５ｍｍ程度が好ましい。
【００５１】
透明基板上に形成される多数の微細貫通孔を有する電磁波シールド層、一般にメッシュ状の電磁波シールド層としては、（１）金属繊維及び金属被覆有機繊維からなるもの、（２）銅などの金属からなるもの、（３）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させたもの、等を挙げることができる。
【００５２】
（１）金属繊維及び金属被覆有機繊維からなる電磁波シールド層において、金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、スズ、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。
【００５３】
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。金属被覆有機繊維は、これらの有機繊維が上記金属により被覆されたものである。
【００５４】
（２）銅などの金属からなる電磁波シールド層において、前記金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００５５】
（３）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させた電磁波シールド層において、前記導電性粒子としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。
【００５６】
バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００５７】
電磁波シールド層におけるメッシュパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状などが挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。
【００５８】
メッシュ状の電磁波シールド層におけるメッシュとしては、線幅１μｍ〜５０μｍ、開口率７５〜９５％のものが好ましい。より好ましい線幅は１μｍ〜１０μｍ、開口率は８０〜９５％である。メッシュ状の電磁波シールド層において、線幅が５０μｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、ハードコート層表面に適度な表面粗さを付与することができず、十分な防眩性を有するハードコート層を形成することができない恐れがある。また、線幅が１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、７５％未満ではハードコート層表面に適度な表面粗さを付与することができず、十分な防眩性を有するハードコート層を形成することができない恐れがある。
【００５９】
なお、電磁波シールド層の開口率とは、当該電磁波シールド層の投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００６０】
電磁波シールド層の表面に黒化処理を行っても良い。
【００６１】
黒化処理は、電磁波シールド層の金属に応じた公知の黒化処理をすることができ、これに応じた公知の黒化処理液を使用することができる。黒化処理としては、一般に酸化処理、硫化処理、クロムメッキ処理、及びスズ−ニッケル等の合金メッキ処理を挙げることができる。電気メッキ槽でのメッキ金属が銅である場合には、酸化処理、硫化処理、クロムメッキ処理、及びスズ−ニッケル等の合金メッキ処理をあげることができ、特に廃液処理の簡易性及び環境安全性の点から、酸化処理が好ましい。
【００６２】
上記黒化処理として酸化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には次亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、ペルオキソ二硫酸と水酸化ナトリウムの混合水溶液等を使用することが可能であり、特に経済性の点から、次亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液を使用することが好ましい。
【００６３】
上記黒化処理として硫化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には硫化カリウム、硫化バリウム及び硫化アンモニウム等の水溶液を使用することが可能であり、好ましくは、硫化カリウム及び硫化アンモニウムであり、特に低温で使用可能である点から、硫化アンモニウムを使用することが好ましい。
【００６４】
上記黒化処理として、クロムメッキ処理を行う場合には、黒化処理液として、一般にはクロム酸と酢酸の水溶液、及びクロム酸とケイフッ化水素酸の水溶液等を使用することが可能であり、特に経済性の点から、クロム酸と酢酸の水溶液を使用することが好ましい。
【００６５】
上記のようにして得られる黒化層の厚さは、一般に０．５〜５μｍ、特に１〜２μｍが好ましい。本発明では、黒化層の厚さは、本発明の金属導電層の厚さに含まれる。
【００６６】
電磁波シールド層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。また、金属メッキ層上に前記黒化処理を行っても良い。
【００６７】
本発明の光学フィルタにおけるハードコート層は、上記特定の表面が形成されていればよい。ハードコート層の表面の凹凸を上記特定の範囲に調整するには、電磁波シールド用材料である樹脂、微粒子（種類、平均粒径等）を適宜選択すること、及びハードコート層を形成する特の形成方法等を適当に選択することが必要である。このような手段を用いることにより、ハードコート層の表面の凹凸形状を容易に調整することができる。さらに、電磁波シールド層を有する電磁波シールド基板上にこのようなハードコート層が形成されていることにより、ハードコート層上に設けられる反射防止層の中に屈折率を調整する微粒子を多量に分散させなくとも防眩性を獲得することができるので、ハードコート層の高い透明性を確保することができる。
【００６８】
本発明では、ハードコート層は、硬化性樹脂中に０．０１〜１μｍの平均粒径を有する微粒子を分散させた硬化層であるのが好ましい。このような硬化層であれば、適度な粗さの凹凸を付与してハードコート層の表面の凹凸形状を上記範囲内に容易に調整することができ、透明性及び防眩性に優れたハードコート層を形成することができる。
【００６９】
硬化性樹脂としては、特に制限されず、熱、活性光線、放射線などで重合可能な硬化性樹脂、例えば多官能の（メタ）アクリレート、エポキシ系、オキセタン系の硬化性樹脂を挙げることができる。なかでも、多官能（メタ）アクリレート等を主として含む紫外線硬化性樹脂が好ましい。
【００７０】
多官能（メタ）アクリレートとしては特に限定されず、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール（メタ）テトラアクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。なお、本発明において、「（メタ）アクリレート」は「アクリレート又はメタクリレート」を意味する。
【００７１】
多官能（メタ）アクリレートとしては、優れたハードコート性を有し、傷が付きにくいハードコート層を形成できることから、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを硬化性樹脂の全量に対して、少なくとも１５質量％、特に２０〜８０質量％含むのが好ましい。
【００７２】
ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートとして、好ましくは、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシイソプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、プロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、（ポリ）アルキレングリコールモノアクリレート、及びこれらのモノマ−とラクトン（例えば、ε−カプロラクトン等）との付加物、例えばカプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００７３】
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、２，２−ジエトキシアセトフェノン等のアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４)が好ましい。
【００７４】
光重合開始剤の量は、硬化性樹脂に対して０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００７５】
このように紫外線硬化性樹脂を用いることにより高い硬度を有するハードコート層を形成することが容易である。一般に、ＪＩＳ−Ｋ−５４００で規定される鉛筆引っ掻き試験方法で、２Ｈ以上の硬度を有することが好ましく、特に３Ｈ以上の硬度を有することが好ましい。
【００７６】
ハードコート層は、上述した硬化性樹脂中に、好ましくは０．０１〜１μｍ、より好ましくは０．０１〜０．１μｍの平均粒径を有する微粒子を含んでいる。微粒子の平均粒径は、ディスプレイ用フィルタの断面を電子顕微鏡（好ましくは透過型電子顕微鏡）により倍率１００万倍程度で観測し、少なくとも１００個の前記粒子の面積円相当径を求めた数平均値とする。
【００７７】
微粒子のハードコート層における含有量は、硬化性樹脂１００質量部に対して、５〜９００質量部、さらに２００〜８００質量部、特に５００〜８００質量部が好ましい。これにより、ハードコート層に透明性を低下させずに適度な表面粗さを付与することができる。
【００７８】
ハードコート層は、高い反射防止性を得るために、透明基板よりも高い屈折率を有するのが好ましい。ハードコート層の屈折率は、１．４９〜１．８０、特に１．７０〜１．８０の範囲内とするのが好ましい。
【００７９】
上記微粒子としては、ハードコート層の屈折率を高くするために、高い屈折率を有する微粒子が好ましく用いられる。例えば、ＩＴＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、ＬａＯ2及びＨｏ2Ｏ3などの金属酸化物粒子が用いられる。これらは一種単独で用いられてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。ＴｉＯ2が好ましい。
【００８０】
ハードコート層の厚さは、所定の表面粗さを得るために、一般に３〜１０μｍ、５．５〜９．５μｍが好ましい、特に６．５〜８．５μｍが好ましい。
【００８１】
本発明のディスプレイ用フィルタでは、反射防止性をさらに向上させるために、上述したハードコート層上に、前記ハードコート層よりも屈折率が低い低屈折率層を有していてもよい。低屈折率層の屈折率としては、１．２０〜１．５０、特に１．２５〜１．４５の範囲内であればよい。微粒子を用いる場合は、後述の低屈折率層に使用される微粒子を用いても良い。
【００８２】
なお、本発明のディスプレイ用フィルタでは、上述した通り、透明性及び防眩性に優れるハードコート層を有し、低屈折率層を有していなくとも高い防眩性を有するが、所望により低屈折率層等を設けても良い。
【００８３】
低屈折率層としては、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3、シリカ、フッ素樹脂などの粒子を硬化性樹脂中に分散させた硬化層など、公知のものが用いられる。
【００８４】
微粒子としては、中空シリカを用いるのが好ましい。前記中空シリカは、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍであり、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものを用いるのがよい。また、硬化性樹脂としては、ハードコート層において上述したものと同様のものが用いられる。
【００８５】
低屈折率層の厚さは、通常は１０〜５００ｎｍ、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００８６】
本発明のディスプレイ用フィルタは、上述した通り、ハードコート層表面に特定の凹凸形状を付与することにより、ハードコート層に透明性を低下させることなく防眩性を付与することができる。従って、前記ハードコート層を有するディスプレイ用フィルタも透明性が高く、低いヘイズ値を有する。具体的には、上述したハードコート層を有するディスプレイ用フィルタのヘイズが、１０．０％以下、特に３．０％以下である。
【００８７】
本発明においては、反射防止膜は、上述のように、一般に、透明基板より屈折率の高い本発明のハードコート層とその上に設けられた低屈折層との複合膜である。但し、透明基板より屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた高屈折層との複合膜、或いは高屈折率層上にさらに低屈折率層が設けられた複合膜としても良い。本発明の反射防止膜に近赤外線遮蔽機能を付与する場合は、上記ハードコート層等に近赤外線を吸収する後述する材料（例、色素）を混合及び／又は混練して導入しても良いし、或いは透明基板のメッシュ層の無い裏面に導入しても良い。
【００８８】
さらに、本発明の光学フィルタにおいて、電磁波シールド層が形成された面とは反対側の面に近赤外線吸収層をさらに有するのが好ましい。これにより、ディスプレイ用フィルタが赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射を防止することが可能となる。
【００８９】
近赤外線吸収層（即ち、近赤外線遮蔽層）は、一般に、透明基板の表面に色素等を含む層が形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば色素及びバインダとしての合成樹脂等を含む紫外線硬化性又は電子線硬化性の合成樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。
【００９０】
色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。
【００９１】
バインダとしての合成樹脂の例としては、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン樹脂、およびノルボルネン樹脂などが好ましく用いられる。これらは、１種単独で用いられてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【００９２】
