噴霧方法および装置
【課題】 エッチング液または現像液等の処理液を、処理の対象となる被処理材料に均一に噴霧する。
【解決手段】 隣接するヘッダパイプ１ａ〜１ｇ間において隣接するエッチングノズル３の間の距離をＰ３、エッチングノズル３のオシレーションの中心位置とエッチングがなされるプリント配線板２との間の距離をＬ３、最大オシレーション角度をθ３としたときに、下記の式を満たすように最大オシレーション角度θ３を調整する。
（Ｐ３／２）／Ｌ３＜ｔａｎθ３
【解決手段】 隣接するヘッダパイプ１ａ〜１ｇ間において隣接するエッチングノズル３の間の距離をＰ３、エッチングノズル３のオシレーションの中心位置とエッチングがなされるプリント配線板２との間の距離をＬ３、最大オシレーション角度をθ３としたときに、下記の式を満たすように最大オシレーション角度θ３を調整する。
（Ｐ３／２）／Ｌ３＜ｔａｎθ３
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント配線板のエッチング装置や現像装置において、エッチング液や現像液等の処理液を、プリント配線板等の被処理材料に噴霧する噴霧方法および装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
絶縁基板に銅箔を積層したプリント配線板に配線パターンを形成する際、不要部分の銅箔はエッチングにより取り除かれる。従来のエッチング方法はエッチング装置本体内を通過する搬送装置にプリント配線板を載置し、搬送されるプリント配線板の表面にエッチング液を噴霧する方法が採用されている。
【０００３】
図１９はエッチング装置の平面図である。図１９に示すように、ヘッダ２６に多数の分岐ヘッダ２７が互いに平行にかつプリント配線板の搬送方向に所定の角度傾斜して配置されており、各分岐ヘッダ２７に多数のエッチングノズル３が設けられている。この分岐ヘッダ２７は不図示のオシレーション装置により軸の周りに揺動するように構成されている。すなわち、図２０に示すように分岐ヘッダ２７の下面に突設された多数のエッチングノズル３の向きが、時間の経過と共に周期的に変化するように構成し、プリント配線板２の表面の各部におけるエッチング液の噴霧条件を可能な限り均一に維持するものである。
【０００４】
なお、エッチング装置によってはオシレーション装置を備えていないものもあり、このようなエッチング装置においては、エッチングノズル３は揺動されることなく、エッチング液が噴霧されることとなる。
【０００５】
このようなエッチング装置において、各分岐ヘッダのノズルから噴霧されるエッチング液は、隣接する分岐ヘッダの中間部において最も多く集まる。そして、ノズルの揺動に伴い、エッチング液の盛り上がり部が移動する。このときプリント配線板の幅方向縁部のエッチング液は比較的円滑に排除され易いが、幅方向中央部のエッチング液は全体として停留しがちである。したがって、プリント配線板の各部において、不均一なエッチングが生ずることになる。
【０００６】
また、プリント配線板に積層されたレジスト層に配線パターンを露光した後の現像工程を実施する現像装置において、プリント配線板に現像液を噴霧する場合においても、現像液が停留すると不均一な現像が生ずることとなる。
【０００７】
このため、エッチング液の噴霧時期を順次周期的に変化させることにより、プリント配線板各部において均一なエッチングを得るようにしたエッチング装置が提案されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平５−２２６８１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本願発明は、上記特許文献１とは異なる手法により、エッチング液または現像液等の処理液を、処理の対象となる被処理材料に均一に噴霧することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明による第１の噴霧方法は、複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置における噴霧方法において、
最大オシレーション位置における、隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点が、該一方のノズルの位置と他方のノズルの位置との２等分線の前記被処理材料表面における交点を超えるように、オシレーションを行うことを特徴とするものである。
【００１０】
「ノズルの中心線」とは、ノズルからは通常円錐状に処理液が噴霧されるが、ノズルにおける噴霧点を通り、処理液の噴霧方向に平行な線を意味する。
【００１１】
「オシレーション」としては、ノズルをある一点を中心として揺動させるのみならず、ノズルを往復平行移動させることも含む。
【００１２】
ここで、オシレーションは所定の振幅を持って行われるが、振幅が最大となる位置、すなわちオシレーション方向においてノズルが最大限に移動した位置が最大オシレーション位置となる。なお、最大オシレーション位置は、オシレーションにおいて２カ所に存在することとなる。この２カ所の最大オシレーション位置のほぼ中間位置を最小オシレーション位置とする。なお、ノズルが揺動する場合、ノズルの噴霧方向が被処理材料にほぼ直交する状態となるオシレーション位置が最小オシレーション位置となる。
【００１３】
本発明による第２の噴霧方法は、複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置における噴霧方法において、
隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの最大オシレーション位置における該一方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点が、他方のノズルの前記最大オシレーション位置とは逆側の最大オシレーション位置における該他方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点を超えるように、オシレーションを行うことを特徴とするものである。
【００１４】
本発明による第３の噴霧方法は、複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置における噴霧方法において、
最大オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度および最小オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度が略同一となるようにオシレーションを行うことを特徴とするものである。
【００１５】
本発明による第４の噴霧方法は、複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設された噴霧装置における噴霧方法において、
隣接するヘッダパイプ間における隣接するノズル間の距離をＰ１、前記ノズルの先端と前記被処理材料表面との距離をＬ１、隣接するヘッダパイプ間における隣接するノズルから発せられた前記処理液の前記被処理材料表面における噴霧領域間の距離をＰ２としたとき、距離Ｐ２が距離Ｐ１の５％以上２０％以下となるように、前記距離Ｌ１を調整することを特徴とするものである。
【００１６】
本発明による第１の噴霧装置は、複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置において、
前記オシレーション手段は、最大オシレーション位置における、隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点が、該一方のノズルの位置と他方のノズルの位置との２等分線の前記被処理材料表面における交点を超えるように、オシレーションを行う手段であることを特徴とするものである。
【００１７】
本発明による第２の噴霧装置は、複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置において、
前記オシレーション手段は、隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの最大オシレーション位置における該一方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点が、他方のノズルの前記最大オシレーション位置とは逆側の最大オシレーション位置における該他方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点を超えるように、オシレーションを行う手段であることを特徴とするものである。
【００１８】
本発明による第３の噴霧装置は、複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置において、
前記オシレーション手段は、最大オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度および最小オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度が略同一となるようにオシレーションを行う手段であることを特徴とするものである。
【００１９】
本発明による第４の噴霧装置は、複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設された噴霧装置において、
