ＳＬＭ高さ誤差補正法
本発明は、アナログ角度操作方式の傾斜可能なマイクロミラーの形の複数の画素を含む少なくとも１台の空間光変調器（ＳＬＭ）内の隣接する画素の間の高さのずれ（製作不良に起因する）を少なくとも部分的に補正する方法であって、前記傾斜可能なミラーの基準高さを決定し、前記ＳＬＭ内の少なくとも１個のミラーの高さを測定し、前記ミラーの前記測定高さと前記基準高さとの間のずれを決定し、少なくとも１個のミラーの高さを調整することによりずれを補正する操作を含む。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は改善された画像を補正法により得るための技術に関するものである。特に、本発明は空間光変調器（ＳＬＭ）内の画素の高さおよび／または位相の誤差を補正するための方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィー製法は集積回路、マスク、レチクル、フラット・パネル表示装置、超小型の機械的または光学的デバイス、およびリード・フレームやＭＣＭなどの実装デバイスに有用である。リソグラフィー製法は、主パターンをコンピュータ制御されたレチクルから加工部材に投影するための光学的装置を含んでよい。これに適した加工部材は電磁放射線（例えば可視光または非可視光など）に感光する層を含んでよい。かかる装置の一例は、本発明の発明者かつ出願者によるＷＯ９９４５４３５に記述されている。
【０００３】
前記コンピュータ制御されたレチクルは、反射する可動のマイクロミラーの行列の一次元または二次元のアレイを含む空間光変調器（ＳＬＭ）であってもよい。一般に、かかるＳＬＭは種々の方法で画像を形成するのに用いられるかもしれない。ＳＬＭは多くの変調要素あるいは画素（場合によっては数百万の画素）を含んでよい。
アナログ角度操作方式（ａｎａｌｏｇ ａｎｇｌｅ ａｃｔｕａｔｉｏｎ）の可傾式ミラー（ｔｉｌｔｉｎｇ ｍｉｒｒｏｒ）は、入力パターンに従って各ミラーの最良の傾斜角を決定するラスタライザ（ｒａｓｔｅｒｉｚｅｒ）を用いてよい。ミラーは高精度で制御する必要がある。また、ミラーの反射面はできるだけ平らにすべきである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
空間光変調器はミラー毎に高さの差を有することがある。前記ＳＬＭ上に照射するのに用いる波長に比べてこの高さの差が十分小さくない場合は、この高さの差は光学的画像形成に用いるときの解像度および精度を制限することがあるので問題になり得る。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
したがって本発明の目的は、高さの差を有する画素を補正する方法を提供することにより、空間光変調器を用いて形成する画像を改善することである。
第１の実施の形態では、本発明は、アナログ角度操作方式の傾斜可能なマイクロミラーの形の複数の画素を含む少なくとも１台の空間光変調器（ＳＬＭ）内の隣接する画素の間の高さのずれ（例えば、製作不良に起因する）を少なくとも部分的に補正する方法を提供するものであって、前記方法は、前記傾斜可能なミラーの基準高さを決定し、前記ＳＬＭ内の少なくとも１個のミラーの高さを測定し、前記ミラーの前記測定高さと前記基準高さとの間のずれを決定し、少なくとも１個のミラーの高さを調整することによりずれを補正する作用を含む。
【０００６】
本発明の別の実施の形態、機能、および利点、ならびに本発明の種々の実施の形態の構造および動作について、添付の図面を参照して以下に詳細に説明する。
図において、同じ参照番号は同一の、または機能的に同様な要素を示す。また参照番号の最上位は、参照番号が表われる図と一致する。
【実施例】
【０００７】
特定の構成および配置について以下に説明するが、これは単に例示のために行うものであると理解していただきたい。当業者が認識するように、本発明の範囲から逸れずに他の構成および配置を用いることができる。当業者に明らかなように、本発明は種々の他の応用にも用いることができる。
以下に記述する加工部材は、半導体（直接書込み）を製作するための基板、マスク基板、レチクル基板のグループの１つを意味するものとする。
【０００８】
図１は従来技術に係る空間光変調器（ＳＬＭ）内の或る画素の例示の実施の形態の平面図を示す。画素は、ミラー１１０、支柱１１２、および蝶番１１４を含む。蝶番１１４によりミラーは支柱に接続される。ミラーは前記蝶番により定義される偏向／傾斜軸の回りに偏向／傾斜できる。蝶番は対称位置に設ける。すなわち、ミラーの上面の傾斜軸と対称軸とは同じ位置にある。
【０００９】
図２は本発明に係る空間光変調器内の或る画素の第１の例示の実施の形態の平面図を示す。画素は、ミラー２１０、支柱２１２、および蝶番２１４を含む。蝶番は非対称位置に設ける。すなわち、ミラーの上面の傾斜軸と対称軸とは一致しない。偏向可能なミラーの非対称蝶番を偏向軸とすることにより、傾斜動作とピストン動作（ｐｉｓｔｏｎｉｎｇ ａｃｔｉｏｎ）（すなわち、ミラーが偏向するとミラーの重心が傾斜軸に垂直に動くこと）とが同時に起こる。
【００１０】
図３は図１に係る或る画素の側面図を示す。点線は偏向状態３２０にあるミラー３１０を表し、実線は非偏向状態３３０にあるミラー３１０を表す。図３から分かるように、前記ミラー３１０を偏向させたとき前記ミラー３１０の重心は上または下に動かない。すなわち、前記ミラー３１０の上面の偏向軸が対称軸と一致するのでこれは純粋な偏向である。
【００１１】
図４は図２に係る或る画素の側面図を示す。点線は偏向状態４２０にあるミラー４１０を表し、実線は非偏向状態４３０にあるミラー４１０を表す。図４から分かるように、前記ミラー４１０を偏向させたとき前記ミラー４１０の重心は上または下に（偏向軸に垂直に）動く。すなわち、前記ミラー４１０の上面の偏向軸が対称軸と一致するのでこれは傾斜動作とピストン動作との組合せである。
【００１２】
図５ａは本発明に係る第２の例示の実施の形態に係る空間光変調器内の或る画素の平面図を示す。画素は、ミラー５１０、支柱５１２、蝶番５１４、第１の電極５３０、および第２の電極５３２を含む。蝶番５１４によりミラー５１０は支柱５１２に接続される。ミラー５１０は前記蝶番５１４により定義される偏向／傾斜軸の回りに偏向／傾斜できる。蝶番５１４は対称位置に設ける。すなわち、ミラー５１０の上面の傾斜軸と対称軸とは一致する。第１の電極５３０は前記ミラー５１０の傾斜軸の下に設ける。第１の電圧を前記第１の電極５３０に与えかつ第２の電圧をミラー５１０に与えると、前記ミラーは前記第１の電極に静電的に引きつけられてピストン動作で動く。すなわち、ミラー５１０全体が第１の電極５３０に向かって平行に変位する。前記第１の電極と前記ミラーとの間に静電引力を生成するには前記第１の電圧と第２の電圧とは異ならなければならない。前記ミラー５１０を偏向させるために第１の電圧を前記第２の電極５３２に与えかつ第２の電圧をミラー５１０に与えるが、前記第２の電極５３２と前記ミラー５１０との間に静電引力を生成するには前記第１の電圧と第２の電圧とは異ならなければならない。前記第２の電極５３２はミラー５１０の対称軸および傾斜軸から横にずらして設けるので、前記静電引力は前記傾斜軸の回りにミラー５１０の偏向動作を生成する。