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。
【００９３】
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【００９４】
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。
【００９５】
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【００９６】
本発明のディスプレイ用フィルタの近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。
【００９７】
近赤外線吸収層の厚さは、特に制限はないが、近赤外線の吸収性及び可視光透過性の点で、０．５〜５０μｍ程度が好ましい。
【００９８】
近赤外線吸収層は、色調補正用の色素を含有していることが好ましい。或いは色調補正用の色素を含む色調補正層を、近赤外線吸収層と同様にして設けても良い。
【００９９】
色調補正用の色素としては、近赤外線遮蔽層の黄褐色〜緑色の色調を中性化してカラーバランスを整えるために、それらの補色となるようなものが好ましい。このような色素としては、無機系顔料、有機系顔料、有機系染料、色素等一般的なものが挙げることができる。無機顔料としては、コバルト化合物、鉄化合物、クロム化合物等を挙げることができ、有機顔料としては、アゾ系、インドリノン系、キナクリドン系、バット系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系等を挙げることができ、前記有機系染料及び色素には、アゾ系、アジン系、アントラキノン系、インジゴイド系、オキサジン系、キノフタロン系、スクワリウム系、スチルベン系、トリフェニルメタン系、ナフトキノン系、ピラロゾン系、ポリメチン系等を挙げることができるが、これらの内で、発色性と耐久性の兼合いから有機系顔料が好適に用いられる。
【０１００】
本発明の光学フィルタでは、上述した近赤外線吸収層上にさらに透明粘着剤層を有するのが好ましい。透明粘着剤層により本願発明の光学フィルタをディスプレイの画像表示ガラス板などへ容易に貼り合わせることが可能となる。
【０１０１】
透明粘着剤層は、ディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。透明粘着剤層における接着機能を有する樹脂としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。
【０１０２】
透明粘着剤層の厚さは、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍの範囲が好ましい。ディスプレイ用フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【０１０３】
なお、本発明に係る透明粘着剤層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【０１０４】
透明粘着剤層上にはさらに剥離シートが設けられるのが好ましい。剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【０１０５】
本発明によれば、防眩性及び透明性の双方に優れるハードコート層を有するディスプレイ用フィルタを得ることが可能となる。このような本発明のディスプレイ用光学フィルタは、ＰＤＰ等のディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。
【０１０６】
本発明のＰＤＰ表示装置は、透明基板としてプラスチックフィルム等を使用しているので、本発明のディスプレイ用フィルタをその表面である画像表示ガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、ＰＤＰ自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、ＰＤＰの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、ＰＤＰとＰＤＰ用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、ＰＤＰの視認性をより向上させることができる。
【０１０７】
上記のように、本発明によれば、防眩性及び透明性の双方に優れるハードコート層を有するディスプレイ用に好適な光学フィルタを得ることができる。本発明のディスプレイ用フィルタは、ディスプレイの画像表示ガラス板の表面に透明粘着層を介して貼り合わされて使用されるのが好ましい。また、ディスプレーとしては、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイなどが挙げられる。
【０１０８】
次に、上述した本発明のディスプレイ用フィルタの製造方法について説明する。前記方法は、透明基板の上に設けられたメッシュ状の電磁波シールド層の表面に、硬化性樹脂を含むハードコート層形成用インクを塗布することにより、上記特定の凹凸形状を有するハードコート層を形成することができる。ハードコート層形成用インクの粘度は、２５℃において５０〜２０００ｃＰ、５０〜５００ｃＰ、特に１００〜２００ｃＰであることが好ましい。これにより、本発明の電磁波シールド層を容易に作製することができる。
【０１０９】
透明基板に電磁波シールド層を形成するには、従来公知の手段を用いて行えばよい。
【０１１０】
電磁波シールド層として（１）金属繊維及び金属被覆有機繊維からなるものを用いる場合には、例えば、金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属をメッシュ状にしたものを作製した後、これを透明基板上に接着樹脂層などを用いて接着する方法などが用いられる。前記接着樹脂としては特に制限されないが、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体が挙げられるなどが用いられる。
【０１１１】
また、電磁波シールド層として（２）銅などの金属からなるものを用いる場合には、まず、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製層法や、印刷、塗工などの方法を用いて透明基板上に金属箔を形成する。その後、前記金属箔を公知の方法に従ってエッチングすることにより、所定の開口部を形成することにより透明基板上に電磁波シールド層を形成することができる。
【０１１２】
上記の他に、メッシュ状の電磁波シールド層として、透明基板上に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状電磁波シールド層を用いても良い。このような方法は、例えば、特開２００１−３３２８８９号公報などに記載されている。
【０１１３】
また、電磁波シールド層として（３）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させたものを用いる場合、バインダ樹脂及び導電性粒子を含む導電性インクを透明基板上にメッシュ状に印刷する方法などが用いられる。
【０１１４】
導電性インクは導電性粒子及びバインダ樹脂の他に、適度な粘度に調整するため、さらに溶剤を含んでいてもよい。前記溶剤としては、ヘキサノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノール、ステアリルアルコール、セリルアルコール、シクロヘキサノール、テルピネオール等のアルコール；エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルカルビトール）、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のアルキルエーテルが挙げられる。
【０１１５】
導電性インクを透明基板上にメッシュ状に印刷するには、グラビア印刷、フレキソ印刷、グラビアオフセット印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷など公知の方法を用いて行えばよい。その後、必要に応じ室温〜１２０℃で乾燥させて硬化させる。
【０１１６】
また前述のように、無電解めっき及び／又は電気めっきをさらに行うことにより、得られる電磁波シールド層の厚さを厚くして導電性を向上させることも可能である。
【０１１７】
本発明の方法では、上記の通りにして作製した電磁波シールド層上に、硬化性樹脂を含むハードコート層形成用インクを塗布することにより、ハードコート層を形成する。前記ハードコート層形成用インクとしては、２５℃において５０〜２０００ｃＰ、５０〜５００ｃＰ、特に１００〜２００ｃＰの粘度を有するものを用いる。これにより、電磁波シールド層により形成された凹凸形状を表面を有するハードコート層を形成することが可能となる。
【０１１８】
本発明の光学フィルタにおけるハードコート層の表面の凹凸を上記特定の範囲に調整するには、電磁波シールド用材料である樹脂、微粒子（種類、平均粒径等）を適宜選択すること、及びハードコート層を形成する特の形成方法等を適当に選択することが必要である。このような手段を用いることにより、ハードコート層の表面の凹凸形状を容易に調整することができる。さらに、電磁波シールド層を有する電磁波シールド基材上にこのようなハードコート層が形成されていることにより、ハードコート層上に設けられる反射防止層の中に屈折率を調整する微粒子を多量に分散させなくとも防眩性を獲得することができるので、ハードコート層の高い透明性を確保することができる。
【０１１９】
ハードコート層形成用インクに用いられる硬化性樹脂としては、前述の多官能の（メタ）アクリレート、エポキシ系、オキセタン系の硬化性樹脂が挙げられる。本発明の硬化性樹脂は、（メタ）アクリレート等の重合により樹脂形成するも含んでいる。なかでも、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。さらに、多官能（メタ）アクリレートとしては、優れたハードコート性を有し、傷が付きにくいハードコート層を形成できることから、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを硬化性樹脂の全量に対して少なくとも１５質量％以上、特に２０〜８０質量％含むのが好ましい。
【０１２０】
さらに、ハードコート層の表面の凹凸を上記特定の範囲に調整するために、０．０１〜１μｍ、より好ましくは０．０１〜０．１μｍの平均粒径を有する粒子をさらに含むのが好ましい。
【０１２１】
同様に、ハードコート層の表面の凹凸を上記特定の範囲に調整するために、微粒子のハードコート層形成用インクにおける含有量は、硬化性樹脂１００質量部に対して、好ましくは５〜９００質量部、より好ましくは２００〜８００質量部とするのがよい。これにより、透明性が低下されずに適度な表面粗さを有するハードコート層を形成することができる。
【０１２２】
さらに、同様に、ハードコート層の表面の凹凸を上記特定の範囲に調整するために、ハードコート層形成用インクは、硬化性樹脂、前述の光重合開始剤及び微粒子の他に、さらに溶剤を含んでいることが好ましい。これにより、ハードコート層形成用インクの粘度を容易に調整することができる。
【０１２３】
このような溶剤としては、電磁波シールド層を形成するための導電性インクに用いられるものと同様のものが用いられる。溶剤の濃度は、通常は８０質量％以下であり、好ましくは１０〜７０質量％である。
【０１２４】
溶剤としては、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール等のアルコール；メチルエチルケト、イソブチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル；エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルカルビトール）、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のアルキルエーテル；トルエン、キシレン等の芳香族溶剤を挙げることができる。
【０１２５】
ハードコート層形成用インクには、さらに必要に応じて、増感剤、消泡剤、レべリング剤、酸化防止剤など、公知の各種添加剤を含んでいてもよい。
【０１２６】
ハードコート層形成用インクを積層体上に塗布するには、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、スプレーコート法、エクストルージョンコート法、カーテンコート法、ディップコート法、スピンコート法、グラビアコート法など、公知の塗布方法を用いて行えばよい。
【０１２７】
電磁波シールド層上に塗布したハードコート層形成用インクは、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。
【０１２８】
乾燥は、通常は、室温〜２５０℃程度で行えばよい。また、紫外線を照射する場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。
【０１２９】
また、ハードコート層上に低屈折率層を形成する場合には、０．００１〜２μｍの平均粒径を有する粒子に代えて、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3、シリカ、フッ素樹脂などの粒子を用いる以外は、上述したハードコート層の形成方法と同様の方法を用いて行えばよい。
【実施例】
【０１３０】
以下、本発明を実施例により説明する。本発明は、以下の実施例により制限されるものではない。
［実施例１］
１．メッシュ状電磁波シールド層上へのハードコート層の作製
ＰＥＴフィルム（厚さ２５０μｍ、Ｓグレード；（株）帝人製）上に、平均高さが３．３μｍ、ピッチが１６５μｍの銅箔の印刷メッシュを有するメッシュ状電磁波シールド層シートを用意した。
【０１３１】
下記組成を有するハードコート層形成用インク（固形分濃度：４０質量％；粘度：２５℃、１００ｃＰ）を、電磁波シールド層が形成されたＰＥＴフィルム上にバーコータを用いて厚さが約１２μｍとなるように塗布し、８０℃のオーブン中で１分間乾燥させた後、積算光量２４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射させて硬化させた。これにより積層体上にハードコート層（厚さ６．９μｍ）を有するディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１３２】