隣接するヘッダパイプ間における隣接するノズル間の距離をＰ１、前記ノズルの先端と前記被処理材料表面との距離をＬ１、隣接するヘッダパイプ間における隣接するノズルから発せられた前記処理液の前記被処理材料表面における噴霧領域間の距離をＰ２としたとき、距離Ｐ２が距離Ｐ１の５％以上２０％以下となるように、前記距離Ｌ１が調整されてなることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の第１の噴霧方法および装置においては、最大オシレーション位置において、隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの中心線の被処理材料表面における交点が、一方のノズルの位置と他方のノズルの位置との２等分線の被処理材料表面における交点を超えるようにオシレーションを行うようにしたため、被処理材料表面における処理液の停留を防止し、均一に処理液を噴霧することができる。
【００２１】
本発明の第２の噴霧方法および装置においては、隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの最大オシレーション位置における一方のノズルの中心線の被処理材料表面における交点が、他方のノズルの最大オシレーション位置とは逆側の最大オシレーション位置における他方のノズルの中心線の被処理材料表面における交点を超えるようにオシレーションを行うようにしたため、被処理材料表面における処理液の停留を防止し、均一に処理液を噴霧することができる。
【００２２】
本発明の第３の噴霧方法および装置においては、最大オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度および最小オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度が略同一となるようにオシレーションを行うようにしたため、被処理材料表面における処理液の停留を防止し、均一に処理液を噴霧することができる。
【００２３】
本発明の第４の噴霧方法および装置においては、距離Ｐ２が距離Ｐ１の５％以上２０％以下となるように、ノズルの先端と被処理材料表面との距離Ｌ１を調整するようにしたため、被処理材料表面における処理液の停留を防止し、均一に処理液を噴霧することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。図１は本発明の第１の実施形態による噴霧装置を適用したエッチング装置の平面図、図２は同正面図である。本実施形態によるエッチング装置１００は、現像がなされたプリント配線板２のエッチングを行うためのものであり、コンベアライン１９上に多数のカップリングロール７が並列され、上流側にエッチング装置本体５が設けられ、下流側に洗浄機本体６が設けられている。エッチング装置本体５はその下部にエッチング液タンク１６が設けられ、コンベアライン１９を挟んで上下にそれぞれヘッダパイプ１ａ〜１ｇが配置されている。これらのヘッダパイプ１ａ〜１ｇは互いに平行かつ搬送面に平行であると共に、搬送方向に対してはわずかに傾斜している。なお、搬送方向に平行にヘッダパイプ１ａ〜１ｇを配置してもよく、搬送方向に対して所定の角度を持ってヘッダパイプ１ａ〜１ｇを配置してもよい。各ヘッターパイプには多数（例えば１０個）のエッチングノズル３が等間隔に配置されている。また、エッチングノズル３は、コンベアライン１９が移動する方向と直交して整列して並ぶようにヘッダパイプ１ａ〜１ｇに配置されている。また、上下の各ヘッダパイプはその軸線の周りにわずかに揺動するいわゆるオシレーションが行われる。
【００２５】
図３はオシレーション装置の構成を示す図である。図３に示すようにオシレーション装置５０は、オシレーションモータ５１、オシレーションモータ５１の回転軸に取付けられた駆動ギア５２、揺動レバー５３が取付けられた従動ギア５４、駆動ギア５２の動力を従動ギア５４に伝達するチェーン５５、ヘッダパイプ１ａ〜１ｇに取付けられたクランク機構５６およびクランク機構５６と揺動レバー５３とを連結するクランク棒５７とを備える。
【００２６】
クランク機構５６は回転中心Ｏ１が固定されており、クランク棒５７との連結部Ｏ２が揺動レバー５３の回転に応じて上下に移動することにより、回転中心Ｏ１を中心として回転する。また、ヘッダパイプ１ａ〜１ｇはその中心軸と一致する、紙面に垂直方向に延びる固定された回転軸を有している。
【００２７】
このようなオシレーション装置５０は以下のように駆動する。オシレーションモータ５１の駆動により駆動ギア５２が矢印Ａ方向に回転すると、従動ギア５４および揺動レバー５３が矢印Ｂ方向に回転する。これに伴い、クランク機構５６が固定中心Ｏ１を中心として矢印Ｃ方向に揺動することにより、オシレーションアームが矢印Ｄ方向に往復移動する。これにより、オシレーションアーム５６ａに枢着されたリンク５６ｂがヘッダパイプ１ａ〜１ｇの回転軸の周りに左右に揺動する。このリンク５６ｂとヘッダパイプ１ａ〜１ｇとは固定されているため、各ヘッダパイプ１ａ〜１ｇはリンク５６ｂの揺動に伴って首ふり動作を行う。そして、エッチングノズル３から噴射されるエッチング液の噴霧範囲を図４および図５に示すように時間的に変化させる。なお、図４はエッチングノズル３が右側最大オシレーション位置に揺動した状態を、図５はエッチングノズル３が左側最大オシレーション位置に揺動した状態をそれぞれ示す。
【００２８】
ここで、第１の実施形態においては、エッチングノズル３のオシレーション角度は以下のように制御される。図６は第１の実施形態におけるエッチングノズル３のオシレーション角度の一態様を説明するための図である。なお、第１の実施形態においては、エッチングノズル３のオシレーション角度はオシレーション方向において左右均等であるものとする。第１の実施形態においては、隣接するヘッダパイプ１ａ〜１ｇ間において隣接するエッチングノズル３の間の距離をＰ３、オシレーションの中心位置（すなわちヘッダパイプ１ａ〜１ｇの回転軸の位置）とエッチングがなされるプリント配線板２との間の距離をＬ３、最大オシレーション角度をθ３としたときに、下記の式（１）を満たすように最大オシレーション角度θ３を調整する。なお、最大オシレーション角度θ３とは、エッチングノズル３が真下を向いた状態を基準とした場合に、左右に最も大きくエッチングノズル３が傾斜したときのヘッダパイプ１ａ〜１ｇの回転角度を意味する。
【００２９】
（Ｐ３／２）／Ｌ３＜ｔａｎθ３ （１）
式（１）を満たすように最大オシレーション角度θ３を調整することにより、最大オシレーション位置において、隣接するヘッダパイプ１ａ〜１ｇ間における隣接する一方のエッチングノズル３の中心線のプリント配線板２の表面における交点Ｃが、隣接するエッチングノズル３の位置の２等分線のプリント配線板２の表面との交点を超えるように、オシレーションが行われることとなる。
【００３０】
なお、最大オシレーション角度の調整は、クランク棒５７の揺動レバー５３における取り付け位置を従動ギア５４の半径方向において変更することにより行えばよい。
【００３１】
ここで、エッチングノズル３のオシレーション角度がオシレーション方向において均等でない場合においても、式（１）を満たすように最大オシレーション角度θ３を調整すればよい。この場合、図７に示すように、隣接するヘッダパイプ１ａ〜１ｇ間における隣接する一方のエッチングノズル３の最大オシレーション位置における一方のエッチングノズル３の中心線のプリント配線板２の表面における交点Ｃが、他方のエッチングノズル３の最大オシレーション位置とは逆側の最大オシレーション位置における他方のエッチングノズル３の中心線のプリント配線板２の表面における交点Ｄを超えるように、オシレーションが行われることとなる。
【００３２】
次いで、第１の実施形態によるエッチング装置の動作について説明する。配線パターンが露光されて現像がなされたプリント配線板２は図２のコンベアライン１９上をエッチング装置１００の最左端から供給される。コンベアライン１９においてプリント配線板２を搬送するコンベアは、図８に示す多数のカップリングロール７により構成される。図８に示すように、カップリングロール７は、上下互いに平行に配置された軸に、一定間隔で幅の狭いゴムローラが固定されることにより構成される。各ゴムローラは、その側面にエッチング液流通用の多数の孔が穿設されている。一対のカップリングロール７は互いに同期するように、一対の平行軸が一組の歯車３４により連結されている。また、一方の軸はベベルギア３３を介してコンベア駆動軸３２に連結されている。コンベア駆動軸３２は装置の長手方向に配置され、適宜間隔でベベルギア３３が設けられ、各カップリングロール７を駆動するものである。このようなコンベアライン１９上をプリント配線板２が図２の左から右に移動する。
【００３３】
塩化第二鉄、塩化第二銅、過酸化水素等からなるエッチング液はエッチング液タンク１６からポンプおよびロータリバルブを介し各ヘッダパイプ１ａ〜１ｆに供給され、プリント配線板２にスプレーされる。スプレーされたエッチング液はエッチング液タンク１６に流入し、再びスプレーされる。
【００３４】
エッチング液はヒータ等の加熱装置や冷却装置によって所定温度に維持される。これとともに、新しいエッチング液が供給され、所定の濃度に維持される。プリント配線板２は、本装置を通過すると酸洗浄ノズル１７、水洗浄ノズル１８により洗浄される。そして、液切りロール９および絞りロール１４を経て外部に取り出される。これらの制御は図２における制御盤８を介して行われ、エッチング作業時にはコンベアモータ１３、水洗ポンプ１２、およびオシレーションモータ５１その他が駆動される。
【００３５】
