液処理装置および液処理方法
【課題】カップに付着した汚れにより処理室内の基板が汚れてしまうことを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供する。
【解決手段】液処理装置１０は、基板Ｗを保持する基板保持部２１および基板保持部２１の周囲に配設されるカップ４２が内部に設けられた処理室２０と、基板保持部２１に保持された基板Ｗに対して処理液を供給するためのノズル８２ａと、カップ４２の上部に洗浄液を供給することにより当該カップ４２の洗浄を行うカップ洗浄部４９、４９ａと、を備えている。カップ４２の上部には凹部４２ａが形成されており、カップ洗浄部４９、４９ａは、カップ４２の上部の凹部４２ａに洗浄液を供給するようになっている。
【解決手段】液処理装置１０は、基板Ｗを保持する基板保持部２１および基板保持部２１の周囲に配設されるカップ４２が内部に設けられた処理室２０と、基板保持部２１に保持された基板Ｗに対して処理液を供給するためのノズル８２ａと、カップ４２の上部に洗浄液を供給することにより当該カップ４２の洗浄を行うカップ洗浄部４９、４９ａと、を備えている。カップ４２の上部には凹部４２ａが形成されており、カップ洗浄部４９、４９ａは、カップ４２の上部の凹部４２ａに洗浄液を供給するようになっている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を水平状態に保持した状態で回転させながら当該基板に処理液を供給することにより基板の洗浄処理やエッチング処理、メッキ処理、現像処理等の液処理を行う液処理装置および液処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、半導体ウエハ等の基板（以下、ウエハともいう）を水平状態に保持した状態で回転させながら当該基板の表面や裏面に処理液を供給することにより基板の洗浄処理やエッチング処理、メッキ処理、現像処理等の液処理を行う液処理装置として、様々な種類のものが知られている（例えば、特許文献１等参照）。特許文献１には、基板をスピンチャックにより水平に保持して回転させ、スピンチャックにより保持されて回転する基板の表面に処理液を供給するような、基板を１枚ずつ処理する枚葉式の液処理装置が開示されている。また、このような枚葉式の液処理装置において、処理室の上方にＦＦＵ（ファンフィルタユニット）を設け、このＦＦＵからＮ２ガス（窒素ガス）やクリーンエア等のガスをダウンフローで処理室内に送るような技術が知られている。
【０００３】
処理室の上方にＦＦＵが設けられた液処理装置の構成について図９および図１０を用いて説明する。図９は、従来の液処理装置の概略的な構成を示す側面図であり、図１０は、図９に示す従来の液処理装置の上面図である。図９および図１０に示すように、従来の液処理装置２００は、ウエハＷが収容され、この収容されたウエハＷの液処理が行われる処理室（チャンバー）２１０を備えている。図９および図１０に示すように、処理室２１０内には、ウエハＷを保持して回転させるための保持部２２０が設けられており、この保持部２２０の周囲にはカップ２３０が配設されている。また、従来の液処理装置２００では、保持部２２０に保持されたウエハＷに対してカップ２３０の上方から処理液を供給するためのノズル２４０およびこのノズル２４０を支持するアーム２４１が処理室２１０内に設けられている。また、アーム２４１には略鉛直方向に延びるアーム支持部２４２が設けられており、このアーム支持部２４２によりアーム２４１が支持されている。そして、アーム支持部２４２は図示しない駆動機構により正逆両方向に回転駆動させられるようになっている。このことにより、アーム２４１はアーム支持部２４２を中心として正逆両方向に回転可能となり、このアーム２４１は、保持部２２０により保持されたウエハＷに処理液を供給する進出位置（図１０の実線参照）とカップ２３０から退避した退避位置（図１０の二点鎖線参照）との間でアーム支持部２４２を中心として回転移動を行うようになる（図１０の矢印参照）。
【０００４】
また、図９に示すように、処理室２１０の上方にはＦＦＵ（ファンフィルタユニット）２５０が設けられており、このＦＦＵ２５０からＮ２ガス（窒素ガス）やクリーンエア等のガスが常にダウンフローで処理室２１０内に送られるようになっている。また、処理室２１０の底部には排気部２６０が設けられており、この排気部２６０により処理室２１０内の雰囲気の排気が行われるようになっている。このように、ＦＦＵ２５０から処理室２１０内にクリーンエア等のガスがダウンフローで送られ、このガスが排気部２６０により排気されることにより、処理室２１０内の雰囲気の置換が行われるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−９４５２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
図９および図１０に示すような従来の液処理装置２００では、処理室２１０内でウエハＷの液処理を行う際に薬液等が飛散してしまい、処理室２１０内においてカップ２３０の上部に薬液等が付着して残存してしまうおそれがある。この場合、その後のウエハＷの処理においてこの残存した薬液の雰囲気によりウエハＷが汚れてしまう等の悪影響を与えてしまうおそれがある。
【０００７】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、カップの洗浄を行うことによって、カップに付着した汚れにより処理室内の基板が汚れてしまうことを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の液処理装置は、基板を保持する基板保持部および当該基板保持部の周囲に配設されるカップが内部に設けられた処理室と、前記基板保持部に保持された基板に対して処理液を供給するためのノズルと、前記カップの上部に洗浄液を供給することにより当該カップの洗浄を行うカップ洗浄部と、を備え、前記カップの上部には凹部が形成されており、前記カップ洗浄部は、前記カップの上部の前記凹部に洗浄液を供給するようになっていることを特徴とする。
【０００９】
本発明の液処理方法は、処理室の内部に設けられた基板保持部により基板を水平状態に保持させる工程と、前記基板保持部により基板を回転させ、前記処理室内に進出したノズル支持アームのノズルにより、前記基板保持部により保持されて回転する基板に処理液を供給する工程と、前記処理室内においてカップの上部に形成された凹部に洗浄液を供給することにより当該カップの洗浄を行う工程と、を備えたことを特徴とする。
【００１０】
このような液処理装置および液処理方法によれば、カップの洗浄を行うことによって、カップに付着した汚れにより処理室内の基板が汚れてしまうことを防止することができる。
【００１１】
本発明の液処理装置においては、前記カップの上部は、その内周縁から外周縁に向かって途中部分までは高さレベルが小さくなるよう傾斜しており、その途中部分から外周縁までは高さレベルが大きくなるよう傾斜しており、前記カップ洗浄部は、前記カップの上部の前記途中部分に洗浄液を供給するようになっていてもよい。
【００１２】
本発明の液処理装置においては、前記カップの上部は、その内周縁の高さレベルがその外周縁の高さレベルよりも大きくなっており、前記カップ洗浄部により前記カップの上部の前記凹部に供給された洗浄液は、前記カップの上部の外周縁から排出されるようになっていてもよい。
【００１３】
あるいは、前記カップの上部は、その内周縁の高さレベルがその外周縁の高さレベルよりも小さくなっており、前記カップ洗浄部により前記カップの上部の前記凹部に供給された洗浄液は、前記カップの上部の内周縁から排出されるようになっていてもよい。
【００１４】
本発明の液処理装置においては、前記カップは鉛直方向に重ねて配置されるよう複数設けられており、前記カップ洗浄部は、前記複数のカップのうち最上段のカップの洗浄を行うようになっていてもよい。
【００１５】
本発明の液処理装置においては、前記カップの内側に、基板を保持する前記基板保持部とともに回転する回転カップが設けられ、当該回転カップの回転に伴って生じる旋回空気流により前記カップの上部の前記凹部全域に洗浄液を行き渡らせてもよい。
【００１６】
本発明の液処理装置においては、前記カップ洗浄部は、前記カップの上部の前記凹部に洗浄液を上方から供給する洗浄液供給ノズルを有していてもよい。
【００１７】
本発明の液処理装置においては、前記回転カップの外周に外方へ突出するとともに円周状に延びる円周突起が設けられ、前記回転カップの円周突起により旋回空気流を生じさせてもよい。
【００１８】
本発明の液処理方法においては、前記カップの上部は、その内周縁の高さレベルがその外周縁の高さレベルよりも小さくなっており、前記カップの洗浄を行う工程において、前記カップの上部の前記凹部に供給された洗浄液は、前記カップの上部の内周縁から排出され、この排出された洗浄液により前記カップの内周面の洗浄が行われるようになっていてもよい。
【００１９】
あるいは、前記カップの上部は、その内周縁の高さレベルがその外周縁の高さレベルよりも大きくなっており、前記カップの洗浄を行う工程において、前記カップの上部の前記凹部に供給された洗浄液は、前記カップの上部の外周縁から排出されるようになっていてもよい。
【００２０】
本発明の液処理方法においては、前記カップの内側に、基板を保持する前記基板保持部とともに回転する回転カップが設けられ、前記カップの洗浄工程において、前記回転カップの回転に伴って生じる旋回空気流により前記カップの上部の前記凹部全域に洗浄液を行き渡らせてもよい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の液処理装置および液処理方法によれば、カップに付着した汚れにより処理室内の基板が汚れてしまうことを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１の実施の形態による液処理装置を含む液処理システムを上方から見た上面図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態による液処理装置の概略的な構成を示す上面図である。
【図３】図２に示す液処理装置の側面図である。
【図４】図２に示す液処理装置の構成の詳細を示す縦断面図であって、カップ外周筒が下方位置にあるときの状態を示す図である。
【図５】図２に示す液処理装置の構成の詳細を示す縦断面図であって、カップ外周筒が上方位置にあるときの状態を示す図である。
【図６Ａ】（ａ）は、図４等に示す液処理装置における保持プレートに設けられた保持部材の構成を示す拡大縦断面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す状態からリフトピンプレートが下方に移動したときの状態を示す拡大縦断面図であり、（ｃ）は、（ｂ）に示す状態からリフトピンプレートが更に下方に移動したときの状態を示す拡大縦断面図である。
【図６Ｂ】図４等に示す液処理装置におけるカップ外周筒の構成を示す斜視図である。
【図７】図４等に示す液処理装置のドレインカップの構成の詳細を示す側断面図である。
【図８】図４等に示す液処理装置のドレインカップの他の構成の詳細を示す側断面図である。
【図９】従来の液処理装置の概略的な構成を示す側面図である。
【図１０】図９に示す従来の液処理装置の上面図である。
【図１１】本発明の第２の実施の実施の形態における液処理装置のドレインカップの構成の詳細を示す側断面図である。
【図１２】ドレインカップの他の構成の詳細を示す側断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
第１の実施の形態
以下、図面を参照して本発明の第１の実施の形態について説明する。図１乃至図８は、本実施の形態による液処理装置を示す図である。より詳細には、図１は、本発明の実施の形態による液処理装置を含む液処理システムを上方から見た上面図である。また、図２は、本発明の実施の形態による液処理装置の概略的な構成を示す上面図であり、図３は、図２に示す液処理装置の概略的な構成を示す側面図である。また、図４および図５は、図２に示す液処理装置の構成の詳細を示す縦断面図である。また、図６Ａは、図４等に示す液処理装置における保持プレートに設けられた保持部材の構成を示す拡大縦断面図であり、図６Ｂは、図４等に示す液処理装置におけるカップ外周筒の構成を示す斜視図である。また、図７および図８は、図４等に示す液処理装置のドレインカップの構成の詳細を示す側断面図である。
【００２４】
まず、図１を用いて、本実施の形態による液処理装置を含む液処理システムについて説明する。図１に示すように、液処理システムは、外部から被処理基板としての半導体ウエハ等の基板Ｗ（以下、ウエハＷともいう）を収容したキャリアを載置するための載置台１０１と、キャリアに収容されたウエハＷを取り出すための搬送アーム１０２と、搬送アーム１０２によって取り出されたウエハＷを載置するための棚ユニット１０３と、棚ユニット１０３に載置されたウエハＷを受け取り、当該ウエハＷを液処理装置１０内に搬送する搬送アーム１０４と、を備えている。図１に示すように、液処理システムには、複数（図１に示す態様では４個）の液処理装置１０が設けられている。
【００２５】
次に、本実施の形態による液処理装置１０の概略的な構成について図２および図３を用いて説明する。
【００２６】
図２および図３に示すように、本実施の形態による液処理装置１０は、ウエハＷが収容され、この収容されたウエハＷの液処理が行われる処理室（チャンバー）２０を備えている。図３に示すように、処理室２０内には、ウエハＷを水平状態で保持して回転させるための保持部２１が設けられており、この保持部２１の周囲にはリング状の回転カップ４０が配設されている。また、図２および図３に示すように、処理室２０内において回転カップ４０の周囲には円筒状のカップ外周筒５０が配設されている。後述するように、このカップ外周筒５０はウエハＷの処理状況に応じて昇降可能となっている。これらの保持部２１、回転カップ４０およびカップ外周筒５０の構成の詳細については後述する。
【００２７】
