ノズル洗浄装置
【課題】 長期間に亘ってノズルを十分清浄に洗浄することが可能なノズル洗浄装置を提供すること。
【解決手段】 洗浄ブロック６１は、一対の飛散防止版７３と、不活性ガス噴出用スリット７７、７８を備えた４個の不活性ガス噴出用ブロック７５と、仕切板７４と、支持部材に支持された下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１と、第１ノズル８７、第２ノズル８４および第３ノズル８５、８６を支持する一対のノズル用ブロック７６とを備える。洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときには、下面洗浄ブラシ８２はスリットノズルの下端部下面と、右側面洗浄ブラシ８３はスリットノズルの長手方向に向かって下端部右側面と、左側面洗浄ブラシ８１はスリットノズルの長手方向に向かって下端部左側面と、各々、当接可能な位置に配置されている。
【解決手段】 洗浄ブロック６１は、一対の飛散防止版７３と、不活性ガス噴出用スリット７７、７８を備えた４個の不活性ガス噴出用ブロック７５と、仕切板７４と、支持部材に支持された下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１と、第１ノズル８７、第２ノズル８４および第３ノズル８５、８６を支持する一対のノズル用ブロック７６とを備える。洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときには、下面洗浄ブラシ８２はスリットノズルの下端部下面と、右側面洗浄ブラシ８３はスリットノズルの長手方向に向かって下端部右側面と、左側面洗浄ブラシ８１はスリットノズルの長手方向に向かって下端部左側面と、各々、当接可能な位置に配置されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、長尺のスリットノズルの下端部に形成されたスリット状の吐出口から処理液を吐出する処理液供給ノズルを洗浄するためのノズル洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板あるいは半導体製造装置用マスク基板等の基板に対してフォトレジスト等の処理液を塗布する塗布装置においては、長尺のスリットノズルの下端部に形成されたスリット状の吐出口から処理液を吐出することにより、基板の表面に処理液を塗布している。この塗布装置においては、処理液の塗布により汚染したノズルを、ノズル洗浄装置により洗浄する構成となっている。
【０００３】
このようなノズル洗浄装置としては、例えば、特許文献１に記載されたように、ノズルの下端部に洗浄液を供給してノズルを洗浄するノズル洗浄装置が使用されている。
【０００４】
また、特許文献２に記載されたように、洗浄液を供給した多孔質材料よりなる払拭部材を利用してノズルを洗浄するノズル洗浄装置も提案されている。
【特許文献１】特開２００５−２６２１２７号公報
【特許文献２】特開２００４−１２２０６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載されたように、洗浄液のみによりノズルを洗浄する構成を採用した場合には、処理液の種類によってはノズルを十分に洗浄できない場合がある。また、特許文献２に記載されたように多孔質材料よりなる払拭部材を使用した場合には、払拭部材がノズルとの接触により損傷するという問題が生ずる。
【０００６】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、長期間に亘ってノズルを十分清浄に洗浄することが可能なノズル洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、長尺のスリットノズルの下端部に形成されたスリット状の吐出口から処理液を吐出する処理液供給ノズルを洗浄するためのノズル洗浄装置であって、前記スリットノズルの下端部下面に当接可能な下面洗浄部材と、前記スリットノズルの長手方向に向かって下端部右側面に当接可能な右側面洗浄部材と、前記スリットノズルの長手方向に対して前記右側面洗浄部材とは異なる位置に配設され、前記スリットノズルの長手方向に向かって下端部左側面に当接可能な左側面洗浄部材と、を有する洗浄ブロックと、前記洗浄ブロックを、前記下面洗浄部材、前記右側面洗浄部材および前記左側面洗浄部材によりスリットノズルの下端部を洗浄しながら移動する洗浄領域と、前記下面洗浄部材、右側面洗浄部材および左側面洗浄部材がスリットノズルから離隔した待機位置との間で往復移動させる移動機構と、前記洗浄ブロックが前記洗浄領域に配置されたときに前記洗浄ブロックにおける前記スリットノズルを挟んで前記右側面洗浄部材と対向する位置に配設され、前記右側面洗浄部材に向けて洗浄液を吐出可能な第１ノズルと、前記洗浄ブロックが前記洗浄領域に配置されたときに前記洗浄ブロックにおける前記スリットノズルを挟んで前記左側面洗浄部材と対向する位置に配設され、前記左側面洗浄部材に向けて洗浄液を吐出可能な第２ノズルと、洗浄ブロックが前記洗浄領域を移動しているときと、洗浄ブロックが前記待機位置に配置されたときに、前記第１ノズルおよび前記第２ノズルに洗浄液を供給する洗浄液供給部とを備えたことを特徴とする。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記下面洗浄部材に向けて洗浄液を吐出可能な第３ノズルをさらに有し、前記洗浄液供給部は、洗浄ブロックが前記洗浄領域を移動しているときと、洗浄ブロックが前記待機位置に配置されたときに、前記第３ノズルに洗浄液を供給する。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の発明において、前記洗浄ブロックにおける前記右側面洗浄部材の移動方向の後ろ側に配置され、前記右側面洗浄部材により洗浄された前記スリットノズルの下端部右側面に気体を噴出する右側面用気体噴出手段と、前記洗浄ブロックにおける前記左側面洗浄部材の移動方向の後ろ側に配置され、前記左側面洗浄部材により洗浄された前記スリットノズルの下端部左側面に気体を噴出する左側面用気体噴出手段とをさらに備える。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の発明において、前記右側面用気体噴出手段と前記左側面用気体噴出手段とは、各々、前記スリットノズルの下端部に向けて気体を噴出するスリット状の気体噴出孔を有する。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の発明において、前記洗浄ブロックが前記待機位置に移動したときに、前記洗浄ブロックの上部を覆う洗浄液の飛散防止カバーをさらに備える。
【００１２】
請求項６請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の発明において、前記下面洗浄部材、右側面洗浄部材および左側面洗浄部材は、ブラシである。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１に記載の発明によれば、洗浄ブロックが洗浄領域を移動しているときに、スリットノズルを下面洗浄部材、右側面洗浄部材および左側面洗浄部材により十分清浄に洗浄することができ、また、洗浄ブロックが待機位置に配置されたときに、洗浄液により下面洗浄部材、右側面洗浄部材および左側面洗浄部材を洗浄することができる。このとき、右側面洗浄部材と左側面洗浄部材とがスリットノズルの長手方向に対して異なる位置に配設されていることから、第１ノズルから吐出された洗浄液と記第２ノズルから吐出された洗浄液とが衝突することを防止することができる。
【００１４】
請求項２に記載の発明によれば、第１ノズルおよび第２ノズルから吐出された洗浄液が下面洗浄部材に十分に到達しない場合においても、下面洗浄部材を十分に洗浄することが可能となる。
【００１５】
請求項３に記載の発明によれば、ノズルの下端部に付着した洗浄液を気体により除去することが可能となる。
【００１６】
請求項４に記載の発明によれば、ノズルの下端部に付着した洗浄液をより十分にスリット状の気体により除去することが可能となる。
【００１７】
請求項５に記載の発明によれば、待機位置において洗浄液により下面洗浄部材、右側面洗浄部材および左側面洗浄部材を洗浄するときに、洗浄液が外部に飛散することを有効に防止することが可能となる。
【００１８】