このように、本発明の第１の実施形態においては、上記式（１）を満たすように最大オシレーション角度θ３を調整することにより、オシレーション角度がオシレーション方向において均等である場合においては、最大オシレーション位置において、隣接するヘッダパイプ１ａ〜１ｇ間における隣接する一方のエッチングノズル３の中心線のプリント配線板２の表面における交点Ｃが、エッチングノズル３間の２等分線のプリント配線板２の表面との交点を超えるように、オシレーションを行うようにしたものである。また、オシレーション角度がオシレーション方向において均等でない場合には、隣接するヘッダパイプ１ａ〜１ｇ間における隣接する一方のエッチングノズル３の最大オシレーション位置における一方のエッチングノズル３の中心線のプリント配線板２の表面における交点Ｃが、他方のエッチングノズル３の最大オシレーション位置とは逆側の最大オシレーション位置における他方のエッチングノズル３の中心線のプリント配線板２の表面における交点Ｄを超えるように、オシレーションを行うようにしたものである。
【００３６】
このため、プリント配線板２の表面におけるエッチング液の停留を防止し、均一にエッチング液を噴霧することができる。
【００３７】
次いで、本発明の第２の実施形態について説明する。なお、第２の実施形態による噴霧装置において第１の実施形態と同一の構成については同一の参照番号を付し、詳細な説明は省略する。図９は第２の実施形態における噴霧装置に用いられるオシレーション装置の構成を示す図である。図９に示すように第２の実施形態におけるオシレーション装置６０は、第１の実施形態におけるオシレーション装置５０に、従動ギア５４に取付けられた、複数の切欠が形成された位置検出用円盤６１、円盤６１における切欠の位置を検出するフォトインタラプタ６２およびオシレーションモータ５１の回転を制御する制御部６３を設けたものである。
【００３８】
位置検出用円盤６１には、初期位置を検出するための切欠６１Ａ、初期位置を０度として円盤６１の４５度、１３５度、２２５度および３１５度の回転位置を検出するための、切欠６１Ａよりも小さい切欠６１Ｂ〜６１Ｅが形成されている。
【００３９】
フォトインタラプタ６２は、切欠６１Ａ〜６１Ｅがフォトインタラプタ６２を通過したときにオンとなってオン信号を出力し、それ以外の場合にはオフとなって信号を出力しない。
【００４０】
制御部６３は以下のようにしてオシレーションモータ５１の回転速度を制御する。図１２はモータの回転速度の制御を説明するための図である。位置検出用円盤６１における切欠６１Ａの位置は、円盤６１を横から見た場合、オシレーションモータ５１の回転によりサインカーブを描くように移動する。一方、フォトインタラプタ６２からは、切欠６１Ａ〜６１Ｅが通過する毎にオン信号が出力される。すなわち、０度の初期回転位置（すなわち切欠６１Ａがフォトインタラプタ６２を通過する位置）においてフォトインタラプタ６２は長いオン信号を、４５度、１３５度、２２５度および３１５度の回転位置において初期回転位置よりも短いオン信号を出力する。
【００４１】
制御部６３は、オシレーションの開始時において、初期回転位置のオン信号を検出したときに回転速度がＬｏｗとなるようにオシレーションモータ５１の回転速度を制御する。初期回転位置のオン信号を検出した後に短いオン信号を検出した場合、回転速度がＨｉｇｈとなるようにオシレーションモータ５１の回転速度を制御する。そして、以下、短いオン信号を検出する毎にオシレーションモータ５１の回転速度をＬｏｗ、Ｈｉｇｈと交互に切り替える。
【００４２】
したがって、図９に示すようにエッチングノズル３が初期位置付近にある間はオシレーションモータ５１の回転速度がＬｏｗとされ、図１０および図１１に示すように、エッチングノズル３が最大オシレーション位置付近にある間は、オシレーションモータ５１の回転速度がＨｉｇｈとされる。
【００４３】
ここで、第３の実施形態においては、エッチングノズル３が最大オシレーション位置付近に移動した場合のオシレーション速度、および初期位置（すなわち最小オシレーション位置）付近に移動した場合のオシレーション速度が略同一となるように、Ｌｏｗ時およびＨｉｇｈ時におけるオシレーションモータ５１の回転速度の比率を設定する。
【００４４】
図１３は本出願人によりモータ５１の回転速度の比率を種々変更した場合のエッチングの効果を示す図である。図１３に示すように、Ｌｏｗ時およびＨｉｇｈ時の回転速度の比率としては、Ｌｏｗ：Ｈｉｇｈ＝４：６〜２．５：７：５とすることにより、最大オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度および最小オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度が略同一となり、ムラが中程度以下となることが分かった。したがって、Ｌｏｗ時およびＨｉｇｈ時におけるオシレーションモータ５１の回転速度の比率としては、Ｌｏｗ：Ｈｉｇｈ＝４：６〜２．５：７：５とすることが好ましい。
【００４５】
ここで、オシレーションモータ５１の回転速度を一定とした場合、初期位置付近と最大オシレーション位置付近においてオシレーション速度が異なるものとなるため、エッチングにムラが生じる。すなわち、最小オシレーション位置付近においてはオシレーション速度が速く、最大オシレーション位置付近においてはオシレーション速度が遅くなることから、エッチング液の照射エリアの中央部と比較して縁部のエッチングの効果が強くなってしまう。
【００４６】
第２の実施形態においては、最大オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度および最小オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度が略同一となるように、Ｌｏｗ時およびＨｉｇｈ時におけるオシレーションモータ５１の回転速度の比率を設定してオシレーションを行うようにしたため、プリント配線板２の表面におけるエッチング液の停留を防止し、均一にエッチング液を噴霧することができる。
【００４７】
なお、第２の実施形態においては、位置検出用円盤６１を従動ギア５４に取付けているが、とくに駆動ギア５２と従動ギア５４とのギア比が１：１である場合には、駆動ギア５２に位置検出用円盤６１を取付けてもよい。
【００４８】
次いで、本発明の第３の実施形態について説明する。上記第１および第２の実施形態においてはオシレーション装置によりエッチングノズル３のオシレーションを行っていたが、第３の実施形態はオシレーションを行わないものである。図１４は本発明の第３の実施形態による噴霧装置のエッチングノズルとプリント配線板との位置関係を説明するための図である。第３の実施形態においては、隣接するヘッダパイプ１ａ〜１ｇ間において隣接するエッチングノズル３の間の距離をＰ１、エッチングノズル３からのエッチング液の噴角をθ１、エッチングノズル３の先端とプリント配線板２の表面との距離をＬ１、隣接するヘッダパイプ１ａ〜１ｇ間における隣接するエッチングノズル３から発せられたエッチング液のプリント配線板２の表面における噴霧領域間の距離をＰ２としたときに、距離Ｐ２が距離Ｐ１の５％以上２０％以下となるように、距離Ｌ１を調整するようにしたものである。なお、噴霧領域が重なる場合、距離Ｐ２は負の値をとり、離れる場合、距離Ｐ２は正の値をとるものとする。また、１つのヘッダパイプ１ａ〜１ｇにおける隣接するエッチングノズル３間の距離もＰ１とする。
【００４９】
具体的には、距離Ｐ１および噴角θ１は固定であることから、下記の式（２）から式（３）を求め、式（３）において距離Ｐ２が距離Ｐ１の５％以上２０％以下となるように、距離Ｌ１を調整する
Ｐ１＝Ｌ１×ｔａｎ（θ１／２）×２＋Ｐ２ （２）
Ｐ２＝Ｐ１−Ｌ１ｔａｎ（θ１／２）×２ （３）
ここで、図１５（ａ）に示すように、隣接するエッチングノズル３の距離が１００ｍｍ、噴角が６５度、距離Ｌ１が１１８ｍｍの場合、距離Ｐ２は−５０ｍｍとなり、図１５（ｂ）に示すように全てのエッチングノズル３から発せられるエッチング液のプリント配線板２上における噴霧領域が重なる。
【００５０】
このように噴霧領域が重なると、エッチングノズル３から発せられたエッチング液が、プリント配線板２の表面に到達する前に隣接する他のエッチングノズル３から発せられたエッチング液と衝突するため、プリント配線板２に対するエッチング液の吹き付け力が低下する。また、プリント配線板２の表面において吹き付けられたエッチング液の逃げ場がなくなるため、新たに吹き付けられたエッチング液とプリント配線板２の表面に停留するエッチング液との交換が進まないことから、エッチング処理を効率よく行うことができない。
【００５１】
また、図１６（ａ）に示すように、隣接するエッチングノズル３の距離が１００ｍｍ、噴角が６５度、距離Ｌ１が７７ｍｍの場合、距離Ｐ２は２ｍｍとなり、図１６（ｂ）に示すように全てのエッチングノズル３から発せられるエッチング液のプリント配線板２上における噴霧領域は２ｍｍの間隔が空けられたものとなる。この場合、距離Ｐ２は距離Ｐ１の２％となる。
【００５２】
このように、距離Ｐ２が距離Ｐ１の２％となる場合、プリント配線板２の表面において吹き付けられたエッチング液の逃げ場が狭いため、新たに吹き付けられたエッチング液とプリント配線板２の表面に停留するエッチング液との交換が進まないことから、エッチング処理を効率よく行うことができない。
【００５３】
また、図１７（ａ）に示すように、隣接するエッチングノズル３の距離が１００ｍｍ、噴角が６５度、距離Ｌ１が４７ｍｍの場合、距離Ｐ２は４０ｍｍとなり、図１７（ｂ）に示すように全てのエッチングノズル３から発せられるエッチング液のプリント配線板２上における噴霧領域は４０ｍｍの間隔が空けられたものとなる。この場合、距離Ｐ２は距離Ｐ１の４０％となる。
【００５４】