また、液処理装置１０には、保持部２１に保持されたウエハＷに対してウエハＷの上方から処理液やＮ２ガス等の流体を供給するためのノズル８２ａおよびこのノズル８２ａを支持するノズル支持アーム８２が設けられている。図２に示すように、１つの液処理装置１０には複数（具体的には例えば６つ）のノズル支持アーム８２が設けられており、各ノズル支持アーム８２の先端にノズル８２ａが設けられている。また、図３に示すように、各ノズル支持アーム８２にはアーム支持部８４が設けられており、各アーム支持部８４はアーム駆動機構（図示せず）によって図３における左右方向に駆動されるようになっている。このことにより、各ノズル支持アーム８２は、ノズル８２ａが処理室２０内に進出した進出位置と、ノズル８２ａが処理室２０から退避した退避位置との間で水平方向に直線運動を行うようになっている（図２および図３における各ノズル支持アーム８２に設けられた矢印参照）。また、図３に示すように、各ノズル支持アーム８２には表面処理液供給管８２ｍが設けられており、各表面処理液供給管８２ｍは表面処理液供給部８９に接続されている。そして、表面処理液供給部８９から各表面処理液供給管８２ｍを介して各ノズル支持アーム８２のノズル８２ａに処理液やＮ２ガス等の流体が供給されるようになっている。
【００２８】
図２および図３に示すように、液処理装置１０において、アーム待機部８０が処理室２０に隣接して設けられている。このアーム待機部８０において、処理室２０から退避したノズル支持アーム８２が待機するようになっている。また、アーム待機部８０と処理室２０との間には鉛直方向に延びる壁９０が設けられている。この壁９０は、各ノズル支持アーム８２が通過可能な開口８８ｐが設けられたアーム洗浄部８８を有している。このアーム洗浄部８８により各ノズル支持アーム８２の洗浄が行われるようになっている。
【００２９】
また、図３に示すように、処理室２０の上方にはＦＦＵ（ファンフィルタユニット）７０が設けられており、このＦＦＵ７０からＮ２ガス（窒素ガス）やクリーンエア等のガスがダウンフローで処理室２０内に送られるようになっている。また、図２および図３に示すように、処理室２０の底部におけるカップ外周筒５０の内側には排気部５４が設けられており、この排気部５４により処理室２０内の雰囲気の排気が行われるようになっている。このように、ＦＦＵ７０から処理室２０内にクリーンエア等のガスがダウンフローで送られ、このガスが排気部５４により排気されることにより、処理室２０内の雰囲気の置換が行われるようになっている。
【００３０】
また、図２および図３に示すように、処理室２０の底部におけるカップ外周筒５０の外側には排気部５６が設けられており、この排気部５６により処理室２０内の雰囲気の排気が行われるようになっている。この排気部５６により、処理室２０内におけるカップ外周筒５０の外側の雰囲気の排気を行うことができるようになっている。具体的には、排気部５６により、アーム待機部８０内の雰囲気がカップ外周筒５０内に入り込むことが抑止される。また、この排気部５６により、カップ外周筒５０内の雰囲気がアーム待機部８０に出てしまうことが抑止される。
【００３１】
また、図２および図３に示すように、アーム待機部８０の底部には排気部５８が設けられており、この排気部５８によりアーム待機部８０内の雰囲気の排気が行われるようになっている。具体的には、各ノズル支持アーム８２を駆動するためのアーム駆動機構（図示せず）から発生するパーティクルを排気部５８により引くことができるようになっている。
【００３２】
また、図２に示すように、液処理装置１０の処理室２０およびアーム待機部８０の出入口にはそれぞれメンテナンス用のシャッター６０、６２が設けられている。処理室２０およびアーム待機部８０にそれぞれメンテナンス用のシャッター６０、６２が設けられていることにより、これらの処理室２０内やアーム待機部８０内の機器を個別にメンテナンスすることができる。また、処理室２０内でウエハＷを処理している最中でも、シャッター６２を開くことによりアーム待機部８０内の機器をメンテナンスすることができるようになる。
【００３３】
また、図２に示すように、液処理装置１０の側壁には、搬送アーム１０４により処理室２０内へウエハＷを搬入したり処理室２０からウエハＷを搬出したりするための開口９４ａが設けられており、この開口９４ａには、当該開口９４ａを開閉するためのシャッター９４が設けられている。
【００３４】
なお、図２に示す液処理装置１０において、処理室２０内におけるカップ外周筒５０の内部の領域はクリーンルームに対して微陽圧となっており、一方、処理室２０内におけるカップ外周筒５０の外側の領域はクリーンルームに対して微陰圧となっている。このため、処理室２０内において、カップ外周筒５０の内部の領域の気圧はカップ外周筒５０の外側の領域の気圧よりも大きくなっている。
【００３５】
次に、図２および図３に示すような液処理装置１０の構成の詳細について図４および図５を用いて説明する。
【００３６】
図４および図５に示すように、保持部２１は、ウエハＷを保持するための円板形状の保持プレート２６と、保持プレート２６の上方に設けられた円板形状のリフトピンプレート２２とを備えている。リフトピンプレート２２の上面には、ウエハＷを下方から支持するためのリフトピン２３が周方向に等間隔で３つ設けられている。なお、図４および図５では２つのリフトピン２３のみを表示している。また、リフトピンプレート２２にはピストン機構２４が設けられており、このピストン機構２４によりリフトピンプレート２２が昇降するようになっている。より具体的には、搬送アーム１０４（図１参照）によりウエハＷをリフトピン２３上に載置したりリフトピン２３上からウエハＷを取り出したりするときには、ピストン機構２４によりリフトピンプレート２２が図４等に示すような位置から上方に移動させられ、このリフトピンプレート２２は回転カップ４０よりも上方に位置するようになる。一方、処理室２０内でウエハＷの液処理を行う際には、ピストン機構２４によりリフトピンプレート２２が図４等に示すような下方位置に移動させられ、ウエハＷの周囲に回転カップ４０が位置するようになる。
【００３７】
保持プレート２６には、ウエハＷを側方から支持するための保持部材２５が周方向に等間隔で３つ設けられている。なお、図４および図５では２つの保持部材２５のみを表示している。各保持部材２５は、リフトピンプレート２２が上方位置から図４および図５に示すような下方位置に移動したときにこのリフトピン２３上のウエハＷを支持し、このウエハＷをリフトピン２３からわずかに離間させるようになっている。
【００３８】
リフトピンプレート２２および保持プレート２６の構成について、図６Ａを用いてより詳細に説明する。図６Ａにおいて、（ａ）は、リフトピンプレート２２が上方位置から図４等に示すような下方位置に移動する途中での状態を示す図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す状態からリフトピンプレート２２が下方に移動したときの状態を示す図であり、（ｃ）は、（ｂ）に示す状態からリフトピンプレート２２が更に下方に移動し、リフトピンプレート２２が図４等に示すような下方位置に到達したときの状態を示す図である。
【００３９】
図６Ａに示すように、保持部材２５は軸２５ａを介して保持プレート２６に軸支されている。より詳細には、図６Ａに示すように、保持プレート２６には軸受け部２６ａが取り付けられており、この軸受け部２６ａに設けられた軸受け孔２６ｂに軸２５ａが受け入れられる。軸受け孔２６ｂは水平方向に延びるような細長い孔からなり、保持部材２５の軸２５ａはこの軸受け孔２６ｂに沿って水平方向に移動することができる。このようにして、保持部材２５は、軸受け部２６ａの軸受け孔２６ｂに受け入れられた軸２５ａを中心として揺動することができる。
【００４０】
保持部材２５の軸２５ａには、ねじりバネ等のバネ部材２５ｄが巻き掛けられている。このバネ部材２５ｄは、軸２５ａを中心として保持部材２５を図６Ａにおける時計回りの方向に回転させるような力を保持部材２５に付勢するようになっている。これにより、保持部材２５に何ら力が加えられていない場合には、保持部材２５が保持プレート２６に対して傾斜した状態となり、保持部材２５におけるウエハＷを側方から支持するための支持部分２５ｂ（後述）は保持プレート２６の中心から遠ざかった状態となる。
【００４１】
また、軸２５ａに巻き掛けられたバネ部材２５ｄからは線状部分が伸び出しており、この線状部分は軸受け部２６ａの内壁面２６ｃに係止されて、軸２５ａを保持プレート２６の中心に向かって押し返す。このように、バネ部材２５ｄの線状部分により、軸２５ａは保持プレート２６の中心に向かって（すなわち、図６Ａにおける左方向に向かって）常時押圧される。このため、比較的径が小さなウエハＷが保持部材２５により保持される場合には、軸２５ａは、図６Ａに示すように、軸受け孔２６ｂにおける保持プレート２６の中心に近い位置（すなわち、図６Ａにおける左側の位置）に位置する。一方、比較的径が大きなウエハＷが保持部材２５により支持される場合には、バネ部材２５ｄの線状部分による力に抗して、軸２５ａは軸受け孔２６ｂに沿って図６Ａに示す位置から右方向に移動する。なお、ここでのウエハＷの径の大小とは、許容寸法誤差内でのウエハＷの径の大小を意味している。
【００４２】
また、保持部材２５は、ウエハＷを側方から支持する支持部分２５ｂと、軸２５ａに関して支持部分２５ｂと反対側に設けられた被押圧部材２５ｃとを有している。被押圧部材２５ｃは、リフトピンプレート２２と保持プレート２６との間に設けられており、この被押圧部材２５ｃは、図６Ａに示すようにリフトピンプレート２２が下方位置またはその近傍位置にあるときに当該リフトピンプレート２２の下面により下方に向かって押圧される。
【００４３】
図６Ａに示すように、保持部材２５は、リフトピンプレート２２が上方位置から下方位置に移動したときに、当該リフトピンプレート２２の下面により被押圧部材２５ｃが下方に押圧されることにより軸２５ａを中心として図６Ａにおける反時計回りの方向（図６Ａにおける矢印方向）に回転する。そして、保持部材２５が軸２５ａを中心として回転することにより、支持部分２５ｂがウエハＷに向かって当該ウエハＷの側方から移動する。これにより、リフトピンプレート２２が下方位置に到達したときに、図６Ａ（ｃ）に示すように、ウエハＷが保持部材２５により側方から支持される。ここで、図６Ａ（ｃ）に示すように、ウエハＷが保持部材２５により側方から支持されたときに、このウエハＷはリフトピン２３の先端から上方に離間し、リフトピン２３から上方に浮いた状態となる。また、前述のように、ウエハＷの大きさによっては、バネ部材２５ｄの線状部分による力に抗して軸２５ａが軸受け孔２６ｂに沿って図６Ａに示す位置から右方向に移動する場合もある。このため、比較的大きなウエハＷが保持部材２５により支持される場合であっても、保持部材２５が水平方向に移動可能となっているので、ウエハＷを変形させたり破損させたりすることなくウエハＷを側方から支持することができる。
【００４４】
また、リフトピンプレート２２および保持プレート２６の中心部分にはそれぞれ貫通穴が形成されており、これらの貫通穴を通るよう処理液供給管２８が設けられている。この処理液供給管２８は、保持プレート２６の各保持部材２５により保持されたウエハＷの裏面に薬液や純水等の処理液を供給するようになっている。また、処理液供給管２８はリフトピンプレート２２と連動して昇降するようになっている。処理液供給管２８の上端には、リフトピンプレート２２の貫通穴を塞ぐよう設けられたヘッド部分２８ａが形成されている。また、図４等に示すように、処理液供給管２８には処理液供給部２９が接続されており、この処理液供給部２９により処理液供給管２８に処理液が供給されるようになっている。
【００４５】
図４および図５に示すように、保持部２１の周囲にはリング状の回転カップ４０が配設されている。この回転カップ４０は保持プレート２６に取り付けられており、保持プレート２６と一体的に回転するようになっている。より詳細には、回転カップ４０は、保持プレート２６の各保持部材２５により支持されたウエハＷを側方から囲うよう設けられており、ウエハＷの液処理を行う際にこのウエハＷから側方に飛散した処理液を受けるようになっている。
【００４６】
また、回転カップ４０の周囲には、ドレインカップ４２、第１案内カップ４３、第２案内カップ４４および第３案内カップ４５が上方から順に設けられている。ドレインカップ４２および各案内カップ４３、４４、４５はそれぞれリング状に形成されている。ここで、ドレインカップ４２は処理室２０において固定されている。一方、各案内カップ４３、４４、４５にはそれぞれ昇降シリンダ（図示せず）が連結されており、これらの案内カップ４３、４４、４５は対応する昇降シリンダにより互いに独立して昇降自在となっている。
【００４７】
図４および図５に示すように、ドレインカップ４２や各案内カップ４３、４４、４５の下方には、第１処理液回収用タンク４６ａ、第２処理液回収用タンク４６ｂ、第３処理液回収用タンク４６ｃおよび第４処理液回収用タンク４６ｄがそれぞれ設けられている。そして、各案内カップ４３、４４、４５の上下方向における位置により、ウエハＷの液処理を行う際にこのウエハＷから側方に飛散した処理液が、この処理液の種類に基づいて、４つの処理液回収用タンク４６ａ、４６ｂ、４６ｃ、４６ｄのうちいずれか一つの処理液回収用タンクに選択的に送られるようになっている。具体的には、全ての案内カップ４３、４４、４５が全て上方位置にあるときには（図４および図５に示すような状態）、ウエハＷから側方に飛散した処理液は第４処理液回収用タンク４６ｄに送られるようになっている。一方、第３案内カップ４５のみが下方位置にあるときには、ウエハＷから側方に飛散した処理液は第３処理液回収用タンク４６ｃに送られるようになっている。また、第２案内カップ４４および第３案内カップ４５が下方位置にあるときには、ウエハＷから側方に飛散した処理液は第２処理液回収用タンク４６ｂに送られるようになっている。また、全ての案内カップ４３、４４、４５が下方位置にあるときには、ウエハＷから側方に飛散した処理液は第１処理液回収用タンク４６ａに送られるようになっている。
【００４８】
また、図４および図５に示すように、第４処理液回収用タンク４６ｄの内側には排気部４８が設けられている。そして、各案内カップ４３、４４、４５の上下方向における位置が所定の位置となることにより、ウエハＷの周囲の雰囲気が、排気部４８により排気されるようになっている。
【００４９】
また、本実施の形態の液処理装置１０においては、処理室２０内においてドレインカップ４２や各案内カップ４３、４４、４５の周囲にカップ外周筒５０が設けられている。このカップ外周筒５０は、図４に示すような下方位置と図５に示すような上方位置との間で昇降可能となっている。また、図２および図３に示すように、カップ外周筒５０には、ノズル支持アーム８２が通過可能な開口５０ｍが設けられている。カップ外周筒５０は、図５に示すような上方位置にあるときに、カップ外周筒５０内の領域を外部に対して隔離するようになっている。
【００５０】
