説明

駆動力伝達装置および基板処理装置

【課題】非接触式の駆動力伝達装置において従動軸や駆動軸を比較的低剛性で支持できるようにする。
【解決手段】チャンバ10内の主ローラ16aを当該チャンバ10の外側から非接触で駆動する装置。側壁11を挟んで主ローラ16aと駆動軸17とが同軸上に配置される。主ローラ16aおよび駆動軸17の末端には、回転体30A,30Bがそれぞれ組み付けられる。これら回転体30A,30Bには、主ローラ16aと駆動軸17との間に磁気的吸引力を生じさせる第1磁石部と、磁気的反発力を生じさせる第2磁石部とが設けられる。第1磁石部は、軸心回りに極性の異なる磁石34,35が交互に配列されてなり、第2磁石部は、各回転体30A,30Bの軸心にそれぞれ設けられる同極性の磁石36からなる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、LCD、PDP用ガラス基板および半導体基板等の基板に処理液を供給して各種処理を施す基板処理装置に適した駆動力伝達装置、および同装置を含む基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来から、LCD用ガラス基板等の基板を処理用チャンバ内でローラ搬送しながら、その主面に処理液を供給することによって現像、エッチング、剥離等の処理を基板に施す基板処理装置が知られている。また、この種の装置において、例えば特許文献1には、飛散した処理液がチャンバ外に漏洩するのを防止すべく、チャンバ内の搬送ローラをチャンバ外から非接触で駆動するようにしたものも提案されている。
【0003】
この特許文献1の装置は、チャンバの側壁を挟んでローラ軸と駆動軸とが同軸上に近設配置され、両軸の互いに対向する軸の端部に、極性の異なる複数の磁石が周方向に並んだ状態でそれぞれ組み込まれた構成となっている。つまり、ローラ軸と駆動軸とを、側壁を隔てて磁力で連結することにより、駆動軸の回転駆動力をチャンバの外側からローラ軸に伝達する構成となっている。
【特許文献1】実開平7−27290号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
上記特許文献1の装置において、伝達可能な回転トルクを高めるには両回転板に組み込む磁石の磁力を強めるのが有効である。しかし、磁力を強めると、軸方向(スラスト方向)に大きな磁気的吸引力が作用するため、ローラ軸や駆動軸を安定的に、かつ円滑に回転させるにはローラ軸等の支持剛性を高める必要が生じ、いきおい製造コストが嵩む。また、運搬時や装置組立の際に、誤ってローラ軸と駆動軸とが磁気吸着してしまうと、これを分離するのに過大な手間と労力がかかるという問題がある。従って、これらの点を解決することが望まれている。
【0005】
本発明は、上記のような事情に鑑みてなされたものであり、非接触式の駆動力伝達装置において、従動軸や駆動軸を高剛性で支持することなく駆動力伝達を円滑に行うことができ、また、従動軸や駆動軸について取扱い性の良好な駆動力伝達装置、および同装置を組み込んだ基板処理装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記課題を解決するために、本発明は、駆動軸からの回転駆動力を、隔壁を隔てて前記駆動軸と同軸上に配置された従動軸に非接触で伝達する駆動力伝達装置において、前記駆動軸および前記従動軸の互いに対向する軸の端部に、両軸間に磁気的吸引力を発生させる第1磁石部と、両軸間に前記磁気的吸引力よりも弱い磁気的反発力を生じさせる第2磁石部とをそれぞれ有し、前記第1磁石部は、前記各軸の端部であって該各軸の軸心周りに所定間隔を置いて配置されてなり、前記第2磁石部は、両軸の軸心周りに連続して互いに同極の磁石が配置されてなるものである(請求項1)。
【0007】
