液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体
【課題】基板の上面側からガスを供給するとともに基板の下面側から処理液を供給し、供給された処理液により基板の下面を処理する液処理装置において、トッププレートの位置を精度良く位置決めすることができる液処理装置及び液処理方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗの上面側からガスを供給するとともに基板Ｗの下面側から処理液を供給し、供給された処理液により基板Ｗの下面を処理する液処理装置２２において、上面に開口１０５を有する処理容器１００と、処理容器１００内に設けられ、基板Ｗの周縁部ＷＥを支持する支持部７０、７２と、昇降可能に設けられ、下降した状態で開口１０５を塞ぐ天板部１１０と、天板部１１０が下降する際に、処理容器１００に対する天板部１１０の相対位置を所定の位置に位置決めする位置決め機構１３０とを有する。
【解決手段】基板Ｗの上面側からガスを供給するとともに基板Ｗの下面側から処理液を供給し、供給された処理液により基板Ｗの下面を処理する液処理装置２２において、上面に開口１０５を有する処理容器１００と、処理容器１００内に設けられ、基板Ｗの周縁部ＷＥを支持する支持部７０、７２と、昇降可能に設けられ、下降した状態で開口１０５を塞ぐ天板部１１０と、天板部１１０が下降する際に、処理容器１００に対する天板部１１０の相対位置を所定の位置に位置決めする位置決め機構１３０とを有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理液を用いて処理する液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造プロセスやフラットパネルディスプレー（ＦＰＤ）の製造プロセスにおいては、被処理基板（以下「基板」又は「ウェハ」という。）である半導体ウェハやガラス基板に処理液を供給して液処理を行う液処理プロセスが多用されている。
【０００３】
このような液処理プロセスの一つとして、基板の裏面又は周縁部に処理液を供給し、供給した処理液により、基板の裏面又は周縁部に液処理を行う液処理プロセスがある。
【０００４】
例えば、半導体デバイス等の製造プロセスにおいては、基板の表面に各種薄膜を形成するために成膜工程が行われることがある。成膜工程では、基板の表面のみならず基板の裏面又は周縁部にも薄膜が成膜されることがある。基板の裏面又は周縁部に形成された薄膜は、その後の製造工程の中で、例えば熱処理等の際に基板に反りを発生させる要因ともなるため、除去することが好ましい。そのため、基板の裏面又は周縁部に処理液を供給し、供給された処理液により、基板の裏面又は周縁部をエッチング処理する液処理プロセスを行うことがある。
【０００５】
このような液処理プロセスを行う液処理装置として、基板の上面に気体を供給するとともに基板の下面に処理液を供給することにより、基板の下面及び周縁部に対して液処理を行う液処理装置が知られている（例えば、特許文献１参照。）。特許文献１に示す例では、液処理装置は、基板保持回転手段（支持部）、処理液供給手段及び遮断板（トッププレート）を有している。基板保持回転手段（支持部）は、基板をほぼ水平に保持（支持）しつつ回転させる。処理液供給手段は、基板保持回転手段（支持部）により回転される基板の下面に向けて処理液を供給する。遮断板（トッププレート）は、基板の上面に対して所定間隔の隙間を空けて対向するように基板保持回転手段上に載置されており、基板保持回転手段により基板とともに回転される。そして、遮断板（トッププレート）の下面略中央には、基板の上面に気体を供給するための開口部が形成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−１１０６２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、上記した処理液を用いて基板を処理する液処理装置及び液処理方法においては、次のような問題がある。
【０００８】
特許文献１に示す液処理装置では、支持部に対するトッププレートの位置を精度良く位置決めすることができない。すなわち、基板保持回転手段（支持部）に保持（支持）されている基板に対するトッププレートの位置を精度良く位置決めすることができない。その結果、基板の周縁部とトッププレートとの距離を、基板の周方向に沿って一定とすることができず、周縁部の一部において基板とトッププレートとの間に大きな隙間が生じることがある。そして、基板とトッププレートとの間に大きな隙間が生じると、基板の下面及び周縁部に供給された処理液が基板の上面に回り込むか又は飛散するおそれがある。
【０００９】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、基板の上面側からガスを供給するとともに基板の下面側から処理液を供給し、供給された処理液により基板の下面を処理する液処理装置において、トッププレートの位置を精度良く位置決めすることができる液処理装置及び液処理方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するために本発明では、次に述べる各手段を講じたことを特徴とするものである。
【００１１】
本発明の一実施例によれば、基板の上面側からガスを供給するとともに前記基板の下面側から処理液を供給し、供給された処理液により前記基板の下面を処理する液処理装置において、上面に開口を有する処理容器と、前記処理容器内に設けられ、基板の周縁部を支持する支持部と、昇降可能に設けられ、下降した状態で前記開口を塞ぐ天板部と、前記天板部が下降する際に、前記処理容器に対する前記天板部の相対位置を所定の位置に位置決めする位置決め機構とを有する、液処理装置が提供される。
【００１２】
また、本発明の一実施例によれば、上面に開口を有する処理容器と、前記処理容器内に設けられ、基板の周縁部を支持する支持部と、昇降可能に設けられ、下降した状態で前記開口を塞ぐ天板部とを有し、前記支持部に支持されている基板の上面側からガスを供給するとともに前記基板の下面側から処理液を供給し、供給された処理液により前記基板の下面を処理する液処理装置における液処理方法であって、前記天板部が下降する際に、前記処理容器に対する前記天板部の相対位置を所定の位置に位置決めする位置決め工程を有する、液処理方法が提供される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、基板の上面側からガスを供給するとともに基板の下面側から処理液を供給し、供給された処理液により基板の下面を処理する液処理装置において、トッププレートの位置を精度良く位置決めすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施の形態に係る液処理システムの概略構成を示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿った正面側の断面図である。
【図３】図１のＢ−Ｂ線に沿った側面側の断面図である。
【図４】実施の形態に係る液処理ユニットの構成を示す概略断面図である。
【図５】実施の形態に係る液処理ユニットの回転カップ近傍を拡大した概略断面図である。
【図６】実施の形態に係る液処理ユニットの回転カップの斜視図である。
【図７】実施の形態に係る液処理ユニットの構成を示す概略上面図である。
【図８】実施の形態に係る液処理ユニットのフローティング部材近傍を拡大した概略断面図である。
【図９】実施の形態の第１の変形例に係る液処理ユニットの構成を示す概略断面図である。
【図１０】実施の形態の第２の変形例に係る液処理ユニットの構成を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
次に、本発明を実施するための形態について図面と共に説明する。ここでは、本発明を半導体ウェハ（以下、単に「ウェハ」と記す。）の裏面洗浄を行う液処理装置に適用した場合について示す。
（実施の形態）
始めに、図１から図３を参照し、実施の形態に係る液処理ユニットを搭載する液処理システムの概略構成について説明する。
【００１６】
なお、液処理ユニットは、本発明における液処理装置に相当する。
【００１７】
図１は本発明の実施の形態に係る液処理システム１０の概略構成を示す平面図、図２は図１のＡ−Ａ線に沿った正面側の断面図、図３は図１のＢ−Ｂ線に沿った側面側の断面図である。
【００１８】
この液処理システム１０は、複数のウェハＷを収容するウェハキャリアＣが載置され、ウェハＷの搬入・搬出を行う搬入出ステーション（基板搬入出部）１と、ウェハＷに洗浄処理を施すための処理ステーション（液処理部）２とを備えている。搬入出ステーション（基板搬入出部）１及び処理ステーション（液処理部）２は、隣接して設けられている。
【００１９】
搬入出ステーション１は、キャリア載置部１１、搬送部１２、受け渡し部１３及び筐体１４を有している。キャリア載置部１１は、複数のウェハＷを水平状態で収容するウェハキャリアＣを載置する。搬送部１２は、ウェハＷの搬送を行う。受け渡し部１３は、ウェハＷの受け渡しを行う。筐体１４は、搬送部１２および受け渡し部１３を収容する。
【００２０】
キャリア載置部１１は４個のウェハキャリアＣが載置可能である。載置されたウェハキャリアＣは筐体１４の垂直壁部１２ａに密着された状態とされ、大気に触れることなくその中のウェハＷが搬送部１２に搬入可能となっている。
【００２１】
筐体１４は、搬送部１２と受け渡し部１３とを垂直に仕切る仕切り部材１４ａを有している。搬送部１２は、搬送機構１５と、その上方に設けられた清浄空気のダウンフローを供給するファン・フィルター・ユニット（ＦＦＵ）１６とを有している。搬送機構１５は、ウェハＷを保持するウェハ保持アーム１５ａ、及びウェハ保持アーム１５ａを前後に移動させる機構を有している。また搬送機構１５は、ウェハキャリアＣの配列方向であるＸ方向に延在する水平ガイド１７（図１参照）に沿って移動させる機構、垂直方向に設けられた垂直ガイド１８（図２参照）に沿って移動させる機構、水平面内で回転させる機構を有している。この搬送機構１５により、ウェハキャリアＣと受け渡し部１３との間でウェハＷが搬送される。
【００２２】
受け渡し部１３は、受け渡しステージ１９と、その上に設けられたウェハＷを載置可能な載置部を複数備えた受け渡し棚２０とを有している。受け渡し部１３は、この受け渡し棚２０を介して処理ステーション２との間でウェハＷの受け渡しが行われるようになっている。
【００２３】
図３に示すように、処理ステーション２は、直方体状をなす筐体２１を有している。処理ステーション２は、筐体２１内には、その中央上部にウェハキャリアＣの配列方向であるＸ方向に直交するＹ方向に沿って延びる搬送路を構成する搬送室２１ａと、搬送室２１ａの両側に設けられた２つのユニット室２１ｂ、２１ｃとを有している。ユニット室２１ｂ、２１ｃにはそれぞれ搬送室２１ａに沿って６個ずつ合計１２個の液処理ユニット２２が水平に配列されている。
【００２４】
筐体２１内のユニット室２１ｂ、２１ｃの下には、それぞれ各液処理ユニット２２の駆動系を収容した駆動エリア２１ｄ、２１ｅが設けられている。また、駆動エリア２１ｄ、２１ｅの下には、それぞれ配管を収容した配管ボックス２１ｆ、２１ｇが設けられている。また、配管ボックス２１ｆ、２１ｇの下には、それぞれ処理液貯留部としての薬液供給ユニット２１ｈ、２１ｉが設けられている。一方、搬送室２１ａの下方には、排気のための排気空間２１ｊが設けられている。
【００２５】
搬送室２１ａの上方には、ファン・フィルター・ユニット（ＦＦＵ）２３が設けられ、搬送室２１ａに清浄空気のダウンフローを供給するようになっている。搬送室２１ａの内部には搬送機構２４が設けられている。搬送機構２４は、ウェハＷを保持するウェハ保持アーム２４ａ、及びウェハ保持アーム２４ａを前後に移動させる機構を有している。また、搬送機構２４は、搬送室２１ａに設けられた水平ガイド２５（図１参照）に沿ってＹ方向に移動させる機構、垂直方向に設けられた垂直ガイド２６（図３参照）に沿って移動させる機構、水平面内で回転させる機構を有している。この搬送機構２４により、各液処理ユニット２２に対するウェハＷの搬入出を行うようになっている。
【００２６】
なお、受け渡しステージ１９はキャリア載置部１１よりも高い位置に設けられ、液処理ユニット２２は受け渡しステージ１９よりも高い位置に設けられている。
【００２７】
配管ボックス２１ｆ、２１ｇには、処理液配管群３０、排液配管群３１および排気配管群３２が水平に配置されている。処理液配管群３０は、例えば、アンモニア水と過酸化水素を混合して形成されたアンモニア過水ＳＣ１を供給するＳＣ１配管３０ａ、希フッ酸（ＤＨＦ）を供給するＤＨＦ配管３０ｂ、純水を供給する純水配管３０ｃを有している。また、排液配管群３１は、例えば、排液を排出するための排液配管３１ａ、排液を回収するための回収配管３１ｂを有している。さらに排気配管群３２は、例えば、酸を排気するための酸排気配管３２ａ、アルカリを排気するためのアルカリ排気配管３２ｂを有している。
【００２８】
薬液供給ユニット２１ｈは、搬入出ステーション１側に設けられた、例えばアンモニア過水ＳＣ１を貯留する第１薬液タンク４１とそれに隣接する第１回収タンク４２とを有している。
【００２９】
図２に示すように、第１薬液タンク４１には、薬液を送出するための送出管４３と、薬液を返戻するための返戻管４４が接続されている。送出管４３は、配管ボックス２１ｆ内に水平に配置された処理液配管群３０のＳＣ１配管３０ａの一端側に接続されている。また、返戻管４４は、ＳＣ１配管３０ａの他端側に接続されている。
【００３０】
第１薬液タンク４１の上部には薬液供給配管５１が接続されており、この薬液供給配管５１には混合器５２が接続されている。混合器５２には、純水配管５３、アンモニア配管５４および過酸化水素配管５５が接続されており、混合器５２にて純水とアンモニアと過酸化水素が混合されてアンモニア過水ＳＣ１が第１薬液タンク４１に供給されるようになっている。純水配管５３には液体フローコントローラ（ＬＦＣ）５６ａおよびバルブ５６ｂが設けられている。アンモニア配管５４には液体フローコントローラ（ＬＦＣ）５７ａおよびバルブ５７ｂが設けられている。過酸化水素配管５５には液体フローコントローラ（ＬＦＣ）５８ａおよびバルブ５８ｂが設けられている。