このようなカップ外周筒５０の構成の詳細について図６Ｂを用いて説明する。図６Ｂは、カップ外周筒５０の構成を示す斜視図である。図６Ｂに示すように、カップ外周筒５０の側面には、ノズル支持アーム８２が通過可能な開口５０ｍが、ノズル支持アーム８２の本数に応じて設けられている（例えばノズル支持アーム８２が６本の場合、６つの開口５０ｍが設けられる）。また、カップ外周筒５０の上部には、このカップ外周筒５０を支持するための支持部材５０ａが連結されており、支持部材５０ａには当該支持部材５０ａを昇降させる駆動機構５０ｂが設けられている。そして、駆動機構５０ｂにより支持部材５０ａを昇降させることにより、この支持部材５０ａに支持されるカップ外周筒５０も昇降するようになっている。
【００５１】
また、図４および図５に示すように、ＦＦＵ７０にはガイド部材５１が取り付けられている。このガイド部材５１は、図５に示すようにカップ外周筒５０が上方位置にあるときに、このカップ外周筒５０から内側にわずかに距離を隔てて位置するよう配置されている。また、本実施の形態の液処理装置１０においては、図５に示すようにカップ外周筒５０が上方位置にあるときには、カップ外周筒５０内の気圧はカップ外周筒５０の外側の気圧よりも大きくなるようになっている。このため、カップ外周筒５０が上方位置にあるときには、ＦＦＵ７０により生じる処理室２０内のダウンフローのガスが、ガイド部材５１によりカップ外周筒５０の上端近傍において当該カップ外周筒５０の内側から外側に案内されるようになっている。
【００５２】
また、図４および図５に示すように、処理室２０内には、カップ外周筒５０を洗浄するための洗浄部５２が設けられている。この洗浄部５２は、純水等の洗浄液を貯留するための貯留部分５２ａを有しており、図４に示すようにカップ外周筒５０が下方位置にあるときにこのカップ外周筒５０が貯留部分５２ａに貯留された洗浄液に浸されるようになっている。洗浄部５２は、貯留部分５２ａに貯留された洗浄液にカップ外周筒５０が浸されることにより、このカップ外周筒５０の洗浄を行うようになっている。貯留部分５２ａに貯留される洗浄液としては、例えば室温以上の、好ましくは４０℃以上の、更に好ましくは６０℃以上の純水等が用いられる。貯留部分５２ａに貯留される洗浄液の温度が高い場合には、カップ外周筒５０に対する洗浄効果がより大きくなる。
【００５３】
図４に示すように、カップ外周筒５０が下方位置にあるときにはこのカップ外周筒５０の大部分が貯留部分５２ａに貯留された洗浄液に浸されるようになる。また、図５に示すように、カップ外周筒５０が上方位置にあるときにもこのカップ外周筒５０の下部が貯留部分５２ａに貯留された洗浄液に浸されるようになる。このため、カップ外周筒５０が上方位置にあるときには、貯留部分５２ａに貯留された洗浄液とカップ外周筒５０の下部との間で水シールを行うとともに、カップ外周筒５０の上部とガイド部材５１との間が狭くなるので、カップ外周筒５０内の領域を外部から隔離することができるようになる。
【００５４】
また、図４および図５に示すように、処理室２０内において、洗浄部５２の内側には処理室２０内の雰囲気の排気を行うための排気部５４が設けられており、また、洗浄部５２の外側には処理室２０内の雰囲気の排気を行うための排気部５６が設けられている。このような排気部５４および排気部５６が設けられていることにより、カップ外周筒５０が図４に示すような下方位置にあるときには、これらの排気部５４および排気部５６により処理室２０内全体の雰囲気の排気を行うことができる。一方、カップ外周筒５０が図５に示すような上方位置にあるときには、カップ外周筒５０内の領域が外部から隔離されるので、排気部５４によりカップ外周筒５０の内部の雰囲気の排気を行うことができ、また、排気部５６によりカップ外周筒５０の外側の雰囲気の排気を行うことができる。
【００５５】
前述のように、本実施の形態においては、１つの液処理装置１０に複数（具体的には例えば６つ）のノズル支持アーム８２が設けられており、各ノズル支持アーム８２の先端にノズル８２ａが設けられている。具体的には、各ノズル８２ａは、それぞれ、第１の薬液（具体的には、例えば酸性の薬液）、第２の薬液（具体的には、例えばアルカリ性の薬液）、純水、Ｎ２ガス、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、純水のミストをウエハＷの上面に供給するようになっている。
【００５６】
次に、処理室２０内において回転カップ４０の周囲に配設されたドレインカップ４２の構成の詳細について以下に説明する。図４および図５に示すように、ドレインカップ４２の上部には凹部４２ａが形成されている。このような凹部４２ａの構成の詳細について図７を参照して説明する。
【００５７】
図７に示すように、ドレインカップ４２の上部には、その内周縁４２ｃから外周縁４２ｄに向かって途中部分４２ｅまで高さレベルが徐々に小さくなるよう傾斜するような第１傾斜部分４２ａ１、および途中部分４２ｅから外周縁４２ｄまで高さレベルが徐々に大きくなるよう傾斜するような第２傾斜部分４２ａ２がそれぞれ形成されている。これらの第１傾斜部分４２ａ１および第２傾斜部分４２ａ２により凹部４２ａが構成されている。図７に示すようなドレインカップ４２では、内周縁４２ｃの高さレベルが外周縁４２ｄの高さレベルよりも大きくなっている。
【００５８】
また、ドレインカップ４２の上部に設けられた途中部分４２ｅには洗浄液供給管４９ａが接続されており、この洗浄液供給管４９ａには洗浄液供給部４９が接続されている。そして、洗浄液供給部４９から洗浄液供給管４９ａに洗浄液が供給されるようになっている。このことにより、洗浄液供給管４９ａから凹部４２ａ内に洗浄液が送られ、この凹部４２ａに洗浄液が貯留されるようになる。このようにして、洗浄液供給部４９からドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液によりドレインカップ４２の洗浄が行われる。本実施の形態では、洗浄液供給部４９および洗浄液供給管４９ａにより、ドレインカップ４２の洗浄を行うためのドレインカップ洗浄部が構成されている。ドレインカップ洗浄部によるドレインカップ４２の洗浄は例えば処理毎に、または一日一回、あるいは月に一回行われるようになっている。
【００５９】
また、洗浄液供給管４９ａには切替バルブ４９ｂが設けられており、この切替バルブ４９ｂにはドレインライン４９ｃが接続されている。そして、切替バルブ４９ｂによりドレインカップ４２の凹部４２ａとドレインライン４９ｃとを連通させることにより、凹部４２ａに残存する洗浄液をドレインライン４９ｃによりドレイン部４９ｄに排出することができるようになっている。
【００６０】
ここで、図７に示すようなドレインカップ４２では、その内周縁４２ｃの高さレベルが外周縁４２ｄの高さレベルよりも大きくなっているため、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液は、ドレインカップ４２の上部の外周縁４２ｄから外方に（図７における左方に）排出されるようになる。そして、ドレインカップ４２の上部の外周縁４２ｄから排出された洗浄液は、洗浄部５２の貯留部分５２ａに送られてこの貯留部分５２ａに貯留されるようになる。その後、貯留部分５２ａの側部に設けられたドレイン管５２ｃにより、貯留部分５２ａ内の洗浄液が装置外に排出される。
【００６１】
本実施の形態の液処理装置１０に設けられるドレインカップ４２は、図７に示すような構成のものに限定されることはない。ドレインカップ４２として、図８に示すような、その内周縁４２ｃの高さレベルが外周縁４２ｄの高さレベルよりも小さくなっているものを用いてもよい。この場合、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液は、ドレインカップ４２の上部の内周縁４２ｃから内方に（図８における右方に）排出される。この場合には、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液により、ドレインカップ４２の内周面４２ｆや回転カップ４０の洗浄を行うことができるようになる。ドレインカップ４２の内周面４２ｆや回転カップ４０に洗浄液が供給された後、回転カップ４０を回転させることにより、ドレインカップ４２の内周面４２ｆや回転カップ４０の乾燥が行われる。
【００６２】
また、ドレインカップ４２として、その内周縁４２ｃの高さレベルが外周縁４２ｄの高さレベルと略同一であるものを用いてもよい。この場合、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液は、ドレインカップ４２の上部の内周縁４２ｃおよび外周縁４２ｄの両方から排出されるようになる。
【００６３】
次に、このような構成からなる液処理装置１０の動作について説明する。
【００６４】
まず、保持部２１におけるリフトピンプレート２２および処理液供給管２８を図４に示す位置から上方に移動させることと、処理室２０の開口９４ａに設けられたシャッター９４をこの開口９４ａから退避させることにより開口９４ａを開くことを行う。そして、液処理装置１０の外部からウエハＷが搬送アーム１０４により開口９４ａを介して処理室２０内に搬送され、このウエハＷがリフトピンプレート２２のリフトピン２３上に載置され、その後、搬送アーム１０４は処理室２０から退避する。この際に、カップ外周筒５０は図４に示すような下方位置に位置している。また、各ノズル支持アーム８２は処理室２０から退避した退避位置に位置している。すなわち、各ノズル支持アーム８２はアーム待機部８０で待機している。また、ＦＦＵ７０から処理室２０内にクリーンエア等のガスが常にダウンフローで送られ、このガスが排気部５４により排気されることにより、処理室２０内の雰囲気の置換が行われるようになっている。
【００６５】
次に、リフトピンプレート２２および処理液供給管２８を下方に移動させ、これらのリフトピンプレート２２および処理液供給管２８を図４に示すような下方位置に位置させる。この際に、保持プレート２６に設けられた各保持部材２５が、リフトピン２３上のウエハＷを支持し、このウエハＷをリフトピン２３からわずかに離間させる。
【００６６】
その後に、またはリフトピンプレート２２の下降中に、カップ外周筒５０に設けられた駆動機構５０ｂにより、このカップ外周筒５０を上方に移動させ、カップ外周筒５０を図５に示すような上方位置に位置させる。そして、カップ外周筒５０が上方位置に移動した後、アーム待機部８０で待機している６つのノズル支持アーム８２のうち一または複数のノズル支持アーム８２が壁９０のアーム洗浄部８８の開口８８ｐおよびカップ外周筒５０の開口５０ｍを介して処理室２０内に進出する。この際に、アーム駆動機構（図示せず）によりノズル支持アーム８２は直線運動を行う。
【００６７】
次に、保持部２１における保持プレート２６およびリフトピンプレート２２を回転させる。このことにより、保持プレート２６の各保持部材２５により支持されているウエハＷも回転する。そして、ウエハＷが回転した状態で、処理室２０内に進出したノズル支持アーム８２のノズル８２ａからウエハＷの上面に処理液を供給する。また、この際に、ウエハＷの下面（裏面）に向かって処理液供給管２８から薬液や純水等の処理液を供給する。このようにして、ウエハＷの上面および下面の両方に処理液が供給され、ウエハＷの液処理が行われる。ウエハＷに供給された処理液は、この処理液の種類に基づいて、各案内カップ４３、４４、４５が上方位置または下方位置にそれぞれ位置することにより、４つの処理液回収用タンク４６ａ、４６ｂ、４６ｃ、４６ｄのうちいずれか一つの処理液回収用タンクに選択的に送られて回収される。
【００６８】
その後、ウエハＷの液処理が終了すると、処理室２０に進出したノズル支持アーム８２はこの処理室２０から退避してアーム待機部８０で待機するようになる。そして、カップ外周筒５０に設けられた駆動機構５０ｂにより、このカップ外周筒５０を下方に移動させ、カップ外周筒５０を図４に示すような下方位置に位置させる。
【００６９】
その後、保持部２１におけるリフトピンプレート２２および処理液供給管２８を図４に示す位置から上方に移動させる。この際に、保持プレート２６の保持部材２５により支持されたウエハＷがリフトピンプレート２２のリフトピン２３上に受け渡される。次に、処理室２０の開口９４ａに設けられたシャッター９４をこの開口９４ａから退避させることにより開口９４ａを開き、液処理装置１０の外部から開口９４ａを介して搬送アーム１０４を処理室２０内に進出させ、この搬送アーム１０４によりリフトピンプレート２２のリフトピン２３上のウエハＷを取り出す。搬送アーム１０４により取り出されたウエハＷは液処理装置１０の外部に搬送される。このようにして、一連のウエハＷの液処理が完了する。
【００７０】
また、洗浄液供給部４９からドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに洗浄液が供給されることにより、ドレインカップ４２の洗浄が行われる。このようなドレインカップ４２の洗浄は、ウエハＷに対する各処理後に行ってもよいし、あるいは定期的に行ってもよい。
【００７１】
ドレインカップ４２の洗浄が終了した後、ドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに残存する洗浄液は、切替バルブ４９ｂによりドレインカップ４２の凹部４２ａとドレインライン４９ｃとを連通させることにより、ドレインライン４９ｃによりドレイン部４９ｄに排出される。
【００７２】
以上のように本実施の形態の液処理装置１０によれば、処理室２０内において保持部２１の周囲にドレインカップ４２が配設されており、洗浄液供給部４９および洗浄液供給管４９ａからなるドレインカップ洗浄部によって、ドレインカップ４２の上部に洗浄液を供給することにより当該ドレインカップ４２の洗浄を行うようになっている。この際に、ドレインカップ４２の上部には凹部４２ａが形成されており、洗浄液供給部４９により、ドレインカップの上部の凹部４２ａに洗浄液を供給するようになっている。このことにより、ドレインカップの上部の凹部４２ａに洗浄液を貯留することができるようになり、この凹部４２ａに貯留された洗浄液によりドレインカップ４２の洗浄が行われる。このように、ドレインカップ４２の洗浄を行うことによって、ドレインカップ４２に付着した汚れにより処理室２０内のウエハＷが汚れてしまうことを防止することができる。
【００７３】
また、本実施の形態の液処理装置１０においては、ドレインカップ４２の上部は、その内周縁４２ｃから外周縁４２ｄに向かって途中部分４２ｅまでは高さレベルが小さくなるよう傾斜しており（第１傾斜部分４２ａ１）、その途中部分４２ｅから外周縁４２ｄまでは高さレベルが大きくなるよう傾斜しており（第２傾斜部分４２ａ２）、洗浄液供給部４９により、ドレインカップ４２の上部の途中部分４２ｅに洗浄液を供給するようになっている。この途中部分４２ｅはドレインカップ４２の凹部４２ａの底部に位置している。