【００１３】
図５ｂは本発明に係る第３の例示の実施の形態に係る空間光変調器内の或る画素の平面図を示す。画素は、ミラー５１０、支柱５１２、蝶番５１４、第１の電極５３２、および第２の電極５３４を含む。蝶番５１４によりミラー５１０は支柱５１２に接続される。ミラー５１０は前記蝶番５１４により定義される偏向／傾斜軸の回りに偏向／傾斜できる。蝶番５１４は対称位置に設ける。すなわち、ミラーの上面の傾斜軸と対称軸とは一致する。第１の電圧を前記第１の電極５３２に与え、第２の電圧を前記第２の電極５３４に与え、第３の電圧をミラー５１０に与えると、前記ミラーは前記第１の電極および第２の電極に同時に静電的に引きつけられて純粋なピストン動作で動く。すなわち、前記第１および第２の電圧が同じでかつ前記第３の電圧と前記第１および第２の電圧とが異なる場合は、ミラー５１０全体が第１の電極５３２および第２の電極に向かって平行に変位する。
【００１４】
前記ミラー５１０を偏向させるには、第１の電圧を前記第１の電極５３２に与え、第２の電圧を前記第２の電極に与え、第３の電圧をミラー５１０に与える。ミラーの偏向動作を起こすには前記第１の電圧と第２の電圧とは異ならなければならない。ミラーと第１の電極との間およびミラーと第２の電極との間の電圧差に従って、前記ミラーは、ミラーと第１および第２の電極との間の適当な電圧差により、時計方向または反時計方向に偏向するよう動かされる。
【００１５】
図６ａは、他の画素６３０に対してずれた高さの１個の画素６５０を持つ、平らな位置にある６個の画素の側面図を示す。全ての画素は完全にオンの位置、すなわち白い画素を表す。しかし、ずれた高さを持つ画素６５０は他の画素６３０に対して異なる位相を有する。位相マップ内に隆起、すなわちずれた高さを持つ画素があると、ウェーハ／マスクのブランク平面内の光ビームは非対称になる。
【００１６】
図６ｂは偏向状態にある図６ａの画素を示す。図６ｂでは、マイクロミラーは従来技術に係る対称的に配置された傾斜軸を有する。ずれた高さを持つ画素６５０はやはり他の画素６３０に比べて異なる高さにある。対称的に配置された傾斜軸を持つ可傾式ミラーは、その傾斜に関わらず一定の位相を有する。アナログ角度操作方式の画素は全てのそのグレー値について一定の位相を有する。従来技術の較正法では従来技術の画素構成の前記位相のずれを除去しない（また、できない）。前記ミラーが基準高さに対してずれた高さを有する場合は、ミラーにより定義される特徴エッジ（ｆｅａｔｕｒｅ ｅｄｇｅ）は焦点を通ってシフトする。別の言い方をすると、基準面に対してずれた高さを持つミラーではポインティング・ベクトルは焦点で非垂直（ｎｏｎ−ｎｏｒｍａｌ）である。
【００１７】
図６ｃは偏向状態にある図６ａの画素を示す。図６ｃでは、ミラーは本発明の或る例示の実施の形態に係る非対称に配置された傾斜軸を有する。図６ｃの例では、画素６３０は所定のグレー値、すなわち完全な黒と完全な白との間の任意の偏向状態に設定されている。画素６５０はやや暗い偏向状態、すなわち画素６３０に比べてそのずれた高さを補正するためにいく分大きな傾斜に設定されている。非対称蝶番は傾斜動作とピストン動作とを同時に起こすので、前記一層大きな傾斜は非偏向状態における元の位相差を補う。図６ｃの画素６５０は異なるアナログ傾斜角を有し、その非対称蝶番によりこのミラーの平均高さはその隣接ミラーと同じ平均高さまで動く。アナログ傾斜角の差があると最良の焦点でのエッジ位置に誤差を生じる。焦点を通る安定性の改善（全てのミラーで同じ平均位相）は最良の焦点でのエッジ位置を犠牲にして得られる（図６ｄ参照）。
【００１８】
図６ｄでは、上部６６４は明るく（平らな画素）、下部６６６は暗い（偏向された画素）。特徴エッジ６６２はこの上部６６４と下部６６６とを分ける。この特徴エッジ６６２内の画素は図６ｃに従って設定してよい。図６ｄに点線で表されている特徴エッジ６６２は、画素６５０の異なる傾斜角に起因する隆起Ｍ１を有する。データ内の特徴エッジは、図６ｄでは平らな実線６６０で表されている。
【００１９】
図７は、本発明に係る別の例示の実施の形態に係るミラーを持つ、偏向状態にある図６ａの画素を示す。この別の例示の実施の形態では、Ｍ１の隣接画素は逆方向に偏向されている。隣接画素は逆の意味で非対称である。すなわち、ピストン効果は逆の符号を有する。Ｍ２の傾斜は小さくて高さは低い。Ｍ１の傾斜は大きくて高さはやはり低い。これらの両方の高さの差により、Ｍ１内に正の高さ誤差が生じるのを訂正する。解像度が限られているので、Ｍ１およびＭ２に意図的な高さを与えることにより、Ｍ１に高さ誤差が生じるのを完全に訂正する。解像度が高ければ、Ｍ１からのエッジ位置誤差と、１単位だけずれたＭ２からの逆の誤差とがあるはずである。しかしアナログ角度操作方式のミラーと共に投影光学機器を用いる場合は、解像度は互いに非常に近いプラスとマイナスのエッジ誤差を解像することができないので、エッジ誤差はプリントされない。
【００２０】
かかる装置の解像度は一般に単一画素を解像することができない。Ｍ１およびＭ２はエッジ位置に影響を与えずにＭ１の高さ誤差を訂正した。解像の条件は、２個のミラー当たり１周期を持つ周波数成分が装置の開口で空間（フーリエ）フィルタリングによりブロックされる、ということである。図７の例は非対称であり、Ｍ１はＭ１の左側のミラー（すなわち、Ｍ２）により訂正される。全ての操作を左右対称にしかつ好ましくは水平方向と垂直方向に対称にすることが望ましい。
【００２１】
図８は、左右にも水平垂直にも対称な補正方式を示す。図８では、Ｍ９、Ｍ２、Ｍ５、Ｍ１４、およびＭ１の意図的傾斜誤差の組合せによりＭ１を補正する。効果は小さいが、Ｍ８、Ｍ１０、Ｍ１３、およびＭ１５を傾斜させることも可能であり、また全てまたは一部のミラーだけを用いてよい。図８では、＋符号は傾斜とピストン動作との間の或る結合を示し、−符号は逆の結合を示す。前記＋符号はピストン動作の増加または減少を表してよい。すなわち、重心は所定の位置に対して上または下に動いてよい。実際のところ、傾斜とピストン動作との間の結合は傾斜の絶対値（ａｂｓ（ｔｉｌｔ））に比例する。
【００２２】
図９は本発明に係る画素の高さの差を訂正するための流れ図の一例を示す。第１のステップ９１０で、ＳＬＭ内の少なくとも２個の画素について高さの差を測定する。画素の高さはＣＣＤカメラにテスト・パターンをプリントすることにより決定することができる。前記テスト・パターンは異なる焦点セットアップを用いてプリントする。前記テスト・パターンは例えば線パターンでよい。少なくとも１つの線のエッジをＣＣＤ画像から計算する。エッジが焦点を通って動く場合は、これはエッジの近くの高さ誤差を示してよい。図１２を参照のこと。
