説明

樹脂回路基板およびその製造方法ならびに導電性ペースト

【課題】面内導体パターンおよび層間導体パターンが設けられた、複数の熱可塑性樹脂シートを積み重ねることによって、積層体を作製し、この積層体を熱処理・加圧処理する、各工程を経て製造される、樹脂回路基板の電気特性の安定化および信頼性の向上を図る。
【解決手段】熱可塑性樹脂シート11に、銅を主成分とする面内導体パターン4〜6およびビスマスを主成分とした導電性ペースト13を用いて層間導体パターン7を設け、熱可塑性樹脂シート11に熱処理および加圧処理を施すことによって、導電性ペースト13を溶融一体化するとともに、当該導電性ペースト13が溶融一体化してなる層間導体パターン7と面内導体パターン4〜6との間に、銅およびビスマスの固溶体層を形成する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
この発明は、樹脂回路基板およびその製造方法ならびに樹脂回路基板の製造のために用いられる導電性ペーストに関するもので、特に、樹脂回路基板に備える面内導体パターンと層間導体パターンとの接続部分の電気特性の安定化および信頼性の向上を図るための改良に関するものである。
【背景技術】
【0002】
カーナビゲーションシステムやデジタルコンパクトカメラなど、各種電子機器に用いられる回路基板として、熱可塑性樹脂シートを積層してなる樹脂多層回路基板が知られている。熱可塑性樹脂のなかでも、液晶ポリマー(Liquid Crystal Polymer:LCP)は、耐熱性が高く、吸水性が小さいため、電気特性(特に高周波特性)に優れた多層回路基板材料として注目を浴びている。
【0003】
熱可塑性樹脂シートを積層してなる樹脂多層回路基板は、たとえば、面内導体パターンとしての金属箔パターンを有する熱可塑性樹脂シートに、当該金属箔パターンに接するように層間導体パターンとしてのビア導体を設けるため、まず、ビア導体用孔を形成し、次いで、このビア導体用孔に導電性ペーストを充填した後、複数の熱可塑性樹脂シートを積層し、圧着する、各工程を経て作製される。
【0004】
上記圧着工程では、加熱・加圧処理が施されるが、この圧着時の加熱・加圧処理によって、熱可塑性樹脂シートの表面を流動させ、隣接する熱可塑性樹脂シート同士を密着させるとともに、ビア導体用孔中の導電性ペーストを溶融一体化する。この導電性ペーストの溶融一体化したものが、金属箔パターンと電気的に導通したビア導体として機能する。
【0005】
より具体的には、たとえば特許第3473601号公報(特許文献1)に記載されているように、Cu箔パターンを有する熱可塑性樹脂シートのビア導体用孔にSn−Ag合金粉末を含む導電性ペーストを充填し、次いで、このようにして得られた複数の熱可塑性樹脂シートを積層し、たとえば温度220℃以上、圧力2〜10MPaで熱圧着処理を施すことによって、熱可塑性樹脂シート同士を密着させるとともに、Cu箔パターンとビア導体との間に、Cu箔パターンのCuと導電性ペースト中のSnとの拡散層を形成して、Cu箔パターンとビア導体とを電気的に導通させる。
【0006】
上記の方法では、Cu箔パターンとビア導体との間にCu−Snの拡散層を形成しているが、SnのCuへの固溶限(固溶量の限界量)が大きいため、拡散層の厚みを制御しにくい。拡散層は、金属単体層に比べて比抵抗が大きいため、厚みのばらつきにより、電気特性が変動することがある。また、拡散層は、金属単体層に比べて脆いため、その厚みによっては、信頼性が低下することがある。さらに、たとえば、熱圧着処理の条件によっては、Snの拡散が進み、ビア導体中にカ−ケンダルボイドが発生することがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】特許第3473601号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
この発明の目的は、上述したような問題を解決し得る、樹脂回路基板およびその製造方法を提供しようとすることである。
【0009】
この発明の他の目的は、上述した樹脂回路基板の製造のために有利に用いられる導電性ペーストを提供しようとすることである。
【課題を解決するための手段】
【0010】
この発明は、簡単に言えば、熱可塑性樹脂層を有する樹脂回路基板を製造するに際し、面内導体パターンとして、銅(Cu)を主成分とする導体パターンを用い、かつ、層間導体パターンとして、ビスマス(Bi)を主成分とする導体パターンを用いることを特徴としている。
【0011】
より詳細には、この発明に係る樹脂回路基板の製造方法は、熱可塑性樹脂シートを用意する工程と、熱可塑性樹脂シートの平面方向に延びるように、銅を主成分とする面内導体パターンを設けるとともに、同じく厚み方向に延びるように、ビスマスを主成分とした導電性ペーストを用いて面内導体パターンと接する層間導体パターンを設ける工程と、熱可塑性樹脂シートに熱処理および加圧処理を施すことによって、導電性ペーストを溶融一体化するとともに、当該導電性ペーストが溶融一体化してなる層間導体パターンと面内導体パターンとの間に、銅およびビスマスの固溶体層を形成する、熱処理・加圧処理工程とを有することを特徴としている。