【００７４】
また、本実施の形態の液処理装置１０においては、図７に示すように、ドレインカップ４２の上部は、その内周縁４２ｃの高さレベルがその外周縁４２ｄの高さレベルよりも大きくなっており、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液は、ドレインカップ４２の上部の外周縁４２ｄから排出されるようになっている。この場合、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部に供給された洗浄液は、カップ外周筒５０を洗浄するための洗浄部５２の貯留部分５２ａに排出されるようになる。このような液処理装置１０によれば、ウエハＷの処理に用いられる薬液等の処理液と、ドレインカップ４２の洗浄のための洗浄液とを分離することができ、これらの液体が処理室２０内で混じってしまうことを防止することができる。
【００７５】
あるいは、図８に示すように、ドレインカップ４２の上部は、その内周縁４２ｃの高さレベルがその外周縁４２ｄの高さレベルよりも小さくなっており、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液は、ドレインカップ４２の上部の内周縁４２ｃから排出されるようになっていてもよい。この場合には、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液により、ドレインカップ４２の内周面４２ｆや回転カップ４０の洗浄を行うことができるようになる。
【００７６】
また、本実施の形態の液処理装置１０においては、ドレインカップ４２、第１案内カップ４３、第２案内カップ４４および第３案内カップ４５は鉛直方向に重ねて配置されるよう複数設けられており、複数のカップのうち最上段にあるドレインカップ４２に洗浄液が送られてこのドレインカップ４２の洗浄が行われるようになっている。
【００７７】
なお、本実施の形態による液処理装置は、上記の態様に限定されるものではなく、様々の変更を加えることができる。例えば、処理室２０内に進出したノズル支持アーム８２のノズル８２ａおよび処理液供給管２８によりウエハＷの上面および下面の両方に処理液を供給する必要はなく、ノズル支持アーム８２のノズル８２ａによりウエハＷの上面のみに処理液を供給するようになっていてもよい。また、本実施の形態による液処理装置は、基板の洗浄処理以外に、エッチング処理、メッキ処理、現像処理等の処理にも用いることができる。
【００７８】
第２の実施の形態
次に図１１および図１２により本発明の第２の実施の形態について説明する。図１１および図１２に示す第２の実施の形態は、回転カップ４０およびドレインカップ４２からなるドレインカップ４２の洗浄構造が異なるのみであり、他の構成は図１乃至図８に示す第１の実施の形態と略同一である。
【００７９】
図１１および図１２において、図１乃至図８に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００８０】
図１１に示すように、ドレインカップ４２の上部には、その内周縁４２ｃから外周縁４２ｄに向かって途中部分４２ｅまで高さレベルが徐々に小さくなるよう傾斜するような第１傾斜部分４２ａ１、および途中部分４２ｅから外周縁４２ｄまで高さレベルが徐々に大きくなるよう傾斜するような第２傾斜部分４２ａ２がそれぞれ形成されている。これらの第１傾斜部分４２ａ１および第２傾斜部分４２ａ２により凹部４２ａが構成されている。図１１に示すようなドレインカップ４２では、内周縁４２ｃの高さレベルが外周縁４２ｄの高さレベルよりも大きくなっている。
【００８１】
また、ドレインカップ４２の上方にはノズル支持アーム８２が進退自在に配置され、ノズル支持アーム８２の先端に取付けられたノズル８２ａからドレインカップ４２の上部の凹部の４２ａに純水（洗浄液）が上方から供給されるようになっている。
【００８２】
ドレインカップ４２の凹部４２ａに純水を供給するノズル支持アーム８２としては、図２に示す６本のノズル支持アーム８２のいずれか一つが用いられる。そしてノズル支持アーム８２の先端に設けられたノズル８２ａからドレインカップ４２の凹部４２ａ内に洗浄液が供給され、この凹部４２ａに洗浄液が供給され、この凹部４２ａに洗浄液が貯留される。このようにして、ノズル支持アーム８２のノズル８２ａからドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液によりドレインカップ４２の洗浄が行われる。本実施の形態では、ノズル８２ａを有するノズル支持アーム８２により、ドレインカップ４２の洗浄を行うためのドレインカップ洗浄部が構成されている。ドレインカップ洗浄部によるドレインカップ４２の洗浄はウエハＷに対する各処理毎に行なってもよいし、あるいは定期的に行なってもよい（例えば、一日に一回、あるいは一月に一回等自由に設定できる）。
【００８３】
また、ドレインカップ４２の凹部４２ａの途中部分４２ｅには洗浄液排出管４９ｅが設けられ、洗浄液排出管４９ｅには開閉バルブ４９ｆが設けられており、この開閉バルブ４９ｆにはドレインライン４９ｇが接続されている。そして、開閉バルブ４９ｅによりドレインカップ４２の凹部４２ａとドレインライン４９ｇとを連通させることにより、凹部４２ａに残存する洗浄液をドレインライン４９ｇによりドレイン部４９ｉに排出することができるようになっている。
【００８４】
ここで、図１１に示すようなドレインカップ４２では、その内周縁４２ｃの高さレベルが外周縁４２ｄの高さレベルよりも大きくなっているため、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液は、ドレインカップ４２の上部の外周縁４２ｄから外方に（図１１における左方に）排出されるようになる。そして、ドレインカップ４２の上部の外周縁４２ｄから排出された洗浄液は、洗浄部５２の貯留部分５２ａに送られてこの貯留部分５２ａに貯留されるようになる。その後、貯留部分５２ａの側部に設けられたドレイン管５２ｃにより、貯留部分５２ａ内の洗浄液が装置外に排出される。
【００８５】
ところで、上述のようにドレインカップ４２の内側には、ウエハＷを保持する保持部２１とともに回転する回転カップ４０が設けられている。
【００８６】
この回転カップ４０の外周は、ドレインカップ４２の内周縁４２ｃよりわずかに上方に位置しており、この回転カップ４０の外周には外方へ突出するとともに円周状に延びる円周突起４０ａが設けられている。
【００８７】
この円周突起４０ａは回転カップ４０の回転に伴って回転カップ４０の外周に旋回空気流を生じさせる。この回転カップ４０の回転により生じる旋回空気流はドレインカップ４２側へ送られ、後述のようにドレインカップ４２の凹部４２ａに供給された洗浄液を撹拌し、かつ凹部４２ａの全周に行き渡らせるよう機能する。
【００８８】
本実施の形態の液処理装置１０に設けられるドレインカップ４２は、図１１に示すような構成のものに限定されることはない。ドレインカップ４２として、図１２に示すような、その内周縁４２ｃの高さレベルが外周縁４２ｄの高さレベルよりも小さくなっているものを用いてもよい。この場合、ノズル支持アーム８２ノズル８２ａによりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液は、ドレインカップ４２の上部の内周縁４２ｃから内方に（図１２における右方に）排出される。この場合には、ノズル支持アーム８２のノズル８２ａによりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液により、ドレインカップ４２の内周面４２ｆや回転カップ４０の洗浄を行うことができるようになる。
【００８９】
また、ドレインカップ４２として、その内周縁４２ｃの高さレベルが外周縁４２ｄの高さレベルと略同一であるものを用いてもよい。この場合、ドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液は、ドレインカップ４２の上部の内周縁４２ｃおよび外周縁４２ｄの両方から排出されるようになる。
【００９０】
次にドレインカップ４２の洗浄工程について、図１１および図１２により説明する。
【００９１】
図１１および図１２において、一連のウエハＷの液処理工程が終了し、搬送アーム１０４によりウエハＷが液処理装置１０の外部へ搬送された後、ドレインカップ４２の洗浄工程が行われる。
【００９２】
なお、洗浄水をノズル８２ａからドレインカップ４２の上部に供給した例を示したが、これに限らずドレインカップ４２の上部にノズル８２ａから洗浄水を供給するとともに、ドレインカップ４２の下方から洗浄液供給部４９から洗浄液を供給してもよい。また、所定時間毎に回転カップ４０の回転方向を変えることにより、ドレインカップ４２を効果的に洗浄することができ、かつドレインカップ４２の内周面４２ｆおよび回転カップ４０も効果的に洗浄することができる。
【符号の説明】
【００９３】
１０ 液処理装置
２０ 処理室
２１ 保持部
２２ リフトピンプレート
２３ リフトピン
２４ ピストン機構
２５ 保持部材
２５ａ 軸
２５ｂ 支持部分
２５ｃ 被押圧部材
２５ｄ バネ部材
２６ 保持プレート
２６ａ 軸受け部
２６ｂ 軸受け孔
２６ｃ 内面壁
２８ 処理液供給管
２８ａ ヘッド部分
２９ 処理液供給部
４０ 回転カップ
４０ａ 円周突起
４２ ドレインカップ
４２ａ 凹部
４２ａ１ 第１傾斜部分
４２ａ２ 第２傾斜部分
４２ｃ 内周縁
４２ｄ 外周縁
４２ｅ 途中部分
４２ｆ 内周面
４３ 第１案内カップ
４４ 第２案内カップ
４５ 第３案内カップ
４６ａ 第１処理液回収用タンク
４６ｂ 第２処理液回収用タンク
４６ｃ 第３処理液回収用タンク
４６ｄ 第４処理液回収用タンク
４８ 排気部
４９ 洗浄液供給部
４９ａ 洗浄液供給管
４９ｂ 切替バルブ
４９ｃ ドレインライン
４９ｄ ドレイン部
５０ カップ外周筒
５０ａ 支持部材
５０ｂ 駆動機構
５０ｍ 開口
５１ ガイド部材
５２ 洗浄部
５２ａ 貯留部分
５２ｃ ドレイン管
５４ 排気部
５６ 排気部
５８ 排気部
６０ シャッター
６２ シャッター
７０ ＦＦＵ
８０ アーム待機部
８２ ノズル支持アーム
８２ａ ノズル
８２ｍ 表面処理液供給管
８４ アーム支持部
８８ アーム洗浄部
８８ｐ 開口
８９ 表面処理液供給部
９０ 壁
９４ シャッター
９４ａ 開口
１０１ 載置台
１０２ 搬送アーム
１０３ 棚ユニット
１０４ 搬送アーム
２００ 液処理装置
２１０ 処理室
２２０ 保持部
２３０ カップ
２４０ ノズル
２４１ アーム
２４２ アーム支持部
２５０ ＦＦＵ
２６０ 排気部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を水平状態に保持した状態で回転させながら当該基板に処理液を供給することにより基板の洗浄処理やエッチング処理、メッキ処理、現像処理等の液処理を行う液処理装置および液処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、半導体ウエハ等の基板（以下、ウエハともいう）を水平状態に保持した状態で回転させながら当該基板の表面や裏面に処理液を供給することにより基板の洗浄処理やエッチング処理、メッキ処理、現像処理等の液処理を行う液処理装置として、様々な種類のものが知られている（例えば、特許文献１等参照）。特許文献１には、基板をスピンチャックにより水平に保持して回転させ、スピンチャックにより保持されて回転する基板の表面に処理液を供給するような、基板を１枚ずつ処理する枚葉式の液処理装置が開示されている。また、このような枚葉式の液処理装置において、処理室の上方にＦＦＵ（ファンフィルタユニット）を設け、このＦＦＵからＮ２ガス（窒素ガス）やクリーンエア等のガスをダウンフローで処理室内に送るような技術が知られている。
【０００３】
処理室の上方にＦＦＵが設けられた液処理装置の構成について図９および図１０を用いて説明する。図９は、従来の液処理装置の概略的な構成を示す側面図であり、図１０は、図９に示す従来の液処理装置の上面図である。図９および図１０に示すように、従来の液処理装置２００は、ウエハＷが収容され、この収容されたウエハＷの液処理が行われる処理室（チャンバー）２１０を備えている。図９および図１０に示すように、処理室２１０内には、ウエハＷを保持して回転させるための保持部２２０が設けられており、この保持部２２０の周囲にはカップ２３０が配設されている。また、従来の液処理装置２００では、保持部２２０に保持されたウエハＷに対してカップ２３０の上方から処理液を供給するためのノズル２４０およびこのノズル２４０を支持するアーム２４１が処理室２１０内に設けられている。また、アーム２４１には略鉛直方向に延びるアーム支持部２４２が設けられており、このアーム支持部２４２によりアーム２４１が支持されている。そして、アーム支持部２４２は図示しない駆動機構により正逆両方向に回転駆動させられるようになっている。このことにより、アーム２４１はアーム支持部２４２を中心として正逆両方向に回転可能となり、このアーム２４１は、保持部２２０により保持されたウエハＷに処理液を供給する進出位置（図１０の実線参照）とカップ２３０から退避した退避位置（図１０の二点鎖線参照）との間でアーム支持部２４２を中心として回転移動を行うようになる（図１０の矢印参照）。
【０００４】
また、図９に示すように、処理室２１０の上方にはＦＦＵ（ファンフィルタユニット）２５０が設けられており、このＦＦＵ２５０からＮ２ガス（窒素ガス）やクリーンエア等のガスが常にダウンフローで処理室２１０内に送られるようになっている。また、処理室２１０の底部には排気部２６０が設けられており、この排気部２６０により処理室２１０内の雰囲気の排気が行われるようになっている。このように、ＦＦＵ２５０から処理室２１０内にクリーンエア等のガスがダウンフローで送られ、このガスが排気部２６０により排気されることにより、処理室２１０内の雰囲気の置換が行われるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−９４５２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
図９および図１０に示すような従来の液処理装置２００では、処理室２１０内でウエハＷの液処理を行う際に薬液等が飛散してしまい、処理室２１０内においてカップ２３０の上部に薬液等が付着して残存してしまうおそれがある。この場合、その後のウエハＷの処理においてこの残存した薬液の雰囲気によりウエハＷが汚れてしまう等の悪影響を与えてしまうおそれがある。