請求項６に記載の発明によれば、スリットノズルをブラシにより十分に洗浄することが可能となり、また、その寿命を長期とすることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１はこの発明に係るノズル洗浄装置を適用する塗布装置の斜視図であり、図２はその側面図である。なお、図１においては、プリディスペンス機構２およびノズル洗浄装置６等の図示を省略している。また、図２においては、キャリッジ４等の図示を省略している。
【００２０】
この塗布装置は、矩形状をなす液晶パネル用のガラス基板（以下「基板」という）Ｗに、例えば、カラーレジストと呼称される顔料を含むレジストを塗布するためのものである。
【００２１】
この塗布装置は、基板Ｗを保持するためのステージ３を備える。このステージ３は、直方体形状を有する石製であり、その上面は水平面とされており、基板Ｗの保持面３０となっている。保持面３０には図示しない多数の真空吸着口が分布して形成されており、塗布装置において基板Ｗを吸着保持する構成となっている。また、図１において模式的に示すように、保持面３０には、図示しない駆動手段によって上下に昇降自在な複数のリフトピン３９が、適宜の間隔をおいて設けられている。このリフトピン３９は、基板Ｗの搬入、搬出時に、基板Ｗをその下方より支持して、ステージ３の表面より上方に上昇させる。
【００２２】
ステージ３の上方には、このステージ３の両側部分から略水平に掛け渡されたキャリッジ４が設けられている。このキャリッジ４は、スリットノズル４１を支持するためのノズル支持部４０と、このノズル支持部４０の両端を支持する左右一対の昇降機構４３とを備える。また、ステージ３の両端部には、略水平方向に平行に伸びる一対の走行レール３１が配設される。これらの走行レール３１は、キャリッジ４の両端部をガイドすることにより、キャリッジ４を、図１に示すＸ方向に往復移動させる。
【００２３】
ステージ３およびキャリッジ４の両側部分には、ステージ３の両側の縁側に沿って、それぞれ固定子（ステータ）５０ａと移動子５０ｂを備える一対のＡＣコアレスリニアモータ（以下、単に、「リニアモータ」と略する。）５０が固設される。また、ステージ３およびキャリッジ４の両側部分には、それぞれスケール部と検出子とを備えた一対のリニアエンコーダ５２が固設される。リニアエンコーダ５２は、キャリッジ４の位置を検出する。
【００２４】
図２に示すように、ステージ３における保持面３０の側方には、プリディスペンス機構２が配設されている。このプリディスペンス機構２は、貯留槽２１内に貯留された洗浄液中にその一部を浸漬したプリディスペンスローラ２２と、ドクターブレード２３とを備える。プリディスペンスローラ２２とドクターブレード２３とは、Ｙ方向に対して、スリットノズル４１と同等以上の長さを有する。また、プリディスペンスローラ２２は、図示しないモータの駆動により回転する。
【００２５】
この塗布装置においては、処理動作を実行する前に、プリディスペンスローラ２２の上方に移動したスリットノズル４１から少量のレジストを吐出することにより、後述するノズル洗浄工程において洗浄液を含有したレジストをスリットノズル４１内から除去する工程を実行するようにしている。
【００２６】
図２に示すように、ステージ３における保持面３０の側方には、この発明に係るノズル洗浄装置６が配設されている。このノズル洗浄装置６は、洗浄ブロック６１と待機ポッド６２とを備える。なお、このノズル洗浄装置６の構成については、後述する。
【００２７】
図３はスリットノズル４１によるレジストの供給動作を模式的に示す説明図であり、図４はスリットノズル４１を一部破断して示す正面図である。
【００２８】
このスリットノズル４１は、その長手方向（図３における紙面に垂直な方向／図４における左右方向）に延びるスリット状の吐出口４４を有する。この吐出口４４の長手方向の長さは、基板Ｗにおける矩形状の素子形成部分の短辺の長さ以上の長さである。レジスト供給配管４６により供給されたレジスト４５は、図３に示すように、このスリット状の吐出口４４を介して基板Ｗの表面に供給される。
【００２９】
塗布装置により基板Ｗにレジストを塗布する塗布動作について説明する。レジストの塗布動作を実行する前の状態においては、スリットノズル４１は、この発明に係るノズル洗浄装置６と対向する位置に配置されている。このときのスリットノズル４１等の状態については、後程詳細に説明する。
【００３０】
この状態において、レジストの塗布動作を開始するときには、ノズル洗浄装置６上方にスリットノズル４１を待機させた状態から、スリットノズル４１をプリディスペンス機構２の上部まで移動させ、プリディスペンス動作を実行させる。
【００３１】
次に、スリットノズル４１を基板Ｗの一端上方まで水平移動させた後、左右一対の昇降機構により、スリットノズル４１を基板Ｗへの塗布位置に配置する。このとき基板Ｗ表面とスリットノズル４１の吐出口４４との間隔は、レジストの塗布に適した所定の値となっている。
【００３２】
この状態において、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４からレジストを吐出させるとともに、スリットノズル４１を基板Ｗの表面に沿って水平移動させる。この状態においては、図３に示すように、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４から吐出されたレジスト４５が基板Ｗの表面に薄膜状に塗布される。
【００３３】
スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４が基板Ｗの他端部と対向する位置まで移動すれば、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４からのレジストの吐出を停止させ、スリットノズル４１をノズル洗浄装置６の上方にまで移動させる。しかる後、後述するノズル洗浄工程を実行する。
【００３４】
次に、この発明に係るノズル洗浄装置６の構成について説明する。図５は、この発明に係るノズル洗浄装置６をスリットノズル４１とともに示す側面図である。
【００３５】
このノズル洗浄装置６は、上述したスリットノズル４１と平行に配設されたレール６３に沿って移動可能なブラケット６４と、このブラケット６４と連結された同期ベルト６５を往復回転させることによりブラケット６４をスリットノズル４１と平行に往復移動させるモータ６６と、ブラケット６４の上方に配設された上述した洗浄ブロック６１とを備える。この洗浄ブロック６１は、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４付近を払拭するためのものである。この洗浄ブロック６１は、モータ６６の駆動により、図５において実線で示す位置と二点鎖線で示す位置との間を往復移動する。
【００３６】
ここで、図５において実線で示す位置は、後述する下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１がスリットノズル４１から離隔した待機位置である。また、図５におけるこの待機位置の右側の位置は、下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１によりスリットノズル４１の下端部を洗浄する洗浄領域である。なお、待機位置に移動した洗浄ブロック６１の上方には、飛散防止カバー７１が配設されている。
【００３７】
一方、待機ポッド６２は、レジストを塗布しない状態において、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４付近のレジストが乾燥して変質することを防止するためのものである。この待機ポッド６２の内部には、例えば、レジストを溶解する溶剤等が貯留されている。この待機ポッド６２は、エアシリンダ６７の駆動により、図５において二点鎖線で示すその上端の開口部がスリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４と対向する上昇位置と、実線で示す下降位置との間を昇降可能な構成となっている。このため、スリットノズル４１をノズル洗浄装置６の上方に待機させた状態で待機ポッド６２が上昇位置をとると、スリットノズル４１の吐出口４４は待機ポッド６２によって閉じられた空間に露出することになる。このとき、該空間は溶剤の蒸気が含まれる雰囲気で満たされているので、吐出口４４付近のレジストが乾燥することが防止される。
【００３８】
次に、上述した洗浄ブロック６１の構成について説明する。図６は、洗浄ブロック６１の平面図である。また、図７は、この洗浄ブロック６１を分解して示す斜視図である。さらに、図８は、この洗浄ブロック６１によりスリットノズル４１を洗浄する状態を示す概要図である。なお、図７においては、仕切板７４の図示を省略している。
