ツインビットセル構造のNOR型フラッシュメモリ素子及びその製造方法
【課題】ツインビットセル構造のNOR型フラッシュメモリ素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上で所定方向に沿って直線状に平行に延びている複数の活性領域と、活性領域上に形成され、複数のワードラインのうち選択される1本のワードラインと複数本のビットラインのうち選択される1本のビットラインとの接点によって各々決定される複数のメモリセルを備えるNOR型フラッシュメモリ素子である。活性領域には、複数のソース/ドレイン領域が形成されており、ソース/ドレイン領域は、複数のメモリセルのうち、相互隣接した2つのメモリセルを共有する。ソース/ドレイン領域は、各々1個のビットラインコンタクトを通じてビットラインと電気的に連結されうる。複数のメモリセルのうち、選択される相互隣接した4個のメモリセルは、1個のビットラインコンタクトを共有する。
【解決手段】基板上で所定方向に沿って直線状に平行に延びている複数の活性領域と、活性領域上に形成され、複数のワードラインのうち選択される1本のワードラインと複数本のビットラインのうち選択される1本のビットラインとの接点によって各々決定される複数のメモリセルを備えるNOR型フラッシュメモリ素子である。活性領域には、複数のソース/ドレイン領域が形成されており、ソース/ドレイン領域は、複数のメモリセルのうち、相互隣接した2つのメモリセルを共有する。ソース/ドレイン領域は、各々1個のビットラインコンタクトを通じてビットラインと電気的に連結されうる。複数のメモリセルのうち、選択される相互隣接した4個のメモリセルは、1個のビットラインコンタクトを共有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、フラッシュメモリ素子及びその製造方法に係り、特に高集積配置構造を有するツインビットセル構造のNOR型フラッシュメモリ素子及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
電気的にデータの消去及び保存が可能であり、電源が供給されなくても、データの保存が可能な不揮発性半導体メモリ素子が多様な分野でその応用が広がりつつある。このような不揮発性メモリ素子の代表的な例が、フラッシュメモリセル素子である。最近、メモリ素子が大容量化され、複雑な回路を構成するためのゲートアレイ数が急増することによって、MOSFET(Metal Oxidese Miconductor Field Effect Transistor)構造のように、単一ゲート構造としてトラップ電荷を用いるSONOS(または、MONOS)型不揮発性セルが研究されている。SONOS型セルではフローティングゲートのような追加的な層を導入しないために、段差が減少する利点がある。
【0003】
一方、数年前から高度な高集積不揮発性メモリ素子を具現するために、フローティングゲートのないSONOS型NORフラッシュメモリで非対称的プログラム方式を用いるツインビットメモリ技術が提案及び開発されてきた(例えば、特許文献1、特許文献2、特許文献3参照)。
【0004】
ツインビットメモリ技術は、単位基板面積当り多くのビットを保存できる方法であって、既存のスタックゲート形態のフラッシュ素子に比べて同一面積当り2倍の集積度を具現できる。ツインビットメモリのプログラム動作時には、トランジスタのゲートとその両側にあるソース/ドレイン接合のうち一側の接合に高い電圧を印加するチャンネルホット電子注入(CHEI:Channel Hot Electron Injection)方式で電子をゲートの一側縁部下端のシリコン窒化物層に電荷を順方向に注入し、読出し動作時にはプログラム動作時とソース及びドレインを反対にして、前記ソース/ドレイン接合のうち、反対側である他側との接合とゲートに電圧を印加して逆方向に読出す方式を採択している。また、消去動作は、ドレイン接合に高電圧を印加し、ゲート及び基板バルクは接地させ、ゲートと選択された高濃度のドレイン接合の重畳領域でホールのバンド間トンネリング(BtBT:Band−to−Band Tunneling)原理を用いて、シリコン窒化物層内のプログラムされた側の電子をホールと再結合させることによって、行われる。このように、1つのNORセルトランジスタに2つのビットを保存できる理由は、CHEIはトランジスタのドレイン側でなされ、トランジスタのスレショルド電圧(Vth)はトランジスタのソースの抵抗によって決定されるからである。
【0005】
ツインビットメモリセル構造を採用する従来のNORフラッシュメモリ素子は、通常、埋込型ビットライン構造を採用している(例えば、特許文献4参照)。埋込型ビットラインを採用する技術では、素子分離領域の下にビットラインを形成する方法または単純PN接合を用いてビットラインを形成する方法が利用されている。このような埋込型ビットラインを採用する構造において、ビットラインは、ワードラインの下に形成される素子分離領域の形成方向と同じ方向に形成され、各トランジスタのソース/ドレインは、ビットラインと合う各セルの接点によって形成される。このような構造では、メモリ素子のスケーリング時にトランジスタのパンチスルーによる素子誤動作の発生可能性が高く、よってメモリ素子のスケーリングに限界がある。
【特許文献1】米国特許第6,531,350号明細書
【特許文献2】米国特許第6,707,079号明細書
【特許文献3】米国特許第6,808,991号明細書
【特許文献4】米国特許第6,720,629号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明の目的は、トランジスタのパンチスルーによる素子誤動作の発生可能性を除去することによって、信頼性が向上し、スケーリングが容易で、かつ集積度を向上させうるNOR型フラッシュメモリ素子を提供することである。
本発明の他の目的は、信頼性及び集積度の向上した素子を製造するに当って、相互隣接したビットラインとの間を容易に絶縁させ、パンチスルーによる誤動作の発生可能性を除去しうるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
前記目的を達成するための本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子は、基板上で所定方向に沿って直線状に平行に延びている複数の活性領域と、前記活性領域上に形成され、複数のワードラインのうち、選択される1本のワードラインと複数本のビットラインのうち、選択される1本のビットラインとの接点によって各々決定される複数のメモリセルを備える。前記活性領域には、複数のソース/ドレイン領域が形成されており、前記ソース/ドレイン領域は、前記複数のメモリセルのうち、相互隣接した2つのメモリセルが共有する。前記ソース/ドレイン領域は、各々1個のビットラインコンタクトを通じて前記ビットラインと電気的に連結可能である。前記複数のメモリセルのうち、選択される相互隣接した4個のメモリセルは、1個のビットラインコンタクトを共有する。
【0008】
望ましくは、前記ワードラインは、前記活性領域に対して垂直に直線状に延びている。そして、前記ビットラインは、前記ワードラインの上部に形成されている。前記ビットラインは、前記ワードラインに対しては垂直であり、前記活性領域とは相互平行した直線状に延びている。
【0009】
前記メモリセルは、SONOS型メモリセルまたはスプリットゲート型メモリセルより構成されうる。
望ましくは、前記メモリセルは、前記活性領域上に形成された前記ワードラインの一部より構成されるゲートと、前記活性領域と前記ゲートとの間に介在されている誘電膜と、を備え、前記誘電膜は、その内部にトラップサイトが存在するように、相異なる種類より構成される複数の誘電物質層が順次に積層された構造を有する。
前記メモリセルがスプリットゲート型メモリセルより構成される場合、前記メモリセルは、前記活性領域上に形成された前記ワードラインの一部より構成されるゲートと、前記ゲートの両側壁を各々覆うように形成された第1側壁ゲート及び第2側壁ゲートと、前記活性領域と前記ゲートとの間に介在されている第1誘電膜と、前記ゲートと前記第1側壁ゲートとの間に介在されている第2誘電膜と、前記ゲートと前記第2側壁ゲートとの間に介在されている第3誘電膜と、を備えるように構成される。
本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子において、前記メモリセルは、各々1つのメモリセルで2ビットのメモリ動作がなされるツインビットセルを構成する。
【0010】