【０００７】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、カップの洗浄を行うことによって、カップに付着した汚れにより処理室内の基板が汚れてしまうことを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の液処理装置は、基板を保持する基板保持部および当該基板保持部の周囲に配設されるカップが内部に設けられた処理室と、前記基板保持部に保持された基板に対して処理液を供給するためのノズルと、前記カップの上部に洗浄液を供給することにより当該カップの洗浄を行うカップ洗浄部と、を備え、前記カップの上部には凹部が形成されており、前記カップ洗浄部は、前記カップの上部の前記凹部に洗浄液を供給するようになっていることを特徴とする。
【０００９】
本発明の液処理方法は、処理室の内部に設けられた基板保持部により基板を水平状態に保持させる工程と、前記基板保持部により基板を回転させ、前記処理室内に進出したノズル支持アームのノズルにより、前記基板保持部により保持されて回転する基板に処理液を供給する工程と、前記処理室内においてカップの上部に形成された凹部に洗浄液を供給することにより当該カップの洗浄を行う工程と、を備えたことを特徴とする。
【００１０】
このような液処理装置および液処理方法によれば、カップの洗浄を行うことによって、カップに付着した汚れにより処理室内の基板が汚れてしまうことを防止することができる。
【００１１】
本発明の液処理装置においては、前記カップの上部は、その内周縁から外周縁に向かって途中部分までは高さレベルが小さくなるよう傾斜しており、その途中部分から外周縁までは高さレベルが大きくなるよう傾斜しており、前記カップ洗浄部は、前記カップの上部の前記途中部分に洗浄液を供給するようになっていてもよい。
【００１２】
本発明の液処理装置においては、前記カップの上部は、その内周縁の高さレベルがその外周縁の高さレベルよりも大きくなっており、前記カップ洗浄部により前記カップの上部の前記凹部に供給された洗浄液は、前記カップの上部の外周縁から排出されるようになっていてもよい。
【００１３】
あるいは、前記カップの上部は、その内周縁の高さレベルがその外周縁の高さレベルよりも小さくなっており、前記カップ洗浄部により前記カップの上部の前記凹部に供給された洗浄液は、前記カップの上部の内周縁から排出されるようになっていてもよい。
【００１４】
本発明の液処理装置においては、前記カップは鉛直方向に重ねて配置されるよう複数設けられており、前記カップ洗浄部は、前記複数のカップのうち最上段のカップの洗浄を行うようになっていてもよい。
【００１５】
本発明の液処理装置においては、前記カップの内側に、基板を保持する前記基板保持部とともに回転する回転カップが設けられ、当該回転カップの回転に伴って生じる旋回空気流により前記カップの上部の前記凹部全域に洗浄液を行き渡らせてもよい。
【００１６】
本発明の液処理装置においては、前記カップ洗浄部は、前記カップの上部の前記凹部に洗浄液を上方から供給する洗浄液供給ノズルを有していてもよい。
【００１７】
本発明の液処理装置においては、前記回転カップの外周に外方へ突出するとともに円周状に延びる円周突起が設けられ、前記回転カップの円周突起により旋回空気流を生じさせてもよい。
【００１８】
本発明の液処理方法においては、前記カップの上部は、その内周縁の高さレベルがその外周縁の高さレベルよりも小さくなっており、前記カップの洗浄を行う工程において、前記カップの上部の前記凹部に供給された洗浄液は、前記カップの上部の内周縁から排出され、この排出された洗浄液により前記カップの内周面の洗浄が行われるようになっていてもよい。
【００１９】
あるいは、前記カップの上部は、その内周縁の高さレベルがその外周縁の高さレベルよりも大きくなっており、前記カップの洗浄を行う工程において、前記カップの上部の前記凹部に供給された洗浄液は、前記カップの上部の外周縁から排出されるようになっていてもよい。
【００２０】
本発明の液処理方法においては、前記カップの内側に、基板を保持する前記基板保持部とともに回転する回転カップが設けられ、前記カップの洗浄工程において、前記回転カップの回転に伴って生じる旋回空気流により前記カップの上部の前記凹部全域に洗浄液を行き渡らせてもよい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の液処理装置および液処理方法によれば、カップに付着した汚れにより処理室内の基板が汚れてしまうことを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１の実施の形態による液処理装置を含む液処理システムを上方から見た上面図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態による液処理装置の概略的な構成を示す上面図である。
【図３】図２に示す液処理装置の側面図である。
【図４】図２に示す液処理装置の構成の詳細を示す縦断面図であって、カップ外周筒が下方位置にあるときの状態を示す図である。
【図５】図２に示す液処理装置の構成の詳細を示す縦断面図であって、カップ外周筒が上方位置にあるときの状態を示す図である。
【図６Ａ】（ａ）は、図４等に示す液処理装置における保持プレートに設けられた保持部材の構成を示す拡大縦断面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す状態からリフトピンプレートが下方に移動したときの状態を示す拡大縦断面図であり、（ｃ）は、（ｂ）に示す状態からリフトピンプレートが更に下方に移動したときの状態を示す拡大縦断面図である。
【図６Ｂ】図４等に示す液処理装置におけるカップ外周筒の構成を示す斜視図である。
【図７】図４等に示す液処理装置のドレインカップの構成の詳細を示す側断面図である。
【図８】図４等に示す液処理装置のドレインカップの他の構成の詳細を示す側断面図である。
【図９】従来の液処理装置の概略的な構成を示す側面図である。
【図１０】図９に示す従来の液処理装置の上面図である。
【図１１】本発明の第２の実施の実施の形態における液処理装置のドレインカップの構成の詳細を示す側断面図である。
【図１２】ドレインカップの他の構成の詳細を示す側断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
第１の実施の形態
以下、図面を参照して本発明の第１の実施の形態について説明する。図１乃至図８は、本実施の形態による液処理装置を示す図である。より詳細には、図１は、本発明の実施の形態による液処理装置を含む液処理システムを上方から見た上面図である。また、図２は、本発明の実施の形態による液処理装置の概略的な構成を示す上面図であり、図３は、図２に示す液処理装置の概略的な構成を示す側面図である。また、図４および図５は、図２に示す液処理装置の構成の詳細を示す縦断面図である。また、図６Ａは、図４等に示す液処理装置における保持プレートに設けられた保持部材の構成を示す拡大縦断面図であり、図６Ｂは、図４等に示す液処理装置におけるカップ外周筒の構成を示す斜視図である。また、図７および図８は、図４等に示す液処理装置のドレインカップの構成の詳細を示す側断面図である。
【００２４】
まず、図１を用いて、本実施の形態による液処理装置を含む液処理システムについて説明する。図１に示すように、液処理システムは、外部から被処理基板としての半導体ウエハ等の基板Ｗ（以下、ウエハＷともいう）を収容したキャリアを載置するための載置台１０１と、キャリアに収容されたウエハＷを取り出すための搬送アーム１０２と、搬送アーム１０２によって取り出されたウエハＷを載置するための棚ユニット１０３と、棚ユニット１０３に載置されたウエハＷを受け取り、当該ウエハＷを液処理装置１０内に搬送する搬送アーム１０４と、を備えている。図１に示すように、液処理システムには、複数（図１に示す態様では４個）の液処理装置１０が設けられている。
【００２５】
次に、本実施の形態による液処理装置１０の概略的な構成について図２および図３を用いて説明する。
【００２６】
図２および図３に示すように、本実施の形態による液処理装置１０は、ウエハＷが収容され、この収容されたウエハＷの液処理が行われる処理室（チャンバー）２０を備えている。図３に示すように、処理室２０内には、ウエハＷを水平状態で保持して回転させるための保持部２１が設けられており、この保持部２１の周囲にはリング状の回転カップ４０が配設されている。また、図２および図３に示すように、処理室２０内において回転カップ４０の周囲には円筒状のカップ外周筒５０が配設されている。後述するように、このカップ外周筒５０はウエハＷの処理状況に応じて昇降可能となっている。これらの保持部２１、回転カップ４０およびカップ外周筒５０の構成の詳細については後述する。
【００２７】
また、液処理装置１０には、保持部２１に保持されたウエハＷに対してウエハＷの上方から処理液やＮ２ガス等の流体を供給するためのノズル８２ａおよびこのノズル８２ａを支持するノズル支持アーム８２が設けられている。図２に示すように、１つの液処理装置１０には複数（具体的には例えば６つ）のノズル支持アーム８２が設けられており、各ノズル支持アーム８２の先端にノズル８２ａが設けられている。また、図３に示すように、各ノズル支持アーム８２にはアーム支持部８４が設けられており、各アーム支持部８４はアーム駆動機構（図示せず）によって図３における左右方向に駆動されるようになっている。このことにより、各ノズル支持アーム８２は、ノズル８２ａが処理室２０内に進出した進出位置と、ノズル８２ａが処理室２０から退避した退避位置との間で水平方向に直線運動を行うようになっている（図２および図３における各ノズル支持アーム８２に設けられた矢印参照）。また、図３に示すように、各ノズル支持アーム８２には表面処理液供給管８２ｍが設けられており、各表面処理液供給管８２ｍは表面処理液供給部８９に接続されている。そして、表面処理液供給部８９から各表面処理液供給管８２ｍを介して各ノズル支持アーム８２のノズル８２ａに処理液やＮ２ガス等の流体が供給されるようになっている。
【００２８】
図２および図３に示すように、液処理装置１０において、アーム待機部８０が処理室２０に隣接して設けられている。このアーム待機部８０において、処理室２０から退避したノズル支持アーム８２が待機するようになっている。また、アーム待機部８０と処理室２０との間には鉛直方向に延びる壁９０が設けられている。この壁９０は、各ノズル支持アーム８２が通過可能な開口８８ｐが設けられたアーム洗浄部８８を有している。このアーム洗浄部８８により各ノズル支持アーム８２の洗浄が行われるようになっている。
【００２９】
また、図３に示すように、処理室２０の上方にはＦＦＵ（ファンフィルタユニット）７０が設けられており、このＦＦＵ７０からＮ２ガス（窒素ガス）やクリーンエア等のガスがダウンフローで処理室２０内に送られるようになっている。また、図２および図３に示すように、処理室２０の底部におけるカップ外周筒５０の内側には排気部５４が設けられており、この排気部５４により処理室２０内の雰囲気の排気が行われるようになっている。このように、ＦＦＵ７０から処理室２０内にクリーンエア等のガスがダウンフローで送られ、このガスが排気部５４により排気されることにより、処理室２０内の雰囲気の置換が行われるようになっている。
【００３０】
また、図２および図３に示すように、処理室２０の底部におけるカップ外周筒５０の外側には排気部５６が設けられており、この排気部５６により処理室２０内の雰囲気の排気が行われるようになっている。この排気部５６により、処理室２０内におけるカップ外周筒５０の外側の雰囲気の排気を行うことができるようになっている。具体的には、排気部５６により、アーム待機部８０内の雰囲気がカップ外周筒５０内に入り込むことが抑止される。また、この排気部５６により、カップ外周筒５０内の雰囲気がアーム待機部８０に出てしまうことが抑止される。
【００３１】
また、図２および図３に示すように、アーム待機部８０の底部には排気部５８が設けられており、この排気部５８によりアーム待機部８０内の雰囲気の排気が行われるようになっている。具体的には、各ノズル支持アーム８２を駆動するためのアーム駆動機構（図示せず）から発生するパーティクルを排気部５８により引くことができるようになっている。
【００３２】
また、図２に示すように、液処理装置１０の処理室２０およびアーム待機部８０の出入口にはそれぞれメンテナンス用のシャッター６０、６２が設けられている。処理室２０およびアーム待機部８０にそれぞれメンテナンス用のシャッター６０、６２が設けられていることにより、これらの処理室２０内やアーム待機部８０内の機器を個別にメンテナンスすることができる。また、処理室２０内でウエハＷを処理している最中でも、シャッター６２を開くことによりアーム待機部８０内の機器をメンテナンスすることができるようになる。
【００３３】
また、図２に示すように、液処理装置１０の側壁には、搬送アーム１０４により処理室２０内へウエハＷを搬入したり処理室２０からウエハＷを搬出したりするための開口９４ａが設けられており、この開口９４ａには、当該開口９４ａを開閉するためのシャッター９４が設けられている。
【００３４】
なお、図２に示す液処理装置１０において、処理室２０内におけるカップ外周筒５０の内部の領域はクリーンルームに対して微陽圧となっており、一方、処理室２０内におけるカップ外周筒５０の外側の領域はクリーンルームに対して微陰圧となっている。このため、処理室２０内において、カップ外周筒５０の内部の領域の気圧はカップ外周筒５０の外側の領域の気圧よりも大きくなっている。
【００３５】
次に、図２および図３に示すような液処理装置１０の構成の詳細について図４および図５を用いて説明する。
【００３６】
図４および図５に示すように、保持部２１は、ウエハＷを保持するための円板形状の保持プレート２６と、保持プレート２６の上方に設けられた円板形状のリフトピンプレート２２とを備えている。リフトピンプレート２２の上面には、ウエハＷを下方から支持するためのリフトピン２３が周方向に等間隔で３つ設けられている。なお、図４および図５では２つのリフトピン２３のみを表示している。また、リフトピンプレート２２にはピストン機構２４が設けられており、このピストン機構２４によりリフトピンプレート２２が昇降するようになっている。より具体的には、搬送アーム１０４（図１参照）によりウエハＷをリフトピン２３上に載置したりリフトピン２３上からウエハＷを取り出したりするときには、ピストン機構２４によりリフトピンプレート２２が図４等に示すような位置から上方に移動させられ、このリフトピンプレート２２は回転カップ４０よりも上方に位置するようになる。一方、処理室２０内でウエハＷの液処理を行う際には、ピストン機構２４によりリフトピンプレート２２が図４等に示すような下方位置に移動させられ、ウエハＷの周囲に回転カップ４０が位置するようになる。