このように、距離Ｐ２が距離Ｐ１の４０％となる場合、プリント配線板２の表面において吹き付けられたエッチング液の逃げ場は十分に形成されるものの、エッチング液が吹き付けられない部分が大きくなることから、プリント配線板２の表面にエッチングされた部分とされない部分とが現れてしまう。
【００５５】
一方、図１８（ａ）に示すように、隣接するエッチングノズル３の距離が１００ｍｍ、噴角が６５度、距離Ｌ１が７１ｍｍの場合、距離Ｐ２は１０ｍｍとなり、図１８（ｂ）に示すように全てのエッチングノズル３から発せられるエッチング液のプリント配線板２上における噴霧領域は１０ｍｍの間隔が空けられたものとなる。この場合、距離Ｐ２は距離Ｐ１の１０％となる。
【００５６】
このように、距離Ｐ２が距離Ｐ１の１０％となる場合、プリント配線板２の表面において吹き付けられたエッチング液の逃げ場は十分に形成され、また噴霧領域の中央付近においてもエッチング液の停留は見られなかった。
【００５７】
したがって、第３の実施形態のように、距離Ｐ２が距離Ｐ１の５％以上２０％以下となるように距離Ｌ１を調整することにより、プリント配線板２の表面におけるエッチング液の停留を防止し、プリント配線板２に均一にエッチング液を噴霧することができる。
【００５８】
なお、上記実施形態においては、エッチング装置に本発明の噴霧装置を適用しているが、露光後の基板を現像する現像装置にも本発明の噴霧装置を適用できることはもちろんである。
【００５９】
また、上記第１および第２の実施形態においては、エッチングノズル３を揺動することによりオシレーションを行っているが、エッチングノズル３を往復平行移動させることによりオシレーションを行うようにしてもよい。
【００６０】
また、上記第１および第２の実施形態においては、ヘッダパイプ１ａ〜１ｇにノズル３を一定間隔にて配設しているが、とくに一定とする必要はないものである。
【００６１】
また、上記実施形態においては、プリント配線板にエッチングや現像を行う装置について説明しているが、これに限定されるものではなく、カラーフィルタや、柱材、リブ材、スペーサおよび隔壁等のディスプレイ材料、あるいはホログラム、マイクロマシンおよびプルーフ等のパターン形成用の記録媒体等、各種被処理材料に被処理液を噴霧する場合にも、本発明の噴霧方法および装置を適用できることはもちろんである。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の第１の実施形態による噴霧装置を提供したエッチング装置の平面図
【図２】本発明の第１の実施形態による噴霧装置を提供したエッチング装置の側面図
【図３】第１の実施形態における噴霧装置に用いられるオシレーション装置の構成を示す図（その１）
【図４】第１の実施形態における噴霧装置に用いられるオシレーション装置の構成を示す図（その２）
【図５】第１の実施形態における噴霧装置に用いられるオシレーション装置の構成を示す図（その３）
【図６】第１の実施形態におけるオシレーション角度の一態様を説明するための図
【図７】第１の実施形態におけるオシレーション角度の他の態様を説明するための図
【図８】エッチング装置のコンベアの構成を示す図
【図９】第２の実施形態における噴霧装置に用いられるオシレーション装置の構成を示す図（その１）
【図１０】第２の実施形態における噴霧装置に用いられるオシレーション装置の構成を示す図（その２）
【図１１】第２の実施形態における噴霧装置に用いられるオシレーション装置の構成を示す図（その３）
【図１２】オシレーションモータの回転速度の制御を説明するための図
【図１３】オシレーションモータの回転速度を変更した実験結果を示す図
【図１４】本発明の第３の実施形態による噴霧装置のエッチングノズルと基板との位置関係を説明するための図
【図１５】エッチングノズルとプリント配線板との位置関係の悪い例を示す図（その１）
【図１６】エッチングノズルとプリント配線板との位置関係の悪い例を示す図（その２）
【図１７】エッチングノズルとプリント配線板との位置関係の悪い例を示す図（その３）
【図１８】エッチングノズルとプリント配線板との位置関係のよい例を示す図
【図１９】従来のエッチング装置の構成を示す平面図
【図２０】オシレーションを説明するための図
【符号の説明】
【００６３】
１ａ〜１ｇ ヘッダパイプ
２ プリント配線板
３ エッチングノズル
５ エッチング装置本体
７ カップリングロール
１９ コンベアライン
５０，６０ オシレーション装置
５１ オシレーションモータ
５２ 駆動ギア
５３ 揺動レバー
５４ 従動ギア
５５ チェーン
５６ クランク機構
５７ クランク棒
６１ 位置検出用円盤
６２ フォトインタラプタ
６３ 制御部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント配線板のエッチング装置や現像装置において、エッチング液や現像液等の処理液を、プリント配線板等の被処理材料に噴霧する噴霧方法および装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
絶縁基板に銅箔を積層したプリント配線板に配線パターンを形成する際、不要部分の銅箔はエッチングにより取り除かれる。従来のエッチング方法はエッチング装置本体内を通過する搬送装置にプリント配線板を載置し、搬送されるプリント配線板の表面にエッチング液を噴霧する方法が採用されている。
【０００３】
図１９はエッチング装置の平面図である。図１９に示すように、ヘッダ２６に多数の分岐ヘッダ２７が互いに平行にかつプリント配線板の搬送方向に所定の角度傾斜して配置されており、各分岐ヘッダ２７に多数のエッチングノズル３が設けられている。この分岐ヘッダ２７は不図示のオシレーション装置により軸の周りに揺動するように構成されている。すなわち、図２０に示すように分岐ヘッダ２７の下面に突設された多数のエッチングノズル３の向きが、時間の経過と共に周期的に変化するように構成し、プリント配線板２の表面の各部におけるエッチング液の噴霧条件を可能な限り均一に維持するものである。
【０００４】
なお、エッチング装置によってはオシレーション装置を備えていないものもあり、このようなエッチング装置においては、エッチングノズル３は揺動されることなく、エッチング液が噴霧されることとなる。
【０００５】
このようなエッチング装置において、各分岐ヘッダのノズルから噴霧されるエッチング液は、隣接する分岐ヘッダの中間部において最も多く集まる。そして、ノズルの揺動に伴い、エッチング液の盛り上がり部が移動する。このときプリント配線板の幅方向縁部のエッチング液は比較的円滑に排除され易いが、幅方向中央部のエッチング液は全体として停留しがちである。したがって、プリント配線板の各部において、不均一なエッチングが生ずることになる。
【０００６】
また、プリント配線板に積層されたレジスト層に配線パターンを露光した後の現像工程を実施する現像装置において、プリント配線板に現像液を噴霧する場合においても、現像液が停留すると不均一な現像が生ずることとなる。
【０００７】
このため、エッチング液の噴霧時期を順次周期的に変化させることにより、プリント配線板各部において均一なエッチングを得るようにしたエッチング装置が提案されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平５−２２６８１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本願発明は、上記特許文献１とは異なる手法により、エッチング液または現像液等の処理液を、処理の対象となる被処理材料に均一に噴霧することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明による第１の噴霧方法は、複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置における噴霧方法において、
最大オシレーション位置における、隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点が、該一方のノズルの位置と他方のノズルの位置との２等分線の前記被処理材料表面における交点を超えるように、オシレーションを行うことを特徴とするものである。
【００１０】
「ノズルの中心線」とは、ノズルからは通常円錐状に処理液が噴霧されるが、ノズルにおける噴霧点を通り、処理液の噴霧方向に平行な線を意味する。
【００１１】
「オシレーション」としては、ノズルをある一点を中心として揺動させるのみならず、ノズルを往復平行移動させることも含む。
【００１２】
ここで、オシレーションは所定の振幅を持って行われるが、振幅が最大となる位置、すなわちオシレーション方向においてノズルが最大限に移動した位置が最大オシレーション位置となる。なお、最大オシレーション位置は、オシレーションにおいて２カ所に存在することとなる。この２カ所の最大オシレーション位置のほぼ中間位置を最小オシレーション位置とする。なお、ノズルが揺動する場合、ノズルの噴霧方向が被処理材料にほぼ直交する状態となるオシレーション位置が最小オシレーション位置となる。
【００１３】
本発明による第２の噴霧方法は、複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置における噴霧方法において、
隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの最大オシレーション位置における該一方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点が、他方のノズルの前記最大オシレーション位置とは逆側の最大オシレーション位置における該他方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点を超えるように、オシレーションを行うことを特徴とするものである。