【００２３】
ＳＬＭ内の画素の高さ誤差を見つける別の方法は干渉計法を用いることであろう。すなわち、各画素の高さを周知の原理（白光干渉計法、せん断干渉計法、または位相シフト干渉計法など）に従う干渉計法により決定する。
高さ誤差を決定する更に別の方法は、波面検出法（例えば、ハルトマン・シャック（Ｈａｒｔｍａｎ−Ｓｈａｃｋ）法、ナイフ・エッジ法、またはシュリーレン（Ｓｃｈｌｉｅｒｅｎ）法）を用いることであろう。
高さは、ＳＬＭを製作するときに決定してその寿命が終わるまで用いてよく、またはＳＬＭをパターン発生器、減衰器、または他の光学的装置として用いることができるリソグラフィー装置でその場で測定してよい。
【００２４】
第２のステップ９２０では、各ミラーの隣接ミラーの必要な傾斜の変化を計算する。以前の例示の実施の形態では、画素の高さ誤差の除去／補正は、ずれた高さを持つ画素の高さだけを変えることにより行った。この別の例示の実施の形態では、高さ誤差の前記除去／補正は、ずれた高さを持つミラーとその隣接ミラーの少なくとも１個との間に分配される。これを実行する方法を以下の図に示す。
【００２５】
第３のステップで、各ミラーに前記必要な傾斜の変化を加える。第４のステップ９４０で、各ミラーの前記傾斜の変化をルックアップ・テーブル内に記憶する。このルックアップ・テーブルは新しいパターンを前記ＳＬＭ上に設定するときにいつでも用いてよい。ルックアップ・テーブルは静的でも、すなわち元の測定データを用いてでもよく、または操作中にＳＬＭ内の新しい画素高さについての情報を用いて絶えず更新されるテーブルでよい。
第５のステップで、前記ルックアップ・テーブル内の前記情報を用いて、ＳＬＭ内の個々の画素を駆動しようとする電圧を訂正する。電圧もルックアップ・テーブル内に記憶してよく、各偏向状態はミラー毎の特定の電圧に対応する。
【００２６】
図１０ａは図８を実現するためのミラー・レイアウトの本発明に係る第１の例示の実施の形態である。図１０ａは、各隣接ミラー１００５が逆のピストン動作を有する例示の実施の形態を示す。１つ置きの行の画素は時計回りに偏向し（これを右矢印１０１０で示す）、残りの行は反時計回りに偏向する（これを左矢印１０２０で示す）。１つ置きの列の画素はミラー対称軸の右側に配置された蝶番１０４０の支柱１０３０を有し、残りの列はミラーの対称軸の左側に支柱を有する。
【００２７】
図１０ｂは図８を実現するためのミラー・レイアウトの本発明に係る第２の例示の実施の形態を示す。この場合は、各ミラーはミラー１００５の上面の対称軸の右側に配置された蝶番１０４０の支柱１０３０を有する。隣接するミラーは逆方向の偏向を有する。すなわち、１個の画素／ミラーが時計回りに偏向する場合は、隣接する画素／ミラーは反時計回りに偏向する。
【００２８】
図１１は図１０ａを実現する或る例示の実施の形態を示す。前に示した本発明の実施の形態の例では、隣接ミラーの傾斜は、欠陥のあるミラーＭ１に最も近い領域が前記Ｍ１内の誤差とは逆の高さを得るようにして行う。すなわち、高さ誤差が正の場合は、最も近い隣接ミラーの高さの補正は負でよく、次に最も近い隣接ミラーの高さの補正は正でよい、などである。図１１では、円１１４５内の正の符号は正の高さ誤差、すなわち所定の基準高さに比べてミラーが高すぎること、を示す。左向きまたは右向きの矢印１１１０、１１２０は傾斜方向を示し、右向きの矢印は時計回りの傾斜を示し、左向きの矢印は反時計回りの傾斜を示す。蝶番の位置は１１４０で示す。裸の符号１１２５、１１３５は傾斜からの高さを示す。図１１では、ミラーＭ１は基準高さに対して高すぎる。これは前記ミラーＭ１を更に少し多く傾斜させることにより補正する。すなわち、ミラーＭ１内の３つの負の符号と１つの正の符号で示すようにその重心を下げる（より高程度の負の位相）。
【００２９】
Ｍ１に隣接するミラーもＭ１の高さ誤差を補正する。前記隣接ミラーの重心も、Ｍ１がずれた高さになかった場合のその意図されたその値に比べて下げる。この場合も、隣接ミラーの重心を前記のように下げることを３つの負の符号と１つの正の符号で示す。この別の例示の実施の形態では、ミラーＭ１の高さ誤差の補正は前記ミラーとその最も近くの隣接ミラーの少なくとも１つとの間に分散される。１つの例示の実施の形態では、前記補正は、ずれた高さを持つ前記ミラーとその最も近くの１個のミラーだけを用いて行う。別の例示の実施の形態では２個の最も近くの隣接ミラーを用いる。これは左側のものでも、右側のものでも、上側のものでも、または下側のものでもよい。更に別の例示の実施の形態では、全ての最も近くの隣接ミラーを前記補正に用いる。隣接ミラーの補正の程度は等しくてよい。
【００３０】
図１２ａは、異なる位置および異なる方向の直線のエッジまたは一直線の特徴エッジを検出することにより、高さ誤差を持つ画素を検出する方法を示す。図１２ａの左上隅では水平線を用いて、ずれた高さを持つ画素Ｍ１を検出する。焦点の設定に従って、前記線内の高さのずれの見え方が異なる。図１２ａでは、ずれた高さを持つ画素をＭ１で示す。点線は焦点の設定が最良の焦点より上である、すなわち対象から遠すぎる、ことを示し、実線は焦点の設定が最良の焦点より下である、すなわち対象に近すぎる、ことを示す。この知識を用いることにより、基準画素または基準面に対してずれた高さを持つ画素を局所化することができる。図１２ａに示す４つの異なる直線エッジまたは特徴エッジを用いると、ずれた画素Ｍ１の位置を正確に決定することができる。
【００３１】
図１２ｂは画像内で高さを測定する方法の或る例示の実施の形態を示す。第１のステップで、結合行列を計算する。前記行列はミラー高さをエッジ変位に結合するものである。前記行列は、シミュレーション・ツールのソリッド−Ｃ（Ｓｏｌｉｄ−Ｃ）またはこれと同等の方法を用いて計算してよい。
第２のステップで、周知の方法で前記行列の逆行列を作る。
第３のステップで、エッジ変位を測定する。測定はＣＣＤ画像で行ってよい。これは図１２ａに示す絵と同様でよい。
【００３２】
第４のステップで、結合行列および前記測定されたエッジ変位に関する情報を用いてミラー高さを計算する。
実際には、ＳＬＭは数百万の画素を含んでよいが、簡単のためにここでは数個の画素を持つＳＬＭを示した。ずれた高さを持つ画素は予め決められた基準面に対して低すぎるかまたは高すぎる。
【００３３】
ＳＬＭ内の画素はアナログ的に動作してよい。マイクロミラー画素は一般に静電的に動作する。前記アドレス電極と前記ミラー要素との間の電位差が大きいほど前記ミラーは大きく偏向する。所定のミラーについて、所定の電位差は所定の偏向に対応する。したがって、偏向は非偏向状態（すなわち、ミラーが静電的に引かれない状態）と完全に偏向された状態との間の複数の状態に設定することができる。
【００３４】