【００３１】
また、薬液供給ユニット２１ｈには、排液配管群３１の回収配管３１ｂに接続され、処理済みの薬液を回収するための第１回収タンク４２が設けられている。第１回収タンク４２と第１薬液タンク４１は、接続配管４６で接続され、回収された薬液を清浄化処理した後、第１薬液タンク４１に戻すことが可能となっている。
【００３２】
一方、薬液供給ユニット２１ｉは、搬入出ステーション１側に設けられた、例えば希フッ酸（ＤＨＦ）を貯留する第２薬液タンク４７（図３参照）とそれに隣接する第２回収タンク（図示せず）とを有している。そして、第２薬液タンク４７のＤＨＦも、第１薬液タンク４１からのＳＣ１と同様にして、配管ボックス２１ｆ、２１ｇ内のＤＨＦ配管３０ｂ等とにより循環供給可能となっている。また、第２回収タンクへのＤＨＦの回収は、配管４８（図２参照）を通って第１回収タンク４２へのＳＣ１の回収と同様に行われる。
【００３３】
なお、これら薬液洗浄以外に、純水によるリンスおよび乾燥が行われるが、その際には、純水は図示しない純水供給源から純水配管３０ｃを通って供給される。
【００３４】
配管ボックス２１ｆ、２１ｇに設けられた排液配管群３１のうち、排液配管３１ａにはドレイン配管４９が接続されている。排液配管３１ａからの排液は、ドレイン配管４９を通ってドレインとして床下の工場配管に廃棄される。
【００３５】
次に、図４から図６を参照し、本実施の形態に係る液処理システム１０に搭載された液処理ユニット２２である液処理装置について説明する。図４は、本実施の形態に係る液処理ユニット２２の構成を示す概略断面図である。図５は、本実施の形態に係る液処理ユニット２２の回転カップ７１近傍を拡大した概略断面図である。図６は、本実施の形態に係る液処理ユニット２２の回転カップ７１の斜視図である。
【００３６】
液処理ユニット２２は、図４に示すように、回転プレート６０、囲い部材７０、回転カップ７１、回転駆動部８０、基板昇降部材９０、処理液供給機構９３、排気・排液部（カップ）１００、トッププレート１１０、昇降機構１２０、不活性ガス供給機構１２３、位置決め機構１３０、及びフローティング部材１５０を有する。
【００３７】
なお、排気・排液部（カップ）１００は、本発明における処理容器に相当する。また、トッププレート１１０は、本発明における天板部に相当する。
【００３８】
回転プレート６０は、図４及び図５に示すように、ベースプレート６１及び回転軸６２を有する。ベースプレート６１は、水平に設けられ、中央に円形の孔６１ａを有する。回転軸６２は、ベースプレート６１から下方に向かって延在するように設けられており、中心に孔６２ａが設けられた円筒状の形状を有する。
【００３９】
囲い部材７０は、図５及び図６に示すように、ウェハＷの周縁外方にウェハＷの周縁部ＷＥを全周に亘り囲繞するように設けられている。囲い部材７０は、図５に示すように、ウェハＷを処理した処理液を排液カップ１０１へと導く。また、囲い部材７０は、支持ピン７２を有する。支持ピン７２は、囲い部材７０の下端から周縁内方に突出して設けられている。支持ピン７２は、ウェハＷの周縁部ＷＥの下面を支持する。また、図６に示すように、支持ピン７２は、ウェハＷの周方向に沿って、略等間隔に複数設けられている。
【００４０】
なお、囲い部材７０及び支持ピン７２は、本発明における支持部に相当する。
【００４１】
回転カップ７１は、ウェハＷの下面側に供給され、回転するウェハＷから外周側へ飛散する処理液が、跳ね返されて再びウェハＷに戻ることを防止するためのものである。また、回転するウェハＷから外周側へ飛散する処理液が、ウェハＷの上面側に回り込まないようにするためのものでもある。
【００４２】
図５に示すように、ベースプレート６１、囲い部材７０及び回転カップ７１は、それぞれを貫通するように形成された孔７３に締結部材７４を嵌め込むことにより、締結されている。これにより、ベースプレート６１、囲い部材７０及び回転カップ７１は、一体として回転可能に設けられている。
【００４３】
回転駆動部８０は、プーリ８１、駆動ベルト８２及びモータ８３を有する。プーリ８１は、回転軸６２の下方側における周縁外方に配置されている。駆動ベルト８２は、プーリ８１に巻きかけられている。モータ８３は、駆動ベルト８２に連結されており、駆動ベルト８２に回転駆動力を伝達することによって、プーリ８１を介して回転軸６２を回転させる。すなわち、回転駆動部８０は、回転軸６２を回転させることによって、ベースプレート６１、囲い部材７０及び回転カップ７１を回転させる。なお、回転軸６２の周縁外方にはベアリング６３が配置されている。
【００４４】
基板昇降部材９０は、ベースプレート６１の孔６１ａ及び回転軸６２の孔６２ａ内に昇降可能に設けられており、リフトピンプレート９１及びリフト軸９２を有する。リフトピンプレート９１は、周縁に複数例えば３本のリフトピン９１ａを有している。リフト軸９２は、リフトピンプレート９１から下方に延在している。リフトピンプレート９１及びリフト軸９２は、中心に処理液供給管９４が設けられている。また、リフト軸９２の下端には図示しないシリンダ機構が接続されており、このシリンダ機構によって基板昇降部材９０を昇降させることにより、ウェハＷを昇降させてウェハＷのローディングおよびアンローディングが行われる。
【００４５】
処理液供給機構９３は、処理液供給管９４を有する。前述したように、処理液供給管９４は、リフトピンプレート９１およびリフト軸９２の内部（中空空間内）に、上下方向に延在するように、設けられている。処理液供給管９４は、処理液配管群３０の各配管から供給された処理液をウェハＷの下面側まで導く。処理液供給管９４は、リフトピンプレート９１の上面に形成された処理液供給口９４ａと連通している。
【００４６】
排気・排液部（カップ）１００は、排液カップ１０１、排液管１０２、排気カップ１０３及び排気管１０４を有する。また、排気・排液部（カップ）１００は、上面に開口１０５が設けられている。排気・排液部（カップ）１００は、主に回転プレート６０と回転カップ７１に囲繞された空間から排出される気体および液体を回収するためのものである。
【００４７】
排液カップ１０１は、回転カップ７１によって導かれた処理液を受ける。排液管１０２は、排液カップ１０１の底部の最外側部分に接続されており、排液カップ１０１によって受けられた処理液を排液配管群３１のいずれかの配管を通して排出する。排気カップ１０３は、排液カップ１０１の外方又は下方において、排液カップ１０１と連通するように設けられている。図４では、排気カップ１０３が排液カップ１０１の周縁内方及び下方において、排液カップ１０１と連通するように設けられている例を示す。排気管１０４は、排気カップ１０３の底部の最外側部分に接続されており、排気カップ１０３内の窒素ガスなどの気体を排気配管群３２のいずれかの配管を通して排気する。
【００４８】
トッププレート１１０は、昇降可能であって、下降した状態で排気・排液部（カップ）１００の上面に設けられた開口１０５を塞ぐように設けられている。また、トッププレート１１０は、排気・排液部（カップ）１００の上面に設けられた開口１０５を塞ぐときに、支持ピン７２に支持されているウェハＷを上方から覆うように設けられている。
【００４９】
トッププレート１１０は、囲い部材７０の支持ピン７２に支持されているウェハＷの周縁部ＷＥと対向する領域１１１に、トッププレート１１０の下面１１２から下方に突出して設けられた隙間形成部材１１３を有する。隙間形成部材１１３は、ウェハＷの周縁部ＷＥとの間に隙間Ｄ１を形成する。
【００５０】
トッププレート１１０に隙間形成部材１１３が形成されていると、囲い部材７０の支持ピン７２に支持されているウェハＷの周縁部ＷＥとトッププレート１１０との隙間Ｄ１は、ウェハＷの中心部ＷＣとトッププレート１１０との距離Ｄ０よりも小さくなる。
【００５１】
昇降機構１２０は、アーム１２１、昇降駆動部１２２を有する。昇降駆動部１２２は、排気・排液部（カップ）１００の外方に設けられており、上下に移動できるようになっている。アーム１２１は、トッププレート１１０と昇降駆動部１２２とを接続するように設けられている。すなわち、昇降機構１２０は、アーム１２１を介して昇降駆動部１２２によりトッププレート１１０を昇降させる。
【００５２】
不活性ガス供給機構１２３は、不活性ガス供給管１２４及び不活性ガス供給源１２５を有する。不活性ガス供給機構１２３は、ウェハＷの上面側に窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガスを供給するためのものである。不活性ガス供給管１２４は、トッププレート１１０及びアーム１２１の内部に延在するように設けられている。不活性ガス供給管１２４の一端は、不活性ガスを供給する不活性ガス供給源１２５に連結されている。不活性ガス供給管１２４は、トッププレート１１０の下面１１２の中心部に不活性ガス供給口１２４ａを構成している。
【００５３】
図４に示すように、アーム１２１はトッププレート１１０の上面の略中心で接続していてもよい。これにより、不活性ガス供給口１２４ａがトッププレート１１０の下面１１２の中心部に形成されることになるため、不活性ガスをトッププレート１１０の中心から下方に供給することができ、ウェハＷに供給される不活性ガスの流量を周方向に沿って均一にすることができる。
【００５４】
本実施の形態では、図４及び図５に示すように、トッププレート１１０が下降する際に、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０の相対位置を所定の位置に位置決めする位置決め機構１３０を有する。以下、図５及び図７を参照し、位置決め機構１３０について説明する。図７は、本実施の形態に係る液処理ユニット２２の構成を示す概略上面図である。
【００５５】
位置決め機構１３０は、図５に示すように、第１の位置決め部材１３１及び第２の位置決め部材１３２を有する。
【００５６】
第１の位置決め部材１３１は、トッププレート１１０に固定されている。また、第２の位置決め部材１３２は、第１の位置決め部材１３１に対応して設けられ、排気・排液部（カップ）１００に固定されている。第１の位置決め部材１３１及び第２の位置決め部材１３２は、トッププレート１１０が下降する際に、第１の位置決め部材１３１及び第２の位置決め部材１３２の一方が他方に係止されることによって、位置決めされる。
【００５７】
第１の位置決め部材１３１は、例えば、トッププレート１１０の周縁外方の位置であって排気・排液部（カップ）１００の上面と平面視において重なる位置に設けられ、下方に向かって凸形状を有する凸状部材１３３を含むことができる。そして、第２の位置決め部材１３２は、例えば、平面視において凸状部材１３３に対応する位置に設けられ、上方に向かって凹形状を有する凹状部材１３４を含むことができる。このときは、凸状部材１３３が凹状部材１３４に嵌め込まれることによって、位置決めされる。あるいは、第１の位置決め部材１３１が凹状部材を含み、第２の位置決め部材１３２が凸状部材を含んでもよい。
【００５８】
第１の位置決め部材１３１が凸状部材１３３を含み、第２の位置決め部材１３２が凹状部材１３４を含むときは、図５に示すように、凸状部材１３３のすぐ上に、凹状部材１３４の上面に形成された孔１３６の形状よりも大きい形状を有する大径部材１３５を有していてもよい。大径部材１３５の下面から凸状部材１３３の先端までの長さＬＴと、凹状部材１３４の孔１３６の深さＬＢとの大小関係によって、上下方向の位置決めの基準が少し異なる。ＬＴ＞ＬＢのときは、凸状部材１３３の先端部が、凹状部材１３４の孔１３６の底部に接触することによって、上下方向の位置決めがなされる。また、ＬＴ＜ＬＢのときは、大径部材１３５の下面が、凹状部材１３４の上面に接触することによって、上下方向の位置決めがなされる。
【００５９】
一方、凸状部材１３３が凹状部材１３４の孔１３６に略隙間無く嵌め込まれるように設けられているときは、トッププレート１１０が下降する際に、凸状部材１３３が凹状部材１３４の孔１３６に嵌め込まれることによって、平面視における位置決めがなされる。また、トッププレート１１０が下降する際に、凸状部材１３３が凹状部材１３４の孔１３６に容易に嵌め込まれるように、図５に示すように、凸状部材１３３の先端側又は凹状部材１３４の孔１３６の凸状部材１３３側にテーパーを設けてもよい。
【００６０】
図７に示すように、位置決め機構１３０は、第１の位置決め部材１３１と第２の位置決め部材１３２よりなる一対の部材対を、トッププレート１１０の周縁部において周方向に沿って複数組有している。図７に示す例では、トッププレート１１０の周縁部において全周を略３等分する位置において３組の部材対が設けられている。複数の部材対が設けられていることによって、水平面内においてトッププレート１１０をより精度良く位置決めすることができる。
【００６１】
また、第１の位置決め部材１３１及び第２の位置決め部材１３２は、トッププレート１１０が下降する際に、第１の位置決め部材１３１及び第２の位置決め部材１３２のいずれか一方が、トッププレート１１０の外周より外方で、他方に係止されるように設けられていてもよい。等しい位置合わせ精度であっても、複数の位置決め部材１３１、１３２の対がトッププレート１１０の外周より外方で係止されることにより、トッププレート１１０の位置合わせ精度がより向上する。
【００６２】
また、トッププレート１１０に固定されている第１の位置決め部材１３１は、固定位置が調整可能に固定されていてもよい。例えば、第１の位置決め部材１３１を、トッププレート１１０に固定されている根元側部材１３７と、根元側部材１３７に固定されている先端側部材１３８とに分割し、先端側部材１３８の根元側部材１３７に対する相対位置がネジ等により調整可能になるように設ける。これにより、第１の位置決め部材１３１がトッププレート１１０に固定される固定位置を調整可能とすることができ、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０の上下方向及び水平方向に沿った位置をより精度良く位置合わせすることができる。図５では、側周面にネジ溝が形成された先端側部材１３８が、根元側部材１３７に設けられ、内周面にネジ溝が形成されたネジ孔１３９とナット１４０とによって、上下方向に沿った相対位置が調整可能に設けられている例を示す。