前記他の目的を達成するための本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法では、基板上に所定方向に沿って直線状に平行に延びる複数の活性領域を定義する。前記活性領域上に誘電膜を形成する。前記誘電膜上に前記活性領域に対して垂直に延びる複数のワードラインを形成する。前記活性領域のうち、前記ワードライン間に各々位置する複数のソース/ドレイン領域を形成する。前記複数のソース/ドレイン領域のうち、2つのソース/ドレイン領域を同時に露出させる複数の第1コンタクトホールが形成されている第1層間絶縁膜を前記ワードライン上に形成する。前記2つのソース/ドレイン領域に接触するように前記第1コンタクトホールを満たす複数の導電性コンタクトプラグを形成する。前記コンタクトプラグ毎に1つの接点を通じて相互接触される複数本のビットラインを形成する。
【0011】
本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子は、ビットラインがワードラインの上部に形成されて、1個のビットラインコンタクトを4個のセルトランジスタが共有する構成を有する。したがって、トランジスタのパンチスルーによる素子の誤動作除去に優れた特性を発揮でき、隣接したビットライン間の絶縁が容易でスケーリングにおいて非常に有利である。
【発明の効果】
【0012】
本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子は、ビットラインがワードラインの上部に形成されて1個のビットラインコンタクトを4個のセルトランジスタが共有する構成を有するので、パンチスルーによる素子の誤動作の発生を引き起こす従来の技術での構造的な問題を解決でき、隣接したビットライン間の絶縁が容易なため、スケーリング面で非常に有利である。
【発明を実施するための最良の形態】
【0013】
以下、添付した図面に基づいて本発明を詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子のメモリセルアレイ100の回路構成を概略的に示す図面であり、図2は、本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子を具現するための例示的なレイアウトを示す図面である。
図1及び図2を参照すれば、本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子において、メモリセルアレイ100の各メモリセルは、列方向及び行方向にマトリックス状に配列されているセルトランジスタ102より構成される。
【0014】
前記メモリセルアレイ100において、複数の活性領域110が所定方向に沿って直線状に延びており、前記活性領域110に対して垂直に複数のワードライン(WL)130が直線状に延びている。そして、前記ワードライン130の上部において、複数本のビットライン(BL)330が前記ワードライン130に対しては垂直であり、前記活性領域110とは相互平行した直線状に延びている。それぞれのメモリセルは、前記複数のワードライン130のうち、選択される1本のワードラインWL(N)と複数本のビットライン330のうち、選択される1本のビットラインBL(N)との接点によって決定される。
【0015】
各セルトランジスタ102の列方向においてソース/ドレイン領域を相互共有するように構成されている。列方向において相互隣接した2つのセルトランジスタ102によって共有される1つのソース/ドレイン領域は、行方向において隣接している他の1つのソース/ドレイン領域と1つのソース/ドレインコンタクト200を通じて相互連結され、前記ソース/ドレインコンタクト200は各々1個のビットラインコンタクト300を通じてビットライン330と接続されている。ここで、前記ソース/ドレイン領域は、各々1個のビットラインコンタクト300を通じて前記ビットライン330と電気的に連結されうる。したがって、複数のメモリセルのうち、選択される相互隣接した4個のメモリセル(例えば、図1及び図2において“A”で表示された領域にある4個のメモリセル)は、1個のビットラインコンタクト300を共有する。
【0016】
図2に例示されたNOR型フラッシュメモリ素子の各メモリセルは、活性領域110とワードライン130の一部より構成されるゲート132との間に介在されている誘電膜が、その内部にトラップサイトが存在するように構成された構造、例えばSONOS(Silicon/Silicon Oxide/Silicon Nitride/Silicon Oxide/Silicon)型メモリセル構造を有する場合に適用されうる。
【0017】
図3は、図2の変形実施形態であって、本発明の第2実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子を具現するための例示的なレイアウトを示す図面である。
図3には、各メモリセルでワードライン130の一部より構成されるゲート132の両側壁に前記ゲート132とは各々絶縁されている第1側壁ゲート146及び第2側壁ゲート148がさらに形成されているスプリットゲート型メモリセルよりなるNOR型フラッシュメモリ素子が例示されている。
【0018】
図3において、図2と同じ参照符号は同一部材を示すので、その詳細な説明は省略する。
前記例示された本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子の構成において、各メモリセルは、1つのメモリセルで2ビットのメモリ動作がなされるツインビットセルを構成する。前記各セルトランジスタ102のフィーチャーサイズは各メモリセルで1Fのピッチを有するワードライン130またはビットライン330によって決定され、1個のビットラインコンタクト300を4個のメモリセルが共有する配置より構成されるので、各メモリセルの表面積は4F2となる。したがって、本発明によれば、ツインビット4F2NOR型フラッシュメモリセルを具現でき、単位2F2当り1ビットを保存する。また、本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子は、ビットライン330がワードライン130の上部に形成されて1個のビットラインコンタクト300を4個のセルトランジスタ102が共有する構成を有するので、パンチスルーによる素子の誤動作発生を引き起こす従来の技術での構造的な問題が解決され、隣接したビットライン間の絶縁が容易なために、スケーリングにおいて非常に有利である。
【0019】
図4A、図5A、図6A、図7A、図8A及び図9Aは、各々本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するために工程順序によって示す要部平面配置図である。図4B、図5B、図6B、図7B、図8B及び図9Bは、各々図4A、図5A、図6A、図7A、図8A及び図9AのX1−X1’線の断面図であり、図4C、図5C、図6C、図7C、図8C及び図9Cは、各々図4A、図5A、図6A、図7A、図8A及び図9AのX2−X2’線の断面図であり、図4D、図5D、図6D、図7D、及び図9Dは、各々図4A、図5A、図6A、図7A、図8A及び図9AのY1−Y1’線の断面図である。
【0020】
まず、図4A、図4B、図4C及び図4Dを参照すれば、半導体基板105、例えば、シリコン基板の一部をエッチングしてフィン形状のメサ型活性領域110を形成する。次いで、前記メサ型活性領域110が形成された半導体基板105上に絶縁物質を蒸着し、前記蒸着された絶縁物質の一部を選択的に除去して前記活性領域110間のトレンチを部分的に満たすSTI(Shallow TrenchIsolation)領域108よりなる素子分離領域を形成する。前記STI領域108は、前記半導体基板105上に直線状に反復的に延びており、前記STI領域108によって限定される前記活性領域110は、前記半導体基板105上に所定方向、例えば、図2の列方向に沿って直線状に平行に延びる。本実施形態では前記素子分離領域がSTI領域108より構成されたと図示されているが、本発明はこれに限定されず、当業者ならば、前記素子分離領域をLOCOS(LOCal Oxidation of Silicon)領域で形成することも可能であるということをよく理解できる。
【0021】
図5A、図5B、図5C及び図5Dを参照すれば、前記活性領域110上に誘電膜120を形成する。前記誘電膜120はその内部にトラップサイトが存在するように相異なる種類より構成される複数の誘電物質層を順次に積層して形成する。例えば、前記誘電膜120は、シリコン酸化膜\シリコン窒化膜\シリコン酸化膜、アルミニウム酸化膜\シリコン窒化膜\シリコン酸化膜、及びシリコン酸化膜\ハフニウム酸化膜\シリコン酸化膜の構造よりなる群から選択される1つの構造を有するように形成されうる。
前記誘電膜120上に導電層、例えば、ドーピングされたポリシリコン層または金属層を形成し、前記導電層をパターニングして、前記誘電膜120上で前記活性領域110に対して垂直に延びる複数のワードライン130を形成する。前記ワードライン130は、前記活性領域110の上面及び両側壁を同時に覆うように形成される。前記ワードライン130は、各メモリセルのゲート132を構成する。