【0012】
面内導体パターンおよび層間導体パターンが設けられた、複数の熱可塑性樹脂シートを用意する工程と、複数の熱可塑性樹脂シートを積み重ねることによって、積層体を作製する工程とをさらに備え、前述した熱処理・加圧処理工程が、この積層体に対して実施されると、この発明に係る製造方法によって、多層回路基板が得られる。
【0013】
この発明に係る樹脂回路基板の製造方法において、好ましくは、層間導体パターンを設ける工程は、熱可塑性樹脂シートの厚み方向に延びる層間連通孔を設ける工程と、層間連通孔に導電性ペーストを充填する工程を含む。
【0014】
上記導電性ペーストは、ビスマスを主成分とする金属粉末を含有するものであり、この金属粉末は、主成分であるビスマスと、銅、銀、亜鉛、錫、インジウム、アンチモンおよびニッケルからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属とを含む合金粉末であることが好ましい。
【0015】
上記の場合、合金粉末には、好ましくは、
(1)ビスマスを主成分とし、添加物として、銅:0.01〜0.3重量%、銀:0.01〜4重量%、または、亜鉛:0.01〜4重量%を含んだ合金粉末である2元系の実施態様、
(2)ビスマスを主成分とし、第1添加物として、銀:0.01〜4重量%を含み、さらに、第2添加物として、錫:0.1〜0.5重量%、銅:0.01〜0.3重量%、インジウム:0.05〜0.5重量%、アンチモン:0.05〜3重量%、または、亜鉛:0.05〜3重量%を含んだ合金粉末である第1の3元系の実施態様、
(3)ビスマスを主成分とし、第1添加物として、銅:0.01〜0.3重量%を含み、さらに、第2添加物として、錫:0.05〜0.5重量%を含んだ合金粉末である第2の3元系の実施態様、
(4)ビスマスを主成分とし、第1添加物として、亜鉛:0.01〜4重量%を含み、さらに、第2添加物として、錫:0.05〜0.5重量%を含んだ合金粉末である第3の3元系の実施態様、ならびに
(5)ビスマスを主成分とし、第1添加物として、銀:0.01〜4重量%、銅:0.01〜0.3重量%、または、亜鉛:0.01〜4重量%を含み、さらに、第2添加物として、ニッケル:0.05〜0.5重量%を含んだ合金粉末である第4の3元系の実施態様
がある。
【0016】
この発明は、また、樹脂回路基板にも向けられる。この発明に係る樹脂回路基板は、熱可塑性樹脂層を含む基体と、熱可塑性樹脂層の平面方向に延びるように設けられ、銅を主成分とする面内導体パターンと、面内導体パターンと接する状態で熱可塑性樹脂層の厚み方向に延びるように設けられ、ビスマスを主成分とする層間導体パターンと、面内導体パターンと層間導体パターンとの間に形成された、銅およびビスマスの固溶体層とを有することを特徴としている。
【0017】
この発明に係る樹脂回路基板において、基体は、複数の熱可塑性樹脂層を積み重ねた積層構造を有していてもよい。すなわち、この発明に係る樹脂回路基板は、多層回路基板であってもよい。
【0018】
この発明に係る樹脂回路基板は、基体の表面にチップ部品が実装されたものであってもよい。
【0019】
この発明は、さらに、樹脂回路基板に備える熱可塑性樹脂層の厚み方向に延びるように設けられる層間導体パターンを形成するために用いられる導電性ペーストにも向けられる。この発明に係る導電性ペーストは、ビスマスを主成分とする金属粉末を含有することを特徴としている。
【0020】
この発明に係る導電性ペーストにおいて、金属粉末は、主成分であるビスマスと、銅、銀、亜鉛、錫、インジウム、アンチモンおよびニッケルからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属とを含む合金粉末であることが好ましい。
【発明の効果】
【0021】
この発明によれば、樹脂回路基板を得るための熱処理時、面内導体パターンと層間導体パターンとの間には、CuとBiの固溶体層が形成される。ここで、CuのBiに対する固溶限が小さいため、すなわち、CuはBiに対して、0.1〜0.2重量%程度しか固溶しないため、固溶体層の厚みは変動しにくく、電気特性の安定性や信頼性に優れた樹脂回路基板が得られる。
【図面の簡単な説明】
【0022】
【図1】この発明の一実施形態による樹脂回路基板1を示す断面図である。
【図2】図1に示した樹脂回路基板1を製造するために実施されるいくつかの工程を示す断面図である。
【図3】図1に示した樹脂回路基板1を得るために実施される熱処理・加圧処理工程において、導電性ペースト13中のバインダ樹脂15が消失する場合に層間導体パターン7に生じ得る現象を説明するための断面図である。
【図4】図1に示した樹脂回路基板1を得るために実施される熱処理・加圧処理工程において、導電性ペースト13中のバインダ樹脂15が残る場合に層間導体パターン7に生じ得る現象を説明するための断面図である。
【図5】図1に示した樹脂回路基板1上にチップ部品21および22を実装した状態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0023】