【００３９】
この洗浄ブロック６１は、一対の飛散防止版７３と、不活性ガス噴出用スリット７７、７８を備えた４個の不活性ガス噴出用ブロック７５と、仕切板７４と、支持部材７９（図８参照）に支持された下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１と、第１ノズル８７、第２ノズル８４および第３ノズル８５、８６を支持する一対のノズル用ブロック７６とを備える。この洗浄ブロック６１は、支持アーム７２により支持されており、この洗浄ブロック６１の下方には、洗浄液等を回収するドレイン９６が配設されている。なお、上述した支持部材７９は、自動調芯用バネ部８０を介して支持アーム７２に固定されている。
【００４０】
図８に示すように、下面洗浄ブラシ８２は、洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときに、スリットノズル４１の下端部下面、すなわち、図３に示す吐出口４４が形成された領域に当接可能となっている。また、右側面洗浄ブラシ８３は、洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときに、スリットノズル４１の長手方向（洗浄ブロック６１の進行方向）に向かって下端部右側面に当接可能となっている。さらに、左側面洗浄ブラシ８１は、洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときに、スリットノズル４１の長手方向に向かって下端部左側面に当接可能となっている。
【００４１】
図９および図１０は、下面洗浄ブラシ８２の斜視図である。
【００４２】
下面洗浄ブラシ８２としては、図９に示すような直線状ブラシを使用してもよく、また、図１０に示すような埋め込み式ブラシを使用してもよい。一般的に、スリットノズル４１に付着したレジストがとれにくい場合には、図９に示す直線状ブラシを使用することが好ましい。また、耐久性を重視する場合には、図１０に示す埋め込み式ブラシを使用することが好ましい。ブラシ部の材質としては、耐溶剤性のあるフッ素樹脂系の素材を用いることが好ましい。このようなブラシ部を備えたブラシを使用することにより、特許文献２に記載されたような多孔質材料よりなる払拭部材を利用する場合に比べて、その耐久性を向上させることが可能となる。なお、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１も、この下面洗浄ブラシ８２と同様の構成を有する。
【００４３】
第１ノズル８７は、洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときに、スリットノズル４１を挟んで右側面洗浄ブラシ８３と対向する位置に配設されている。また、第２ノズル８４は、洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときに、スリットノズル４１を挟んで左側面洗浄ブラシ８１と対向する位置に配設されている。さらに、第３ノズル８５、８６は、下面洗浄ブラシ８２と対向する位置に配置されている。
【００４４】
図１１は、第１ノズル８７、第２ノズル８４および第３ノズル８５、８６による洗浄液の吐出状態を示す正面図であり、図１２はその平面図である。
【００４５】
第１ノズル８７は、右側洗浄ブラシ８３と下面洗浄ブラシ８２に向かって洗浄液を吐出する。第２ノズル８４は、左側洗浄ブラシ８１と下面洗浄ブラシ８２とに向かって洗浄液を吐出する。第３ノズル８５、８６は、下面洗浄ブラシ８２に向かって洗浄液を吐出する。図１２に示すように、これらの第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６は、互い違いに位置する千鳥状に配置されている。このため、これら第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出された洗浄液が互いに衝突してまわりに飛散することを有効に防止することができる。
【００４６】
なお、図８に示すように、洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときには、下面洗浄ブラシ８２はスリットノズル４１の下端部下面と、右側面洗浄ブラシ８３はスリットノズル４１の長手方向に向かって下端部右側面と、左側面洗浄ブラシ８１はスリットノズル４１の長手方向に向かって下端部左側面と、各々、当接可能な位置に配置されている。このため、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した洗浄液は、スリットノズル４１の下端部にも供給されることになる。
【００４７】
なお、図６に示すように、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６は、洗浄液供給部１００と接続されている。この洗浄液供給部１００は、ノズル洗浄装置の制御部からの指令を受け、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６への洗浄液の供給動作を制御する。なお、通常は、この洗浄液制御部１００から第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６に洗浄液を供給するが、スリットノズル４１の汚染度が高い場合等においては、洗浄液と不活性ガスが混合された混合流体を供給するようにしてもよい。
【００４８】
不活性ガス噴出用ブロック７５に形成された不活性ガス噴出用スリット７７、７８は、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から供給されスリットノズル４１の下端部に残存する処理液を、窒素ガスにより吹き飛ばすためのものである。洗浄ブロック６１が図６に示すＹ＋方向に移動するときには、不活性ガス噴出用スリット７７、７８のうち右側面用ブラシ８３と左側面用ブラシ８１の移動方向の後ろ側に位置する不活性ガス噴出用スリット７７、７８（図６におけるＹ−側の不活性ガス噴出用スリット７７、７８）のみが使用され、洗浄ブロック６１が図６に示すＹ−方向に移動するときには、不活性ガス噴出用スリット７７、７８のうち右側面用ブラシ８３と左側面用ブラシ８１の移動方向の後ろ側に位置する不活性ガス噴出用スリット７７、７８（図６におけるＹ＋側の不活性ガス噴出用スリット７７、７８）のみが使用される。
【００４９】
なお、上述した実施形態においては、不活性ガス噴出用ブロック７５に形成された不活性ガス噴出用スリット７７、７８は、その長手方向が洗浄ブロック６１の移動方向と直交する方向を向く形状となっている。しかしながら、図１３および図１４に示すように、スリットノズル４１の端縁の傾斜角θと、側面視において同一の傾斜角を有する不活性ガス噴出用スリット９１、９２を用いてもよい。この場合においては、スリットノズル４１の端縁付近における液切り作用を向上させることができる。
【００５０】
また、図１５に示すように、上述した不活性ガス噴出用スリット７７、７８、９１、９２に加え、スリットノズル４１の先端部以外の下面に向けて不活性ガスを噴出する不活性ガス噴出用ノズル９３を付設するようにしてもよい。
【００５１】
次に、上述した構成を有するノズル洗浄装置によるスリットノズル４１の洗浄動作について説明する。
【００５２】
スリットノズル４１の洗浄作業を開始するときには、洗浄ブロック６１は図５において実線で示す待機位置に配置されている。また、このときには、スリットノズル４１は、図１に示す昇降機構４３の作用により、その下端部と下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１とが離隔する位置に配置されている。
【００５３】
この状態において、洗浄液供給部１００の制御により第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から洗浄液を吐出させる。しかる後、昇降機構４３の作用によりスリットノズル４１を下降させ、スリットノズル４１の下端部と下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１とを当接させる。そして、この状態において、洗浄ブロック６１を図５に示す右方向（例えば図６におけるＹ＋方向）に移動させる。この状態においては、スリットノズル４１の下端部は、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した洗浄液と下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１との作用により、十分に洗浄される。