【００３７】
保持プレート２６には、ウエハＷを側方から支持するための保持部材２５が周方向に等間隔で３つ設けられている。なお、図４および図５では２つの保持部材２５のみを表示している。各保持部材２５は、リフトピンプレート２２が上方位置から図４および図５に示すような下方位置に移動したときにこのリフトピン２３上のウエハＷを支持し、このウエハＷをリフトピン２３からわずかに離間させるようになっている。
【００３８】
リフトピンプレート２２および保持プレート２６の構成について、図６Ａを用いてより詳細に説明する。図６Ａにおいて、（ａ）は、リフトピンプレート２２が上方位置から図４等に示すような下方位置に移動する途中での状態を示す図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す状態からリフトピンプレート２２が下方に移動したときの状態を示す図であり、（ｃ）は、（ｂ）に示す状態からリフトピンプレート２２が更に下方に移動し、リフトピンプレート２２が図４等に示すような下方位置に到達したときの状態を示す図である。
【００３９】
図６Ａに示すように、保持部材２５は軸２５ａを介して保持プレート２６に軸支されている。より詳細には、図６Ａに示すように、保持プレート２６には軸受け部２６ａが取り付けられており、この軸受け部２６ａに設けられた軸受け孔２６ｂに軸２５ａが受け入れられる。軸受け孔２６ｂは水平方向に延びるような細長い孔からなり、保持部材２５の軸２５ａはこの軸受け孔２６ｂに沿って水平方向に移動することができる。このようにして、保持部材２５は、軸受け部２６ａの軸受け孔２６ｂに受け入れられた軸２５ａを中心として揺動することができる。
【００４０】
保持部材２５の軸２５ａには、ねじりバネ等のバネ部材２５ｄが巻き掛けられている。このバネ部材２５ｄは、軸２５ａを中心として保持部材２５を図６Ａにおける時計回りの方向に回転させるような力を保持部材２５に付勢するようになっている。これにより、保持部材２５に何ら力が加えられていない場合には、保持部材２５が保持プレート２６に対して傾斜した状態となり、保持部材２５におけるウエハＷを側方から支持するための支持部分２５ｂ（後述）は保持プレート２６の中心から遠ざかった状態となる。
【００４１】
また、軸２５ａに巻き掛けられたバネ部材２５ｄからは線状部分が伸び出しており、この線状部分は軸受け部２６ａの内壁面２６ｃに係止されて、軸２５ａを保持プレート２６の中心に向かって押し返す。このように、バネ部材２５ｄの線状部分により、軸２５ａは保持プレート２６の中心に向かって（すなわち、図６Ａにおける左方向に向かって）常時押圧される。このため、比較的径が小さなウエハＷが保持部材２５により保持される場合には、軸２５ａは、図６Ａに示すように、軸受け孔２６ｂにおける保持プレート２６の中心に近い位置（すなわち、図６Ａにおける左側の位置）に位置する。一方、比較的径が大きなウエハＷが保持部材２５により支持される場合には、バネ部材２５ｄの線状部分による力に抗して、軸２５ａは軸受け孔２６ｂに沿って図６Ａに示す位置から右方向に移動する。なお、ここでのウエハＷの径の大小とは、許容寸法誤差内でのウエハＷの径の大小を意味している。
【００４２】
また、保持部材２５は、ウエハＷを側方から支持する支持部分２５ｂと、軸２５ａに関して支持部分２５ｂと反対側に設けられた被押圧部材２５ｃとを有している。被押圧部材２５ｃは、リフトピンプレート２２と保持プレート２６との間に設けられており、この被押圧部材２５ｃは、図６Ａに示すようにリフトピンプレート２２が下方位置またはその近傍位置にあるときに当該リフトピンプレート２２の下面により下方に向かって押圧される。
【００４３】
図６Ａに示すように、保持部材２５は、リフトピンプレート２２が上方位置から下方位置に移動したときに、当該リフトピンプレート２２の下面により被押圧部材２５ｃが下方に押圧されることにより軸２５ａを中心として図６Ａにおける反時計回りの方向（図６Ａにおける矢印方向）に回転する。そして、保持部材２５が軸２５ａを中心として回転することにより、支持部分２５ｂがウエハＷに向かって当該ウエハＷの側方から移動する。これにより、リフトピンプレート２２が下方位置に到達したときに、図６Ａ（ｃ）に示すように、ウエハＷが保持部材２５により側方から支持される。ここで、図６Ａ（ｃ）に示すように、ウエハＷが保持部材２５により側方から支持されたときに、このウエハＷはリフトピン２３の先端から上方に離間し、リフトピン２３から上方に浮いた状態となる。また、前述のように、ウエハＷの大きさによっては、バネ部材２５ｄの線状部分による力に抗して軸２５ａが軸受け孔２６ｂに沿って図６Ａに示す位置から右方向に移動する場合もある。このため、比較的大きなウエハＷが保持部材２５により支持される場合であっても、保持部材２５が水平方向に移動可能となっているので、ウエハＷを変形させたり破損させたりすることなくウエハＷを側方から支持することができる。
【００４４】
また、リフトピンプレート２２および保持プレート２６の中心部分にはそれぞれ貫通穴が形成されており、これらの貫通穴を通るよう処理液供給管２８が設けられている。この処理液供給管２８は、保持プレート２６の各保持部材２５により保持されたウエハＷの裏面に薬液や純水等の処理液を供給するようになっている。また、処理液供給管２８はリフトピンプレート２２と連動して昇降するようになっている。処理液供給管２８の上端には、リフトピンプレート２２の貫通穴を塞ぐよう設けられたヘッド部分２８ａが形成されている。また、図４等に示すように、処理液供給管２８には処理液供給部２９が接続されており、この処理液供給部２９により処理液供給管２８に処理液が供給されるようになっている。
【００４５】
図４および図５に示すように、保持部２１の周囲にはリング状の回転カップ４０が配設されている。この回転カップ４０は保持プレート２６に取り付けられており、保持プレート２６と一体的に回転するようになっている。より詳細には、回転カップ４０は、保持プレート２６の各保持部材２５により支持されたウエハＷを側方から囲うよう設けられており、ウエハＷの液処理を行う際にこのウエハＷから側方に飛散した処理液を受けるようになっている。
【００４６】
また、回転カップ４０の周囲には、ドレインカップ４２、第１案内カップ４３、第２案内カップ４４および第３案内カップ４５が上方から順に設けられている。ドレインカップ４２および各案内カップ４３、４４、４５はそれぞれリング状に形成されている。ここで、ドレインカップ４２は処理室２０において固定されている。一方、各案内カップ４３、４４、４５にはそれぞれ昇降シリンダ（図示せず）が連結されており、これらの案内カップ４３、４４、４５は対応する昇降シリンダにより互いに独立して昇降自在となっている。
【００４７】
図４および図５に示すように、ドレインカップ４２や各案内カップ４３、４４、４５の下方には、第１処理液回収用タンク４６ａ、第２処理液回収用タンク４６ｂ、第３処理液回収用タンク４６ｃおよび第４処理液回収用タンク４６ｄがそれぞれ設けられている。そして、各案内カップ４３、４４、４５の上下方向における位置により、ウエハＷの液処理を行う際にこのウエハＷから側方に飛散した処理液が、この処理液の種類に基づいて、４つの処理液回収用タンク４６ａ、４６ｂ、４６ｃ、４６ｄのうちいずれか一つの処理液回収用タンクに選択的に送られるようになっている。具体的には、全ての案内カップ４３、４４、４５が全て上方位置にあるときには（図４および図５に示すような状態）、ウエハＷから側方に飛散した処理液は第４処理液回収用タンク４６ｄに送られるようになっている。一方、第３案内カップ４５のみが下方位置にあるときには、ウエハＷから側方に飛散した処理液は第３処理液回収用タンク４６ｃに送られるようになっている。また、第２案内カップ４４および第３案内カップ４５が下方位置にあるときには、ウエハＷから側方に飛散した処理液は第２処理液回収用タンク４６ｂに送られるようになっている。また、全ての案内カップ４３、４４、４５が下方位置にあるときには、ウエハＷから側方に飛散した処理液は第１処理液回収用タンク４６ａに送られるようになっている。
【００４８】
また、図４および図５に示すように、第４処理液回収用タンク４６ｄの内側には排気部４８が設けられている。そして、各案内カップ４３、４４、４５の上下方向における位置が所定の位置となることにより、ウエハＷの周囲の雰囲気が、排気部４８により排気されるようになっている。
【００４９】
また、本実施の形態の液処理装置１０においては、処理室２０内においてドレインカップ４２や各案内カップ４３、４４、４５の周囲にカップ外周筒５０が設けられている。このカップ外周筒５０は、図４に示すような下方位置と図５に示すような上方位置との間で昇降可能となっている。また、図２および図３に示すように、カップ外周筒５０には、ノズル支持アーム８２が通過可能な開口５０ｍが設けられている。カップ外周筒５０は、図５に示すような上方位置にあるときに、カップ外周筒５０内の領域を外部に対して隔離するようになっている。
【００５０】
このようなカップ外周筒５０の構成の詳細について図６Ｂを用いて説明する。図６Ｂは、カップ外周筒５０の構成を示す斜視図である。図６Ｂに示すように、カップ外周筒５０の側面には、ノズル支持アーム８２が通過可能な開口５０ｍが、ノズル支持アーム８２の本数に応じて設けられている（例えばノズル支持アーム８２が６本の場合、６つの開口５０ｍが設けられる）。また、カップ外周筒５０の上部には、このカップ外周筒５０を支持するための支持部材５０ａが連結されており、支持部材５０ａには当該支持部材５０ａを昇降させる駆動機構５０ｂが設けられている。そして、駆動機構５０ｂにより支持部材５０ａを昇降させることにより、この支持部材５０ａに支持されるカップ外周筒５０も昇降するようになっている。
【００５１】
また、図４および図５に示すように、ＦＦＵ７０にはガイド部材５１が取り付けられている。このガイド部材５１は、図５に示すようにカップ外周筒５０が上方位置にあるときに、このカップ外周筒５０から内側にわずかに距離を隔てて位置するよう配置されている。また、本実施の形態の液処理装置１０においては、図５に示すようにカップ外周筒５０が上方位置にあるときには、カップ外周筒５０内の気圧はカップ外周筒５０の外側の気圧よりも大きくなるようになっている。このため、カップ外周筒５０が上方位置にあるときには、ＦＦＵ７０により生じる処理室２０内のダウンフローのガスが、ガイド部材５１によりカップ外周筒５０の上端近傍において当該カップ外周筒５０の内側から外側に案内されるようになっている。
【００５２】
また、図４および図５に示すように、処理室２０内には、カップ外周筒５０を洗浄するための洗浄部５２が設けられている。この洗浄部５２は、純水等の洗浄液を貯留するための貯留部分５２ａを有しており、図４に示すようにカップ外周筒５０が下方位置にあるときにこのカップ外周筒５０が貯留部分５２ａに貯留された洗浄液に浸されるようになっている。洗浄部５２は、貯留部分５２ａに貯留された洗浄液にカップ外周筒５０が浸されることにより、このカップ外周筒５０の洗浄を行うようになっている。貯留部分５２ａに貯留される洗浄液としては、例えば室温以上の、好ましくは４０℃以上の、更に好ましくは６０℃以上の純水等が用いられる。貯留部分５２ａに貯留される洗浄液の温度が高い場合には、カップ外周筒５０に対する洗浄効果がより大きくなる。
【００５３】
図４に示すように、カップ外周筒５０が下方位置にあるときにはこのカップ外周筒５０の大部分が貯留部分５２ａに貯留された洗浄液に浸されるようになる。また、図５に示すように、カップ外周筒５０が上方位置にあるときにもこのカップ外周筒５０の下部が貯留部分５２ａに貯留された洗浄液に浸されるようになる。このため、カップ外周筒５０が上方位置にあるときには、貯留部分５２ａに貯留された洗浄液とカップ外周筒５０の下部との間で水シールを行うとともに、カップ外周筒５０の上部とガイド部材５１との間が狭くなるので、カップ外周筒５０内の領域を外部から隔離することができるようになる。
【００５４】
また、図４および図５に示すように、処理室２０内において、洗浄部５２の内側には処理室２０内の雰囲気の排気を行うための排気部５４が設けられており、また、洗浄部５２の外側には処理室２０内の雰囲気の排気を行うための排気部５６が設けられている。このような排気部５４および排気部５６が設けられていることにより、カップ外周筒５０が図４に示すような下方位置にあるときには、これらの排気部５４および排気部５６により処理室２０内全体の雰囲気の排気を行うことができる。一方、カップ外周筒５０が図５に示すような上方位置にあるときには、カップ外周筒５０内の領域が外部から隔離されるので、排気部５４によりカップ外周筒５０の内部の雰囲気の排気を行うことができ、また、排気部５６によりカップ外周筒５０の外側の雰囲気の排気を行うことができる。
【００５５】
前述のように、本実施の形態においては、１つの液処理装置１０に複数（具体的には例えば６つ）のノズル支持アーム８２が設けられており、各ノズル支持アーム８２の先端にノズル８２ａが設けられている。具体的には、各ノズル８２ａは、それぞれ、第１の薬液（具体的には、例えば酸性の薬液）、第２の薬液（具体的には、例えばアルカリ性の薬液）、純水、Ｎ２ガス、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、純水のミストをウエハＷの上面に供給するようになっている。
【００５６】
次に、処理室２０内において回転カップ４０の周囲に配設されたドレインカップ４２の構成の詳細について以下に説明する。図４および図５に示すように、ドレインカップ４２の上部には凹部４２ａが形成されている。このような凹部４２ａの構成の詳細について図７を参照して説明する。
【００５７】
図７に示すように、ドレインカップ４２の上部には、その内周縁４２ｃから外周縁４２ｄに向かって途中部分４２ｅまで高さレベルが徐々に小さくなるよう傾斜するような第１傾斜部分４２ａ１、および途中部分４２ｅから外周縁４２ｄまで高さレベルが徐々に大きくなるよう傾斜するような第２傾斜部分４２ａ２がそれぞれ形成されている。これらの第１傾斜部分４２ａ１および第２傾斜部分４２ａ２により凹部４２ａが構成されている。図７に示すようなドレインカップ４２では、内周縁４２ｃの高さレベルが外周縁４２ｄの高さレベルよりも大きくなっている。
【００５８】