図1を参照して、樹脂回路基板1の構造の概略について説明する。
【0024】
図1に示した樹脂回路基板1は、多層回路基板を構成するもので、複数の熱可塑性樹脂層2を積み重ねた積層構造を有する基体3を備えている。なお、複数の熱可塑性樹脂層2の各々は、隣接するものと接する表面が流動され、隣接するもの同士が密着しているので、図1において、複数の熱可塑性樹脂層2の互いの間の境界については、その図示を省略している。
【0025】
樹脂回路基板1は、また、熱可塑性樹脂層2の平面方向に延びるように設けられ、銅を主成分とするいくつかの面内導体パターン4、5および6を備えている。面内導体パターン4〜6は、基体3の上面上に位置する面内導体パターン4と、基体3の下面上に位置する面内導体パターン5と、基体3の内部に位置する面内導体パターン6とに分類される。
【0026】
樹脂回路基板1は、さらに、面内導体パターン4〜6のいずれかと接する状態で熱可塑性樹脂層2の厚み方向に延びるように設けられ、ビスマスを主成分とする層間導体パターン7を備えている。
【0027】
上述した面内導体パターン4〜6の各々と層間導体パターン7との間には、銅およびビスマスの固溶体層8(図3または図4参照)が形成されている。
【0028】
樹脂回路基板1の構造の詳細については、図2を参照して以下に説明する製造方法の説明において明らかにする。
【0029】
樹脂回路基板1を製造するため、まず、図2(1)に示すように、熱可塑性樹脂層2となるべき熱可塑性樹脂シート11−2が用意される。なお、熱可塑性樹脂シートとして、図2(1)に示した熱可塑性樹脂シート11−2のほか、図2(4)に示すように、熱可塑性樹脂シート11−1、11−3および11−4が用意される。これら熱可塑性樹脂シート11−1〜11−4は、好ましくは、耐熱性が高く、吸水性が小さいことから、LCPシートから構成されるが、ポリイミドのような熱可塑性樹脂からなるシートから構成されてもよい。用意される熱可塑性樹脂シートの数は必要に応じて増減され得る。
【0030】
なお、以下の説明において、熱可塑性樹脂シート11−1、11−2、11−3および11−4の間で区別する必要がないときは、これらを総称して、「熱可塑性樹脂シート11」と言う。
【0031】
次に、同じく図2(1)に示すように、熱可塑性樹脂シート11−2上には、面内導体パターン6が形成される。同様に、図2(4)から類推されるように、熱可塑性樹脂シート11−1および11−3上にも、面内導体パターン6が形成され、熱可塑性樹脂シート11−4上には、面内導体パターン5が形成される。これら面内導体パターン5および6は、好ましくは、Cuを主成分とするCu箔パターンをもって構成される。
【0032】
Cu箔パターンは、熱可塑性樹脂シート11にアンカー効果で接合しているが、接着剤を介して接合していてもよい。Cu箔パターンは、全面にCu箔を有する熱可塑性樹脂シート11を用意し、このCu箔を、たとえばフォトリソグラフィ法でパターニングすることによって形成され得る。
【0033】
なお、面内導体パターン5および6ならびに後の構成で形成される面内導体パターン4は、Cuを主成分とするものであれば、Cu箔に限定されるものではなく、たとえば、Cuめっき膜であってもよい。Cu箔またはCuめっき膜は、Cu単体金属からなるものであることが好ましいが、他の金属を添加物として含んだ合金からなるものであってもよい。もちろん、面内導体パターン4〜6は、Cuペーストを印刷し、熱処理等によって溶融一体化したものであってもよい。
【0034】
次に、図2(2)に示すように、熱可塑性樹脂シート11−2の厚み方向に延びる層間連通孔12が設けられる。層間連通孔12は、好ましくは、熱可塑性樹脂シート11−2の、面内導体パターン6が設けられた面とは反対側の面からレーザ光を照射することによって形成される。このとき、形成された層間連通孔12の底面が面内導体パターン6によって規定されるように制御される。
【0035】
層間連通孔12をあけた後、熱可塑性樹脂シート11−2の残渣が残る場合は、デスミア処理等のクリ−ニング処理を行なう。レーザ光照射による孔あけの場合、図示したように、層間連通孔12はテーパ形状になる。また、レーザ光照射による孔あけの場合、面内導体パターン6のうちレーザ光が照射された部分は平滑化する。平滑化している方が、後の工程で形成される層間導体パターン7との接続性、すなわち導通性が向上するので好ましい。
【0036】
なお、層間連通孔12の形成のため、レーザ光照射による孔あけに代えて、パンチング処理による孔あけが適用されてもよい。パンチング処理による場合であっても、形成された層間連通孔12の底面が面内導体パターン6によって規定されるように制御される。
【0037】
同様に、図2(4)から類推されるように、熱可塑性樹脂シート11−1、11−3および11−4上に対しても、層間連通孔12の形成工程が実施される。
【0038】
次に、図2(3)に示すように、層間連通孔12に導電性ペースト13が充填され、面内導体パターン4〜6のいずれかと接する状態とされる。導電性ペースト13は、ビスマスを主成分とした金属粉末を、バインダ樹脂および溶剤に分散してなるものである。導電性ペースト13は、また、可塑剤、分散剤等の他の成分を含んでいてもよい。