（ハードコート層形成用インクの組成）
２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート ６０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ４０質量部
ＴｉＯ2粒子（平均粒径０．１μｍ） １０質量部
重合開始剤（イルカギュア１８４、チバスペシャリティケミカル社製） ７質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ５０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １００質量部
シクロヘキサノン（ＣＡＮ） ２５質量部
【０１３３】
［実施例２］
ハードコート層形成用インクにおいて、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレートの代わりにエトキシ付加トリメチロールプロパントリアクリレート（エチレンオキシド付加数：３モル）を同量用い、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃において１１０ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルタを作製した。
【０１３４】
［実施例３］
ハードコート層形成用インクとして、下記の組成のものを使用し、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃において１３０ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１３５】
（ハードコート層形成用インクの組成）
２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート ３３質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート ５０質量部
３−アミノプロピルメトキシシラン １７質量部
ＴｉＯ2粒子（平均粒径０．１μｍ） １０質量部
重合開始剤（イルカギュア１８４、チバスペシャリティケミカル社製） ７質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ５０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １００質量部
シクロヘキサノン（ＣＡＮ） ２５質量部
【０１３６】
［実施例４］
ハードコート層形成用インクとして、下記の組成のものを使用し、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃において１４５ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１３７】
（ハードコート層形成用インクの組成）
トリメチロールプロパントリアクリレート ５０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ５０質量部
ＴｉＯ2粒子（平均粒径０．１μｍ） １００質量部
重合開始剤（イルカギュア１８４、チバスペシャリティケミカル社製） ６質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ５０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １００質量部
シクロヘキサノン（ＣＡＮ） ２５質量部
【０１３８】
［実施例５］
メッシュ状電磁波シールド層シートとして、ＰＥＴフィルム（厚さ２５０μｍ、Ｓグレード；（株）帝人製）上に、平均高さが３．０μｍ、ピッチが３００μｍの銅箔の印刷メッシュを有するメッシュ状電磁波シールド層シートを用い、ハードコート層形成用インクにおいて、溶剤量を同比率で増やして、固形分濃度を２２質量％とし、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃において７０ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルタを作製した。
【０１３９】
［比較例１］
ハードコート層形成用インクとして、下記の組成のものを使用し、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃において１５０ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作製した。
（ハードコート層形成用インクの組成）
２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート ５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ９０質量部
ＴｉＯ2粒子（平均粒径０．１μｍ） ５０質量部
重合開始剤（イルカギュア１８４、チバスペシャリティケミカル社製） ７質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ５０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １００質量部
シクロヘキサノン（ＣＡＮ） ２５質量部
【０１４０】
［比較例２］
ハードコート層形成用インクとして、下記の組成のものを使用し、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃において１２０ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１４１】
（ハードコート層形成用インクの組成）
トリメチロールプロパントリアクリレート ５０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ５０質量部
ＴｉＯ2粒子（平均粒径０．１μｍ） １２０質量部
重合開始剤（イルカギュア１８４、チバスペシャリティケミカル社製） ７質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ５０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １００質量部
シクロヘキサノン（ＣＡＮ） ２５質量部
【０１４２】
［比較例３］
ハードコート層形成用インクとして、下記の組成のものを使用し、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃において１００ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１４３】
（ハードコート層形成用インクの組成）
エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート ５０質量部
ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート ５０質量部
ＴｉＯ2粒子（平均粒径０．１μｍ） ７０質量部
重合開始剤（イルカギュア１８４、チバスペシャリティケミカル社製） ７質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ５０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １００質量部
カルビトールアセテート（ＣＡＮ） ２５質量部
【０１４４】
［比較例４］
ハードコート層形成用インクとして、下記の組成のものを使用し（固形分濃度１２質量％）、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃において７０ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１４５】
（ハードコート層形成用インクの組成）
ポリプロピレングリコール＃２００ジアクリレート ５０質量部
ネオペンチルグリコールジアクリレート ５０質量部
ＴｉＯ2粒子（平均粒径０．１μｍ） ０質量部
重合開始剤（イルカギュア１８４、チバスペシャリティケミカル社製） ７質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ２２２質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） ４４４質量部
シクロヘキサノン（ＣＡＮ） １１１質量部
【０１４６】
［比較例５］
メッシュ状電磁波シールド層シートとして、ＰＥＴフィルム（厚さ２５０μｍ、Ｓグレード；（株）帝人製）上に、平均高さが３．０μｍ、ピッチが３００μｍの銅箔の印刷メッシュを有するメッシュ状電磁波シールド層シートを用いた以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１４７】
［測定方法］
１．ハードコート層形成用インクの粘度の測定
粘度測定装置（Ｂｏｈｌｉｎ社製、レオメーターＣＶＯ１２０）に、ハードコート層形成用インクを載せ、２５℃で保持しながら粘度の測定を行った。測定条件は、コーン直径２０ｍｍ、コーンの傾斜確度１°、ギャップ３０ミクロン、シアーストレス１Ｐａとした。
【０１４８】
［光学フィルタの評価］
２．ハードコート層の厚さの測定
ハードコート層の厚さは、ディスプレイ用フィルタの断面を走査型電子顕微鏡を用いて撮影し、ハードコート層の厚さを測定した。
【０１４９】
３．表面形状の測定（図１におけるＡＨ，ＢＨ，凹部領域Ａの幅）
得られた光学フィルタのハードコート層における凸部領域Ｂと凹部領域Ａとの透明基板表面から各領域表面までの高さ（ＢＨ，ＡＨ；図１参照）、凹部領域Ａの幅（ＡＬ）は、表面粗さ計（商品名：サーフコム４８０Ａ；東京精密（株）製）を用いてＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１ に従って測定することによる得た断面曲線から求めた。なお、測定長さは２ｍｍで行った。
【０１５０】
４．電磁波シールド層のメッシュ間距離（Ｖ）
ディスプレイ用フィルタの断面を走査型電子顕微鏡を用いて撮影し、電磁波シールド層のメッシュ間距離（Ｖ）を測定した。
【０１５１】
５．ハードコート層の鉛筆硬度の測定
ＪＩＳ Ｋ ５４００の鉛筆引っ掻き試験方法に従って評価した。
【０１５２】
６．光学フィルタのヘイズの測定
ディスプレイ用フィルタの小片（５０×５０ｍｍ）を３個切りとり、濁度計（ＮＤＨ２０００、日本電色（株）製）を用いてヘイズ値を測定し、その各平均値を求めた。
【０１５３】
７．ディスプレイ用フィルタの防眩性の評価
ディスプレイ用フィルタに対して距離２ｍ、斜め前３０に配置した蛍光灯（８０００ｃｄ／ｃｍ2）を、ハードコート層表面に映し、その反射像を目視により以下の基準で評価した。
【０１５４】
○：蛍光灯の輪郭がほとんどわからない
△：蛍光灯の輪郭がぼやけ、わずかにわかる
×：蛍光灯の輪郭がはっきりとわかる
得られた結果を表１に示す。
【０１５５】
【表１】
【０１５６】
Ｖ：メッシュ間距離
ＡＬ：メッシュ間距離に対応する凹部領域の幅
Ｈ：ＢＨ−ＡＨ
ＡＨ：凹部領域の中心に位置における透明基板表面から表面までの高さ
ＢＨ：凸部領域の透明基板表面から表面までの最大高さ
【図面の簡単な説明】
【０１５７】
【図１】本発明の光学フィルタの概略断面図である。
【図２】図１の光学フィルタの部分平面図である。
【符号の説明】
【０１５８】
１１ 透明基板
１２ 電磁波シールド層
１３ ハードコート層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、優れた防眩性及び透明性を有し、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の前面フィルタ等に有利に用いられる光学フィルタに関する。さらに、本発明は、この光学フィルタの製造方法、ディスプレイ用光学フィルタ及びこれを備えたディスプレイ並びにプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）及び表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイ等のディスプレイが、表示装置として広く普及している。近年では、ディスプレイは大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。
【０００３】
近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがある。このため、従来のディスプレイには、電磁波シールド層を有するディスプレイ用フィルタが設けられている。
【０００４】
電磁波シールド層を有するディスプレイ用フィルタとしては、例えば、（１）金属銀を含む透明導電薄層が設けられた透明フィルム、（２）金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュを設けた透明フィルム、（３）透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、（４）透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。
【０００５】
また、ディスプレイ表面に傷が付くとディスプレイに表示された画像の視認性が低下するため、ハードコート層を有するディスプレイ用フィルタなども知られている。さらに、従来のＰＤＰを初めとする大型ディスプレイにおいては、蛍光灯などの外部光源から照射された光線の反射により表示された画像が見え難いという問題があった。そこで、反射防止層を有するディスプレイ用フィルタ等も広く用いられている。
【０００６】
電磁波シールド層、ハードコート層及び反射防止層は、ディスプレイ用フィルタの用途に応じて積層して用いられる。例えば、特許文献１には、透明基板上に電磁波シールド層、ハードコート層及び反射防止層が、この順で積層されたディスプレイ用フィルタが開示されている。
【０００７】