また、ドレインカップ４２の上部に設けられた途中部分４２ｅには洗浄液供給管４９ａが接続されており、この洗浄液供給管４９ａには洗浄液供給部４９が接続されている。そして、洗浄液供給部４９から洗浄液供給管４９ａに洗浄液が供給されるようになっている。このことにより、洗浄液供給管４９ａから凹部４２ａ内に洗浄液が送られ、この凹部４２ａに洗浄液が貯留されるようになる。このようにして、洗浄液供給部４９からドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液によりドレインカップ４２の洗浄が行われる。本実施の形態では、洗浄液供給部４９および洗浄液供給管４９ａにより、ドレインカップ４２の洗浄を行うためのドレインカップ洗浄部が構成されている。ドレインカップ洗浄部によるドレインカップ４２の洗浄は例えば処理毎に、または一日一回、あるいは月に一回行われるようになっている。
【００５９】
また、洗浄液供給管４９ａには切替バルブ４９ｂが設けられており、この切替バルブ４９ｂにはドレインライン４９ｃが接続されている。そして、切替バルブ４９ｂによりドレインカップ４２の凹部４２ａとドレインライン４９ｃとを連通させることにより、凹部４２ａに残存する洗浄液をドレインライン４９ｃによりドレイン部４９ｄに排出することができるようになっている。
【００６０】
ここで、図７に示すようなドレインカップ４２では、その内周縁４２ｃの高さレベルが外周縁４２ｄの高さレベルよりも大きくなっているため、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液は、ドレインカップ４２の上部の外周縁４２ｄから外方に（図７における左方に）排出されるようになる。そして、ドレインカップ４２の上部の外周縁４２ｄから排出された洗浄液は、洗浄部５２の貯留部分５２ａに送られてこの貯留部分５２ａに貯留されるようになる。その後、貯留部分５２ａの側部に設けられたドレイン管５２ｃにより、貯留部分５２ａ内の洗浄液が装置外に排出される。
【００６１】
本実施の形態の液処理装置１０に設けられるドレインカップ４２は、図７に示すような構成のものに限定されることはない。ドレインカップ４２として、図８に示すような、その内周縁４２ｃの高さレベルが外周縁４２ｄの高さレベルよりも小さくなっているものを用いてもよい。この場合、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液は、ドレインカップ４２の上部の内周縁４２ｃから内方に（図８における右方に）排出される。この場合には、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液により、ドレインカップ４２の内周面４２ｆや回転カップ４０の洗浄を行うことができるようになる。ドレインカップ４２の内周面４２ｆや回転カップ４０に洗浄液が供給された後、回転カップ４０を回転させることにより、ドレインカップ４２の内周面４２ｆや回転カップ４０の乾燥が行われる。
【００６２】
また、ドレインカップ４２として、その内周縁４２ｃの高さレベルが外周縁４２ｄの高さレベルと略同一であるものを用いてもよい。この場合、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液は、ドレインカップ４２の上部の内周縁４２ｃおよび外周縁４２ｄの両方から排出されるようになる。
【００６３】
次に、このような構成からなる液処理装置１０の動作について説明する。
【００６４】
まず、保持部２１におけるリフトピンプレート２２および処理液供給管２８を図４に示す位置から上方に移動させることと、処理室２０の開口９４ａに設けられたシャッター９４をこの開口９４ａから退避させることにより開口９４ａを開くことを行う。そして、液処理装置１０の外部からウエハＷが搬送アーム１０４により開口９４ａを介して処理室２０内に搬送され、このウエハＷがリフトピンプレート２２のリフトピン２３上に載置され、その後、搬送アーム１０４は処理室２０から退避する。この際に、カップ外周筒５０は図４に示すような下方位置に位置している。また、各ノズル支持アーム８２は処理室２０から退避した退避位置に位置している。すなわち、各ノズル支持アーム８２はアーム待機部８０で待機している。また、ＦＦＵ７０から処理室２０内にクリーンエア等のガスが常にダウンフローで送られ、このガスが排気部５４により排気されることにより、処理室２０内の雰囲気の置換が行われるようになっている。
【００６５】
次に、リフトピンプレート２２および処理液供給管２８を下方に移動させ、これらのリフトピンプレート２２および処理液供給管２８を図４に示すような下方位置に位置させる。この際に、保持プレート２６に設けられた各保持部材２５が、リフトピン２３上のウエハＷを支持し、このウエハＷをリフトピン２３からわずかに離間させる。
【００６６】
その後に、またはリフトピンプレート２２の下降中に、カップ外周筒５０に設けられた駆動機構５０ｂにより、このカップ外周筒５０を上方に移動させ、カップ外周筒５０を図５に示すような上方位置に位置させる。そして、カップ外周筒５０が上方位置に移動した後、アーム待機部８０で待機している６つのノズル支持アーム８２のうち一または複数のノズル支持アーム８２が壁９０のアーム洗浄部８８の開口８８ｐおよびカップ外周筒５０の開口５０ｍを介して処理室２０内に進出する。この際に、アーム駆動機構（図示せず）によりノズル支持アーム８２は直線運動を行う。
【００６７】
次に、保持部２１における保持プレート２６およびリフトピンプレート２２を回転させる。このことにより、保持プレート２６の各保持部材２５により支持されているウエハＷも回転する。そして、ウエハＷが回転した状態で、処理室２０内に進出したノズル支持アーム８２のノズル８２ａからウエハＷの上面に処理液を供給する。また、この際に、ウエハＷの下面（裏面）に向かって処理液供給管２８から薬液や純水等の処理液を供給する。このようにして、ウエハＷの上面および下面の両方に処理液が供給され、ウエハＷの液処理が行われる。ウエハＷに供給された処理液は、この処理液の種類に基づいて、各案内カップ４３、４４、４５が上方位置または下方位置にそれぞれ位置することにより、４つの処理液回収用タンク４６ａ、４６ｂ、４６ｃ、４６ｄのうちいずれか一つの処理液回収用タンクに選択的に送られて回収される。
【００６８】
その後、ウエハＷの液処理が終了すると、処理室２０に進出したノズル支持アーム８２はこの処理室２０から退避してアーム待機部８０で待機するようになる。そして、カップ外周筒５０に設けられた駆動機構５０ｂにより、このカップ外周筒５０を下方に移動させ、カップ外周筒５０を図４に示すような下方位置に位置させる。
【００６９】
その後、保持部２１におけるリフトピンプレート２２および処理液供給管２８を図４に示す位置から上方に移動させる。この際に、保持プレート２６の保持部材２５により支持されたウエハＷがリフトピンプレート２２のリフトピン２３上に受け渡される。次に、処理室２０の開口９４ａに設けられたシャッター９４をこの開口９４ａから退避させることにより開口９４ａを開き、液処理装置１０の外部から開口９４ａを介して搬送アーム１０４を処理室２０内に進出させ、この搬送アーム１０４によりリフトピンプレート２２のリフトピン２３上のウエハＷを取り出す。搬送アーム１０４により取り出されたウエハＷは液処理装置１０の外部に搬送される。このようにして、一連のウエハＷの液処理が完了する。
【００７０】
また、洗浄液供給部４９からドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに洗浄液が供給されることにより、ドレインカップ４２の洗浄が行われる。このようなドレインカップ４２の洗浄は、ウエハＷに対する各処理後に行ってもよいし、あるいは定期的に行ってもよい。
【００７１】
ドレインカップ４２の洗浄が終了した後、ドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに残存する洗浄液は、切替バルブ４９ｂによりドレインカップ４２の凹部４２ａとドレインライン４９ｃとを連通させることにより、ドレインライン４９ｃによりドレイン部４９ｄに排出される。
【００７２】
以上のように本実施の形態の液処理装置１０によれば、処理室２０内において保持部２１の周囲にドレインカップ４２が配設されており、洗浄液供給部４９および洗浄液供給管４９ａからなるドレインカップ洗浄部によって、ドレインカップ４２の上部に洗浄液を供給することにより当該ドレインカップ４２の洗浄を行うようになっている。この際に、ドレインカップ４２の上部には凹部４２ａが形成されており、洗浄液供給部４９により、ドレインカップの上部の凹部４２ａに洗浄液を供給するようになっている。このことにより、ドレインカップの上部の凹部４２ａに洗浄液を貯留することができるようになり、この凹部４２ａに貯留された洗浄液によりドレインカップ４２の洗浄が行われる。このように、ドレインカップ４２の洗浄を行うことによって、ドレインカップ４２に付着した汚れにより処理室２０内のウエハＷが汚れてしまうことを防止することができる。
【００７３】
また、本実施の形態の液処理装置１０においては、ドレインカップ４２の上部は、その内周縁４２ｃから外周縁４２ｄに向かって途中部分４２ｅまでは高さレベルが小さくなるよう傾斜しており（第１傾斜部分４２ａ１）、その途中部分４２ｅから外周縁４２ｄまでは高さレベルが大きくなるよう傾斜しており（第２傾斜部分４２ａ２）、洗浄液供給部４９により、ドレインカップ４２の上部の途中部分４２ｅに洗浄液を供給するようになっている。この途中部分４２ｅはドレインカップ４２の凹部４２ａの底部に位置している。
【００７４】
また、本実施の形態の液処理装置１０においては、図７に示すように、ドレインカップ４２の上部は、その内周縁４２ｃの高さレベルがその外周縁４２ｄの高さレベルよりも大きくなっており、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液は、ドレインカップ４２の上部の外周縁４２ｄから排出されるようになっている。この場合、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部に供給された洗浄液は、カップ外周筒５０を洗浄するための洗浄部５２の貯留部分５２ａに排出されるようになる。このような液処理装置１０によれば、ウエハＷの処理に用いられる薬液等の処理液と、ドレインカップ４２の洗浄のための洗浄液とを分離することができ、これらの液体が処理室２０内で混じってしまうことを防止することができる。
【００７５】
あるいは、図８に示すように、ドレインカップ４２の上部は、その内周縁４２ｃの高さレベルがその外周縁４２ｄの高さレベルよりも小さくなっており、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液は、ドレインカップ４２の上部の内周縁４２ｃから排出されるようになっていてもよい。この場合には、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液により、ドレインカップ４２の内周面４２ｆや回転カップ４０の洗浄を行うことができるようになる。
【００７６】
また、本実施の形態の液処理装置１０においては、ドレインカップ４２、第１案内カップ４３、第２案内カップ４４および第３案内カップ４５は鉛直方向に重ねて配置されるよう複数設けられており、複数のカップのうち最上段にあるドレインカップ４２に洗浄液が送られてこのドレインカップ４２の洗浄が行われるようになっている。
【００７７】
なお、本実施の形態による液処理装置は、上記の態様に限定されるものではなく、様々の変更を加えることができる。例えば、処理室２０内に進出したノズル支持アーム８２のノズル８２ａおよび処理液供給管２８によりウエハＷの上面および下面の両方に処理液を供給する必要はなく、ノズル支持アーム８２のノズル８２ａによりウエハＷの上面のみに処理液を供給するようになっていてもよい。また、本実施の形態による液処理装置は、基板の洗浄処理以外に、エッチング処理、メッキ処理、現像処理等の処理にも用いることができる。
【００７８】
第２の実施の形態
次に図１１および図１２により本発明の第２の実施の形態について説明する。図１１および図１２に示す第２の実施の形態は、回転カップ４０およびドレインカップ４２からなるドレインカップ４２の洗浄構造が異なるのみであり、他の構成は図１乃至図８に示す第１の実施の形態と略同一である。
【００７９】
図１１および図１２において、図１乃至図８に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００８０】
図１１に示すように、ドレインカップ４２の上部には、その内周縁４２ｃから外周縁４２ｄに向かって途中部分４２ｅまで高さレベルが徐々に小さくなるよう傾斜するような第１傾斜部分４２ａ１、および途中部分４２ｅから外周縁４２ｄまで高さレベルが徐々に大きくなるよう傾斜するような第２傾斜部分４２ａ２がそれぞれ形成されている。これらの第１傾斜部分４２ａ１および第２傾斜部分４２ａ２により凹部４２ａが構成されている。図１１に示すようなドレインカップ４２では、内周縁４２ｃの高さレベルが外周縁４２ｄの高さレベルよりも大きくなっている。
【００８１】
また、ドレインカップ４２の上方にはノズル支持アーム８２が進退自在に配置され、ノズル支持アーム８２の先端に取付けられたノズル８２ａからドレインカップ４２の上部の凹部の４２ａに純水（洗浄液）が上方から供給されるようになっている。
【００８２】
ドレインカップ４２の凹部４２ａに純水を供給するノズル支持アーム８２としては、図２に示す６本のノズル支持アーム８２のいずれか一つが用いられる。そしてノズル支持アーム８２の先端に設けられたノズル８２ａからドレインカップ４２の凹部４２ａ内に洗浄液が供給され、この凹部４２ａに洗浄液が供給され、この凹部４２ａに洗浄液が貯留される。このようにして、ノズル支持アーム８２のノズル８２ａからドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液によりドレインカップ４２の洗浄が行われる。本実施の形態では、ノズル８２ａを有するノズル支持アーム８２により、ドレインカップ４２の洗浄を行うためのドレインカップ洗浄部が構成されている。ドレインカップ洗浄部によるドレインカップ４２の洗浄はウエハＷに対する各処理毎に行なってもよいし、あるいは定期的に行なってもよい（例えば、一日に一回、あるいは一月に一回等自由に設定できる）。
【００８３】
また、ドレインカップ４２の凹部４２ａの途中部分４２ｅには洗浄液排出管４９ｅが設けられ、洗浄液排出管４９ｅには開閉バルブ４９ｆが設けられており、この開閉バルブ４９ｆにはドレインライン４９ｇが接続されている。そして、開閉バルブ４９ｅによりドレインカップ４２の凹部４２ａとドレインライン４９ｇとを連通させることにより、凹部４２ａに残存する洗浄液をドレインライン４９ｇによりドレイン部４９ｉに排出することができるようになっている。