【００１４】
本発明による第３の噴霧方法は、複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置における噴霧方法において、
最大オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度および最小オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度が略同一となるようにオシレーションを行うことを特徴とするものである。
【００１５】
本発明による第４の噴霧方法は、複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設された噴霧装置における噴霧方法において、
隣接するヘッダパイプ間における隣接するノズル間の距離をＰ１、前記ノズルの先端と前記被処理材料表面との距離をＬ１、隣接するヘッダパイプ間における隣接するノズルから発せられた前記処理液の前記被処理材料表面における噴霧領域間の距離をＰ２としたとき、距離Ｐ２が距離Ｐ１の５％以上２０％以下となるように、前記距離Ｌ１を調整することを特徴とするものである。
【００１６】
本発明による第１の噴霧装置は、複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置において、
前記オシレーション手段は、最大オシレーション位置における、隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点が、該一方のノズルの位置と他方のノズルの位置との２等分線の前記被処理材料表面における交点を超えるように、オシレーションを行う手段であることを特徴とするものである。
【００１７】
本発明による第２の噴霧装置は、複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置において、
前記オシレーション手段は、隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの最大オシレーション位置における該一方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点が、他方のノズルの前記最大オシレーション位置とは逆側の最大オシレーション位置における該他方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点を超えるように、オシレーションを行う手段であることを特徴とするものである。
【００１８】
本発明による第３の噴霧装置は、複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置において、
前記オシレーション手段は、最大オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度および最小オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度が略同一となるようにオシレーションを行う手段であることを特徴とするものである。
【００１９】
本発明による第４の噴霧装置は、複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設された噴霧装置において、
隣接するヘッダパイプ間における隣接するノズル間の距離をＰ１、前記ノズルの先端と前記被処理材料表面との距離をＬ１、隣接するヘッダパイプ間における隣接するノズルから発せられた前記処理液の前記被処理材料表面における噴霧領域間の距離をＰ２としたとき、距離Ｐ２が距離Ｐ１の５％以上２０％以下となるように、前記距離Ｌ１が調整されてなることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の第１の噴霧方法および装置においては、最大オシレーション位置において、隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの中心線の被処理材料表面における交点が、一方のノズルの位置と他方のノズルの位置との２等分線の被処理材料表面における交点を超えるようにオシレーションを行うようにしたため、被処理材料表面における処理液の停留を防止し、均一に処理液を噴霧することができる。
【００２１】
本発明の第２の噴霧方法および装置においては、隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの最大オシレーション位置における一方のノズルの中心線の被処理材料表面における交点が、他方のノズルの最大オシレーション位置とは逆側の最大オシレーション位置における他方のノズルの中心線の被処理材料表面における交点を超えるようにオシレーションを行うようにしたため、被処理材料表面における処理液の停留を防止し、均一に処理液を噴霧することができる。
【００２２】
本発明の第３の噴霧方法および装置においては、最大オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度および最小オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度が略同一となるようにオシレーションを行うようにしたため、被処理材料表面における処理液の停留を防止し、均一に処理液を噴霧することができる。
【００２３】
本発明の第４の噴霧方法および装置においては、距離Ｐ２が距離Ｐ１の５％以上２０％以下となるように、ノズルの先端と被処理材料表面との距離Ｌ１を調整するようにしたため、被処理材料表面における処理液の停留を防止し、均一に処理液を噴霧することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。図１は本発明の第１の実施形態による噴霧装置を適用したエッチング装置の平面図、図２は同正面図である。本実施形態によるエッチング装置１００は、現像がなされたプリント配線板２のエッチングを行うためのものであり、コンベアライン１９上に多数のカップリングロール７が並列され、上流側にエッチング装置本体５が設けられ、下流側に洗浄機本体６が設けられている。エッチング装置本体５はその下部にエッチング液タンク１６が設けられ、コンベアライン１９を挟んで上下にそれぞれヘッダパイプ１ａ〜１ｇが配置されている。これらのヘッダパイプ１ａ〜１ｇは互いに平行かつ搬送面に平行であると共に、搬送方向に対してはわずかに傾斜している。なお、搬送方向に平行にヘッダパイプ１ａ〜１ｇを配置してもよく、搬送方向に対して所定の角度を持ってヘッダパイプ１ａ〜１ｇを配置してもよい。各ヘッターパイプには多数（例えば１０個）のエッチングノズル３が等間隔に配置されている。また、エッチングノズル３は、コンベアライン１９が移動する方向と直交して整列して並ぶようにヘッダパイプ１ａ〜１ｇに配置されている。また、上下の各ヘッダパイプはその軸線の周りにわずかに揺動するいわゆるオシレーションが行われる。
【００２５】
図３はオシレーション装置の構成を示す図である。図３に示すようにオシレーション装置５０は、オシレーションモータ５１、オシレーションモータ５１の回転軸に取付けられた駆動ギア５２、揺動レバー５３が取付けられた従動ギア５４、駆動ギア５２の動力を従動ギア５４に伝達するチェーン５５、ヘッダパイプ１ａ〜１ｇに取付けられたクランク機構５６およびクランク機構５６と揺動レバー５３とを連結するクランク棒５７とを備える。
【００２６】
クランク機構５６は回転中心Ｏ１が固定されており、クランク棒５７との連結部Ｏ２が揺動レバー５３の回転に応じて上下に移動することにより、回転中心Ｏ１を中心として回転する。また、ヘッダパイプ１ａ〜１ｇはその中心軸と一致する、紙面に垂直方向に延びる固定された回転軸を有している。
【００２７】
このようなオシレーション装置５０は以下のように駆動する。オシレーションモータ５１の駆動により駆動ギア５２が矢印Ａ方向に回転すると、従動ギア５４および揺動レバー５３が矢印Ｂ方向に回転する。これに伴い、クランク機構５６が固定中心Ｏ１を中心として矢印Ｃ方向に揺動することにより、オシレーションアームが矢印Ｄ方向に往復移動する。これにより、オシレーションアーム５６ａに枢着されたリンク５６ｂがヘッダパイプ１ａ〜１ｇの回転軸の周りに左右に揺動する。このリンク５６ｂとヘッダパイプ１ａ〜１ｇとは固定されているため、各ヘッダパイプ１ａ〜１ｇはリンク５６ｂの揺動に伴って首ふり動作を行う。そして、エッチングノズル３から噴射されるエッチング液の噴霧範囲を図４および図５に示すように時間的に変化させる。なお、図４はエッチングノズル３が右側最大オシレーション位置に揺動した状態を、図５はエッチングノズル３が左側最大オシレーション位置に揺動した状態をそれぞれ示す。
【００２８】
ここで、第１の実施形態においては、エッチングノズル３のオシレーション角度は以下のように制御される。図６は第１の実施形態におけるエッチングノズル３のオシレーション角度の一態様を説明するための図である。なお、第１の実施形態においては、エッチングノズル３のオシレーション角度はオシレーション方向において左右均等であるものとする。第１の実施形態においては、隣接するヘッダパイプ１ａ〜１ｇ間において隣接するエッチングノズル３の間の距離をＰ３、オシレーションの中心位置（すなわちヘッダパイプ１ａ〜１ｇの回転軸の位置）とエッチングがなされるプリント配線板２との間の距離をＬ３、最大オシレーション角度をθ３としたときに、下記の式（１）を満たすように最大オシレーション角度θ３を調整する。なお、最大オシレーション角度θ３とは、エッチングノズル３が真下を向いた状態を基準とした場合に、左右に最も大きくエッチングノズル３が傾斜したときのヘッダパイプ１ａ〜１ｇの回転角度を意味する。