この構成によれば、第1磁石部による磁気的吸引力により駆動軸と従動軸とが隔壁を隔てて磁気的に連結され、駆動軸を回転駆動すると、これに追従して従動軸が回転し、その結果、駆動軸から従動軸に非接触で回転駆動力が伝達されることとなる。しかも、両軸には、第1磁石部とは別の第2磁石部が設けられ、前記磁気的吸引力によって両軸に作用する軸方向の力が第2磁石部による磁気的反発力により相殺されるため、両軸に大きな軸方向の力が働くことが有効に防止されることとなる。また、両軸間に、第2磁石部による磁気的反発力が生じる結果、運搬や装置組立の際に、誤って従動軸と駆動軸とが磁気吸着してしまうといったことが有効に防止される。
【0008】
なお、上記の装置において、両軸の前記第2磁石部は、磁石が同一形状を有する環状体(請求項2)、あるいは磁石が円形体であるのが好適である(請求項3)。
【0009】
また、上記の装置において、前記第1、第2磁石部は前記両軸の端部にそれぞれ設けられた回転体に設けられているのが好適である(請求項4)。
【0010】
この構成によれば、軸心から径方向により離れた位置に第1磁石部を設けて伝達トルクを稼ぐことが可能になるとともに、第2磁石部を設けるためのスペースを両軸の端部に良好に確保することが可能となる。
【0011】
一方、本発明に係る基板処理装置は、搬送ローラで搬送される基板に対して処理液の供給を行う処理用チャンバと、前記搬送ローラに対し、前記処理用チャンバの側壁を介して駆動源からの回転駆動力を伝達する上記(請求項1乃至4の何れか一項)の駆動力伝達装置とを備えた基板処理装置であって、前記従動軸は前記搬送ローラであり、前記隔壁は、前記処理用チャンバの側壁である(請求項5)。
【0012】
この基板処理装置によれば、処理用チャンバの外側から非接触で搬送ローラを駆動することができる。しかも、駆動力伝達装置として上記(請求項1乃至4の何れか一項)のような装置が組み込まれているため、搬送ローラ及び駆動軸に大きな軸方向の力が働くことを有効に防止でき、これによって、搬送ローラや駆動軸を低剛性で支持することが可能となる。
【発明の効果】
【0013】
本発明の駆動力伝達装置によれば、駆動軸と従動軸とを磁気的に連結して非接触で回転駆動力を伝達しながらも、両軸に軸方向の大きな力が働くのを防止し得るようにしたので、従動軸および駆動軸を低剛性で支持することが可能となる。また、運搬や装置組立の際に、誤って従動軸と駆動軸とが磁気吸着してしまうといったことを有効に防止でき、これによって従動軸や駆動軸の取扱い性を向上させることができる。
【0014】
また、本発明の基板処理装置によれば、上記のような駆動力伝達装置を組み込んで搬送ローラを非接触で駆動する構成としたので、搬送ローラおよび駆動軸の支持構造を低剛性にして製造コストを抑えることができる。また、上記のように搬送ローラや駆動軸の取扱い性が向上する分、装置の組立性が向上するという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【0015】
本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。
【0016】
図1は、本発明が適用される基板処理装置の一例を示す概略断面図である。この図に示す基板処理装置は、基板Sに所定の処理を施す処理部1と、処理液を貯溜するタンク2と、前記処理部1とタンク2との間で処理液を循環させる循環系統等とを備えている。
【0017】
前記処理部1は、箱形のチャンバ10を有している。このチャンバ10の内部には、複数の搬送ローラ16が所定間隔で配備されており、基板Sがこれら搬送ローラ16により水平姿勢で搬送されるようになっている。なお、チャンバ10の側面には、扉14により開閉される基板Sの搬入口12aおよび搬出口12bが設けられている。
【0018】
前記搬送ローラ16は、図外のモータにより駆動される主(駆動)ローラ16aと複数の副(従動)ローラ16bとから構成されており、主ローラ16aの回転駆動力をベルト伝動により各副ローラ16bに伝達することにより全搬送ローラ16を同期させて駆動する構成となっている。なお、主ローラ16aは、前記モータにより、チャンバ10の外部から非接触で駆動される構成となっており、この点については後に詳述することにする。