ＣＣＤカメラは、約１０００×１６００画素と、用いる波長（例えば、２４８ｎｍまたは１９７ｎｍ）に対する感度を持つ、例えばコダック（Ｋｏｄａｋ）製カメラ（Ｒ）ＫＡＦ１６００でよい。一般にこれは放射線を蛍光染料により可視光に変換することを含むが、短い波長（例えば、２４８ｎｍ）に直接感光するカメラ・チップも利用可能である。
【００３５】
加工部材をパターン化する機器の特定の実施の形態を開示したが、かかる特定の引用は、以下のクレームに規定されているものを除き、本発明の範囲を制限するものではない。更に、いくつかの特定の実施の形態に関して本発明を説明したが、当業者は更なる変更を考えることが可能であり、かかる変更は全て添付のクレームの範囲内にあるものである。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
本発明およびその利点を完全に理解するためここに挿入した、この明細書の一部を形成する添付の図面と共に説明を参照していただきたい。
【図１】従来技術に係る空間光変調器（ＳＬＭ）内の或る画素の平面図を示す。
【図２】本発明の或る例示の実施の形態に係る空間光変調器内の或る画素の平面図を示す。
【図３】図１に係る或る画素の側面図を示す。
【図４】図２に係る或る画素の側面図を示す。
【図５ａ】本発明に係る例示の実施の形態に係る或る画素の平面図を示す。
【図５ｂ】本発明の或る例示の実施の形態に係る或る画素の平面図を示す。
【図６ａ】基準面に対してずれた高さの１個の画素を持つ、平らな位置にある複数の画素の側面図を示す。
【図６ｂ】従来技術に係るマイクロミラーを持つ、偏向状態にある図６ａの画素を示す。
【図６ｃ】本発明に係る例示の実施の形態に係るマイクロミラーを持つ、偏向状態にある図６ａの画素を示す。
【図６ｄ】図６ｃに示す例示の実施の形態のエッジ位置のずれを示す。
【図７】本発明に係る別の例示の実施の形態に係るマイクロミラーを持つ、偏向状態にある図６ａの画素を示す。
【図８】本発明に係る補正方式の或る例示の実施の形態の平面図を示す。
【図９】本発明に係る画素高さの差を訂正するための流れ図の或る例示の実施の形態を示す。
【図１０ａ】図８を実現するためのミラー・レイアウトの本発明に係る第１の例示の実施の形態を示す。
【図１０ｂ】図８を実現するためのミラー・レイアウトの本発明に係る第２の例示の実施の形態を示す。
【図１１】図１０ａを実現する或る例示の実施の形態を示す。
【図１２ａ】ずれた画素高さを検出する方法の例示の実施の形態を示す。
【図１２ｂ】画像内の画素高さを測定するための流れ図の例示の実施の形態を示す。
【技術分野】
【０００１】
本発明は改善された画像を補正法により得るための技術に関するものである。特に、本発明は空間光変調器（ＳＬＭ）内の画素の高さおよび／または位相の誤差を補正するための方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィー製法は集積回路、マスク、レチクル、フラット・パネル表示装置、超小型の機械的または光学的デバイス、およびリード・フレームやＭＣＭなどの実装デバイスに有用である。リソグラフィー製法は、主パターンをコンピュータ制御されたレチクルから加工部材に投影するための光学的装置を含んでよい。これに適した加工部材は電磁放射線（例えば可視光または非可視光など）に感光する層を含んでよい。かかる装置の一例は、本発明の発明者かつ出願者によるＷＯ９９４５４３５に記述されている。
【０００３】
前記コンピュータ制御されたレチクルは、反射する可動のマイクロミラーの行列の一次元または二次元のアレイを含む空間光変調器（ＳＬＭ）であってもよい。一般に、かかるＳＬＭは種々の方法で画像を形成するのに用いられるかもしれない。ＳＬＭは多くの変調要素あるいは画素（場合によっては数百万の画素）を含んでよい。
アナログ角度操作方式（ａｎａｌｏｇ ａｎｇｌｅ ａｃｔｕａｔｉｏｎ）の可傾式ミラー（ｔｉｌｔｉｎｇ ｍｉｒｒｏｒ）は、入力パターンに従って各ミラーの最良の傾斜角を決定するラスタライザ（ｒａｓｔｅｒｉｚｅｒ）を用いてよい。ミラーは高精度で制御する必要がある。また、ミラーの反射面はできるだけ平らにすべきである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
空間光変調器はミラー毎に高さの差を有することがある。前記ＳＬＭ上に照射するのに用いる波長に比べてこの高さの差が十分小さくない場合は、この高さの差は光学的画像形成に用いるときの解像度および精度を制限することがあるので問題になり得る。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
したがって本発明の目的は、高さの差を有する画素を補正する方法を提供することにより、空間光変調器を用いて形成する画像を改善することである。
第１の実施の形態では、本発明は、アナログ角度操作方式の傾斜可能なマイクロミラーの形の複数の画素を含む少なくとも１台の空間光変調器（ＳＬＭ）内の隣接する画素の間の高さのずれ（例えば、製作不良に起因する）を少なくとも部分的に補正する方法を提供するものであって、前記方法は、前記傾斜可能なミラーの基準高さを決定し、前記ＳＬＭ内の少なくとも１個のミラーの高さを測定し、前記ミラーの前記測定高さと前記基準高さとの間のずれを決定し、少なくとも１個のミラーの高さを調整することによりずれを補正する作用を含む。
【０００６】
本発明の別の実施の形態、機能、および利点、ならびに本発明の種々の実施の形態の構造および動作について、添付の図面を参照して以下に詳細に説明する。
図において、同じ参照番号は同一の、または機能的に同様な要素を示す。また参照番号の最上位は、参照番号が表われる図と一致する。
【実施例】
【０００７】
特定の構成および配置について以下に説明するが、これは単に例示のために行うものであると理解していただきたい。当業者が認識するように、本発明の範囲から逸れずに他の構成および配置を用いることができる。当業者に明らかなように、本発明は種々の他の応用にも用いることができる。
以下に記述する加工部材は、半導体（直接書込み）を製作するための基板、マスク基板、レチクル基板のグループの１つを意味するものとする。
【０００８】
図１は従来技術に係る空間光変調器（ＳＬＭ）内の或る画素の例示の実施の形態の平面図を示す。画素は、ミラー１１０、支柱１１２、および蝶番１１４を含む。蝶番１１４によりミラーは支柱に接続される。ミラーは前記蝶番により定義される偏向／傾斜軸の回りに偏向／傾斜できる。蝶番は対称位置に設ける。すなわち、ミラーの上面の傾斜軸と対称軸とは同じ位置にある。
【０００９】
図２は本発明に係る空間光変調器内の或る画素の第１の例示の実施の形態の平面図を示す。画素は、ミラー２１０、支柱２１２、および蝶番２１４を含む。蝶番は非対称位置に設ける。すなわち、ミラーの上面の傾斜軸と対称軸とは一致しない。偏向可能なミラーの非対称蝶番を偏向軸とすることにより、傾斜動作とピストン動作（ｐｉｓｔｏｎｉｎｇ ａｃｔｉｏｎ）（すなわち、ミラーが偏向するとミラーの重心が傾斜軸に垂直に動くこと）とが同時に起こる。