【0022】
図6A、図6B、図6C及び図6Dを参照すれば、前記活性領域110のうち、前記ワードライン130間に各々不純物イオンを注入して複数のソース/ドレイン領域134を形成する。前記ソース/ドレイン領域134は、図6Dに例示されたようにN+型不純物領域で形成されうる。
【0023】
図7A、図7B、図7C及び図7Dを参照すれば、前記ワードライン130及びソース/ドレイン領域134を覆う第1層間絶縁膜を形成した後、これをパターニングして前記複数のソース/ドレイン領域134のうち、相互隣接した2つのソース/ドレイン領域134を同時に露出させる複数のソース/ドレインコンタクトホール142が形成されている第1層間絶縁膜パターン140を形成する。
【0024】
図8A、図8B、図8C及び図8Dを参照すれば、前記ソース/ドレインコンタクトホール142を通じて同時に露出される2つのソース/ドレイン領域134に接触するように、前記ソース/ドレインコンタクトホール142を満たす複数の導電性コンタクトプラグ150を形成する。前記コンタクトプラグ150を形成するために前記第1層間絶縁膜140上に導電物質、例えば、ドーピングされたポリシリコンまたは金属物質を蒸着し、エッチバック工程またはCMP(Chemical Mechanical Polishing)工程を用いてノード分離を行なう。前記コンタクトプラグ150は、図8Aに示されているソース/ドレインコンタクト200を構成する。
【0025】
図9A、図9B、図9C及び図9Dを参照すれば、前記コンタクトプラグ150上に前記コンタクトプラグ150を一部露出させるコンタクトホールが形成された第2層間絶縁膜パターン160を形成した後、前記その上に導電層、例えば、ドーピングされたポリシリコン層または金属層を形成し、これをパターニングして、ビットライン330を形成する。前記ビットライン330は、ビットラインコンタクト300(図9A参照)を通じて前記コンタクトプラグ150と電気的に連結可能に構成される。
【0026】
図10は、本発明の第2実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するための断面図である。
図10の実施形態は、図3のスプリットゲート型メモリセルより構成されるNOR型フラッシュメモリ素子のレイアウトを具現するための1つの例として提示されたものであって、図3のX−X’線断面に対応する図面である。図3において、第1実施形態と同じ参照符号は同一部材を示すので、その詳細な説明は省略する。
【0027】
図3及び図10を参照すれば、図4Aないし図4D、そして図5Aないし図5Dの説明と同様な方法で前記ゲート132、すなわち、ワードライン130を形成するステップまで進行する。次いで、前記ゲート132上に薄い誘電膜及び導電層を順に覆う。次いで、前記ゲート132の上面が露出されるまで、前記誘電膜及び導電層をエッチバックし、不要な部分を除去し、前記ゲート132の両側壁を覆う第1側壁ゲート146及び第2側壁ゲート148を形成する。その結果、前記ゲート132と前記第1側壁ゲート146との間に誘電膜246が介在され、前記ゲート132と前記第2側壁ゲート148との間に誘電膜248が介在される構成が得られる。
次いで、第1実施形態において図6Aないし図6Dに基づいて説明したような工程及びその後続工程を同一に適用して行なう。
【0028】
前記例示された実施形態では、フィン形状の活性領域にfinFET構造のセルトランジスタを具現する方法のみを例示したが、本発明はこれに限定されない。すなわち、本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子は、STI素子分離方法によって限定された1次元平面より構成される活性領域上にセルトランジスタを形成する方法を用いる場合にも、本発明の基本的な思想を具現できるということは、当業者ならばよく理解できるであろう。
前述したように、本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子では、メモリセルアレイを構成するそれぞれのメモリセルが1つのメモリセルで2ビットのメモリ動作がなされるツインビットセルへの具現において、集積度を効率よく高めるために、1個のビットラインコンタクトを4個のメモリセルが共有する配置で構成されている。したがって、ツインビット4F2 NOR型フラッシュメモリセルを具現でき、単位2F2当り1ビットを保存できる。
【0029】
以上、本発明を望ましい実施形態を挙げて説明したが、本発明は、前記実施形態に限定されず、本発明の技術的思想及び範囲内で当業者によって多様な変形及び変更が可能である。
【産業上の利用可能性】
【0030】
本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子及びその製造方法は、携帯電話、セットトップボックス、POS、PDA、PCAのようなコードメモリを構成する核心的な素子の製造技術分野に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【0031】
【図1】本発明の望ましい実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子のメモリセルアレイの回路構成図である。
【図2】本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子を具現するための例示的なレイアウトを示す図面である。
【図3】本発明の第2実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子を具現するための例示的なレイアウトを示す図面である。
【図4A】本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するために工程順序によって示す要部平面配置図である。
【図4B】図4AのX1−X1’線の断面図である。
【図4C】図4AのX2−X2’線の断面図である。
【図4D】図4AのY1−Y1’線の断面図である。
【図5A】本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するために工程順序によって示す要部平面配置図である。
【図5B】図5AのX1−X1’線の断面図である。
【図5C】図5AのX2−X2’線の断面図である。
【図5D】図5AのY1−Y1’線の断面図である。
【図6A】本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するために工程順序によって示す要部平面配置図である。
【図6B】図6AのX1−X1’線の断面図である。
【図6C】図6AのX2−X2’線の断面図である。
【図6D】図6AのY1−Y1’線の断面図である。
【図7A】本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するために工程順序によって示す要部平面配置図である。
【図7B】図7AのX1−X1’線の断面図である。
【図7C】図7AのX2−X2’線の断面図である。
【図7D】図7AのY1−Y1’線の断面図である。
【図8A】本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するために工程順序によって示す要部平面配置図である。
【図8B】図8AのX1−X1’線の断面図である。
【図8C】図8AのX2−X2’線の断面図である。
【図8D】図8AのY1−Y1’線の断面図である。
【図9A】本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するために工程順序によって示す要部平面配置図である。
【図9B】図9AのX1−X1’線の断面図である。
【図9C】図9AのX2−X2’線の断面図である。
【図9D】図9AのY1−Y1’線の断面図である。
【図10】本発明の第2実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するための断面図である。
【符号の説明】
【0032】
100 メモリセルアレイ
110 活性領域
130 ワードライン
132 ゲート
200 ソース/ドレインコンタクト
300 ビットラインコンタクト
330 ビットライン
【技術分野】
【0001】
本発明は、フラッシュメモリ素子及びその製造方法に係り、特に高集積配置構造を有するツインビットセル構造のNOR型フラッシュメモリ素子及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