また、特許文献２には、透明基板と、透明基板上に形成されて多数の光透過部を有するメッシュ状の電磁波シールド層と、電磁波シールド層と光透過部を被覆する透明樹脂からなる硬化塗膜とを有するディスプレイ用フィルタが開示されている。特許文献２のディスプレイ用フィルタでは、硬化塗膜のうちで電磁波シールド層により形成された隆起部の平均傾斜角度が１０°以下とすることが開示されている。このような硬化塗膜による平坦化層を形成することにより、電磁波シールド層の光の乱反射による光透過性の低下を防止することが開示されている。さらに、特許文献２では光透過性及び画像鮮明度が高いディスプレイ用フィルタを得るために、硬化塗膜の表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）を０．０５〜７μｍ、特に０．１〜５μｍとするのが好ましく（段落「００５６」）、実施例においては表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が１．３〜４．３μｍである硬化塗膜を作製している。
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−１６３７５２号公報
【特許文献２】特開２００６−２１０５２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従来のディスプレイ用フィルタには、さらに防眩性を有することが望まれている。すなわち、ディスプレイを室内で使用する場合、蛍光灯等の照明が写り込んだりするために文字等の認識が難しくなる問題があるため、外部環境の映り込みを防ぐために高い防眩性をさらに有することが望まれている。
【００１０】
ディスプレイ用フィルタに防眩性を付与するためには、ディスプレイ用フィルタにおいて最表面に配置された層の表面に凹凸形状を付与することにより外光を拡散させる手段などが有用である。
【００１１】
しかしながら、高い防眩性を得るために、例えば、単にシリカなどの屈折率調整用微粒子の含有量を多くしてハードコート層の表面に凹凸形状を付与するなどの手段を用いると、反射防止層のヘイズが低下して、十分な透明性を確保できなくなる恐れがあった。
【００１２】
また、特許文献２のディスプレイ用フィルタでは、電磁波シールド層により形成された隆起部を有する硬化塗膜を有するが、比較的凹凸が大きく、十分な防眩性及び透明性を有するディスプレイ用フィルタを得るのは困難であった。
【００１３】
このように、ディスプレイ画像の視認性を向上させるためには透明性を低下させることなく高い防眩性を得ることが必要であるが、従来ではこれらを兼ね備えたディスプレイ用フィルタの実現は困難であった。
【００１４】
従って、本発明は、防眩性及び透明性の双方に優れた光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１５】
また本発明は、防眩性及び透明性の双方に優れたディスプレイ光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１６】
さらに本発明は、防眩性及び透明性の双方に優れたプラズマディスプレイ光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１７】
また本発明は、防眩性及び透明性の双方に優れたディスプレイを提供することを目的とする。
【００１８】
さらに本発明は、防眩性及び透明性の双方に優れたプラズマディスプレイを提供することを目的とする。
【００１９】
さらにまた、本発明は、防眩性及び透明性の双方に優れたディスプレイ用フィルタの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
ディスプレイ用フィルタの高い防眩性を得るには、上述の通り、ディスプレイ用フィルタの最表面に配置される層の表面に凹凸形状を付与する手段を用いるのが有効である。本発明者は、このような知見に鑑み種々の検討を行った結果、透明基板上にメッシュ状の電磁波シールド層を形成し、この電磁波シールド層を有する透明基板上に特定の凹凸を有するハードコート層を形成することにより、透明性を低下させることなく高い防眩性を有するディスプレイ用フィルタが得られることを見出した。
【００２１】
即ち、本発明は、
透明基板、その表面に設けられた多数の微細貫通孔を有する電磁波シールド層、及び電磁波シールド層の表面に形成されたハードコート層とを含む光学フィルタにおいて、
ハードコート層が、メッシュ状の電磁波シールド層のメッシュ部分に対応する凸部領域、メッシュ間に対応する凹部領域からなり、凹部領域の中心における透明基板表面から表面までの高さと、この凹部領域と隣接する凸部領域の透明基板表面から表面までの高さとの差が０．１μｍを超えており、さらに凹部領域における透明基板表面からその表面までの高さの分布が、凹部領域の中心における透明基板表面からその表面までの高さから±０．１μｍの範囲内にあることを特徴とする光学フィルタ；
にある。
【００２２】
上記凸部領域と凹部領域の各領域の透明基板表面から表面までの高さは、表面粗さ計（商品名：サーフコム４８０Ａ；東京精密（株）製）を用いてＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１ に従って測定することによる得た断面曲線から求められる。なお、測定長さは２ｍｍで行った。
【００２３】
本発明の光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
（１）凸部領域と凹部領域との各領域の透明基板表面から表面までの高さの差が、０．３〜１．５μｍの範囲（特に０．５〜０．９μｍ）である。凸部領域の形状が頂部面積が底部面積より小さいことが好ましく、特に面積比が１／２〜１／１００であることが好ましい。透明性を維持しながら防眩層性を確保することができ容易である。
（２）電磁波シールド層のメッシュ間距離に対する該メッシュ間に対応する凹部領域の幅の比が、０．５〜１．０の範囲にある。透明性を維持しながら防眩層性を確保することができより容易である。
（３）凹部領域と隣接する凸部領域の高さが、凸部領域に隣接する両側の凹部領域の中心を通る線上において定められる。製造が容易である。
上記のように、凸部領域と凹部領域との各領域の位置は、凸部領域と凹部領域が、メッシュの各格子及び各格子間に対応しているため、上記凹部領域の中心位置は、メッシュの形状を基に決定すると容易である。
（４）ハードコート層が、硬化性樹脂中に０．０１〜１μｍの平均粒径を有する微粒子が分散した層の硬化層からなる。また、ハードコート層における微粒子の含有量が前記硬化性樹脂１００質量部に対して５〜９００質量部、特に２００〜８００質量部であることが好ましい。本発明の特定の表面形状のハードコート層が得られ易い。
（５）硬化性樹脂が、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを、硬化性樹脂の全量に対して少なくとも１５質量％含む。本発明の特定の表面形状のハードコート層が得られ易い。
（６）前記微粒子が、ＩＴＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、ＬａＯ2及びＨｏ2Ｏ3よりなる群から選択される少なくとも一種の金属酸化物粒子である。特にＴｉＯ2が好ましい。
（７）前記ハードコート層の厚さが、３〜１０μｍである。
（８）ヘイズが１０％以下である。
（９）透明基板がプラスチックフィルムである。
（１０）ハードコート層上にさらに低屈折率層（ハードコート層より低い屈折率を有する層）が設けられている。反射防止特性が向上する。
（１１）透明基板のハードコート層が設けられていない表面に、近赤外線吸収層が設けられている。近赤外線吸収層上に、さらに透明粘着剤層が設けられていることが好ましい。
（１２）ディスプレイパネル用フィルタである。
（１３）プラズマディスプレイパネル用フィルタである。
【００２４】
また、本発明は、上記光学フィルタが、透明粘着層によりガラス板の貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタにもある。
【００２５】
さらに本発明は、上記の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイにもある。
【００２６】
また本発明は、上記の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。
【００２７】
本発明の光学フィルタは、下記の製造方法：即ち
透明基板及びその表面に設けられたメッシュ状電磁波シールド層を有する積層体の当該電磁波シールド層の表面上に、硬化性樹脂を含むハードコート層形成用インクを塗布、硬化させることにより、ハードコート層を形成する工程を含み、
形成されたハードコート層が、メッシュ状の電磁波シールド層のメッシュ部分に対応する凸部領域、メッシュ間に対応する凹部領域からなり、凹部領域の中心における透明基板表面から表面までの高さと、この凹部領域と隣接する凸部領域の透明基板表面から表面までの高さとの差が０．１μｍを超えており、さらに凹部領域における透明基板表面からその表面までの高さの分布が、凹部領域の中心における透明基板表面からその表面までの高さから±０．１μｍの範囲内にあることを特徴とする光学フィルタの製造方法；
により有利に得られる。
【００２８】
本発明の製造方法の好適態様は以下の通りである。
（１）ハードコート層形成用インクの粘度が、２５℃において５０〜２０００ｃＰである。本発明の特定の表面形状のハードコート層が得られ易い。
（２）硬化性樹脂（又は硬化樹脂形成材料）として、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを、硬化性樹脂の全量に対して少なくとも１５質量％含む。本発明の特定の表面形状のハードコート層が得られ易い。
（３）ハードコート層形成用インクが、０．０１〜１μｍの平均粒径を有する微粒子をさらに含む。微粒子の含有量が硬化性樹脂１００質量部に対して５〜９００質量部、特に２００〜８００質量部であることが好ましい。本発明の特定の表面形状のハードコート層が得られ易い。
【００２９】
前記本発明の光学フィルタの好適態様を上記製造方法にも適用することができる。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、電磁波シールド層上に特定の表面の凹凸形状を有するハードコート層を形成することにより、簡易な構成で防眩性及び透明性の双方に優れたディスプレイに好適な光学フィルタを得ることができる。従って、本発明の光学フィルタは、ディスプレイに表示された画像の視認性に優れ、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイなどの光学物品の表面に貼付されるディスプレイ用フィルタとして有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
まず、本発明の光学フィルタについて図１を用いて説明する。図１は、本発明の光学フィルタの概略断面図である。
【００３２】
本発明の光学フィルタは、透明基板１１、透明基板１１上に形成されたメッシュ状の電磁波シールド層１２、さらに電磁波シールド層１２を有する表面に設けられたハードコート層１３から構成されている。
【００３３】
ハードコート層１３は、その表面が突き出ている凸部領域Ｂとその表面が凹んでいる凹部領域Ａとからなり、それぞれの長さがＢＬ及びＡＬである。これらの長さは一般にメッシュに対して平行方向のものである。またハードコート層１３の凸部領域Ｂはメッシュ状の電磁波シールド層のメッシュ部分に対応する領域であり、凹部領域Ａはメッシュ間に対応する領域である。電磁波シールド層１２のメッシュ間距離はＶで表され、このメッシュ間距離Ｖに対応する凹部領域の幅がＡＬということができる。
【００３４】
図２に、図１の光学フィルタの部分平面図を示す。上記のように、凸部領域Ｂは、メッシュ状の電磁波シールド層１２のメッシュ部分の位置に対応するように形成され、凹部領域Ａはメッシュ間の位置に対応するように形成されている。従って、凸部領域Ｂのほぼ中央部にメッシュ１２が設けられている。
【００３５】
図２に示すように、凹部領域はほぼ正方形とした場合（実際は、各種多角形、円形、楕円形等の種々の形状があり得る）、１個の凹部領域Ａの面積はＡＬ2であり、その周囲の凸部領域Ｂの面積は［｛（ＡＬ＋ＢＬ）2−ＡＬ2｝＝２ＡＬ・ＢＬ＋ＢＬ2］であり、これから凹部領域の凸部領域に対する面積比（［２ＡＬ・ＢＬ＋ＢＬ2］／ＡＬ2）が得られる。
【００３６】
本発明では、凹部領域Ｂの中心における透明基板表面から表面までの高さと、この凹部領域Ｂと隣接する凸部領域Ａの透明基板表面から表面までの高さ（凸部領域Ａの全領域の高さ）との差が０．１μｍを超えている。
【００３７】
図１に示すように、凸部領域Ｂの中心における透明基板表面からその表面までの高さＢＨは、凸部領域Ｂの中心においては電磁波シールド層及びハードコート層の合計の層厚に相当する。また凹部領域Ａの中心における透明基板表面からその表面までの高さＡＨは、ハードコート層１３の層厚に相当する。本発明では、凹部領域Ａの中心における透明基板表面からその表面までの高さＡＨと、凹部領域に隣接する凸部領域Ａの透明基板表面からその表面までの高さＢＨとの差（ＢＨ−ＡＨ）が、０．１μｍを超えていることが必要である。これにより良好な防眩性が得られると考えられる。一般に、凹部領域と隣接する凸部領域の高さは、図２に示すように、凹部領域に隣接する両側の凹部領域の中心を通る線上において定められる。このような凸部領域Ｂと凹部領域との各領域の位置は、メッシュの各格子及び各格子間に対応しているため、上記凹部領域の中心位置は、メッシュの形状を基に決定すると容易である。
【００３８】
即ち、凹部領域Ａにおける透明基板表面からその表面までの高さの分布（実際に存在するバラツキのある高さ）が、その中心高さＡＨから上下に０．１μｍ以内であれば、凹部領域Ａであり、上に０．１μｍを超えた場合は凸部領域Ｂとなる。高さＢＨ及び中心高さＡＨは、一般に各領域の下記の測定方法により得られる断面曲線より求められる。逆に言うと、凸部領域Ｂを形成するためには、上記凹部領域Ａにおける透明基板表面からその表面までの高さの分布（バラツキ）は、凹部領域の透明基板表面からその表面までの中心高さから±０．１μｍの範囲にあることが必要である。このような構成にすることにより、即ち、凸部領域Ｂを上記のように設け、凹部領域Ａにおける高さの分布を上記のように限定することにより、防眩性及び透明性を、高い水準で維持することができる。このように、本発明のハードコート層の表面形状は、凹凸はあるものの防眩性が得られる範囲である程度小さく抑えられており、一方、凹部領域の表面の高さは、透明基板表面からその表面までの中心高さからのバラツキは小さく（即ち０．１μｍ以内）されているので、高度な透明性を維持することができると考えられる。