【0039】
上記金属粉末は、ビスマス単体金属からなる粉末であってもよいが、ビスマス合金粉末であることが好ましい。なお、ビスマス合金粉末において、ビスマスの一部が他の添加金属と固溶していたり、金属間化合物を形成していたりしていても構わない。
【0040】
より具体的には、金属粉末は、主成分であるビスマスと、銅、銀、亜鉛、錫、インジウム、アンチモンおよびニッケルからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属とを含む合金粉末であることが好ましい。
【0041】
上記の場合、合金粉末の組成には、次のような好ましい実施態様がある。
【0042】
(1)ビスマスを主成分とし、添加物として、銅:0.01〜0.3重量%、銀:0.01〜4重量%、または、亜鉛:0.01〜4重量%を含んだ、2元系の実施態様。
【0043】
(2)ビスマスを主成分とし、第1添加物として、銀:0.01〜4重量%を含み、さらに、第2添加物として、錫:0.1〜0.5重量%、銅:0.01〜0.3重量%、インジウム:0.05〜0.5重量%、アンチモン:0.05〜3重量%、または、亜鉛:0.05〜3重量%を含んだ、第1の3元系の実施態様。
【0044】
(3)ビスマスを主成分とし、第1添加物として、銅:0.01〜0.3重量%を含み、さらに、第2添加物として、錫:0.05〜0.5重量%を含んだ、第2の3元系の実施態様。
【0045】
(4)ビスマスを主成分とし、第1添加物として、亜鉛:0.01〜4重量%を含み、さらに、第2添加物として、錫:0.05〜0.5重量%を含んだ、第3の3元系の実施態様。
【0046】
(5)ビスマスを主成分とし、第1添加物として、銀:0.01〜4重量%、銅:0.01〜0.3重量%、または、亜鉛:0.01〜4重量%を含み、さらに、第2添加物として、ニッケル:0.05〜0.5重量%を含んだ、第4の3元系の実施態様。
【0047】
これらの実施態様のさらなる詳細については、後述する実験例において明らかにする。
【0048】
導電性ペースト13の充填後は、これを乾燥して、導電性ペースト13中の溶剤成分を揮発させる。この段階では、図3(A)または図4(A)に示すように、層間連通孔12内において、多数の金属粉末14が、バインダ樹脂15に分散し、かつ固着された状態である。
【0049】
同様に、図2(4)から類推されるように、熱可塑性樹脂シート11−1、11−3および11−4上に対しても、上述した導電性ペースト13の充填等の工程が実施される。
【0050】
次に、図2(4)の最も上に示すように、熱可塑性樹脂シート11−1の上面に、Cuを主成分とする面内導体パターン4が形成される。この面内導体パターン4についても、面内導体パターン5および6と同様、好ましくは、Cuを主成分とするCu箔パターンをもって構成される。
【0051】
次に、同じく図2(4)に示した複数の熱可塑性樹脂シート11−1〜11−4が積み重ねられる。この段階において、層間導体パターン7の両端部が面内導体パターン4〜6のいずれかに接する状態となっている。
【0052】
このようにして得られた複数の熱可塑性樹脂シート11からなる積層体16は、次いで、減圧下にて、熱を加えながらプレスされる。熱処理温度はたとえば260℃とされる。この熱処理および加圧処理によって、複数の熱可塑性樹脂シート11が一体化される。より詳細には、この熱圧着処理によって、複数の熱可塑性樹脂シート11の各々の表面領域において、たとえばLCPのような熱可塑性樹脂が流動し、熱可塑性樹脂シート11の隣接するもの同士が互いに密着しかつ接合される。
【0053】
また、上述した熱処理・加圧処理工程において、層間連通孔12に充填されたBi系導電性ペースト13が溶融一体化して、図1に示すように、層間導体パターン7を形成するとともに、図3(B)または図4(B1)および同(B2)によく示されているように、Cuを主成分とする面内導体パターン4〜6の各々と導電性ペースト13が溶融一体化してなる層間導体パターン7との間に、BiおよびCuの固溶体層8が形成される。この固溶体層8は、厳密に言うと、Biに少量のCuが固溶したBi系固溶体層である。
【0054】
なお、この固溶体層8においても、Biの一部が金属間化合物を形成していたりすることがある。たとえば、CuはBiに対して0.1〜0.2重量%程度しか固溶しないというように、CuのBiに対する固溶限はかなり小さいため、比較的短時間で固溶限に達し、その後、固溶体層8の厚みはほとんど変動しない。
【0055】
以上のような熱処理・加圧処理工程において、導電性ペースト13中のバインダ樹脂が消失する場合とバインダ樹脂が残る場合とがある。したがって、層間導体パターン7において生じ得る現象を、導電性ペースト13中のバインダ樹脂が消失する場合とバインダ樹脂が残る場合とに分けて説明する。
【0056】