電気的にデータの消去及び保存が可能であり、電源が供給されなくても、データの保存が可能な不揮発性半導体メモリ素子が多様な分野でその応用が広がりつつある。このような不揮発性メモリ素子の代表的な例が、フラッシュメモリセル素子である。最近、メモリ素子が大容量化され、複雑な回路を構成するためのゲートアレイ数が急増することによって、MOSFET(Metal Oxidese Miconductor Field Effect Transistor)構造のように、単一ゲート構造としてトラップ電荷を用いるSONOS(または、MONOS)型不揮発性セルが研究されている。SONOS型セルではフローティングゲートのような追加的な層を導入しないために、段差が減少する利点がある。
【0003】
一方、数年前から高度な高集積不揮発性メモリ素子を具現するために、フローティングゲートのないSONOS型NORフラッシュメモリで非対称的プログラム方式を用いるツインビットメモリ技術が提案及び開発されてきた(例えば、特許文献1、特許文献2、特許文献3参照)。
【0004】
ツインビットメモリ技術は、単位基板面積当り多くのビットを保存できる方法であって、既存のスタックゲート形態のフラッシュ素子に比べて同一面積当り2倍の集積度を具現できる。ツインビットメモリのプログラム動作時には、トランジスタのゲートとその両側にあるソース/ドレイン接合のうち一側の接合に高い電圧を印加するチャンネルホット電子注入(CHEI:Channel Hot Electron Injection)方式で電子をゲートの一側縁部下端のシリコン窒化物層に電荷を順方向に注入し、読出し動作時にはプログラム動作時とソース及びドレインを反対にして、前記ソース/ドレイン接合のうち、反対側である他側との接合とゲートに電圧を印加して逆方向に読出す方式を採択している。また、消去動作は、ドレイン接合に高電圧を印加し、ゲート及び基板バルクは接地させ、ゲートと選択された高濃度のドレイン接合の重畳領域でホールのバンド間トンネリング(BtBT:Band−to−Band Tunneling)原理を用いて、シリコン窒化物層内のプログラムされた側の電子をホールと再結合させることによって、行われる。このように、1つのNORセルトランジスタに2つのビットを保存できる理由は、CHEIはトランジスタのドレイン側でなされ、トランジスタのスレショルド電圧(Vth)はトランジスタのソースの抵抗によって決定されるからである。
【0005】
ツインビットメモリセル構造を採用する従来のNORフラッシュメモリ素子は、通常、埋込型ビットライン構造を採用している(例えば、特許文献4参照)。埋込型ビットラインを採用する技術では、素子分離領域の下にビットラインを形成する方法または単純PN接合を用いてビットラインを形成する方法が利用されている。このような埋込型ビットラインを採用する構造において、ビットラインは、ワードラインの下に形成される素子分離領域の形成方向と同じ方向に形成され、各トランジスタのソース/ドレインは、ビットラインと合う各セルの接点によって形成される。このような構造では、メモリ素子のスケーリング時にトランジスタのパンチスルーによる素子誤動作の発生可能性が高く、よってメモリ素子のスケーリングに限界がある。
【特許文献1】米国特許第6,531,350号明細書
【特許文献2】米国特許第6,707,079号明細書
【特許文献3】米国特許第6,808,991号明細書
【特許文献4】米国特許第6,720,629号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明の目的は、トランジスタのパンチスルーによる素子誤動作の発生可能性を除去することによって、信頼性が向上し、スケーリングが容易で、かつ集積度を向上させうるNOR型フラッシュメモリ素子を提供することである。
本発明の他の目的は、信頼性及び集積度の向上した素子を製造するに当って、相互隣接したビットラインとの間を容易に絶縁させ、パンチスルーによる誤動作の発生可能性を除去しうるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
前記目的を達成するための本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子は、基板上で所定方向に沿って直線状に平行に延びている複数の活性領域と、前記活性領域上に形成され、複数のワードラインのうち、選択される1本のワードラインと複数本のビットラインのうち、選択される1本のビットラインとの接点によって各々決定される複数のメモリセルを備える。前記活性領域には、複数のソース/ドレイン領域が形成されており、前記ソース/ドレイン領域は、前記複数のメモリセルのうち、相互隣接した2つのメモリセルが共有する。前記ソース/ドレイン領域は、各々1個のビットラインコンタクトを通じて前記ビットラインと電気的に連結可能である。前記複数のメモリセルのうち、選択される相互隣接した4個のメモリセルは、1個のビットラインコンタクトを共有する。
【0008】
望ましくは、前記ワードラインは、前記活性領域に対して垂直に直線状に延びている。そして、前記ビットラインは、前記ワードラインの上部に形成されている。前記ビットラインは、前記ワードラインに対しては垂直であり、前記活性領域とは相互平行した直線状に延びている。
【0009】
前記メモリセルは、SONOS型メモリセルまたはスプリットゲート型メモリセルより構成されうる。
望ましくは、前記メモリセルは、前記活性領域上に形成された前記ワードラインの一部より構成されるゲートと、前記活性領域と前記ゲートとの間に介在されている誘電膜と、を備え、前記誘電膜は、その内部にトラップサイトが存在するように、相異なる種類より構成される複数の誘電物質層が順次に積層された構造を有する。
前記メモリセルがスプリットゲート型メモリセルより構成される場合、前記メモリセルは、前記活性領域上に形成された前記ワードラインの一部より構成されるゲートと、前記ゲートの両側壁を各々覆うように形成された第1側壁ゲート及び第2側壁ゲートと、前記活性領域と前記ゲートとの間に介在されている第1誘電膜と、前記ゲートと前記第1側壁ゲートとの間に介在されている第2誘電膜と、前記ゲートと前記第2側壁ゲートとの間に介在されている第3誘電膜と、を備えるように構成される。
本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子において、前記メモリセルは、各々1つのメモリセルで2ビットのメモリ動作がなされるツインビットセルを構成する。
【0010】
前記他の目的を達成するための本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法では、基板上に所定方向に沿って直線状に平行に延びる複数の活性領域を定義する。前記活性領域上に誘電膜を形成する。前記誘電膜上に前記活性領域に対して垂直に延びる複数のワードラインを形成する。前記活性領域のうち、前記ワードライン間に各々位置する複数のソース/ドレイン領域を形成する。前記複数のソース/ドレイン領域のうち、2つのソース/ドレイン領域を同時に露出させる複数の第1コンタクトホールが形成されている第1層間絶縁膜を前記ワードライン上に形成する。前記2つのソース/ドレイン領域に接触するように前記第1コンタクトホールを満たす複数の導電性コンタクトプラグを形成する。前記コンタクトプラグ毎に1つの接点を通じて相互接触される複数本のビットラインを形成する。
【0011】
本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子は、ビットラインがワードラインの上部に形成されて、1個のビットラインコンタクトを4個のセルトランジスタが共有する構成を有する。したがって、トランジスタのパンチスルーによる素子の誤動作除去に優れた特性を発揮でき、隣接したビットライン間の絶縁が容易でスケーリングにおいて非常に有利である。
【発明の効果】
【0012】
本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子は、ビットラインがワードラインの上部に形成されて1個のビットラインコンタクトを4個のセルトランジスタが共有する構成を有するので、パンチスルーによる素子の誤動作の発生を引き起こす従来の技術での構造的な問題を解決でき、隣接したビットライン間の絶縁が容易なため、スケーリング面で非常に有利である。
【発明を実施するための最良の形態】
【0013】
以下、添付した図面に基づいて本発明を詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子のメモリセルアレイ100の回路構成を概略的に示す図面であり、図2は、本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子を具現するための例示的なレイアウトを示す図面である。
図1及び図2を参照すれば、本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子において、メモリセルアレイ100の各メモリセルは、列方向及び行方向にマトリックス状に配列されているセルトランジスタ102より構成される。