【００６３】
あるいは、排気・排液部（カップ）１００に固定されている第２の位置決め部材１３２を、排気・排液部（カップ）１００に固定されている根元側部材と、根元側部材に固定されている先端側部材とに分割し、先端側部材の根元側部材に対する相対位置がネジ等により調整可能になるように設けてもよい。これにより、第２の位置決め部材１３２の排気・排液部（カップ）１００に固定される固定位置を調整可能とすることができる。
【００６４】
更に、本実施の形態では、図４及び図７に示すように、トッププレート１１０とアーム１２１とは、フローティング部材１５０を介して接続されている。以下、図８を参照し、フローティング部材１５０について説明する。図８は、本実施の形態に係る液処理ユニット２２のフローティング部材１５０近傍を拡大した概略断面図である。
【００６５】
フローティング部材１５０は、第１の係止部材１５１、第２の係止部材１５２、弾性部材１５３を有する。フローティング部材１５０は、トッププレート１１０が下降した状態で排気・排液部（カップ）１００の上面に設けられた開口１０５を塞いでいるときに、位置決め機構１３０により位置決めされているトッププレート１１０と、昇降機構１２０のアーム１２１との間の位置のずれを吸収するためのものである。
【００６６】
なお、フローティング部材１５０は、本発明における押し付け部材に相当する。
【００６７】
第１の係止部材１５１は、トッププレート１１０に固定されている。また、第２の係止部材１５２は、アーム１２１に固定されている。第１の係止部材１５１及び第２の係止部材１５２は、例えば若干の遊びをもって係止するように設けられている。すなわち、トッププレート１１０とアーム１２１とが、第１の係止部材１５１と第２の係止部材１５２とによって係止されているときは、アーム１２１に対するトッププレート１１０の相対位置が上下方向及び水平面内の方向に微小距離変位可能となっている。
【００６８】
また、アーム１２１に固定されている第２の係止部材１５２は、固定位置が調整可能に固定されていてもよい。例えば、図８では、ボルトよりなる第２の係止部材１５２がアーム１２１の下面に設けられたネジ孔１５４とナット１５５によって上下方向に沿った相対位置を予め調整可能に設けられている例を示す。あるいは、トッププレート１１０に固定されている第１の係止部材１５１が、固定位置が調整可能に設けられていてもよい。これにより、アーム１２１に対するトッププレート１１０の相対位置を予め調整することが可能となるため、実際の液処理プロセスにおいて、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０の相対位置をより精度良く位置合わせすることができる。
【００６９】
弾性部材１５３は、トッププレート１１０が下降した状態で排気・排液部（カップ）１００の上面に設けられた開口１０５を塞いでいるときに、トッププレート１１０がアーム１２１から下方に押し付けられるように、上下方向に沿って弾性変形可能に設けられている。すなわち、フローティング部材１５０は、排気・排液部（カップ）１００の上面に設けられた開口１０５を塞いでいるトッププレート１１０を、弾性部材１５３により排気・排液部（カップ）１００に上方から押し付けるものである。これにより、トッププレート１１０が下降する際に、位置決め機構１３０により排気・排液部（カップ）１００に対する相対位置を精度良く位置合わせされたトッププレート１１０の上下方向及び水平方向に沿った位置を、上下方向に沿って弾性変形可能に設けられたフローティング部材１５０により精度良く保持することができる。
【００７０】
また、不活性ガス供給管１２４は、第１の供給管１２６及び第２の供給管１２７を有す
る。第１の供給管１２６は、一端がトッププレート１１０の下面１１２に開口して不活性
ガス供給口１２４ａを形成し、他端側においてアーム１２１の内部で第２の供給管１２７
と接続するように設けられている。さらに不活性ガス供給管１２４はアーム１２１に対して自在に設けられているので、トッププレート１１０が下降して位置決め機構１３０により位置合わせされる際も不活性ガス供給管１２４はトッププレート１１０に追従できるようになっている。
【００７１】
また、図８に示すように、第１の供給管１２６は大径部１２８を有し、大径部１２８が第１の係止部材１５１に接するように係止されてもよい。また、第１の供給管１２６は、Ｏリング等の封止部材１２９により、トッププレート１１０に気密に嵌め込まれていてもよい。
【００７２】
なお、フローティング部材１５０は、トッププレート１１０よりも昇降機構１２０側に設けられていればよく、例えばアーム１２１と昇降駆動部１２２の間に設けられていてもよい。
【００７３】
また、液処理システム１０は、図４に示すように、制御部２００を有する。制御部２００は、マイクロプロセッサ（コンピュータ）からなるプロセスコントローラ２０１を有しており、液処理システム１０の各構成部がこのプロセスコントローラ２０１に接続されて制御される構成となっている。また、プロセスコントローラ２０１には、工程管理者が液処理システム１０の各構成部を管理するためにコマンドの入力操作などを行うキーボードや、液処理システム１０の各構成部の可動状況を可視化して表示するディスプレイ等からなるユーザーインターフェース２０２が接続されている。さらに、プロセスコントローラ２０１には、液処理システム１０で実行される各種処理をプロセスコントローラ２０１の制御にて実現するための制御プログラムや、処理条件に応じて液処理システム１０の各構成部に所定の処理を実行させるための制御プログラムすなわちレシピが格納された記憶部２０３が接続されている。レシピは記憶部２０３の中の記憶媒体（記録媒体）に記憶されている。記憶媒体（記録媒体）は、ハードディスクや半導体メモリであってもよい。また、他の装置から、例えば専用回線を介してレシピを適宜伝送させるようにしてもよい。
【００７４】
そして、必要に応じて、ユーザーインターフェース２０２からの指示等にて任意のレシピを記憶部２０３から呼び出してプロセスコントローラ２０１に実行させることで、プロセスコントローラ２０１の制御下で、液処理システム１０での所望の処理が行われる。
【００７５】
次に、上記した液処理ユニット２２を用いた液処理方法及びその作用について説明する。
【００７６】
本実施の形態では、位置決め機構１３０の第１の位置決め部材１３１又は第２の位置決め部材１３２が、根元側部材１３７と先端側部材１３８とに分かれており、先端側部材１３８の根元側部材１３７に対する相対位置を、根元側部材１３７に形成されたネジ孔１３９とナット１４０とにより調整可能に設けられている。また、本実施の形態では、フローティング部材１５０が、アーム１２１に対する第２の係止部材１５２の相対位置又はトッププレート１１０に対する第１の係止部材１５１の相対位置を、アーム１２１（又はトッププレート１１０）に形成されたネジ孔とナットとにより調整可能に設けられている。従って、予め、昇降機構１２０によりトッププレート１１０を下降させた状態で、位置決め機構１３０及びフローティング部材１５０のナット等を緩め、第１の位置決め部材１３１と第２の位置決め部材１３２との位置を位置合わせした状態で、位置決め機構１３０及びフローティング部材１５０のナット等を締めることにより、それぞれの相対位置を予め調整しておく。
【００７７】
このようにして位置決め機構１３０及びフローティング部材１５０の相対位置を予め調整した後、ウェハＷに対して液処理プロセスを行う。
【００７８】
なお、液処理プロセスは、本発明における液処理方法に相当する。
【００７９】
まず、搬入出ステーション１のキャリア載置部１１に載置されたウェハキャリアＣから搬送機構１５のウェハ保持アーム１５ａにより１枚のウェハＷを取り出し、受け渡しステージ１９上の受け渡し棚２０の載置部に載置する。この動作を連続的に行う。受け渡し棚２０の載置部に載置されたウェハＷは、処理ステーション２の搬送機構２４のウェハ保持アーム２４ａにより順次搬送され、いずれかの液処理ユニット２２に搬入される。
【００８０】
ウェハＷが液処理ユニット２２に搬入されるとき、トッププレート１１０は、昇降機構１２０により、上昇させられている。そして、液処理ユニット２２に搬入されたウェハＷは、シリンダ機構（図示せず）により受け渡し位置（上方位置）に位置づけられたリフトピンプレート９１のリフトピン９１ａ上に載置される。
【００８１】
次に、シリンダ機構（図示せず）によって、リフトピンプレート９１が下方に移動させられてウェハ処理位置に位置づけられる。リフトピンプレート９１が下方に移動させられている間に、囲い部材７０に設けられた支持ピン７２によって、ウェハＷの下面が支持される。
【００８２】
その後、昇降機構１２０によって、トッププレート１１０を、排気・排液部（カップ）１００の上面に設けられた開口１０５を塞ぐように、下降させる。このとき、位置決め工程が行われる。
【００８３】
位置決め工程では、トッププレート１１０が下降する際に、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０の相対位置を所定の位置に位置決めする。第１の位置決め部材１３１と第２の位置決め部材１３２との相対位置が予め調整されている。従って、トッププレート１１０が下降する際に、第１の位置決め部材１３１が第２の位置決め部材１３２に係止されることにより、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０の相対位置を精度良く位置決めすることができる。
【００８４】
また、ウェハＷを何枚も処理した後等、経時変化によって、トッププレート１１０の排気・排液部（カップ）１００に対する相対位置がずれた場合、あるいはトッププレート１１０の昇降機構１２０に対する相対位置がずれた場合には、フローティング部材１５０がその位置のずれを吸収することができる。従って、トッププレート１１０を下降するときに、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０の相対位置を精度良く位置決めすることができる。
【００８５】
次に、回転駆動部８０により回転軸６２が回転駆動されることによって、ベースプレート６１、囲い部材７０及び回転カップ７１が回転される。具体的には、回転軸６２が、モータ８３から駆動ベルト８２を介してプーリ８１に駆動力が付与されることによって、回転駆動される。この結果、囲い部材７０に設けられた支持ピン７２上のウェハＷが回転する。
【００８６】
このとき、ウェハＷの下面には、処理液配管群３０のいずれかの配管から処理液供給機構９３の処理液供給管９４を介して処理液が供給される。そして、ウェハＷの下面に供給された処理液は、図４に示すように、ウェハＷが回転することによって発生する遠心力によって周縁外方に向かって移動される。このときの処理液としては、前述したように、例えば、ＳＣ１、ＤＨＦのいずれかまたは両方を用いる。
【００８７】
他方、ウェハＷの上面には、図４に示すように、トッププレート１１０の下面１１２の中心部に設けられた不活性ガス供給口１２４ａから窒素ガス等の不活性ガスが供給される。供給された不活性ガスは、ウェハＷの上面を経た後、ウェハＷとトッププレート１１０の隙間形成部材１１３との間の隙間Ｄ１を通って、囲い部材７０の上方から周縁外方、更に下方へと回り込み、排気・排液部（カップ）１００の排気カップ１０３から排気管１０４へと流れる。この不活性ガスの気流によって、ウェハＷの周縁部ＷＥに達した処理液が、ウェハＷと囲い部材７０との間又は囲い部材７０と回転カップ７１との間から、ウェハＷの上面側に回り込むことを防止することができる。
【００８８】
また、本実施の形態では、トッププレート１１０が、位置決め機構１３０によって、上下方向に精度良く位置決めされる。そのため、隙間形成部材１１３とウェハＷの周縁部ＷＥとの間の隙間Ｄ１がウェハＷの周方向に沿って一定となるように、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０の相対位置を所定の位置に位置決めすることができる。隙間Ｄ１をウェハＷの周方向に沿って一定にすることにより、ウェハＷの上面側を流れる不活性ガスの流れをウェハＷの周方向に沿って均一にすることができる。そのため、ウェハＷの周縁部ＷＥの下面に達した処理液が、ウェハＷと囲い部材７０との間又は囲い部材７０と回転カップ７１との間から、ウェハＷの上面側に回り込むことをより確実に防止することができる。
【００８９】
また、本実施の形態では、トッププレート１１０が、位置決め機構１３０によって、水平方向にも精度良く位置決めされる。そのため、図５に示すように、ウェハＷの周縁部ＷＥであって、隙間形成部材１１３と対向する領域よりも外周側の部分におけるウェハＷの径方向の幅Ｌが、ウェハＷの周方向に沿って一定となるように、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０の相対位置を所定の位置に位置決めすることができる。すなわち、幅ＬをウェハＷの全周に亘り均一化することができる。幅ＬをウェハＷの全周に亘り均一化することにより、ウェハＷの上面側を流れる不活性ガスの流れをウェハＷの周方向に沿って更に均一にすることができる。そのため、ウェハＷの周縁部ＷＥの下面に達した処理液が、ウェハＷと支持ピン７２および回転カップ７１との間から、ウェハＷの上面側に回り込むことをより確実に防止することができる。これにより、ウェハＷと隙間形成部材１１３との対向する領域とで形成される空間の、単位長さ辺りの体積を、ウェハＷの全周に亘って均一化することができる。従って、周方向に沿った一部の箇所で不活性ガスの気流が少なくなり、その箇所から処理液がウェハＷの上面側に回り込むことを防止することができる。
【００９０】
上述のような処理液による液処理プロセスが終了すると、処理液配管群３０のいずれかの配管から処理液供給機構９３の処理液供給管９４を介してのウェハＷへの処理液の供給が停止される。そして、次に、処理液配管群３０の純水配管３０ｃから処理液供給機構９３の処理液供給管９４を介してウェハＷに純水を供給して純水リンスを行う。