まず、図3(A)には、導電性ペースト13が層間連通孔12に充填された状態が示されている。次いで、熱処理・加圧処理工程が実施されたとき、導電性ペースト13によって層間導体パターン7が形成される。この過程において、層間連通孔12に充填された導電性ペースト13中のバインダ樹脂15が消失する場合、言い換えると、熱処理で消失するようなバインダ樹脂15を用いた場合、さらに言い換えると、バインダ樹脂15の消失温度(燃焼温度または分解温度)が熱処理温度以下の場合、層間導体パターン7の形状は、図3(B)に示すように、母線が凹状の円弧である凹面円錐台状ないしは凹面円柱状になる傾向がある。これは、バインダ樹脂15が消失するとともに、金属粉末14が溶融一体化するのに伴い、導電性ペースト13の体積が減少するが、その体積減少分を、流動性の高い状態になっている熱可塑性樹脂が補おうとするためである。
【0057】
層間導体パターン7が凹面円錐台状ないしは凹面円柱状であると、熱応力などが加わった際に破壊の起点となる可能性の高いエッジ部が生じず、断線に強くなる。しかも、層間導体パターン7と面内導体パターン4〜6との接触面積が大きくなるため、これらの界面での電気抵抗の低下を抑制できる。
【0058】
他方、導電性ペースト13中のバインダ樹脂が残る場合について、図4を参照して説明する。
【0059】
まず、図4(A)には、導電性ペースト13が層間連通孔12に充填された状態が示されている。次いで、熱処理・加圧処理工程が実施されたとき、導電性ペースト13によって層間導体パターン7が形成される。この過程において、導電性ペースト13におけるバインダ樹脂15が残る場合、言い換えると、バインダ樹脂15の消失温度(燃焼温度または分解温度)が熱処理温度より高い場合、より具体的に言うと、バインダ樹脂15の主成分として、たとえばエポキシ樹脂を用い、かつ硬化剤として有機酸を用いた場合、図4(B1)に示すように、層間導体パターン7が凹面円錐台状ないしは凹面円柱状となり、その周囲にバインダ樹脂15が染み出し、層間導体パターン7と熱可塑性樹脂層2との間にバインダ樹脂15からなる緩衝領域ができることがある。
【0060】
この場合においても、バインダ樹脂15が消失する場合と同様、層間導体パターン7が凹面円錐台状ないしは凹面円柱状であるため、熱応力などが加わった際に破壊の起点となる可能性の高いエッジ部が生じず、断線に強くなる。しかも、層間導体パターン7と面内導体パターン4〜6との接触面積が大きくなるため、これらの界面での電気抵抗の低下を抑制できる。また、バインダ樹脂15からなる緩衝領域ができると、熱可塑性樹脂層2に加わった衝撃が層間導体パターン7に直接的には伝わりにくくなる。
【0061】
導電性ペースト13中のバインダ樹脂15が残る場合、時として、図4(B2)のように、層間導体パターン7が網目状になり、その隙間をバインダ樹脂15が埋めたような構造になることがある。この場合、バインダ樹脂15が網目状の層間導体パターン7を補強するため、層間導体パターン7にクラックが入ったとしても、それが進展しにくくなる。
【0062】
図5に示すように、樹脂回路基板1上には、チップコンデンサやICチップなどのチップ部品21および22が、はんだ等の導電性接合材23を介して搭載される。より具体的には、樹脂回路基板1のたとえば上面にある面内導体パターン4にはんだ等の導電性接合材23を塗布しておき、ここにチップ部品21および22の端子電極が位置するように実装し、熱処理することによって、チップ部品21および22が樹脂回路基板1上に実装される。
【0063】
なお、図1に示した樹脂回路基板1は、複数の熱可塑性樹脂層2を備える多層構造を有するものであったが、この発明は、単に1つの熱可塑性樹脂層しか備えない単層構造の樹脂回路基板にも適用することができる。
【0064】
[実験例]
この発明に係る樹脂回路基板の製造方法において、層間導体パターンを形成するために用いる導電性ペーストに含まれる金属粉末として、ビスマスを主成分とする合金粉末が有利に用いられるが、合金粉末についての好ましい組成を求めるために実施した実験例について、以下に説明する。
【0065】
この実験例では、共通して、試料となる樹脂回路基板は、図1に示すような構造を有するもので、熱可塑性樹脂層2をLPCシートから構成し、面内導体パターン4〜6をCu箔パターンから構成した。また、層間導体パターン7を形成するために用いた導電性ペーストは、共通して、ビスマスを主成分とする合金粉末を含むとともに、この合金粉末100重量部に対して、バインダ樹脂としてのロジンを12重量部、溶剤としてのテトラエチレングリコールを10重量部、活性剤としてのコハク酸を2重量部、さら添加材としてのチクソ材を微量含む配合とした。
【0066】
また、樹脂回路基板を得るため、複数のLPCシートを積み重ねて熱処理・加圧処理工程を実施するにあたり、共通して、290℃の温度および4MPaの圧力を適用した。
【0067】
評価にあたっては、後掲の各表に示すように、各試料に係る合金粉末の「溶融温度」を「固相線温度」および「液相線温度」の各々について求めるとともに、「接合強度」、「信頼性」および「マイグレーション」について評価した。
【0068】
なお、「接合強度」は、Cu板に対するピール強度を求めたものである。
【0069】