【0019】
チャンバ10の内部において、搬送ローラ16の上方には、基板Sに対して処理液を供給するための複数のシャワーノズル18(本発明に係る供給手段に相当する)が配備されている。これらのシャワーノズル18は、詳しく図示していないが、搬送ローラ16の上方に複数設けられ、例えばマトリクス状に配備されている。そして、各シャワーノズル18からそれぞれ液滴状に処理液を吐出して基板Sに供給するようになっている。
【0020】
前記チャンバ10の内底部は、下向きに窄んだ漏斗状に形成されており(漏斗状部分10aという)、この漏斗状部分10aの下端部に処理液の排出口13が設けられている。これにより前記シャワーノズル18から基板Sに供給された処理液が、漏斗状部分10aの斜面に沿って流下しつつ収液され、排出口13から排出される構成となっている。
【0021】
一方、処理液の循環系統は、ポンプ22およびフィルタ24等を具備する送液配管20と、チャンバ10の前記排出口13から導出される薬液を回収する回収配管21とを有しており、タンク2から前記送液配管20を通じて薬液を導出しつつシャワーノズル18に送液し、各シャワーノズル18から基板Sに薬液を供給した後、使用後の薬液を、前記回収配管21を通じてタンク2に戻すように構成されている。
【0022】
次に、搬送ローラ16(主ローラ16a)を非接触で駆動するための構成について図2を用いて説明する。図2は、搬送ローラ16のうち動力伝達側の末端部分の構成を示している。
【0023】
主ローラ16aは、チャンバ10の内部(図2では側壁11の左側の位置)に回転自在に支持されている。具体的には、チャンバ10の側壁11に水平フランジ11aが設けられ、主ローラ16aが、このフランジ11a上に固定された支持ブロック26にベアリング27を介して支持されている。
【0024】
主ローラ16aの末端には、前記側壁11に近設対向する状態で、樹脂等の非磁性体からなる円盤状の回転体30Aが一体に固定されている。この回転体30Aは、複数の永久磁石を保持した本体31と、これら永久磁石を側壁11側から被うように当該本体31に固定されるカバー32とから構成されている。
【0025】
本体31に保持される永久磁石は、その極性および配列が定められており、これによって回転体30Aに第1、第2磁石部が設けられている。詳しくは、図3に示すように、回転体30Aの軸心(主ローラ16aの軸心)回りに、N極が側壁11側に位置する磁石34(以下、N極の磁石34という)と、S極が側壁11側に位置する磁石35(以下、S極の磁石35という)とが周方向に等間隔で交互に配置されており、これによって前記軸心回りに磁石34,35からなる第1磁石部が設けられている。図示の例では、N極の磁石34とS極の磁石35とが、それぞれ3個ずつ周方向に交互に配置されている。
【0026】
そして、前記回転体30Aの中心に、N極が側壁11側に位置する磁石36(以下、N極の磁石36という)が配置されることにより、第1磁石部の内側(磁石34,35に対して径方向内側)に、磁石36からなる第2磁石部が設けられている。
【0027】
なお、磁石34〜36は、同図に示すようにそれぞれ円形体の形状を有している。また、第1磁石部の各磁石34,35の磁力および第2磁石部の磁石36の磁力は、後述する磁気的吸引力よりも磁気的反発力が小さくなるようにそれぞれ設定されている。
【0028】
一方、チャンバ10の外側(図2では側壁11の右側の位置)には、図2に示すように、駆動軸17が、側壁11を隔てて前記主ローラ16aと同軸上に回転可能に設けられている。具体的には、チャンバ10の側壁11外側に水平フランジ11bが設けられ、駆動軸17が、このフランジ11b上に固定された支持ブロック28にベアリング29を介して支持されている。
【0029】