【００３９】
さらに、高度な防眩層性を得るために、凸部領域Ｂの透明基板表面からその表面までの高さの分布は、凹部領域Ａの透明基板表面からその表面までの中心高さから０．２５μｍ以上、特に０．３μｍ以上であることが好ましい。これにより優れた防眩性が得られる。
【００４０】
上記凸部領域と凹部領域の各領域の透明基板表面から表面までの高さ、凹部領域の高さ分布及び凹部領域の幅は、表面粗さ計（商品名：サーフコム４８０Ａ；東京精密（株）製）を用いてＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１ に従って測定することによる得た断面曲線から求められる。なお、測定長さは２ｍｍで行った。
【００４１】
実際に測定する場合、凸部領域と凹部領域との各領域の位置は、凸部領域と凹部領域が、メッシュ状電磁波シールド層の各格子及び各格子間に対応しているため、メッシュの形状を基に決定すると容易である。即ち、凸部領域の中心位置はメッシュの格子の中心位置、凹部領域の中心位置は格子間の中心位置に対応するので、上記測定は、一般に、図２の線Ｘに沿って行われる。線Ｘは、格子に平行に且つ格子間の中心位置に通って引かれている。この線Ｘ上で、凹部領域の中心高さより２μｍを超えた領域が、凸部領域の領域に当たる。
【００４２】
凸部領域Ｂと凹部領域Ａとの透明基板表面から各領域表面までの上記高さの差（ＢＨ−ＡＨ）が、０．３〜１．５μｍの範囲、特に０．５〜０．９μｍであることが好ましい。防眩性及び透明性を、さらに高い水準で維持することができる。また凸部領域Ｂの形状が頂部面積が底部面積より小さいことが好ましく、特に面積比が１／２〜１／１００であることが好ましい。透明性を維持しながら防眩層性を確保することができ容易である。
【００４３】
高さの差（ＢＨ−ＡＨ）が小さすぎると、蛍光灯等の外光が明確に視認され防眩層性が不十分となり、高さの差（ＢＨ−ＡＨ）が大きすぎるとディスプレイ（好ましくはプラズマディスプレイ）からの放射される画像がフィルタ表面の凸部で大きく乱反射し、明瞭な画像が得られ難い。
【００４４】
また、本発明では、電磁波シールド層１２のメッシュ間距離（図１のＶ）に対するこのメッシュ間に対応する凹部領域の幅（図１及び図２のＡＬ）の比が、０．５〜１．０の範囲にあることが好ましい。即ち、本発明では、凹部領域がメッシュ間の長さよりほぼ半分以上の範囲において、平坦な領域を確保している。これにより透明性を維持しながら防眩層性を確保することができより容易である。このような凹部領域の幅（ＡＬ）は、上記の凹部領域を決定する場合のＸ線上で測定することが好ましい。またメッシュ間距離（図１のＶ）は、Ｘ線における断面を走査型電子顕微鏡で測定することにより得られる。
【００４５】
前述のように、凹部領域Ａの透明基板表面からその表面までの高さの分布が、凹部領域の透明基板表面からその表面までの中心高さから±０．１μｍの範囲にあるが、前記透明基板表面からその表面までの高さの分布が、凹部領域の透明基板表面からその表面までの中心高さから上記範囲を超えた場合、ディスプレイ（好ましくはプラズマディスプレイ）からの放射される画像がフィルタ表面の凸部で大きく乱反射し、明瞭な画像が得られ難い。
【００４６】
凹部領域の凸部領域に対する面積比（凹部領域が略正方形の場合、前記の［２ＡＬ・ＢＬ＋ＢＬ2］／ＡＬ2に当たる）が、０．０１〜１００００であり、５〜４００が好ましい。後者とすることによりディプレイ用光学フィルタに好適となる。
【００４７】
電磁波シールド層１２は、図１、２に示したように、メッシュ状の電磁波シールド層である。
【００４８】
以下、本発明の光学フィルタに使用される材料について詳細に説明する。
【００４９】
透明基板は、その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性が優れているので好ましい。
【００５０】
透明基板の厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜５ｍｍ程度が好ましい。
【００５１】
透明基板上に形成される多数の微細貫通孔を有する電磁波シールド層、一般にメッシュ状の電磁波シールド層としては、（１）金属繊維及び金属被覆有機繊維からなるもの、（２）銅などの金属からなるもの、（３）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させたもの、等を挙げることができる。
【００５２】
（１）金属繊維及び金属被覆有機繊維からなる電磁波シールド層において、金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、スズ、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。
【００５３】
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。金属被覆有機繊維は、これらの有機繊維が上記金属により被覆されたものである。
【００５４】
（２）銅などの金属からなる電磁波シールド層において、前記金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００５５】
（３）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させた電磁波シールド層において、前記導電性粒子としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。
【００５６】
バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００５７】
電磁波シールド層におけるメッシュパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状などが挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。
【００５８】
メッシュ状の電磁波シールド層におけるメッシュとしては、線幅１μｍ〜５０μｍ、開口率７５〜９５％のものが好ましい。より好ましい線幅は１μｍ〜１０μｍ、開口率は８０〜９５％である。メッシュ状の電磁波シールド層において、線幅が５０μｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、ハードコート層表面に適度な表面粗さを付与することができず、十分な防眩性を有するハードコート層を形成することができない恐れがある。また、線幅が１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、７５％未満ではハードコート層表面に適度な表面粗さを付与することができず、十分な防眩性を有するハードコート層を形成することができない恐れがある。
【００５９】
なお、電磁波シールド層の開口率とは、当該電磁波シールド層の投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００６０】
電磁波シールド層の表面に黒化処理を行っても良い。
【００６１】
黒化処理は、電磁波シールド層の金属に応じた公知の黒化処理をすることができ、これに応じた公知の黒化処理液を使用することができる。黒化処理としては、一般に酸化処理、硫化処理、クロムメッキ処理、及びスズ−ニッケル等の合金メッキ処理を挙げることができる。電気メッキ槽でのメッキ金属が銅である場合には、酸化処理、硫化処理、クロムメッキ処理、及びスズ−ニッケル等の合金メッキ処理をあげることができ、特に廃液処理の簡易性及び環境安全性の点から、酸化処理が好ましい。
【００６２】
上記黒化処理として酸化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には次亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、ペルオキソ二硫酸と水酸化ナトリウムの混合水溶液等を使用することが可能であり、特に経済性の点から、次亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液を使用することが好ましい。
【００６３】
上記黒化処理として硫化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には硫化カリウム、硫化バリウム及び硫化アンモニウム等の水溶液を使用することが可能であり、好ましくは、硫化カリウム及び硫化アンモニウムであり、特に低温で使用可能である点から、硫化アンモニウムを使用することが好ましい。
【００６４】
上記黒化処理として、クロムメッキ処理を行う場合には、黒化処理液として、一般にはクロム酸と酢酸の水溶液、及びクロム酸とケイフッ化水素酸の水溶液等を使用することが可能であり、特に経済性の点から、クロム酸と酢酸の水溶液を使用することが好ましい。
【００６５】
上記のようにして得られる黒化層の厚さは、一般に０．５〜５μｍ、特に１〜２μｍが好ましい。本発明では、黒化層の厚さは、本発明の金属導電層の厚さに含まれる。
【００６６】
電磁波シールド層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。また、金属メッキ層上に前記黒化処理を行っても良い。
【００６７】
本発明の光学フィルタにおけるハードコート層は、上記特定の表面が形成されていればよい。ハードコート層の表面の凹凸を上記特定の範囲に調整するには、電磁波シールド用材料である樹脂、微粒子（種類、平均粒径等）を適宜選択すること、及びハードコート層を形成する特の形成方法等を適当に選択することが必要である。このような手段を用いることにより、ハードコート層の表面の凹凸形状を容易に調整することができる。さらに、電磁波シールド層を有する電磁波シールド基板上にこのようなハードコート層が形成されていることにより、ハードコート層上に設けられる反射防止層の中に屈折率を調整する微粒子を多量に分散させなくとも防眩性を獲得することができるので、ハードコート層の高い透明性を確保することができる。
【００６８】
本発明では、ハードコート層は、硬化性樹脂中に０．０１〜１μｍの平均粒径を有する微粒子を分散させた硬化層であるのが好ましい。このような硬化層であれば、適度な粗さの凹凸を付与してハードコート層の表面の凹凸形状を上記範囲内に容易に調整することができ、透明性及び防眩性に優れたハードコート層を形成することができる。
【００６９】
硬化性樹脂としては、特に制限されず、熱、活性光線、放射線などで重合可能な硬化性樹脂、例えば多官能の（メタ）アクリレート、エポキシ系、オキセタン系の硬化性樹脂を挙げることができる。なかでも、多官能（メタ）アクリレート等を主として含む紫外線硬化性樹脂が好ましい。
【００７０】
多官能（メタ）アクリレートとしては特に限定されず、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール（メタ）テトラアクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。なお、本発明において、「（メタ）アクリレート」は「アクリレート又はメタクリレート」を意味する。
【００７１】
多官能（メタ）アクリレートとしては、優れたハードコート性を有し、傷が付きにくいハードコート層を形成できることから、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを硬化性樹脂の全量に対して、少なくとも１５質量％、特に２０〜８０質量％含むのが好ましい。
【００７２】
ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートとして、好ましくは、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシイソプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、プロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、（ポリ）アルキレングリコールモノアクリレート、及びこれらのモノマ−とラクトン（例えば、ε−カプロラクトン等）との付加物、例えばカプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００７３】
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、２，２−ジエトキシアセトフェノン等のアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４)が好ましい。
【００７４】
光重合開始剤の量は、硬化性樹脂に対して０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００７５】
このように紫外線硬化性樹脂を用いることにより高い硬度を有するハードコート層を形成することが容易である。一般に、ＪＩＳ−Ｋ−５４００で規定される鉛筆引っ掻き試験方法で、２Ｈ以上の硬度を有することが好ましく、特に３Ｈ以上の硬度を有することが好ましい。
【００７６】
ハードコート層は、上述した硬化性樹脂中に、好ましくは０．０１〜１μｍ、より好ましくは０．０１〜０．１μｍの平均粒径を有する微粒子を含んでいる。微粒子の平均粒径は、ディスプレイ用フィルタの断面を電子顕微鏡（好ましくは透過型電子顕微鏡）により倍率１００万倍程度で観測し、少なくとも１００個の前記粒子の面積円相当径を求めた数平均値とする。
【００７７】
微粒子のハードコート層における含有量は、硬化性樹脂１００質量部に対して、５〜９００質量部、さらに２００〜８００質量部、特に５００〜８００質量部が好ましい。これにより、ハードコート層に透明性を低下させずに適度な表面粗さを付与することができる。
【００７８】
ハードコート層は、高い反射防止性を得るために、透明基板よりも高い屈折率を有するのが好ましい。ハードコート層の屈折率は、１．４９〜１．８０、特に１．７０〜１．８０の範囲内とするのが好ましい。
【００７９】
上記微粒子としては、ハードコート層の屈折率を高くするために、高い屈折率を有する微粒子が好ましく用いられる。例えば、ＩＴＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、ＬａＯ2及びＨｏ2Ｏ3などの金属酸化物粒子が用いられる。これらは一種単独で用いられてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。ＴｉＯ2が好ましい。