「信頼性」の評価は、言い換えると、「耐熱性」の評価であり、得られた樹脂回路基板を温度30℃、湿度85%の恒温恒湿槽に96時間置いて、その後、ピーク温度250℃のリフロー炉で加熱する処理を行なった。この加熱処理を2回繰り返し、目視観察により、熱可塑性樹脂層間に剥がれが生じておらず、かつ層間導体パターンに膨れが生じていないものを「○」と評価し、他方、1回目の加熱処理で、熱可塑性樹脂層間に剥がれが生じておらず、かつ層間導体パターンに膨れが生じていないが、2回目の加熱処理で、熱可塑性樹脂層間に剥がれが生じ、かつ/または層間導体パターンに膨れが生じたものを「△」と評価し、1回目の加熱処理で、熱可塑性樹脂層間に剥がれが生じ、かつ/または層間導体パターンに膨れが生じたものを「×」と評価した。
【0070】
「マイグレーション」の評価は、耐湿負荷試験時の故障(ショ−ト)発生の有無を評価したもので、耐湿負荷試験は、得られた樹脂回路基板を、温度85℃、湿度85%の恒温恒湿槽に1000時間置き、樹脂回路基板の内部に構成されたコンデンサに100Vの電圧を印加したときに、ここにショートが発生しなかったものを「マイグレーション」が「○」であると評価し、他方、ショートが発生したものを「マイグレーション」が「×」であると評価した。なお、上記コンデンサは、樹脂回路基板の内層部分に設けられた2枚の面内導体パターンによって構成されたコンデンサであり、このコンデンサは、層間導体パターンを介して樹脂回路基板表面の電極(テストパッド)に引き出された構造を有している。
【0071】
1.実施例1
層間導体パターンを形成するための導電性ペーストに含まれるBi合金粉末として、以下の表1(Bi−Cuの2元系)、表2(Bi−Agの2元系)および表3(Bi−Znの2元系)に示す組成のものを用い、「固相線温度」および「液相線温度」を求めるとともに、「接合強度」、「信頼性」および「マイグレーション」について評価した。
【0072】
【表1】

【0073】
【表2】

【0074】
【表3】

【0075】
Bi合金粉末において、添加物として、Cuを含む場合には、表1からわかるように、Cu含有量が0.01〜0.3重量%の範囲内であることが好ましく、Agを含む場合には、表2からわかるように、Ag含有量が0.01〜4重量%の範囲内であることが好ましく、Znを含む場合には、表3からわかるように、Zn含有量が0.01〜4重量%の範囲内であることが好ましい。
【0076】
他方、表1の試料6のように、Cu含有量が0.3重量%を超えたり、表2の試料10のように、Ag含有量が4重量%を超えたり、表3の試料14のように、Zn含有量が4重量%を超えたりすると、液相線温度が300℃付近となり、熱処理・加圧処理工程で適用された前述の290℃の温度では、層間導体パターンに含まれる合金粉末の一部を液相化させて、層間導体パターンを緻密化(溶融一体化)させることができず、層間導体パターンと面内導体パターンとを固相拡散に基づき強固に接合させることができなかった。よって、「接合強度」、「信頼性」および「マイグレーション」について評価できなかった。
【0077】
2.実施例2
層間導体パターンを形成するための導電性ペーストに含まれるBi合金粉末として、以下の表4に示すBi−Ag−Sn/Cu/In/Sb/Znの3元系組成のものを用い、「固相線温度」および「液相線温度」を求めるとともに、「接合強度」、「信頼性」および「マイグレーション」について評価した。
【0078】
【表4】

【0079】
表4からわかるように、Bi−Ag−Sn/Cu/In/Sb/Znの3元系組成の粉末において、第2成分としてのAg含有量は0.01〜4重量%の範囲内であることが好ましく、第3成分としてのSn含有量は0.1〜0.5重量%、同じくCu含有量は0.01〜0.3重量%、同じくIn含有量は0.05〜0.5重量%、同じくSb含有量は0.05〜3重量%、同じくZn含有量は0.05〜3重量%の各範囲内であることが好ましい。
【0080】
他方、試料26、33、40、47および54のように、第2成分としてのAg含有量が4重量%を超えたり、試料30のように、第3成分としてのCu含有量が0.3重量%を超えたり、試料45のように、第3成分としてのSb含有量が3重量%を超えたり、試料52のように、Zn含有量が3重量%を超えたりすると、液相線温度が300℃付近となり、または300℃を大きく超え、熱処理・加圧処理工程で適用された前述の290℃の温度では、層間導体パターンに含まれる合金粉末の一部を液相化させて、層間導体パターンを緻密化(溶融一体化)させることができず、層間導体パターンと面内導体パターンとを固相拡散に基づき強固に接合させることができなかった。よって、「接合強度」、「信頼性」および「マイグレーション」について評価できなかった。
【0081】
また、試料24のように、第3成分としてのSn含有量が0.5重量%を超えたり、試料38のように、第3成分としてのIn含有量が0.5重量%を超えたりすると、固相線温度が低くなり、「信頼性」が「×」と評価された。
【0082】
3.実施例3
層間導体パターンを形成するための導電性ペーストに含まれるBi合金粉末として、以下の表5に示すBi−Cu−Snの3元系組成のものを用い、「固相線温度」および「液相線温度」を求めるとともに、「接合強度」、「信頼性」および「マイグレーション」について評価した。