【００１０】
図３は図１に係る或る画素の側面図を示す。点線は偏向状態３２０にあるミラー３１０を表し、実線は非偏向状態３３０にあるミラー３１０を表す。図３から分かるように、前記ミラー３１０を偏向させたとき前記ミラー３１０の重心は上または下に動かない。すなわち、前記ミラー３１０の上面の偏向軸が対称軸と一致するのでこれは純粋な偏向である。
【００１１】
図４は図２に係る或る画素の側面図を示す。点線は偏向状態４２０にあるミラー４１０を表し、実線は非偏向状態４３０にあるミラー４１０を表す。図４から分かるように、前記ミラー４１０を偏向させたとき前記ミラー４１０の重心は上または下に（偏向軸に垂直に）動く。すなわち、前記ミラー４１０の上面の偏向軸が対称軸と一致するのでこれは傾斜動作とピストン動作との組合せである。
【００１２】
図５ａは本発明に係る第２の例示の実施の形態に係る空間光変調器内の或る画素の平面図を示す。画素は、ミラー５１０、支柱５１２、蝶番５１４、第１の電極５３０、および第２の電極５３２を含む。蝶番５１４によりミラー５１０は支柱５１２に接続される。ミラー５１０は前記蝶番５１４により定義される偏向／傾斜軸の回りに偏向／傾斜できる。蝶番５１４は対称位置に設ける。すなわち、ミラー５１０の上面の傾斜軸と対称軸とは一致する。第１の電極５３０は前記ミラー５１０の傾斜軸の下に設ける。第１の電圧を前記第１の電極５３０に与えかつ第２の電圧をミラー５１０に与えると、前記ミラーは前記第１の電極に静電的に引きつけられてピストン動作で動く。すなわち、ミラー５１０全体が第１の電極５３０に向かって平行に変位する。前記第１の電極と前記ミラーとの間に静電引力を生成するには前記第１の電圧と第２の電圧とは異ならなければならない。前記ミラー５１０を偏向させるために第１の電圧を前記第２の電極５３２に与えかつ第２の電圧をミラー５１０に与えるが、前記第２の電極５３２と前記ミラー５１０との間に静電引力を生成するには前記第１の電圧と第２の電圧とは異ならなければならない。前記第２の電極５３２はミラー５１０の対称軸および傾斜軸から横にずらして設けるので、前記静電引力は前記傾斜軸の回りにミラー５１０の偏向動作を生成する。
【００１３】
図５ｂは本発明に係る第３の例示の実施の形態に係る空間光変調器内の或る画素の平面図を示す。画素は、ミラー５１０、支柱５１２、蝶番５１４、第１の電極５３２、および第２の電極５３４を含む。蝶番５１４によりミラー５１０は支柱５１２に接続される。ミラー５１０は前記蝶番５１４により定義される偏向／傾斜軸の回りに偏向／傾斜できる。蝶番５１４は対称位置に設ける。すなわち、ミラーの上面の傾斜軸と対称軸とは一致する。第１の電圧を前記第１の電極５３２に与え、第２の電圧を前記第２の電極５３４に与え、第３の電圧をミラー５１０に与えると、前記ミラーは前記第１の電極および第２の電極に同時に静電的に引きつけられて純粋なピストン動作で動く。すなわち、前記第１および第２の電圧が同じでかつ前記第３の電圧と前記第１および第２の電圧とが異なる場合は、ミラー５１０全体が第１の電極５３２および第２の電極に向かって平行に変位する。
【００１４】
前記ミラー５１０を偏向させるには、第１の電圧を前記第１の電極５３２に与え、第２の電圧を前記第２の電極に与え、第３の電圧をミラー５１０に与える。ミラーの偏向動作を起こすには前記第１の電圧と第２の電圧とは異ならなければならない。ミラーと第１の電極との間およびミラーと第２の電極との間の電圧差に従って、前記ミラーは、ミラーと第１および第２の電極との間の適当な電圧差により、時計方向または反時計方向に偏向するよう動かされる。
【００１５】
図６ａは、他の画素６３０に対してずれた高さの１個の画素６５０を持つ、平らな位置にある６個の画素の側面図を示す。全ての画素は完全にオンの位置、すなわち白い画素を表す。しかし、ずれた高さを持つ画素６５０は他の画素６３０に対して異なる位相を有する。位相マップ内に隆起、すなわちずれた高さを持つ画素があると、ウェーハ／マスクのブランク平面内の光ビームは非対称になる。
【００１６】
図６ｂは偏向状態にある図６ａの画素を示す。図６ｂでは、マイクロミラーは従来技術に係る対称的に配置された傾斜軸を有する。ずれた高さを持つ画素６５０はやはり他の画素６３０に比べて異なる高さにある。対称的に配置された傾斜軸を持つ可傾式ミラーは、その傾斜に関わらず一定の位相を有する。アナログ角度操作方式の画素は全てのそのグレー値について一定の位相を有する。従来技術の較正法では従来技術の画素構成の前記位相のずれを除去しない（また、できない）。前記ミラーが基準高さに対してずれた高さを有する場合は、ミラーにより定義される特徴エッジ（ｆｅａｔｕｒｅ ｅｄｇｅ）は焦点を通ってシフトする。別の言い方をすると、基準面に対してずれた高さを持つミラーではポインティング・ベクトルは焦点で非垂直（ｎｏｎ−ｎｏｒｍａｌ）である。
【００１７】
図６ｃは偏向状態にある図６ａの画素を示す。図６ｃでは、ミラーは本発明の或る例示の実施の形態に係る非対称に配置された傾斜軸を有する。図６ｃの例では、画素６３０は所定のグレー値、すなわち完全な黒と完全な白との間の任意の偏向状態に設定されている。画素６５０はやや暗い偏向状態、すなわち画素６３０に比べてそのずれた高さを補正するためにいく分大きな傾斜に設定されている。非対称蝶番は傾斜動作とピストン動作とを同時に起こすので、前記一層大きな傾斜は非偏向状態における元の位相差を補う。図６ｃの画素６５０は異なるアナログ傾斜角を有し、その非対称蝶番によりこのミラーの平均高さはその隣接ミラーと同じ平均高さまで動く。アナログ傾斜角の差があると最良の焦点でのエッジ位置に誤差を生じる。焦点を通る安定性の改善（全てのミラーで同じ平均位相）は最良の焦点でのエッジ位置を犠牲にして得られる（図６ｄ参照）。
【００１８】
図６ｄでは、上部６６４は明るく（平らな画素）、下部６６６は暗い（偏向された画素）。特徴エッジ６６２はこの上部６６４と下部６６６とを分ける。この特徴エッジ６６２内の画素は図６ｃに従って設定してよい。図６ｄに点線で表されている特徴エッジ６６２は、画素６５０の異なる傾斜角に起因する隆起Ｍ１を有する。データ内の特徴エッジは、図６ｄでは平らな実線６６０で表されている。
【００１９】
図７は、本発明に係る別の例示の実施の形態に係るミラーを持つ、偏向状態にある図６ａの画素を示す。この別の例示の実施の形態では、Ｍ１の隣接画素は逆方向に偏向されている。隣接画素は逆の意味で非対称である。すなわち、ピストン効果は逆の符号を有する。Ｍ２の傾斜は小さくて高さは低い。Ｍ１の傾斜は大きくて高さはやはり低い。これらの両方の高さの差により、Ｍ１内に正の高さ誤差が生じるのを訂正する。解像度が限られているので、Ｍ１およびＭ２に意図的な高さを与えることにより、Ｍ１に高さ誤差が生じるのを完全に訂正する。解像度が高ければ、Ｍ１からのエッジ位置誤差と、１単位だけずれたＭ２からの逆の誤差とがあるはずである。しかしアナログ角度操作方式のミラーと共に投影光学機器を用いる場合は、解像度は互いに非常に近いプラスとマイナスのエッジ誤差を解像することができないので、エッジ誤差はプリントされない。