【００５４】
洗浄ブロック６１が洗浄領域の端部まで移動すれば、洗浄ブロック６１の移動を停止させる。そして、昇降機構４３の作用によりスリットノズル４１を上昇させ、スリットノズル４１の下端部と下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１とを離隔する。しかる後、洗浄ブロック６１を上記とは逆方向（図６におけるＹ−方向）に移動させる。これにより、スリットノズル４１の下端部は、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した洗浄液により、その仕上げの洗浄が実行される。
【００５５】
このときには、不活性ガス噴出用スリット７７、７８のうち右側面用ブラシ８３と左側面用ブラシ８１の移動方向の後ろ側に位置する不活性ガス噴出用スリット７７、７８から不活性ガスを噴出する。これにより、スリットノズル４１に残存する洗浄液が吹き飛ばされ、スリットノズル４１から除去される。
【００５６】
洗浄ブロック６１が図５において実線で示す待機位置に復帰すれば、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６からの洗浄液の吐出と、不活性ガス噴出用スリット７７、７８からの不活性ガスの噴出を停止する。
【００５７】
以上によりスリットノズル４１の洗浄動作が完了すれば、次に、下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１の洗浄を実行する。
【００５８】
洗浄ブロック６１が図５において実線で示す待機位置に復帰した状態においては、図５および図１６に示すように、洗浄ブロック６１の上方には飛散防止カバー７１が配置されている。この状態において、再度、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６からの洗浄液を吐出する。これにより図１１および図１２に示すように、下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１は、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した洗浄液により洗浄される。
【００５９】
なお、上述した実施例においては、洗浄ブロック６１が待機位置から移動するときに第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した洗浄液と下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１とを使用して洗浄を行い、洗浄ブロック６１が待機位置に戻るときに第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した洗浄液のみを使用した洗浄を行っている。しかしながら、スリットノズル４１をより確実に洗浄するためには、洗浄ブロック６１を複数回往復移動させながら、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した洗浄液と下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１とを使用して洗浄を行った後、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した洗浄液のみを使用して仕上げ洗浄を実行するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】この発明に係るノズル洗浄装置を適用する塗布装置の斜視図である。
【図２】この発明に係るノズル洗浄装置を適用する塗布装置の側面図である。
【図３】スリットノズル４１によるレジストの供給動作を模式的に示す説明図である。
【図４】スリットノズル４１を一部破断して示す正面図である。
【図５】この発明に係るノズル洗浄装置６をスリットノズル４１とともに示す側面図である。
【図６】洗浄ブロック６１の平面図である。
【図７】洗浄ブロック６１を分解して示す斜視図である。
【図８】洗浄ブロック６１によりスリットノズル４１を洗浄する状態を示す概要図である。
【図９】下面洗浄ブラシ８２の斜視図である。
【図１０】下面洗浄ブラシ８２の斜視図である。
【図１１】第１ノズル８７、第２ノズル８４および第３ノズル８５、８６による洗浄液の吐出状態を示す正面図である。
【図１２】第１ノズル８７、第２ノズル８４および第３ノズル８５、８６による洗浄液の吐出状態を示す平面図である。
【図１３】他の実施形態に係る不活性ガス噴出ブロックの斜視図である。
【図１４】スリットノズル４１の端縁の傾斜角θと不活性ガス噴出用スリット９１、９２との関係を示す説明図である。
【図１５】不活性ガス噴出用ノズル９３をスリットノズル４１とともに示す側面図である。
【図１６】洗浄ブロック６１の上方に配置された飛散防止カバー７１を示す説明図である。
【符号の説明】
【００６１】
６ ノズル洗浄装置
４１ スリットノズル
４４ 吐出口
６１ 洗浄ブロック
６２ 待機ポッド
７１ 飛散防止カバー
７３ 飛散防止版
７４ 仕切板
７９ 支持部材
８０ 自動調芯用バネ部
８１ 左側面洗浄ブラシ
８２ 下面洗浄ブラシ
８３ 右側面洗浄ブラシ
８４ 第２ノズル
８５ 第３ノズル
８６ 第３ノズル
８７ 第１ノズル
９６ ドレイン
１００ 洗浄液供給部
Ｗ 基板
【技術分野】
【０００１】
この発明は、長尺のスリットノズルの下端部に形成されたスリット状の吐出口から処理液を吐出する処理液供給ノズルを洗浄するためのノズル洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板あるいは半導体製造装置用マスク基板等の基板に対してフォトレジスト等の処理液を塗布する塗布装置においては、長尺のスリットノズルの下端部に形成されたスリット状の吐出口から処理液を吐出することにより、基板の表面に処理液を塗布している。この塗布装置においては、処理液の塗布により汚染したノズルを、ノズル洗浄装置により洗浄する構成となっている。
【０００３】
このようなノズル洗浄装置としては、例えば、特許文献１に記載されたように、ノズルの下端部に洗浄液を供給してノズルを洗浄するノズル洗浄装置が使用されている。
【０００４】
また、特許文献２に記載されたように、洗浄液を供給した多孔質材料よりなる払拭部材を利用してノズルを洗浄するノズル洗浄装置も提案されている。
【特許文献１】特開２００５−２６２１２７号公報
【特許文献２】特開２００４−１２２０６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載されたように、洗浄液のみによりノズルを洗浄する構成を採用した場合には、処理液の種類によってはノズルを十分に洗浄できない場合がある。また、特許文献２に記載されたように多孔質材料よりなる払拭部材を使用した場合には、払拭部材がノズルとの接触により損傷するという問題が生ずる。
【０００６】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、長期間に亘ってノズルを十分清浄に洗浄することが可能なノズル洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、長尺のスリットノズルの下端部に形成されたスリット状の吐出口から処理液を吐出する処理液供給ノズルを洗浄するためのノズル洗浄装置であって、前記スリットノズルの下端部下面に当接可能な下面洗浄部材と、前記スリットノズルの長手方向に向かって下端部右側面に当接可能な右側面洗浄部材と、前記スリットノズルの長手方向に対して前記右側面洗浄部材とは異なる位置に配設され、前記スリットノズルの長手方向に向かって下端部左側面に当接可能な左側面洗浄部材と、を有する洗浄ブロックと、前記洗浄ブロックを、前記下面洗浄部材、前記右側面洗浄部材および前記左側面洗浄部材によりスリットノズルの下端部を洗浄しながら移動する洗浄領域と、前記下面洗浄部材、右側面洗浄部材および左側面洗浄部材がスリットノズルから離隔した待機位置との間で往復移動させる移動機構と、前記洗浄ブロックが前記洗浄領域に配置されたときに前記洗浄ブロックにおける前記スリットノズルを挟んで前記右側面洗浄部材と対向する位置に配設され、前記右側面洗浄部材に向けて洗浄液を吐出可能な第１ノズルと、前記洗浄ブロックが前記洗浄領域に配置されたときに前記洗浄ブロックにおける前記スリットノズルを挟んで前記左側面洗浄部材と対向する位置に配設され、前記左側面洗浄部材に向けて洗浄液を吐出可能な第２ノズルと、洗浄ブロックが前記洗浄領域を移動しているときと、洗浄ブロックが前記待機位置に配置されたときに、前記第１ノズルおよび前記第２ノズルに洗浄液を供給する洗浄液供給部とを備えたことを特徴とする。