【００８０】
ハードコート層の厚さは、所定の表面粗さを得るために、一般に３〜１０μｍ、５．５〜９．５μｍが好ましい、特に６．５〜８．５μｍが好ましい。
【００８１】
本発明のディスプレイ用フィルタでは、反射防止性をさらに向上させるために、上述したハードコート層上に、前記ハードコート層よりも屈折率が低い低屈折率層を有していてもよい。低屈折率層の屈折率としては、１．２０〜１．５０、特に１．２５〜１．４５の範囲内であればよい。微粒子を用いる場合は、後述の低屈折率層に使用される微粒子を用いても良い。
【００８２】
なお、本発明のディスプレイ用フィルタでは、上述した通り、透明性及び防眩性に優れるハードコート層を有し、低屈折率層を有していなくとも高い防眩性を有するが、所望により低屈折率層等を設けても良い。
【００８３】
低屈折率層としては、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3、シリカ、フッ素樹脂などの粒子を硬化性樹脂中に分散させた硬化層など、公知のものが用いられる。
【００８４】
微粒子としては、中空シリカを用いるのが好ましい。前記中空シリカは、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍであり、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものを用いるのがよい。また、硬化性樹脂としては、ハードコート層において上述したものと同様のものが用いられる。
【００８５】
低屈折率層の厚さは、通常は１０〜５００ｎｍ、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００８６】
本発明のディスプレイ用フィルタは、上述した通り、ハードコート層表面に特定の凹凸形状を付与することにより、ハードコート層に透明性を低下させることなく防眩性を付与することができる。従って、前記ハードコート層を有するディスプレイ用フィルタも透明性が高く、低いヘイズ値を有する。具体的には、上述したハードコート層を有するディスプレイ用フィルタのヘイズが、１０．０％以下、特に３．０％以下である。
【００８７】
本発明においては、反射防止膜は、上述のように、一般に、透明基板より屈折率の高い本発明のハードコート層とその上に設けられた低屈折層との複合膜である。但し、透明基板より屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた高屈折層との複合膜、或いは高屈折率層上にさらに低屈折率層が設けられた複合膜としても良い。本発明の反射防止膜に近赤外線遮蔽機能を付与する場合は、上記ハードコート層等に近赤外線を吸収する後述する材料（例、色素）を混合及び／又は混練して導入しても良いし、或いは透明基板のメッシュ層の無い裏面に導入しても良い。
【００８８】
さらに、本発明の光学フィルタにおいて、電磁波シールド層が形成された面とは反対側の面に近赤外線吸収層をさらに有するのが好ましい。これにより、ディスプレイ用フィルタが赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射を防止することが可能となる。
【００８９】
近赤外線吸収層（即ち、近赤外線遮蔽層）は、一般に、透明基板の表面に色素等を含む層が形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば色素及びバインダとしての合成樹脂等を含む紫外線硬化性又は電子線硬化性の合成樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。
【００９０】
色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。
【００９１】
バインダとしての合成樹脂の例としては、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン樹脂、およびノルボルネン樹脂などが好ましく用いられる。これらは、１種単独で用いられてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【００９２】
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。
【００９３】
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【００９４】
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。
【００９５】
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【００９６】
本発明のディスプレイ用フィルタの近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。
【００９７】
近赤外線吸収層の厚さは、特に制限はないが、近赤外線の吸収性及び可視光透過性の点で、０．５〜５０μｍ程度が好ましい。
【００９８】
近赤外線吸収層は、色調補正用の色素を含有していることが好ましい。或いは色調補正用の色素を含む色調補正層を、近赤外線吸収層と同様にして設けても良い。
【００９９】
色調補正用の色素としては、近赤外線遮蔽層の黄褐色〜緑色の色調を中性化してカラーバランスを整えるために、それらの補色となるようなものが好ましい。このような色素としては、無機系顔料、有機系顔料、有機系染料、色素等一般的なものが挙げることができる。無機顔料としては、コバルト化合物、鉄化合物、クロム化合物等を挙げることができ、有機顔料としては、アゾ系、インドリノン系、キナクリドン系、バット系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系等を挙げることができ、前記有機系染料及び色素には、アゾ系、アジン系、アントラキノン系、インジゴイド系、オキサジン系、キノフタロン系、スクワリウム系、スチルベン系、トリフェニルメタン系、ナフトキノン系、ピラロゾン系、ポリメチン系等を挙げることができるが、これらの内で、発色性と耐久性の兼合いから有機系顔料が好適に用いられる。
【０１００】
本発明の光学フィルタでは、上述した近赤外線吸収層上にさらに透明粘着剤層を有するのが好ましい。透明粘着剤層により本願発明の光学フィルタをディスプレイの画像表示ガラス板などへ容易に貼り合わせることが可能となる。
【０１０１】
透明粘着剤層は、ディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。透明粘着剤層における接着機能を有する樹脂としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。
【０１０２】
透明粘着剤層の厚さは、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍの範囲が好ましい。ディスプレイ用フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【０１０３】
なお、本発明に係る透明粘着剤層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【０１０４】
透明粘着剤層上にはさらに剥離シートが設けられるのが好ましい。剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【０１０５】
本発明によれば、防眩性及び透明性の双方に優れるハードコート層を有するディスプレイ用フィルタを得ることが可能となる。このような本発明のディスプレイ用光学フィルタは、ＰＤＰ等のディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。
【０１０６】
本発明のＰＤＰ表示装置は、透明基板としてプラスチックフィルム等を使用しているので、本発明のディスプレイ用フィルタをその表面である画像表示ガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、ＰＤＰ自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、ＰＤＰの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、ＰＤＰとＰＤＰ用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、ＰＤＰの視認性をより向上させることができる。
【０１０７】
上記のように、本発明によれば、防眩性及び透明性の双方に優れるハードコート層を有するディスプレイ用に好適な光学フィルタを得ることができる。本発明のディスプレイ用フィルタは、ディスプレイの画像表示ガラス板の表面に透明粘着層を介して貼り合わされて使用されるのが好ましい。また、ディスプレーとしては、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイなどが挙げられる。
【０１０８】
次に、上述した本発明のディスプレイ用フィルタの製造方法について説明する。前記方法は、透明基板の上に設けられたメッシュ状の電磁波シールド層の表面に、硬化性樹脂を含むハードコート層形成用インクを塗布することにより、上記特定の凹凸形状を有するハードコート層を形成することができる。ハードコート層形成用インクの粘度は、２５℃において５０〜２０００ｃＰ、５０〜５００ｃＰ、特に１００〜２００ｃＰであることが好ましい。これにより、本発明の電磁波シールド層を容易に作製することができる。
【０１０９】
透明基板に電磁波シールド層を形成するには、従来公知の手段を用いて行えばよい。
【０１１０】
電磁波シールド層として（１）金属繊維及び金属被覆有機繊維からなるものを用いる場合には、例えば、金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属をメッシュ状にしたものを作製した後、これを透明基板上に接着樹脂層などを用いて接着する方法などが用いられる。前記接着樹脂としては特に制限されないが、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体が挙げられるなどが用いられる。
【０１１１】
また、電磁波シールド層として（２）銅などの金属からなるものを用いる場合には、まず、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製層法や、印刷、塗工などの方法を用いて透明基板上に金属箔を形成する。その後、前記金属箔を公知の方法に従ってエッチングすることにより、所定の開口部を形成することにより透明基板上に電磁波シールド層を形成することができる。
【０１１２】
上記の他に、メッシュ状の電磁波シールド層として、透明基板上に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状電磁波シールド層を用いても良い。このような方法は、例えば、特開２００１−３３２８８９号公報などに記載されている。
【０１１３】
また、電磁波シールド層として（３）バインダ樹脂中に導電性粒子を分散させたものを用いる場合、バインダ樹脂及び導電性粒子を含む導電性インクを透明基板上にメッシュ状に印刷する方法などが用いられる。
【０１１４】
導電性インクは導電性粒子及びバインダ樹脂の他に、適度な粘度に調整するため、さらに溶剤を含んでいてもよい。前記溶剤としては、ヘキサノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノール、ステアリルアルコール、セリルアルコール、シクロヘキサノール、テルピネオール等のアルコール；エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルカルビトール）、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のアルキルエーテルが挙げられる。
【０１１５】
導電性インクを透明基板上にメッシュ状に印刷するには、グラビア印刷、フレキソ印刷、グラビアオフセット印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷など公知の方法を用いて行えばよい。その後、必要に応じ室温〜１２０℃で乾燥させて硬化させる。
【０１１６】
また前述のように、無電解めっき及び／又は電気めっきをさらに行うことにより、得られる電磁波シールド層の厚さを厚くして導電性を向上させることも可能である。
【０１１７】
本発明の方法では、上記の通りにして作製した電磁波シールド層上に、硬化性樹脂を含むハードコート層形成用インクを塗布することにより、ハードコート層を形成する。前記ハードコート層形成用インクとしては、２５℃において５０〜２０００ｃＰ、５０〜５００ｃＰ、特に１００〜２００ｃＰの粘度を有するものを用いる。これにより、電磁波シールド層により形成された凹凸形状を表面を有するハードコート層を形成することが可能となる。
【０１１８】
本発明の光学フィルタにおけるハードコート層の表面の凹凸を上記特定の範囲に調整するには、電磁波シールド用材料である樹脂、微粒子（種類、平均粒径等）を適宜選択すること、及びハードコート層を形成する特の形成方法等を適当に選択することが必要である。このような手段を用いることにより、ハードコート層の表面の凹凸形状を容易に調整することができる。さらに、電磁波シールド層を有する電磁波シールド基材上にこのようなハードコート層が形成されていることにより、ハードコート層上に設けられる反射防止層の中に屈折率を調整する微粒子を多量に分散させなくとも防眩性を獲得することができるので、ハードコート層の高い透明性を確保することができる。
【０１１９】
ハードコート層形成用インクに用いられる硬化性樹脂としては、前述の多官能の（メタ）アクリレート、エポキシ系、オキセタン系の硬化性樹脂が挙げられる。本発明の硬化性樹脂は、（メタ）アクリレート等の重合により樹脂形成するも含んでいる。なかでも、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。さらに、多官能（メタ）アクリレートとしては、優れたハードコート性を有し、傷が付きにくいハードコート層を形成できることから、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを硬化性樹脂の全量に対して少なくとも１５質量％以上、特に２０〜８０質量％含むのが好ましい。
【０１２０】