【００２９】
（Ｐ３／２）／Ｌ３＜ｔａｎθ３ （１）
式（１）を満たすように最大オシレーション角度θ３を調整することにより、最大オシレーション位置において、隣接するヘッダパイプ１ａ〜１ｇ間における隣接する一方のエッチングノズル３の中心線のプリント配線板２の表面における交点Ｃが、隣接するエッチングノズル３の位置の２等分線のプリント配線板２の表面との交点を超えるように、オシレーションが行われることとなる。
【００３０】
なお、最大オシレーション角度の調整は、クランク棒５７の揺動レバー５３における取り付け位置を従動ギア５４の半径方向において変更することにより行えばよい。
【００３１】
ここで、エッチングノズル３のオシレーション角度がオシレーション方向において均等でない場合においても、式（１）を満たすように最大オシレーション角度θ３を調整すればよい。この場合、図７に示すように、隣接するヘッダパイプ１ａ〜１ｇ間における隣接する一方のエッチングノズル３の最大オシレーション位置における一方のエッチングノズル３の中心線のプリント配線板２の表面における交点Ｃが、他方のエッチングノズル３の最大オシレーション位置とは逆側の最大オシレーション位置における他方のエッチングノズル３の中心線のプリント配線板２の表面における交点Ｄを超えるように、オシレーションが行われることとなる。
【００３２】
次いで、第１の実施形態によるエッチング装置の動作について説明する。配線パターンが露光されて現像がなされたプリント配線板２は図２のコンベアライン１９上をエッチング装置１００の最左端から供給される。コンベアライン１９においてプリント配線板２を搬送するコンベアは、図８に示す多数のカップリングロール７により構成される。図８に示すように、カップリングロール７は、上下互いに平行に配置された軸に、一定間隔で幅の狭いゴムローラが固定されることにより構成される。各ゴムローラは、その側面にエッチング液流通用の多数の孔が穿設されている。一対のカップリングロール７は互いに同期するように、一対の平行軸が一組の歯車３４により連結されている。また、一方の軸はベベルギア３３を介してコンベア駆動軸３２に連結されている。コンベア駆動軸３２は装置の長手方向に配置され、適宜間隔でベベルギア３３が設けられ、各カップリングロール７を駆動するものである。このようなコンベアライン１９上をプリント配線板２が図２の左から右に移動する。
【００３３】
塩化第二鉄、塩化第二銅、過酸化水素等からなるエッチング液はエッチング液タンク１６からポンプおよびロータリバルブを介し各ヘッダパイプ１ａ〜１ｆに供給され、プリント配線板２にスプレーされる。スプレーされたエッチング液はエッチング液タンク１６に流入し、再びスプレーされる。
【００３４】
エッチング液はヒータ等の加熱装置や冷却装置によって所定温度に維持される。これとともに、新しいエッチング液が供給され、所定の濃度に維持される。プリント配線板２は、本装置を通過すると酸洗浄ノズル１７、水洗浄ノズル１８により洗浄される。そして、液切りロール９および絞りロール１４を経て外部に取り出される。これらの制御は図２における制御盤８を介して行われ、エッチング作業時にはコンベアモータ１３、水洗ポンプ１２、およびオシレーションモータ５１その他が駆動される。
【００３５】
このように、本発明の第１の実施形態においては、上記式（１）を満たすように最大オシレーション角度θ３を調整することにより、オシレーション角度がオシレーション方向において均等である場合においては、最大オシレーション位置において、隣接するヘッダパイプ１ａ〜１ｇ間における隣接する一方のエッチングノズル３の中心線のプリント配線板２の表面における交点Ｃが、エッチングノズル３間の２等分線のプリント配線板２の表面との交点を超えるように、オシレーションを行うようにしたものである。また、オシレーション角度がオシレーション方向において均等でない場合には、隣接するヘッダパイプ１ａ〜１ｇ間における隣接する一方のエッチングノズル３の最大オシレーション位置における一方のエッチングノズル３の中心線のプリント配線板２の表面における交点Ｃが、他方のエッチングノズル３の最大オシレーション位置とは逆側の最大オシレーション位置における他方のエッチングノズル３の中心線のプリント配線板２の表面における交点Ｄを超えるように、オシレーションを行うようにしたものである。
【００３６】
このため、プリント配線板２の表面におけるエッチング液の停留を防止し、均一にエッチング液を噴霧することができる。
【００３７】
次いで、本発明の第２の実施形態について説明する。なお、第２の実施形態による噴霧装置において第１の実施形態と同一の構成については同一の参照番号を付し、詳細な説明は省略する。図９は第２の実施形態における噴霧装置に用いられるオシレーション装置の構成を示す図である。図９に示すように第２の実施形態におけるオシレーション装置６０は、第１の実施形態におけるオシレーション装置５０に、従動ギア５４に取付けられた、複数の切欠が形成された位置検出用円盤６１、円盤６１における切欠の位置を検出するフォトインタラプタ６２およびオシレーションモータ５１の回転を制御する制御部６３を設けたものである。
【００３８】
位置検出用円盤６１には、初期位置を検出するための切欠６１Ａ、初期位置を０度として円盤６１の４５度、１３５度、２２５度および３１５度の回転位置を検出するための、切欠６１Ａよりも小さい切欠６１Ｂ〜６１Ｅが形成されている。
【００３９】
フォトインタラプタ６２は、切欠６１Ａ〜６１Ｅがフォトインタラプタ６２を通過したときにオンとなってオン信号を出力し、それ以外の場合にはオフとなって信号を出力しない。
【００４０】
制御部６３は以下のようにしてオシレーションモータ５１の回転速度を制御する。図１２はモータの回転速度の制御を説明するための図である。位置検出用円盤６１における切欠６１Ａの位置は、円盤６１を横から見た場合、オシレーションモータ５１の回転によりサインカーブを描くように移動する。一方、フォトインタラプタ６２からは、切欠６１Ａ〜６１Ｅが通過する毎にオン信号が出力される。すなわち、０度の初期回転位置（すなわち切欠６１Ａがフォトインタラプタ６２を通過する位置）においてフォトインタラプタ６２は長いオン信号を、４５度、１３５度、２２５度および３１５度の回転位置において初期回転位置よりも短いオン信号を出力する。
【００４１】
制御部６３は、オシレーションの開始時において、初期回転位置のオン信号を検出したときに回転速度がＬｏｗとなるようにオシレーションモータ５１の回転速度を制御する。初期回転位置のオン信号を検出した後に短いオン信号を検出した場合、回転速度がＨｉｇｈとなるようにオシレーションモータ５１の回転速度を制御する。そして、以下、短いオン信号を検出する毎にオシレーションモータ５１の回転速度をＬｏｗ、Ｈｉｇｈと交互に切り替える。
【００４２】
したがって、図９に示すようにエッチングノズル３が初期位置付近にある間はオシレーションモータ５１の回転速度がＬｏｗとされ、図１０および図１１に示すように、エッチングノズル３が最大オシレーション位置付近にある間は、オシレーションモータ５１の回転速度がＨｉｇｈとされる。
【００４３】
ここで、第３の実施形態においては、エッチングノズル３が最大オシレーション位置付近に移動した場合のオシレーション速度、および初期位置（すなわち最小オシレーション位置）付近に移動した場合のオシレーション速度が略同一となるように、Ｌｏｗ時およびＨｉｇｈ時におけるオシレーションモータ５１の回転速度の比率を設定する。
【００４４】
図１３は本出願人によりモータ５１の回転速度の比率を種々変更した場合のエッチングの効果を示す図である。図１３に示すように、Ｌｏｗ時およびＨｉｇｈ時の回転速度の比率としては、Ｌｏｗ：Ｈｉｇｈ＝４：６〜２．５：７：５とすることにより、最大オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度および最小オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度が略同一となり、ムラが中程度以下となることが分かった。したがって、Ｌｏｗ時およびＨｉｇｈ時におけるオシレーションモータ５１の回転速度の比率としては、Ｌｏｗ：Ｈｉｇｈ＝４：６〜２．５：７：５とすることが好ましい。
【００４５】
ここで、オシレーションモータ５１の回転速度を一定とした場合、初期位置付近と最大オシレーション位置付近においてオシレーション速度が異なるものとなるため、エッチングにムラが生じる。すなわち、最小オシレーション位置付近においてはオシレーション速度が速く、最大オシレーション位置付近においてはオシレーション速度が遅くなることから、エッチング液の照射エリアの中央部と比較して縁部のエッチングの効果が強くなってしまう。
【００４６】
第２の実施形態においては、最大オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度および最小オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度が略同一となるように、Ｌｏｗ時およびＨｉｇｈ時におけるオシレーションモータ５１の回転速度の比率を設定してオシレーションを行うようにしたため、プリント配線板２の表面におけるエッチング液の停留を防止し、均一にエッチング液を噴霧することができる。
【００４７】