【0083】
【表5】

【0084】
表5からわかるように、Bi−Cu−Snの3元系組成の粉末において、第2成分としてのCu含有量は0.01〜0.3重量%の範囲内であることが好ましく、第3成分としてのSn含有量は0.05〜0.5重量%の範囲内であることが好ましい。
【0085】
他方、試料67のように、第2成分としてのCu含有量が0.3重量%を超えると、液相線温度が300℃付近となり、熱処理・加圧処理工程で適用された前述の290℃の温度では、層間導体パターンに含まれる合金粉末の一部を液相化させて、層間導体パターンを緻密化(溶融一体化)させることができず、層間導体パターンと面内導体パターンとを固相拡散に基づき強固に接合させることができなかった。よって、「接合強度」、「信頼性」および「マイグレーション」について評価できなかった。
【0086】
また、試料65のように、第3成分としてのSn含有量が0.5重量%を超えると、固相線温度が低くなり、「信頼性」が「×」と評価された。
【0087】
4.実施例4
層間導体パターンを形成するための導電性ペーストに含まれるBi合金粉末として、以下の表6に示すBi−Zn−Snの3元系組成のものを用い、「固相線温度」および「液相線温度」を求めるとともに、「接合強度」、「信頼性」および「マイグレーション」について評価した。
【0088】
【表6】

【0089】
表6からわかるように、Bi−Zn−Snの3元系組成の粉末において、第2成分としてのZn含有量は0.01〜4重量%の範囲内であることが好ましく、第3成分としてのSn含有量は0.05〜0.5重量%の範囲内であることが好ましい。
【0090】
他方、試料77のように、第2成分としてのZn含有量が4重量%を超えると、液相線温度が300℃付近となり、熱処理・加圧処理工程で適用された前述の290℃の温度では、層間導体パターンに含まれる合金粉末の一部を液相化させて、層間導体パターンを緻密化(溶融一体化)させることができず、層間導体パターンと面内導体パターンとを固相拡散に基づき強固に接合させることができなかった。よって、「接合強度」、「信頼性」および「マイグレーション」について評価できなかった。
【0091】
また、試料75のように、第3成分としてのSn含有量が0.5重量%を超えると、固相線温度が低くなり、「信頼性」が「×」と評価された。
【0092】
5.実施例5
層間導体パターンを形成するための導電性ペーストに含まれるBi合金粉末として、以下の表7に示すBi−Ag/Cu/Zn−Niの3元系組成のものを用い、「固相線温度」および「液相線温度」を求めるとともに、「接合強度」、「信頼性」および「マイグレーション」について評価した。
【0093】
【表7】

【0094】
表7からわかるように、Bi−Ag/Cu/Zn−Niの3元系組成の粉末において、第2成分としてのAg含有量は0.01〜4重量%、同じくCu含有量は0.01〜0.3重量%、同じくZn含有量は0.01〜4重量%の各範囲内にあることが好ましく、第3成分としてのNi含有量は0.05〜0.5重量%の各範囲内であることが好ましい。
【0095】
他方、試料87のように、第2成分としてのAg含有量が4重量%を超えたり、試料94のように、第2成分としてのCu含有量が0.3重量%を超えたり、試料101のように、第2成分としてのZn含有量が4重量%を超えたり、試料85、92および99のように、第3成分としてのNi含有量が0.5重量%を超えたりすると、液相線温度が300℃付近となり、熱処理・加圧処理工程で適用された前述の290℃の温度では、層間導体パターンに含まれる合金粉末の一部を液相化させて、層間導体パターンを緻密化(溶融一体化)させることができず、層間導体パターンと面内導体パターンとを固相拡散に基づき強固に接合させることができなかった。よって、「接合強度」、「信頼性」および「マイグレーション」について評価できなかった。
【0096】
6.比較例
層間導体パターンを形成するため、市販の導電性ペースト(※ メーカー名および商品名等を補充下さい。)を用いた場合(比較例1)と、Sn−3Ag−0.5Cuソルダペーストを用いた場合(比較例2)とについて、「接合強度」、「信頼性」および「マイグレーション」を評価した。比較例2については、「固相線温度」および「液相線温度」を求めた。これらの結果が表8に示されている。
【0097】
【表8】

【0098】
比較例1のように、市販の導電性ペーストを使った場合、層間導体パターンの構造は、金属粉末が樹脂中に分散している構造となり、その電気的導通は、金属粉末同士が物理的に接触していることによって達成される。そのため、「信頼性」について「△〜×」の評価となり、「マイグレーション」について「×」の評価となった。
【0099】
他方、比較例2では、「信頼性」が「×」と評価された。
【符号の説明】
【0100】
1 樹脂回路基板
2 熱可塑性樹脂層
3 基体
4,5,6 面内導体パターン
7 層間導体パターン
8 固溶体層
11 熱可塑性樹脂シート
12 層間連通孔