さらに、ハードコート層の表面の凹凸を上記特定の範囲に調整するために、０．０１〜１μｍ、より好ましくは０．０１〜０．１μｍの平均粒径を有する粒子をさらに含むのが好ましい。
【０１２１】
同様に、ハードコート層の表面の凹凸を上記特定の範囲に調整するために、微粒子のハードコート層形成用インクにおける含有量は、硬化性樹脂１００質量部に対して、好ましくは５〜９００質量部、より好ましくは２００〜８００質量部とするのがよい。これにより、透明性が低下されずに適度な表面粗さを有するハードコート層を形成することができる。
【０１２２】
さらに、同様に、ハードコート層の表面の凹凸を上記特定の範囲に調整するために、ハードコート層形成用インクは、硬化性樹脂、前述の光重合開始剤及び微粒子の他に、さらに溶剤を含んでいることが好ましい。これにより、ハードコート層形成用インクの粘度を容易に調整することができる。
【０１２３】
このような溶剤としては、電磁波シールド層を形成するための導電性インクに用いられるものと同様のものが用いられる。溶剤の濃度は、通常は８０質量％以下であり、好ましくは１０〜７０質量％である。
【０１２４】
溶剤としては、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール等のアルコール；メチルエチルケト、イソブチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル；エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルカルビトール）、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のアルキルエーテル；トルエン、キシレン等の芳香族溶剤を挙げることができる。
【０１２５】
ハードコート層形成用インクには、さらに必要に応じて、増感剤、消泡剤、レべリング剤、酸化防止剤など、公知の各種添加剤を含んでいてもよい。
【０１２６】
ハードコート層形成用インクを積層体上に塗布するには、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、スプレーコート法、エクストルージョンコート法、カーテンコート法、ディップコート法、スピンコート法、グラビアコート法など、公知の塗布方法を用いて行えばよい。
【０１２７】
電磁波シールド層上に塗布したハードコート層形成用インクは、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。
【０１２８】
乾燥は、通常は、室温〜２５０℃程度で行えばよい。また、紫外線を照射する場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。
【０１２９】
また、ハードコート層上に低屈折率層を形成する場合には、０．００１〜２μｍの平均粒径を有する粒子に代えて、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3、シリカ、フッ素樹脂などの粒子を用いる以外は、上述したハードコート層の形成方法と同様の方法を用いて行えばよい。
【実施例】
【０１３０】
以下、本発明を実施例により説明する。本発明は、以下の実施例により制限されるものではない。
［実施例１］
１．メッシュ状電磁波シールド層上へのハードコート層の作製
ＰＥＴフィルム（厚さ２５０μｍ、Ｓグレード；（株）帝人製）上に、平均高さが３．３μｍ、ピッチが１６５μｍの銅箔の印刷メッシュを有するメッシュ状電磁波シールド層シートを用意した。
【０１３１】
下記組成を有するハードコート層形成用インク（固形分濃度：４０質量％；粘度：２５℃、１００ｃＰ）を、電磁波シールド層が形成されたＰＥＴフィルム上にバーコータを用いて厚さが約１２μｍとなるように塗布し、８０℃のオーブン中で１分間乾燥させた後、積算光量２４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射させて硬化させた。これにより積層体上にハードコート層（厚さ６．９μｍ）を有するディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１３２】
（ハードコート層形成用インクの組成）
２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート ６０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ４０質量部
ＴｉＯ2粒子（平均粒径０．１μｍ） １０質量部
重合開始剤（イルカギュア１８４、チバスペシャリティケミカル社製） ７質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ５０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １００質量部
シクロヘキサノン（ＣＡＮ） ２５質量部
【０１３３】
［実施例２］
ハードコート層形成用インクにおいて、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレートの代わりにエトキシ付加トリメチロールプロパントリアクリレート（エチレンオキシド付加数：３モル）を同量用い、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃において１１０ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルタを作製した。
【０１３４】
［実施例３］
ハードコート層形成用インクとして、下記の組成のものを使用し、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃において１３０ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１３５】
（ハードコート層形成用インクの組成）
２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート ３３質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート ５０質量部
３−アミノプロピルメトキシシラン １７質量部
ＴｉＯ2粒子（平均粒径０．１μｍ） １０質量部
重合開始剤（イルカギュア１８４、チバスペシャリティケミカル社製） ７質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ５０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １００質量部
シクロヘキサノン（ＣＡＮ） ２５質量部
【０１３６】
［実施例４］
ハードコート層形成用インクとして、下記の組成のものを使用し、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃において１４５ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１３７】
（ハードコート層形成用インクの組成）
トリメチロールプロパントリアクリレート ５０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ５０質量部
ＴｉＯ2粒子（平均粒径０．１μｍ） １００質量部
重合開始剤（イルカギュア１８４、チバスペシャリティケミカル社製） ６質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ５０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １００質量部
シクロヘキサノン（ＣＡＮ） ２５質量部
【０１３８】
［実施例５］
メッシュ状電磁波シールド層シートとして、ＰＥＴフィルム（厚さ２５０μｍ、Ｓグレード；（株）帝人製）上に、平均高さが３．０μｍ、ピッチが３００μｍの銅箔の印刷メッシュを有するメッシュ状電磁波シールド層シートを用い、ハードコート層形成用インクにおいて、溶剤量を同比率で増やして、固形分濃度を２２質量％とし、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃において７０ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルタを作製した。
【０１３９】
［比較例１］
ハードコート層形成用インクとして、下記の組成のものを使用し、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃において１５０ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作製した。
（ハードコート層形成用インクの組成）
２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート ５質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ９０質量部
ＴｉＯ2粒子（平均粒径０．１μｍ） ５０質量部
重合開始剤（イルカギュア１８４、チバスペシャリティケミカル社製） ７質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ５０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １００質量部
シクロヘキサノン（ＣＡＮ） ２５質量部
【０１４０】
［比較例２］
ハードコート層形成用インクとして、下記の組成のものを使用し、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃において１２０ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１４１】
（ハードコート層形成用インクの組成）
トリメチロールプロパントリアクリレート ５０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ５０質量部
ＴｉＯ2粒子（平均粒径０．１μｍ） １２０質量部
重合開始剤（イルカギュア１８４、チバスペシャリティケミカル社製） ７質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ５０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １００質量部
シクロヘキサノン（ＣＡＮ） ２５質量部
【０１４２】
［比較例３］
ハードコート層形成用インクとして、下記の組成のものを使用し、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃において１００ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１４３】
（ハードコート層形成用インクの組成）
エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート ５０質量部
ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート ５０質量部
ＴｉＯ2粒子（平均粒径０．１μｍ） ７０質量部
重合開始剤（イルカギュア１８４、チバスペシャリティケミカル社製） ７質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ５０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １００質量部
カルビトールアセテート（ＣＡＮ） ２５質量部
【０１４４】
［比較例４］
ハードコート層形成用インクとして、下記の組成のものを使用し（固形分濃度１２質量％）、ハードコート層形成用インクの粘度を２５℃において７０ｃＰとした以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１４５】
（ハードコート層形成用インクの組成）
ポリプロピレングリコール＃２００ジアクリレート ５０質量部
ネオペンチルグリコールジアクリレート ５０質量部
ＴｉＯ2粒子（平均粒径０．１μｍ） ０質量部
重合開始剤（イルカギュア１８４、チバスペシャリティケミカル社製） ７質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ） ２２２質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） ４４４質量部
シクロヘキサノン（ＣＡＮ） １１１質量部
【０１４６】
［比較例５］
メッシュ状電磁波シールド層シートとして、ＰＥＴフィルム（厚さ２５０μｍ、Ｓグレード；（株）帝人製）上に、平均高さが３．０μｍ、ピッチが３００μｍの銅箔の印刷メッシュを有するメッシュ状電磁波シールド層シートを用いた以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを作製した。
【０１４７】
［測定方法］
１．ハードコート層形成用インクの粘度の測定
粘度測定装置（Ｂｏｈｌｉｎ社製、レオメーターＣＶＯ１２０）に、ハードコート層形成用インクを載せ、２５℃で保持しながら粘度の測定を行った。測定条件は、コーン直径２０ｍｍ、コーンの傾斜確度１°、ギャップ３０ミクロン、シアーストレス１Ｐａとした。
【０１４８】
［光学フィルタの評価］
２．ハードコート層の厚さの測定
ハードコート層の厚さは、ディスプレイ用フィルタの断面を走査型電子顕微鏡を用いて撮影し、ハードコート層の厚さを測定した。
【０１４９】
３．表面形状の測定（図１におけるＡＨ，ＢＨ，凹部領域Ａの幅）
得られた光学フィルタのハードコート層における凸部領域Ｂと凹部領域Ａとの透明基板表面から各領域表面までの高さ（ＢＨ，ＡＨ；図１参照）、凹部領域Ａの幅（ＡＬ）は、表面粗さ計（商品名：サーフコム４８０Ａ；東京精密（株）製）を用いてＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１ に従って測定することによる得た断面曲線から求めた。なお、測定長さは２ｍｍで行った。
【０１５０】
４．電磁波シールド層のメッシュ間距離（Ｖ）
ディスプレイ用フィルタの断面を走査型電子顕微鏡を用いて撮影し、電磁波シールド層のメッシュ間距離（Ｖ）を測定した。
【０１５１】
５．ハードコート層の鉛筆硬度の測定
ＪＩＳ Ｋ ５４００の鉛筆引っ掻き試験方法に従って評価した。
【０１５２】
６．光学フィルタのヘイズの測定