【００８４】
ここで、図１１に示すようなドレインカップ４２では、その内周縁４２ｃの高さレベルが外周縁４２ｄの高さレベルよりも大きくなっているため、洗浄液供給部４９によりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液は、ドレインカップ４２の上部の外周縁４２ｄから外方に（図１１における左方に）排出されるようになる。そして、ドレインカップ４２の上部の外周縁４２ｄから排出された洗浄液は、洗浄部５２の貯留部分５２ａに送られてこの貯留部分５２ａに貯留されるようになる。その後、貯留部分５２ａの側部に設けられたドレイン管５２ｃにより、貯留部分５２ａ内の洗浄液が装置外に排出される。
【００８５】
ところで、上述のようにドレインカップ４２の内側には、ウエハＷを保持する保持部２１とともに回転する回転カップ４０が設けられている。
【００８６】
この回転カップ４０の外周は、ドレインカップ４２の内周縁４２ｃよりわずかに上方に位置しており、この回転カップ４０の外周には外方へ突出するとともに円周状に延びる円周突起４０ａが設けられている。
【００８７】
この円周突起４０ａは回転カップ４０の回転に伴って回転カップ４０の外周に旋回空気流を生じさせる。この回転カップ４０の回転により生じる旋回空気流はドレインカップ４２側へ送られ、後述のようにドレインカップ４２の凹部４２ａに供給された洗浄液を撹拌し、かつ凹部４２ａの全周に行き渡らせるよう機能する。
【００８８】
本実施の形態の液処理装置１０に設けられるドレインカップ４２は、図１１に示すような構成のものに限定されることはない。ドレインカップ４２として、図１２に示すような、その内周縁４２ｃの高さレベルが外周縁４２ｄの高さレベルよりも小さくなっているものを用いてもよい。この場合、ノズル支持アーム８２ノズル８２ａによりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液は、ドレインカップ４２の上部の内周縁４２ｃから内方に（図１２における右方に）排出される。この場合には、ノズル支持アーム８２のノズル８２ａによりドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液により、ドレインカップ４２の内周面４２ｆや回転カップ４０の洗浄を行うことができるようになる。
【００８９】
また、ドレインカップ４２として、その内周縁４２ｃの高さレベルが外周縁４２ｄの高さレベルと略同一であるものを用いてもよい。この場合、ドレインカップ４２の上部の凹部４２ａに供給された洗浄液は、ドレインカップ４２の上部の内周縁４２ｃおよび外周縁４２ｄの両方から排出されるようになる。
【００９０】
次にドレインカップ４２の洗浄工程について、図１１および図１２により説明する。
【００９１】
図１１および図１２において、一連のウエハＷの液処理工程が終了し、搬送アーム１０４によりウエハＷが液処理装置１０の外部へ搬送された後、ドレインカップ４２の洗浄工程が行われる。
【００９２】
なお、洗浄水をノズル８２ａからドレインカップ４２の上部に供給した例を示したが、これに限らずドレインカップ４２の上部にノズル８２ａから洗浄水を供給するとともに、ドレインカップ４２の下方から洗浄液供給部４９から洗浄液を供給してもよい。また、所定時間毎に回転カップ４０の回転方向を変えることにより、ドレインカップ４２を効果的に洗浄することができ、かつドレインカップ４２の内周面４２ｆおよび回転カップ４０も効果的に洗浄することができる。
【符号の説明】
【００９３】
１０ 液処理装置
２０ 処理室
２１ 保持部
２２ リフトピンプレート
２３ リフトピン
２４ ピストン機構
２５ 保持部材
２５ａ 軸
２５ｂ 支持部分
２５ｃ 被押圧部材
２５ｄ バネ部材
２６ 保持プレート
２６ａ 軸受け部
２６ｂ 軸受け孔
２６ｃ 内面壁
２８ 処理液供給管
２８ａ ヘッド部分
２９ 処理液供給部
４０ 回転カップ
４０ａ 円周突起
４２ ドレインカップ
４２ａ 凹部
４２ａ１ 第１傾斜部分
４２ａ２ 第２傾斜部分
４２ｃ 内周縁
４２ｄ 外周縁
４２ｅ 途中部分
４２ｆ 内周面
４３ 第１案内カップ
４４ 第２案内カップ
４５ 第３案内カップ
４６ａ 第１処理液回収用タンク
４６ｂ 第２処理液回収用タンク
４６ｃ 第３処理液回収用タンク
４６ｄ 第４処理液回収用タンク
４８ 排気部
４９ 洗浄液供給部
４９ａ 洗浄液供給管
４９ｂ 切替バルブ
４９ｃ ドレインライン
４９ｄ ドレイン部
５０ カップ外周筒
５０ａ 支持部材
５０ｂ 駆動機構
５０ｍ 開口
５１ ガイド部材
５２ 洗浄部
５２ａ 貯留部分
５２ｃ ドレイン管
５４ 排気部
５６ 排気部
５８ 排気部
６０ シャッター
６２ シャッター
７０ ＦＦＵ
８０ アーム待機部
８２ ノズル支持アーム
８２ａ ノズル
８２ｍ 表面処理液供給管
８４ アーム支持部
８８ アーム洗浄部
８８ｐ 開口
８９ 表面処理液供給部
９０ 壁
９４ シャッター
９４ａ 開口
１０１ 載置台
１０２ 搬送アーム
１０３ 棚ユニット
１０４ 搬送アーム
２００ 液処理装置
２１０ 処理室
２２０ 保持部
２３０ カップ
２４０ ノズル
２４１ アーム
２４２ アーム支持部
２５０ ＦＦＵ
２６０ 排気部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持する基板保持部および当該基板保持部の周囲に配設されるカップが内部に設けられた処理室と、
前記基板保持部に保持された基板に対して処理液を供給するためのノズルと、
前記カップの上部に洗浄液を供給することにより当該カップの洗浄を行うカップ洗浄部と、
を備え、
前記カップの上部には凹部が形成されており、前記カップ洗浄部は、前記カップの上部の前記凹部に洗浄液を供給するようになっていることを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
前記カップの上部は、その内周縁から外周縁に向かって途中部分までは高さレベルが小さくなるよう傾斜しており、その途中部分から外周縁までは高さレベルが大きくなるよう傾斜しており、前記カップ洗浄部は、前記カップの上部の前記途中部分に洗浄液を供給するようになっていることを特徴とする請求項１記載の液処理装置。
【請求項３】
前記カップの上部は、その内周縁の高さレベルがその外周縁の高さレベルよりも大きくなっており、前記カップ洗浄部により前記カップの上部の前記凹部に供給された洗浄液は、前記カップの上部の外周縁から排出されるようになっていることを特徴とする請求項１または２記載の液処理装置。
【請求項４】
前記カップの上部は、その内周縁の高さレベルがその外周縁の高さレベルよりも小さくなっており、前記カップ洗浄部により前記カップの上部の前記凹部に供給された洗浄液は、前記カップの上部の内周縁から排出されるようになっていることを特徴とする請求項１または２記載の液処理装置。
【請求項５】
前記カップは鉛直方向に重ねて配置されるよう複数設けられており、
前記カップ洗浄部は、前記複数のカップのうち最上段のカップの洗浄を行うようになっていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液処理装置。
【請求項６】
前記カップの内側に、基板を保持する前記基板保持部とともに回転する回転カップが設けられ、当該回転カップの回転に伴って生じる旋回空気流により前記カップの上部の前記凹部全域に洗浄液を行き渡らせることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記カップ洗浄部は、前記カップの上部の前記凹部に洗浄液を上方から供給する洗浄液供給ノズルを有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液処理装置。
【請求項８】
前記回転カップの外周に外方へ突出するとともに円周状に延びる円周突起が設けられ、前記回転カップの円周突起により旋回空気流を生じさせることを特徴とすることを特徴とする請求項６記載の液処理装置。
【請求項９】
処理室の内部に設けられた基板保持部により基板を水平状態に保持させる工程と、
前記基板保持部により基板を回転させ、前記処理室内に進出したノズル支持アームのノズルにより、前記基板保持部により保持されて回転する基板に処理液を供給する工程と、
前記処理室内においてカップの上部に形成された凹部に洗浄液を供給することにより当該カップの洗浄を行う工程と、
を備えたことを特徴とする液処理方法。
【請求項１０】
前記カップの上部は、その内周縁の高さレベルがその外周縁の高さレベルよりも小さくなっており、
前記カップの洗浄を行う工程において、前記カップの上部の前記凹部に供給された洗浄液は、前記カップの上部の内周縁から排出され、この排出された洗浄液により前記カップの内周面の洗浄が行われることを特徴とする請求項９記載の液処理方法。
【請求項１１】
前記カップの上部は、その内周縁の高さレベルがその外周縁の高さレベルよりも大きくなっており、
前記カップの洗浄を行う工程において、前記カップの上部の前記凹部に供給された洗浄液は、前記カップの上部の外周縁から排出されることを特徴とする請求項９記載の液処理方法。
【請求項１２】
前記カップの内側に、基板を保持する前記基板保持部とともに回転する回転カップが設けられ、
前記カップの洗浄工程において、前記回転カップの回転に伴って生じる旋回空気流により前記カップの上部の前記凹部全域に洗浄液を行き渡らせることを特徴とする請求項９記載の液処理保方法。
【請求項１】
基板を保持する基板保持部および当該基板保持部の周囲に配設されるカップが内部に設けられた処理室と、
前記基板保持部に保持された基板に対して処理液を供給するためのノズルと、
前記カップの上部に洗浄液を供給することにより当該カップの洗浄を行うカップ洗浄部と、
を備え、
前記カップの上部には凹部が形成されており、前記カップ洗浄部は、前記カップの上部の前記凹部に洗浄液を供給するようになっていることを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
前記カップの上部は、その内周縁から外周縁に向かって途中部分までは高さレベルが小さくなるよう傾斜しており、その途中部分から外周縁までは高さレベルが大きくなるよう傾斜しており、前記カップ洗浄部は、前記カップの上部の前記途中部分に洗浄液を供給するようになっていることを特徴とする請求項１記載の液処理装置。
【請求項３】
前記カップの上部は、その内周縁の高さレベルがその外周縁の高さレベルよりも大きくなっており、前記カップ洗浄部により前記カップの上部の前記凹部に供給された洗浄液は、前記カップの上部の外周縁から排出されるようになっていることを特徴とする請求項１または２記載の液処理装置。
【請求項４】
前記カップの上部は、その内周縁の高さレベルがその外周縁の高さレベルよりも小さくなっており、前記カップ洗浄部により前記カップの上部の前記凹部に供給された洗浄液は、前記カップの上部の内周縁から排出されるようになっていることを特徴とする請求項１または２記載の液処理装置。
【請求項５】
前記カップは鉛直方向に重ねて配置されるよう複数設けられており、
前記カップ洗浄部は、前記複数のカップのうち最上段のカップの洗浄を行うようになっていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液処理装置。
【請求項６】
前記カップの内側に、基板を保持する前記基板保持部とともに回転する回転カップが設けられ、当該回転カップの回転に伴って生じる旋回空気流により前記カップの上部の前記凹部全域に洗浄液を行き渡らせることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記カップ洗浄部は、前記カップの上部の前記凹部に洗浄液を上方から供給する洗浄液供給ノズルを有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液処理装置。
【請求項８】
前記回転カップの外周に外方へ突出するとともに円周状に延びる円周突起が設けられ、前記回転カップの円周突起により旋回空気流を生じさせることを特徴とすることを特徴とする請求項６記載の液処理装置。
【請求項９】
処理室の内部に設けられた基板保持部により基板を水平状態に保持させる工程と、
前記基板保持部により基板を回転させ、前記処理室内に進出したノズル支持アームのノズルにより、前記基板保持部により保持されて回転する基板に処理液を供給する工程と、
前記処理室内においてカップの上部に形成された凹部に洗浄液を供給することにより当該カップの洗浄を行う工程と、
を備えたことを特徴とする液処理方法。
【請求項１０】
前記カップの上部は、その内周縁の高さレベルがその外周縁の高さレベルよりも小さくなっており、
前記カップの洗浄を行う工程において、前記カップの上部の前記凹部に供給された洗浄液は、前記カップの上部の内周縁から排出され、この排出された洗浄液により前記カップの内周面の洗浄が行われることを特徴とする請求項９記載の液処理方法。
【請求項１１】
前記カップの上部は、その内周縁の高さレベルがその外周縁の高さレベルよりも大きくなっており、
前記カップの洗浄を行う工程において、前記カップの上部の前記凹部に供給された洗浄液は、前記カップの上部の外周縁から排出されることを特徴とする請求項９記載の液処理方法。
【請求項１２】
前記カップの内側に、基板を保持する前記基板保持部とともに回転する回転カップが設けられ、
前記カップの洗浄工程において、前記回転カップの回転に伴って生じる旋回空気流により前記カップの上部の前記凹部全域に洗浄液を行き渡らせることを特徴とする請求項９記載の液処理保方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２０１２−１７８５４４（Ｐ２０１２−１７８５４４Ａ）
【公開日】平成２４年９月１３日（２０１２．９．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２６２６９９（Ｐ２０１１−２６２６９９）
【出願日】平成２３年１１月３０日（２０１１．１１．３０）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年９月１３日（２０１２．９．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１１月３０日（２０１１．１１．３０）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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