【００２０】
かかる装置の解像度は一般に単一画素を解像することができない。Ｍ１およびＭ２はエッジ位置に影響を与えずにＭ１の高さ誤差を訂正した。解像の条件は、２個のミラー当たり１周期を持つ周波数成分が装置の開口で空間（フーリエ）フィルタリングによりブロックされる、ということである。図７の例は非対称であり、Ｍ１はＭ１の左側のミラー（すなわち、Ｍ２）により訂正される。全ての操作を左右対称にしかつ好ましくは水平方向と垂直方向に対称にすることが望ましい。
【００２１】
図８は、左右にも水平垂直にも対称な補正方式を示す。図８では、Ｍ９、Ｍ２、Ｍ５、Ｍ１４、およびＭ１の意図的傾斜誤差の組合せによりＭ１を補正する。効果は小さいが、Ｍ８、Ｍ１０、Ｍ１３、およびＭ１５を傾斜させることも可能であり、また全てまたは一部のミラーだけを用いてよい。図８では、＋符号は傾斜とピストン動作との間の或る結合を示し、−符号は逆の結合を示す。前記＋符号はピストン動作の増加または減少を表してよい。すなわち、重心は所定の位置に対して上または下に動いてよい。実際のところ、傾斜とピストン動作との間の結合は傾斜の絶対値（ａｂｓ（ｔｉｌｔ））に比例する。
【００２２】
図９は本発明に係る画素の高さの差を訂正するための流れ図の一例を示す。第１のステップ９１０で、ＳＬＭ内の少なくとも２個の画素について高さの差を測定する。画素の高さはＣＣＤカメラにテスト・パターンをプリントすることにより決定することができる。前記テスト・パターンは異なる焦点セットアップを用いてプリントする。前記テスト・パターンは例えば線パターンでよい。少なくとも１つの線のエッジをＣＣＤ画像から計算する。エッジが焦点を通って動く場合は、これはエッジの近くの高さ誤差を示してよい。図１２を参照のこと。
【００２３】
ＳＬＭ内の画素の高さ誤差を見つける別の方法は干渉計法を用いることであろう。すなわち、各画素の高さを周知の原理（白光干渉計法、せん断干渉計法、または位相シフト干渉計法など）に従う干渉計法により決定する。
高さ誤差を決定する更に別の方法は、波面検出法（例えば、ハルトマン・シャック（Ｈａｒｔｍａｎ−Ｓｈａｃｋ）法、ナイフ・エッジ法、またはシュリーレン（Ｓｃｈｌｉｅｒｅｎ）法）を用いることであろう。
高さは、ＳＬＭを製作するときに決定してその寿命が終わるまで用いてよく、またはＳＬＭをパターン発生器、減衰器、または他の光学的装置として用いることができるリソグラフィー装置でその場で測定してよい。
【００２４】
第２のステップ９２０では、各ミラーの隣接ミラーの必要な傾斜の変化を計算する。以前の例示の実施の形態では、画素の高さ誤差の除去／補正は、ずれた高さを持つ画素の高さだけを変えることにより行った。この別の例示の実施の形態では、高さ誤差の前記除去／補正は、ずれた高さを持つミラーとその隣接ミラーの少なくとも１個との間に分配される。これを実行する方法を以下の図に示す。
【００２５】
第３のステップで、各ミラーに前記必要な傾斜の変化を加える。第４のステップ９４０で、各ミラーの前記傾斜の変化をルックアップ・テーブル内に記憶する。このルックアップ・テーブルは新しいパターンを前記ＳＬＭ上に設定するときにいつでも用いてよい。ルックアップ・テーブルは静的でも、すなわち元の測定データを用いてでもよく、または操作中にＳＬＭ内の新しい画素高さについての情報を用いて絶えず更新されるテーブルでよい。
第５のステップで、前記ルックアップ・テーブル内の前記情報を用いて、ＳＬＭ内の個々の画素を駆動しようとする電圧を訂正する。電圧もルックアップ・テーブル内に記憶してよく、各偏向状態はミラー毎の特定の電圧に対応する。
【００２６】
図１０ａは図８を実現するためのミラー・レイアウトの本発明に係る第１の例示の実施の形態である。図１０ａは、各隣接ミラー１００５が逆のピストン動作を有する例示の実施の形態を示す。１つ置きの行の画素は時計回りに偏向し（これを右矢印１０１０で示す）、残りの行は反時計回りに偏向する（これを左矢印１０２０で示す）。１つ置きの列の画素はミラー対称軸の右側に配置された蝶番１０４０の支柱１０３０を有し、残りの列はミラーの対称軸の左側に支柱を有する。
【００２７】
図１０ｂは図８を実現するためのミラー・レイアウトの本発明に係る第２の例示の実施の形態を示す。この場合は、各ミラーはミラー１００５の上面の対称軸の右側に配置された蝶番１０４０の支柱１０３０を有する。隣接するミラーは逆方向の偏向を有する。すなわち、１個の画素／ミラーが時計回りに偏向する場合は、隣接する画素／ミラーは反時計回りに偏向する。
【００２８】
図１１は図１０ａを実現する或る例示の実施の形態を示す。前に示した本発明の実施の形態の例では、隣接ミラーの傾斜は、欠陥のあるミラーＭ１に最も近い領域が前記Ｍ１内の誤差とは逆の高さを得るようにして行う。すなわち、高さ誤差が正の場合は、最も近い隣接ミラーの高さの補正は負でよく、次に最も近い隣接ミラーの高さの補正は正でよい、などである。図１１では、円１１４５内の正の符号は正の高さ誤差、すなわち所定の基準高さに比べてミラーが高すぎること、を示す。左向きまたは右向きの矢印１１１０、１１２０は傾斜方向を示し、右向きの矢印は時計回りの傾斜を示し、左向きの矢印は反時計回りの傾斜を示す。蝶番の位置は１１４０で示す。裸の符号１１２５、１１３５は傾斜からの高さを示す。図１１では、ミラーＭ１は基準高さに対して高すぎる。これは前記ミラーＭ１を更に少し多く傾斜させることにより補正する。すなわち、ミラーＭ１内の３つの負の符号と１つの正の符号で示すようにその重心を下げる（より高程度の負の位相）。
【００２９】
Ｍ１に隣接するミラーもＭ１の高さ誤差を補正する。前記隣接ミラーの重心も、Ｍ１がずれた高さになかった場合のその意図されたその値に比べて下げる。この場合も、隣接ミラーの重心を前記のように下げることを３つの負の符号と１つの正の符号で示す。この別の例示の実施の形態では、ミラーＭ１の高さ誤差の補正は前記ミラーとその最も近くの隣接ミラーの少なくとも１つとの間に分散される。１つの例示の実施の形態では、前記補正は、ずれた高さを持つ前記ミラーとその最も近くの１個のミラーだけを用いて行う。別の例示の実施の形態では２個の最も近くの隣接ミラーを用いる。これは左側のものでも、右側のものでも、上側のものでも、または下側のものでもよい。更に別の例示の実施の形態では、全ての最も近くの隣接ミラーを前記補正に用いる。隣接ミラーの補正の程度は等しくてよい。
【００３０】