なお、第２の実施形態においては、位置検出用円盤６１を従動ギア５４に取付けているが、とくに駆動ギア５２と従動ギア５４とのギア比が１：１である場合には、駆動ギア５２に位置検出用円盤６１を取付けてもよい。
【００４８】
次いで、本発明の第３の実施形態について説明する。上記第１および第２の実施形態においてはオシレーション装置によりエッチングノズル３のオシレーションを行っていたが、第３の実施形態はオシレーションを行わないものである。図１４は本発明の第３の実施形態による噴霧装置のエッチングノズルとプリント配線板との位置関係を説明するための図である。第３の実施形態においては、隣接するヘッダパイプ１ａ〜１ｇ間において隣接するエッチングノズル３の間の距離をＰ１、エッチングノズル３からのエッチング液の噴角をθ１、エッチングノズル３の先端とプリント配線板２の表面との距離をＬ１、隣接するヘッダパイプ１ａ〜１ｇ間における隣接するエッチングノズル３から発せられたエッチング液のプリント配線板２の表面における噴霧領域間の距離をＰ２としたときに、距離Ｐ２が距離Ｐ１の５％以上２０％以下となるように、距離Ｌ１を調整するようにしたものである。なお、噴霧領域が重なる場合、距離Ｐ２は負の値をとり、離れる場合、距離Ｐ２は正の値をとるものとする。また、１つのヘッダパイプ１ａ〜１ｇにおける隣接するエッチングノズル３間の距離もＰ１とする。
【００４９】
具体的には、距離Ｐ１および噴角θ１は固定であることから、下記の式（２）から式（３）を求め、式（３）において距離Ｐ２が距離Ｐ１の５％以上２０％以下となるように、距離Ｌ１を調整する
Ｐ１＝Ｌ１×ｔａｎ（θ１／２）×２＋Ｐ２ （２）
Ｐ２＝Ｐ１−Ｌ１ｔａｎ（θ１／２）×２ （３）
ここで、図１５（ａ）に示すように、隣接するエッチングノズル３の距離が１００ｍｍ、噴角が６５度、距離Ｌ１が１１８ｍｍの場合、距離Ｐ２は−５０ｍｍとなり、図１５（ｂ）に示すように全てのエッチングノズル３から発せられるエッチング液のプリント配線板２上における噴霧領域が重なる。
【００５０】
このように噴霧領域が重なると、エッチングノズル３から発せられたエッチング液が、プリント配線板２の表面に到達する前に隣接する他のエッチングノズル３から発せられたエッチング液と衝突するため、プリント配線板２に対するエッチング液の吹き付け力が低下する。また、プリント配線板２の表面において吹き付けられたエッチング液の逃げ場がなくなるため、新たに吹き付けられたエッチング液とプリント配線板２の表面に停留するエッチング液との交換が進まないことから、エッチング処理を効率よく行うことができない。
【００５１】
また、図１６（ａ）に示すように、隣接するエッチングノズル３の距離が１００ｍｍ、噴角が６５度、距離Ｌ１が７７ｍｍの場合、距離Ｐ２は２ｍｍとなり、図１６（ｂ）に示すように全てのエッチングノズル３から発せられるエッチング液のプリント配線板２上における噴霧領域は２ｍｍの間隔が空けられたものとなる。この場合、距離Ｐ２は距離Ｐ１の２％となる。
【００５２】
このように、距離Ｐ２が距離Ｐ１の２％となる場合、プリント配線板２の表面において吹き付けられたエッチング液の逃げ場が狭いため、新たに吹き付けられたエッチング液とプリント配線板２の表面に停留するエッチング液との交換が進まないことから、エッチング処理を効率よく行うことができない。
【００５３】
また、図１７（ａ）に示すように、隣接するエッチングノズル３の距離が１００ｍｍ、噴角が６５度、距離Ｌ１が４７ｍｍの場合、距離Ｐ２は４０ｍｍとなり、図１７（ｂ）に示すように全てのエッチングノズル３から発せられるエッチング液のプリント配線板２上における噴霧領域は４０ｍｍの間隔が空けられたものとなる。この場合、距離Ｐ２は距離Ｐ１の４０％となる。
【００５４】
このように、距離Ｐ２が距離Ｐ１の４０％となる場合、プリント配線板２の表面において吹き付けられたエッチング液の逃げ場は十分に形成されるものの、エッチング液が吹き付けられない部分が大きくなることから、プリント配線板２の表面にエッチングされた部分とされない部分とが現れてしまう。
【００５５】
一方、図１８（ａ）に示すように、隣接するエッチングノズル３の距離が１００ｍｍ、噴角が６５度、距離Ｌ１が７１ｍｍの場合、距離Ｐ２は１０ｍｍとなり、図１８（ｂ）に示すように全てのエッチングノズル３から発せられるエッチング液のプリント配線板２上における噴霧領域は１０ｍｍの間隔が空けられたものとなる。この場合、距離Ｐ２は距離Ｐ１の１０％となる。
【００５６】
このように、距離Ｐ２が距離Ｐ１の１０％となる場合、プリント配線板２の表面において吹き付けられたエッチング液の逃げ場は十分に形成され、また噴霧領域の中央付近においてもエッチング液の停留は見られなかった。
【００５７】
したがって、第３の実施形態のように、距離Ｐ２が距離Ｐ１の５％以上２０％以下となるように距離Ｌ１を調整することにより、プリント配線板２の表面におけるエッチング液の停留を防止し、プリント配線板２に均一にエッチング液を噴霧することができる。
【００５８】
なお、上記実施形態においては、エッチング装置に本発明の噴霧装置を適用しているが、露光後の基板を現像する現像装置にも本発明の噴霧装置を適用できることはもちろんである。
【００５９】
また、上記第１および第２の実施形態においては、エッチングノズル３を揺動することによりオシレーションを行っているが、エッチングノズル３を往復平行移動させることによりオシレーションを行うようにしてもよい。
【００６０】
また、上記第１および第２の実施形態においては、ヘッダパイプ１ａ〜１ｇにノズル３を一定間隔にて配設しているが、とくに一定とする必要はないものである。
【００６１】
また、上記実施形態においては、プリント配線板にエッチングや現像を行う装置について説明しているが、これに限定されるものではなく、カラーフィルタや、柱材、リブ材、スペーサおよび隔壁等のディスプレイ材料、あるいはホログラム、マイクロマシンおよびプルーフ等のパターン形成用の記録媒体等、各種被処理材料に被処理液を噴霧する場合にも、本発明の噴霧方法および装置を適用できることはもちろんである。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の第１の実施形態による噴霧装置を提供したエッチング装置の平面図
【図２】本発明の第１の実施形態による噴霧装置を提供したエッチング装置の側面図
【図３】第１の実施形態における噴霧装置に用いられるオシレーション装置の構成を示す図（その１）
【図４】第１の実施形態における噴霧装置に用いられるオシレーション装置の構成を示す図（その２）
【図５】第１の実施形態における噴霧装置に用いられるオシレーション装置の構成を示す図（その３）
【図６】第１の実施形態におけるオシレーション角度の一態様を説明するための図
【図７】第１の実施形態におけるオシレーション角度の他の態様を説明するための図
【図８】エッチング装置のコンベアの構成を示す図
【図９】第２の実施形態における噴霧装置に用いられるオシレーション装置の構成を示す図（その１）
【図１０】第２の実施形態における噴霧装置に用いられるオシレーション装置の構成を示す図（その２）
【図１１】第２の実施形態における噴霧装置に用いられるオシレーション装置の構成を示す図（その３）
【図１２】オシレーションモータの回転速度の制御を説明するための図
【図１３】オシレーションモータの回転速度を変更した実験結果を示す図
【図１４】本発明の第３の実施形態による噴霧装置のエッチングノズルと基板との位置関係を説明するための図
【図１５】エッチングノズルとプリント配線板との位置関係の悪い例を示す図（その１）
【図１６】エッチングノズルとプリント配線板との位置関係の悪い例を示す図（その２）
【図１７】エッチングノズルとプリント配線板との位置関係の悪い例を示す図（その３）
【図１８】エッチングノズルとプリント配線板との位置関係のよい例を示す図
【図１９】従来のエッチング装置の構成を示す平面図
【図２０】オシレーションを説明するための図
【符号の説明】
【００６３】
１ａ〜１ｇ ヘッダパイプ
２ プリント配線板
３ エッチングノズル
５ エッチング装置本体
７ カップリングロール
１９ コンベアライン
５０，６０ オシレーション装置
５１ オシレーションモータ
５２ 駆動ギア
５３ 揺動レバー
５４ 従動ギア
５５ チェーン
５６ クランク機構
５７ クランク棒
６１ 位置検出用円盤
６２ フォトインタラプタ
６３ 制御部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置における噴霧方法において、
最大オシレーション位置における、隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点が、該一方のノズルの位置と他方のノズルの位置との２等分線の前記被処理材料表面における交点を超えるように、オシレーションを行うことを特徴とする噴霧方法。
【請求項２】
複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置における噴霧方法において、
隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの最大オシレーション位置における該一方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点が、他方のノズルの前記最大オシレーション位置とは逆側の最大オシレーション位置における該他方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点を超えるように、オシレーションを行うことを特徴とする噴霧方法。