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記下面洗浄部材に向けて洗浄液を吐出可能な第３ノズルをさらに有し、前記洗浄液供給部は、洗浄ブロックが前記洗浄領域を移動しているときと、洗浄ブロックが前記待機位置に配置されたときに、前記第３ノズルに洗浄液を供給する。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の発明において、前記洗浄ブロックにおける前記右側面洗浄部材の移動方向の後ろ側に配置され、前記右側面洗浄部材により洗浄された前記スリットノズルの下端部右側面に気体を噴出する右側面用気体噴出手段と、前記洗浄ブロックにおける前記左側面洗浄部材の移動方向の後ろ側に配置され、前記左側面洗浄部材により洗浄された前記スリットノズルの下端部左側面に気体を噴出する左側面用気体噴出手段とをさらに備える。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の発明において、前記右側面用気体噴出手段と前記左側面用気体噴出手段とは、各々、前記スリットノズルの下端部に向けて気体を噴出するスリット状の気体噴出孔を有する。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の発明において、前記洗浄ブロックが前記待機位置に移動したときに、前記洗浄ブロックの上部を覆う洗浄液の飛散防止カバーをさらに備える。
【００１２】
請求項６請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の発明において、前記下面洗浄部材、右側面洗浄部材および左側面洗浄部材は、ブラシである。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１に記載の発明によれば、洗浄ブロックが洗浄領域を移動しているときに、スリットノズルを下面洗浄部材、右側面洗浄部材および左側面洗浄部材により十分清浄に洗浄することができ、また、洗浄ブロックが待機位置に配置されたときに、洗浄液により下面洗浄部材、右側面洗浄部材および左側面洗浄部材を洗浄することができる。このとき、右側面洗浄部材と左側面洗浄部材とがスリットノズルの長手方向に対して異なる位置に配設されていることから、第１ノズルから吐出された洗浄液と記第２ノズルから吐出された洗浄液とが衝突することを防止することができる。
【００１４】
請求項２に記載の発明によれば、第１ノズルおよび第２ノズルから吐出された洗浄液が下面洗浄部材に十分に到達しない場合においても、下面洗浄部材を十分に洗浄することが可能となる。
【００１５】
請求項３に記載の発明によれば、ノズルの下端部に付着した洗浄液を気体により除去することが可能となる。
【００１６】
請求項４に記載の発明によれば、ノズルの下端部に付着した洗浄液をより十分にスリット状の気体により除去することが可能となる。
【００１７】
請求項５に記載の発明によれば、待機位置において洗浄液により下面洗浄部材、右側面洗浄部材および左側面洗浄部材を洗浄するときに、洗浄液が外部に飛散することを有効に防止することが可能となる。
【００１８】
請求項６に記載の発明によれば、スリットノズルをブラシにより十分に洗浄することが可能となり、また、その寿命を長期とすることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１はこの発明に係るノズル洗浄装置を適用する塗布装置の斜視図であり、図２はその側面図である。なお、図１においては、プリディスペンス機構２およびノズル洗浄装置６等の図示を省略している。また、図２においては、キャリッジ４等の図示を省略している。
【００２０】
この塗布装置は、矩形状をなす液晶パネル用のガラス基板（以下「基板」という）Ｗに、例えば、カラーレジストと呼称される顔料を含むレジストを塗布するためのものである。
【００２１】
この塗布装置は、基板Ｗを保持するためのステージ３を備える。このステージ３は、直方体形状を有する石製であり、その上面は水平面とされており、基板Ｗの保持面３０となっている。保持面３０には図示しない多数の真空吸着口が分布して形成されており、塗布装置において基板Ｗを吸着保持する構成となっている。また、図１において模式的に示すように、保持面３０には、図示しない駆動手段によって上下に昇降自在な複数のリフトピン３９が、適宜の間隔をおいて設けられている。このリフトピン３９は、基板Ｗの搬入、搬出時に、基板Ｗをその下方より支持して、ステージ３の表面より上方に上昇させる。
【００２２】
ステージ３の上方には、このステージ３の両側部分から略水平に掛け渡されたキャリッジ４が設けられている。このキャリッジ４は、スリットノズル４１を支持するためのノズル支持部４０と、このノズル支持部４０の両端を支持する左右一対の昇降機構４３とを備える。また、ステージ３の両端部には、略水平方向に平行に伸びる一対の走行レール３１が配設される。これらの走行レール３１は、キャリッジ４の両端部をガイドすることにより、キャリッジ４を、図１に示すＸ方向に往復移動させる。
【００２３】
ステージ３およびキャリッジ４の両側部分には、ステージ３の両側の縁側に沿って、それぞれ固定子（ステータ）５０ａと移動子５０ｂを備える一対のＡＣコアレスリニアモータ（以下、単に、「リニアモータ」と略する。）５０が固設される。また、ステージ３およびキャリッジ４の両側部分には、それぞれスケール部と検出子とを備えた一対のリニアエンコーダ５２が固設される。リニアエンコーダ５２は、キャリッジ４の位置を検出する。
【００２４】
図２に示すように、ステージ３における保持面３０の側方には、プリディスペンス機構２が配設されている。このプリディスペンス機構２は、貯留槽２１内に貯留された洗浄液中にその一部を浸漬したプリディスペンスローラ２２と、ドクターブレード２３とを備える。プリディスペンスローラ２２とドクターブレード２３とは、Ｙ方向に対して、スリットノズル４１と同等以上の長さを有する。また、プリディスペンスローラ２２は、図示しないモータの駆動により回転する。
【００２５】
この塗布装置においては、処理動作を実行する前に、プリディスペンスローラ２２の上方に移動したスリットノズル４１から少量のレジストを吐出することにより、後述するノズル洗浄工程において洗浄液を含有したレジストをスリットノズル４１内から除去する工程を実行するようにしている。
【００２６】
図２に示すように、ステージ３における保持面３０の側方には、この発明に係るノズル洗浄装置６が配設されている。このノズル洗浄装置６は、洗浄ブロック６１と待機ポッド６２とを備える。なお、このノズル洗浄装置６の構成については、後述する。
【００２７】
図３はスリットノズル４１によるレジストの供給動作を模式的に示す説明図であり、図４はスリットノズル４１を一部破断して示す正面図である。
【００２８】
このスリットノズル４１は、その長手方向（図３における紙面に垂直な方向／図４における左右方向）に延びるスリット状の吐出口４４を有する。この吐出口４４の長手方向の長さは、基板Ｗにおける矩形状の素子形成部分の短辺の長さ以上の長さである。レジスト供給配管４６により供給されたレジスト４５は、図３に示すように、このスリット状の吐出口４４を介して基板Ｗの表面に供給される。
【００２９】
塗布装置により基板Ｗにレジストを塗布する塗布動作について説明する。レジストの塗布動作を実行する前の状態においては、スリットノズル４１は、この発明に係るノズル洗浄装置６と対向する位置に配置されている。このときのスリットノズル４１等の状態については、後程詳細に説明する。
【００３０】
この状態において、レジストの塗布動作を開始するときには、ノズル洗浄装置６上方にスリットノズル４１を待機させた状態から、スリットノズル４１をプリディスペンス機構２の上部まで移動させ、プリディスペンス動作を実行させる。
【００３１】
次に、スリットノズル４１を基板Ｗの一端上方まで水平移動させた後、左右一対の昇降機構により、スリットノズル４１を基板Ｗへの塗布位置に配置する。このとき基板Ｗ表面とスリットノズル４１の吐出口４４との間隔は、レジストの塗布に適した所定の値となっている。
【００３２】