図１２ａは、異なる位置および異なる方向の直線のエッジまたは一直線の特徴エッジを検出することにより、高さ誤差を持つ画素を検出する方法を示す。図１２ａの左上隅では水平線を用いて、ずれた高さを持つ画素Ｍ１を検出する。焦点の設定に従って、前記線内の高さのずれの見え方が異なる。図１２ａでは、ずれた高さを持つ画素をＭ１で示す。点線は焦点の設定が最良の焦点より上である、すなわち対象から遠すぎる、ことを示し、実線は焦点の設定が最良の焦点より下である、すなわち対象に近すぎる、ことを示す。この知識を用いることにより、基準画素または基準面に対してずれた高さを持つ画素を局所化することができる。図１２ａに示す４つの異なる直線エッジまたは特徴エッジを用いると、ずれた画素Ｍ１の位置を正確に決定することができる。
【００３１】
図１２ｂは画像内で高さを測定する方法の或る例示の実施の形態を示す。第１のステップで、結合行列を計算する。前記行列はミラー高さをエッジ変位に結合するものである。前記行列は、シミュレーション・ツールのソリッド−Ｃ（Ｓｏｌｉｄ−Ｃ）またはこれと同等の方法を用いて計算してよい。
第２のステップで、周知の方法で前記行列の逆行列を作る。
第３のステップで、エッジ変位を測定する。測定はＣＣＤ画像で行ってよい。これは図１２ａに示す絵と同様でよい。
【００３２】
第４のステップで、結合行列および前記測定されたエッジ変位に関する情報を用いてミラー高さを計算する。
実際には、ＳＬＭは数百万の画素を含んでよいが、簡単のためにここでは数個の画素を持つＳＬＭを示した。ずれた高さを持つ画素は予め決められた基準面に対して低すぎるかまたは高すぎる。
【００３３】
ＳＬＭ内の画素はアナログ的に動作してよい。マイクロミラー画素は一般に静電的に動作する。前記アドレス電極と前記ミラー要素との間の電位差が大きいほど前記ミラーは大きく偏向する。所定のミラーについて、所定の電位差は所定の偏向に対応する。したがって、偏向は非偏向状態（すなわち、ミラーが静電的に引かれない状態）と完全に偏向された状態との間の複数の状態に設定することができる。
【００３４】
ＣＣＤカメラは、約１０００×１６００画素と、用いる波長（例えば、２４８ｎｍまたは１９７ｎｍ）に対する感度を持つ、例えばコダック（Ｋｏｄａｋ）製カメラ（Ｒ）ＫＡＦ１６００でよい。一般にこれは放射線を蛍光染料により可視光に変換することを含むが、短い波長（例えば、２４８ｎｍ）に直接感光するカメラ・チップも利用可能である。
【００３５】
加工部材をパターン化する機器の特定の実施の形態を開示したが、かかる特定の引用は、以下のクレームに規定されているものを除き、本発明の範囲を制限するものではない。更に、いくつかの特定の実施の形態に関して本発明を説明したが、当業者は更なる変更を考えることが可能であり、かかる変更は全て添付のクレームの範囲内にあるものである。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
本発明およびその利点を完全に理解するためここに挿入した、この明細書の一部を形成する添付の図面と共に説明を参照していただきたい。
【図１】従来技術に係る空間光変調器（ＳＬＭ）内の或る画素の平面図を示す。
【図２】本発明の或る例示の実施の形態に係る空間光変調器内の或る画素の平面図を示す。
【図３】図１に係る或る画素の側面図を示す。
【図４】図２に係る或る画素の側面図を示す。
【図５ａ】本発明に係る例示の実施の形態に係る或る画素の平面図を示す。
【図５ｂ】本発明の或る例示の実施の形態に係る或る画素の平面図を示す。
【図６ａ】基準面に対してずれた高さの１個の画素を持つ、平らな位置にある複数の画素の側面図を示す。
【図６ｂ】従来技術に係るマイクロミラーを持つ、偏向状態にある図６ａの画素を示す。
【図６ｃ】本発明に係る例示の実施の形態に係るマイクロミラーを持つ、偏向状態にある図６ａの画素を示す。
【図６ｄ】図６ｃに示す例示の実施の形態のエッジ位置のずれを示す。
【図７】本発明に係る別の例示の実施の形態に係るマイクロミラーを持つ、偏向状態にある図６ａの画素を示す。
【図８】本発明に係る補正方式の或る例示の実施の形態の平面図を示す。
【図９】本発明に係る画素高さの差を訂正するための流れ図の或る例示の実施の形態を示す。
【図１０ａ】図８を実現するためのミラー・レイアウトの本発明に係る第１の例示の実施の形態を示す。
【図１０ｂ】図８を実現するためのミラー・レイアウトの本発明に係る第２の例示の実施の形態を示す。
【図１１】図１０ａを実現する或る例示の実施の形態を示す。
【図１２ａ】ずれた画素高さを検出する方法の例示の実施の形態を示す。
【図１２ｂ】画像内の画素高さを測定するための流れ図の例示の実施の形態を示す。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アナログ角度操作方式の傾斜可能なマイクロミラーの形の複数の画素を含む少なくとも１台の空間光変調器（ＳＬＭ）内の１つの画素の隣接する画素に対する高さのずれを補正する方法であって、
・ 前記傾斜可能なミラーの基準高さを決定し、
・ 前記ＳＬＭ内の少なくとも１個のミラーの高さを測定し、
・ 前記少なくとも１個のミラーの前記測定高さと前記基準高さとの間のずれを決定し、
・ 前記少なくとも１個のミラーの高さを調整することによりずれを補正する操作
を含み、その特徴は、
前記少なくとも１個のミラーは傾斜動作とピストン動作とを組み合わせて行うことと、前記組み合わされたピストン動作および傾斜動作は非対称に配置された傾斜軸を持つ蝶番により行うことと、前記非対称に配置された傾斜軸の位置は、少なくとも１個の隣接ミラーの傾斜軸の位置とは異なることとである、
隣接する画素の間の高さのずれを補正する方法。
【請求項２】
前記高さのずれの前記補正は、ずれた高さを持つ前記ミラーを用いて行う、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記補正は、ずれた高さを持つミラーの少なくとも１個の隣接ミラーを用いて行う、請求項２記載の方法。
【請求項４】
補正の程度は隣接する各ミラーについて等しい、請求項５記載の方法。
【請求項５】
補正に用いる前記隣接ミラーは前記ずれたミラーの対称軸の周りに均等に分散される、請求項４記載の方法。
【請求項６】
補正に用いる前記隣接ミラーの重心が、ずれた高さを持つ前記ミラーの重心と同じ補正方向に動く、請求項４記載の方法。
【請求項７】
前記ピストン動作および傾斜動作は前記ミラーの傾斜軸を定義する蝶番の下に電極を設けることにより行う、請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記ピストン動作および傾斜動作は前記ミラーの傾斜軸を定義する蝶番の両側に静電引力を与えることにより行う、請求項１記載の方法。
【請求項９】
少なくとも２個の隣接ミラーは相対して配置された蝶番を有する、請求項５記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも２個の隣接ミラーは逆方向に偏向する、請求項５記載の方法。
【請求項１１】