【0014】
前記メモリセルアレイ100において、複数の活性領域110が所定方向に沿って直線状に延びており、前記活性領域110に対して垂直に複数のワードライン(WL)130が直線状に延びている。そして、前記ワードライン130の上部において、複数本のビットライン(BL)330が前記ワードライン130に対しては垂直であり、前記活性領域110とは相互平行した直線状に延びている。それぞれのメモリセルは、前記複数のワードライン130のうち、選択される1本のワードラインWL(N)と複数本のビットライン330のうち、選択される1本のビットラインBL(N)との接点によって決定される。
【0015】
各セルトランジスタ102の列方向においてソース/ドレイン領域を相互共有するように構成されている。列方向において相互隣接した2つのセルトランジスタ102によって共有される1つのソース/ドレイン領域は、行方向において隣接している他の1つのソース/ドレイン領域と1つのソース/ドレインコンタクト200を通じて相互連結され、前記ソース/ドレインコンタクト200は各々1個のビットラインコンタクト300を通じてビットライン330と接続されている。ここで、前記ソース/ドレイン領域は、各々1個のビットラインコンタクト300を通じて前記ビットライン330と電気的に連結されうる。したがって、複数のメモリセルのうち、選択される相互隣接した4個のメモリセル(例えば、図1及び図2において“A”で表示された領域にある4個のメモリセル)は、1個のビットラインコンタクト300を共有する。
【0016】
図2に例示されたNOR型フラッシュメモリ素子の各メモリセルは、活性領域110とワードライン130の一部より構成されるゲート132との間に介在されている誘電膜が、その内部にトラップサイトが存在するように構成された構造、例えばSONOS(Silicon/Silicon Oxide/Silicon Nitride/Silicon Oxide/Silicon)型メモリセル構造を有する場合に適用されうる。
【0017】
図3は、図2の変形実施形態であって、本発明の第2実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子を具現するための例示的なレイアウトを示す図面である。
図3には、各メモリセルでワードライン130の一部より構成されるゲート132の両側壁に前記ゲート132とは各々絶縁されている第1側壁ゲート146及び第2側壁ゲート148がさらに形成されているスプリットゲート型メモリセルよりなるNOR型フラッシュメモリ素子が例示されている。
【0018】
図3において、図2と同じ参照符号は同一部材を示すので、その詳細な説明は省略する。
前記例示された本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子の構成において、各メモリセルは、1つのメモリセルで2ビットのメモリ動作がなされるツインビットセルを構成する。前記各セルトランジスタ102のフィーチャーサイズは各メモリセルで1Fのピッチを有するワードライン130またはビットライン330によって決定され、1個のビットラインコンタクト300を4個のメモリセルが共有する配置より構成されるので、各メモリセルの表面積は4F2となる。したがって、本発明によれば、ツインビット4F2NOR型フラッシュメモリセルを具現でき、単位2F2当り1ビットを保存する。また、本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子は、ビットライン330がワードライン130の上部に形成されて1個のビットラインコンタクト300を4個のセルトランジスタ102が共有する構成を有するので、パンチスルーによる素子の誤動作発生を引き起こす従来の技術での構造的な問題が解決され、隣接したビットライン間の絶縁が容易なために、スケーリングにおいて非常に有利である。
【0019】
図4A、図5A、図6A、図7A、図8A及び図9Aは、各々本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するために工程順序によって示す要部平面配置図である。図4B、図5B、図6B、図7B、図8B及び図9Bは、各々図4A、図5A、図6A、図7A、図8A及び図9AのX1−X1’線の断面図であり、図4C、図5C、図6C、図7C、図8C及び図9Cは、各々図4A、図5A、図6A、図7A、図8A及び図9AのX2−X2’線の断面図であり、図4D、図5D、図6D、図7D、及び図9Dは、各々図4A、図5A、図6A、図7A、図8A及び図9AのY1−Y1’線の断面図である。
【0020】
まず、図4A、図4B、図4C及び図4Dを参照すれば、半導体基板105、例えば、シリコン基板の一部をエッチングしてフィン形状のメサ型活性領域110を形成する。次いで、前記メサ型活性領域110が形成された半導体基板105上に絶縁物質を蒸着し、前記蒸着された絶縁物質の一部を選択的に除去して前記活性領域110間のトレンチを部分的に満たすSTI(Shallow TrenchIsolation)領域108よりなる素子分離領域を形成する。前記STI領域108は、前記半導体基板105上に直線状に反復的に延びており、前記STI領域108によって限定される前記活性領域110は、前記半導体基板105上に所定方向、例えば、図2の列方向に沿って直線状に平行に延びる。本実施形態では前記素子分離領域がSTI領域108より構成されたと図示されているが、本発明はこれに限定されず、当業者ならば、前記素子分離領域をLOCOS(LOCal Oxidation of Silicon)領域で形成することも可能であるということをよく理解できる。
【0021】
図5A、図5B、図5C及び図5Dを参照すれば、前記活性領域110上に誘電膜120を形成する。前記誘電膜120はその内部にトラップサイトが存在するように相異なる種類より構成される複数の誘電物質層を順次に積層して形成する。例えば、前記誘電膜120は、シリコン酸化膜\シリコン窒化膜\シリコン酸化膜、アルミニウム酸化膜\シリコン窒化膜\シリコン酸化膜、及びシリコン酸化膜\ハフニウム酸化膜\シリコン酸化膜の構造よりなる群から選択される1つの構造を有するように形成されうる。
前記誘電膜120上に導電層、例えば、ドーピングされたポリシリコン層または金属層を形成し、前記導電層をパターニングして、前記誘電膜120上で前記活性領域110に対して垂直に延びる複数のワードライン130を形成する。前記ワードライン130は、前記活性領域110の上面及び両側壁を同時に覆うように形成される。前記ワードライン130は、各メモリセルのゲート132を構成する。
【0022】
図6A、図6B、図6C及び図6Dを参照すれば、前記活性領域110のうち、前記ワードライン130間に各々不純物イオンを注入して複数のソース/ドレイン領域134を形成する。前記ソース/ドレイン領域134は、図6Dに例示されたようにN+型不純物領域で形成されうる。
【0023】
図7A、図7B、図7C及び図7Dを参照すれば、前記ワードライン130及びソース/ドレイン領域134を覆う第1層間絶縁膜を形成した後、これをパターニングして前記複数のソース/ドレイン領域134のうち、相互隣接した2つのソース/ドレイン領域134を同時に露出させる複数のソース/ドレインコンタクトホール142が形成されている第1層間絶縁膜パターン140を形成する。
【0024】
図8A、図8B、図8C及び図8Dを参照すれば、前記ソース/ドレインコンタクトホール142を通じて同時に露出される2つのソース/ドレイン領域134に接触するように、前記ソース/ドレインコンタクトホール142を満たす複数の導電性コンタクトプラグ150を形成する。前記コンタクトプラグ150を形成するために前記第1層間絶縁膜140上に導電物質、例えば、ドーピングされたポリシリコンまたは金属物質を蒸着し、エッチバック工程またはCMP(Chemical Mechanical Polishing)工程を用いてノード分離を行なう。前記コンタクトプラグ150は、図8Aに示されているソース/ドレインコンタクト200を構成する。
【0025】
図9A、図9B、図9C及び図9Dを参照すれば、前記コンタクトプラグ150上に前記コンタクトプラグ150を一部露出させるコンタクトホールが形成された第2層間絶縁膜パターン160を形成した後、前記その上に導電層、例えば、ドーピングされたポリシリコン層または金属層を形成し、これをパターニングして、ビットライン330を形成する。前記ビットライン330は、ビットラインコンタクト300(図9A参照)を通じて前記コンタクトプラグ150と電気的に連結可能に構成される。
【0026】
図10は、本発明の第2実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するための断面図である。