【００９１】
また、上記した液処理プロセスの際には、使用済みの処理液が排液カップ１０１から排液配管群３１に至り、酸およびアルカリは一部回収され、他は廃棄される。また、処理にともなって発生した気体成分が排気カップ１０３から排気配管群３２に至り、排気される。
【００９２】
次に、回転駆動部８０によって回転軸６２が高速回転される。この結果、支持ピン７２上のウェハＷが高速回転され、ウェハＷが乾燥される。その後、回転駆動部８０のモータ８３が停止され、支持ピン７２上のウェハＷの回転も停止される。
【００９３】
次に、昇降機構１２０によって、トッププレート１１０がウェハＷの受け渡し位置よりも上方位置に位置づけられる。その後、シリンダ機構（図示せず）によって、リフトピンプレート９１が上方位置に移動させられて、ウェハＷが受け渡し位置（上方位置）に上昇する。
【００９４】
次に、搬送機構２４のウェハ保持アーム２４ａによって、リフトピンプレート９１上からウェハＷが搬出される。このようにして、一枚のウェハＷの処理が終了する。
【００９５】
このようにして搬出されたウェハＷは、搬送機構２４のウェハ保持アーム２４ａにより液処理ユニット２２から搬出され、受け渡しステージ１９の受け渡し棚２０に載置され、受け渡し棚２０から搬送機構１５のウェハ保持アーム１５ａによりウェハキャリアＣに戻される。
【００９６】
本実施の形態では、トッププレート１１０の中心部に不活性ガス供給口１２４ａが設けられている例について説明した。しかしながら、これに限ることなく、例えば、トッププレート１１０の周縁に、不活性ガス供給口１２４ａが設けられていてもよい。
（実施の形態の第１の変形例）
次に、図９を参照し、本発明の実施の形態の第１の変形例に係る液処理装置及び液処理方法について説明する。図９は、本変形例に係る液処理ユニット２２ａの構成を示す概略断面図である。
【００９７】
本変形例に係る液処理ユニット２２ａは、トッププレート１１０ａが隙間形成部材を有していない点で、実施の形態に係る液処理ユニット２２と相違する。
【００９８】
本変形例でも、図１から図３を用いて説明した実施の形態に係る液処理システム１０を用いることができる。また、本変形例に係る液処理システム１０に搭載される液処理ユニット２２ａは、図９に示すように、回転プレート６０、囲い部材７０、回転カップ７１、回転駆動部８０、基板昇降部材９０、処理液供給機構９３、排気・排液部（カップ）１００、トッププレート１１０ａ、昇降機構１２０、不活性ガス供給機構１２３、位置決め機構１３０、及びフローティング部材１５０を有している。トッププレート１１０ａ以外の各部については、実施の形態において図４を用いて説明した液処理ユニット２２の各部と同様である。そして、図９において、図４を用いて説明した部分と同一の部分については、同じ符号を付し、説明を省略する。
【００９９】
一方、本変形例におけるトッププレート１１０ａは、隙間形成部材を有していない。
【０１００】
トッププレート１１０ａは、昇降可能であって、下降した状態で排気・排液部（カップ）１００の上面に設けられた開口１０５を塞ぐように設けられていることは、実施の形態と同様である。
【０１０１】
一方、本変形例では、図９に示すように、トッププレート１１０ａは、囲い部材７０の支持ピン７２に支持されているウェハＷの周縁部ＷＥと対向する領域に、トッププレート１１０ａの下面１１２から下方に突出した隙間形成部材が設けられていない。そのため、トッププレート１１０ａと囲い部材７０の支持ピン７２に支持されているウェハＷとの距離は、ウェハＷ全面に亘り略等しくなり、Ｄ０となる。すなわち、囲い部材７０の支持ピン７２に支持されているウェハＷの周縁部ＷＥとトッププレート１１０ａとの距離は、ウェハＷの中心部ＷＣとトッププレート１１０ａとの距離Ｄ０よりも小さくなることはない。
【０１０２】
しかし、本変形例でも、トッププレート１１０ａが位置決め機構１３０によって、上下方向に精度良く位置決めされる。そのため、トッププレート１１０ａとウェハＷとの距離がウェハＷの周方向に沿って一定となるように、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０ａの相対位置を所定の位置に位置決めすることができる。これにより、ウェハＷの上面側を流れる不活性ガスの流れをウェハＷの周方向に沿って均一にすることができる。そのため、ウェハＷとトッププレート１１０ａとの間を通ってウェハＷの外方へ流れる不活性ガスの流量を均一にすることができる。そして、ウェハＷの周縁部ＷＥの下面に達した処理液が、ウェハＷと囲い部材７０との間又は囲い部材７０と回転カップ７１との間から、ウェハＷの上面側に回り込むことをより確実に防止することができる。
（実施の形態の第２の変形例）
次に、図１０を参照し、本発明の実施の形態の第２の変形例に係る液処理装置及び液処理方法について説明する。図１０は、本変形例に係る液処理ユニット２２ｂの構成を示す概略断面図である。
【０１０３】
本変形例に係る液処理ユニット２２ｂは、トッププレート１１０ｂがフローティング部材を有していない点で、実施の形態に係る液処理ユニット２２と相違する。
【０１０４】
本変形例でも、図１から図３を用いて説明した実施の形態に係る液処理システム１０を用いることができる。また、本変形例に係る液処理システム１０に搭載される液処理ユニット２２ｂは、図１０に示すように、回転プレート６０、囲い部材７０、回転カップ７１、回転駆動部８０、基板昇降部材９０、処理液供給機構９３、排気・排液部（カップ）１００、トッププレート１１０ｂ、昇降機構１２０ｂ、不活性ガス供給機構１２３ｂ及び位置決め機構１３０を有しているが、フローティング部材を有していない。トッププレート１１０ｂ、昇降機構１２０ｂ以外のこれらの各部については、実施の形態において図４を用いて説明した液処理ユニット２２の各部と同様である。そして、図１０において、図４を用いて説明した部分と同一の部分については、同じ符号を付し、説明を省略する。
【０１０５】
トッププレート１１０ｂは、昇降可能であって、下降した状態で排気・排液部（カップ）１００の上面に設けられた開口１０５を塞ぐように設けられていることは、実施の形態と同様である。また、囲い部材７０の支持ピン７２に支持されているウェハＷの周縁部ＷＥと対向する領域に、トッププレート１１０ｂの下面１１２から下方に突出した隙間形成部材１１３が設けられていることは、実施の形態と同様である。
【０１０６】
一方、本変形例では、フローティング部材が設けられていないため、図１０に示すように、トッププレート１１０ｂは、アーム１２１ｂに固定されている。従って、トッププレート１１０ｂは、アーム１２１ｂ及び昇降駆動部１２２を介して液処理ユニット２２ｂの一部に固定されている。
【０１０７】
また、図１０に示すように、不活性ガス供給機構１２３ｂの不活性ガス供給管１２４ｂは、アーム１２１ｂの内部に一体で形成されていてもよく、あるいは、図４に示したように、アーム１２１ｂの内部に別体で形成されていてもよい。
【０１０８】
本変形例でも、トッププレート１１０ｂに固定されている第１の位置決め部材１３１又は排気・排液部（カップ）１００に固定されている第２の位置決め部材１３２は、実施の形態と同様に、固定位置が調整可能に固定されていてもよい。例えば、図５を用いて説明したように、第１の位置決め部材１３１又は第２の位置決め部材１３２が根元側部材と先端側部材とに分かれており、先端側部材の根元側部材に対する相対位置が、根元側部材に形成されたネジ孔とナットとにより調整可能に設けられていてもよい。これにより、予め、昇降機構１２０ｂによりトッププレート１１０ｂを下降させた状態で、位置決め機構１３０のナットを緩め、第１の位置決め部材１３１と第２の位置決め部材１３２との位置を位置合わせした状態で、位置決め機構１３０のナットを締めることにより、それぞれの相対位置を予め調整しておくことができる。
【０１０９】
その結果、隙間形成部材１１３とウェハＷの周縁部ＷＥとの隙間Ｄ１がウェハＷの周方向に沿って一定となるように、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０ｂの相対位置を所定の位置に位置決めすることができる。隙間Ｄ１をウェハＷの周方向に沿って一定にすることにより、ウェハＷの上面側を流れる不活性ガスの流れをウェハＷの周方向に沿って均一にすることができる。また、本変形例でも、実施の形態において図５を用いて説明したのと同様に、ウェハＷの周縁部ＷＥであって、隙間形成部材１１３と対向する領域よりも外周側の部分におけるウェハＷの径方向の幅Ｌが、ウェハＷの周方向に沿って一定となるように、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０ｂの相対位置を所定の位置に位置決めすることができる。そのため、ウェハＷの周縁部ＷＥの下面に達した処理液が、ウェハＷと囲い部材７０との間又は囲い部材７０と回転カップ７１との間から、ウェハＷの上面側に回り込むことをより確実に防止することができる。
【０１１０】
以上、本発明の好ましい実施の形態について記述したが、本発明はかかる特定の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
【符号の説明】
【０１１１】
１０ 液処理システム
２２ 液処理ユニット
７０ 囲い部材
７２ 支持ピン
９３ 処理液供給機構
１００ 排気・排液部（カップ）
１０５ 開口
１１０ トッププレート
１１３ 隙間形成部材
１２３ 不活性ガス供給機構
１３０ 位置決め機構
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理液を用いて処理する液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造プロセスやフラットパネルディスプレー（ＦＰＤ）の製造プロセスにおいては、被処理基板（以下「基板」又は「ウェハ」という。）である半導体ウェハやガラス基板に処理液を供給して液処理を行う液処理プロセスが多用されている。
【０００３】
このような液処理プロセスの一つとして、基板の裏面又は周縁部に処理液を供給し、供給した処理液により、基板の裏面又は周縁部に液処理を行う液処理プロセスがある。
【０００４】
例えば、半導体デバイス等の製造プロセスにおいては、基板の表面に各種薄膜を形成するために成膜工程が行われることがある。成膜工程では、基板の表面のみならず基板の裏面又は周縁部にも薄膜が成膜されることがある。基板の裏面又は周縁部に形成された薄膜は、その後の製造工程の中で、例えば熱処理等の際に基板に反りを発生させる要因ともなるため、除去することが好ましい。そのため、基板の裏面又は周縁部に処理液を供給し、供給された処理液により、基板の裏面又は周縁部をエッチング処理する液処理プロセスを行うことがある。
【０００５】
このような液処理プロセスを行う液処理装置として、基板の上面に気体を供給するとともに基板の下面に処理液を供給することにより、基板の下面及び周縁部に対して液処理を行う液処理装置が知られている（例えば、特許文献１参照。）。特許文献１に示す例では、液処理装置は、基板保持回転手段（支持部）、処理液供給手段及び遮断板（トッププレート）を有している。基板保持回転手段（支持部）は、基板をほぼ水平に保持（支持）しつつ回転させる。処理液供給手段は、基板保持回転手段（支持部）により回転される基板の下面に向けて処理液を供給する。遮断板（トッププレート）は、基板の上面に対して所定間隔の隙間を空けて対向するように基板保持回転手段上に載置されており、基板保持回転手段により基板とともに回転される。そして、遮断板（トッププレート）の下面略中央には、基板の上面に気体を供給するための開口部が形成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−１１０６２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、上記した処理液を用いて基板を処理する液処理装置及び液処理方法においては、次のような問題がある。
【０００８】
特許文献１に示す液処理装置では、支持部に対するトッププレートの位置を精度良く位置決めすることができない。すなわち、基板保持回転手段（支持部）に保持（支持）されている基板に対するトッププレートの位置を精度良く位置決めすることができない。その結果、基板の周縁部とトッププレートとの距離を、基板の周方向に沿って一定とすることができず、周縁部の一部において基板とトッププレートとの間に大きな隙間が生じることがある。そして、基板とトッププレートとの間に大きな隙間が生じると、基板の下面及び周縁部に供給された処理液が基板の上面に回り込むか又は飛散するおそれがある。
【０００９】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、基板の上面側からガスを供給するとともに基板の下面側から処理液を供給し、供給された処理液により基板の下面を処理する液処理装置において、トッププレートの位置を精度良く位置決めすることができる液処理装置及び液処理方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するために本発明では、次に述べる各手段を講じたことを特徴とするものである。
【００１１】
本発明の一実施例によれば、基板の上面側からガスを供給するとともに前記基板の下面側から処理液を供給し、供給された処理液により前記基板の下面を処理する液処理装置において、上面に開口を有する処理容器と、前記処理容器内に設けられ、基板の周縁部を支持する支持部と、昇降可能に設けられ、下降した状態で前記開口を塞ぐ天板部と、前記天板部が下降する際に、前記処理容器に対する前記天板部の相対位置を所定の位置に位置決めする位置決め機構とを有する、液処理装置が提供される。
【００１２】