この駆動軸17のうち側壁11側の末端部分には回転体30Bが固定されている。この回転体30Bは、主ローラ16aに固定される前記回転体30Aと同一構成のもので、同図に示すように、駆動軸17の末端に固定されることにより、側壁11を隔てて主ローラ16aの前記回転体30Aに対向配置されている。つまり、このように回転体30A,30Bが対向配置されることにより、駆動軸17側の回転体30Bの第1磁石部と主ローラ16a側の回転体30Aの第1磁石部のうち、極性の異なる磁石間に磁気的吸引力が生じ、その結果、駆動軸17と主ローラ16aとが、側壁11を隔てて非接触の状態で磁気的に連結されている。
【0030】
前記駆動軸17のうち支持ブロック28を挟んで側壁11側とは反対側の末端部分にはプーリ38が固定されている。そして、このプーリ38と、前記モータの出力軸等に固定される図外のプーリとに亘ってタイミングベルト40が装着され、これによって前記駆動軸17が前記モータにより回転駆動される構成となっている。
【0031】
すなわち、この装置では、上記のように主ローラ16aと駆動軸17とが側壁11を挟んで磁気的に連結されることにより、上記モータにより回転駆動される前記駆動軸17の駆動力が非接触で前記主ローラ16aに伝達され、その結果、主ローラ16aが回転駆動されるようになっている。
【0032】
このような上記基板処理装置の構成によれば、チャンバ10内の主ローラ16aを、当該チャンバ10の外側から非接触で駆動することができ、これによりチャンバ10内を密閉して、処理液の外部への漏洩を有効に防止することができる。
【0033】
しかも、各回転体30A,30Bの中心に同極性の磁石36からなる第2磁石部をそれぞれ設けているため、主ローラ16aおよび駆動軸17に大きな軸方向の力が働くことが有効に防止されるという利点がある。すなわち、図2に示すように、回転体30A,30Bとの間には、第1磁石部(磁石34,35)による磁気的吸引力(同図中実線矢印で示す)が生じている一方で、これとは別に、第2磁石部(磁石36)による磁気的反発力(同図中破線矢印で示す)が生じているため、前記磁気的吸引力によって主ローラ16aおよび駆動軸17に作用する軸方向の力が前記磁気的反発力により相殺され、これによって主ローラ16aおよび駆動軸17に大きな軸方向の力が働くことが有効に防止されることとなる。
【0034】
従って、主ローラ16aと駆動軸17とを磁気的に結合して回転駆動力を伝達するようにしながらも、主ローラ16aおよび駆動軸17を低剛性の支持構造で支持することが可能となり、その分、製造コストを低廉化することが可能になるというメリットがある。
【0035】
また、主ローラ16aと駆動軸17との間に上記のような磁気的反発力が作用していることによって、運搬や装置組立の際に、誤って主ローラ16a(回転体30A)と駆動軸17(回転体30B)とが磁気吸着してしまうといったことを有効に防止することが可能となる。従って、主ローラ16aや駆動軸17の取扱いが容易になり、その結果、装置の組立性が向上するというメリットもある。
【0036】
ところで、以上説明した基板処理装置は、本発明が適用される基板処理装置の好ましい実施形態の一例であって、その具体的な構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【0037】
例えば、上記実施形態では、回転体30A,30Bにおいて、第2磁石部(磁石36)を第1磁石部(磁石34,35)の内側、つまり径方向内側に設けているが、図4に示すように、第1磁石部の外側に設けてもよい。この場合、第2磁石部の磁石36は、前記磁気的反発力が周方向に亘って連続的に生じるように、同図に示すように円形体であるのが望ましい。つまり、第2磁石部により生じる前記磁気的反発力が周方向に不連続であると、例えば主ローラ16a(回転体30A)と駆動軸17(回転体30B)との間に周方向のずれが生じ易くなる等、回転駆動力の伝達に影響を与えることが考えられるためである。
【0038】