【請求項３】
複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置における噴霧方法において、
最大オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度および最小オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度が略同一となるようにオシレーションを行うことを特徴とする噴霧方法。
【請求項４】
複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設された噴霧装置における噴霧方法において、
隣接するヘッダパイプ間における隣接するノズル間の距離をＰ１、前記ノズルの先端と前記被処理材料表面との距離をＬ１、隣接するヘッダパイプ間における隣接するノズルから発せられた前記処理液の前記被処理材料表面における噴霧領域間の距離をＰ２としたとき、距離Ｐ２が距離Ｐ１の５％以上２０％以下となるように、前記距離Ｌ１を調整することを特徴とする噴霧方法。
【請求項５】
複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置において、
前記オシレーション手段は、最大オシレーション位置における、隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点が、該一方のノズルの位置と他方のノズルの位置との２等分線の前記被処理材料表面における交点を超えるように、オシレーションを行う手段であることを特徴とする噴霧装置。
【請求項６】
複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置において、
前記オシレーション手段は、隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの最大オシレーション位置における該一方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点が、他方のノズルの前記最大オシレーション位置とは逆側の最大オシレーション位置における該他方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点を超えるように、オシレーションを行う手段であることを特徴とする噴霧装置。
【請求項７】
複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置において、
前記オシレーション手段は、最大オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度および最小オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度が略同一となるようにオシレーションを行う手段であることを特徴とする噴霧装置。
【請求項８】
複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設された噴霧装置において、
隣接するヘッダパイプ間における隣接するノズル間の距離をＰ１、前記ノズルの先端と前記被処理材料表面との距離をＬ１、隣接するヘッダパイプ間における隣接するノズルから発せられた前記処理液の前記被処理材料表面における噴霧領域間の距離をＰ２としたとき、距離Ｐ２が距離Ｐ１の５％以上２０％以下となるように、前記距離Ｌ１が調整されてなることを特徴とする噴霧装置。
【請求項１】
複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置における噴霧方法において、
最大オシレーション位置における、隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点が、該一方のノズルの位置と他方のノズルの位置との２等分線の前記被処理材料表面における交点を超えるように、オシレーションを行うことを特徴とする噴霧方法。
【請求項２】
複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置における噴霧方法において、
隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの最大オシレーション位置における該一方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点が、他方のノズルの前記最大オシレーション位置とは逆側の最大オシレーション位置における該他方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点を超えるように、オシレーションを行うことを特徴とする噴霧方法。
【請求項３】
複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置における噴霧方法において、
最大オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度および最小オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度が略同一となるようにオシレーションを行うことを特徴とする噴霧方法。
【請求項４】
複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設された噴霧装置における噴霧方法において、
隣接するヘッダパイプ間における隣接するノズル間の距離をＰ１、前記ノズルの先端と前記被処理材料表面との距離をＬ１、隣接するヘッダパイプ間における隣接するノズルから発せられた前記処理液の前記被処理材料表面における噴霧領域間の距離をＰ２としたとき、距離Ｐ２が距離Ｐ１の５％以上２０％以下となるように、前記距離Ｌ１を調整することを特徴とする噴霧方法。
【請求項５】
複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置において、
前記オシレーション手段は、最大オシレーション位置における、隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点が、該一方のノズルの位置と他方のノズルの位置との２等分線の前記被処理材料表面における交点を超えるように、オシレーションを行う手段であることを特徴とする噴霧装置。
【請求項６】
複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置において、
前記オシレーション手段は、隣接するヘッダパイプ間における隣接する一方のノズルの最大オシレーション位置における該一方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点が、他方のノズルの前記最大オシレーション位置とは逆側の最大オシレーション位置における該他方のノズルの中心線の前記被処理材料表面における交点を超えるように、オシレーションを行う手段であることを特徴とする噴霧装置。
【請求項７】
複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設され、該複数のノズルを前記複数のヘッダパイプ間において同期させてオシレーションするオシレーション手段を備えた噴霧装置において、
前記オシレーション手段は、最大オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度および最小オシレーション位置近傍におけるオシレーション速度が略同一となるようにオシレーションを行う手段であることを特徴とする噴霧装置。
【請求項８】
複数のヘッダパイプが互いに平行に、かつ被処理材料の搬送レベルの少なくとも上方に配置され、該複数のヘッダパイプのそれぞれに処理液を噴霧する複数のノズルが配設された噴霧装置において、
隣接するヘッダパイプ間における隣接するノズル間の距離をＰ１、前記ノズルの先端と前記被処理材料表面との距離をＬ１、隣接するヘッダパイプ間における隣接するノズルから発せられた前記処理液の前記被処理材料表面における噴霧領域間の距離をＰ２としたとき、距離Ｐ２が距離Ｐ１の５％以上２０％以下となるように、前記距離Ｌ１が調整されてなることを特徴とする噴霧装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【公開番号】特開２００６−１３５１６２（Ｐ２００６−１３５１６２Ａ）
【公開日】平成１８年５月２５日（２００６．５．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−３２３６９９（Ｐ２００４−３２３６９９）
【出願日】平成１６年１１月８日（２００４．１１．８）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【復代理人】
【識別番号】１００１０４１８９
【弁理士】
【氏名又は名称】福尾 勲将
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年５月２５日（２００６．５．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年１１月８日（２００４．１１．８）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【復代理人】
【識別番号】１００１０４１８９
【弁理士】
【氏名又は名称】福尾 勲将
【Ｆターム（参考）】
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