この状態において、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４からレジストを吐出させるとともに、スリットノズル４１を基板Ｗの表面に沿って水平移動させる。この状態においては、図３に示すように、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４から吐出されたレジスト４５が基板Ｗの表面に薄膜状に塗布される。
【００３３】
スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４が基板Ｗの他端部と対向する位置まで移動すれば、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４からのレジストの吐出を停止させ、スリットノズル４１をノズル洗浄装置６の上方にまで移動させる。しかる後、後述するノズル洗浄工程を実行する。
【００３４】
次に、この発明に係るノズル洗浄装置６の構成について説明する。図５は、この発明に係るノズル洗浄装置６をスリットノズル４１とともに示す側面図である。
【００３５】
このノズル洗浄装置６は、上述したスリットノズル４１と平行に配設されたレール６３に沿って移動可能なブラケット６４と、このブラケット６４と連結された同期ベルト６５を往復回転させることによりブラケット６４をスリットノズル４１と平行に往復移動させるモータ６６と、ブラケット６４の上方に配設された上述した洗浄ブロック６１とを備える。この洗浄ブロック６１は、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４付近を払拭するためのものである。この洗浄ブロック６１は、モータ６６の駆動により、図５において実線で示す位置と二点鎖線で示す位置との間を往復移動する。
【００３６】
ここで、図５において実線で示す位置は、後述する下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１がスリットノズル４１から離隔した待機位置である。また、図５におけるこの待機位置の右側の位置は、下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１によりスリットノズル４１の下端部を洗浄する洗浄領域である。なお、待機位置に移動した洗浄ブロック６１の上方には、飛散防止カバー７１が配設されている。
【００３７】
一方、待機ポッド６２は、レジストを塗布しない状態において、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４付近のレジストが乾燥して変質することを防止するためのものである。この待機ポッド６２の内部には、例えば、レジストを溶解する溶剤等が貯留されている。この待機ポッド６２は、エアシリンダ６７の駆動により、図５において二点鎖線で示すその上端の開口部がスリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４と対向する上昇位置と、実線で示す下降位置との間を昇降可能な構成となっている。このため、スリットノズル４１をノズル洗浄装置６の上方に待機させた状態で待機ポッド６２が上昇位置をとると、スリットノズル４１の吐出口４４は待機ポッド６２によって閉じられた空間に露出することになる。このとき、該空間は溶剤の蒸気が含まれる雰囲気で満たされているので、吐出口４４付近のレジストが乾燥することが防止される。
【００３８】
次に、上述した洗浄ブロック６１の構成について説明する。図６は、洗浄ブロック６１の平面図である。また、図７は、この洗浄ブロック６１を分解して示す斜視図である。さらに、図８は、この洗浄ブロック６１によりスリットノズル４１を洗浄する状態を示す概要図である。なお、図７においては、仕切板７４の図示を省略している。
【００３９】
この洗浄ブロック６１は、一対の飛散防止版７３と、不活性ガス噴出用スリット７７、７８を備えた４個の不活性ガス噴出用ブロック７５と、仕切板７４と、支持部材７９（図８参照）に支持された下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１と、第１ノズル８７、第２ノズル８４および第３ノズル８５、８６を支持する一対のノズル用ブロック７６とを備える。この洗浄ブロック６１は、支持アーム７２により支持されており、この洗浄ブロック６１の下方には、洗浄液等を回収するドレイン９６が配設されている。なお、上述した支持部材７９は、自動調芯用バネ部８０を介して支持アーム７２に固定されている。
【００４０】
図８に示すように、下面洗浄ブラシ８２は、洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときに、スリットノズル４１の下端部下面、すなわち、図３に示す吐出口４４が形成された領域に当接可能となっている。また、右側面洗浄ブラシ８３は、洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときに、スリットノズル４１の長手方向（洗浄ブロック６１の進行方向）に向かって下端部右側面に当接可能となっている。さらに、左側面洗浄ブラシ８１は、洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときに、スリットノズル４１の長手方向に向かって下端部左側面に当接可能となっている。
【００４１】
図９および図１０は、下面洗浄ブラシ８２の斜視図である。
【００４２】
下面洗浄ブラシ８２としては、図９に示すような直線状ブラシを使用してもよく、また、図１０に示すような埋め込み式ブラシを使用してもよい。一般的に、スリットノズル４１に付着したレジストがとれにくい場合には、図９に示す直線状ブラシを使用することが好ましい。また、耐久性を重視する場合には、図１０に示す埋め込み式ブラシを使用することが好ましい。ブラシ部の材質としては、耐溶剤性のあるフッ素樹脂系の素材を用いることが好ましい。このようなブラシ部を備えたブラシを使用することにより、特許文献２に記載されたような多孔質材料よりなる払拭部材を利用する場合に比べて、その耐久性を向上させることが可能となる。なお、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１も、この下面洗浄ブラシ８２と同様の構成を有する。
【００４３】
第１ノズル８７は、洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときに、スリットノズル４１を挟んで右側面洗浄ブラシ８３と対向する位置に配設されている。また、第２ノズル８４は、洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときに、スリットノズル４１を挟んで左側面洗浄ブラシ８１と対向する位置に配設されている。さらに、第３ノズル８５、８６は、下面洗浄ブラシ８２と対向する位置に配置されている。
【００４４】
図１１は、第１ノズル８７、第２ノズル８４および第３ノズル８５、８６による洗浄液の吐出状態を示す正面図であり、図１２はその平面図である。
【００４５】
第１ノズル８７は、右側洗浄ブラシ８３と下面洗浄ブラシ８２に向かって洗浄液を吐出する。第２ノズル８４は、左側洗浄ブラシ８１と下面洗浄ブラシ８２とに向かって洗浄液を吐出する。第３ノズル８５、８６は、下面洗浄ブラシ８２に向かって洗浄液を吐出する。図１２に示すように、これらの第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６は、互い違いに位置する千鳥状に配置されている。このため、これら第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出された洗浄液が互いに衝突してまわりに飛散することを有効に防止することができる。
【００４６】
なお、図８に示すように、洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときには、下面洗浄ブラシ８２はスリットノズル４１の下端部下面と、右側面洗浄ブラシ８３はスリットノズル４１の長手方向に向かって下端部右側面と、左側面洗浄ブラシ８１はスリットノズル４１の長手方向に向かって下端部左側面と、各々、当接可能な位置に配置されている。このため、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した洗浄液は、スリットノズル４１の下端部にも供給されることになる。
【００４７】