また、本発明の一実施例によれば、上面に開口を有する処理容器と、前記処理容器内に設けられ、基板の周縁部を支持する支持部と、昇降可能に設けられ、下降した状態で前記開口を塞ぐ天板部とを有し、前記支持部に支持されている基板の上面側からガスを供給するとともに前記基板の下面側から処理液を供給し、供給された処理液により前記基板の下面を処理する液処理装置における液処理方法であって、前記天板部が下降する際に、前記処理容器に対する前記天板部の相対位置を所定の位置に位置決めする位置決め工程を有する、液処理方法が提供される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、基板の上面側からガスを供給するとともに基板の下面側から処理液を供給し、供給された処理液により基板の下面を処理する液処理装置において、トッププレートの位置を精度良く位置決めすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施の形態に係る液処理システムの概略構成を示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿った正面側の断面図である。
【図３】図１のＢ−Ｂ線に沿った側面側の断面図である。
【図４】実施の形態に係る液処理ユニットの構成を示す概略断面図である。
【図５】実施の形態に係る液処理ユニットの回転カップ近傍を拡大した概略断面図である。
【図６】実施の形態に係る液処理ユニットの回転カップの斜視図である。
【図７】実施の形態に係る液処理ユニットの構成を示す概略上面図である。
【図８】実施の形態に係る液処理ユニットのフローティング部材近傍を拡大した概略断面図である。
【図９】実施の形態の第１の変形例に係る液処理ユニットの構成を示す概略断面図である。
【図１０】実施の形態の第２の変形例に係る液処理ユニットの構成を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
次に、本発明を実施するための形態について図面と共に説明する。ここでは、本発明を半導体ウェハ（以下、単に「ウェハ」と記す。）の裏面洗浄を行う液処理装置に適用した場合について示す。
（実施の形態）
始めに、図１から図３を参照し、実施の形態に係る液処理ユニットを搭載する液処理システムの概略構成について説明する。
【００１６】
なお、液処理ユニットは、本発明における液処理装置に相当する。
【００１７】
図１は本発明の実施の形態に係る液処理システム１０の概略構成を示す平面図、図２は図１のＡ−Ａ線に沿った正面側の断面図、図３は図１のＢ−Ｂ線に沿った側面側の断面図である。
【００１８】
この液処理システム１０は、複数のウェハＷを収容するウェハキャリアＣが載置され、ウェハＷの搬入・搬出を行う搬入出ステーション（基板搬入出部）１と、ウェハＷに洗浄処理を施すための処理ステーション（液処理部）２とを備えている。搬入出ステーション（基板搬入出部）１及び処理ステーション（液処理部）２は、隣接して設けられている。
【００１９】
搬入出ステーション１は、キャリア載置部１１、搬送部１２、受け渡し部１３及び筐体１４を有している。キャリア載置部１１は、複数のウェハＷを水平状態で収容するウェハキャリアＣを載置する。搬送部１２は、ウェハＷの搬送を行う。受け渡し部１３は、ウェハＷの受け渡しを行う。筐体１４は、搬送部１２および受け渡し部１３を収容する。
【００２０】
キャリア載置部１１は４個のウェハキャリアＣが載置可能である。載置されたウェハキャリアＣは筐体１４の垂直壁部１２ａに密着された状態とされ、大気に触れることなくその中のウェハＷが搬送部１２に搬入可能となっている。
【００２１】
筐体１４は、搬送部１２と受け渡し部１３とを垂直に仕切る仕切り部材１４ａを有している。搬送部１２は、搬送機構１５と、その上方に設けられた清浄空気のダウンフローを供給するファン・フィルター・ユニット（ＦＦＵ）１６とを有している。搬送機構１５は、ウェハＷを保持するウェハ保持アーム１５ａ、及びウェハ保持アーム１５ａを前後に移動させる機構を有している。また搬送機構１５は、ウェハキャリアＣの配列方向であるＸ方向に延在する水平ガイド１７（図１参照）に沿って移動させる機構、垂直方向に設けられた垂直ガイド１８（図２参照）に沿って移動させる機構、水平面内で回転させる機構を有している。この搬送機構１５により、ウェハキャリアＣと受け渡し部１３との間でウェハＷが搬送される。
【００２２】
受け渡し部１３は、受け渡しステージ１９と、その上に設けられたウェハＷを載置可能な載置部を複数備えた受け渡し棚２０とを有している。受け渡し部１３は、この受け渡し棚２０を介して処理ステーション２との間でウェハＷの受け渡しが行われるようになっている。
【００２３】
図３に示すように、処理ステーション２は、直方体状をなす筐体２１を有している。処理ステーション２は、筐体２１内には、その中央上部にウェハキャリアＣの配列方向であるＸ方向に直交するＹ方向に沿って延びる搬送路を構成する搬送室２１ａと、搬送室２１ａの両側に設けられた２つのユニット室２１ｂ、２１ｃとを有している。ユニット室２１ｂ、２１ｃにはそれぞれ搬送室２１ａに沿って６個ずつ合計１２個の液処理ユニット２２が水平に配列されている。
【００２４】
筐体２１内のユニット室２１ｂ、２１ｃの下には、それぞれ各液処理ユニット２２の駆動系を収容した駆動エリア２１ｄ、２１ｅが設けられている。また、駆動エリア２１ｄ、２１ｅの下には、それぞれ配管を収容した配管ボックス２１ｆ、２１ｇが設けられている。また、配管ボックス２１ｆ、２１ｇの下には、それぞれ処理液貯留部としての薬液供給ユニット２１ｈ、２１ｉが設けられている。一方、搬送室２１ａの下方には、排気のための排気空間２１ｊが設けられている。
【００２５】
搬送室２１ａの上方には、ファン・フィルター・ユニット（ＦＦＵ）２３が設けられ、搬送室２１ａに清浄空気のダウンフローを供給するようになっている。搬送室２１ａの内部には搬送機構２４が設けられている。搬送機構２４は、ウェハＷを保持するウェハ保持アーム２４ａ、及びウェハ保持アーム２４ａを前後に移動させる機構を有している。また、搬送機構２４は、搬送室２１ａに設けられた水平ガイド２５（図１参照）に沿ってＹ方向に移動させる機構、垂直方向に設けられた垂直ガイド２６（図３参照）に沿って移動させる機構、水平面内で回転させる機構を有している。この搬送機構２４により、各液処理ユニット２２に対するウェハＷの搬入出を行うようになっている。
【００２６】
なお、受け渡しステージ１９はキャリア載置部１１よりも高い位置に設けられ、液処理ユニット２２は受け渡しステージ１９よりも高い位置に設けられている。
【００２７】
配管ボックス２１ｆ、２１ｇには、処理液配管群３０、排液配管群３１および排気配管群３２が水平に配置されている。処理液配管群３０は、例えば、アンモニア水と過酸化水素を混合して形成されたアンモニア過水ＳＣ１を供給するＳＣ１配管３０ａ、希フッ酸（ＤＨＦ）を供給するＤＨＦ配管３０ｂ、純水を供給する純水配管３０ｃを有している。また、排液配管群３１は、例えば、排液を排出するための排液配管３１ａ、排液を回収するための回収配管３１ｂを有している。さらに排気配管群３２は、例えば、酸を排気するための酸排気配管３２ａ、アルカリを排気するためのアルカリ排気配管３２ｂを有している。
【００２８】
薬液供給ユニット２１ｈは、搬入出ステーション１側に設けられた、例えばアンモニア過水ＳＣ１を貯留する第１薬液タンク４１とそれに隣接する第１回収タンク４２とを有している。
【００２９】
図２に示すように、第１薬液タンク４１には、薬液を送出するための送出管４３と、薬液を返戻するための返戻管４４が接続されている。送出管４３は、配管ボックス２１ｆ内に水平に配置された処理液配管群３０のＳＣ１配管３０ａの一端側に接続されている。また、返戻管４４は、ＳＣ１配管３０ａの他端側に接続されている。
【００３０】
第１薬液タンク４１の上部には薬液供給配管５１が接続されており、この薬液供給配管５１には混合器５２が接続されている。混合器５２には、純水配管５３、アンモニア配管５４および過酸化水素配管５５が接続されており、混合器５２にて純水とアンモニアと過酸化水素が混合されてアンモニア過水ＳＣ１が第１薬液タンク４１に供給されるようになっている。純水配管５３には液体フローコントローラ（ＬＦＣ）５６ａおよびバルブ５６ｂが設けられている。アンモニア配管５４には液体フローコントローラ（ＬＦＣ）５７ａおよびバルブ５７ｂが設けられている。過酸化水素配管５５には液体フローコントローラ（ＬＦＣ）５８ａおよびバルブ５８ｂが設けられている。
【００３１】
また、薬液供給ユニット２１ｈには、排液配管群３１の回収配管３１ｂに接続され、処理済みの薬液を回収するための第１回収タンク４２が設けられている。第１回収タンク４２と第１薬液タンク４１は、接続配管４６で接続され、回収された薬液を清浄化処理した後、第１薬液タンク４１に戻すことが可能となっている。
【００３２】
一方、薬液供給ユニット２１ｉは、搬入出ステーション１側に設けられた、例えば希フッ酸（ＤＨＦ）を貯留する第２薬液タンク４７（図３参照）とそれに隣接する第２回収タンク（図示せず）とを有している。そして、第２薬液タンク４７のＤＨＦも、第１薬液タンク４１からのＳＣ１と同様にして、配管ボックス２１ｆ、２１ｇ内のＤＨＦ配管３０ｂ等とにより循環供給可能となっている。また、第２回収タンクへのＤＨＦの回収は、配管４８（図２参照）を通って第１回収タンク４２へのＳＣ１の回収と同様に行われる。
【００３３】
なお、これら薬液洗浄以外に、純水によるリンスおよび乾燥が行われるが、その際には、純水は図示しない純水供給源から純水配管３０ｃを通って供給される。
【００３４】
配管ボックス２１ｆ、２１ｇに設けられた排液配管群３１のうち、排液配管３１ａにはドレイン配管４９が接続されている。排液配管３１ａからの排液は、ドレイン配管４９を通ってドレインとして床下の工場配管に廃棄される。
【００３５】
次に、図４から図６を参照し、本実施の形態に係る液処理システム１０に搭載された液処理ユニット２２である液処理装置について説明する。図４は、本実施の形態に係る液処理ユニット２２の構成を示す概略断面図である。図５は、本実施の形態に係る液処理ユニット２２の回転カップ７１近傍を拡大した概略断面図である。図６は、本実施の形態に係る液処理ユニット２２の回転カップ７１の斜視図である。
【００３６】
液処理ユニット２２は、図４に示すように、回転プレート６０、囲い部材７０、回転カップ７１、回転駆動部８０、基板昇降部材９０、処理液供給機構９３、排気・排液部（カップ）１００、トッププレート１１０、昇降機構１２０、不活性ガス供給機構１２３、位置決め機構１３０、及びフローティング部材１５０を有する。
【００３７】
なお、排気・排液部（カップ）１００は、本発明における処理容器に相当する。また、トッププレート１１０は、本発明における天板部に相当する。
【００３８】
回転プレート６０は、図４及び図５に示すように、ベースプレート６１及び回転軸６２を有する。ベースプレート６１は、水平に設けられ、中央に円形の孔６１ａを有する。回転軸６２は、ベースプレート６１から下方に向かって延在するように設けられており、中心に孔６２ａが設けられた円筒状の形状を有する。
【００３９】
囲い部材７０は、図５及び図６に示すように、ウェハＷの周縁外方にウェハＷの周縁部ＷＥを全周に亘り囲繞するように設けられている。囲い部材７０は、図５に示すように、ウェハＷを処理した処理液を排液カップ１０１へと導く。また、囲い部材７０は、支持ピン７２を有する。支持ピン７２は、囲い部材７０の下端から周縁内方に突出して設けられている。支持ピン７２は、ウェハＷの周縁部ＷＥの下面を支持する。また、図６に示すように、支持ピン７２は、ウェハＷの周方向に沿って、略等間隔に複数設けられている。
【００４０】
なお、囲い部材７０及び支持ピン７２は、本発明における支持部に相当する。
【００４１】
回転カップ７１は、ウェハＷの下面側に供給され、回転するウェハＷから外周側へ飛散する処理液が、跳ね返されて再びウェハＷに戻ることを防止するためのものである。また、回転するウェハＷから外周側へ飛散する処理液が、ウェハＷの上面側に回り込まないようにするためのものでもある。
【００４２】
図５に示すように、ベースプレート６１、囲い部材７０及び回転カップ７１は、それぞれを貫通するように形成された孔７３に締結部材７４を嵌め込むことにより、締結されている。これにより、ベースプレート６１、囲い部材７０及び回転カップ７１は、一体として回転可能に設けられている。
【００４３】
回転駆動部８０は、プーリ８１、駆動ベルト８２及びモータ８３を有する。プーリ８１は、回転軸６２の下方側における周縁外方に配置されている。駆動ベルト８２は、プーリ８１に巻きかけられている。モータ８３は、駆動ベルト８２に連結されており、駆動ベルト８２に回転駆動力を伝達することによって、プーリ８１を介して回転軸６２を回転させる。すなわち、回転駆動部８０は、回転軸６２を回転させることによって、ベースプレート６１、囲い部材７０及び回転カップ７１を回転させる。なお、回転軸６２の周縁外方にはベアリング６３が配置されている。
【００４４】
基板昇降部材９０は、ベースプレート６１の孔６１ａ及び回転軸６２の孔６２ａ内に昇降可能に設けられており、リフトピンプレート９１及びリフト軸９２を有する。リフトピンプレート９１は、周縁に複数例えば３本のリフトピン９１ａを有している。リフト軸９２は、リフトピンプレート９１から下方に延在している。リフトピンプレート９１及びリフト軸９２は、中心に処理液供給管９４が設けられている。また、リフト軸９２の下端には図示しないシリンダ機構が接続されており、このシリンダ機構によって基板昇降部材９０を昇降させることにより、ウェハＷを昇降させてウェハＷのローディングおよびアンローディングが行われる。
【００４５】
処理液供給機構９３は、処理液供給管９４を有する。前述したように、処理液供給管９４は、リフトピンプレート９１およびリフト軸９２の内部（中空空間内）に、上下方向に延在するように、設けられている。処理液供給管９４は、処理液配管群３０の各配管から供給された処理液をウェハＷの下面側まで導く。処理液供給管９４は、リフトピンプレート９１の上面に形成された処理液供給口９４ａと連通している。
【００４６】
排気・排液部（カップ）１００は、排液カップ１０１、排液管１０２、排気カップ１０３及び排気管１０４を有する。また、排気・排液部（カップ）１００は、上面に開口１０５が設けられている。排気・排液部（カップ）１００は、主に回転プレート６０と回転カップ７１に囲繞された空間から排出される気体および液体を回収するためのものである。