13 導電性ペースト
14 金属粉末
15 バインダ樹脂
16 積層体
21,22 チップ部品

【特許請求の範囲】
【請求項1】
熱可塑性樹脂シートを用意する工程と、
前記熱可塑性樹脂シートの平面方向に延びるように、銅を主成分とする面内導体パターンを設けるとともに、同じく厚み方向に延びるように、ビスマスを主成分とした導電性ペーストを用いて前記面内導体パターンと接する層間導体パターンを設ける工程と、
前記熱可塑性樹脂シートに熱処理および加圧処理を施すことによって、前記導電性ペーストを溶融一体化するとともに、当該導電性ペーストが溶融一体化してなる前記層間導体パターンと前記面内導体パターンとの間に、銅およびビスマスの固溶体層を形成する、熱処理・加圧処理工程と
を有する、樹脂回路基板の製造方法。
【請求項2】
前記面内導体パターンおよび前記層間導体パターンが設けられた、複数の前記熱可塑性樹脂シートを用意する工程と、
複数の前記熱可塑性樹脂シートを積み重ねることによって、積層体を作製する工程と
をさらに備え、
前記熱処理・加圧処理工程は、前記積層体に対して実施される、
請求項1に記載の樹脂回路基板の製造方法。
【請求項3】
前記層間導体パターンを設ける工程は、前記熱可塑性樹脂シートの厚み方向に延びる層間連通孔を設ける工程と、前記層間連通孔に前記導電性ペーストを充填する工程を含む、請求項1または2に記載の樹脂回路基板の製造方法。
【請求項4】
前記導電性ペーストは、ビスマスを主成分とする金属粉末を含有するものであり、前記金属粉末は、主成分であるビスマスと、銅、銀、亜鉛、錫、インジウム、アンチモンおよびニッケルからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属とを含む合金粉末である、請求項3に記載の樹脂回路基板の製造方法。
【請求項5】
前記合金粉末は、ビスマスを主成分とし、添加物として、銅:0.01〜0.3重量%、銀:0.01〜4重量%、または、亜鉛:0.01〜4重量%を含んだ合金粉末である、請求項4に記載の樹脂回路基板の製造方法。
【請求項6】
前記合金粉末は、ビスマスを主成分とし、第1添加物として、銀:0.01〜4重量%を含み、さらに、第2添加物として、錫:0.1〜0.5重量%、銅:0.01〜0.3重量%、インジウム:0.05〜0.5重量%、アンチモン:0.05〜3重量%、または、亜鉛:0.05〜3重量%を含んだ合金粉末である、請求項4に記載の樹脂回路基板の製造方法。
【請求項7】
前記合金粉末は、ビスマスを主成分とし、第1添加物として、銅:0.01〜0.3重量%を含み、さらに、第2添加物として、錫:0.05〜0.5重量%を含んだ合金粉末である、請求項4に記載の樹脂回路基板の製造方法。
【請求項8】
前記合金粉末は、ビスマスを主成分とし、第1添加物として、亜鉛:0.01〜4重量%を含み、さらに、第2添加物として、錫:0.05〜0.5重量%を含んだ合金粉末である、請求項4に記載の樹脂回路基板の製造方法。
【請求項9】
前記合金粉末は、ビスマスを主成分とし、第1添加物として、銀:0.01〜4重量%、銅:0.01〜0.3重量%、または、亜鉛:0.01〜4重量%を含み、さらに、第2添加物として、ニッケル:0.05〜0.5重量%を含んだ合金粉末である、請求項4に記載の樹脂回路基板の製造方法。
【請求項10】
熱可塑性樹脂層を含む基体と、
前記熱可塑性樹脂層の平面方向に延びるように設けられ、銅を主成分とする面内導体パターンと、
前記面内導体パターンと接する状態で前記熱可塑性樹脂層の厚み方向に延びるように設けられ、ビスマスを主成分とする層間導体パターンと、
前記面内導体パターンと前記層間導体パターンとの間に形成された、銅およびビスマスの固溶体層と
を有する、樹脂回路基板。
【請求項11】
前記基体は、複数の前記熱可塑性樹脂層を積み重ねた積層構造を有する、請求項10に記載の樹脂回路基板。
【請求項12】
前記基体の表面に実装されたチップ部品をさらに備える、請求項10または11に記載の樹脂回路基板。
【請求項13】
樹脂回路基板に備える熱可塑性樹脂層の厚み方向に延びるように設けられる層間導体パターンを形成するために用いられる導電性ペーストであって、ビスマスを主成分とする金属粉末を含有する、導電性ペースト。
【請求項14】
前記金属粉末は、主成分であるビスマスと、銅、銀、亜鉛、錫、インジウム、アンチモンおよびニッケルからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属とを含む合金粉末である、請求項13に記載の導電性ペースト。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【公開番号】特開2011−108716(P2011−108716A)
【公開日】平成23年6月2日(2011.6.2)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−259617(P2009−259617)
【出願日】平成21年11月13日(2009.11.13)
【出願人】(000006231)株式会社村田製作所 (3,635)
【Fターム(参考)】