なお、図６に示すように、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６は、洗浄液供給部１００と接続されている。この洗浄液供給部１００は、ノズル洗浄装置の制御部からの指令を受け、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６への洗浄液の供給動作を制御する。なお、通常は、この洗浄液制御部１００から第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６に洗浄液を供給するが、スリットノズル４１の汚染度が高い場合等においては、洗浄液と不活性ガスが混合された混合流体を供給するようにしてもよい。
【００４８】
不活性ガス噴出用ブロック７５に形成された不活性ガス噴出用スリット７７、７８は、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から供給されスリットノズル４１の下端部に残存する処理液を、窒素ガスにより吹き飛ばすためのものである。洗浄ブロック６１が図６に示すＹ＋方向に移動するときには、不活性ガス噴出用スリット７７、７８のうち右側面用ブラシ８３と左側面用ブラシ８１の移動方向の後ろ側に位置する不活性ガス噴出用スリット７７、７８（図６におけるＹ−側の不活性ガス噴出用スリット７７、７８）のみが使用され、洗浄ブロック６１が図６に示すＹ−方向に移動するときには、不活性ガス噴出用スリット７７、７８のうち右側面用ブラシ８３と左側面用ブラシ８１の移動方向の後ろ側に位置する不活性ガス噴出用スリット７７、７８（図６におけるＹ＋側の不活性ガス噴出用スリット７７、７８）のみが使用される。
【００４９】
なお、上述した実施形態においては、不活性ガス噴出用ブロック７５に形成された不活性ガス噴出用スリット７７、７８は、その長手方向が洗浄ブロック６１の移動方向と直交する方向を向く形状となっている。しかしながら、図１３および図１４に示すように、スリットノズル４１の端縁の傾斜角θと、側面視において同一の傾斜角を有する不活性ガス噴出用スリット９１、９２を用いてもよい。この場合においては、スリットノズル４１の端縁付近における液切り作用を向上させることができる。
【００５０】
また、図１５に示すように、上述した不活性ガス噴出用スリット７７、７８、９１、９２に加え、スリットノズル４１の先端部以外の下面に向けて不活性ガスを噴出する不活性ガス噴出用ノズル９３を付設するようにしてもよい。
【００５１】
次に、上述した構成を有するノズル洗浄装置によるスリットノズル４１の洗浄動作について説明する。
【００５２】
スリットノズル４１の洗浄作業を開始するときには、洗浄ブロック６１は図５において実線で示す待機位置に配置されている。また、このときには、スリットノズル４１は、図１に示す昇降機構４３の作用により、その下端部と下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１とが離隔する位置に配置されている。
【００５３】
この状態において、洗浄液供給部１００の制御により第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から洗浄液を吐出させる。しかる後、昇降機構４３の作用によりスリットノズル４１を下降させ、スリットノズル４１の下端部と下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１とを当接させる。そして、この状態において、洗浄ブロック６１を図５に示す右方向（例えば図６におけるＹ＋方向）に移動させる。この状態においては、スリットノズル４１の下端部は、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した洗浄液と下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１との作用により、十分に洗浄される。
【００５４】
洗浄ブロック６１が洗浄領域の端部まで移動すれば、洗浄ブロック６１の移動を停止させる。そして、昇降機構４３の作用によりスリットノズル４１を上昇させ、スリットノズル４１の下端部と下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１とを離隔する。しかる後、洗浄ブロック６１を上記とは逆方向（図６におけるＹ−方向）に移動させる。これにより、スリットノズル４１の下端部は、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した洗浄液により、その仕上げの洗浄が実行される。
【００５５】
このときには、不活性ガス噴出用スリット７７、７８のうち右側面用ブラシ８３と左側面用ブラシ８１の移動方向の後ろ側に位置する不活性ガス噴出用スリット７７、７８から不活性ガスを噴出する。これにより、スリットノズル４１に残存する洗浄液が吹き飛ばされ、スリットノズル４１から除去される。
【００５６】
洗浄ブロック６１が図５において実線で示す待機位置に復帰すれば、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６からの洗浄液の吐出と、不活性ガス噴出用スリット７７、７８からの不活性ガスの噴出を停止する。
【００５７】
以上によりスリットノズル４１の洗浄動作が完了すれば、次に、下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１の洗浄を実行する。
【００５８】
洗浄ブロック６１が図５において実線で示す待機位置に復帰した状態においては、図５および図１６に示すように、洗浄ブロック６１の上方には飛散防止カバー７１が配置されている。この状態において、再度、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６からの洗浄液を吐出する。これにより図１１および図１２に示すように、下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１は、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した洗浄液により洗浄される。
【００５９】
なお、上述した実施例においては、洗浄ブロック６１が待機位置から移動するときに第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した洗浄液と下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１とを使用して洗浄を行い、洗浄ブロック６１が待機位置に戻るときに第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した洗浄液のみを使用した洗浄を行っている。しかしながら、スリットノズル４１をより確実に洗浄するためには、洗浄ブロック６１を複数回往復移動させながら、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した洗浄液と下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１とを使用して洗浄を行った後、第１、第２、第３洗浄ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した洗浄液のみを使用して仕上げ洗浄を実行するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】この発明に係るノズル洗浄装置を適用する塗布装置の斜視図である。
【図２】この発明に係るノズル洗浄装置を適用する塗布装置の側面図である。
【図３】スリットノズル４１によるレジストの供給動作を模式的に示す説明図である。
【図４】スリットノズル４１を一部破断して示す正面図である。
【図５】この発明に係るノズル洗浄装置６をスリットノズル４１とともに示す側面図である。
【図６】洗浄ブロック６１の平面図である。
【図７】洗浄ブロック６１を分解して示す斜視図である。
【図８】洗浄ブロック６１によりスリットノズル４１を洗浄する状態を示す概要図である。
【図９】下面洗浄ブラシ８２の斜視図である。
【図１０】下面洗浄ブラシ８２の斜視図である。
【図１１】第１ノズル８７、第２ノズル８４および第３ノズル８５、８６による洗浄液の吐出状態を示す正面図である。
【図１２】第１ノズル８７、第２ノズル８４および第３ノズル８５、８６による洗浄液の吐出状態を示す平面図である。
【図１３】他の実施形態に係る不活性ガス噴出ブロックの斜視図である。