【００４７】
排液カップ１０１は、回転カップ７１によって導かれた処理液を受ける。排液管１０２は、排液カップ１０１の底部の最外側部分に接続されており、排液カップ１０１によって受けられた処理液を排液配管群３１のいずれかの配管を通して排出する。排気カップ１０３は、排液カップ１０１の外方又は下方において、排液カップ１０１と連通するように設けられている。図４では、排気カップ１０３が排液カップ１０１の周縁内方及び下方において、排液カップ１０１と連通するように設けられている例を示す。排気管１０４は、排気カップ１０３の底部の最外側部分に接続されており、排気カップ１０３内の窒素ガスなどの気体を排気配管群３２のいずれかの配管を通して排気する。
【００４８】
トッププレート１１０は、昇降可能であって、下降した状態で排気・排液部（カップ）１００の上面に設けられた開口１０５を塞ぐように設けられている。また、トッププレート１１０は、排気・排液部（カップ）１００の上面に設けられた開口１０５を塞ぐときに、支持ピン７２に支持されているウェハＷを上方から覆うように設けられている。
【００４９】
トッププレート１１０は、囲い部材７０の支持ピン７２に支持されているウェハＷの周縁部ＷＥと対向する領域１１１に、トッププレート１１０の下面１１２から下方に突出して設けられた隙間形成部材１１３を有する。隙間形成部材１１３は、ウェハＷの周縁部ＷＥとの間に隙間Ｄ１を形成する。
【００５０】
トッププレート１１０に隙間形成部材１１３が形成されていると、囲い部材７０の支持ピン７２に支持されているウェハＷの周縁部ＷＥとトッププレート１１０との隙間Ｄ１は、ウェハＷの中心部ＷＣとトッププレート１１０との距離Ｄ０よりも小さくなる。
【００５１】
昇降機構１２０は、アーム１２１、昇降駆動部１２２を有する。昇降駆動部１２２は、排気・排液部（カップ）１００の外方に設けられており、上下に移動できるようになっている。アーム１２１は、トッププレート１１０と昇降駆動部１２２とを接続するように設けられている。すなわち、昇降機構１２０は、アーム１２１を介して昇降駆動部１２２によりトッププレート１１０を昇降させる。
【００５２】
不活性ガス供給機構１２３は、不活性ガス供給管１２４及び不活性ガス供給源１２５を有する。不活性ガス供給機構１２３は、ウェハＷの上面側に窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガスを供給するためのものである。不活性ガス供給管１２４は、トッププレート１１０及びアーム１２１の内部に延在するように設けられている。不活性ガス供給管１２４の一端は、不活性ガスを供給する不活性ガス供給源１２５に連結されている。不活性ガス供給管１２４は、トッププレート１１０の下面１１２の中心部に不活性ガス供給口１２４ａを構成している。
【００５３】
図４に示すように、アーム１２１はトッププレート１１０の上面の略中心で接続していてもよい。これにより、不活性ガス供給口１２４ａがトッププレート１１０の下面１１２の中心部に形成されることになるため、不活性ガスをトッププレート１１０の中心から下方に供給することができ、ウェハＷに供給される不活性ガスの流量を周方向に沿って均一にすることができる。
【００５４】
本実施の形態では、図４及び図５に示すように、トッププレート１１０が下降する際に、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０の相対位置を所定の位置に位置決めする位置決め機構１３０を有する。以下、図５及び図７を参照し、位置決め機構１３０について説明する。図７は、本実施の形態に係る液処理ユニット２２の構成を示す概略上面図である。
【００５５】
位置決め機構１３０は、図５に示すように、第１の位置決め部材１３１及び第２の位置決め部材１３２を有する。
【００５６】
第１の位置決め部材１３１は、トッププレート１１０に固定されている。また、第２の位置決め部材１３２は、第１の位置決め部材１３１に対応して設けられ、排気・排液部（カップ）１００に固定されている。第１の位置決め部材１３１及び第２の位置決め部材１３２は、トッププレート１１０が下降する際に、第１の位置決め部材１３１及び第２の位置決め部材１３２の一方が他方に係止されることによって、位置決めされる。
【００５７】
第１の位置決め部材１３１は、例えば、トッププレート１１０の周縁外方の位置であって排気・排液部（カップ）１００の上面と平面視において重なる位置に設けられ、下方に向かって凸形状を有する凸状部材１３３を含むことができる。そして、第２の位置決め部材１３２は、例えば、平面視において凸状部材１３３に対応する位置に設けられ、上方に向かって凹形状を有する凹状部材１３４を含むことができる。このときは、凸状部材１３３が凹状部材１３４に嵌め込まれることによって、位置決めされる。あるいは、第１の位置決め部材１３１が凹状部材を含み、第２の位置決め部材１３２が凸状部材を含んでもよい。
【００５８】
第１の位置決め部材１３１が凸状部材１３３を含み、第２の位置決め部材１３２が凹状部材１３４を含むときは、図５に示すように、凸状部材１３３のすぐ上に、凹状部材１３４の上面に形成された孔１３６の形状よりも大きい形状を有する大径部材１３５を有していてもよい。大径部材１３５の下面から凸状部材１３３の先端までの長さＬＴと、凹状部材１３４の孔１３６の深さＬＢとの大小関係によって、上下方向の位置決めの基準が少し異なる。ＬＴ＞ＬＢのときは、凸状部材１３３の先端部が、凹状部材１３４の孔１３６の底部に接触することによって、上下方向の位置決めがなされる。また、ＬＴ＜ＬＢのときは、大径部材１３５の下面が、凹状部材１３４の上面に接触することによって、上下方向の位置決めがなされる。
【００５９】
一方、凸状部材１３３が凹状部材１３４の孔１３６に略隙間無く嵌め込まれるように設けられているときは、トッププレート１１０が下降する際に、凸状部材１３３が凹状部材１３４の孔１３６に嵌め込まれることによって、平面視における位置決めがなされる。また、トッププレート１１０が下降する際に、凸状部材１３３が凹状部材１３４の孔１３６に容易に嵌め込まれるように、図５に示すように、凸状部材１３３の先端側又は凹状部材１３４の孔１３６の凸状部材１３３側にテーパーを設けてもよい。
【００６０】
図７に示すように、位置決め機構１３０は、第１の位置決め部材１３１と第２の位置決め部材１３２よりなる一対の部材対を、トッププレート１１０の周縁部において周方向に沿って複数組有している。図７に示す例では、トッププレート１１０の周縁部において全周を略３等分する位置において３組の部材対が設けられている。複数の部材対が設けられていることによって、水平面内においてトッププレート１１０をより精度良く位置決めすることができる。
【００６１】
また、第１の位置決め部材１３１及び第２の位置決め部材１３２は、トッププレート１１０が下降する際に、第１の位置決め部材１３１及び第２の位置決め部材１３２のいずれか一方が、トッププレート１１０の外周より外方で、他方に係止されるように設けられていてもよい。等しい位置合わせ精度であっても、複数の位置決め部材１３１、１３２の対がトッププレート１１０の外周より外方で係止されることにより、トッププレート１１０の位置合わせ精度がより向上する。
【００６２】
また、トッププレート１１０に固定されている第１の位置決め部材１３１は、固定位置が調整可能に固定されていてもよい。例えば、第１の位置決め部材１３１を、トッププレート１１０に固定されている根元側部材１３７と、根元側部材１３７に固定されている先端側部材１３８とに分割し、先端側部材１３８の根元側部材１３７に対する相対位置がネジ等により調整可能になるように設ける。これにより、第１の位置決め部材１３１がトッププレート１１０に固定される固定位置を調整可能とすることができ、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０の上下方向及び水平方向に沿った位置をより精度良く位置合わせすることができる。図５では、側周面にネジ溝が形成された先端側部材１３８が、根元側部材１３７に設けられ、内周面にネジ溝が形成されたネジ孔１３９とナット１４０とによって、上下方向に沿った相対位置が調整可能に設けられている例を示す。
【００６３】
あるいは、排気・排液部（カップ）１００に固定されている第２の位置決め部材１３２を、排気・排液部（カップ）１００に固定されている根元側部材と、根元側部材に固定されている先端側部材とに分割し、先端側部材の根元側部材に対する相対位置がネジ等により調整可能になるように設けてもよい。これにより、第２の位置決め部材１３２の排気・排液部（カップ）１００に固定される固定位置を調整可能とすることができる。
【００６４】
更に、本実施の形態では、図４及び図７に示すように、トッププレート１１０とアーム１２１とは、フローティング部材１５０を介して接続されている。以下、図８を参照し、フローティング部材１５０について説明する。図８は、本実施の形態に係る液処理ユニット２２のフローティング部材１５０近傍を拡大した概略断面図である。
【００６５】
フローティング部材１５０は、第１の係止部材１５１、第２の係止部材１５２、弾性部材１５３を有する。フローティング部材１５０は、トッププレート１１０が下降した状態で排気・排液部（カップ）１００の上面に設けられた開口１０５を塞いでいるときに、位置決め機構１３０により位置決めされているトッププレート１１０と、昇降機構１２０のアーム１２１との間の位置のずれを吸収するためのものである。
【００６６】
なお、フローティング部材１５０は、本発明における押し付け部材に相当する。
【００６７】
第１の係止部材１５１は、トッププレート１１０に固定されている。また、第２の係止部材１５２は、アーム１２１に固定されている。第１の係止部材１５１及び第２の係止部材１５２は、例えば若干の遊びをもって係止するように設けられている。すなわち、トッププレート１１０とアーム１２１とが、第１の係止部材１５１と第２の係止部材１５２とによって係止されているときは、アーム１２１に対するトッププレート１１０の相対位置が上下方向及び水平面内の方向に微小距離変位可能となっている。
【００６８】
また、アーム１２１に固定されている第２の係止部材１５２は、固定位置が調整可能に固定されていてもよい。例えば、図８では、ボルトよりなる第２の係止部材１５２がアーム１２１の下面に設けられたネジ孔１５４とナット１５５によって上下方向に沿った相対位置を予め調整可能に設けられている例を示す。あるいは、トッププレート１１０に固定されている第１の係止部材１５１が、固定位置が調整可能に設けられていてもよい。これにより、アーム１２１に対するトッププレート１１０の相対位置を予め調整することが可能となるため、実際の液処理プロセスにおいて、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０の相対位置をより精度良く位置合わせすることができる。
【００６９】
弾性部材１５３は、トッププレート１１０が下降した状態で排気・排液部（カップ）１００の上面に設けられた開口１０５を塞いでいるときに、トッププレート１１０がアーム１２１から下方に押し付けられるように、上下方向に沿って弾性変形可能に設けられている。すなわち、フローティング部材１５０は、排気・排液部（カップ）１００の上面に設けられた開口１０５を塞いでいるトッププレート１１０を、弾性部材１５３により排気・排液部（カップ）１００に上方から押し付けるものである。これにより、トッププレート１１０が下降する際に、位置決め機構１３０により排気・排液部（カップ）１００に対する相対位置を精度良く位置合わせされたトッププレート１１０の上下方向及び水平方向に沿った位置を、上下方向に沿って弾性変形可能に設けられたフローティング部材１５０により精度良く保持することができる。
【００７０】
また、不活性ガス供給管１２４は、第１の供給管１２６及び第２の供給管１２７を有す
る。第１の供給管１２６は、一端がトッププレート１１０の下面１１２に開口して不活性
ガス供給口１２４ａを形成し、他端側においてアーム１２１の内部で第２の供給管１２７
と接続するように設けられている。さらに不活性ガス供給管１２４はアーム１２１に対して自在に設けられているので、トッププレート１１０が下降して位置決め機構１３０により位置合わせされる際も不活性ガス供給管１２４はトッププレート１１０に追従できるようになっている。
【００７１】
また、図８に示すように、第１の供給管１２６は大径部１２８を有し、大径部１２８が第１の係止部材１５１に接するように係止されてもよい。また、第１の供給管１２６は、Ｏリング等の封止部材１２９により、トッププレート１１０に気密に嵌め込まれていてもよい。
【００７２】
なお、フローティング部材１５０は、トッププレート１１０よりも昇降機構１２０側に設けられていればよく、例えばアーム１２１と昇降駆動部１２２の間に設けられていてもよい。
【００７３】
また、液処理システム１０は、図４に示すように、制御部２００を有する。制御部２００は、マイクロプロセッサ（コンピュータ）からなるプロセスコントローラ２０１を有しており、液処理システム１０の各構成部がこのプロセスコントローラ２０１に接続されて制御される構成となっている。また、プロセスコントローラ２０１には、工程管理者が液処理システム１０の各構成部を管理するためにコマンドの入力操作などを行うキーボードや、液処理システム１０の各構成部の可動状況を可視化して表示するディスプレイ等からなるユーザーインターフェース２０２が接続されている。さらに、プロセスコントローラ２０１には、液処理システム１０で実行される各種処理をプロセスコントローラ２０１の制御にて実現するための制御プログラムや、処理条件に応じて液処理システム１０の各構成部に所定の処理を実行させるための制御プログラムすなわちレシピが格納された記憶部２０３が接続されている。レシピは記憶部２０３の中の記憶媒体（記録媒体）に記憶されている。記憶媒体（記録媒体）は、ハードディスクや半導体メモリであってもよい。また、他の装置から、例えば専用回線を介してレシピを適宜伝送させるようにしてもよい。
【００７４】
そして、必要に応じて、ユーザーインターフェース２０２からの指示等にて任意のレシピを記憶部２０３から呼び出してプロセスコントローラ２０１に実行させることで、プロセスコントローラ２０１の制御下で、液処理システム１０での所望の処理が行われる。