ディスプレイ用フィルタの小片（５０×５０ｍｍ）を３個切りとり、濁度計（ＮＤＨ２０００、日本電色（株）製）を用いてヘイズ値を測定し、その各平均値を求めた。
【０１５３】
７．ディスプレイ用フィルタの防眩性の評価
ディスプレイ用フィルタに対して距離２ｍ、斜め前３０に配置した蛍光灯（８０００ｃｄ／ｃｍ2）を、ハードコート層表面に映し、その反射像を目視により以下の基準で評価した。
【０１５４】
○：蛍光灯の輪郭がほとんどわからない
△：蛍光灯の輪郭がぼやけ、わずかにわかる
×：蛍光灯の輪郭がはっきりとわかる
得られた結果を表１に示す。
【０１５５】
【表１】
【０１５６】
Ｖ：メッシュ間距離
ＡＬ：メッシュ間距離に対応する凹部領域の幅
Ｈ：ＢＨ−ＡＨ
ＡＨ：凹部領域の中心に位置における透明基板表面から表面までの高さ
ＢＨ：凸部領域の透明基板表面から表面までの最大高さ
【図面の簡単な説明】
【０１５７】
【図１】本発明の光学フィルタの概略断面図である。
【図２】図１の光学フィルタの部分平面図である。
【符号の説明】
【０１５８】
１１ 透明基板
１２ 電磁波シールド層
１３ ハードコート層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板、その表面に設けられたメッシュ状の電磁波シールド層、及び電磁波シールド層の表面に形成されたハードコート層とを含む光学フィルタにおいて、
ハードコート層が、メッシュ状の電磁波シールド層のメッシュ部分に対応する凸部領域、メッシュ間に対応する凹部領域からなり、凹部領域の中心における透明基板表面から表面までの高さと、この凹部領域と隣接する凸部領域の透明基板表面から表面までの高さとの差が０．１μｍを超えており、さらに凹部領域における透明基板表面からその表面までの高さの分布が、凹部領域の中心における透明基板表面からその表面までの高さから±０．１μｍの範囲内にあることを特徴とする光学フィルタ。
【請求項２】
凸部領域と凹部領域との各領域の透明基板表面から表面までの高さ差が、０．３〜１．５μｍの範囲である請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項３】
凸部領域と凹部領域との各領域の透明基板表面から表面までの高さ差が、０．５〜０．９μｍの範囲である請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項４】
電磁波シールド層のメッシュ間距離に対する該メッシュ間に対応する凹部領域の幅の比が、０．５〜１．０の範囲にある請求項１又は２に記載の光学フィルタ。
【請求項５】
凹部領域と隣接する凸部領域の高さが、凸部領域に隣接する両側の凹部領域の中心を通る線上において定められる請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項６】
ハードコート層が、硬化性樹脂中に平均粒径が０．０１〜１μｍの微粒子が分散した硬化層からなることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項７】
硬化性樹脂が、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを、硬化性樹脂の全量に対して少なくとも１５質量％含む請求項６に記載の光学フィルタ。
【請求項８】
ハードコート層における微粒子の含有量が硬化性樹脂１００質量部に対して５〜９００質量部の範囲にある請求項６又は７に記載の光学フィルタ。
【請求項９】
微粒子が、ＩＴＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、ＬａＯ2及びＨｏ2Ｏ3よりなる群から選択される少なくとも一種の金属酸化物微粒子である請求項６〜８のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１０】
ハードコート層の厚さが、３〜１０μｍである請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１１】
ハードコート層上にさらに低屈折率層が設けられている請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１２】
透明基板のハードコート層が設けられていない表面に、近赤外線吸収層が設けられている請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１３】
近赤外線吸収層上に、さらに透明粘着層が設けられている請求項１２に記載の光学フィルタ。
【請求項１４】
ヘイズが７％以下である請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１５】
透明基板がプラスチックフィルムである請求項１〜１４のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１６】
ディスプレイパネル用フィルタである請求項１〜１５のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１７】
プラズマディスプレイパネル用フィルタである請求項１〜１５のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１８】
請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の光学フィルタが、透明粘着剤層によりガラス板の貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１９】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ。
【請求項２０】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２１】
透明基板及びその表面に設けられたメッシュ状電磁波シールド層を有する積層体の当該電磁波シールド層の表面上に、硬化性樹脂を含むハードコート層形成用インクを塗布、硬化させることにより、ハードコート層を形成する工程を含み、
形成されたハードコート層が、メッシュ状の電磁波シールド層のメッシュ部分に対応する凸部領域、メッシュ間に対応する凹部領域からなり、凹部領域の中心における透明基板表面から表面までの高さと、この凹部領域と隣接する凸部領域の透明基板表面から表面までの高さとの差が０．１μｍを超えており、さらに凹部領域における透明基板表面からその表面までの高さの分布が、凹部領域の中心における透明基板表面からその表面までの高さから±０．１μｍの範囲内にあることを特徴とする光学フィルタの製造方法。
【請求項２２】
ハードコート層形成用インクの粘度が、２５℃において５０〜２０００ｃＰである請求項２１に記載の製造方法。
【請求項２３】
硬化性樹脂として、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを、硬化性樹脂の全量に対して少なくとも１５質量％含む請求項２１又は２２に記載の製造方法。
【請求項２４】
ハードコート層形成用インクが、０．０１〜１μｍの平均粒径を有する微粒子をさらに含むことを特徴とする請求項２１〜２３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２５】
微粒子の含有量が硬化性樹脂１００質量部に対して５〜９００質量部である請求項２４に記載の製造方法。
【請求項１】
透明基板、その表面に設けられたメッシュ状の電磁波シールド層、及び電磁波シールド層の表面に形成されたハードコート層とを含む光学フィルタにおいて、
ハードコート層が、メッシュ状の電磁波シールド層のメッシュ部分に対応する凸部領域、メッシュ間に対応する凹部領域からなり、凹部領域の中心における透明基板表面から表面までの高さと、この凹部領域と隣接する凸部領域の透明基板表面から表面までの高さとの差が０．１μｍを超えており、さらに凹部領域における透明基板表面からその表面までの高さの分布が、凹部領域の中心における透明基板表面からその表面までの高さから±０．１μｍの範囲内にあることを特徴とする光学フィルタ。
【請求項２】
凸部領域と凹部領域との各領域の透明基板表面から表面までの高さ差が、０．３〜１．５μｍの範囲である請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項３】
凸部領域と凹部領域との各領域の透明基板表面から表面までの高さ差が、０．５〜０．９μｍの範囲である請求項１に記載の光学フィルタ。
【請求項４】
電磁波シールド層のメッシュ間距離に対する該メッシュ間に対応する凹部領域の幅の比が、０．５〜１．０の範囲にある請求項１又は２に記載の光学フィルタ。
【請求項５】
凹部領域と隣接する凸部領域の高さが、凸部領域に隣接する両側の凹部領域の中心を通る線上において定められる請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項６】
ハードコート層が、硬化性樹脂中に平均粒径が０．０１〜１μｍの微粒子が分散した硬化層からなることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項７】
硬化性樹脂が、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを、硬化性樹脂の全量に対して少なくとも１５質量％含む請求項６に記載の光学フィルタ。
【請求項８】
ハードコート層における微粒子の含有量が硬化性樹脂１００質量部に対して５〜９００質量部の範囲にある請求項６又は７に記載の光学フィルタ。
【請求項９】
微粒子が、ＩＴＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、ＬａＯ2及びＨｏ2Ｏ3よりなる群から選択される少なくとも一種の金属酸化物微粒子である請求項６〜８のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１０】
ハードコート層の厚さが、３〜１０μｍである請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１１】
ハードコート層上にさらに低屈折率層が設けられている請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１２】
透明基板のハードコート層が設けられていない表面に、近赤外線吸収層が設けられている請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１３】
近赤外線吸収層上に、さらに透明粘着層が設けられている請求項１２に記載の光学フィルタ。
【請求項１４】
ヘイズが７％以下である請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１５】
透明基板がプラスチックフィルムである請求項１〜１４のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１６】
ディスプレイパネル用フィルタである請求項１〜１５のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１７】
プラズマディスプレイパネル用フィルタである請求項１〜１５のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１８】
請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の光学フィルタが、透明粘着剤層によりガラス板の貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１９】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ。
【請求項２０】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２１】
透明基板及びその表面に設けられたメッシュ状電磁波シールド層を有する積層体の当該電磁波シールド層の表面上に、硬化性樹脂を含むハードコート層形成用インクを塗布、硬化させることにより、ハードコート層を形成する工程を含み、
形成されたハードコート層が、メッシュ状の電磁波シールド層のメッシュ部分に対応する凸部領域、メッシュ間に対応する凹部領域からなり、凹部領域の中心における透明基板表面から表面までの高さと、この凹部領域と隣接する凸部領域の透明基板表面から表面までの高さとの差が０．１μｍを超えており、さらに凹部領域における透明基板表面からその表面までの高さの分布が、凹部領域の中心における透明基板表面からその表面までの高さから±０．１μｍの範囲内にあることを特徴とする光学フィルタの製造方法。
【請求項２２】
ハードコート層形成用インクの粘度が、２５℃において５０〜２０００ｃＰである請求項２１に記載の製造方法。
【請求項２３】
硬化性樹脂として、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを、硬化性樹脂の全量に対して少なくとも１５質量％含む請求項２１又は２２に記載の製造方法。
【請求項２４】
ハードコート層形成用インクが、０．０１〜１μｍの平均粒径を有する微粒子をさらに含むことを特徴とする請求項２１〜２３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２５】
微粒子の含有量が硬化性樹脂１００質量部に対して５〜９００質量部である請求項２４に記載の製造方法。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２００８−２１６７７０（Ｐ２００８−２１６７７０Ａ）
【公開日】平成２０年９月１８日（２００８．９．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−５５７６４（Ｐ２００７−５５７６４）
【出願日】平成１９年３月６日（２００７．３．６）
【出願人】（０００００５２７８）株式会社ブリヂストン (11,469)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年９月１８日（２００８．９．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年３月６日（２００７．３．６）
【出願人】（０００００５２７８）株式会社ブリヂストン (11,469)
【Ｆターム（参考）】
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