【図１４】スリットノズル４１の端縁の傾斜角θと不活性ガス噴出用スリット９１、９２との関係を示す説明図である。
【図１５】不活性ガス噴出用ノズル９３をスリットノズル４１とともに示す側面図である。
【図１６】洗浄ブロック６１の上方に配置された飛散防止カバー７１を示す説明図である。
【符号の説明】
【００６１】
６ ノズル洗浄装置
４１ スリットノズル
４４ 吐出口
６１ 洗浄ブロック
６２ 待機ポッド
７１ 飛散防止カバー
７３ 飛散防止版
７４ 仕切板
７９ 支持部材
８０ 自動調芯用バネ部
８１ 左側面洗浄ブラシ
８２ 下面洗浄ブラシ
８３ 右側面洗浄ブラシ
８４ 第２ノズル
８５ 第３ノズル
８６ 第３ノズル
８７ 第１ノズル
９６ ドレイン
１００ 洗浄液供給部
Ｗ 基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺のスリットノズルの下端部に形成されたスリット状の吐出口から処理液を吐出する処理液供給ノズルを洗浄するためのノズル洗浄装置であって、
前記スリットノズルの下端部下面に当接可能な下面洗浄部材と、前記スリットノズルの長手方向に向かって下端部右側面に当接可能な右側面洗浄部材と、前記スリットノズルの長手方向に対して前記右側面洗浄部材とは異なる位置に配設され、前記スリットノズルの長手方向に向かって下端部左側面に当接可能な左側面洗浄部材と、を有する洗浄ブロックと、
前記洗浄ブロックを、前記下面洗浄部材、前記右側面洗浄部材および前記左側面洗浄部材によりスリットノズルの下端部を洗浄しながら移動する洗浄領域と、前記下面洗浄部材、右側面洗浄部材および左側面洗浄部材がスリットノズルから離隔した待機位置との間で往復移動させる移動機構と、
前記洗浄ブロックが前記洗浄領域に配置されたときに前記洗浄ブロックにおける前記スリットノズルを挟んで前記右側面洗浄部材と対向する位置に配設され、前記右側面洗浄部材に向けて洗浄液を吐出可能な第１ノズルと、
前記洗浄ブロックが前記洗浄領域に配置されたときに前記洗浄ブロックにおける前記スリットノズルを挟んで前記左側面洗浄部材と対向する位置に配設され、前記左側面洗浄部材に向けて洗浄液を吐出可能な第２ノズルと、
洗浄ブロックが前記洗浄領域を移動しているときと、洗浄ブロックが前記待機位置に配置されたときに、前記第１ノズルおよび前記第２ノズルに洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
を備えたことを特徴とするノズル洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載のノズル洗浄装置において、
前記下面洗浄部材に向けて洗浄液を吐出可能な第３ノズルをさらに有し、
前記洗浄液供給部は、洗浄ブロックが前記洗浄領域を移動しているときと、洗浄ブロックが前記待機位置に配置されたときに、前記第３ノズルに洗浄液を供給するノズル洗浄装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のノズル洗浄装置において、
前記洗浄ブロックにおける前記右側面洗浄部材の移動方向の後ろ側に配置され、前記右側面洗浄部材により洗浄された前記スリットノズルの下端部右側面に気体を噴出する右側面用気体噴出手段と、
前記洗浄ブロックにおける前記左側面洗浄部材の移動方向の後ろ側に配置され、前記左側面洗浄部材により洗浄された前記スリットノズルの下端部左側面に気体を噴出する左側面用気体噴出手段と、
をさらに備えるノズル洗浄装置。
【請求項４】
請求項３に記載のノズル洗浄装置において、
前記右側面用気体噴出手段と前記左側面用気体噴出手段とは、各々、前記スリットノズルの下端部に向けて気体を噴出するスリット状の気体噴出孔を有するノズル洗浄装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のノズル洗浄装置において、
前記洗浄ブロックが前記待機位置に移動したときに、前記洗浄ブロックの上部を覆う洗浄液の飛散防止カバーをさらに備えるノズル洗浄装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のノズル洗浄装置において、
前記下面洗浄部材、右側面洗浄部材および左側面洗浄部材は、ブラシであるノズル洗浄装置。
【請求項１】
長尺のスリットノズルの下端部に形成されたスリット状の吐出口から処理液を吐出する処理液供給ノズルを洗浄するためのノズル洗浄装置であって、
前記スリットノズルの下端部下面に当接可能な下面洗浄部材と、前記スリットノズルの長手方向に向かって下端部右側面に当接可能な右側面洗浄部材と、前記スリットノズルの長手方向に対して前記右側面洗浄部材とは異なる位置に配設され、前記スリットノズルの長手方向に向かって下端部左側面に当接可能な左側面洗浄部材と、を有する洗浄ブロックと、
前記洗浄ブロックを、前記下面洗浄部材、前記右側面洗浄部材および前記左側面洗浄部材によりスリットノズルの下端部を洗浄しながら移動する洗浄領域と、前記下面洗浄部材、右側面洗浄部材および左側面洗浄部材がスリットノズルから離隔した待機位置との間で往復移動させる移動機構と、
前記洗浄ブロックが前記洗浄領域に配置されたときに前記洗浄ブロックにおける前記スリットノズルを挟んで前記右側面洗浄部材と対向する位置に配設され、前記右側面洗浄部材に向けて洗浄液を吐出可能な第１ノズルと、
前記洗浄ブロックが前記洗浄領域に配置されたときに前記洗浄ブロックにおける前記スリットノズルを挟んで前記左側面洗浄部材と対向する位置に配設され、前記左側面洗浄部材に向けて洗浄液を吐出可能な第２ノズルと、
洗浄ブロックが前記洗浄領域を移動しているときと、洗浄ブロックが前記待機位置に配置されたときに、前記第１ノズルおよび前記第２ノズルに洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
を備えたことを特徴とするノズル洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載のノズル洗浄装置において、
前記下面洗浄部材に向けて洗浄液を吐出可能な第３ノズルをさらに有し、
前記洗浄液供給部は、洗浄ブロックが前記洗浄領域を移動しているときと、洗浄ブロックが前記待機位置に配置されたときに、前記第３ノズルに洗浄液を供給するノズル洗浄装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のノズル洗浄装置において、
前記洗浄ブロックにおける前記右側面洗浄部材の移動方向の後ろ側に配置され、前記右側面洗浄部材により洗浄された前記スリットノズルの下端部右側面に気体を噴出する右側面用気体噴出手段と、
前記洗浄ブロックにおける前記左側面洗浄部材の移動方向の後ろ側に配置され、前記左側面洗浄部材により洗浄された前記スリットノズルの下端部左側面に気体を噴出する左側面用気体噴出手段と、
をさらに備えるノズル洗浄装置。
【請求項４】
請求項３に記載のノズル洗浄装置において、
前記右側面用気体噴出手段と前記左側面用気体噴出手段とは、各々、前記スリットノズルの下端部に向けて気体を噴出するスリット状の気体噴出孔を有するノズル洗浄装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のノズル洗浄装置において、
前記洗浄ブロックが前記待機位置に移動したときに、前記洗浄ブロックの上部を覆う洗浄液の飛散防止カバーをさらに備えるノズル洗浄装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のノズル洗浄装置において、
前記下面洗浄部材、右側面洗浄部材および左側面洗浄部材は、ブラシであるノズル洗浄装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【公開番号】特開２００８−２９００３１（Ｐ２００８−２９００３１Ａ）
【公開日】平成２０年１２月４日（２００８．１２．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１４００１９（Ｐ２００７−１４００１９）
【出願日】平成１９年５月２８日（２００７．５．２８）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１２月４日（２００８．１２．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年５月２８日（２００７．５．２８）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]