【００７５】
次に、上記した液処理ユニット２２を用いた液処理方法及びその作用について説明する。
【００７６】
本実施の形態では、位置決め機構１３０の第１の位置決め部材１３１又は第２の位置決め部材１３２が、根元側部材１３７と先端側部材１３８とに分かれており、先端側部材１３８の根元側部材１３７に対する相対位置を、根元側部材１３７に形成されたネジ孔１３９とナット１４０とにより調整可能に設けられている。また、本実施の形態では、フローティング部材１５０が、アーム１２１に対する第２の係止部材１５２の相対位置又はトッププレート１１０に対する第１の係止部材１５１の相対位置を、アーム１２１（又はトッププレート１１０）に形成されたネジ孔とナットとにより調整可能に設けられている。従って、予め、昇降機構１２０によりトッププレート１１０を下降させた状態で、位置決め機構１３０及びフローティング部材１５０のナット等を緩め、第１の位置決め部材１３１と第２の位置決め部材１３２との位置を位置合わせした状態で、位置決め機構１３０及びフローティング部材１５０のナット等を締めることにより、それぞれの相対位置を予め調整しておく。
【００７７】
このようにして位置決め機構１３０及びフローティング部材１５０の相対位置を予め調整した後、ウェハＷに対して液処理プロセスを行う。
【００７８】
なお、液処理プロセスは、本発明における液処理方法に相当する。
【００７９】
まず、搬入出ステーション１のキャリア載置部１１に載置されたウェハキャリアＣから搬送機構１５のウェハ保持アーム１５ａにより１枚のウェハＷを取り出し、受け渡しステージ１９上の受け渡し棚２０の載置部に載置する。この動作を連続的に行う。受け渡し棚２０の載置部に載置されたウェハＷは、処理ステーション２の搬送機構２４のウェハ保持アーム２４ａにより順次搬送され、いずれかの液処理ユニット２２に搬入される。
【００８０】
ウェハＷが液処理ユニット２２に搬入されるとき、トッププレート１１０は、昇降機構１２０により、上昇させられている。そして、液処理ユニット２２に搬入されたウェハＷは、シリンダ機構（図示せず）により受け渡し位置（上方位置）に位置づけられたリフトピンプレート９１のリフトピン９１ａ上に載置される。
【００８１】
次に、シリンダ機構（図示せず）によって、リフトピンプレート９１が下方に移動させられてウェハ処理位置に位置づけられる。リフトピンプレート９１が下方に移動させられている間に、囲い部材７０に設けられた支持ピン７２によって、ウェハＷの下面が支持される。
【００８２】
その後、昇降機構１２０によって、トッププレート１１０を、排気・排液部（カップ）１００の上面に設けられた開口１０５を塞ぐように、下降させる。このとき、位置決め工程が行われる。
【００８３】
位置決め工程では、トッププレート１１０が下降する際に、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０の相対位置を所定の位置に位置決めする。第１の位置決め部材１３１と第２の位置決め部材１３２との相対位置が予め調整されている。従って、トッププレート１１０が下降する際に、第１の位置決め部材１３１が第２の位置決め部材１３２に係止されることにより、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０の相対位置を精度良く位置決めすることができる。
【００８４】
また、ウェハＷを何枚も処理した後等、経時変化によって、トッププレート１１０の排気・排液部（カップ）１００に対する相対位置がずれた場合、あるいはトッププレート１１０の昇降機構１２０に対する相対位置がずれた場合には、フローティング部材１５０がその位置のずれを吸収することができる。従って、トッププレート１１０を下降するときに、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０の相対位置を精度良く位置決めすることができる。
【００８５】
次に、回転駆動部８０により回転軸６２が回転駆動されることによって、ベースプレート６１、囲い部材７０及び回転カップ７１が回転される。具体的には、回転軸６２が、モータ８３から駆動ベルト８２を介してプーリ８１に駆動力が付与されることによって、回転駆動される。この結果、囲い部材７０に設けられた支持ピン７２上のウェハＷが回転する。
【００８６】
このとき、ウェハＷの下面には、処理液配管群３０のいずれかの配管から処理液供給機構９３の処理液供給管９４を介して処理液が供給される。そして、ウェハＷの下面に供給された処理液は、図４に示すように、ウェハＷが回転することによって発生する遠心力によって周縁外方に向かって移動される。このときの処理液としては、前述したように、例えば、ＳＣ１、ＤＨＦのいずれかまたは両方を用いる。
【００８７】
他方、ウェハＷの上面には、図４に示すように、トッププレート１１０の下面１１２の中心部に設けられた不活性ガス供給口１２４ａから窒素ガス等の不活性ガスが供給される。供給された不活性ガスは、ウェハＷの上面を経た後、ウェハＷとトッププレート１１０の隙間形成部材１１３との間の隙間Ｄ１を通って、囲い部材７０の上方から周縁外方、更に下方へと回り込み、排気・排液部（カップ）１００の排気カップ１０３から排気管１０４へと流れる。この不活性ガスの気流によって、ウェハＷの周縁部ＷＥに達した処理液が、ウェハＷと囲い部材７０との間又は囲い部材７０と回転カップ７１との間から、ウェハＷの上面側に回り込むことを防止することができる。
【００８８】
また、本実施の形態では、トッププレート１１０が、位置決め機構１３０によって、上下方向に精度良く位置決めされる。そのため、隙間形成部材１１３とウェハＷの周縁部ＷＥとの間の隙間Ｄ１がウェハＷの周方向に沿って一定となるように、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０の相対位置を所定の位置に位置決めすることができる。隙間Ｄ１をウェハＷの周方向に沿って一定にすることにより、ウェハＷの上面側を流れる不活性ガスの流れをウェハＷの周方向に沿って均一にすることができる。そのため、ウェハＷの周縁部ＷＥの下面に達した処理液が、ウェハＷと囲い部材７０との間又は囲い部材７０と回転カップ７１との間から、ウェハＷの上面側に回り込むことをより確実に防止することができる。
【００８９】
また、本実施の形態では、トッププレート１１０が、位置決め機構１３０によって、水平方向にも精度良く位置決めされる。そのため、図５に示すように、ウェハＷの周縁部ＷＥであって、隙間形成部材１１３と対向する領域よりも外周側の部分におけるウェハＷの径方向の幅Ｌが、ウェハＷの周方向に沿って一定となるように、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０の相対位置を所定の位置に位置決めすることができる。すなわち、幅ＬをウェハＷの全周に亘り均一化することができる。幅ＬをウェハＷの全周に亘り均一化することにより、ウェハＷの上面側を流れる不活性ガスの流れをウェハＷの周方向に沿って更に均一にすることができる。そのため、ウェハＷの周縁部ＷＥの下面に達した処理液が、ウェハＷと支持ピン７２および回転カップ７１との間から、ウェハＷの上面側に回り込むことをより確実に防止することができる。これにより、ウェハＷと隙間形成部材１１３との対向する領域とで形成される空間の、単位長さ辺りの体積を、ウェハＷの全周に亘って均一化することができる。従って、周方向に沿った一部の箇所で不活性ガスの気流が少なくなり、その箇所から処理液がウェハＷの上面側に回り込むことを防止することができる。
【００９０】
上述のような処理液による液処理プロセスが終了すると、処理液配管群３０のいずれかの配管から処理液供給機構９３の処理液供給管９４を介してのウェハＷへの処理液の供給が停止される。そして、次に、処理液配管群３０の純水配管３０ｃから処理液供給機構９３の処理液供給管９４を介してウェハＷに純水を供給して純水リンスを行う。
【００９１】
また、上記した液処理プロセスの際には、使用済みの処理液が排液カップ１０１から排液配管群３１に至り、酸およびアルカリは一部回収され、他は廃棄される。また、処理にともなって発生した気体成分が排気カップ１０３から排気配管群３２に至り、排気される。
【００９２】
次に、回転駆動部８０によって回転軸６２が高速回転される。この結果、支持ピン７２上のウェハＷが高速回転され、ウェハＷが乾燥される。その後、回転駆動部８０のモータ８３が停止され、支持ピン７２上のウェハＷの回転も停止される。
【００９３】
次に、昇降機構１２０によって、トッププレート１１０がウェハＷの受け渡し位置よりも上方位置に位置づけられる。その後、シリンダ機構（図示せず）によって、リフトピンプレート９１が上方位置に移動させられて、ウェハＷが受け渡し位置（上方位置）に上昇する。
【００９４】
次に、搬送機構２４のウェハ保持アーム２４ａによって、リフトピンプレート９１上からウェハＷが搬出される。このようにして、一枚のウェハＷの処理が終了する。
【００９５】
このようにして搬出されたウェハＷは、搬送機構２４のウェハ保持アーム２４ａにより液処理ユニット２２から搬出され、受け渡しステージ１９の受け渡し棚２０に載置され、受け渡し棚２０から搬送機構１５のウェハ保持アーム１５ａによりウェハキャリアＣに戻される。
【００９６】
本実施の形態では、トッププレート１１０の中心部に不活性ガス供給口１２４ａが設けられている例について説明した。しかしながら、これに限ることなく、例えば、トッププレート１１０の周縁に、不活性ガス供給口１２４ａが設けられていてもよい。
（実施の形態の第１の変形例）
次に、図９を参照し、本発明の実施の形態の第１の変形例に係る液処理装置及び液処理方法について説明する。図９は、本変形例に係る液処理ユニット２２ａの構成を示す概略断面図である。
【００９７】
本変形例に係る液処理ユニット２２ａは、トッププレート１１０ａが隙間形成部材を有していない点で、実施の形態に係る液処理ユニット２２と相違する。
【００９８】
本変形例でも、図１から図３を用いて説明した実施の形態に係る液処理システム１０を用いることができる。また、本変形例に係る液処理システム１０に搭載される液処理ユニット２２ａは、図９に示すように、回転プレート６０、囲い部材７０、回転カップ７１、回転駆動部８０、基板昇降部材９０、処理液供給機構９３、排気・排液部（カップ）１００、トッププレート１１０ａ、昇降機構１２０、不活性ガス供給機構１２３、位置決め機構１３０、及びフローティング部材１５０を有している。トッププレート１１０ａ以外の各部については、実施の形態において図４を用いて説明した液処理ユニット２２の各部と同様である。そして、図９において、図４を用いて説明した部分と同一の部分については、同じ符号を付し、説明を省略する。
【００９９】
一方、本変形例におけるトッププレート１１０ａは、隙間形成部材を有していない。
【０１００】
トッププレート１１０ａは、昇降可能であって、下降した状態で排気・排液部（カップ）１００の上面に設けられた開口１０５を塞ぐように設けられていることは、実施の形態と同様である。
【０１０１】
一方、本変形例では、図９に示すように、トッププレート１１０ａは、囲い部材７０の支持ピン７２に支持されているウェハＷの周縁部ＷＥと対向する領域に、トッププレート１１０ａの下面１１２から下方に突出した隙間形成部材が設けられていない。そのため、トッププレート１１０ａと囲い部材７０の支持ピン７２に支持されているウェハＷとの距離は、ウェハＷ全面に亘り略等しくなり、Ｄ０となる。すなわち、囲い部材７０の支持ピン７２に支持されているウェハＷの周縁部ＷＥとトッププレート１１０ａとの距離は、ウェハＷの中心部ＷＣとトッププレート１１０ａとの距離Ｄ０よりも小さくなることはない。
【０１０２】
しかし、本変形例でも、トッププレート１１０ａが位置決め機構１３０によって、上下方向に精度良く位置決めされる。そのため、トッププレート１１０ａとウェハＷとの距離がウェハＷの周方向に沿って一定となるように、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０ａの相対位置を所定の位置に位置決めすることができる。これにより、ウェハＷの上面側を流れる不活性ガスの流れをウェハＷの周方向に沿って均一にすることができる。そのため、ウェハＷとトッププレート１１０ａとの間を通ってウェハＷの外方へ流れる不活性ガスの流量を均一にすることができる。そして、ウェハＷの周縁部ＷＥの下面に達した処理液が、ウェハＷと囲い部材７０との間又は囲い部材７０と回転カップ７１との間から、ウェハＷの上面側に回り込むことをより確実に防止することができる。
（実施の形態の第２の変形例）
次に、図１０を参照し、本発明の実施の形態の第２の変形例に係る液処理装置及び液処理方法について説明する。図１０は、本変形例に係る液処理ユニット２２ｂの構成を示す概略断面図である。
【０１０３】
本変形例に係る液処理ユニット２２ｂは、トッププレート１１０ｂがフローティング部材を有していない点で、実施の形態に係る液処理ユニット２２と相違する。
【０１０４】
本変形例でも、図１から図３を用いて説明した実施の形態に係る液処理システム１０を用いることができる。また、本変形例に係る液処理システム１０に搭載される液処理ユニット２２ｂは、図１０に示すように、回転プレート６０、囲い部材７０、回転カップ７１、回転駆動部８０、基板昇降部材９０、処理液供給機構９３、排気・排液部（カップ）１００、トッププレート１１０ｂ、昇降機構１２０ｂ、不活性ガス供給機構１２３ｂ及び位置決め機構１３０を有しているが、フローティング部材を有していない。トッププレート１１０ｂ、昇降機構１２０ｂ以外のこれらの各部については、実施の形態において図４を用いて説明した液処理ユニット２２の各部と同様である。そして、図１０において、図４を用いて説明した部分と同一の部分については、同じ符号を付し、説明を省略する。
【０１０５】
トッププレート１１０ｂは、昇降可能であって、下降した状態で排気・排液部（カップ）１００の上面に設けられた開口１０５を塞ぐように設けられていることは、実施の形態と同様である。また、囲い部材７０の支持ピン７２に支持されているウェハＷの周縁部ＷＥと対向する領域に、トッププレート１１０ｂの下面１１２から下方に突出した隙間形成部材１１３が設けられていることは、実施の形態と同様である。