図10の実施形態は、図3のスプリットゲート型メモリセルより構成されるNOR型フラッシュメモリ素子のレイアウトを具現するための1つの例として提示されたものであって、図3のX−X’線断面に対応する図面である。図3において、第1実施形態と同じ参照符号は同一部材を示すので、その詳細な説明は省略する。
【0027】
図3及び図10を参照すれば、図4Aないし図4D、そして図5Aないし図5Dの説明と同様な方法で前記ゲート132、すなわち、ワードライン130を形成するステップまで進行する。次いで、前記ゲート132上に薄い誘電膜及び導電層を順に覆う。次いで、前記ゲート132の上面が露出されるまで、前記誘電膜及び導電層をエッチバックし、不要な部分を除去し、前記ゲート132の両側壁を覆う第1側壁ゲート146及び第2側壁ゲート148を形成する。その結果、前記ゲート132と前記第1側壁ゲート146との間に誘電膜246が介在され、前記ゲート132と前記第2側壁ゲート148との間に誘電膜248が介在される構成が得られる。
次いで、第1実施形態において図6Aないし図6Dに基づいて説明したような工程及びその後続工程を同一に適用して行なう。
【0028】
前記例示された実施形態では、フィン形状の活性領域にfinFET構造のセルトランジスタを具現する方法のみを例示したが、本発明はこれに限定されない。すなわち、本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子は、STI素子分離方法によって限定された1次元平面より構成される活性領域上にセルトランジスタを形成する方法を用いる場合にも、本発明の基本的な思想を具現できるということは、当業者ならばよく理解できるであろう。
前述したように、本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子では、メモリセルアレイを構成するそれぞれのメモリセルが1つのメモリセルで2ビットのメモリ動作がなされるツインビットセルへの具現において、集積度を効率よく高めるために、1個のビットラインコンタクトを4個のメモリセルが共有する配置で構成されている。したがって、ツインビット4F2 NOR型フラッシュメモリセルを具現でき、単位2F2当り1ビットを保存できる。
【0029】
以上、本発明を望ましい実施形態を挙げて説明したが、本発明は、前記実施形態に限定されず、本発明の技術的思想及び範囲内で当業者によって多様な変形及び変更が可能である。
【産業上の利用可能性】
【0030】
本発明によるNOR型フラッシュメモリ素子及びその製造方法は、携帯電話、セットトップボックス、POS、PDA、PCAのようなコードメモリを構成する核心的な素子の製造技術分野に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【0031】
【図1】本発明の望ましい実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子のメモリセルアレイの回路構成図である。
【図2】本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子を具現するための例示的なレイアウトを示す図面である。
【図3】本発明の第2実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子を具現するための例示的なレイアウトを示す図面である。
【図4A】本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するために工程順序によって示す要部平面配置図である。
【図4B】図4AのX1−X1’線の断面図である。
【図4C】図4AのX2−X2’線の断面図である。
【図4D】図4AのY1−Y1’線の断面図である。
【図5A】本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するために工程順序によって示す要部平面配置図である。
【図5B】図5AのX1−X1’線の断面図である。
【図5C】図5AのX2−X2’線の断面図である。
【図5D】図5AのY1−Y1’線の断面図である。
【図6A】本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するために工程順序によって示す要部平面配置図である。
【図6B】図6AのX1−X1’線の断面図である。
【図6C】図6AのX2−X2’線の断面図である。
【図6D】図6AのY1−Y1’線の断面図である。
【図7A】本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するために工程順序によって示す要部平面配置図である。
【図7B】図7AのX1−X1’線の断面図である。
【図7C】図7AのX2−X2’線の断面図である。
【図7D】図7AのY1−Y1’線の断面図である。
【図8A】本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するために工程順序によって示す要部平面配置図である。
【図8B】図8AのX1−X1’線の断面図である。
【図8C】図8AのX2−X2’線の断面図である。
【図8D】図8AのY1−Y1’線の断面図である。
【図9A】本発明の第1実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するために工程順序によって示す要部平面配置図である。
【図9B】図9AのX1−X1’線の断面図である。
【図9C】図9AのX2−X2’線の断面図である。
【図9D】図9AのY1−Y1’線の断面図である。
【図10】本発明の第2実施形態によるNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法を説明するための断面図である。
【符号の説明】
【0032】
100 メモリセルアレイ
110 活性領域
130 ワードライン
132 ゲート
200 ソース/ドレインコンタクト
300 ビットラインコンタクト
330 ビットライン
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板上で所定方向に沿って直線状に平行に延びている複数の活性領域と、
前記活性領域上に形成され、複数のワードラインのうち選択される1本のワードラインと複数本のビットラインのうち選択される1本のビットラインとの接点によって各々決定される複数のメモリセルと、
前記複数のメモリセルのうち、相互隣接した2つのメモリセルが共有するように前記活性領域に形成されている複数のソース/ドレイン領域と、を備え、
前記ソース/ドレイン領域は、各々1個のビットラインコンタクトを通じて前記ビットラインと電気的に連結され、
前記複数のメモリセルのうち、選択される相互隣接した4つのメモリセルは、1個のビットラインコンタクトを共有することを特徴とするNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項2】
前記ワードラインは、前記活性領域に対して垂直に直線状に延びていることを特徴とする請求項1に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項3】
前記ビットラインは、前記ワードラインの上部に形成されており、前記ワードラインに対しては垂直であり、前記活性領域とは相互平行した直線状に延びていることを特徴とする請求項1に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項4】
前記活性領域は前記基板に直線状に反復形成された複数のSTI領域またはLOCOS領域によって限定されていることを特徴とする請求項1に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項5】
前記活性領域は、前記基板上に形成された複数のフィン形状のメサ型活性領域で構成されたことを特徴とする請求項1に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項6】
前記複数のメモリセルは、前記複数の活性領域のうち、選択される第1活性領域に一列に形成される第1メモリセル群と、前記第1活性領域に最も隣接するように離隔されている第2活性領域に一列に形成される第2メモリセル群と、を備え、
前記第1メモリセル群から選択される相互隣接した2つのメモリセルは、前記第1活性領域に形成されている1つのソース/ドレイン領域を共有し、
前記第2メモリセル群から選択される相互隣接した2つのメモリセルは、前記第2活性領域に形成されている1つのソース/ドレイン領域を共有することを特徴とする請求項1に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項7】