また、上記実施形態では、第2磁石部としてN極の磁石36(側壁11側にN極が位置する磁石36)を回転体30A,30Bに組み込むようにしているが、勿論、S極の磁石(側壁11側にS極が位置する磁石)を組み込むようにしてもよい。また、第1磁石部を構成する磁石34,35の数や配列は、必ずしも実施形態に限定されるものではなく、要求される回転トルクを確実に伝達でき、かつ上記の作用効果を奏し得るように適宜選定するようにすればよい。
【0039】
また、上記実施形態では、本発明の適用例として、搬送ローラ16(主ローラ16a)を回転駆動する場合を例に説明したが、勿論、搬送ローラ16以外のものを駆動する場合にも本発明は適用可能である。例えば、ブラシローラにより基板Sを洗浄等する装置では、このブラシローラを非接触で回転駆動する場合にも本発明は適用可能である。また、搬送ローラやブラシローラのように軸を同一方向に連続的に回転駆動するもの以外に、軸を揺動(正逆回転駆動)させる場合にも本発明は適用可能である。例えば、ノズルを揺動させながら処理液を基板Sに供給するような装置では、このノズルを非接触で揺動駆動する場合にも本発明は適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【0040】
【図1】本発明に係る駆動力伝達装置が適用される基板処理装置の一例を示す断面略図である。
【図2】基板処理装置に組み込まれた駆動力伝達装置の構成を示す断面略図(図1のA−A断面図)である。
【図3】主ローラ(搬送ローラ)に組み付けられる回転体の構成を示す正面図(図2のB矢視図)である。
【図4】回転体の別の構成を示す正面図である。
【符号の説明】
【0041】
1 処理部
2 タンク
10 チャンバ
11 側壁(隔壁)
16 搬送ローラ
16a 主ローラ(従動軸)
17 駆動軸
18 処理部
30A,30B 回転体
34,35,36 磁石
S 基板

【特許請求の範囲】
【請求項1】
駆動軸からの回転駆動力を、隔壁を隔てて前記駆動軸と同軸上に配置された従動軸に非接触で伝達する駆動力伝達装置において、
前記駆動軸および前記従動軸の互いに対向する軸の端部に、両軸間に磁気的吸引力を発生させる第1磁石部と、両軸間に前記磁気的吸引力よりも弱い磁気的反発力を生じさせる第2磁石部とをそれぞれ有し、前記第1磁石部は、前記各軸の端部であって該各軸の軸心周りに所定間隔を置いて配置されてなり、前記第2磁石部は、両軸の軸心周りに連続して互いに同極の磁石が配置されてなることを特徴とする駆動力伝達装置。
【請求項2】
請求項1に記載の駆動力伝達装置において、
前記第2磁石部は、前記磁石が同一形状を有する環状体であることを特徴とする駆動力伝達装置。
【請求項3】
請求項1に記載の駆動力伝達装置において、
前記第2磁石部は、前記磁石がそれぞれ円形体であることを特徴とする駆動力伝達装置。
【請求項4】
請求項1乃至3の何れか一項に記載の駆動力伝達装置において、
前記第1、第2磁石部は前記両軸の端部にそれぞれ設けられた回転体に設けられていることを特徴とする駆動力伝達装置。
【請求項5】
搬送ローラで搬送される基板に対して処理液の供給を行う処理用チャンバと、前記搬送ローラに対し、前記処理用チャンバの側壁を介して駆動源からの回転駆動力を伝達する請求項1乃至4の何れか一項に記載の駆動力伝達装置とを備えた基板処理装置であって、前記従動軸は前記搬送ローラであり、前記隔壁は、前記処理用チャンバの側壁であることを特徴とする基板処理装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【公開番号】特開2008−253062(P2008−253062A)
【公開日】平成20年10月16日(2008.10.16)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−91771(P2007−91771)
【出願日】平成19年3月30日(2007.3.30)
【出願人】(000207551)大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Fターム(参考)】