アナログ角度操作方式の傾斜可能なマイクロミラーの形の複数の画素を含む装置であって、
・ 前記傾斜可能なミラーの基準高さを決定する手段と、
・ 少なくとも１個のミラーの高さを測定する手段と、
・ 前記少なくとも１個のミラーの前記測定高さと前記基準高さとの間のずれを決定する手段と、
・ 少なくとも１個のミラーの高さを調整することにより前記ずれを補正する手段と、
を含み、その特徴は、
前記少なくとも１個のミラーは傾斜動作とピストン動作とを組み合わせて行うことと、前記組み合わされたピストン動作および傾斜動作は非対称に配置された傾斜軸を持つ蝶番により行うことと、前記非対称に配置された傾斜軸の位置は少なくとも１個の隣接ミラーの傾斜軸の位置とは異なることとである、
傾斜可能なマイクロミラーの形の複数の画素を含む装置。
【請求項１】
アナログ角度操作方式の傾斜可能なマイクロミラーの形の複数の画素を含む少なくとも１台の空間光変調器（ＳＬＭ）内の１つの画素の隣接する画素に対する高さのずれを補正する方法であって、
・ 前記傾斜可能なミラーの基準高さを決定し、
・ 前記ＳＬＭ内の少なくとも１個のミラーの高さを測定し、
・ 前記少なくとも１個のミラーの前記測定高さと前記基準高さとの間のずれを決定し、
・ 前記少なくとも１個のミラーの高さを調整することによりずれを補正する操作
を含み、その特徴は、
前記少なくとも１個のミラーは傾斜動作とピストン動作とを組み合わせて行うことと、前記組み合わされたピストン動作および傾斜動作は非対称に配置された傾斜軸を持つ蝶番により行うことと、前記非対称に配置された傾斜軸の位置は、少なくとも１個の隣接ミラーの傾斜軸の位置とは異なることとである、
隣接する画素の間の高さのずれを補正する方法。
【請求項２】
前記高さのずれの前記補正は、ずれた高さを持つ前記ミラーを用いて行う、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記補正は、ずれた高さを持つミラーの少なくとも１個の隣接ミラーを用いて行う、請求項２記載の方法。
【請求項４】
補正の程度は隣接する各ミラーについて等しい、請求項５記載の方法。
【請求項５】
補正に用いる前記隣接ミラーは前記ずれたミラーの対称軸の周りに均等に分散される、請求項４記載の方法。
【請求項６】
補正に用いる前記隣接ミラーの重心が、ずれた高さを持つ前記ミラーの重心と同じ補正方向に動く、請求項４記載の方法。
【請求項７】
前記ピストン動作および傾斜動作は前記ミラーの傾斜軸を定義する蝶番の下に電極を設けることにより行う、請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記ピストン動作および傾斜動作は前記ミラーの傾斜軸を定義する蝶番の両側に静電引力を与えることにより行う、請求項１記載の方法。
【請求項９】
少なくとも２個の隣接ミラーは相対して配置された蝶番を有する、請求項５記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも２個の隣接ミラーは逆方向に偏向する、請求項５記載の方法。
【請求項１１】
アナログ角度操作方式の傾斜可能なマイクロミラーの形の複数の画素を含む装置であって、
・ 前記傾斜可能なミラーの基準高さを決定する手段と、
・ 少なくとも１個のミラーの高さを測定する手段と、
・ 前記少なくとも１個のミラーの前記測定高さと前記基準高さとの間のずれを決定する手段と、
・ 少なくとも１個のミラーの高さを調整することにより前記ずれを補正する手段と、
を含み、その特徴は、
前記少なくとも１個のミラーは傾斜動作とピストン動作とを組み合わせて行うことと、前記組み合わされたピストン動作および傾斜動作は非対称に配置された傾斜軸を持つ蝶番により行うことと、前記非対称に配置された傾斜軸の位置は少なくとも１個の隣接ミラーの傾斜軸の位置とは異なることとである、
傾斜可能なマイクロミラーの形の複数の画素を含む装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５ａ】
【図５ｂ】
【図６ａ】
【図６ｂ】
【図６ｃ】
【図６ｄ】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０ａ】
【図１０ｂ】
【図１１】
【図１２ａ】
【図１２ｂ】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５ａ】
【図５ｂ】
【図６ａ】
【図６ｂ】
【図６ｃ】
【図６ｄ】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０ａ】
【図１０ｂ】
【図１１】
【図１２ａ】
【図１２ｂ】
【公表番号】特表２００９−５２７９１０（Ｐ２００９−５２７９１０Ａ）
【公表日】平成２１年７月３０日（２００９．７．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５５５７０４（Ｐ２００８−５５５７０４）
【出願日】平成１９年２月２２日（２００７．２．２２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００７／００１５５３
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０９６１７５
【国際公開日】平成１９年８月３０日（２００７．８．３０）
【出願人】（５０４０９５７９３）マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット (50)
【出願人】（５０５２５００２９）フラウンホーファー − ゲゼルシャフト ツル フェーデルング デル アンゲヴァントテン フォルシュング エー．ファォ． (6)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年７月３０日（２００９．７．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年２月２２日（２００７．２．２２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００７／００１５５３
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０９６１７５
【国際公開日】平成１９年８月３０日（２００７．８．３０）
【出願人】（５０４０９５７９３）マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット (50)
【出願人】（５０５２５００２９）フラウンホーファー − ゲゼルシャフト ツル フェーデルング デル アンゲヴァントテン フォルシュング エー．ファォ． (6)
【Ｆターム（参考）】
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