前記第1活性領域に形成されている1つのソース/ドレイン領域と前記第2活性領域に形成されている1つのソース/ドレイン領域は、相互1個のビットラインコンタクトを共有することを特徴とする請求項6に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項8】
前記メモリセルは、SONOS型メモリセルであることを特徴とする請求項1に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項9】
前記メモリセルは、前記活性領域上に形成された前記ワードラインの一部で構成されるゲートと、前記活性領域と前記ゲートとの間に介在されている誘電膜を備え、
前記誘電膜は、その内部にトラップサイトが存在するように相異なる種類で構成される複数の誘電物質層が順次に積層された構造を有することを特徴とする請求項8に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項10】
前記誘電膜は、シリコン酸化膜\シリコン窒化膜\シリコン酸化膜、アルミニウム酸化膜\シリコン窒化膜\シリコン酸化膜、及びシリコン酸化膜\ハフニウム酸化膜\シリコン酸化膜の構造よりなる群から選択される1つの構造を有することを特徴とする請求項9に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項11】
前記メモリセルは、スプリットゲート型メモリセルのことを特徴とする請求項1に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項12】
前記メモリセルは、
前記活性領域上に形成された前記ワードラインの一部より構成されるゲートと、
前記ゲートの両側壁を各々覆うように形成された第1側壁ゲート及び第2側壁ゲートと、
前記活性領域と前記ゲートとの間に介在されている第1誘電膜と、
前記ゲートと前記第1側壁ゲートとの間に介在されている第2誘電膜と、
前記ゲートと前記第2側壁ゲートとの間に介在されている第3誘電膜と、を備えることを特徴とする請求項11に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項13】
前記メモリセルは、各々1つのメモリセルで少なくとも2ビットのメモリ動作が行われるツインビットセルを構成することを特徴とする請求項1に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項14】
基板上に所定方向に沿って直線状に平行に延びる複数の活性領域を定義するステップと、
前記活性領域上に誘電膜を形成するステップと、
前記誘電膜上に前記活性領域に対して垂直に延びる複数のワードラインを形成するステップと、
前記活性領域のうち、前記ワードラインの間に各々位置する複数のソース/ドレイン領域を形成するステップと、
前記複数のソース/ドレイン領域のうち、2つのソース/ドレイン領域を同時に露出させる複数の第1コンタクトホールが形成されている第1層間絶縁膜を前記ワードライン上に形成するステップと、
前記2つのソース/ドレイン領域に接触するように前記第1コンタクトホールを充填する複数の導電性コンタクトプラグを形成するステップと、
前記コンタクトプラグ毎に1つの接点を通じて相互接触される複数本のビットラインを形成するステップと、を含むことを特徴とするNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項15】
前記活性領域を定義するために、前記基板に直線状に反復形成された複数のSTI領域を形成することを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項16】
前記活性領域を定義するステップは、
前記基板の一部をエッチングして複数のフィン形状のメサ型活性領域を形成するステップと、
前記各メサ型活性領域の間に素子分離膜を形成するステップと、を含むことを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項17】
前記誘電膜は、その内部にトラップサイトが存在するように相異なる種類より構成される複数の誘電物質層を順次に積層して形成されることを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項18】
前記誘電膜は、シリコン酸化膜\シリコン窒化膜\シリコン酸化膜、アルミニウム酸化膜\シリコン窒化膜\シリコン酸化膜、及びシリコン酸化膜\ハフニウム酸化膜\シリコン酸化膜の構造よりなる群から選択される1つの構造を有するように形成されることを特徴とする請求項17に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項19】
前記ワードラインは、前記メサ型活性領域の上面及び両側壁を同時に覆うように形成されることを特徴とする請求項16に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項20】
前記ワードラインは、前記活性領域のうち、その上面を覆うように形成されることを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項21】
前記ワードラインは、直線状に延びるように形成されることを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項22】
前記ワードラインの形成後、前記ソース/ドレイン領域の形成前に、前記活性領域上に前記ワードラインの両側壁を各々覆う第1側壁ゲート及び第2側壁ゲートを形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項23】
前記複数の活性領域は、相互最も隣接するように離隔されている第1活性領域及び第2活性領域を備え、
前記第1コンタクトホールによって同時に露出される2つのソース/ドレイン領域は、前記第1活性領域に形成された第1ソース/ドレイン領域、及び前記第2活性領域に形成された第2ソース/ドレイン領域であることを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項24】
前記ビットラインは、前記ワードラインに対しては垂直であり、前記活性領域とは平行した直線状に延びるように形成されることを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項25】
前記ビットラインは、前記ワードラインを中心に前記基板とは反対側で前記コンタクトプラグを覆うように形成されることを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項1】
基板上で所定方向に沿って直線状に平行に延びている複数の活性領域と、
前記活性領域上に形成され、複数のワードラインのうち選択される1本のワードラインと複数本のビットラインのうち選択される1本のビットラインとの接点によって各々決定される複数のメモリセルと、
前記複数のメモリセルのうち、相互隣接した2つのメモリセルが共有するように前記活性領域に形成されている複数のソース/ドレイン領域と、を備え、
前記ソース/ドレイン領域は、各々1個のビットラインコンタクトを通じて前記ビットラインと電気的に連結され、
前記複数のメモリセルのうち、選択される相互隣接した4つのメモリセルは、1個のビットラインコンタクトを共有することを特徴とするNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項2】
前記ワードラインは、前記活性領域に対して垂直に直線状に延びていることを特徴とする請求項1に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項3】
前記ビットラインは、前記ワードラインの上部に形成されており、前記ワードラインに対しては垂直であり、前記活性領域とは相互平行した直線状に延びていることを特徴とする請求項1に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項4】
前記活性領域は前記基板に直線状に反復形成された複数のSTI領域またはLOCOS領域によって限定されていることを特徴とする請求項1に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項5】
前記活性領域は、前記基板上に形成された複数のフィン形状のメサ型活性領域で構成されたことを特徴とする請求項1に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項6】
前記複数のメモリセルは、前記複数の活性領域のうち、選択される第1活性領域に一列に形成される第1メモリセル群と、前記第1活性領域に最も隣接するように離隔されている第2活性領域に一列に形成される第2メモリセル群と、を備え、