【０１０６】
一方、本変形例では、フローティング部材が設けられていないため、図１０に示すように、トッププレート１１０ｂは、アーム１２１ｂに固定されている。従って、トッププレート１１０ｂは、アーム１２１ｂ及び昇降駆動部１２２を介して液処理ユニット２２ｂの一部に固定されている。
【０１０７】
また、図１０に示すように、不活性ガス供給機構１２３ｂの不活性ガス供給管１２４ｂは、アーム１２１ｂの内部に一体で形成されていてもよく、あるいは、図４に示したように、アーム１２１ｂの内部に別体で形成されていてもよい。
【０１０８】
本変形例でも、トッププレート１１０ｂに固定されている第１の位置決め部材１３１又は排気・排液部（カップ）１００に固定されている第２の位置決め部材１３２は、実施の形態と同様に、固定位置が調整可能に固定されていてもよい。例えば、図５を用いて説明したように、第１の位置決め部材１３１又は第２の位置決め部材１３２が根元側部材と先端側部材とに分かれており、先端側部材の根元側部材に対する相対位置が、根元側部材に形成されたネジ孔とナットとにより調整可能に設けられていてもよい。これにより、予め、昇降機構１２０ｂによりトッププレート１１０ｂを下降させた状態で、位置決め機構１３０のナットを緩め、第１の位置決め部材１３１と第２の位置決め部材１３２との位置を位置合わせした状態で、位置決め機構１３０のナットを締めることにより、それぞれの相対位置を予め調整しておくことができる。
【０１０９】
その結果、隙間形成部材１１３とウェハＷの周縁部ＷＥとの隙間Ｄ１がウェハＷの周方向に沿って一定となるように、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０ｂの相対位置を所定の位置に位置決めすることができる。隙間Ｄ１をウェハＷの周方向に沿って一定にすることにより、ウェハＷの上面側を流れる不活性ガスの流れをウェハＷの周方向に沿って均一にすることができる。また、本変形例でも、実施の形態において図５を用いて説明したのと同様に、ウェハＷの周縁部ＷＥであって、隙間形成部材１１３と対向する領域よりも外周側の部分におけるウェハＷの径方向の幅Ｌが、ウェハＷの周方向に沿って一定となるように、排気・排液部（カップ）１００に対するトッププレート１１０ｂの相対位置を所定の位置に位置決めすることができる。そのため、ウェハＷの周縁部ＷＥの下面に達した処理液が、ウェハＷと囲い部材７０との間又は囲い部材７０と回転カップ７１との間から、ウェハＷの上面側に回り込むことをより確実に防止することができる。
【０１１０】
以上、本発明の好ましい実施の形態について記述したが、本発明はかかる特定の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
【符号の説明】
【０１１１】
１０ 液処理システム
２２ 液処理ユニット
７０ 囲い部材
７２ 支持ピン
９３ 処理液供給機構
１００ 排気・排液部（カップ）
１０５ 開口
１１０ トッププレート
１１３ 隙間形成部材
１２３ 不活性ガス供給機構
１３０ 位置決め機構
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上面側からガスを供給するとともに前記基板の下面側から処理液を供給し、供給された処理液により前記基板の下面を処理する液処理装置において、
上面に開口を有する処理容器と、
前記処理容器内に設けられ、基板の周縁部を支持する支持部と、
昇降可能に設けられ、下降した状態で前記開口を塞ぐ天板部と、
前記天板部が下降する際に、前記処理容器に対する前記天板部の相対位置を所定の位置に位置決めする位置決め機構と
を有する、液処理装置。
【請求項２】
前記位置決め機構は、
前記天板部に設けられている第１の位置決め部材と、
前記第１の位置決め部材に対応して前記処理容器に設けられている第２の位置決め部材と
を有し、
前記天板部が下降する際に、前記第１の位置決め部材及び前記第２の位置決め部材のいずれか一方が他方に係止されることによって、前記相対位置を位置決めするものである、請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
前記第１の位置決め部材は前記天板部に固定され、
前記第２の位置決め部材は前記処理容器に固定され、
前記第１の位置決め部材又は前記第２の位置決め部材は、固定位置が調整可能に固定されている、請求項２に記載の液処理装置。
【請求項４】
前記位置決め機構は、前記基板の周縁部と前記天板部との距離が前記基板の周方向に沿って一定となるように、前記相対位置を位置決めするものである、請求項１から請求項３のいずれかに記載の液処理装置。
【請求項５】
前記天板部は、前記基板の前記周縁部と対向する領域に、前記天板部の下面から下方に突出して設けられ、前記基板の前記周縁部との間に隙間を形成する隙間形成部材を有し、
前記位置決め機構は、前記隙間が前記基板の周方向に沿って一定となるように、前記相対位置を位置決めするものである、請求項４に記載の液処理装置。
【請求項６】
前記位置決め機構は、前記基板の周縁部であって、前記隙間形成部材と対向する領域よりも外周側の部分における前記基板の径方向の幅が、前記基板の周方向に沿って一定となるように、前記相対位置を位置決めするものである、請求項５に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記天板部を昇降させる昇降機構と、
前記天板部よりも前記昇降機構側に上下方向に沿って弾性変形可能に設けられ、前記開口を塞いでいる前記天板部を前記処理容器に押し付ける押し付け部材と
を有する、請求項１から請求項６のいずれかに記載の液処理装置。
【請求項８】
上面に開口を有する処理容器と、前記処理容器内に設けられ、基板の周縁部を支持する支持部と、昇降可能に設けられ、下降した状態で前記開口を塞ぐ天板部とを有し、前記支持部に支持されている基板の上面側からガスを供給するとともに前記基板の下面側から処理液を供給し、供給された処理液により前記基板の下面を処理する液処理装置における液処理方法であって、
前記天板部が下降する際に、前記処理容器に対する前記天板部の相対位置を所定の位置に位置決めする位置決め工程を有する、液処理方法。
【請求項９】
前記位置決め工程は、前記天板部が下降する際に、前記天板部に設けられている第１の位置決め部材、及び、前記第１の位置決め部材に対応して前記処理容器に設けられている第２の位置決め部材のいずれか一方が他方に係止されることによって、前記相対位置を位置決めするものである、請求項８に記載の液処理方法。
【請求項１０】
前記第１の位置決め部材は前記天板部に固定され、
前記第２の位置決め部材は前記処理容器に固定され、
前記第１の位置決め部材又は前記第２の位置決め部材は、固定位置が調整可能に固定されている、請求項９に記載の液処理方法。
【請求項１１】
前記位置決め工程は、前記基板の周縁部と前記天板部との距離が前記基板の周方向に沿って一定となるように、前記相対位置を位置決めするものである、請求項８から請求項１０のいずれかに記載の液処理方法。
【請求項１２】
前記天板部は、前記基板の前記周縁部と対向する領域に、前記天板部の下面から下方に突出して設けられ、前記基板の前記周縁部との間に隙間を形成する隙間形成部材を有し、
前記位置決め工程は、前記隙間が前記基板の周方向に沿って一定となるように、前記相対位置を位置決めするものである、請求項１１に記載の液処理方法。
【請求項１３】
前記位置決め工程は、前記基板の周縁部であって、前記隙間形成部材と対向する領域よりも外周側の部分における前記基板の径方向の幅が、前記基板の周方向に沿って一定となるように、前記相対位置を位置決めするものである、請求項１２に記載の液処理方法。
【請求項１４】
前記液処理装置は、前記天板部を昇降させる昇降機構を有し、
前記位置決め工程は、前記天板部よりも前記昇降機構側に上下方向に沿って弾性変形可能に設けられた押し付け部材により、前記開口を塞いでいる前記天板部を前記処理容器に押し付けるものである、請求項８から請求項１３のいずれかに記載の液処理方法。
【請求項１５】
コンピュータに請求項８から請求項１４のいずれかに記載の液処理方法を実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【請求項１】
基板の上面側からガスを供給するとともに前記基板の下面側から処理液を供給し、供給された処理液により前記基板の下面を処理する液処理装置において、
上面に開口を有する処理容器と、
前記処理容器内に設けられ、基板の周縁部を支持する支持部と、
昇降可能に設けられ、下降した状態で前記開口を塞ぐ天板部と、
前記天板部が下降する際に、前記処理容器に対する前記天板部の相対位置を所定の位置に位置決めする位置決め機構と
を有する、液処理装置。
【請求項２】
前記位置決め機構は、
前記天板部に設けられている第１の位置決め部材と、
前記第１の位置決め部材に対応して前記処理容器に設けられている第２の位置決め部材と
を有し、
前記天板部が下降する際に、前記第１の位置決め部材及び前記第２の位置決め部材のいずれか一方が他方に係止されることによって、前記相対位置を位置決めするものである、請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
前記第１の位置決め部材は前記天板部に固定され、
前記第２の位置決め部材は前記処理容器に固定され、
前記第１の位置決め部材又は前記第２の位置決め部材は、固定位置が調整可能に固定されている、請求項２に記載の液処理装置。
【請求項４】
前記位置決め機構は、前記基板の周縁部と前記天板部との距離が前記基板の周方向に沿って一定となるように、前記相対位置を位置決めするものである、請求項１から請求項３のいずれかに記載の液処理装置。
【請求項５】
前記天板部は、前記基板の前記周縁部と対向する領域に、前記天板部の下面から下方に突出して設けられ、前記基板の前記周縁部との間に隙間を形成する隙間形成部材を有し、
前記位置決め機構は、前記隙間が前記基板の周方向に沿って一定となるように、前記相対位置を位置決めするものである、請求項４に記載の液処理装置。
【請求項６】
前記位置決め機構は、前記基板の周縁部であって、前記隙間形成部材と対向する領域よりも外周側の部分における前記基板の径方向の幅が、前記基板の周方向に沿って一定となるように、前記相対位置を位置決めするものである、請求項５に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記天板部を昇降させる昇降機構と、
前記天板部よりも前記昇降機構側に上下方向に沿って弾性変形可能に設けられ、前記開口を塞いでいる前記天板部を前記処理容器に押し付ける押し付け部材と
を有する、請求項１から請求項６のいずれかに記載の液処理装置。
【請求項８】
上面に開口を有する処理容器と、前記処理容器内に設けられ、基板の周縁部を支持する支持部と、昇降可能に設けられ、下降した状態で前記開口を塞ぐ天板部とを有し、前記支持部に支持されている基板の上面側からガスを供給するとともに前記基板の下面側から処理液を供給し、供給された処理液により前記基板の下面を処理する液処理装置における液処理方法であって、
前記天板部が下降する際に、前記処理容器に対する前記天板部の相対位置を所定の位置に位置決めする位置決め工程を有する、液処理方法。
【請求項９】
前記位置決め工程は、前記天板部が下降する際に、前記天板部に設けられている第１の位置決め部材、及び、前記第１の位置決め部材に対応して前記処理容器に設けられている第２の位置決め部材のいずれか一方が他方に係止されることによって、前記相対位置を位置決めするものである、請求項８に記載の液処理方法。
【請求項１０】
前記第１の位置決め部材は前記天板部に固定され、
前記第２の位置決め部材は前記処理容器に固定され、
前記第１の位置決め部材又は前記第２の位置決め部材は、固定位置が調整可能に固定されている、請求項９に記載の液処理方法。
【請求項１１】
前記位置決め工程は、前記基板の周縁部と前記天板部との距離が前記基板の周方向に沿って一定となるように、前記相対位置を位置決めするものである、請求項８から請求項１０のいずれかに記載の液処理方法。
【請求項１２】
前記天板部は、前記基板の前記周縁部と対向する領域に、前記天板部の下面から下方に突出して設けられ、前記基板の前記周縁部との間に隙間を形成する隙間形成部材を有し、
前記位置決め工程は、前記隙間が前記基板の周方向に沿って一定となるように、前記相対位置を位置決めするものである、請求項１１に記載の液処理方法。
【請求項１３】
前記位置決め工程は、前記基板の周縁部であって、前記隙間形成部材と対向する領域よりも外周側の部分における前記基板の径方向の幅が、前記基板の周方向に沿って一定となるように、前記相対位置を位置決めするものである、請求項１２に記載の液処理方法。
【請求項１４】
前記液処理装置は、前記天板部を昇降させる昇降機構を有し、
前記位置決め工程は、前記天板部よりも前記昇降機構側に上下方向に沿って弾性変形可能に設けられた押し付け部材により、前記開口を塞いでいる前記天板部を前記処理容器に押し付けるものである、請求項８から請求項１３のいずれかに記載の液処理方法。
【請求項１５】
コンピュータに請求項８から請求項１４のいずれかに記載の液処理方法を実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１１−２２２９６５（Ｐ２０１１−２２２９６５Ａ）
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１９９８１（Ｐ２０１１−１９９８１）
【出願日】平成２３年２月１日（２０１１．２．１）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年２月１日（２０１１．２．１）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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