前記第1メモリセル群から選択される相互隣接した2つのメモリセルは、前記第1活性領域に形成されている1つのソース/ドレイン領域を共有し、
前記第2メモリセル群から選択される相互隣接した2つのメモリセルは、前記第2活性領域に形成されている1つのソース/ドレイン領域を共有することを特徴とする請求項1に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項7】
前記第1活性領域に形成されている1つのソース/ドレイン領域と前記第2活性領域に形成されている1つのソース/ドレイン領域は、相互1個のビットラインコンタクトを共有することを特徴とする請求項6に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項8】
前記メモリセルは、SONOS型メモリセルであることを特徴とする請求項1に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項9】
前記メモリセルは、前記活性領域上に形成された前記ワードラインの一部で構成されるゲートと、前記活性領域と前記ゲートとの間に介在されている誘電膜を備え、
前記誘電膜は、その内部にトラップサイトが存在するように相異なる種類で構成される複数の誘電物質層が順次に積層された構造を有することを特徴とする請求項8に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項10】
前記誘電膜は、シリコン酸化膜\シリコン窒化膜\シリコン酸化膜、アルミニウム酸化膜\シリコン窒化膜\シリコン酸化膜、及びシリコン酸化膜\ハフニウム酸化膜\シリコン酸化膜の構造よりなる群から選択される1つの構造を有することを特徴とする請求項9に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項11】
前記メモリセルは、スプリットゲート型メモリセルのことを特徴とする請求項1に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項12】
前記メモリセルは、
前記活性領域上に形成された前記ワードラインの一部より構成されるゲートと、
前記ゲートの両側壁を各々覆うように形成された第1側壁ゲート及び第2側壁ゲートと、
前記活性領域と前記ゲートとの間に介在されている第1誘電膜と、
前記ゲートと前記第1側壁ゲートとの間に介在されている第2誘電膜と、
前記ゲートと前記第2側壁ゲートとの間に介在されている第3誘電膜と、を備えることを特徴とする請求項11に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項13】
前記メモリセルは、各々1つのメモリセルで少なくとも2ビットのメモリ動作が行われるツインビットセルを構成することを特徴とする請求項1に記載のNOR型フラッシュメモリ素子。
【請求項14】
基板上に所定方向に沿って直線状に平行に延びる複数の活性領域を定義するステップと、
前記活性領域上に誘電膜を形成するステップと、
前記誘電膜上に前記活性領域に対して垂直に延びる複数のワードラインを形成するステップと、
前記活性領域のうち、前記ワードラインの間に各々位置する複数のソース/ドレイン領域を形成するステップと、
前記複数のソース/ドレイン領域のうち、2つのソース/ドレイン領域を同時に露出させる複数の第1コンタクトホールが形成されている第1層間絶縁膜を前記ワードライン上に形成するステップと、
前記2つのソース/ドレイン領域に接触するように前記第1コンタクトホールを充填する複数の導電性コンタクトプラグを形成するステップと、
前記コンタクトプラグ毎に1つの接点を通じて相互接触される複数本のビットラインを形成するステップと、を含むことを特徴とするNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項15】
前記活性領域を定義するために、前記基板に直線状に反復形成された複数のSTI領域を形成することを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項16】
前記活性領域を定義するステップは、
前記基板の一部をエッチングして複数のフィン形状のメサ型活性領域を形成するステップと、
前記各メサ型活性領域の間に素子分離膜を形成するステップと、を含むことを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項17】
前記誘電膜は、その内部にトラップサイトが存在するように相異なる種類より構成される複数の誘電物質層を順次に積層して形成されることを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項18】
前記誘電膜は、シリコン酸化膜\シリコン窒化膜\シリコン酸化膜、アルミニウム酸化膜\シリコン窒化膜\シリコン酸化膜、及びシリコン酸化膜\ハフニウム酸化膜\シリコン酸化膜の構造よりなる群から選択される1つの構造を有するように形成されることを特徴とする請求項17に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項19】
前記ワードラインは、前記メサ型活性領域の上面及び両側壁を同時に覆うように形成されることを特徴とする請求項16に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項20】
前記ワードラインは、前記活性領域のうち、その上面を覆うように形成されることを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項21】
前記ワードラインは、直線状に延びるように形成されることを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項22】
前記ワードラインの形成後、前記ソース/ドレイン領域の形成前に、前記活性領域上に前記ワードラインの両側壁を各々覆う第1側壁ゲート及び第2側壁ゲートを形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項23】
前記複数の活性領域は、相互最も隣接するように離隔されている第1活性領域及び第2活性領域を備え、
前記第1コンタクトホールによって同時に露出される2つのソース/ドレイン領域は、前記第1活性領域に形成された第1ソース/ドレイン領域、及び前記第2活性領域に形成された第2ソース/ドレイン領域であることを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項24】
前記ビットラインは、前記ワードラインに対しては垂直であり、前記活性領域とは平行した直線状に延びるように形成されることを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【請求項25】
前記ビットラインは、前記ワードラインを中心に前記基板とは反対側で前記コンタクトプラグを覆うように形成されることを特徴とする請求項14に記載のNOR型フラッシュメモリ素子の製造方法。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4A】
【図4B】
【図4C】
【図4D】
【図5A】
【図5B】
【図5C】
【図5D】
【図6A】
【図6B】
【図6C】
【図6D】
【図7A】
【図7B】
【図7C】
【図7D】
【図8A】
【図8B】
【図8C】
【図8D】
【図9A】
【図9B】
【図9C】
【図9D】
【図10】
【図2】
【図3】
【図4A】
【図4B】
【図4C】
【図4D】
【図5A】
【図5B】
【図5C】
【図5D】
【図6A】
【図6B】
【図6C】
【図6D】
【図7A】
【図7B】
【図7C】
【図7D】
【図8A】
【図8B】
【図8C】
【図8D】
【図9A】
【図9B】
【図9C】
【図9D】
【図10】
【公開番号】特開2006−186378(P2006−186378A)
【公開日】平成18年7月13日(2006.7.13)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−376044(P2005−376044)
【出願日】平成17年12月27日(2005.12.27)
【出願人】(390019839)三星電子株式会社 (8,520)
【氏名又は名称原語表記】Samsung Electronics Co.,Ltd.
【Fターム(参考)】
【公開日】平成18年7月13日(2006.7.13)
【国際特許分類】
【出願日】平成17年12月27日(2005.12.27)
【出願人】(390019839)三星電子株式会社 (8,520)
【氏名又は名称原語表記】Samsung Electronics Co.,Ltd.
【Fターム(参考)】
[ Back to top ]